WO2013191048A1 - 粒子吸着マイクロプローブ - Google Patents

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WO2013191048A1
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particle
microprobe
carbon nanotubes
carbon nanotube
particles
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PCT/JP2013/066184
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前野 洋平
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日東電工株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a particle adsorption microprobe.
  • a particle adsorption microprobe suitable for picking up only one fine particle scattered on the surface of an analysis object and carrying it into an analysis apparatus for analysis evaluation.
  • a particle adsorption microprobe suitable for picking up only one fine particle scattered on the surface of an analysis object and carrying it into an analysis apparatus for analysis evaluation.
  • a particle adsorption probe using a tungsten probe or a microknife as a sampling tool is generally used.
  • a particle adsorption probe By using such a particle adsorption probe, foreign substances scattered on the surface of the member are picked up by the sampling tool and carried into the analyzer, and the composition and shape of the foreign substances are analyzed and evaluated (for example, patent documents). 1).
  • An object of the present invention is a particle adsorption microprobe that adsorbs and picks up very fine particles, and does not need to apply physical stress when picking up the particles, and contaminates the surface of a foreign object when picking up the particles. Therefore, it is an object of the present invention to provide a novel particle-adsorbing microprobe that can selectively pick up only one very fine particle and can perform analysis and evaluation directly in the analyzer after the particle is picked up.
  • the particle adsorption microprobe of the present invention comprises: Having a carbon nanotube assembly comprising a plurality of carbon nanotubes, Only one particle having a diameter of 10 ⁇ m or less is adsorbed.
  • the carbon nanotube aggregate has a diameter of 10 ⁇ m or less.
  • the carbon nanotube aggregate has a length of 10 ⁇ m or less.
  • the carbon nanotube has a plurality of layers, the distribution width of the number distribution of the carbon nanotubes is 10 or more, and the relative frequency of the mode value of the number distribution of the carbon nanotubes is 25% or less. .
  • the carbon nanotube has a plurality of layers, the mode value of the number distribution of the carbon nanotubes is present in 10 or less layers, and the relative frequency of the mode value is 30% or more. .
  • the carbon nanotube aggregate is provided on a shaft-like substrate.
  • a particle adsorption microprobe that adsorbs and picks up very fine particles, and does not need to apply physical stress when picking up the particles, and contaminates the surface of a foreign object when picking up the particles. Therefore, it is possible to provide a novel particle-adsorbing microprobe that can selectively pick up only one very fine particle and can perform analysis and evaluation in the analyzer as it is after the particle is picked up.
  • FIG. 3 is a photographic view taken with a scanning electron microscope (SEM) showing a state in which particles are adsorbed on the particle adsorption microprobe obtained in Example 1.
  • the particle adsorption microprobe of the present invention has a carbon nanotube aggregate including a plurality of carbon nanotubes.
  • the particle-adsorbing microprobe of the present invention preferably has a carbon nanotube aggregate including a plurality of carbon nanotubes at least at the tip portion. Since the particle adsorption microprobe of the present invention has such an aggregate of carbon nanotubes, it is not necessary to apply physical stress when picking up the particles, and it does not contaminate the surface of foreign matter when picking up the particles. Only one fine particle can be selectively picked up, and analysis evaluation can be performed in the analyzer as it is after picking up the particles.
  • the particle adsorption microprobe of the present invention may have a configuration composed of only a carbon nanotube aggregate including a plurality of carbon nanotubes, or a carbon nanotube aggregate including a plurality of carbon nanotubes may be provided on an axial substrate.
  • the shaft-shaped substrate means a shaft-shaped substrate, and may be paraphrased as, for example, a shaft, a support column, or a metal column.
  • the particle adsorption microprobe of the present invention can selectively pick up only one very fine particle. Specifically, the particle adsorption microprobe of the present invention adsorbs only one particle having a diameter of 10 ⁇ m or less.
  • the aspect of “adsorbing only one particle having a diameter of 10 ⁇ m or less” does not include an aspect of adsorbing two or more particles having a diameter of 10 ⁇ m or less.
  • the diameter of the particles adsorbed by only one particle-adsorbing microprobe of the present invention is 10 ⁇ m or less, preferably 8 ⁇ m or less, more preferably 6 ⁇ m or less, and further preferably 5 ⁇ m or less. Especially preferably, it is 4 micrometers or less, Most preferably, it is 3 micrometers or less.
  • the lower limit of the diameter of the particles that only one particle adsorption microprobe of the present invention adsorbs is preferably 0.3 ⁇ m or more.
  • the particle adsorption microprobe of the present invention preferably does not adsorb particles having a diameter exceeding 10 ⁇ m.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an example of a particle adsorption microprobe according to a preferred embodiment of the present invention.
  • the particle adsorption microprobe 1000 of the present invention comprises only a carbon nanotube aggregate 100 including a plurality of carbon nanotubes 10.
  • the plurality of carbon nanotubes 10 are each oriented in the direction of the length L and constitute a bundle of carbon nanotube aggregates 100.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of another example of a particle adsorption microprobe in a preferred embodiment of the present invention.
  • a carbon nanotube aggregate 100 including a plurality of carbon nanotubes 10 is provided on a shaft-like substrate 20.
  • the plurality of carbon nanotubes 10 are each oriented in the direction of the length L and constitute a bundle of carbon nanotube aggregates 100.
  • one ends 10 a of the plurality of carbon nanotubes 10 are fixed to the shaft-like base material 20.
  • the plurality of carbon nanotubes 10 are preferably oriented in a substantially vertical direction with respect to the shaft-shaped substrate 20.
  • the “substantially perpendicular direction” means that the angle with respect to the cross-sectional surface 20a of the shaft-shaped substrate 20 is preferably in the range of 90 ° ⁇ 20 °, more preferably in the range of 90 ° ⁇ 15 °. More preferably, it is within the range of 90 ° ⁇ 10 °, and particularly preferably within the range of 90 ° ⁇ 5 °.
  • the length of the carbon nanotube aggregate 100 is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 0.5 ⁇ m to 10 ⁇ m, still more preferably 0.5 ⁇ m to 8 ⁇ m, and particularly preferably. Is from 1 ⁇ m to 6 ⁇ m, most preferably from 2 ⁇ m to 5 ⁇ m.
  • the length of the carbon nanotube aggregate 100 by adjusting the length of the carbon nanotube aggregate 100 within the above range, it becomes more possible to selectively pick up only one very fine particle.
  • the diameter of the carbon nanotube aggregate 100 is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 0.3 ⁇ m to 10 ⁇ m, still more preferably 0.5 ⁇ m to 8 ⁇ m, still more preferably. It is 0.5 ⁇ m to 6 ⁇ m, more preferably 0.5 ⁇ m to 5 ⁇ m, further preferably 1 ⁇ m to 4 ⁇ m, particularly preferably 1 ⁇ m to 3 ⁇ m, and most preferably 1 ⁇ m to 2 ⁇ m.
  • the diameter of the carbon nanotube aggregate 100 by adjusting the diameter of the carbon nanotube aggregate 100 within the above range, it becomes more possible to selectively pick up only one very fine particle.
  • the cross section may have any suitable shape.
  • the cross section may be substantially circular, elliptical, n-gonal (n is an integer of 3 or more), and the like.
  • the specific surface area and density of the carbon nanotube can be set to any appropriate value.
  • any appropriate material can be adopted depending on the purpose.
  • examples of such materials include ruby and sapphire, but preferably conductive materials such as SUS and tungsten carbide.
  • any appropriate size can be adopted depending on the purpose.
  • Such a size is preferably such that the area of the cross-section side surface is larger than the area calculated from the diameter of the carbon nanotube aggregate.
  • arbitrary appropriate length can be employ
  • the particle-adsorbing microprobe of the present invention has a configuration in which the aggregate of carbon nanotubes is provided on a shaft-like substrate as shown in FIG. 2, as a method for fixing the carbon nanotubes to the shaft-like substrate, Any suitable method may be employed.
  • a fixing method include a method of bonding using a paste, a method of sticking and fixing using a double-sided tape, a method of using a substrate used for manufacturing a carbon nanotube aggregate as a shaft base material, carbon
  • a method of fixing by utilizing the adhesive property of the nanotube aggregate are examples of fixing method.
  • a method of fixing is preferable, and specific examples include a method of fixing using the adhesive properties of carbon nanotubes.
