WO2014006767A1 - ネマチック液晶組成物及びこれを用いた液晶表示素子 - Google Patents

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Abstract

　本発明は液晶表示材料として有用な誘電率異方性（Δε）が正の値を示すネマチック液晶組成物及びこれを用いた液晶表示素子に関する。　本発明の液晶組成物は、広い温度範囲の液晶相を有し、粘性が小さく、低温での溶解性が良好で、比抵抗や電圧保持率が高く、熱や光に対して安定であることから、これを用いることで表示品位に優れ、焼き付きや滴下痕等の表示不良の発生し難い液晶表示素子を歩留まりよく提供することができる。　本発明の液晶組成物を用いた液晶表示素子は高速応答と表示不良の抑制を両立させた有用なものであり、特に、アクティブマトリックス駆動用液晶表示素子に有用であり、ＶＡモード、ＰＳＶＡモード、又はＴＮモード用液晶表示素子に適用できる。

Description

ネマチック液晶組成物及びこれを用いた液晶表示素子
　本発明は液晶表示材料として有用な誘電率異方性（Δε）が正の値を示すネマチック液晶組成物及びこれを用いた液晶表示素子に関する。
　液晶表示素子は、時計、電卓をはじめとして、各種測定機器、自動車用パネル、ワードプロセッサー、電子手帳、プリンター、コンピューター、テレビ、時計、広告表示板等に用いられるようになっている。液晶表示方式としては、その代表的なものにＴＮ（ツイステッド・ネマチック）型、ＳＴＮ（スーパー・ツイステッド・ネマチック）型、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を用いた垂直配向型やＩＰＳ（イン・プレーン・スイッチング）型等がある。これらの液晶表示素子に用いられる液晶組成物は水分、空気、熱、光などの外的刺激に対して安定であること、また、室温を中心としてできるだけ広い温度範囲で液晶相を示し、低粘性であり、かつ駆動電圧が低いことが求められる。さらに液晶組成物は個々の表示素子にとって誘電率異方性（Δε）または及び屈折率異方性（Δｎ）等を最適な値とするために、数種類から数十種類の化合物から構成されている。
　垂直配向（ＶＡ）型ディスプレイではΔεが負の液晶組成物が用いられており、ＴＮ型、ＳＴＮ型又はＩＰＳ（イン・プレーン・スイッチング）型等の水平配向型ディスプレイではΔεが正の液晶組成物が用いられている。また、Δεが正の液晶組成物を電圧無印加時に垂直に配向させ、横電界を印加する事で表示する駆動方式も報告されており、Δεが正の液晶組成物の必要性はさらに高まっている。一方、全ての駆動方式において低電圧駆動、高速応答、広い動作温度範囲が求められている。すなわち、Δεが正で絶対値が大きく、粘度（η）が小さく、高いネマチック相－等方性液体相転移温度（Ｔｎｉ）が要求されている。また、Δｎとセルギャップ（ｄ）との積であるΔｎ×ｄの設定から、液晶組成物のΔｎをセルギャップに合わせて適当な範囲に調節する必要がある。加えて液晶表示素子をテレビ等へ応用する場合においては高速応答性が重視されるため、回転粘性（γ１）の小さい液晶組成物が要求される。
　高速応答性を志向した液晶組成物の構成として、例えば、Δεが正の液晶化合物である式（Ａ－１）や（Ａ－２）で表される化合物、およびΔεが中性の液晶化合物である（Ｂ）を組み合わせて使用した液晶組成物の開示がされている。これらの液晶組成物の特徴は、Δεが正の液晶化合物が－ＣＦ２Ｏ－構造を有することやΔεが中性の液晶化合物がアルケニル基を有することは、この液晶組成物の分野では広く知られている。（特許文献１から４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
　一方で、液晶表示素子の用途が拡大するに至り、その使用方法、製造方法にも大きな変化が見られる。これらの変化に対応するためには、従来知られているような基本的な物性値以外の特性を最適化することが求められるようになった。すなわち、液晶組成物を使用する液晶表示素子はＶＡ型やＩＰＳ型等が広く使用されるに至り、その大きさも５０型以上の超大型サイズの表示素子が実用化されるに至り使用されるようになった。基板サイズの大型化に伴い、液晶組成物の基板への注入方法も従来の真空注入法から滴下注入（ODF：One Drop Fill）法が注入方法の主流となったが、液晶組成物を基板に滴下した際の滴下痕が表示品位の低下を招く問題が表面化するに至った。　さらに、ODF法による液晶表示素子製造工程においては、液晶表示素子のサイズに応じて最適な液晶注入量を滴下する必要がある。注入量のずれが最適値から大きくなると、あらかじめ設計された液晶表示素子の屈折率や駆動電界のバランスが崩れ、斑発生やコントラスト不良などの表示不良が生じる。特に、最近流行しているスマートフォンに多用される小型液晶表示素子は、最適な液晶注入量が少ないために最適値からのずれを一定範囲内に制御すること自体が難しい。従って、液晶表示素子の歩留まり高く保持するために、例えば、液晶滴下時に生じる滴下装置内の急激な圧力変化や衝撃に対する影響が少なく、長時間にわたって安定的に液晶を滴下し続けることが可能な性能も必要である。
　このように、ＴＦＴ素子等で駆動するアクティブマトリックス駆動液晶表示素子に使用される液晶組成物おいては、高速応答性能等の液晶表示素子として求められている特性や性能を維持しつつ、従来から重視されてきた高い比抵抗値あるいは高い電圧保持率を有することや光や熱等の外部刺激に対して安定であるという特性に加えて、液晶表示素子の製造方法を考慮した開発が求められてきている。
特開２００８－０３７９１８号 特開２００８－０３８０１８号 特開２０１０－２７５３９０号 特開２０１１－０５２１２０号
　本発明が解決しようとする課題は、Δεが正の液晶組成物であって、広い温度範囲の液晶相を有し、粘性が小さく、低温での溶解性が良好で、比抵抗や電圧保持率が高く、熱や光に対して安定な液晶組成物を提供し、更にこれを用いることで表示品位に優れ、焼き付きや滴下痕等の表示不良の発生し難いＴＮ型等の液晶表示素子を歩留まりよく提供することにある。
　本発明者は、種々の液晶化合物および種々の化学物質を検討し、特定の液晶化合物を組み合わせることにより前記課題を解決することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、正の誘電率異方性を有する液晶組成物であって、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
(式-1)で表される誘電的に正の化合物を含む誘電的に正の成分である成分（Ａ）、
および(式-2)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
（式中、環
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される誘電的に中性の化合物を含む、誘電率異方性が-2よりも大かつ+2よりも小である誘電的に中性な成分（Ｂ）を含有する液晶組成物を提供し、更に、当該液晶組成物を用いた液晶表示素子を提供する。
　本発明の正の誘電率異方性を有する液晶組成物は、大幅に低い粘性を得ることができ、低温での溶解性が良好で、比抵抗や電圧保持率が熱や光によって受ける変化が極めて小さいため、製品の実用性が高く、これを用いたＴＮ型等の液晶表示素子は高速応答を達成できる。また液晶表示素子製造工程において安定的に性能を発揮できるため、工程起因の表示不良が抑制されて歩留まり高く製造できるので、非常に有用である。
　本発明の正の誘電率異方性を有する液晶組成物は、誘電的に正の成分である成分（Ａ）を含有する。さらに、成分（Ａ）は（式-１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
で表される化合物を含有する。本発明の液晶組成物において、成分（Ａ）を構成する(式-1)で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して２質量％以上であることが好ましく、５質量％がより好ましく、１１質量％以上が更に好ましく、１９質量％以上がまた更に好ましく、２６質量％以上が特に好ましい。
　本発明の液晶組成物は、誘電的に正の成分（Ａ）の中に、（式-5.1）から（式-5.4）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
（式中、環
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物群から選ばれる化合物を含有することができる。成分（Ａ）はこれらの化合物のうち１種類だけを含有していても２種類以上含有していても良いが、求められる性能に応じて適宜組み合わせることが好ましい。粘性が小さいものが求められれば(式-5.3)や(式-5.4) で表される化合物を含有する組み合わせを選べばよく、ネマチック相－等方性液体相転移温度（Ｔｎｉ）が高いものが求められれば、(式-5.1)や(式-5.2)で表される化合物を含有する組み合わせを選べばよい。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種～３種含有することが好ましく、１種～２種含有することがさらに好ましい。その含有量は本発明の液晶組成物の総量に対して３質量％以上であることが好ましく、６質量％であることがより好ましく、１２質量％であることが更に好ましく１６質量％であることが更に好ましく、２２質量％であることが更に好ましく、２６質量％であることが特に好ましい。
　本発明の液晶組成物は、また、誘電的に正の成分（Ａ）の中に、（式-6.1）から（式-6.7）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
（式中、環
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物群から選ばれる化合物を含有することもできる。成分（Ａ）はこれらの化合物のうち１種類だけを含有していても２種類以上含有していても良いが、求められる性能に応じて適宜組み合わせることが好ましい。複屈折率が小さいものや粘性が小さいものが求められれば、(式-6.1)から(式-6.3)で表される化合物を含有する組み合わせを選べばよく、Ｔｎｉが高いことが求められれば、(式-6.4)から(式-6.7)で表される化合物を含有する組み合わせを選べばよい。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種～５種含有することが好ましく、１種～４種含有することがさらに好ましく、１種～３種含有することが特に好ましい。その含有量は本発明の液晶組成物の総量に対して５質量％以上であることが好ましく、６質量％以上であることが更に好ましく、９質量％以上であることが更に好ましく２０質量％以上であることが更に好ましく、１３質量％以上であることが更に好ましく、１７質量％以上であることが更に好ましく、２１質量％以上であることが特に好ましい。
