WO2013146587A1 - 有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板、有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ、および有機エレクトロルミネッセンス表示装置 - Google Patents

有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板、有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ、および有機エレクトロルミネッセンス表示装置 Download PDF

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WO2013146587A1
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layer
electrode layer
color filter
organic
substrate
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本間　聡
浩次 新井
岡田　昭彦
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大日本印刷株式会社
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    • H10K59/8051—Anodes
    • H10K59/80516—Anodes combined with auxiliary electrodes, e.g. ITO layer combined with metal lines

Definitions

  • the present invention relates to a color filter substrate used for an organic electroluminescence display device, a color filter for an organic electroluminescence display device, and organic electroluminescence comprising these (hereinafter sometimes referred to as “organic EL”).
  • organic EL organic electroluminescence comprising these
  • LCD liquid crystal displays
  • organic EL, inorganic EL, and plasma display panels (PDP) can be used as flat displays based on a different display principle from liquid crystal displays (LCD).
  • LED light emitting diode display device
  • VFD fluorescent display tube display device
  • FED field emission display
  • LCDs liquid crystal displays
  • a liquid crystal display is called a light-receiving type, and the liquid crystal does not emit light by itself, but operates as a so-called shutter that transmits and blocks external light to constitute a display device. For this reason, a light source is required and generally a backlight is required. On the other hand, since the device itself emits light in the self-luminous type, no separate light source is required. In addition, in a light receiving type such as a liquid crystal display (LCD), the backlight is always lit regardless of the display function, and power that is almost the same as in the full display state is consumed. On the other hand, the self-luminous type has the advantage that less power is consumed compared to the light-receiving type display device because only the portion that needs to be lit according to the display information consumes power. Exists.
  • liquid crystal display the light from the backlight source is shielded to obtain a dark state. Even with a small amount, it is difficult to completely eliminate light leakage. Since the state where no light is emitted is just a dark state, an ideal dark state can be easily obtained, and the self-light-emitting type is overwhelmingly superior in contrast.
  • the liquid crystal display (LCD) uses polarization control based on the birefringence of the liquid crystal, so the display state changes greatly depending on the viewing direction, so-called viewing angle dependence is strong. Absent.
  • liquid crystal display uses a change in orientation derived from the dielectric anisotropy of liquid crystal, which is an organic elastic material, in principle, the response time to an electric signal is 1 ms or more.
  • the above self-luminous technology which is being developed, uses so-called carrier transitions such as electrons / holes, electron emission, plasma discharge, etc. Yes, it is so fast that it is incomparable with liquid crystals, and there is no problem of afterimages due to slow response of liquid crystal displays (LCDs).
  • Organic EL display devices have been put to practical use mainly for small screens of about several inches such as in-vehicle navigation, mobile phones, digital cameras, etc., but recently, large screens of, for example, 20 inches or more as represented by flat-screen televisions. Development of computerization has been demanded.
  • the wiring length for supplying drive current to each pixel is extremely different between the outer peripheral portion and the central portion of the screen. For this reason, in the central portion of the screen, the degree of voltage drop is larger than that of the outer peripheral portion of the screen, resulting in inconvenience that luminance unevenness occurs. This tendency becomes more prominent as the screen becomes larger.
  • the wiring for supplying the drive current is conducted through a transparent electrode such as ITO formed on the organic EL layer including the light emitting layer, and this ITO has a larger resistance than, for example, metal Cu, so that the ITO The effect of voltage drop is large.
  • the former has a problem that it is difficult to realize a large-sized and high-definition display device although the structure is simple.
  • the latter active matrix system has been actively developed.
  • a current flowing in an organic EL element arranged for each pixel is controlled by a TFT (Thin Film Transistor) in a drive circuit provided for each organic EL element.
  • TFT Thin Film Transistor
  • Patent Documents 1 to 4 listed below are cited as prior art that is considered to be related to the present invention.
  • the upper portion located on the element isolation bank formed on the first substrate is one of the purposes to prevent unevenness in light emission luminance due to the voltage drop caused by the upper transparent electrode.
  • the first substrate and the second substrate are arranged to face each other so that the electrode and the conductive light shielding pattern formed on the second substrate are electrically connected, and at least the upper electrode or the conductive light shielding pattern is An organic electroluminescence display device connected to a feeding point has been disclosed.
  • Patent Document 1 an element isolation bank which is a columnar protrusion is formed on the first substrate side on which a TFT or an organic EL layer is formed. Since the TFT and the organic EL layer are formed, the first substrate side has a complicated configuration, and the provision of the element isolation bank on this is compared with the process provided on the opposite second substrate side. Thus, it can be said that the probability that the yield decreases is extremely high. Further, the yield reduction on the first substrate side is extremely complicated because it is formed through a complicated process, and the process of forming the TFT and the organic EL layer with a large number of steps is wasted.
  • an organic EL element including an organic EL layer sandwiched between a pair of electrodes is usually covered and protected by a sealing layer for protecting the organic EL element, and the presence of this sealing layer Therefore, it is necessary to consider technically how to establish conduction with the coated electrode.
  • Patent Document 2 discloses a high-output-quality organic EL device that can further reduce the resistance of the power supply wiring and the second electrode, reduce display luminance unevenness, and achieve high luminance and high contrast. In this proposal, the same problem as in Patent Document 1 can occur.
  • Patent Document 3 proposes a top-emission organic EL display device developed for the purpose of improving the in-plane uniformity of the potential of the counter electrode. The same problem as document 1 may occur.
  • Patent Document 4 since the effective resistance value of the transparent electrode can be lowered and a uniform voltage can be applied to the organic EL layer, display defects such as display unevenness can be prevented.
  • the proposal of the light-emitting device which can be performed is made
  • the present invention was devised under such circumstances, and the purpose thereof is, for example, when developing a large screen organic EL display device, the luminance unevenness between the central portion of the screen and the outer peripheral portion of the screen.
  • Color filter substrates and color filters used in organic electroluminescence display devices that can prevent the occurrence of non-uniformity of brightness and can be formed in a configuration that reduces the cost risk by forming the means for preventing the occurrence of uneven brightness.
  • Another object is to provide an organic electroluminescence display device using the above.
  • An invention for solving the above-mentioned problems is a color filter substrate used in an organic electroluminescence display device, which is formed around a transparent substrate, a pixel portion formed on the transparent substrate, and the pixel portion.
  • a non-pixel area, a metal auxiliary electrode layer is provided in the non-pixel area, and at least one non-conductive convex column is formed in the non-pixel area.
  • a transparent electrode layer is provided on at least the top of the convex column, and the metal auxiliary electrode layer in the non-pixel area and the transparent electrode layer at the top of the convex column are electrically connected.
  • the non-pixel area may have an intersection where lines in the vertical and horizontal directions intersect, and the convex column may be formed at the intersection.
  • the convex column may have a tapered shape in which the diameter gradually decreases from the base side to the top.
  • An invention for solving the above-mentioned problems is a color filter for an organic electroluminescence display device, comprising a transparent substrate, a pixel portion formed on the transparent substrate, and a non-pixel formed around the pixel portion.
  • a non-pixel area, a metal auxiliary electrode layer is provided in the non-pixel area, and at least one non-conductive convex column is formed at least in the non-pixel area,
  • a transparent electrode layer is provided at least at the top of the convex column, and the metal auxiliary electrode layer in the non-pixel area and the transparent electrode layer at the top of the convex column are electrically connected to each other.