  • the aggregate of carbon nanotubes included in the particle adsorption microprobe of the present invention can take the following two preferred embodiments.
  • One of the preferred embodiments of the aggregate of carbon nanotubes of the particle adsorption microprobe of the present invention includes a plurality of carbon nanotubes, and the carbon nanotubes have a plurality of layers.
  • the distribution width of the carbon nanotube layer number distribution is 10 or more, and the relative frequency of the mode value of the wall number distribution is 25% or less.
  • the distribution width of the number distribution of carbon nanotubes is 10 or more, preferably 10 to 30 layers, more preferably 10 to 25 layers, and further preferably 10 to 20 layers.
  • the “distribution width” of the number distribution of carbon nanotubes refers to the difference between the maximum number and the minimum number of carbon nanotube layers.
  • the carbon nanotubes When the distribution width of the number distribution of carbon nanotubes is within the above range, the carbon nanotubes can have excellent mechanical properties and a high specific surface area, and the carbon nanotubes exhibit excellent adhesive properties. It can be a carbon nanotube aggregate. Therefore, the particle adsorption microprobe using such an aggregate of carbon nanotubes is not required to apply physical stress when picking up the particles, and is less likely to contaminate the surface of the foreign matter when picking up the particles. Only one fine particle can be selectively picked up, and analysis and evaluation can be easily performed in the analyzer as it is after picking up the particles.
  • the number of layers and the number distribution of the carbon nanotubes may be measured by any appropriate apparatus. Preferably, it is measured by a scanning electron microscope (SEM) or a transmission electron microscope (TEM). For example, at least 10, preferably 20 or more carbon nanotubes may be taken out from the aggregate of carbon nanotubes and measured by SEM or TEM to evaluate the number of layers and the number distribution of the layers.
  • SEM scanning electron microscope
  • TEM transmission electron microscope
  • the maximum number of the carbon nanotubes is preferably 5 to 30 layers, more preferably 10 to 30 layers, still more preferably 15 to 30 layers, and particularly preferably 15 layers to 30 layers. There are 25 layers.
  • the minimum number of the carbon nanotube layers is preferably 1 to 10 layers, more preferably 1 to 5 layers.
  • the carbon nanotubes can have more excellent mechanical properties and a high specific surface area. It can be an aggregate of carbon nanotubes that exhibits more excellent adhesive properties. Therefore, the particle adsorption microprobe using such an aggregate of carbon nanotubes is not required to apply physical stress when picking up the particles, and is less likely to contaminate the surface of the foreign matter when picking up the particles. Only one fine particle can be selectively picked up, and analysis and evaluation can be easily performed in the analyzer as it is after picking up the particles.
  • the relative frequency of the mode value of the layer number distribution is 25% or less, preferably 1% to 25%, more preferably 5% to 25%, and further preferably 10% to 25%. Particularly preferably, it is 15% to 25%.
  • the carbon nanotube can have excellent mechanical properties and a high specific surface area, and further, the carbon nanotube has excellent adhesive properties. It can become the carbon nanotube aggregate which shows. Therefore, the particle adsorption microprobe using such an aggregate of carbon nanotubes is not required to apply physical stress when picking up the particles, and is less likely to contaminate the surface of the foreign matter when picking up the particles. Only one fine particle can be selectively picked up, and analysis and evaluation can be easily performed in the analyzer as it is after picking up the particles.
  • the mode value of the layer number distribution is preferably from 2 to 10 layers, and more preferably from 3 to 10 layers.
  • the carbon nanotubes can have excellent mechanical properties and a high specific surface area, and the carbon nanotubes can exhibit excellent adhesion properties. It can be a nanotube aggregate. Therefore, the particle adsorption microprobe using such an aggregate of carbon nanotubes is not required to apply physical stress when picking up the particles, and is less likely to contaminate the surface of the foreign matter when picking up the particles. Only one fine particle can be selectively picked up, and analysis and evaluation can be easily performed in the analyzer as it is after picking up the particles.
  • Another preferred embodiment of the aggregate of carbon nanotubes of the particle adsorption microprobe of the present invention includes a plurality of carbon nanotubes, It has a plurality of layers, and the mode value of the number distribution of the carbon nanotubes exists in the number of layers of 10 or less, and the relative frequency of the mode value is 30% or more.
  • the distribution width of the number distribution of the carbon nanotubes is preferably 9 or less, more preferably 1 to 9 layers, still more preferably 2 to 8 layers, and particularly preferably 3 to 8 layers. It is.
  • the “distribution width” of the number distribution of carbon nanotubes refers to the difference between the maximum number and the minimum number of carbon nanotube layers.
  • the carbon nanotubes When the distribution width of the number distribution of carbon nanotubes is within the above range, the carbon nanotubes can have excellent mechanical properties and a high specific surface area, and the carbon nanotubes exhibit excellent adhesive properties. It can be a carbon nanotube aggregate. Therefore, the particle adsorption microprobe using such an aggregate of carbon nanotubes is not required to apply physical stress when picking up the particles, and is less likely to contaminate the surface of the foreign matter when picking up the particles. Only one fine particle can be selectively picked up, and analysis and evaluation can be easily performed in the analyzer as it is after picking up the particles.
  • the number of layers and the number distribution of the carbon nanotubes may be measured by any appropriate apparatus. Preferably, it is measured by a scanning electron microscope (SEM) or a transmission electron microscope (TEM). For example, at least 10, preferably 20 or more carbon nanotubes may be taken out from the aggregate of carbon nanotubes and measured by SEM or TEM to evaluate the number of layers and the number distribution of the layers.
  • SEM scanning electron microscope
  • TEM transmission electron microscope
  • the maximum number of the carbon nanotubes is preferably 1 to 20 layers, more preferably 2 to 15 layers, and further preferably 3 to 10 layers.
  • the minimum number of the carbon nanotube layers is preferably 1 to 10 layers, more preferably 1 to 5 layers.
  • the carbon nanotubes can have more excellent mechanical properties and a high specific surface area. It can be an aggregate of carbon nanotubes that exhibits more excellent adhesive properties. Therefore, the particle adsorption microprobe using such an aggregate of carbon nanotubes is not required to apply physical stress when picking up the particles, and is less likely to contaminate the surface of the foreign matter when picking up the particles. Only one fine particle can be selectively picked up, and analysis and evaluation can be easily performed in the analyzer as it is after picking up the particles.
  • the relative frequency of the mode value of the layer number distribution is 30% or more, preferably 30% to 100%, more preferably 30% to 90%, and further preferably 30% to 80%. Particularly preferably, it is 30% to 70%.
  • the carbon nanotube can have excellent mechanical properties and a high specific surface area, and further, the carbon nanotube has excellent adhesive properties. It can become the carbon nanotube aggregate which shows. Therefore, the particle adsorption microprobe using such an aggregate of carbon nanotubes is not required to apply physical stress when picking up the particles, and is less likely to contaminate the surface of the foreign matter when picking up the particles. Only one fine particle can be selectively picked up, and analysis and evaluation can be easily performed in the analyzer as it is after picking up the particles.
  • the mode value of the layer number distribution is present in 10 layers or less, preferably in 1 layer to 10 layers, more preferably in 2 layers to 8 layers, More preferably, it exists in 2 to 6 layers.
  • the carbon nanotubes can have excellent mechanical properties and a high specific surface area. It can be a carbon nanotube aggregate exhibiting characteristics. Therefore, the particle adsorption microprobe using such an aggregate of carbon nanotubes is not required to apply physical stress when picking up the particles, and is less likely to contaminate the surface of the foreign matter when picking up the particles. Only one fine particle can be selectively picked up, and analysis and evaluation can be easily performed in the analyzer as it is after picking up the particles.
  • a catalyst layer is formed on a smooth substrate and a carbon source is filled in a state where the catalyst is activated by heat, plasma, or the like.
  • CVD chemical vapor deposition
  • any appropriate substrate can be adopted as the substrate.
  • the material which has smoothness and the high temperature heat resistance which can endure manufacture of a carbon nanotube is mentioned.
  • examples of such materials include quartz glass, silicon (such as a silicon wafer), and a metal plate such as aluminum.
  • the substrate can be used as it is as an axial substrate that can be included in the particle adsorption probe of the present invention.
  • any suitable device can be adopted as a device for producing the carbon nanotube aggregate of the particle adsorption microprobe of the present invention.