　本発明の液晶組成物は、更に、誘電的に正の成分（Ａ）の中に、（式-9.1）から（式-9.3）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
（式中、環
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物群から選ばれる化合物を含有することもできる。これらの化合物は末端のアルキル基構造によって分子量が異なるだけであるが、分子量によって粘度やＴｎｉが変化するため適宜含有量の調整を行う。例えば、(式-9.2)で表される化合物は分子量が大きいためＴｎｉを高める目的に有効であるが、大きな分子量がゆえに粘度も大きくなってしまう。そのため、正の成分（Ａ）が、(式-9.2)で表される化合物を本発明の液晶組成物の総量に対して０．５質量％以上かつ１１質量%未満含有することが好ましく、０．５質量％以上かつ８質量%未満含有することがさらに好ましく、０．５質量％以上かつ５質量%未満含有することが更に好ましい。また、正の成分（Ａ）は、(式-9.1)で表される化合物を本発明の液晶組成物の総量に対して４質量%以上含有することが好ましく、７質量%以上含有することが更に好ましく、１３質量%以上含有することが更に好ましく、１９質量%以上含有することが更に好ましく、２５質量%以上含有することが更に好ましい。(式-9.3)で表される化合物についても、(式-9.1)で表される化合物と同様に最適含有量がある。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種～３種含有することが好ましく、１種～２種含有することが更に好ましい。
　本発明の液晶組成物は、更に、誘電的に正の成分（Ａ）の中に、（式-10.1）から（式-10.4）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
で表される化合物群から選ばれる化合物を含有することもできる。これらの化合物は大きな誘電率異方性（Δε）かつ低粘性の液晶組成物を得るのに有用であるため、要求されるＴｎｉを考慮して適宜組み合わせて使用するのが良い。成分（Ａ）が、(式-10.1)で表される化合物を本発明の液晶組成物の総量に対して９質量%以上含有すると大きなΔεが得られて好ましく、本願液晶組成物の総量に対して１３質量%以上含有するとさらに好ましく、本発明の液晶組成物の総量に対して１６質量%以上含有するとさらに好ましい。また、正の成分（Ａ）が(式-10.2)から(式-10.4)で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を本発明の液晶組成物の総量に対して４質量%以上含有すると大きなΔεに加えて高いＴｎｉが得られて好ましく、７質量%以上含有するとより好ましく、１０質量%以上含有すると更に好ましく、１４質量%以上含有すると特に好ましい。さらに、成分（Ａ）が、(式-10.2)から(式-10.4)で表される化合物からなる群より選ばれる化合物のうち少なくとも2種類の化合物を含有すると溶解性が改良されて好ましく、その合計含有量は本発明の液晶組成物の総量に対して１４質量%以上であることが好ましく、２１質量%以上であることが更に好ましい。さらに、成分（Ａ）が、(式-10.2)から(式-10.4)で表される化合物からなる群より選ばれる化合物のうち少なくとも３種類の化合物を含有すると溶解性がいっそう改良されて好ましく、その合計の含有量が１６質量%以上であることが好ましく、２４質量%以上であることがさらに好ましい。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種～４種含有することが好ましく、１種～３種含有することが更に好ましい。
　本発明の液晶組成物は、更に、誘電的に正の成分（Ａ）の中に、（式-12.1）から（式-12.5）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
で表される化合物群から選ばれる化合物を含有することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種～４種含有することが好ましく、１種～３種含有することが更に好ましい。また、これらの構造を有する化合物は溶解度に注意して含有量を調整しなければならず、例えば、成分（Ａ）が、(式-12.2)または(式-12.3)で表される化合物を本発明の液晶組成物の総量に対して０．５質量%以上かつ５質量%未満含有することが好ましく、(式-12.1)で表される化合物であれば１１質量%以上含有することが好ましく、(式-12.2)または(式-12.3)で表される化合物の場合は０．５質量％以上かつ３質量%未満含有することが好ましい。
　本発明の液晶組成物は、更に、誘電的に正の成分（Ａ）の中に、（式-13.1）から（式-13.3）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
（式中、環
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物群から選ばれる化合物を含有することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、複屈折率やＴｎｉを考慮して、これらの化合物の中から１種～３種含有することが好ましい。成分（Ａ）が、(式-13.1)から(式-13.3)で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を本発明の液晶組成物の総量に対して７質量%以上含有することが好ましく、９質量%以上含有することが更に好ましく、１７質量％以上含有することが更に好ましい。
　本発明の液晶組成物は、更に、誘電的に正の成分（Ａ）の中に、（式-17.1）から（式-17.4）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
（式中、環
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物群から選ばれる化合物を含有することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種～４種含有することが好ましく、１種～３種含有することが更に好ましい。また、成分（Ａ）が、これらの化合物を本発明の液晶組成物の総量に対して６質量%以上含有することが好ましく、１０質量%以上含有することが更に好ましく、１７質量%以上含有することが更に好ましい。
　本発明の液晶組成物は、更に、誘電的に正の成分（Ａ）の中に、（式-18.1）から（式-18.4）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
（式中、環
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物群から選ばれる化合物を含有することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種～４種含有することが好ましく、１種～３種含有することが更に好ましい。さらに、成分（Ａ）はこれらの化合物を本発明の液晶組成物の総量に対して１５質量%以上かつ２７質量％未満含有することが好ましく、１５質量%以上かつ２２質量％未満含有することが更に好ましく、１７質量%以上かつ２１質量％未満含有することが更に好ましい。
　本発明の液晶組成物は、更に、誘電的に正の成分（Ａ）の中に、（式-19.1）から（式-19.4）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
（式中、環
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物群から選ばれる化合物を含有することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種～４種含有することが好ましく、１種～３種含有することが更に好ましい。また、成分（Ａ）が、(式-19.2)から(式-19.4)で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を本発明の液晶組成物の総量に対して６質量%以上含有することが好ましく、８質量%以上含有することが更に好ましい。さらに、成分（Ａ）が、(式-19.1)で表される化合物を本発明の液晶組成物の総量に対して０．５質量％以上かつ４質量未満である含有することが好ましい。
　本発明の液晶組成物は、誘電的に中性な成分である成分（Ｂ）を含有する。さらに、成分（Ｂ）は（式-2）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
（式中、環
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物を含有する。本発明の液晶組成物において、成分（Ｂ）を構成する(式-2)で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して４質量％であることが好ましく、７質量％以上であることがより好ましく、１１質量％以上であることが更に好ましく、１４質量％以上であることが更に好ましく、１９質量%以上であることが更に好ましく、２４質量％以上であることが特に好ましい。
　本発明の液晶組成物は、誘電的に中性な成分（Ｂ）の中に、(式-3.1)または／および(式-3.2)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
（式中、環
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物を含有することが好ましい。
　成分（Ｂ）は、(式-3.1)で表される化合物を含有していても、(式-3.2)で表される化合物を含有していても、(式-3.1)で表される化合物と(式-3.2)で表される化合物との両方を含有していても良い。成分（Ｂ）を構成する(式-3.1)で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して６質量％であることが好ましく、９質量％以上であることがより好ましく、１４質量％以上であることが更に好ましく、１８質量％以上であることが更に好ましく、２１質量%以上であることが特に好ましい。また、成分（Ｂ）を構成する(式-3.2)で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して３質量％であることが好ましく、６質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることが更に好ましく、１４質量％以上であることが更に好ましく、１７質量%以上であることが特に好ましい。成分（Ｂ）が(式-3.1)で表される化合物と(式-3.2)で表される化合物との両方を含有する場合は、両方の化合物の合計が本発明の液晶組成物の総量に対して１５質量％以上であることが好ましく、１９質量％以上であることがより好ましく、２６質量％以上であることが更に好ましく、３０質量%以上であることが特に好ましい。