  • a colored layer formed on a pixel portion of the color filter substrate.
  • an invention for solving the above-mentioned problems is an organic electroluminescence display device, which is a transparent substrate, a pixel portion formed on the transparent substrate, and a non-pixel area formed around the pixel portion.
  • a metal auxiliary electrode layer is provided in the non-pixel area, and a non-conductive convex column is formed in at least one place of the non-pixel area, and the convex column
  • a transparent electrode layer is provided at least on the top of the electrode, and for the color filter used in the organic electroluminescence display device in which the metal auxiliary electrode layer in the non-pixel area and the transparent electrode layer on the convex column top are electrically connected
  • a color filter for an organic electroluminescence display device comprising: a substrate; and a colored layer formed on a pixel portion of the color filter substrate;
  • An organic EL element-side substrate having an organic EL element including an organic EL layer formed on the substrate, wherein the color filter, the organic EL element-side substrate, Is arranged so that the colored layer
  • the metal auxiliary electrode layer is provided in the non-pixel area, and the convex shape A transparent electrode layer is provided on the top of the column, and these are electrically connected. Therefore, particularly when a large screen organic EL display device is configured, luminance unevenness between the center of the screen and the outer periphery of the screen is reduced. Occurrence can be prevented.
  • the convex column is made of a non-conductive material, there is no fear that a problem of strength reduction occurs as compared with the case where the conductive material is contained.
  • FIG. 2 is a plan view showing a part of a color filter for an organic EL display device according to a first embodiment, and corresponds to a plan view taken along the line ⁇ - ⁇ in FIG.
  • the present invention is not limited to this. If only the colored layer is removed from the color filter described below, the present invention will be described. It becomes a substrate for a color filter.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing a color filter 10 for an organic EL display device and an organic EL element side substrate 70 of the present invention.
  • the cross-sectional views of these components are shown in a plan view of the color filter 10 for an organic electroluminescence display device shown in FIG.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view of a cut surface taken along a line ⁇ MN and a cut surface of an organic EL element side substrate 70 equivalent thereto.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of the organic EL display device 100 formed by bonding the organic EL display device color filter 10 and the organic EL element side substrate 70 shown in FIG.
  • FIG. 3 is a plan view showing a part of the color filter 10 for an organic EL display device according to the first embodiment, and corresponds to a plan view taken along the line ⁇ - ⁇ in FIG.
  • the color filter 10 for an organic EL display device is a color filter for an organic EL display device (hereinafter simply referred to as an organic EL display device) used in an organic EL display device using light from an organic EL layer including a light emitting layer of an organic EL element as a light emission source. , Sometimes referred to as a color filter).
  • the color filter 10 includes a transparent substrate 11, a colored layer 13 that is a pixel portion formed on the transparent substrate 11, and a non-pixel formed around the colored layer 13. And an area 12.
  • the non-pixel area 12 exists in a gap portion between the adjacent colored layers 13.
  • the pixel portion refers to a portion through which light is transmitted when the color filter is used in various display devices.
  • the colored layer 13 is not necessarily formed in the pixel portion. Alternatively, a part of the pixel portion may simply be a region through which light is transmitted.
  • the transparent substrate 11 is not particularly limited as long as it is a substrate transparent to visible light, and the same transparent substrate used for a general color filter can be used. Specifically, a rigid material such as quartz glass, Pyrex (registered trademark) glass, or synthetic quartz, or a transparent flexible material having flexibility such as a transparent resin film or an optical resin plate can be used.
  • the colored layer 13 has a red colored layer 13R, a green colored layer 13G, and a blue colored layer 13B, and is usually patterned in a state in which these are sequentially arranged, but the pattern arrangement is particularly limited to that shown in the drawing. It is not something.
  • a known arrangement such as a stripe type, a mosaic type, a triangle type, or a four-pixel arrangement type can be used, and the area of each colored layer can be arbitrarily set.
  • the number (number of pixels) of the colored layer 13 that is a pixel portion in the drawing is described only as an example, and is not limited to the illustrated example.
  • a formation method of the colored layer 13 a formation method of the colored layer 13 in a general color filter, for example, a photolithography method, an inkjet method, a printing method, or the like may be used.
  • the light shielding portion 12a is usually configured as a lattice-shaped light shielding layer, and is usually configured using a photoresist, a printing ink, or a metal such as chromium containing a black pigment, a binder resin, and a solvent.
  • black pigments used in printing inks include carbon black and titanium black.
  • binder resins include benzyl methacrylate: styrene: acrylic acid: 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer.
  • the solvent can be selected from various known solvents.
  • the light shielding portion 12a As a method for forming the light shielding portion 12a, it can be formed by a photolithography method, various pattern printing methods, various plating methods, and the like.
  • an overcoat layer 14 is provided so as to cover the whole of the colored layer 13 which is the pixel portion described above and the light shielding portion 12a located in the non-pixel area 12.
  • the overcoat layer 14 is not an essential component of the present invention. However, by forming the overcoat layer 14, these formation surfaces are formed in forming the metal auxiliary electrode layer and the convex columns described later. This is preferable in that it can be flattened and the colored layer 13 can be protected.
  • the material for forming the overcoat layer 14 is not particularly limited, and various conventionally used resins may be selected as appropriate, and various printing methods may be used even in the formation method.
  • a metal auxiliary electrode layer 15 is provided on the surface of the overcoat layer 14 located in the non-pixel area 12.
  • the material used for the metal auxiliary electrode layer 15 include metals such as Cu, Ag, Au, Pt, Al, Cr, and Co, alloys thereof, or MAM (molybdenum / aluminum / neodymium alloy / molybdenum).
  • MAM molybdenum / aluminum / neodymium alloy / molybdenum
  • a method for forming such a metal auxiliary electrode layer 15 for example, a method of patterning by a photolithography method after forming a thin film by a vapor deposition method or a sputtering method is suitably used.
  • the present invention is not limited to this. This is a position where the supplied current can be conducted to the organic EL element side substrate through a transparent electrode layer formed on the top of the convex column, which will be described later, and reduces the aperture ratio of the opening during display. If it is a position where there is nothing, it can be designed freely.
  • a non-conductive convex column 17 is formed in at least one place of the non-pixel area 12.
  • a transparent electrode layer 18 is provided on the top of the convex column 17.
  • the metal auxiliary electrode layer 15 and the transparent electrode layer 18 at the top of the convex column 17 are electrically connected. Thereby, the current from the organic EL element side substrate 70 having the organic EL layer 83 to be described later is guided to the color filter 10 side through the transparent electrode layer 18 and the metal auxiliary electrode layer 15 formed on the top of the convex column 17. Therefore, voltage drop can be prevented. As a result, it is possible to prevent the occurrence of luminance unevenness between the central portion of the screen and the outer peripheral portion of the screen, which is the subject of the present invention.
  • the convex column 17 is formed at a location where luminance unevenness is likely to occur so as to exert its action, particularly near the center of the substrate.