  • a thermal CVD apparatus as shown in FIG. 3, a hot wall type configured by surrounding a cylindrical reaction vessel with a resistance heating type electric tubular furnace, and the like can be mentioned.
  • a heat-resistant quartz tube is preferably used as the reaction vessel.
  • any suitable catalyst can be used as the catalyst (catalyst layer material) that can be used for producing the carbon nanotube aggregate of the particle adsorption microprobe of the present invention.
  • metal catalysts such as iron, cobalt, nickel, gold, platinum, silver, copper, are mentioned.
  • an alumina / hydrophilic film may be provided between the substrate and the catalyst layer as necessary.
  • any appropriate method can be adopted as a method for producing the alumina / hydrophilic film.
  • it can be obtained by forming a SiO 2 film on a substrate, depositing Al, and then oxidizing it by raising the temperature to 450 ° C.
  • Al 2 O 3 interacts with the SiO 2 film hydrophilic, different Al 2 O 3 surface particle diameters than those deposited Al 2 O 3 directly formed.
  • Al is deposited and heated to 450 ° C. and oxidized without forming a hydrophilic film on the substrate, Al 2 O 3 surfaces having different particle diameters may not be formed easily.
  • a hydrophilic film is prepared on a substrate and Al 2 O 3 is directly deposited, it is difficult to form Al 2 O 3 surfaces having different particle diameters.
  • the thickness of the catalyst layer that can be used in the production of the carbon nanotube aggregate included in the particle adsorption microprobe of the present invention is preferably 0.01 nm to 20 nm, more preferably 0.1 nm to 10 nm in order to form fine particles. .
  • the carbon nanotube aggregate can have excellent mechanical properties and a high specific surface area. Furthermore, the aggregate of carbon nanotubes can exhibit excellent adhesive properties.
  • the particle adsorption microprobe using such an aggregate of carbon nanotubes is not required to apply physical stress when picking up the particles, and is less likely to contaminate the surface of the foreign matter when picking up the particles. Only one fine particle can be selectively picked up, and analysis and evaluation can be easily performed in the analyzer as it is after picking up the particles.
  • Any appropriate method can be adopted as a method for forming the catalyst layer.
  • a method of depositing a metal catalyst by EB (electron beam), sputtering, or the like, a method of applying a suspension of metal catalyst fine particles on a substrate, and the like can be mentioned.
  • the catalyst layer may be processed into a pattern having any appropriate diameter by photolithography after the formation of the catalyst layer. By such photolithography processing, finally, a carbon nanotube aggregate having a desired diameter can be manufactured.
  • Any appropriate carbon source can be used as a carbon source that can be used for producing the carbon nanotube aggregate included in the particle adsorption microprobe of the present invention.
  • hydrocarbons such as methane, ethylene, acetylene, and benzene
  • alcohols such as methanol and ethanol
  • any appropriate temperature can be adopted as the production temperature in the production of the carbon nanotube aggregate of the particle adsorption microprobe of the present invention.
  • the temperature is preferably 400 ° C to 1000 ° C, more preferably 500 ° C to 900 ° C, and further preferably 600 ° C to 800 ° C. .
  • ⁇ Evaluation of the number and distribution of carbon nanotubes in a carbon nanotube aggregate The number of carbon nanotube layers and the number distribution of carbon nanotubes in the aggregate of carbon nanotubes were measured by a scanning electron microscope (SEM) and / or a transmission electron microscope (TEM). From the obtained carbon nanotube aggregate, at least 10 or more, preferably 20 or more carbon nanotubes were observed by SEM and / or TEM, the number of layers of each carbon nanotube was examined, and a layer number distribution was created.
  • SEM scanning electron microscope
  • TEM transmission electron microscope
  • the obtained particle-adsorbing microprobe was fixed to Axispro (manufactured by Microsupport Co., Ltd.) as a sampling device, polystyrene latex (manufactured by Nissin EM Co., Ltd.) with various particle sizes (diameters) shown below, and glass beads ( The glass particles were contacted with Fuji Glass Beads (Fuji Seisakusho Co., Ltd.), and the adsorption state of the particles was examined without applying stress. The case where only one particle was adsorbed was marked with ⁇ , and the other case was marked with x.
  • Example 1 An alumina thin film (thickness 20 nm) was formed on a silicon wafer (manufactured by Silicon Technology) as a substrate by a sputtering apparatus (manufactured by ULVAC, RFS-200). On this alumina thin film, an Fe thin film (thickness 1 nm) was further vapor-deposited by a sputtering apparatus (ULVAC, RFS-200). Thereafter, it was patterned to a diameter of 1 ⁇ m by photolithography.
  • this substrate was placed in a 30 mm ⁇ quartz tube, and a mixed gas of helium / hydrogen (90/50 sccm) maintained at 600 ppm in water was allowed to flow through the quartz tube for 30 minutes to replace the inside of the tube. Thereafter, the inside of the tube was heated to 765 ° C. using an electric tubular furnace and stabilized at 765 ° C. While maintaining the temperature at 765 ° C., a mixed gas of helium / hydrogen / ethylene (85/50/5 sccm, moisture content 600 ppm) was filled in the tube, and left for 5 seconds to grow carbon nanotubes on the substrate. As a result, an aggregate of carbon nanotubes (1) in which is oriented in the length direction was obtained.
  • the carbon nanotube aggregate (1) had a length of 2 ⁇ m and a diameter of 1 ⁇ m. In the distribution of the number of carbon nanotubes provided in the carbon nanotube aggregate (1), the mode value was present in two layers, and the relative frequency was 75%.
  • a silver paste Dotite D362, manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.
  • the obtained carbon nanotube aggregate (1) The particles were adhered to form a particle adsorption microprobe (1).
  • the evaluation results are shown in Table 1. Moreover, the photograph figure of the scanning electron microscope (SEM) which shows the state by which particle
  • Example 2 An alumina thin film (thickness 20 nm) was formed on a silicon wafer (manufactured by Silicon Technology) as a substrate by a sputtering apparatus (manufactured by ULVAC, RFS-200). On this alumina thin film, an Fe thin film (thickness 1 nm) was further vapor-deposited by a sputtering apparatus (ULVAC, RFS-200). Thereafter, it was patterned to a diameter of 2 ⁇ m by photolithography.
  • this substrate was placed in a 30 mm ⁇ quartz tube, and a mixed gas of helium / hydrogen (90/50 sccm) maintained at 600 ppm in water was allowed to flow through the quartz tube for 30 minutes to replace the inside of the tube. Thereafter, the inside of the tube was heated to 765 ° C. using an electric tubular furnace and stabilized at 765 ° C. While maintaining the temperature at 765 ° C., a mixed gas of helium / hydrogen / ethylene (85/50/5 sccm, moisture content 600 ppm) was filled in the tube, and left for 10 seconds to grow carbon nanotubes on the substrate. As a result, an aggregate of carbon nanotubes (2) in which is oriented in the length direction was obtained.
  • a mixed gas of helium / hydrogen 90/50 sccm maintained at 600 ppm in water
  • Example 3 An alumina thin film (thickness 20 nm) was formed on a silicon wafer (manufactured by Silicon Technology) as a substrate by a sputtering apparatus (manufactured by ULVAC, RFS-200). On this alumina thin film, an Fe thin film (thickness 1 nm) was further vapor-deposited by a sputtering apparatus (ULVAC, RFS-200). Thereafter, it was patterned to a diameter of 5 ⁇ m by photolithography.
  • this substrate was placed in a 30 mm ⁇ quartz tube, and a mixed gas of helium / hydrogen (90/50 sccm) maintained at 600 ppm in water was allowed to flow through the quartz tube for 30 minutes to replace the inside of the tube. Thereafter, the inside of the tube was heated to 765 ° C. using an electric tubular furnace and stabilized at 765 ° C. While maintaining the temperature at 765 ° C., the tube was filled with a mixed gas of helium / hydrogen / ethylene (85/50/5 sccm, moisture content 600 ppm) and left for 15 seconds to grow carbon nanotubes on the substrate. As a result, an aggregate (3) of carbon nanotubes in which are aligned in the length direction was obtained.