　本発明の液晶組成物は、更に、誘電的に中性な成分（Ｂ）の中に、（式-4.1）から（式-4.8）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
(式中、R１、R2はそれぞれ独立して炭素原子数１から１０の直鎖アルキル基又は直鎖アルケニル基を表し、環
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物群から選ばれる化合物を含有することもできる。成分（Ｂ）はこれらの化合物のうち１種類だけを含有していても２種類以上含有していても良いが、求められる性能に応じて適宜組み合わせることが好ましい。例えば、回転粘性が低いことが求められれば(式-4.1)、(式-4.8)あるいは(式-4.7)で表される化合物を含有する組み合わせを選べばよく、例えば弾性定数が大きいものを求められれば、(式-4.2)や(式-4.3) で表される化合物を含有する組み合わせを選べばよく、Ｔｎｉを求められれば、(式-4.5)や(式-4.6)で表される化合物を含有する組み合わせを選べばよく、成分（Ａ）に溶け易い性質のものが必要とされれば、(式-4.4)で表される化合物を含有する組み合わせを選べばよい。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種～８種含有することが好ましく、１種～５種含有することがさらに好ましく、１種～３種含有することが特に好ましく、その含有量は本発明の液晶組成物の総量に対して１９質量％以上であることが好ましく、２１質量％であることがより好ましく、２５質量％であることが更に好ましく３４質量％であることが更に好ましく、５７質量％であることが更に好ましく、６１質量％であることが特に好ましい。
（式-4.1）で表される化合物は、具体的には次に挙げる化合物が好適に使用できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
　本発明の液晶組成物は、更に、誘電的に中性な成分（Ｂ）の中に、（式-7.1）から（式-7.9）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
で表される化合物群から選ばれる化合物を含有することもできる。成分（Ｂ）は、これらの化合物のうち１種類だけを含有していても２種類以上含有していても良いが、求められる屈折率異方性や室温および氷点下における溶解性に応じて適宜組み合わせることが好ましい。溶解性は、化合物両端のアルキル基の構造に影響を受けるため注意を要する。例えば、中性な成分（Ｂ）が、(式-7.1)または(式-7.2)で表される化合物を本発明の液晶組成物の総量に対して１２質量％以上含有することが好ましく、または、中性な成分（Ｂ）が、(式-7.3)または(式-7.4)で表される化合物を本発明の液晶組成物の総量に対して０．５質量％以上かつ５質量％未満含有することが好ましく、または中性な成分（Ｂ）が、(式-7.5)から(式-7.9)で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を本発明の液晶組成物の総量に対して７質量%以上かつ１５質量%未満含有することが好ましく、１１質量%以上かつ１４質量%未満含有することが更に好ましい。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種～５種含有することが好ましく、１種～４種含有することがさらに好ましく、１種～３種含有することが特に好ましい。また、選ぶ化合物の分子量分布が広いことも溶解性に有効であるため、例えば、(式-7.1)または(式-7.2)で表される化合物から１種類、(式-7.3)または(式-7.4)で表される化合物から１種類、(式-7.5)または(式-7.6)で表される化合物から１種類、(式-7.8)または(式-7.9)で表される化合物から１種類の化合物を選び、これらを適宜組み合わせることが好ましい。
本願発明の液晶組成物は、更に、誘電的に中性な成分（Ｂ）の中に、（式-8）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
（式中、環
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物を含有することもできる。成分（Ｂ）は、この化合物を本発明の液晶組成物の総量に対して６質量％以上１０質量％含有することが好ましい。
　本願発明の液晶組成物は、更に、誘電的に中性な成分（Ｂ）の中に、（式-11.1）から（式-11.3）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
（式中、環
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物群から選ばれる化合物を含有することもできる。成分（Ｂ）が、(式-11.1)から(式-11.3)で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を本発明の液晶組成物の総量に対して４質量%以上含有することが好ましく、７質量重量%以上含有することが更に好ましい。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種～３種含有することが好ましい。
　本願発明の液晶組成物は、更に、誘電的に中性な成分（Ｂ）の中に、（式-14.1）から（式-14.3）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
で表される化合物群から選ばれる化合物を含有することができる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、屈折率異方性やＴｎｉを考慮して、これらの化合物の中から１種～４種含有することが好ましく、１種～３種含有することが更に好ましい。成分（Ｂ）が、(式-14.1)から (式-14.3) で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を本発明の液晶組成物の総量に対して７重量%以上含有することが好ましく、１１重量%以上含有することが更に好ましく、１７重量%以上含有することが更に好ましい。
（式-14.1）で表される化合物は、具体的には次に挙げる化合物が好適に使用できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
本願発明の液晶組成物は、更に、誘電的に中性な成分（Ｂ）の中に、（式-15.1）から（式-15.2）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
（式中、環
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物群から選ばれる化合物を含有することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、１種類または２種類組み合わせることが好ましい。さらに、求められる溶解性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総量に対して６質量%以上含有することが好ましい。
本願発明の液晶組成物は、更に、誘電的に中性な成分（Ｂ）の中に、（式-16.1）から（式-16.3）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
（式中、環
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物群から選ばれる化合物を含有することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、Ｔｎｉ、溶解度、Δｎを考慮して適宜組み合わせて使用することが好ましい。特に、１種または２～３種の化合物を組み合わせて使用することが好ましい。
本発明の液晶組成物は、成分（Ａ）を７３質量%以上含有するもの、あるいは、成分（Ｂ）を８１質量%以上含有する場合も好適に利用される。
本発明の液晶組成物は、２５℃におけるΔεが＋３．５以上であるが、＋３．５から＋２０．０がより好ましく、＋３．５から＋１５．０が更に好ましい。２５℃におけるΔｎが０．０８から０．１４であるが、０．０９から０．１３がより好ましい。更に詳述すると、薄いセルギャップに対応する場合は０．１０から０．１３であることが好ましく、厚いセルギャップに対応する場合は０．０８から０．１０であることが好ましい。２０℃におけるηが１０から４５ｍＰａ・ｓであるが、１０から２５ｍＰａ・ｓであることがより好ましく、１０から２０ｍＰａ・ｓであることが特に好ましい。Ｔｎｉが６０℃から１２０℃であるが、７０℃から１１０℃がより好ましく、７５℃から９０℃が特に好ましい。
　本発明の液晶組成物は、上述の化合物以外に、通常のネマチック液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶などを含有してもよい。
　本発明の液晶組成物には、ＰＳモードなどの液晶表示素子を作製するために、重合性化合物を含有することができる。使用できる重合性化合物として、光などのエネルギー線により重合が進行する光重合性モノマーなどが挙げられ、構造として、例えば、ビフェニル誘導体、ターフェニル誘導体などの六員環が複数連結した液晶骨格を有する重合性化合物などが挙げられる。更に具体的には、一般式（V）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
（式中、Ｘ５１及びＸ５２はそれぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し、
Ｓｐ１及びＳｐ２はそれぞれ独立して、単結合、炭素原子数１～８のアルキレン基又は－Ｏ－（ＣＨ２）ｓ－（式中、ｓは２から７の整数を表し、酸素原子は芳香環に結合するものとする。）を表し、
Ｚ５１は－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＯ－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＣＯＯ－、－ＣＨ２ＣＨ２－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ２－、－ＯＣＯ－ＣＨ２－、－ＣＨ２－ＣＯＯ－、－ＣＨ２－ＯＣＯ－、－ＣＹ１＝ＣＹ２－（式中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－又は単結合を表し、