  • three convex pillars 17 are formed in the vicinity of the central portion of the cross-sectional view in FIG. 1, but these are merely shown as examples, and the number and arrangement location thereof are not shown. It is not limited to the above. What is necessary is just to set a number, arrangement
  • the arrangement density D1 of the convex columns disposed in the central portion of the substrate is compared with the arrangement density D2 of the convex columns disposed on the outer peripheral portion of the substrate. In this case, it is desirable to configure so that D1 ⁇ D2, preferably D1> D2.
  • the size of the substrate corresponding to the size of the screen is divided into three equal parts vertically and horizontally, and the substrate is divided into 3 ⁇ 3 9 divisions.
  • the central area corresponds to the central part of the substrate, and the arrangement density of the convex columns measured here is defined as D1.
  • eight outer areas other than the central area correspond to the outer peripheral portion of the substrate, and the largest value among the arrangement density of the convex columns measured in each of these areas is defined as D2.
  • Such a convex column 17 is formed of a non-conductive material.
  • the conduction is ensured by the transparent electrode layer 18 provided on the top of the convex column 17, it is not necessary to impart conductivity to the convex column 17 itself.
  • the degree of freedom in material design can be improved, and it is not necessary to mix a conductive material into the convex column 17, so that the strength is not lowered.
  • various resins can be used as a specific material of the convex column 17.
  • the shape of the convex column 17 is not particularly limited, but as shown in the drawing, it is desirable to form a taper shape in which the diameter gradually decreases from the base side to the top. This is for facilitating integration with the organic EL element side substrate 70 having an organic EL layer, as will be described later.
  • Specific examples of the shape of the convex column include a truncated cone having a truncated cone shape as illustrated, a cylinder, a triangular frustum, a square frustum, and the like.
  • the width of the base that is the base of the convex column 17 is about 8 to 100 ⁇ m, the width of the top is about 3 to 95 ⁇ m, and the height is about 2.5 to 25 ⁇ m.
  • the taper angle from the base side to the top is about 30 to 89 °.
  • the transparent electrode layer 18 provided on the top of the convex column 17 is configured not only as the top but also as a so-called solid film. Such a solid film is preferable in that conduction with the metal auxiliary electrode layer 15 can be ensured and the formation thereof is easy.
  • the top portion of the convex column 17 means a region where the organic EL element side substrate 70 provided opposite to the color filter 10 is in contact with the current flow, and the highest in the convex column 17. It doesn't mean just the position.
  • the resistance value of the transparent electrode layer 18 is not particularly limited as long as the current from the organic EL element side substrate 70 can be led to the color filter side and escaped without shortage.
  • it is preferably about 10 ⁇ / sq to about 500 ⁇ / sq, and particularly preferably about 30 ⁇ / sq to about 200 ⁇ / sq.
  • Examples of the material for forming the transparent electrode layer 18 include metal oxides having transparency and conductivity. Examples of such a metal oxide include indium tin oxide (ITO), indium oxide, zinc oxide, and stannic oxide.
  • the thickness of the transparent electrode layer 18 is 50 nm to 1500 nm, more preferably 120 nm to 1200 nm.
  • a method for forming the transparent electrode layer 18 for example, a vapor deposition method or a sputtering method may be used.
  • the color layer 13 that is preferably used in the color filter 10 of the present invention will be further described.
  • the colored layer 13 is not an essential structure, and also in the color filter 10 of the present invention, a colored layer is provided on the entire pixel portion. It does not have to be.
  • the colored layer 13 including the red colored layer 13R, the green colored layer 13G, and the blue colored layer 13B is provided corresponding to the unit pixel of the organic EL display device 100 (see FIG. 2).
  • the red colored layer 13R, the green colored layer 13G, and the blue colored layer 13B are formed on the substrate after each colorant such as a pigment or dye is dispersed or dissolved in the photosensitive resin. .
  • Examples of the colorant used in the red colored layer 13R include perylene pigments, lake pigments, azo pigments, quinacridone pigments, anthraquinone pigments, anthracene pigments, isoindoline pigments, and the like. These pigments may be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the colorant used for the green colored layer 13G include phthalocyanine pigments such as halogen polysubstituted phthalocyanine pigments or halogen polysubstituted copper phthalocyanine pigments, triphenylmethane basic dyes, isoindoline pigments, and isoindoline. Examples include linone pigments. These pigments or dyes may be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the colorant used for the blue colored layer 13B include copper phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, indanthrene pigments, indophenol pigments, cyanine pigments, dioxazine pigments, and the like. These pigments may be used alone or in combination of two or more.
  • the non-pixel area 12 has an intersecting portion where lines in the vertical and horizontal directions intersect, and a convex column 17 is formed at the intersecting portion of the non-pixel area 12. This is because a space can be provided at the formation position of the convex column 17 and it can be formed in a state where the strength is increased. Further, it can be formed relatively easily and can contribute to an improvement in yield. Depending on the design of the TFT, the formation position of the convex column 17 may not be an intersection.
  • the organic EL element side substrate 70 includes a substrate 71 and an organic electroluminescence element 80 including an organic EL layer 83 formed on the substrate 71.
  • Such an organic EL element side substrate 70 and the color filter 10 are integrated and joined to form an organic electroluminescence display device 100 as shown in FIG.
  • the organic electroluminescence element 80 of the organic EL element side substrate 70 and the colored layer 13 of the color filter 10 are arranged to face each other. Is done.
  • the organic electroluminescence element 80 includes an organic EL layer 83, a pair of lower surface electrode layers 81 and an upper surface transparent electrode layer 85 disposed so as to sandwich the organic EL layer 83.
  • an insulating layer 91 is formed around the organic EL layer 83, and the organic EL layer 83 is partitioned by the insulating layer 91, and the lower electrode layer 81 and the upper transparent electrode layer 85 may be in direct contact with each other. Is prevented.
  • a sealing layer 95 for mainly protecting the organic EL layer 83 is formed on the upper transparent electrode layer 85 so as to cover the entire element. The sealing layer 95 is not an essential component for the organic electroluminescence display device 100.
  • a through hole 95a is formed on the surface of the sealing layer 95 facing the color filter 10.
  • the through hole 95a can be inserted into the tip of the convex column 17 formed in the color filter 10, and the transparent electrode layer 18 formed on the top of the convex column 17 and the organic electro
  • the luminescent element 80 is formed so as to be in contact with the upper transparent electrode layer 85 so as to be conductive. It is desirable that the through hole 95a has a tapered shape similar to the tip of the convex column 17 to be inserted, and that the tip of the convex column 17 can be fitted into the through hole 95a. Further, the depth of the through hole 95 a is set to a depth that reaches the upper transparent electrode layer 85.
  • a conductive film may be formed on the side surface of the through hole 95a so as to facilitate the conduction between the transparent electrode layer 18 and the upper transparent electrode layer 85. Providing such a through hole 95a is preferable because conduction can be ensured even when the sealing layer 95 is provided.
  • the part where the through hole 95a is formed is preferably provided in a part where the organic EL layer does not exist so as not to narrow the light emitting area.
  • a through hole 95 a may be formed in a gap portion between adjacent organic EL layers 83.
  • the transparent electrode layer 18 formed on the top of the convex column 17 causes the current from the organic EL element side substrate 70 having the organic EL layer 83 to be formed, and the transparent electrode layer.
  • the voltage drop By leading to the color filter 10 side through the metal auxiliary electrode layer 15 that is electrically connected, the voltage drop can be prevented.