  • a mixed gas of helium / hydrogen 90/50 sccm maintained at 600 ppm in water
  • the carbon nanotube aggregate (3) had a length of 5 ⁇ m and a diameter of 5 ⁇ m. In the distribution of the number of carbon nanotubes provided in the carbon nanotube aggregate (3), the mode value was present in two layers, and the relative frequency was 75%.
  • a silver paste Dotite D362, manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.
  • this substrate was placed in a 30 mm ⁇ quartz tube, and a mixed gas of helium / hydrogen (90/50 sccm) maintained at 600 ppm in water was allowed to flow through the quartz tube for 30 minutes to replace the inside of the tube. Thereafter, the inside of the tube was heated to 765 ° C. using an electric tubular furnace and stabilized at 765 ° C. While maintaining the temperature at 765 ° C., the tube was filled with a mixed gas of helium / hydrogen / ethylene (85/50/5 sccm, moisture content 600 ppm) and left for 0.5 minutes to grow carbon nanotubes on the substrate. A carbon nanotube aggregate (C1) in which the carbon nanotubes were oriented in the length direction was obtained.
  • a mixed gas of helium / hydrogen 90/50 sccm maintained at 600 ppm in water
  • the carbon nanotube aggregate (C1) had a length of 10 ⁇ m and a diameter of 30 ⁇ m. In the distribution of the number of carbon nanotubes provided in the carbon nanotube aggregate (C1), the mode value was present in one layer, and the relative frequency was 61%.
  • a silver paste Dotite D362, manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.
  • the obtained carbon nanotube aggregate (C1) The particles were adhered to create a particle adsorption microprobe (C1). The evaluation results are shown in Table 1.
  • alumina thin film (thickness 20 nm) was formed on a silicon wafer (manufactured by Silicon Technology) as a substrate by a sputtering apparatus (manufactured by ULVAC, RFS-200). On this alumina thin film, an Fe thin film (thickness 1 nm) was further vapor-deposited by a sputtering apparatus (ULVAC, RFS-200). Thereafter, it was patterned to a diameter of 20 ⁇ m by photolithography.
  • this substrate was placed in a 30 mm ⁇ quartz tube, and a mixed gas of helium / hydrogen (90/50 sccm) maintained at 600 ppm in water was allowed to flow through the quartz tube for 30 minutes to replace the inside of the tube. Thereafter, the inside of the tube was heated to 765 ° C. using an electric tubular furnace and stabilized at 765 ° C. While maintaining the temperature at 765 ° C., the tube was filled with a mixed gas of helium / hydrogen / ethylene (85/50/5 sccm, moisture content 600 ppm) and left for 2.5 minutes to grow carbon nanotubes on the substrate. A carbon nanotube aggregate (C2) in which the carbon nanotubes were oriented in the length direction was obtained.
  • a mixed gas of helium / hydrogen 90/50 sccm maintained at 600 ppm in water
  • the carbon nanotube aggregate (C2) had a length of 30 ⁇ m and a diameter of 20 ⁇ m. In the distribution of the number of carbon nanotubes provided in the carbon nanotube aggregate (C2), the mode value was present in two layers, and the relative frequency was 75%.
  • a silver paste Dotite D362, manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.
  • the obtained carbon nanotube aggregate (C2) The particles were adhered to create a particle adsorption microprobe (C2). The evaluation results are shown in Table 1.
  • Example 4 The particle adsorption microprobe obtained in Example 1 was able to maintain the state shown in the scanning electron microscope (SEM) photograph of FIG. Thus, it can be seen that the particle adsorption microprobe obtained in the example can be analyzed and evaluated directly in the analyzer after the particles are picked up.
  • the particle-adsorbing microprobe of the present invention is suitably used, for example, in analysis applications and the like for picking up only one fine particle scattered on the surface of an analysis object and bringing it into an analyzer for analysis evaluation. .

Abstract