Ｍ５１は１，４－フェニレン基、トランスー１，４－シクロヘキシレン基又は単結合を表し、式中の全ての１，４－フェニレン基は、任意の水素原子がフッ素原子により置換されていても良い。）で表される二官能モノマーが好ましい。
　Ｘ５１及びＸ５２は、何れも水素原子を表すジアクリレート誘導体、何れもメチル基を有するジメタクリレート誘導体の何れも好ましく、一方が水素原子を表しもう一方がメチル基を表す化合物も好ましい。これらの化合物の重合速度は、ジアクリレート誘導体が最も早く、ジメタクリレート誘導体が遅く、非対称化合物がその中間であり、その用途により好ましい態様を用いることができる。ＰＳＡ表示素子においては、ジメタクリレート誘導体が特に好ましい。
　Ｓｐ１及びＳｐ２はそれぞれ独立して、単結合、炭素原子数１～８のアルキレン基又は－Ｏ－（ＣＨ２）ｓ－を表すが、ＰＳＡ表示素子においては少なくとも一方が単結合であることが好ましく、共に単結合を表す化合物又は一方が単結合でもう一方が炭素原子数１～８のアルキレン基又は－Ｏ－（ＣＨ２）ｓ－を表す態様が好ましい。この場合１～４のアルキル基が好ましく、ｓは１～４が好ましい。
　Ｚ５１は、－ＯＣＨ２－、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＦ２Ｏ－、－ＯＣＦ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＦ２ＣＦ２－又は単結合が好ましく、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－又は単結合がより好ましく、単結合が特に好ましい。
　Ｍ５１は任意の水素原子がフッ素原子により置換されていても良い１，４－フェニレン基、トランス－１，４－シクロヘキシレン基又は単結合を表すが、１，４－フェニレン基又は単結合が好ましい。Ｃが単結合以外の環構造を表す場合、Ｚ５１は単結合以外の連結基も好ましく、Ｍ５１が単結合の場合、Ｚ５１は単結合が好ましい。
　これらの点から、一般式（V）において、Ｓｐ１及びＳｐ２の間の環構造は、具体的には次に記載する構造が好ましい。
　一般式（V）において、Ｍ５１が単結合を表し、環構造が二つの環で形成される場合において、次の式（Va-1）から式（Va-5）を表すことが好ましく、式（Va-1）から式（Va-3）を表すことがより好ましく、式（Va-1）を表すことが特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
（式中、両端はＳｐ１又はＳｐ２に結合するものとする。）
　これらの骨格を含む重合性化合物は重合後の配向規制力がＰＳＡ型液晶表示素子に最適であり、良好な配向状態が得られることから、表示ムラが抑制されるか、又は、全く発生しない。
　以上のことから、重合性モノマーとしては、一般式（V-1）～一般式（V-4）が特に好ましく、中でも一般式（V-2）が最も好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
（式中、Ｓｐ２は炭素原子数２から５のアルキレン基を表す。）
　本発明の液晶組成物にモノマーを添加する場合において、重合開始剤が存在しない場合でも重合は進行するが、重合を促進するために重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。
　本発明の重合性化合物を含有した液晶組成物は、これに含まれる重合性化合物が紫外線照射により重合することで液晶配向能が付与され、液晶組成物の複屈折を利用して光の透過光量を制御する液晶表示素子に使用される。液晶表示素子として、ＡＭ－ＬＣＤ（アクティブマトリックス液晶表示素子）、ＴＮ（ネマチック液晶表示素子）、ＳＴＮ－ＬＣＤ（超ねじれネマチック液晶表示素子）及びＯＣＢ－ＬＣＤに有用であるが、ＡＭ－ＬＣＤに特に有用であり、透過型あるいは反射型の液晶表示素子に用いることができる。
　液晶表示素子に使用される液晶セルの２枚の基板はガラス又はプラスチックの如き柔軟性をもつ透明な材料を用いることができ、一方はシリコン等の不透明な材料でも良い。透明電極層を有する透明基板は、例えば、ガラス板等の透明基板上にインジウムスズオキシド（ＩＴＯ）をスパッタリングすることにより得ることができる。
　カラーフィルターは、例えば、顔料分散法、印刷法、電着法又は、染色法等によって作成することができる。顔料分散法によるカラーフィルターの作成方法を一例に説明すると、カラーフィルター用の硬化性着色組成物を、該透明基板上に塗布し、パターニング処理を施し、そして加熱又は光照射により硬化させる。この工程を、赤、緑、青の３色についてそれぞれ行うことで、カラーフィルター用の画素部を作成することができる。その他、該基板上に、ＴＦＴ、薄膜ダイオード、金属絶縁体金属比抵抗素子等の能動素子を設けた画素電極を設置してもよい。
　前記基板を、透明電極層が内側となるように対向させる。その際、スペーサーを介して、基板の間隔を調整してもよい。このときは、得られる調光層の厚さが１～１００μｍとなるように調整するのが好ましい。１．５から１０μｍが更に好ましく、偏光板を使用する場合は、コントラストが最大になるように液晶の屈折率異方性Δｎとセル厚ｄとの積を調整することが好ましい。又、二枚の偏光板がある場合は、各偏光板の偏光軸を調整して視野角やコントラトが良好になるように調整することもできる。更に、視野角を広げるための位相差フィルムも使用することもできる。スペーサーとしては、例えば、ガラス粒子、プラスチック粒子、アルミナ粒子、フォトレジスト材料などからなる柱状スペーサー等が挙げられる。その後、エポキシ系熱硬化性組成物等のシール剤を、液晶注入口を設けた形で該基板にスクリーン印刷し、該基板同士を貼り合わせ、加熱しシール剤を熱硬化させる。
　２枚の基板間に重合性化合物含有液晶組成物を狭持させる方法は、通常の真空注入法又はＯＤＦ法などを用いることができるが、真空注入法においては滴下痕が発生しないものの、注入の跡が残る課題を有しているものであるが、本願発明においては、ＯＤＦ法を用いて製造する表示素子により好適に使用することができる。ＯＤＦ法の液晶表示素子製造工程においては、バックプレーンまたはフロントプレーンのどちらか一方の基板にエポキシ系光熱併用硬化性などのシール剤を、ディスペンサーを用いて閉ループ土手状に描画し、その中に脱気下で所定量の液晶組成物を滴下後、フロントプレーンとバックプレーンを接合することによって液晶表示素子を製造することができる。本発明の液晶組成物は、ＯＤＦ工程における液晶組成物の滴下が安定的に行えるため、好適に使用することができる。
　重合性化合物を重合させる方法としては、液晶の良好な配向性能を得るためには、適度な重合速度が望ましいので、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を単一又は併用又は順番に照射することによって重合させる方法が好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用いても良いし、非偏光光源を用いても良い。また、重合性化合物含有液晶組成物を２枚の基板間に挟持させて状態で重合を行う場合には、少なくとも照射面側の基板は活性エネルギー線に対して適当な透明性が与えられていなければならない。また、光照射時にマスクを用いて特定の部分のみを重合させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変化させることにより、未重合部分の配向状態を変化させて、更に活性エネルギー線を照射して重合させるという手段を用いても良い。特に紫外線露光する際には、重合性化合物含有液晶組成物に交流電界を印加しながら紫外線露光することが好ましい。印加する交流電界は、周波数１０Ｈｚから１０ｋＨｚの交流が好ましく、周波数６０Ｈｚから１０ｋＨｚがより好ましく、電圧は液晶表示素子の所望のプレチルト角に依存して選ばれる。つまり、印加する電圧により液晶表示素子のプレチルト角を制御することができる。横電界型ＭＶＡモードの液晶表示素子においては、配向安定性及びコントラストの観点からプレチルト角を８０度から８９．９度に制御することが好ましい。
　照射時の温度は、本発明の液晶組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。室温に近い温度、即ち、典型的には１５～３５℃での温度で重合させることが好ましい。紫外線を発生させるランプとしては、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ等を用いることができる。また、照射する紫外線の波長としては、液晶組成物の吸収波長域でない波長領域の紫外線を照射することが好ましく、必要に応じて、紫外線をカットして使用することが好ましい。照射する紫外線の強度は、０．１ｍＷ／ｃｍ２～１００Ｗ／ｃｍ２が好ましく、２ｍＷ／ｃｍ２～５０Ｗ／ｃｍ２がより好ましい。照射する紫外線のエネルギー量は、適宜調整することができるが、１０ｍＪ／ｃｍ２から５００Ｊ／ｃｍ２が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２から２００Ｊ／ｃｍ２がより好ましい。紫外線を照射する際に、強度を変化させても良い。紫外線を照射する時間は照射する紫外線強度により適宜選択されるが、１０秒から３６００秒が好ましく、１０秒から６００秒がより好ましい。
　本発明の液晶組成物を用いた液晶表示素子は高速応答と表示不良の抑制を両立させた有用なものであり、特に、アクティブマトリックス駆動用液晶表示素子に有用であり、ＶＡモード、ＰＳＶＡモード、又はＴＮモード用液晶表示素子に適用できる。
以下に実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は『質量％』を意味する。
　実施例中、測定した特性は以下の通りである。
　Ｔｎｉ　：ネマチック相－等方性液体相転移温度（℃）
　Δｎ　：２５℃における屈折率異方性
　Δε　：２５℃における誘電率異方性
　η　　：２０℃における粘度（ｍＰａ・ｓ）
　γ１　：２５℃における回転粘性（ｍＰａ・ｓ）
　ＶＨＲ：周波数６０Ｈｚ，印加電圧１Ｖの条件下で６０℃における電圧保持率（％）
　焼き付き：
　液晶表示素子の焼き付き評価は、表示エリア内に所定の固定パターンを１０００時間表示させた後に、全画面均一な表示を行ったときの固定パターンの残像のレベルを目視にて以下の４段階評価で行った。
　◎残像無し
　○残像ごく僅かに有るも許容できるレベル
　△残像有り許容できないレベル
　×残像有りかなり劣悪
　滴下痕　：
　液晶表示装置の滴下痕の評価は、全面黒表示した場合における白く浮かび上がる滴下痕を目視にて以下の４段階評価で行った。
　◎残像無し
　○残像ごく僅かに有るも許容できるレベル