  • a TFT (Thin Film Transistor) 75 for controlling the current flowing in the organic electroluminescence element 80 constituting the pixel is arranged and formed on the substrate 71 for each pixel.
  • a gate line, a signal line, and a power supply line (not shown) are connected to this circuit.
  • Such a TFT 75 may be formed by a known method, and an insulating layer 77 is usually formed on the TFT 75. Note that as the insulating layer 77, a material similar to that of the insulating layer 91 described later can be used.
  • the substrate 71 used in the present invention is not particularly limited as long as it can support the organic electroluminescence element 80 and the like, and those generally used as a constituent member of an organic EL display device can be used.
  • this embodiment is a so-called top emission system in which light is extracted from the color filter 10 side for the organic EL display device, the substrate 71 of the organic EL element side substrate 70 is transparent or opaque. There may be.
  • Insulating layer 91 As described above, the insulating layer 91 in the present invention is formed to prevent the lower electrode layer 81 and the upper transparent electrode layer 85 from coming into direct contact.
  • a photocurable resin such as a photosensitive polyimide resin or an acrylic resin, a thermosetting resin, an inorganic material, or the like can be used.
  • the pattern of the insulating layer 91 can be generally linear. By forming the insulating layer 91, a pattern having openings such as a matrix shape or a stripe shape can be formed.
  • Examples of a method for forming the insulating layer 91 include a method in which the above material is applied and patterned by a photolithography method. Also, a printing method or the like can be used.
  • Organic EL layer 83 used in the present invention is configured to have a light emitting layer, particularly preferably a white light emitting layer.
  • a red light-emitting layer, a blue light-emitting layer, and a green light-emitting layer may be sequentially provided.
  • a white light-emitting layer that is a more preferable embodiment is provided will be described as an example. .
  • the organic EL layer 83 is usually composed of a plurality of organic layers in addition to the light emitting layer, and holes are introduced into a charge injection layer such as a hole injection layer and an electron injection layer, and a white light emitting layer. It can have a charge transport layer such as a hole transport layer for transporting and an electron transport layer for transporting electrons to the white light emitting layer.
  • the white light emitting layer used as a suitable light emitting layer in this invention should just be what can light-emit white light. Specifically, such a white light emitting layer has at least blue light (430 nm to 470 nm), green light (470 nm to 600 nm), and red light (600 nm to 700 nm) when a voltage is applied to the organic EL layer 83. ) As long as it has an emission spectrum in the wavelength region.
  • the ratio of the maximum emission intensity of the green light (470 nm to 600 nm) peak to the maximum emission intensity of the blue light (430 nm to 470 nm) peak (the maximum emission intensity of the green light peak / the maximum of the blue light peak is high intensity) ) Is preferably within the range of 0.3 to 0.8, more preferably within the range of 0.3 to 0.7, and particularly within the range of 0.3 to 0.5. Is preferred.
  • the ratio of the maximum emission intensity of the green light peak and the maximum emission intensity of the blue light peak is within the above range, the power consumption reduction effect due to the large transmittance of the blue pattern can be more effectively exhibited. it can.
  • the ratio of the maximum emission intensity of the red light peak to the maximum emission intensity of the blue light peak is 0.3. It is preferably within the range of -1.0.
  • the material constituting the white light emitting layer is not particularly limited as long as it emits fluorescence or phosphorescence.
  • the light emitting material may have a hole transport property or an electron transport property.
  • Examples of the light emitting material include a dye material, a metal complex material, and a polymer material.
  • the dye-based material examples include cyclopentamine derivatives, tetraphenylbutadiene derivatives, triphenylamine derivatives, oxadiazole derivatives, pyrazoloquinoline derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylarylene derivatives, silole derivatives, thiophene ring compounds, Examples thereof include pyridine ring compounds, perinone derivatives, perylene derivatives, oligothiophene derivatives, trifumanylamine derivatives, oxadiazole dimers, and pyrazoline dimers.
  • the above metal complex materials include an aluminum quinolinol complex, a benzoquinolinol beryllium complex, a benzoxazole zinc complex, a benzothiazole zinc complex, an azomethylzinc complex, a porphyrin zinc complex, and a europium complex, or a central metal, Al
  • the metal complex include Zn, Be, and the like, or rare earth metals such as Tb, Eu, and Dy
  • the ligand includes oxadiazole, thiadiazole, phenylpyridine, phenylbenzimidazole, and a quinoline structure.
  • polymer material examples include polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, polyparaphenylene derivatives, polysilane derivatives, polyacetylene derivatives, and the like, polyfluorene derivatives, polyvinylcarbazole derivatives, and the above-described dye materials and metal complexes. Examples include polymerized system materials.
  • Examples of the method for forming the white light emitting layer include a vapor deposition method, a printing method, an inkjet method, a spin coating method, a casting method, a dipping method, a bar coating method, a blade coating method, a roll coating method, a gravure coating method, and a flexographic method.
  • Examples thereof include a printing method, a spray coating method, and a self-assembly method (alternate adsorption method, self-assembled monolayer method).
  • the film thickness of the white light emitting layer used in the present invention is usually about 5 nm to 5 ⁇ m.
  • a hole injection layer may be formed between the white light-emitting layer and the anode (the lower electrode layer 81 or the upper transparent electrode layer 85). By providing the hole injection layer, the injection of holes into the white light emitting layer is stabilized, and the light emission efficiency can be increased.
  • a material for forming the hole injection layer used in the present invention a material generally used for a hole injection layer of an organic EL element can be used.
  • the material for forming the hole injection layer may be any material that has either a hole injection property or an electron barrier property.
  • the hole injection layer forming material includes triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazoles.
  • Examples include derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, silazane derivatives, polysilane-based, aniline-based copolymers, and conductive polymer oligomers such as thiophene oligomers.
  • examples of the material for forming the hole injection layer include porphyrin compounds, aromatic tertiary amine compounds, and styrylamine compounds.
  • the film thickness of the hole injection layer made of such a material is usually about 5 nm to 1 ⁇ m.
  • an electron injection layer may be formed between the white light emitting layer and the cathode (upper surface transparent electrode layer 85 or lower electrode layer 81). This is because by providing the electron injection layer, the injection of electrons into the white light emitting layer is stabilized, and the light emission efficiency can be increased.
  • Examples of the material for forming the electron injection layer used in the present invention include heterocyclic tetracarboxylic anhydrides such as nitro-substituted fluorene derivatives, anthraquinodimethane derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyrandioxide derivatives, naphthaleneperylene, carbodiimides, Fluorenylidenemethane derivatives, anthraquinodimethane and anthrone derivatives, oxadiazole derivatives, thiazole derivatives in which the oxygen atom of the oxadiazole ring of the oxadiazole derivative is replaced with a sulfur atom, quinoxaline ring known as an electron withdrawing group Examples thereof include quinoxaline derivatives having quinone, metal complexes of 8-quinolinol derivatives such as tris (8-quinolinol) aluminum, phthalocyanines, metal phthalocyanines, and distyrylpyrazine derivative
  • the film thickness of the electron injection layer made of such a material is usually about 5 nm to 1 ⁇ m.
  • Upper transparent electrode layer 85 The upper transparent electrode layer 85 in the present invention is provided to apply a voltage to the organic EL layer 83 sandwiched between the lower electrode layer 81 described in detail later and cause the white light emitting layer to emit light.