 非常に微細な粒子を吸着してピックアップする粒子吸着マイクロプローブであって、粒子をピックアップする際に物理的応力を加える必要がなく、粒子のピックアップにあたって異物表面を汚染することなく、非常に微細な粒子を1個のみ選択的にピックアップでき、粒子のピックアップ後にそのまま分析装置内で分析評価を行うことができる、新規な粒子吸着マイクロプローブを提供する。 本発明の粒子吸着プローブは、複数のカーボンナノチューブを備えるカーボンナノチューブ集合体を有し、直径が10μm以下の粒子を1個のみ吸着する。

Description

粒子吸着マイクロプローブ
 本発明は、粒子吸着マイクロプローブに関する。詳細には、例えば、分析用途などにおいて、分析対象物の表面に点在する微細粒子を1個のみピックアップして分析装置内に運び込んで分析評価するため等に好適に用いられる、粒子吸着マイクロプローブに関する。
 部材の表面に点在する異物の組成や形状などを分析評価することによって該部材の製造プロセスにおける該異物の混入経路等を解明することは、異物のないクリーンな部材を提供する上で重要である。
 部材の表面に点在する異物の組成や形状を評価する手段としては、タングステンプローブやマイクロナイフをサンプリングツールとして用いた粒子吸着プローブが一般的に用いられている。このような粒子吸着プローブを用いることにより、上記サンプリングツールによって部材の表面に点在する異物をピックアップして分析装置内に運び込み、該異物の組成や形状などが分析評価される(例えば、特許文献1参照)。
 しかし、タングステンプローブやマイクロナイフをサンプリングツールとして用いた粒子吸着プローブにおいては、異物をピックアップするために、サンプリングツールを異物に刺すなどの物理的応力を加える必要がある。このような物理的応力が加わると、表面被覆材のはがれや表面凹凸・層構造の変化など、表面の生の構造・組成観察が困難となるという問題が生じる。
 他方、物理的応力を加えないで異物をピックアップするために、サンプリングツールとしてペーストなどの接着剤や両面テープなどの粘着剤を用いると、それらに含まれる有機成分によって異物表面が汚染されてしまい、該異物の正確な分析評価ができないという問題がある。また、サンプリングツールとして上記のような接着剤や粘着剤を用いた場合、粒径分布の広い粒子群から特定の粒径の粒子を選択的にピックアップすることは困難である。
 特に、異物のマイクロサンプリングにおいては、非常に微細な粒子を選択的に1個のみピックアップして分析することが要求される場合があるが、サンプリングツールとして上記のような接着剤や粘着剤を用いた場合には、非常に微細な粒子を選択的に1個のみピックアップすることは困難である。
 また、従来の粒子吸着プローブを用いてピックアップした異物を分析装置内に運び込んで分析評価する場合、分析装置内に運び込まれた該異物は、分析評価の際に新たにペースト等で固定される必要があり、工程が煩雑である。
特開2008-52232号公報
 本発明の課題は、非常に微細な粒子を吸着してピックアップする粒子吸着マイクロプローブであって、粒子をピックアップする際に物理的応力を加える必要がなく、粒子のピックアップにあたって異物表面を汚染することなく、非常に微細な粒子を1個のみ選択的にピックアップでき、粒子のピックアップ後にそのまま分析装置内で分析評価を行うことができる、新規な粒子吸着マイクロプローブを提供することにある。
 本発明の粒子吸着マイクロプローブは、
 複数のカーボンナノチューブを備えるカーボンナノチューブ集合体を有し、
 直径が10μm以下の粒子を1個のみ吸着する。
 好ましい実施形態においては、上記カーボンナノチューブ集合体の直径が10μm以下である。
 好ましい実施形態においては、上記カーボンナノチューブ集合体の長さが10μm以下である。
 好ましい実施形態においては、上記カーボンナノチューブが複数層を有し、該カーボンナノチューブの層数分布の分布幅が10層以上であり、該層数分布の最頻値の相対頻度が25%以下である。
 好ましい実施形態においては、上記カーボンナノチューブが複数層を有し、該カーボンナノチューブの層数分布の最頻値が層数10層以下に存在し、該最頻値の相対頻度が30%以上である。
 好ましい実施形態においては、本発明の粒子吸着マイクロプローブは、軸状基材上に上記カーボンナノチューブ集合体が設けられている。
 本発明によれば、非常に微細な粒子を吸着してピックアップする粒子吸着マイクロプローブであって、粒子をピックアップする際に物理的応力を加える必要がなく、粒子のピックアップにあたって異物表面を汚染することなく、非常に微細な粒子を1個のみ選択的にピックアップでき、粒子のピックアップ後にそのまま分析装置内で分析評価を行うことができる、新規な粒子吸着マイクロプローブを提供することができる。
本発明の好ましい実施形態における粒子吸着マイクロプローブの一例の概略断面図である。 本発明の好ましい実施形態における粒子吸着マイクロプローブの別の一例の概略断面図である。 カーボンナノチューブ集合体の製造装置の概略断面図である。 実施例1で得られた粒子吸着マイクロプローブに粒子が吸着された状態を示す走査型電子顕微鏡(SEM)による写真図である。
≪粒子吸着マイクロプローブ≫
 本発明の粒子吸着マイクロプローブは、複数のカーボンナノチューブを備えるカーボンナノチューブ集合体を有する。本発明の粒子吸着マイクロプローブは、複数のカーボンナノチューブを備えるカーボンナノチューブ集合体を、好ましくは、少なくとも先端部分に有する。本発明の粒子吸着マイクロプローブは、このようなカーボンナノチューブ集合体を有することにより、粒子をピックアップする際に物理的応力を加える必要がなく、粒子のピックアップにあたって異物表面を汚染することなく、非常に微細な粒子を1個のみ選択的にピックアップでき、粒子のピックアップ後にそのまま分析装置内で分析評価を行うことができる。
 本発明の粒子吸着マイクロプローブは、例えば、複数のカーボンナノチューブを備えるカーボンナノチューブ集合体のみからなる構成であっても良いし、複数のカーボンナノチューブを備えるカーボンナノチューブ集合体が軸状基材上に設けられている構成であっても良い。ここで、軸状基材は、軸形状をした基材を意味し、例えば、軸、支柱、金属柱などに言い換えることができる場合もある。
 本発明の粒子吸着マイクロプローブは、非常に微細な粒子を1個のみ選択的にピックアップできる。具体的には、本発明の粒子吸着マイクロプローブは、直径が10μm以下の粒子を1個のみ吸着する。ここで、「直径が10μm以下の粒子を1個のみ吸着する」という態様には、直径が10μm以下の粒子を2個以上吸着してしまう態様は含まれない。
 本発明の粒子吸着マイクロプローブが1個のみ吸着する粒子の直径は、上記の通り、10μm以下であり、好ましくは8μm以下であり、より好ましくは6μm以下であり、さらに好ましくは5μm以下であり、特に好ましくは4μm以下であり、最も好ましくは3μm以下である。本発明の粒子吸着マイクロプローブが1個のみ吸着する粒子の直径の下限値は、好ましくは、0.3μm以上である。
 本発明の粒子吸着マイクロプローブは、好ましくは、直径が10μmを超える粒子は吸着しない。
 図1は、本発明の好ましい実施形態における粒子吸着マイクロプローブの一例の概略断面図である。図1において、本発明の粒子吸着マイクロプローブ1000は、複数のカーボンナノチューブ10を備えるカーボンナノチューブ集合体100のみからなる。図1において、複数のカーボンナノチューブ10は、それぞれ、長さLの方向に配向しており、束状のカーボンナノチューブ集合体100を構成している。
 図2は、本発明の好ましい実施形態における粒子吸着マイクロプローブの別の一例の概略断面図である。図2において、本発明の粒子吸着マイクロプローブ1000は、複数のカーボンナノチューブ10を備えるカーボンナノチューブ集合体100が軸状基材20上に設けられている。図2において、複数のカーボンナノチューブ10は、それぞれ、長さLの方向に配向しており、束状のカーボンナノチューブ集合体100を構成している。図2において、複数のカーボンナノチューブ10の片端10aは、軸状基材20に固定されている。図2に示すように、複数のカーボンナノチューブ10は、好ましくは、軸状基材20に対して略垂直方向に配向している。ここで、「略垂直方向」とは、軸状基材20の断面側表面20aに対する角度が、好ましくは90°±20°の範囲内であり、より好ましくは90°±15°の範囲内であり、さらに好ましくは90°±10°の範囲内であり、特に好ましくは90°±5°の範囲内である。
 本発明の粒子吸着マイクロプローブにおいて、カーボンナノチューブ集合体100の長さは、好ましくは10μm以下であり、より好ましくは0.5μm~10μmであり、さらに好ましくは0.5μm~8μmであり、特に好ましくは1μm~6μmであり、最も好ましくは2μm~5μmである。本発明の粒子吸着マイクロプローブにおいて、カーボンナノチューブ集合体100の長さを上記範囲内に調整することにより、非常に微細な粒子を1個のみ選択的にピックアップすることが一層可能なものとなる。
 本発明の粒子吸着マイクロプローブにおいて、カーボンナノチューブ集合体100の直径は、好ましくは10μm以下であり、より好ましくは0.3μm~10μmであり、さらに好ましくは0.5μm~8μmであり、さらに好ましくは0.5μm~6μmであり、さらに好ましくは0.5μm~5μmであり、さらに好ましくは1μm~4μmであり、特に好ましくは1μm~3μmであり、最も好ましくは1μm~2μmである。本発明の粒子吸着マイクロプローブにおいて、カーボンナノチューブ集合体100の直径を上記範囲内に調整することにより、非常に微細な粒子を1個のみ選択的にピックアップすることが一層可能なものとなる。