　△残像有り許容できないレベル
　×残像有りかなり劣悪
　プロセス適合性　：
　プロセス適合性は、ＯＤＦプロセスにおいて、定積計量ポンプを用いて１回に５０ｐＬずつ液晶を滴下することを１０００００回行い、次の「０～１００回、１０１～２００回、２０１～３００回、・・・・９９９０１～１０００００回」の各１００回ずつ滴下された液晶量の変化を以下の４段階で評価した。
　◎変化が極めて小さい（安定的に液晶表示素子を製造できる）
　○変化が僅かに有るも許容できるレベル
　△変化が有り許容できないレベル（斑発生により歩留まりが悪化）
　×変化が有りかなり劣悪（液晶漏れや真空気泡が発生）
　低温での溶解性：
　低温での溶解性評価は、液晶組成物を調製後、２ｍＬのサンプル瓶に液晶組成物を１ｇ秤量し、これに温度制御式試験槽の中で、次を１サイクル「－２０℃（１時間保持）→昇温（０．１℃／毎分）→０℃（１時間保持）→昇温（０．１℃／毎分）→２０℃（１時間保持）→降温（－０．１℃／毎分）→０℃（１時間保持）→降温（－０．１℃／毎分）→－２０℃」として温度変化を与え続け、目視にて液晶組成物からの析出物の発生を観察し、以下の４段階評価を行った。
　◎６００時間以上析出物が観察されなかった。
　○３００時間以上析出物が観察されなかった。
　△１５０時間以内に析出物が観察された。
　×７５時間以内に析出物が観察された。
尚、実施例において化合物の記載について以下の略号を用いる。
（環構造）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
 （側鎖構造及び連結構造）
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000080
（実施例１）
　以下に示す液晶組成物ＬＣ－１を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
 ＬＣ－１の物性値は以下の通りであった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000082
液晶組成物ＬＣ－１の初期のＶＨＲは９９．２％であったのに対し、１５０℃で１時間の高温放置後のＶＨＲは、９８．８％であった。低温での溶解性を評価したところ、以下の表に示す様に優れた性能を示した。また、液晶組成物ＬＣ－１を用いてＯＤＦプロセスによりＴＮ液晶表示素子を作製し、前述の方法を用いて焼き付き、滴下痕及びプロセス適合性を検討したところ、以下に示す様に優れた結果を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000083
（比較例１）
（式-2）で表される化合物を含有しない、以下に示される液晶組成物ＬＣ－２を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
 ＬＣ－２の物性値は以下の通りであった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000085
（式-2）で表される化合物を含有しない液晶組成物ＬＣ－２は、（式-2）で表される化合物を含有する液晶組成物ＬＣ－１と比べて、粘度η及び回転粘性γ1が上昇することが示された。液晶組成物ＬＣ－２の初期のＶＨＲは９９．０％であったのに対し、１５０℃で１時間の高温放置後のＶＨＲは、９４．７％であった。低温での溶解性を評価したところ、以下の表に示す様にＬＣ－１と比べて早期に析出が観察された。
また、液晶組成物ＬＣ－２を用いてＴＮ液晶表示素子を作製し、前述の方法を用いて焼き付き、滴下痕及びプロセス適合性の測定したところ、以下に示すように実施例１に比べて劣る結果を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000086
（実施例２）
　以下に示す液晶組成物ＬＣ－３を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
 ＬＣ－３の物性値は以下の通りであった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000088
液晶組成物ＬＣ－３の初期のＶＨＲは９９．５％であったのに対し、１５０℃で１時間の高温放置後のＶＨＲは、９８．５％であった。低温での溶解性を評価したところ、以下の表に示す様に優れた性能を示した。また、液晶組成物ＬＣ－３を用いてＯＤＦプロセスによりＴＮ液晶表示素子を作製し、前述の方法を用いて焼き付き、滴下痕及びプロセス適合性を検討したところ、以下に示す様に優れた結果を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000089
（比較例２）
（式-1）で表される化合物を含有しない、以下に示される液晶組成物ＬＣ－４を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
 ＬＣ－４の物性値は以下の通りであった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000091
（式-1）で表される化合物を含有しない液晶組成物ＬＣ－４は、（式-1）で表される化合物を含有する液晶組成物ＬＣ－３と比べて、回転粘性γ1が上昇することが示された。液晶組成物ＬＣ－４の初期のＶＨＲは９９．５％であったのに対し、１５０℃で１時間の高温放置後のＶＨＲは、９６．０％であった。低温での溶解性を評価したところ、以下の表に示す様にＬＣ－３と比べて早期に析出が観察された。
また、液晶組成物ＬＣ－４を用いてＴＮ液晶表示素子を作製し、前述の方法にを用いて焼き付き、滴下痕及びプロセス適合性の測定したところ、以下に示すように実施例２に比べて劣る結果を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000092
（実施例３から実施例４）
次に示す液晶組成物ＬＣ－５～ＬＣ－６を調製し、その物性値を測定した。この結果を次の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000093
液晶組成物ＬＣ－５～ＬＣ－６の低温溶解性は良好であり、初期のＶＨＲ及び１５０℃で１時間の高温放置後のＶＨＲはほとんど変化がなかった。また、液晶組成物ＬＣ－５～ＬＣ－６を用いて作製したＴＮ液晶表示素子の焼き付き、滴下痕およびプロセス適合性の検討をしたところ、以下に示すように優れた結果を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000094
（実施例５から実施例６）次に示す液晶組成物ＬＣ－７～ＬＣ－８を調製し、その物性値を測定した。この結果を次の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000095
液晶組成物ＬＣ－７～ＬＣ－８の低温溶解性は良好であり、初期のＶＨＲ及び１５０℃で１時間の高温放置後のＶＨＲはほとんど変化がなかった。また、液晶組成物ＬＣ－７～ＬＣ－８を用いて作製したＴＮ液晶表示素子の焼き付き、滴下痕及びプロセス適合性の検討をしたところ、以下に示すように優れた結果を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000096
（実施例７から実施例８）
次に示す液晶組成物ＬＣ－９～ＬＣ－１０を調製し、その物性値を測定した。この結果を次の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000097
液晶組成物ＬＣ－９～ＬＣ－１０の低温溶解性は良好であり、初期のＶＨＲ及び１５０℃で１時間の高温放置後のＶＨＲはほとんど変化がなかった。また、液晶組成物ＬＣ－９～ＬＣ－１０を用いて作製したＴＮ液晶表示素子の焼き付き、滴下痕及びプロセス適合性の検討をしたところ、以下に示すように優れた結果を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000098
（実施例９から実施例１０）
次に示す液晶組成物ＬＣ－１１～ＬＣ－１２を調製し、その物性値を測定した。この結果を次の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000099
液晶組成物ＬＣ－１１～ＬＣ－１２の低温溶解性は良好であり、初期のＶＨＲ及び１５０℃で１時間の高温放置後のＶＨＲはほとんど変化がなかった。また、液晶組成物ＬＣ－１１～ＬＣ－１２を用いて作製したＴＮ液晶表示素子の焼き付き、滴下痕及びプロセス適合性の測定したところ、以下に示すように優れた結果を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000100
（実施例１１から実施例１２）
次に示す液晶組成物ＬＣ－１３～ＬＣ－１４を調製し、その物性値を測定した。この結果を次の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000101
液晶組成物ＬＣ－１３～ＬＣ－１４の低温溶解性は良好であり、初期のＶＨＲ及び１５０℃で１時間の高温放置後のＶＨＲはほとんど変化がなかった。また、液晶組成物ＬＣ－１３～ＬＣ－１４を用いて作製したＴＮ液晶表示素子の焼き付き、滴下痕及びプロセス適合性の検討をしたところ、以下に示すように優れた結果を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000102
（実施例１４から実施例１５）
次に示す液晶組成物ＬＣ－１５～ＬＣ－１６を調製し、その物性値を測定した。この結果を次の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000103
液晶組成物ＬＣ－１５～ＬＣ－１６の低温溶解性は良好であり、初期のＶＨＲ及び１５０℃で１時間の高温放置後のＶＨＲはほとんど変化がなかった。また、液晶組成物ＬＣ－１５～ＬＣ－１６を用いて作製したＴＮ液晶表示素子の焼き付き、滴下痕及びプロセス適合性の検討をしたところ、以下に示すように優れた結果を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000104
（実施例１６から実施例１７）
次に示す液晶組成物ＬＣ－１７～ＬＣ－１８を調製し、その物性値を測定した。この結果を次の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000105
液晶組成物ＬＣ－１７～ＬＣ－１８の低温溶解性は良好であり、初期のＶＨＲ及び１５０℃で１時間の高温放置後のＶＨＲはほとんど変化がなかった。また、液晶組成物ＬＣ－１７～ＬＣ－１８を用いて作製したＴＮ液晶表示素子の焼き付き、滴下痕及びプロセス適合性の検討をしたところ、以下に示すように優れた結果を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000106