  • the organic EL display device color filter 10 located above 83 is disposed.
  • Examples of the material for forming the upper transparent electrode layer 85 used in the present invention include a metal oxide having transparency and conductivity.
  • metal oxides include indium tin oxide (ITO), indium oxide, zinc oxide, and stannic oxide.
  • the film thickness of the upper transparent electrode layer 85 made of such a material is usually about 100 nm to 300 nm.
  • a method for forming the upper surface transparent electrode layer 85 for example, a method of patterning by a photolithography method after forming a thin film by a vapor deposition method or a sputtering method is suitably used.
  • the lower electrode layer 81 in the present invention is disposed between the organic EL layer 83 and the substrate 71 located below the organic EL layer 83 as shown in FIG.
  • the lower electrode layer 81 forms the other electrode for causing the white light emitting layer to emit light, and is configured as an electrode having a charge opposite to that of the upper transparent electrode layer 85 described above.
  • Examples of the material for forming the lower surface electrode layer 81 include metals, alloys, and mixtures thereof having a work function as small as about 4 eV or less. Specifically, sodium, sodium-potassium alloy, magnesium, lithium, magnesium / copper mixture, magnesium / silver mixture, magnesium / aluminum mixture, magnesium / indium mixture, aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) mixture, indium, Examples include lithium / aluminum mixtures and rare earth metals. More preferable examples include a magnesium / silver mixture, a magnesium / aluminum mixture, a magnesium / indium mixture, an aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) mixture, and a lithium / aluminum mixture.
  • the lower electrode layer 81 preferably has a sheet resistance of several ⁇ / cm or less.
  • the thickness of the lower electrode layer 81 is usually about 10 nm to 1 ⁇ m.
  • the lower electrode layer 81 As a method for forming the lower electrode layer 81, for example, a method of forming a thin film by a vapor deposition method or a sputtering method and then patterning by a photolithography method is suitably used.
  • the lower electrode layer 81 is connected with a TFT (Thin Film Transistor) 75 for controlling the current flowing in the organic EL element.
  • TFT Thin Film Transistor
  • the sealing layer 95 having the above-described through hole 95a is formed on the upper transparent electrode layer 85, that is, between the upper transparent electrode layer 85 and the color filter 10 for the organic EL display device.
  • the sealing layer 95 is usually provided as a protective layer that blocks water vapor and oxygen from reaching the organic EL layer 83.
  • the sealing layer 95 is not particularly limited as long as it can exhibit barrier properties against water vapor and oxygen and is transparent.
  • a transparent inorganic film, a transparent resin film, or an organic-inorganic hybrid film Etc. are used.
  • a transparent inorganic film is preferable because of its high barrier property.
  • Examples of a material for forming a transparent inorganic film panel suitably used as the sealing layer 95 include oxides such as aluminum oxide, silicon oxide, and magnesium oxide; nitrides such as silicon nitride; nitride oxides such as silicon nitride oxide; Etc. are used.
  • silicon nitride oxide is preferable because pinholes hardly occur and gas barrier properties are high.
  • the sealing layer 95 may be a single layer or a multilayer.
  • the sealing layer 95 is a multilayer in which a plurality of silicon nitride oxide films are stacked, the barrier property can be further improved.
  • the sealing layer 95 is a multilayer, you may use a different material for each layer, respectively.
  • the film thickness of the sealing layer 95 may be appropriately determined according to the type of the forming material of the sealing layer 95 to be used. Usually, it is about 5 nm to 5 ⁇ m. If the sealing layer 95 is too thin, the barrier property tends to be insufficient, and if the sealing layer 95 is too thick, a phenomenon such as cracking due to the film stress of the thin film tends to occur. Occurs.
  • the method for forming the transparent inorganic film is not particularly limited as long as it is a film forming method that can be formed in a vacuum state.
  • a vacuum deposition method such as a coating method, an electron beam (EB) deposition method and a resistance heating method, an atomic layer epitaxy (ALE) method, a laser ablation method, and a chemical vapor deposition (CVD) method.
  • the sputtering method, the ion plating method, and the CVD method are preferably used from the viewpoint of productivity.
  • a method for forming the above-described through-hole 95a at a predetermined portion of the sealing layer 95 for example, a method of patterning by a photolithography method after forming a thin film of the sealing layer 95 is suitably used.
  • the organic EL element side substrate 70 having such a configuration and the color filter 10 are integrated and joined to form the organic electroluminescence display device 100 as shown in FIG. That is, when the organic EL element side substrate 70 and the color filter 10 are integrated and joined, the through hole 95a formed in the sealing layer 95 of the organic EL element side substrate 70 and the non-pixel area of the color filter 10 are provided. After aligning the tip of the convex column 17 formed, the tip of the convex column 17 is fitted into the through-hole 95a of the sealing layer 95, and the tip 17a of the convex column is formed. The portion of the transparent electrode layer 18 and the upper transparent electrode layer 85 are brought into contact with each other so as to be integrated.
  • the gap between the sealing layer 95 and the transparent electrode layer 18 is filled with an adhesive layer 99 as shown in FIG. 2, and the color filter 10 and the organic EL element side substrate 70 are integrated and joined. As a result, an organic electroluminescence display device 100 as shown in FIG. 2 is formed.
  • the adhesive layer 99 is not particularly limited as long as it is transparent, has adhesive strength, and has curability.
  • a material for forming such an adhesive layer 99 for example, a thermosetting adhesive or a photocurable adhesive can be cited as a preferred example.
  • a type that does not require a solvent is preferable.
  • a film-like adhesive sheet type may be used. Specific examples include epoxy-based, acrylic-based, polyimide-based, and synthetic rubber-based adhesives and adhesive sheets.
  • the gap between the sealing layer 95 and the transparent electrode layer 18 is left without providing the adhesive layer 99, and the organic EL element side substrate 70 and the organic EL are left in an inert gas atmosphere such as nitrogen.
  • the peripheral edge of the color filter 10 for display device may be sealed with a sealing agent, and a water capturing agent such as barium oxide may be provided inside the hollow.
  • the wiring form from the power source is a wiring 201 from one pole of the power source P to each TFT 75, and a wiring 202-203 from the other pole of the power source to the upper transparent electrode layer 85. And wirings 202-204 extending from the other pole of the power source to the metal auxiliary electrode layer 15.
  • the wiring circuit for causing the organic EL element 80 to emit light is the wiring 201 and the wiring 202-203, and the wiring circuit for releasing the current on the TFT side to the metal auxiliary electrode layer 15 on the color filter side to prevent a voltage drop is wiring. 201 and wiring 204-202.
  • the current from the organic EL element side substrate 70 having the organic EL layer 83 as described above is applied to the transparent electrode layer 18 and the metal auxiliary electrode layer formed on the top of the convex column 17.
  • the color filter 10 side through 15 and escaping it is possible to prevent the voltage drop.
  • the color filter provided with the red colored layer 13R, the green colored layer 13G, and the blue colored layer 13B is used for the white light emitted from the organic EL layer provided with the white light emitting layer.
  • the method of using and emitting light in three colors of RGB has been described.
  • the present invention is not limited to this method.
  • an organic EL layer that emits blue light has three colors of RGB using a color conversion layer (CCM) that absorbs blue light and emits light in green and red colors.