 本発明の粒子吸着マイクロプローブにおいて、カーボンナノチューブの形状としては、その横断面が任意の適切な形状を有していれば良い。例えば、その横断面が、略円形、楕円形、n角形(nは3以上の整数)等が挙げられる。
 本発明の粒子吸着マイクロプローブにおいて、カーボンナノチューブの比表面積、密度は、任意の適切な値に設定され得る。
 軸状基材の材料としては、目的に応じて、任意の適切な材料を採用し得る。このような材料としては、例えば、ルビー、サファイアなども挙げられるが、好ましくは、SUS、タングステン超硬など導電性の材料が挙げられる。
 軸状基材の大きさとしては、目的に応じて、任意の適切な大きさを採用し得る。このような大きさとしては、好ましくは、その断面側表面の面積が、カーボンナノチューブ集合体の直径から算出される面積よりも大きくなるような大きさである。なお、軸状基材の長さ(断面側表面と直交する方向の長さ)は、目的に応じて、任意の適切な長さを採用し得る。
 本発明の粒子吸着マイクロプローブが、図2のように、カーボンナノチューブ集合体が軸状基材上に設けられている構成である場合、該カーボンナノチューブを該軸状基材に固定する方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。このような固定方法としては、例えば、ペーストなどを用いて接着する方法、両面テープなどを用いて粘着固定する方法、カーボンナノチューブ集合体の製造に使用した基板を軸状基材として用いる方法、カーボンナノチューブ集合体の接着特性を利用して固定する方法などが挙げられる。これらの固定方法の中でも、粒子のピックアップ後にカーボンナノチューブ集合体をそのまま分析装置内で分析評価を行う場合を考慮すると、汚染原因の除去と、帯電防止のために、導電性の材料のみを用いて固定する方法が好ましく、具体的には、例えば、カーボンナノチューブの接着特性を利用して固定する方法などが挙げられる。
≪カーボンナノチューブ集合体≫
 本発明の粒子吸着マイクロプローブが有するカーボンナノチューブ集合体は、下記のような2つの好ましい実施形態を採り得る。
<第1の好ましい実施形態>
 本発明の粒子吸着マイクロプローブが有するカーボンナノチューブ集合体の好ましい実施形態の1つ(以下、第1の好ましい実施形態と称することがある)は、複数のカーボンナノチューブを備え、該カーボンナノチューブが複数層を有し、該カーボンナノチューブの層数分布の分布幅が10層以上であり、該層数分布の最頻値の相対頻度が25%以下である。
 上記カーボンナノチューブの層数分布の分布幅は10層以上であり、好ましくは10層~30層であり、より好ましくは10層~25層であり、さらに好ましくは10層~20層である。
 上記カーボンナノチューブの層数分布の「分布幅」とは、カーボンナノチューブの層数の最大層数と最小層数との差をいう。
 カーボンナノチューブの層数分布の分布幅が上記範囲内にあることにより、該カーボンナノチューブは優れた機械的特性および高い比表面積を兼ね備えることができ、さらには、該カーボンナノチューブは優れた粘着特性を示すカーボンナノチューブ集合体となり得る。したがって、このようなカーボンナノチューブ集合体を用いた粒子吸着マイクロプローブは、粒子をピックアップする際に物理的応力を加える必要が一層なく、粒子のピックアップにあたって異物表面を汚染することが一層なく、非常に微細な粒子を1個のみ選択的にピックアップすることが一層可能となり、粒子のピックアップ後にそのまま分析装置内で分析評価を行うことが一層容易にできる。
 上記カーボンナノチューブの層数、層数分布は、任意の適切な装置によって測定すれば良い。好ましくは、走査型電子顕微鏡(SEM)や透過電子顕微鏡(TEM)によって測定される。例えば、カーボンナノチューブ集合体から少なくとも10本、好ましくは20本以上のカーボンナノチューブを取り出してSEMあるいはTEMによって測定し、層数および層数分布を評価すれば良い。
 上記カーボンナノチューブの層数の最大層数は、好ましくは5層~30層であり、より好ましくは10層~30層であり、さらに好ましくは15層~30層であり、特に好ましくは15層~25層である。
 上記カーボンナノチューブの層数の最小層数は、好ましくは1層~10層であり、より好ましくは1層~5層である。
 上記カーボンナノチューブの層数の最大層数と最小層数が上記範囲内にあることにより、該カーボンナノチューブは一層優れた機械的特性および高い比表面積を兼ね備えることができ、さらには、該カーボンナノチューブは一層優れた粘着特性を示すカーボンナノチューブ集合体となり得る。したがって、このようなカーボンナノチューブ集合体を用いた粒子吸着マイクロプローブは、粒子をピックアップする際に物理的応力を加える必要が一層なく、粒子のピックアップにあたって異物表面を汚染することが一層なく、非常に微細な粒子を1個のみ選択的にピックアップすることが一層可能となり、粒子のピックアップ後にそのまま分析装置内で分析評価を行うことが一層容易にできる。
 上記層数分布の最頻値の相対頻度は、25%以下であり、好ましくは1%~25%であり、より好ましくは5%~25%であり、さらに好ましくは10%~25%であり、特に好ましくは15%~25%である。上記層数分布の最頻値の相対頻度が上記範囲内にあることにより、該カーボンナノチューブは優れた機械的特性および高い比表面積を兼ね備えることができ、さらには、該カーボンナノチューブは優れた粘着特性を示すカーボンナノチューブ集合体となり得る。したがって、このようなカーボンナノチューブ集合体を用いた粒子吸着マイクロプローブは、粒子をピックアップする際に物理的応力を加える必要が一層なく、粒子のピックアップにあたって異物表面を汚染することが一層なく、非常に微細な粒子を1個のみ選択的にピックアップすることが一層可能となり、粒子のピックアップ後にそのまま分析装置内で分析評価を行うことが一層容易にできる。
 上記層数分布の最頻値は、好ましくは層数2層から層数10層に存在し、さらに好ましくは層数3層から層数10層に存在する。上記層数分布の最頻値が上記範囲内にあることにより、該カーボンナノチューブは優れた機械的特性および高い比表面積を兼ね備えることができ、さらには、該カーボンナノチューブは優れた粘着特性を示すカーボンナノチューブ集合体となり得る。したがって、このようなカーボンナノチューブ集合体を用いた粒子吸着マイクロプローブは、粒子をピックアップする際に物理的応力を加える必要が一層なく、粒子のピックアップにあたって異物表面を汚染することが一層なく、非常に微細な粒子を1個のみ選択的にピックアップすることが一層可能となり、粒子のピックアップ後にそのまま分析装置内で分析評価を行うことが一層容易にできる。
<第2の好ましい実施形態>
 本発明の粒子吸着マイクロプローブが有するカーボンナノチューブ集合体の好ましい実施形態の別の1つ(以下、第2の好ましい実施形態と称することがある)は、複数のカーボンナノチューブを備え、該カーボンナノチューブが複数層を有し、該カーボンナノチューブの層数分布の最頻値が層数10層以下に存在し、該最頻値の相対頻度が30%以上である。
 上記カーボンナノチューブの層数分布の分布幅は、好ましくは9層以下であり、より好ましくは1層~9層であり、さらに好ましくは2層~8層であり、特に好ましくは3層~8層である。
 上記カーボンナノチューブの層数分布の「分布幅」とは、カーボンナノチューブの層数の最大層数と最小層数との差をいう。
 カーボンナノチューブの層数分布の分布幅が上記範囲内にあることにより、該カーボンナノチューブは優れた機械的特性および高い比表面積を兼ね備えることができ、さらには、該カーボンナノチューブは優れた粘着特性を示すカーボンナノチューブ集合体となり得る。したがって、このようなカーボンナノチューブ集合体を用いた粒子吸着マイクロプローブは、粒子をピックアップする際に物理的応力を加える必要が一層なく、粒子のピックアップにあたって異物表面を汚染することが一層なく、非常に微細な粒子を1個のみ選択的にピックアップすることが一層可能となり、粒子のピックアップ後にそのまま分析装置内で分析評価を行うことが一層容易にできる。
 上記カーボンナノチューブの層数、層数分布は、任意の適切な装置によって測定すれば良い。好ましくは、走査型電子顕微鏡(SEM)や透過電子顕微鏡(TEM)によって測定される。例えば、カーボンナノチューブ集合体から少なくとも10本、好ましくは20本以上のカーボンナノチューブを取り出してSEMあるいはTEMによって測定し、層数および層数分布を評価すれば良い。
 上記カーボンナノチューブの層数の最大層数は、好ましくは1層~20層であり、より好ましくは2層~15層であり、さらに好ましくは3層~10層である。
 上記カーボンナノチューブの層数の最小層数は、好ましくは1層~10層であり、より好ましくは1層~5層である。
 上記カーボンナノチューブの層数の最大層数と最小層数が上記範囲内にあることにより、該カーボンナノチューブは一層優れた機械的特性および高い比表面積を兼ね備えることができ、さらには、該カーボンナノチューブは一層優れた粘着特性を示すカーボンナノチューブ集合体となり得る。したがって、このようなカーボンナノチューブ集合体を用いた粒子吸着マイクロプローブは、粒子をピックアップする際に物理的応力を加える必要が一層なく、粒子のピックアップにあたって異物表面を汚染することが一層なく、非常に微細な粒子を1個のみ選択的にピックアップすることが一層可能となり、粒子のピックアップ後にそのまま分析装置内で分析評価を行うことが一層容易にできる。