（実施例１８から実施例１９）
次に示す液晶組成物ＬＣ－１９～ＬＣ－２０を調製し、その物性値を測定した。この結果を次の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000107
液晶組成物ＬＣ－１９～ＬＣ－２０の低温溶解性は良好であり、初期のＶＨＲ及び１５０℃で１時間の高温放置後のＶＨＲはほとんど変化がなかった。また、液晶組成物ＬＣ－１９～ＬＣ－２０を用いて作製したＴＮ液晶表示素子の焼き付き、滴下痕及びプロセス適合性の検討をしたところ、以下に示すように優れた結果を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000108
（実施例２０から実施例２１）
次に示す液晶組成物ＬＣ－２１～ＬＣ－２２を調製し、その物性値を測定した。この結果を次の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000109
液晶組成物ＬＣ－２１～ＬＣ－２２の低温溶解性は良好であり、初期のＶＨＲと１５０℃で１時間の高温放置後のＶＨＲとの間には多少の変化が見られたが、許容される変化である。また、液晶組成物ＬＣ－２１～ＬＣ－２２を用いて作製したＴＮ液晶表示素子の焼き付き、滴下痕及びプロセス適合性の検討をしたところ、以下に示すように優れた結果を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000110
（実施例２２から実施例２３）
次に示す液晶組成物ＬＣ－２３～ＬＣ－２４を調製し、その物性値を測定した。この結果を次の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000111
液晶組成物ＬＣ－２３～ＬＣ－２４の低温溶解性は良好であり、初期のＶＨＲ及び１５０℃で１時間の高温放置後のＶＨＲはほとんど変化がなかった。また、液晶組成物ＬＣ－２３～ＬＣ－２４を用いて作製したＴＮ液晶表示素子の焼き付き、滴下痕及びプロセス適合性の検討をしたところ、以下に示すように優れた結果を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000112
（実施例２４から実施例２５）
次に示す液晶組成物ＬＣ－２５～ＬＣ－２６を調製し、その物性値を測定した。この結果を次の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000113
液晶組成物ＬＣ－２５～ＬＣ－２６の低温溶解性は良好であり、初期のＶＨＲ及び１５０℃で１時間の高温放置後のＶＨＲはほとんど変化がなかった。また、液晶組成物ＬＣ－２５～ＬＣ－２６を用いて作製したＴＮ液晶表示素子の焼き付き、滴下痕及びプロセス適合性の検討をしたところ、以下に示すように優れた結果を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000114
（実施例２６から実施例２７）
次に示す液晶組成物ＬＣ－２７～ＬＣ－２８を調製し、その物性値を測定した。この結果を次の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000115
液晶組成物ＬＣ－２７～ＬＣ－２８の低温溶解性は良好であり、初期のＶＨＲ及び１５０℃で１時間の高温放置後のＶＨＲはほとんど変化がなかった。また、液晶組成物ＬＣ－２７～ＬＣ－２８を用いて作製したＴＮ液晶表示素子の焼き付き、滴下痕及びプロセス適合性の検討をしたところ、以下に示すように優れた結果を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000116
（実施例２８から実施例２９）
次に示す液晶組成物ＬＣ－２９～ＬＣ－３０を調製し、その物性値を測定した。この結果を次の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000117
液晶組成物ＬＣ－２９～ＬＣ－３０の低温溶解性は良好であり、初期のＶＨＲ及び１５０℃で１時間の高温放置後のＶＨＲはほとんど変化がなかった。また、液晶組成物ＬＣ－２９～ＬＣ－３０を用いて作製したＴＮ液晶表示素子の焼き付き、滴下痕及びプロセス適合性の検討をしたところ、以下に示すように優れた結果を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000118
（実施例３０から実施例３１）
次に示す液晶組成物ＬＣ－３１～ＬＣ－３２を調製し、その物性値を測定した。この結果を次の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000119
液晶組成物ＬＣ－３１～ＬＣ－３２の低温溶解性は良好であり、初期のＶＨＲ及び１５０℃で１時間の高温放置後のＶＨＲはほとんど変化がなかった。また、液晶組成物ＬＣ－３１～ＬＣ－３２を用いて作製したＴＮ液晶表示素子の焼き付き、滴下痕及びプロセス適合性の検討をしたところ、以下に示すように優れた結果を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000120
（実施例３２から実施例３３）
次に示す液晶組成物ＬＣ－３３～ＬＣ－３４を調製し、その物性値を測定した。この結果を次の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000121
液晶組成物ＬＣ－３３～ＬＣ－３４の低温溶解性は良好であり、初期のＶＨと１５０℃で１時間の高温放置後のＶＨＲとの差は多少見られるものの、許容範囲内の変化である。また、液晶組成物ＬＣ－３３～ＬＣ－３４を用いて作製したＴＮ液晶表示素子の焼き付き、滴下痕及びプロセス適合性の検討をしたところ、以下に示すように優れた結果を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000122
（実施例３４）
次に示す液晶組成物ＬＣ－３５を調製し、その物性値を測定した。この結果を次の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000123
液晶組成物ＬＣ－３５の低温溶解性は良好であり、初期のＶＨと１５０℃で１時間の高温放置後のＶＨＲとの差は多少見られるものの、許容範囲内の変化である。また、液晶組成物ＬＣ－３５を用いて作製したＴＮ液晶表示素子の焼き付き、滴下痕及びプロセス適合性の検討をしたところ、以下に示すように優れた結果を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000124
（実施例３５）
　実施例１に示すネマチック液晶組成物ＬＣ－１　９９．７％に対して、式（Ｖ－２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000125
で示される重合性化合物を０．３％添加し均一溶解することにより重合性液晶組成物ＣＬＣ－１を調製した。ＣＬＣ－１の物性は実施例１に示すネマチック液晶組成物の物性とほとんど違いはなかった。ＣＬＣ－１をセルギャップ３．５μｍのホモジニアス配向を誘起するポリイミド配向膜を塗布したＩＴＯ付きセルに真空注入法で注入した。このセルに周波数１ｋＨｚの矩形波を印加しながら、３２０ｎｍ以下の紫外線をカットするフィルターを介して、高圧水銀灯により液晶セルに紫外線を照射した。セル表面の照射強度が１０ｍＷ／ｃｍ２となるように調整して６００秒間照射して、重合性液晶組成物中の重合性化合物を重合させた水平配向性液晶表示素子を得た。重合性化合物が重合することにより、液晶化合物に対する配向規制力が生じていることが確認できた。
（実施例３６）アクティブマトリックス駆動用液晶表示素子の製造
（フロントプレーンの作成）
（ブラックマトリックスの形成）
　液晶表示素子用のホウ珪酸ガラス基板（日本電気硝子社製ＯＡ－１０）に、下記の組成のブラックマトリックス形成用組成物を、ウェット状態で厚みが１０μｍになるようダイコーターを用いて塗布し、乾燥後、温度が９０℃の条件で２分間プリベークして２μｍの厚みのブラックマトリックス層を形成した。
（ブラックマトリックス形成用塗料組成物）
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（モル比＝７３／２７）　３００部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート　１６０部
・カーボンブラック分散液　３００部
・光重合開始剤（２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）ブタノン－１）　５部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート　１２００部
※部数はいずれも質量基準
　その後、上流側から下流側に基板を搬送する装置を備えた露光装置に、上記で得られたブラックマトリックス層付きのガラス基板を導入し露光部まで搬送した。
　露光装置の本体の温度は２３℃±０．１℃になるよう、また、相対湿度は６０％±１％になるよう、それぞれ調整した。
　上記ブラックマトリックス層付きのガラス基板を露光台上に吸着固定した後、ガラス基板の塗膜表面とフォトマスクパターンとの間隔（ギャップ）が１００μｍになるよう自動調整した。またガラス基板の露光位置は、ガラス基板の端面からの距離を自動検出して、ガラス基板からフォトマスクパターン位置までが一定距離になるよう自動調整後に露光を行った。光源として高圧水銀ランプを用い、露光エリアを２００ｍｍ×２００ｍｍとして、Ｉ線（波長；３６５ｎｍ）を用い、１５ｍＷ／ｃｍ２の照度で２０秒間露光し、３００ｍＪ／ｃｍ２の露光量とした。
　現像処理は、露光機の下流側に現像装置を設置して行った。露光処理後のガラス基材を４００ｍｍ／ｍｉｎの一定速度で搬送し、所定のパターンのブラックマトリックスが積層されたブラックマトリックス層付きの基板（１）を得た。
　ブラックマトリックスと同素材で形成されたアライメントマークを寸法測定機（ニコン製ＮＥＸＩＶ　　ＶＭＲ－６５５５）で温度；２３℃±０．１℃、相対湿度；６０％±１％の条件で搬送方向、搬送方向に垂直な方向での寸法変化を測定した結果、フォトマスクの寸法値搬送方向：１００．０００ｍｍ、垂直方向：１００．０００ｍｍに対して、実際にガラス基材上に形成されたパターンの寸法は、搬送方法：９９．９９８ｍｍ、垂直方向：１００．００１ｍｍであった。
　その後、ベーク炉にて２２０℃、３０分のポストベークを行いブラックマトリックスを熱硬化した。得られたブラックマトリックスを、前記同条件（温度；２３℃±０．１℃、相対湿度；６０％±１％）で測定したところ、基板（１）上に形成されたパターンの寸法は、搬送方向：９９．９９８ｍｍ、垂直方向：１００．００１ｍｍであった。
（ＲＧＢ着色層の形成）