  • CCM color conversion layer
  • the configuration of the main part of the present invention can be applied to either a so-called blue EL color conversion (CCM) full-color system that emits light or a so-called RGB light-emitting layer juxtaposed full-color system that coats organic EL elements that emit RGB light for each pixel. .
  • CCM blue EL color conversion
  • FIG. 4 is a schematic sectional view for explaining a second embodiment of the color filter of the present invention.
  • the color filter 20 includes a transparent substrate 11, a colored layer 13 that is a pixel portion, and a light-shielding portion 12a as a non-pixel area 12.
  • An overcoat layer 14 is provided so as to cover the entire layer 13 and the light shielding portion 12a.
  • a metal auxiliary electrode layer 15 is provided on the surface of the overcoat layer 14 located in the non-pixel area 12, and a non-conductive convex column 17 is also provided.
  • the transparent electrode layer 18 is provided so as to cover the side surface of the convex column 17, the metal auxiliary electrode layer 15, and the entire overcoat layer 14 including the top of the convex column 17.
  • the color filter 20 is the same as that of the first embodiment shown in FIGS. 1 to 3 in that the colored layer 13 includes a transparent colored layer 13W in addition to the red colored layer 13R, the green colored layer 13G, and the blue colored layer 13B. This is different from the color filter 10.
  • the colored layer 13 does not necessarily have to be composed of the three primary colors of R, G, and B, and may have a transparent colored layer 13W as shown in FIG. Good.
  • the transparent colored layer 13W By providing the transparent colored layer 13W, the luminance of the entire organic electroluminescence display device can be improved.
  • FIG. 5 is a schematic cross-sectional view for explaining a third embodiment of the color filter of the present invention.
  • the color filter 25 is different from the color filter 20 according to the second embodiment shown in FIG. 4 in that the metal auxiliary electrode layer 15 does not exist under the convex column 17, and other parts are the second embodiment. It is common with the color filter 20 concerning a form.
  • the position at which the metal auxiliary electrode layer 15 is disposed is not particularly limited, and is not necessarily provided below the convex column 17. That is, the metal auxiliary electrode layer 15 can be thinned and disposed so as not to cause a voltage drop. Even in such a mode, a voltage drop can be prevented by the transparent electrode layer 18 positioned at the top of the convex column 17 and the metal auxiliary electrode layer 15 electrically connected thereto.
  • FIG. 6 is a schematic cross-sectional view for explaining a fourth embodiment of the color filter of the present invention.
  • This color filter 30 is the second embodiment shown in FIG. 4 in that a red colored layer 13R ′ and a green colored layer 13G ′ are provided as pedestals on the light shielding portion 12a located under the convex column 17. Unlike the color filter 20 according to the embodiment, other portions are common to the color filter 20 according to the second embodiment.
  • the red colored layer 13R ′ and the green colored layer 13G ′ provided as pedestals do not function as pixel portions, as is clear from FIG. 6, and increase the height of the convex column 17. Therefore, it is provided as a “pedestal”.
  • the height of the convex column 17 is increased by forming a colored layer as a pedestal at a position where the convex column 17 is formed instead of the pixel portion.
  • the red colored layer 13R ′ and the green colored layer 13G ′ are used as pedestals, but the present invention is not limited to this, and R, G, B, W
  • the pedestal can be formed by using colored layers of 1 to 4 colors arbitrarily selected from the above four colors. In forming the pedestal, the pedestal may be formed simultaneously with the formation of the colored layers of the respective colors.
  • FIG. 7 is a schematic sectional view for explaining a fifth embodiment of the color filter of the present invention.
  • This color filter 35 is the second embodiment shown in FIG. 4 in that the transparent electrode layer 18 is formed as a pattern on the surface of the metal auxiliary electrode layer 15 and the surface of the convex column 17 instead of the solid film. Unlike the color filter 20 according to the embodiment, other portions are common to the color filter 20 according to the second embodiment.
  • the transparent electrode layer 18 located at the top of the convex portion 17 and the metal auxiliary electrode layer 15 are electrically connected. Therefore, the transparent electrode layer 18 exists as a solid film. There is no need to be. Thus, by not providing the transparent electrode layer 18 on the colored layer 13 as the pixel portion, the transmittance can be improved and the overall luminance can be increased.
  • the color filter 35 is disposed between the metal auxiliary electrodes other than the metal auxiliary electrode layer 15 on which the convex columns 17 are formed, that is, between the colored layers 13.
  • the transparent electrode layer may not be formed on the surface of the metal auxiliary electrode. This is because the effect of the present invention is exhibited if the metal auxiliary electrode layer 15 on which the convex column 17 is formed and the transparent electrode layer 18 are electrically connected.
  • FIG. 8 is a schematic cross-sectional view for explaining a sixth embodiment of the color filter of the present invention.
  • This color filter 40 is different from the color filter 20 according to the second embodiment shown in FIG. 4 in that the overcoat layer 14 is not provided, and other portions are the same as the color filter 20 according to the second embodiment. It is common.
  • the metal auxiliary electrode layer 15 is formed on the light shielding layer 12a as a non-pixel area.
  • the overcoat layer 14 is not an essential configuration. By not providing the overcoat layer 14 as in the color filter 40, the light transmittance from the colored layer as the pixel portion can be improved, and the overall luminance can be increased.
  • FIG. 9 is a schematic cross-sectional view for explaining a seventh embodiment of the color filter of the present invention.
  • the metal auxiliary electrode layer 15 is formed on the light shielding layer 12a as a non-pixel area, and the overcoat layer 14 is provided thereon. Unlike the color filter 20 according to the second embodiment shown in FIG. 4, the other parts are common to the color filter 20 according to the second embodiment.
  • a through hole X is formed in a part of the overcoat layer 14 in order to achieve conduction between the transparent electrode layer 18 located at the top of the convex column 17 and the metal auxiliary electrode layer 15. The transparent electrode layer 18 enters the through hole X.
  • the transparent electrode layer 18 located at the top of the convex column 17 and the metal auxiliary electrode layer 15 are electrically connected. You can also
  • FIG. 10 is a schematic sectional view for explaining an eighth embodiment of the color filter of the present invention.
  • This color filter 50 is an embodiment in which the color filter 35 according to the fifth embodiment is modified, and the transparent electrode layer 18 is provided only on the top of the convex column 17, and the side surface of the convex column 17 is The metal auxiliary electrode layer 15 is covered.
  • the transparent electrode layer 18 provided only on the top of the convex column 17 and the metal auxiliary electrode layer 15 covering the side surface of the convex column 17 are electrically connected, and further, the metal auxiliary electrode covering the side surface of the convex column 17
  • the layer 15 is electrically connected to the metal auxiliary electrode layer 15 in the non-pixel area.
  • the transparent electrode layer 18 is provided at least on the top of the convex column 17, and the transparent electrode layer 18 is not necessarily provided on the side surface of the convex column 17. Is not necessary, and a metal auxiliary electrode layer 15 may be provided as shown in FIG.
  • FIG. 11 is a schematic sectional view for explaining a ninth embodiment of the color filter of the present invention.
  • the color filter 55 is an embodiment in which the color filter 50 according to the eighth embodiment is further modified, and the transparent electrode layer 18 is provided to the middle of the top of the convex column 17 and the side of the convex column 17. A portion of the side surface of the convex column 17 where the transparent electrode layer 18 is not provided is covered with the metal auxiliary electrode layer 15.