 上記層数分布の最頻値の相対頻度は、30%以上であり、好ましくは30%~100%であり、より好ましくは30%~90%であり、さらに好ましくは30%~80%であり、特に好ましくは30%~70%である。上記層数分布の最頻値の相対頻度が上記範囲内にあることにより、該カーボンナノチューブは優れた機械的特性および高い比表面積を兼ね備えることができ、さらには、該カーボンナノチューブは優れた粘着特性を示すカーボンナノチューブ集合体となり得る。したがって、このようなカーボンナノチューブ集合体を用いた粒子吸着マイクロプローブは、粒子をピックアップする際に物理的応力を加える必要が一層なく、粒子のピックアップにあたって異物表面を汚染することが一層なく、非常に微細な粒子を1個のみ選択的にピックアップすることが一層可能となり、粒子のピックアップ後にそのまま分析装置内で分析評価を行うことが一層容易にできる。
 上記層数分布の最頻値は、層数10層以下に存在し、好ましくは層数1層から層数10層に存在し、より好ましくは層数2層から層数8層に存在し、さらに好ましくは層数2層から層数6層に存在する。本発明において、上記層数分布の最頻値が上記範囲内にあることにより、該カーボンナノチューブは優れた機械的特性および高い比表面積を兼ね備えることができ、さらには、該カーボンナノチューブは優れた粘着特性を示すカーボンナノチューブ集合体となり得る。したがって、このようなカーボンナノチューブ集合体を用いた粒子吸着マイクロプローブは、粒子をピックアップする際に物理的応力を加える必要が一層なく、粒子のピックアップにあたって異物表面を汚染することが一層なく、非常に微細な粒子を1個のみ選択的にピックアップすることが一層可能となり、粒子のピックアップ後にそのまま分析装置内で分析評価を行うことが一層容易にできる。
≪カーボンナノチューブ集合体の製造方法≫
 本発明の粒子吸着マイクロプローブが有するカーボンナノチューブ集合体の製造方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。
 本発明の粒子吸着マイクロプローブが有するカーボンナノチューブ集合体の製造方法としては、例えば、平滑な基板の上に触媒層を構成し、熱、プラズマなどにより触媒を活性化させた状態で炭素源を充填し、カーボンナノチューブを成長させる、化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition:CVD法)によって、基板からほぼ垂直に配向したカーボンナノチューブ集合体を製造する方法が挙げられる。この場合、例えば、基板を取り除けば、長さ方向に配向しているカーボンナノチューブ集合体が得られる。
 上記基板としては、任意の適切な基板を採用し得る。例えば、平滑性を有し、カーボンナノチューブの製造に耐え得る高温耐熱性を有する材料が挙げられる。このような材料としては、例えば、石英ガラス、シリコン(シリコンウェハなど)、アルミニウムなどの金属板などが挙げられる。上記基板は、そのまま、本発明の粒子吸着プローブが含み得る軸状基材として用いることができる。
 本発明の粒子吸着マイクロプローブが有するカーボンナノチューブ集合体を製造するための装置としては、任意の適切な装置を採用し得る。例えば、熱CVD装置としては、図3に示すような、筒型の反応容器を抵抗加熱式の電気管状炉で囲んで構成されたホットウォール型などが挙げられる。その場合、反応容器としては、例えば、耐熱性の石英管などが好ましく用いられる。
 本発明の粒子吸着マイクロプローブが有するカーボンナノチューブ集合体の製造に用い得る触媒(触媒層の材料)としては、任意の適切な触媒を用い得る。例えば、鉄、コバルト、ニッケル、金、白金、銀、銅などの金属触媒が挙げられる。
 本発明の粒子吸着マイクロプローブが有するカーボンナノチューブ集合体を製造する際、必要に応じて、基板と触媒層の中間にアルミナ/親水性膜を設けても良い。
 アルミナ/親水性膜の作製方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。例えば、基板の上にSiO膜を作製し、Alを蒸着後、450℃まで昇温して酸化させることにより得られる。このような作製方法によれば、Alが親水性のSiO膜と相互作用し、Alを直接蒸着したものよりも粒子径の異なるAl面が形成される。基板の上に、親水性膜を作製することを行わずに、Alを蒸着後に450℃まで昇温して酸化させても、粒子径の異なるAl面が形成され難いおそれがある。また、基板の上に、親水性膜を作製し、Alを直接蒸着しても、粒子径の異なるAl面が形成され難いおそれがある。
 本発明の粒子吸着マイクロプローブが有するカーボンナノチューブ集合体の製造に用い得る触媒層の厚みは、微粒子を形成させるため、好ましくは0.01nm~20nmであり、より好ましくは0.1nm~10nmである。本発明の粒子吸着プローブが有するカーボンナノチューブ集合体の製造に用い得る触媒層の厚みが上記範囲内にあることによって、該カーボンナノチューブ集合体は優れた機械的特性および高い比表面積を兼ね備えることができ、さらには、該カーボンナノチューブ集合体は優れた粘着特性を示し得る。したがって、このようなカーボンナノチューブ集合体を用いた粒子吸着マイクロプローブは、粒子をピックアップする際に物理的応力を加える必要が一層なく、粒子のピックアップにあたって異物表面を汚染することが一層なく、非常に微細な粒子を1個のみ選択的にピックアップすることが一層可能となり、粒子のピックアップ後にそのまま分析装置内で分析評価を行うことが一層容易にできる。
 触媒層の形成方法は、任意の適切な方法を採用し得る。例えば、金属触媒をEB(電子ビーム)、スパッタなどにより蒸着する方法、金属触媒微粒子の懸濁液を基板上に塗布する方法などが挙げられる。
 触媒層は、その形成後に、フォトリソグラフィ加工によって、任意の適切な直径のパターンに加工しても良い。このようなフォトリソグラフィ加工により、最終的に、所望の直径を有するカーボンナノチューブ集合体を製造することができる。
 本発明の粒子吸着マイクロプローブが有するカーボンナノチューブ集合体の製造に用い得る炭素源としては、任意の適切な炭素源を用い得る。例えば、メタン、エチレン、アセチレン、ベンゼンなどの炭化水素;メタノール、エタノールなどのアルコール;などが挙げられる。
 本発明の粒子吸着マイクロプローブが有するカーボンナノチューブ集合体の製造における製造温度としては、任意の適切な温度を採用し得る。たとえば、本発明の効果を十分に発現し得る触媒粒子を形成させるため、好ましくは400℃~1000℃であり、より好ましくは500℃~900℃であり、さらに好ましくは600℃~800℃である。
 以下、本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、各種評価や測定は、以下の方法により行った。
<カーボンナノチューブ集合体の長さおよび直径の測定>
 カーボンナノチューブ集合体の長さおよび直径は、走査型電子顕微鏡(SEM)によって測定した。
<カーボンナノチューブ集合体におけるカーボンナノチューブの層数・層数分布の評価>
 カーボンナノチューブ集合体におけるカーボンナノチューブの層数および層数分布は、走査型電子顕微鏡(SEM)および/または透過電子顕微鏡(TEM)によって測定した。得られたカーボンナノチューブ集合体の中から少なくとも10本以上、好ましくは20本以上のカーボンナノチューブをSEMおよび/またはTEMにより観察し、各カーボンナノチューブの層数を調べ、層数分布を作成した。
<プローブ試験>
 タングステン針(株式会社マイクロサポート製、TP-010、先端直径=10μm)の平滑断面に、銀ペースト(ドータイトD362、藤倉化成株式会社製)を用いて、カーボンナノチューブ集合体を接着し、粒子吸着マイクロプローブを作成した。
 得られた粒子吸着マイクロプローブを、サンプリング機器のアクシスプロ(株式会社マイクロサポート製)に固定し、下記に示す種々の粒径(直径)のポリスチレンラテックス(日新EM株式会社製)、ガラスビーズ(フジガラスビーズ、株式会社不二製作所製)に接触させ、応力をかけずに、粒子の吸着状態を調べた。粒子が1個のみ吸着された場合を○とし、それ以外の場合を×とした。
 ポリスチレンラテックス「品番1253」:粒径1.1μm
 ポリスチレンラテックス「品番1254」:粒径2.0μm
 ポリスチレンラテックス「品番1255」:粒径3.0μm
 ガラスビーズ「品番FGB-1500」:粒径20μm以下
 ガラスビーズ「品番FGB-1000」:粒径30μm以下
[実施例1]
 基板としてのシリコンウェハ(シリコンテクノロジー製)上に、スパッタ装置(ULVAC製、RFS-200)により、アルミナ薄膜(厚み20nm)を形成した。このアルミナ薄膜上に、さらにスパッタ装置(ULVAC製、RFS-200)にてFe薄膜(厚み1nm)を蒸着した。その後、フォトリソグラフィ加工により、直径1μmにパターン化した。
 その後、この基板を30mmφの石英管内に載置し、水分600ppmに保ったヘリウム/水素(90/50sccm)混合ガスを石英管内に30分間流して、管内を置換した。その後、電気管状炉を用いて管内を765℃まで昇温させ、765℃にて安定させた。765℃にて温度を保持したまま、ヘリウム/水素/エチレン(85/50/5sccm、水分率600ppm)混合ガスを管内に充填させ、5秒間放置してカーボンナノチューブを基板上に成長させ、カーボンナノチューブが長さ方向に配向しているカーボンナノチューブ集合体(1)を得た。