　前記ブラックマトリックス層付きの基板（１）の上に、下記の組成の着色パターン形成用組成物を、ウェット状態で厚み；１０μｍになるようダイコーターを用いて塗布し、乾燥後、温度が９０℃の条件で２分間プリベークして２μｍの厚みのブラックマトリックス層・着色パターン形成用組成物付きの基板（１）を得た。
　以下に、赤色の着色パターン形成用組成物の組成を示すが、赤色顔料を任意の緑色顔料にするとＧＲＥＥＮの着色パターン形成用組成物が得られ、青色顔料にするとＢＬＵＥの着色パターン形成用組成物が得られる。赤色、緑色、青色のそれぞれの着色顔料は、発色や輝度向上を目的にした樹脂組成物を含む場合がある。このような目的の樹脂組成物としては、１級、２級または３級アミノ基を有するメタクリル酸とのブロック共重合体が使用される場合が多く、具体的には、例えばＢＹＫ社の「ＢＹＫ６９１９」などが挙げられる。
（赤色着色パターン形成用組成物）
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（モル比＝７３／２７）　５０部
・トリメチロールプロパントリアクリレート　４０部
・赤色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　２５４）　９０部
・光重合開始剤（２－メチル－１－〔４－（メチルチオ）フェニル〕－２－モルフォリノプロパノン－１）　１．５部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート　６００部
※部数はいずれも質量基準
（緑色着色パターンの場合）
　赤色着色パターン形成用組成物において、赤色顔料に変えて緑顔料（例えば、C．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　５８）を使用する以外は赤色着色パターン形成用組成物と同様にして製造。
　（青色着色パターンの場合）
　赤色着色パターン形成用組成物において、赤色顔料に変えて青顔料（例えば、C．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１５．６）を使用する以外は赤色着色パターン形成用組成物と同様にして製造。
　上流側から下流側に搬送装置を備えた露光装置に、上記で得られたブラックマトリックス層・着色パターン形成用組成物付きの基板（１）を導入し露光部まで搬送した。
　露光装置の本体の温度は２３℃±０．１℃になるよう、また、相対湿度は６０％±１％になるよう、それぞれ調整した。
　ブラックマトリックス層・着色パターン形成用組成物付きの基板（１）を露光台上に吸着固定した後、ブラックマトリックス層・着色パターン形成用組成物付きの基板（１）の塗膜表面とフォトマスクパターンとの間隔（ギャップ）が１００μｍになるよう自動調整した。またブラックマトリックス層・着色パターン形成用組成物付きの基板（１）の露光位置は、ブラックマトリックス層・着色パターン形成用組成物付きの基板（１）の端面からの距離を自動検出して、ブラックマトリックス層・着色パターン形成用組成物付きの基板（１）からフォトマスクパターン位置が一定距離になるよう自動調整後、前記ブラックマトリックス形成時に同時形成したアライメントマークを用いてＲＥＤ用フォトマスクとアライメントを行った後、露光を行った。光源としては、高圧水銀ランプを用いて、露光エリアを２００ｍｍ×２００ｍｍとして、Ｉ線（波長；３６５ｎｍ）を用い、１５ｍＷ／ｃｍ２の照度で２０秒間露光し、１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量とした。　現像は、露光機の下流側に現像装置を設置して行った。露光処理後のブラックマトリックス層・着色パターン形成用組成物付きの基板（１）を４００ｍｍ／ｍｉｎの一定速度で搬送し、ガラス基材上のブラックマトリックスの開口部の所定位置にＲＥＤ着色層が積層された基板（１）を得た。その後、ベーク炉にて２２０℃、３０分のポストベークを行いＲＥＤ着色層を熱硬化した。　上記ＲＥＤと同様の方法で繰り返しＧＲＥＥＮ、ＢＬＵＥの着色層形成を行い、基板（１）上にブラックマトリックスおよびＲＧＢの着色層が形成されたカラーフィルタが得られた。　なお、ＢＬＵＥ着色層のポストベーク処理後に、ブラックマトリックスを、前記と同じ条件（温度；２３℃±０．１℃、相対湿度；６０％±１％）で測定したところ、ガラス基板上に形成されたパターンの寸法は、搬送方向：９９．９９９ｍｍ、垂直方向：１００．００２ｍｍであった。　ブラックマトリックスの寸法変化は１層目（ブラックマトリックス層）の現像後から４層目（ＢＬＵＥ層）のポストベーク後までの製造工程において１０ｐｐｍであり、これによりガラス基材上に４インチサイズで解像度が２００ｐｐｉ（ＢＭ線幅７μｍ、ピッチ４２μｍ）にて、画素ズレを生じさせずにカラーフィルタを形成することができた。（ＩＴＯ電極層の形成）
　続いて、このカラーフィルタをスパッタリング装置に導入し、ＤＣスパッタにより酸素を反応ガスに用いた反応性スパッタでＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ　ｔｉｎ　ｏｘｉｄｅ）をターゲットとして用い、ブラックマトリックスおよびＲＧＢの着色層上に膜厚１５０ｎｍのＩＴＯの成膜を行い、これをＩＴＯ電極層とした。このようにして作製したＩＴＯ電極のシート抵抗値は４５Ω／□であった。
（柱状スペーサーの形成）
（ドライフィルムの準備）
　柱状スペーサー形成用のドライフィルムとして、厚みが２５μｍのＰＥＴベースフィルム上に、ネガ型感光性樹脂からなる柱状スペーサー形成用組成物を、ウェット状態で厚み；２０μｍになるようダイコーターを用いて塗布し、乾燥後、温度；９０℃の条件で２分間プリベークして４．５μｍの厚みとした。その後、その上に、厚み２５μｍのＰＥＴカバーフィルムをラミネートし、柱状スペーサー形成用ドライフィルムとした。（積層基板の作成）
　上記で得られたブラックマトリックス、ＲＧＢ着色層、およびＩＴＯ電極層が形成された基板（１）上に、カバーフィルムを予め剥離したパターンスペーサ形成用ドライフィルムを柱状スペーサー形成用組成物がＩＴＯ電極層と向かい合うように積層して、柱状スペーサー形成用組成物層を、ローラ圧；５ｋｇ／ｃｍ２、ローラ表面温度；１２０℃、および速度；８００ｍｍ／ｍｉｎの条件にて、連続的に転写した。この際、ベースフィルムは剥離せず、柱状スペーサー形成用組成物上に付いた状態で次の露光工程へと進めた。（露光処理工程）
　上流側から下流側に搬送装置を備えた露光装置に、上記で得られた積層基板を導入し露光部まで搬送した。
　露光装置の本体の温度は２３℃±０．１℃になるよう、また、相対湿度は６０％±１％になるよう、それぞれ調整した。
　積層基板を露光台上に吸着固定した後、積層基板のベースフィルムとフォトマスクパターンとの間隔（ギャップ）を３０μｍになるよう自動調整した。このとき使用したフォトマスクパターンは、ブラックマトリックス上に形成するスペーサーパターンになるように設計した。
また積層基板のパターンの露光位置は、積層基板の端面からの距離を自動検出して、この検出結果にしたがって積層基板からフォトマスクパターン位置が一定距離になるよう自動調整後、前記ブラックマトリックス形成時に同時形成したアライメントマークを用いて柱状スペーサー用フォトマスクとアライメントを行った後、露光を行った。光源としては、高圧水銀ランプを用いて、露光エリアを２００ｍｍ×２００ｍｍとして、Ｉ線（波長；３６５ｎｍ）を用い、１５ｍＷ／ｃｍ２の照度で２０秒間露光し、３００ｍＪ／ｃｍ２の露光量とした。（現像処理・ポストベーク処理工程）
　現像処理は、露光機の下流側に現像装置を設置し、この現像装置内で露光後の積層基板からベースフィルムを剥離しながら、４００ｍｍ／ｍｉｎの一定速度で搬送しながら行った。このようにして、前記ブラックマトリックス、ＲＧＢ着色層、およびＩＴＯ電極層が形成された基板（１）のブラックマトリックスの格子パターン部の所定位置にパターンスペーサが形成されたカラーフィルタを得た。その後、ベーク炉にて２２０℃、３０分のポストベーク処理を行って、柱状スペーサーを熱硬化した。　このようにして、前記スペーサーパターンを使用した、基板（１）上にブラックマトリックス、ＲＧＢ着色層、ＩＴＯ電極層、柱状スペーサーが形成されたフロントプレーンを得た。
（バックプレーンの作成）
（ＴＦＴ電極層の形成）
　透明基板として、液晶表示素子用のガラス板（日本電気硝子社製ＯＡ－１０）を用い、特開２００４－１４０３８１号公報に記載された方法にしたがって、透明基板上にＴＦＴ電極層を形成した。
すなわち、ガラス基板上にアモルファスＳｉ層を１００ｎｍ厚で形成した後、酸化Ｓｉ層（ＳｉＯｘ）を真空成膜法により形成した。その後、上記酸化Ｓｉ層上に、フォトリソグラフィ法およびエッチング法を用いてＴＦＴ層および画素電極を形成しバックプレーンとなるＴＦＴアレイ付ガラス基板を得た。
（液晶表示素子の製造）
（配向膜形成）
　上記のように作製されたフロントプレーン及びバックプレーンに液晶配向膜を形成した。両基板ともに純水にて洗浄後、ポリイミドを含む液晶配向剤を、液晶配向膜塗布用印刷機（フレキソ印刷機）を用いて塗布し、１８０℃のオーブン内で２０分間乾燥し、フロントプレーンのＩＴＯを形成した面及びバックプレーンのＴＦＴ電極層を形成した面上に乾燥平均膜厚６００Åの塗膜を形成した。この塗膜にレーヨン製の布を巻き付けたロールを有するラビング装置により、ロールの回転数４００ｒｐｍ、ステージの移動速度３０ｍｍ／秒、毛足押し込み長さ０．４ｍｍでラビング処理を行い、水洗を行った後、１２０℃のオーブン上で１０分間乾燥した。　フロントプレーンのシール材塗布部分に、ディスペンサーを用いてシール材の閉ループを描くように塗布した。
シール材として、ビスフェノールＡ型メタクリル酸変性エポキシ樹脂を含む光熱併用硬化型樹脂組成物を使用し、シール材の中に前述で形成した柱状スペーサとほぼ同じサイズの球状スペーサを樹脂成分に対して０．５質量％混合した。シール材の塗布量は、液晶表示素子のシール幅（０．７ｍｍ）となるように調製した。　続いて、シール材閉ループ内の所定の位置に定積計量ポンプ式のディスペンサーを用いて、実施例１１に示した液晶組成物（ＬＣ－１３）を、１枚のフロントプレーンにつき、１回２４．７ｐＬずつを９０回に分けて滴下した。（合計２２３０ｐＬ）
　液晶滴下後のフロントプレーンとバックプレーンとを静電チャックに吸着させた。フロントプレーンとバックプレーンとが互いに向き合うように配置し、バックプレーンをゆっくり降下させてフロントプレーンとの距離が３００μｍとなる距離で静止させた。この状態で真空チャンバー内を１００Ｐａまで減圧した。あらかじめ形成しておいたアライメントマークを用いて、フロントプレーンとバックプレーンとの貼り合せ位置を調整した。アライメント完了後、フロントプレーンとバックプレーンとをさらに接近させ、シール材とＴＦＴ電極層とが接する高さに両基材を保持した。この状態で真空チャンバー内に不活性ガスを導入し、系内を大気圧までもどした。大気圧によりフロントプレーンとバックプレーンが圧迫され、柱状スペーサーの高さでセルギャップが形成された。続いてシール材塗布部分に紫外線を照射して（３６５ｎｍ、３０ｋＪ／ｍ２）シール材を硬化させ、お互いの基板を固定した。この状態で液晶組成物入りの基板を加熱装置に搬送し、表面温度が１２０℃の状態で１時間保持し、加熱終了後に空冷することによってアクティブマトリックス駆動用液晶表示素子を得た。