  • the transparent electrode layer 18 is provided on at least the top of the convex column 17, and on the side surface of the convex column 17, Both of the metal auxiliary electrode layers 15 may be provided.
  • Color filter 11 for organic EL display device ... Transparent substrate 12 ... Non-pixel area 13 ... Colored layer 15 ... Metal auxiliary electrode layer 17 ... Convex column 18 ... Transparent electrode layer 70 ... Organic EL element side substrate 100 ... Organic EL display device

Landscapes

  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

　特に、大画面の有機ＥＬ表示装置を開発するに際し、画面の中央部と画面の外周部との輝度ムラの発生を防止する、当該輝度ムラの発生防止手段の形成をコストリスクを低減させる。　透明基板と、当該透明基板上に形成された画素部分と、着色層の周囲に形成された非画素エリアと、を有するカラーフィルタ用基板において、前記非画素エリアには、メタル補助電極層を設け、当該非画素エリアの少なくとも一箇所以上に非導電性の凸状柱を形成し、前記凸状柱の少なくとも頂部には透明電極層を設け、前記非画素エリアのメタル補助電極層と前記凸状柱の頂部の透明電極層とを導通する。

Description

有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板、有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ、および有機エレクトロルミネッセンス表示装置
　本発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板、有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ、およびこれらを備えて構成される有機エレクトロルミネッセンス（以下、「有機ＥＬ」と称する場合がある）表示装置に関する。
　近年、フラットディスプレイが多くの分野、場所で使われており、情報化が進む中でますますその重要性は高まってきている。
　現在、フラットディスプレイの中で中心的な存在は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）と言えるが、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）とは異なる表示原理に基づくフラットディスプレイとして、有機ＥＬ、無機ＥＬ、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ライトエミッティングダイオード表示装置（ＬＥＤ）、蛍光表示管表示装置（ＶＦＤ）、およびフィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）などの開発も活発に行われている。
　これらの新しいフラットディスプレイはいずれも自発光型と呼ばれるもので、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）とは次の点で大きく異なり、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）には無い優れた特徴を有している。
　液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）は受光型と呼ばれ、液晶は自身では発光することはなく、外光を透過、遮断するいわゆるシャッターとして動作し、表示装置を構成する。このため光源を必要とし、一般にバックライトが必要である。これに対して、自発光型は装置自身が発光するため、別光源が不要である。また、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のような受光型では表示機能の様態に拘わらず、常にバックライトが点灯し、全表示状態とほぼ変わらない電力を消費することになる。これに対して自発光型は、表示情報に応じて点灯する必要のある箇所だけが電力を消費するだけなので、受光型表示装置に比較して、電力消費が少なくてすむという利点が原理的に存在する。
　同様に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）ではバックライト光源の光を遮光して暗状態を得るため、少量であっても、光漏れを完全に無くすことは困難であるのに対して、自発光型では発光しない状態がまさに暗状態であるので、理想的な暗状態を容易に得ることができ、コントラストにおいても自発光型が圧倒的に優位である。また、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）は液晶の複屈折による偏光制御を利用しているため、観察する方向によって大きく表示状態が変わる、いわゆる視野角依存性が強いが、自発光型ではこの問題がほとんど生じない。さらに、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）は有機弾性物質である液晶の誘電異方性に由来する配向変化を利用するため、原理的に電気信号に対する応答時間が１ｍｓ以上である。これに対して、開発が進められている上記の自発光型の技術では、例えば、電子／正孔といったいわゆるキャリア遷移、電子放出、プラズマ放電などを利用しているため、応答時間はｎｓ桁であり、液晶とは比較にならないほど高速であり、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の応答の遅さに由来する動画残像の問題が生じない。
　近時、これらの中でも特に有機ＥＬ表示装置の研究が活発であり、（１）三原色の発光層を発光色毎に所定のパターンを形成したもの、（２）白色発光の発光層を使用し、三原色のカラーフィルタを介して表示するもの、（３）青色発光の発光層を使用し、蛍光色素を利用した色変換層を設置して、青色光を緑色蛍光や赤色蛍光に変換して三原色表示をするもの等が提案されている。
　有機ＥＬ表示装置は、主として車載ナビゲーション、携帯電話、デジタルカメラなどの数インチ程度の小さな画面用として実用化されてきたが、近時、薄型テレビに代表されるように例えば２０インチ以上の大画面化の開発が要望されるようになってきている。
　しかしながら、有機ＥＬ表示装置を例えば２０インチ以上の大画面とする場合、画面の外周部と中央部では各画素に駆動電流を供給するための配線長さが極端に異なってくる。そのため、画面の中央部では、画面の外周部と比較して電圧降下の度合いが大きく、輝度ムラが発生してしまうという不都合が生じる。大画面化を図れば図るほどこの傾向は顕著となる。特に、駆動電流を供給する配線は発光層を含む有機ＥＬ層の上に形成されたＩＴＯ等の透明電極を経て導通され、このＩＴＯは例えば金属Ｃｕなどと比べて抵抗が大きく、このためＩＴＯの電圧降下の影響が大きい。
　なお、有機ＥＬ表示装置の駆動方式としては、パッシブマトリクス方式とアクティブマトリクス方式とがあるが、前者は、構造が単純であるものの、大型化かつ高精細の表示装置の実現が難しいなどの問題があり、大型化を図るためには、後者のアクティブマトリクス方式の開発が盛んに行われている。アクティブマトリクス方式では、画素ごとに配した有機ＥＬ素子に流れる電流を、有機ＥＬ素子ごとに設けた駆動回路内のＴＦＴ（Thin Film Transistor）によって制御するようになっている。
　なお、本願発明に関連すると思われる先行技術として、下記特許文献１～特許文献４が挙げられる。
特許第４４８９４７２号公報 特許第４３６７３４６号公報 特開２００９－２６８２８号公報 特開２０１１－９６２８２号公報
　特許文献１には、大型化しても上部透明電極に起因する電圧降下による発光輝度むらを生じさせないことを目的の一つとして、第１の基板に形成された素子分離用バンク上に位置する上部電極と第２の基板に形成された導電性遮光パターンとが電気的に接続されるように第１の基板と第２の基板とを対向配置させ、少なくとも前記上部電極または前記導電性遮光パターンが給電点に接続されてなる有機エレクトロルミネッセンス表示装置の開示がなされている。
　しかしながら、特許文献１では、柱状の突起である素子分離用バンクが、ＴＦＴや有機ＥＬ層が形成されている第１の基板側に形成されている。ＴＦＴや有機ＥＬ層が形成されているために第１の基板側は複雑な構成になっており、この上に素子分離用バンクを設けることは反対側の第２の基板側に設けるプロセスと比較して、歩留まりが低下する確率は極めて高いと言える。そして、第１の基板側の歩留まり低下は、複雑な工程を経て形成され、工数が多いＴＦＴや有機ＥＬ層の形成工程を無駄にすることにも通じ、コスト的なダメージが極めて大きいと言える。また、一対の電極によって挟持された状態にある有機ＥＬ層を備える有機ＥＬ素子は、通常、有機ＥＬ素子を保護するための封止層によって覆われて保護されており、この封止層の存在をも考慮していかように被覆された電極との導通を図るかを技術的に考察する必要がある。
　また、特許文献２には、電源配線及び第２電極の更なる低抵抗化を可能ならしめ、表示の輝度ムラを低減し、高輝度化、高コントラスト化を図った高出力品位の有機ＥＬ装置等の電気光学装置の提案がなされているが、当該提案においても、やはり上記特許文献１と同様な問題が生じ得る。
　また、特許文献３には、対向電極の電位の面内均一性を高めることを目的として開発された上面発光型の有機ＥＬ表示装置の提案がなされているが、やはり当該提案においても、上記特許文献１と同様な問題が生じ得る。