 カーボンナノチューブ集合体(1)の長さは2μmであり、直径は1μmであった。
 カーボンナノチューブ集合体(1)が備えるカーボンナノチューブの層数分布において、最頻値は2層に存在し、相対頻度は75%であった。
 タングステン針(株式会社マイクロサポート製、TP-010、先端直径=10μm)の平滑断面に、銀ペースト(ドータイトD362、藤倉化成株式会社製)を用いて、得られたカーボンナノチューブ集合体(1)を接着し、粒子吸着マイクロプローブ(1)を作成した。
 評価結果を表1に示す。
 また、得られた粒子吸着マイクロプローブに粒子が吸着された状態を示す走査型電子顕微鏡(SEM)の写真図を図4に示した。
[実施例2]
 基板としてのシリコンウェハ(シリコンテクノロジー製)上に、スパッタ装置(ULVAC製、RFS-200)により、アルミナ薄膜(厚み20nm)を形成した。このアルミナ薄膜上に、さらにスパッタ装置(ULVAC製、RFS-200)にてFe薄膜(厚み1nm)を蒸着した。その後、フォトリソグラフィ加工により、直径2μmにパターン化した。
 その後、この基板を30mmφの石英管内に載置し、水分600ppmに保ったヘリウム/水素(90/50sccm)混合ガスを石英管内に30分間流して、管内を置換した。その後、電気管状炉を用いて管内を765℃まで昇温させ、765℃にて安定させた。765℃にて温度を保持したまま、ヘリウム/水素/エチレン(85/50/5sccm、水分率600ppm)混合ガスを管内に充填させ、10秒間放置してカーボンナノチューブを基板上に成長させ、カーボンナノチューブが長さ方向に配向しているカーボンナノチューブ集合体(2)を得た。
 カーボンナノチューブ集合体(2)の長さは5μmであり、直径は2μmであった。
 カーボンナノチューブ集合体(2)が備えるカーボンナノチューブの層数分布において、最頻値は2層に存在し、相対頻度は75%であった。
 タングステン針(株式会社マイクロサポート製、TP-010、先端直径=10μm)の平滑断面に、銀ペースト(ドータイトD362、藤倉化成株式会社製)を用いて、得られたカーボンナノチューブ集合体(2)を接着し、粒子吸着マイクロプローブ(2)を作成した。
 評価結果を表1に示す。
[実施例3]
 基板としてのシリコンウェハ(シリコンテクノロジー製)上に、スパッタ装置(ULVAC製、RFS-200)により、アルミナ薄膜(厚み20nm)を形成した。このアルミナ薄膜上に、さらにスパッタ装置(ULVAC製、RFS-200)にてFe薄膜(厚み1nm)を蒸着した。その後、フォトリソグラフィ加工により、直径5μmにパターン化した。
 その後、この基板を30mmφの石英管内に載置し、水分600ppmに保ったヘリウム/水素(90/50sccm)混合ガスを石英管内に30分間流して、管内を置換した。その後、電気管状炉を用いて管内を765℃まで昇温させ、765℃にて安定させた。765℃にて温度を保持したまま、ヘリウム/水素/エチレン(85/50/5sccm、水分率600ppm)混合ガスを管内に充填させ、15秒間放置してカーボンナノチューブを基板上に成長させ、カーボンナノチューブが長さ方向に配向しているカーボンナノチューブ集合体(3)を得た。
 カーボンナノチューブ集合体(3)の長さは5μmであり、直径は5μmであった。
 カーボンナノチューブ集合体(3)が備えるカーボンナノチューブの層数分布において、最頻値は2層に存在し、相対頻度は75%であった。
 タングステン針(株式会社マイクロサポート製、TP-010、先端直径=10μm)の平滑断面に、銀ペースト(ドータイトD362、藤倉化成株式会社製)を用いて、得られたカーボンナノチューブ集合体(3)を接着し、粒子吸着マイクロプローブ(3)を作成した。
 評価結果を表1に示す。
[比較例1]
 基板としてのシリコンウェハ(シリコンテクノロジー製)上に、スパッタ装置(ULVAC製、RFS-200)により、Al薄膜(厚み5nm)を形成した。このAl薄膜上に、さらにスパッタ装置(ULVAC製、RFS-200)にてFe薄膜(厚み0.35nm)を蒸着した。その後、フォトリソグラフィ加工により、直径30μmにパターン化した。
 その後、この基板を30mmφの石英管内に載置し、水分600ppmに保ったヘリウム/水素(90/50sccm)混合ガスを石英管内に30分間流して、管内を置換した。その後、電気管状炉を用いて管内を765℃まで昇温させ、765℃にて安定させた。765℃にて温度を保持したまま、ヘリウム/水素/エチレン(85/50/5sccm、水分率600ppm)混合ガスを管内に充填させ、0.5分間放置してカーボンナノチューブを基板上に成長させ、カーボンナノチューブが長さ方向に配向しているカーボンナノチューブ集合体(C1)を得た。
 カーボンナノチューブ集合体(C1)の長さは10μmであり、直径は30μmであった。
 カーボンナノチューブ集合体(C1)が備えるカーボンナノチューブの層数分布において、最頻値は1層に存在し、相対頻度は61%であった。
 タングステン針(株式会社マイクロサポート製、TP-010、先端直径=10μm)の平滑断面に、銀ペースト(ドータイトD362、藤倉化成株式会社製)を用いて、得られたカーボンナノチューブ集合体(C1)を接着し、粒子吸着マイクロプローブ(C1)を作成した。
 評価結果を表1に示す。
[比較例2]
 基板としてのシリコンウェハ(シリコンテクノロジー製)上に、スパッタ装置(ULVAC製、RFS-200)により、アルミナ薄膜(厚み20nm)を形成した。このアルミナ薄膜上に、さらにスパッタ装置(ULVAC製、RFS-200)にてFe薄膜(厚み1nm)を蒸着した。その後、フォトリソグラフィ加工により、直径20μmにパターン化した。
 その後、この基板を30mmφの石英管内に載置し、水分600ppmに保ったヘリウム/水素(90/50sccm)混合ガスを石英管内に30分間流して、管内を置換した。その後、電気管状炉を用いて管内を765℃まで昇温させ、765℃にて安定させた。765℃にて温度を保持したまま、ヘリウム/水素/エチレン(85/50/5sccm、水分率600ppm)混合ガスを管内に充填させ、2.5分間放置してカーボンナノチューブを基板上に成長させ、カーボンナノチューブが長さ方向に配向しているカーボンナノチューブ集合体(C2)を得た。
 カーボンナノチューブ集合体(C2)の長さは30μmであり、直径は20μmであった。
 カーボンナノチューブ集合体(C2)が備えるカーボンナノチューブの層数分布において、最頻値は2層に存在し、相対頻度は75%であった。
 タングステン針(株式会社マイクロサポート製、TP-010、先端直径=10μm)の平滑断面に、銀ペースト(ドータイトD362、藤倉化成株式会社製)を用いて、得られたカーボンナノチューブ集合体(C2)を接着し、粒子吸着マイクロプローブ(C2)を作成した。
 評価結果を表1に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 表1に示すように、実施例で得られた粒子吸着マイクロプローブにおいては、粒子をピックアップする際に物理的応力を加える必要がなく、粒子のピックアップにあたって異物表面を汚染することなく、非常に微細な粒子を1個のみ選択的にピックアップできることが判る。
[実施例4]
 実施例1で得られた粒子吸着マイクロプローブは、粒子のピックアップ後に、そのまま分析装置内において図4の走査型電子顕微鏡(SEM)の写真図に示す状態を維持することができた。
 このことにより、実施例で得られた粒子吸着マイクロプローブは、粒子のピックアップ後にそのまま分析装置内で分析評価を行うことができることが判る。
 本発明の粒子吸着マイクロプローブは、例えば、分析用途などにおいて、分析対象物の表面に点在する微細粒子を1個のみピックアップして分析装置内に運び込んで分析評価するため等に好適に用いられる。
1000 粒子吸着マイクロプローブ
100  カーボンナノチューブ集合体
10   カーボンナノチューブ
10a  カーボンナノチューブの片端
20   軸状基材
20a  軸状基材の断面側表面

Claims (6)

  1.  複数のカーボンナノチューブを備えるカーボンナノチューブ集合体を有し、
     直径が10μm以下の粒子を1個のみ吸着する、
     粒子吸着マイクロプローブ。
  2.  前記カーボンナノチューブ集合体の直径が10μm以下である、請求項1に記載の粒子吸着マイクロプローブ。
  3.  前記カーボンナノチューブ集合体の長さが10μm以下である、請求項1に記載の粒子吸着マイクロプローブ。
  4.  前記カーボンナノチューブが複数層を有し、該カーボンナノチューブの層数分布の分布幅が10層以上であり、該層数分布の最頻値の相対頻度が25%以下である、請求項1に記載の粒子吸着マイクロプローブ。
  5.  前記カーボンナノチューブが複数層を有し、該カーボンナノチューブの層数分布の最頻値が層数10層以下に存在し、該最頻値の相対頻度が30%以上である、請求項1に記載の粒子吸着マイクロプローブ。
  6.  軸状基材上に前記カーボンナノチューブ集合体が設けられている、請求項1に記載の粒子吸着マイクロプローブ。
     
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