Claims (20)

  1. 正の誘電率異方性を有する液晶組成物であって、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     (式-1)で表される誘電的に正の化合物を含む誘電的に正の成分である成分（Ａ）、
    および(式-2)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     （式中、環
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される誘電的に中性の化合物を含む、誘電率異方性が-2よりも大かつ+2よりも小である誘電的に中性な成分（Ｂ）を含有する液晶組成物。
  2. 誘電的に中性な成分（Ｂ）が、(式-3.1)または(式-3.2)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     （式中、環
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物を1種又は２種以上含有する請求項１記載の液晶組成物。
  3. 誘電的に中性な成分（Ｂ）が、(式-4.1)から(式-4.8) 
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
     (式中、R１、R2はそれぞれ独立して炭素原子数１から１０の直鎖アルキル基又は直鎖アルケニル基を表し、（式中、環
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
     は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）
    で表される化合物からなる群より選ばれる１種又は２種以上の化合物を含有する請求項１または２に記載の液晶組成物。
  4. 誘電的に正の成分（Ａ）が、(式-5.1)から(式-5.4)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
     （式中、環
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
     は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を1種又は２種以上含有する請求項１から３のいずれか一項に記載の液晶組成物。
  5. 誘電的に正の成分（Ａ）が、(式-6.1)から(式-6.7)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
     （式中、環
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
     は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を1種又は２種以上含有する請求項１から４のいずれか一項に記載の液晶組成物。
  6. 誘電的に中性な成分（Ｂ）が、(式-7.1)から(式-7.9)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
     で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を1種又は２種以上含有する請求項１から５のいずれか一項に記載の液晶組成物。
  7. 誘電的に中性な成分（Ｂ）が、(式-8)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
     （式中、環
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
     は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物を含有する請求項１から６のいずれか一項に記載の液晶組成物。
  8. 誘電的に正の成分（Ａ）が、(式-9.1)又は(式-9.3)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
     （式中、環
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
     は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物を１種又は２種以上含有する請求項１から７のいずれか一項に記載の液晶組成物。
  9. 誘電的に正の成分（Ａ）が、(式-10.1)から(式-10.4)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
     で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を１種又は２種以上含有する請求項１から８のいずれか一項に記載の液晶組成物。
  10. 誘電的に中性な成分（Ｂ）が、(式-11.1)から(式-11.3)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
     （式中、環
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
     は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を、1種又は２種以上含有する請求項から９のいずれか一項に記載の液晶組成物。
  11. 誘電的に正の成分（Ａ）が、(式-12.1)から(式-12.5)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
     で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を、1種又は２種以上含有する請求項１から１０のいずれか一項に記載の液晶組成物。
  12. 誘電的に正の成分（Ａ）が、(式-13.1)から(式-13.3)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
     （式中、環
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
     は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を1種又は２種以上含有する請求項１から１１のいずれか一項に記載の液晶組成物。
  13. 誘電的に中性な成分（Ｂ）が、(式-14.1)から (式-14.3)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
     (式中、R１、R2はそれぞれ独立して炭素原子数１から１０の直鎖アルキル基又は直鎖アルケニル基を表す。）で表される化合物を、1種又は２種以上含有する請求項１から１２のいずれか一項に記載の液晶組成物。
  14. 誘電的に中性な成分（Ｂ）が、(式-15.1)又は(式-15.2)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
     （式中、環
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
     は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物を1種又は２種以上含有する請求項１から１３のいずれか一項に記載の液晶組成物。
  15. 誘電的に中性な成分（Ｂ）が、(式-16.1)から(式-16.3)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
     （式中、環
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
     は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を1種又は２種類以上含有する請求項１から１４のいずれか一項に記載の液晶組成物。
  16. 誘電的に正の成分（Ａ）が、(式-17.1)から(式-17.4)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
     （式中、環
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
     は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を1種又は２種以上含有する請求項１から１５のいずれか一項に記載の液晶組成物。
  17. 誘電的に正の成分（Ａ）が、(式-18.1) から(式-18.4)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
     （式中、環
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
     は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を1種又は２種以上含有する請求項１から１６のいずれか一項に記載の液晶組成物。
  18. 誘電的に正の成分（Ａ）が、(式-19.1)から(式-19.4)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
     （式中、環
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
     は１，４－トランスシクロヘキシレン基をあらわす。）で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を1種又は２種以上含有する請求項１から１７のいずれか一項に記載の液晶組成物。
  19. 請求項１から１８のいずれか一項に記載の液晶組成物を用いたアクティブマトリックス駆動用液晶表示素子。
  20. 請求項１から１８のいずれか一項に記載の液晶組成物を用いたＩＰＳモード、ＦＦＳモード又はＶＡ－ＩＰＳモード用液晶表示素子。
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