　また、特許文献４には、透明電極の実効的な抵抗値を下げることができ、有機ＥＬ層に対して均一な電圧を加えることが可能となるため、表示ムラなどの表示不良を防ぐことができる発光装置の提案がなされているが、当該提案においても、やはり上記特許文献１と同様な問題が生じ得る。
　このような実情のもとに本発明は創案されたものであって、その目的は、例えば、大画面の有機ＥＬ表示装置を開発するに際し、画面の中央部と画面の外周部との輝度ムラの発生を防止することができ、かつ当該輝度ムラの発生防止手段の形成がコストリスクを低減させる構成で行なうことができる有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板やカラーフィルタ、さらにはこれらを用いた有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供することにある。
　上記課題を解決するための発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板であって、透明基板と、当該透明基板上に形成された画素部分と、前記画素部分の周囲に形成された非画素エリアと、を有し、前記非画素エリアには、メタル補助電極層が設けられているとともに、当該非画素エリアの少なくとも一箇所以上に非導電性の凸状柱が形成されており、前記凸状柱の少なくとも頂部には透明電極層が設けられており、前記非画素エリアのメタル補助電極層と前記凸状柱頂部の透明電極層とが導通していることを特徴とする。
　上記の発明にあっては、前記非画素エリアは、縦横方向のラインが交わる交差部分を有し、当該交差部分に前記凸状柱が形成されていてもよい。
　また、上記の発明にあっては、前記凸状柱は、基部側から頂部に至るまでにその径が漸減するテーパー形状をなしていてもよい。
　また、上記の発明にあっては、基板中央部に配設された凸状柱の配設密度Ｄ１と、基板の外周部に配設された凸状柱の配設密度Ｄ２とを比較した場合、Ｄ１＞Ｄ２であってもよい。
　また、上記課題を解決するための発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタであって、透明基板と、当該透明基板上に形成された画素部分と、前記画素部分の周囲に形成された非画素エリアと、を有し、前記非画素エリアには、メタル補助電極層が設けられているとともに、当該非画素エリアの少なくとも一箇所以上に非導電性の凸状柱が形成されており、前記凸状柱の少なくとも頂部には透明電極層が設けられており、前記非画素エリアのメタル補助電極層と前記凸状柱頂部の透明電極層とが導通している、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板と、前記カラーフィルタ用基板の画素部分に形成された着色層と、を有することを特徴とする。
　さらに、上記課題を解決するための発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、透明基板と、当該透明基板上に形成された画素部分と、前記画素部分の周囲に形成された非画素エリアと、を有し、前記非画素エリアには、メタル補助電極層が設けられているとともに、当該非画素エリアの少なくとも一箇所以上に非導電性の凸状柱が形成されており、前記凸状柱の少なくとも頂部には透明電極層が設けられており、前記非画素エリアのメタル補助電極層と前記凸状柱頂部の透明電極層とが導通している有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板と、前記カラーフィルタ用基板の画素部分に形成された着色層と、を含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタと、基板および当該基板上に形成された有機ＥＬ層を含む有機エレクトロルミネッセンス素子と、を有する有機ＥＬ素子側基板と、を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、前記カラーフィルタと、前記有機ＥＬ素子側基板とは、前記着色層および前記有機エレクトロルミネッセンス素子が対向するように配置されており、前記有機エレクトロルミネッセンス素子は、前記有機ＥＬ層と、前記有機ＥＬ層を挟持するように配置された一対の下面電極層と上面透明電極層を含み、前記凸状柱の頂部に形成された前記透明電極層の部分と前記上面透明電極層とが接触して導通が図れるように形成されていることを特徴とする。
　本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板、カラーフィルタおよびこれらを用いた有機エレクトロルミネッセンス表示装置によれば、その非画素エリアにメタル補助電極層が設けられているとともに、凸状柱の頂部には透明電極層が設けられており、これらが導通しているので、特に大画面の有機ＥＬ表示装置などを構成した場合、画面の中央部と画面の外周部との輝度ムラの発生を防止することができる。また、凸状柱が非導電性の材料から構成されているため、導電性材料が含有せしめられたそれとくらべて強度低下の問題が生じる心配もない。
本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子側基板を示す断面図である。 図１に示される有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子側基板を接合することによって形成した有機ＥＬ表示装置の断面図である。 第１の実施形態である有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの一部を示した平面図であり、図１のα－α矢視平面図に相当する。 第２の実施形態である有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの一部を示した概略断面図である。 第３の実施形態である有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの一部を示した概略断面図である。 第４の実施形態である有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの一部を示した概略断面図である。 第５の実施形態である有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの一部を示した概略断面図である。 第６の実施形態である有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの一部を示した概略断面図である。 第７の実施形態である有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの一部を示した概略断面図である。 第８の実施形態である有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの一部を示した概略断面図である。 第９の実施形態である有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの一部を示した概略断面図である。
　以下、図面を参照しながら、本発明を実施するための複数の実施形態について詳細に説明する。なお、本発明は以下に説明する形態に限定されることはなく、技術思想を逸脱しない範囲において種々変形を行なって実施することが可能である。また、添付の図面においては、説明のために上下、左右の縮尺を誇張して図示することがあり、実際のものとは縮尺が異なる場合がある。
　また、以下は、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタを中心に説明をするが、これに限定されることはなく、以下で説明するカラーフィルタから着色層のみを除去すれば、本発明のカラーフィルタ用基板となる。
　＜第１の実施形態＞
　図１～図３を参照しつつ本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタおよび有機ＥＬ表示装置について説明する。
　図１は、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１０および有機ＥＬ素子側基板７０を示す断面図である。これらの構成部材の断面図は、図３に示される有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ１０の平面図のＡ－Ｂ－Ｃ－Ｄ－Ｅ－Ｆ－Ｇ－Ｈ－Ｉ－Ｊ－Ｋ－Ｌ－Ｍ－Ｎ線での切断面およびそれに準ずる有機ＥＬ素子側基板７０の切断面を見た断面図である。図２は、図１に示される有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１０および有機ＥＬ素子側基板７０を接合することによって形成した有機ＥＬ表示装置１００の断面図である。図３は、第１の実施形態である有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１０の一部を示した平面図であり、図１のα－α矢視平面図に相当する。
　（有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１０の説明）
　本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１０は、有機ＥＬ素子の発光層を含む有機ＥＬ層からの光を発光光源とする有機ＥＬ表示装置に用いられる有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ（以下、単に、カラーフィルタと称す場合がある）である。
　図１に示されるように、本発明におけるカラーフィルタ１０は、透明基板１１と、この透明基板１１上に形成された画素部分である着色層１３と、着色層１３の周囲に形成された非画素エリア１２とを有している。通常、基板の最外周に配置された着色層１３を除いた他の大部分の着色層１３に着目してみれば、非画素エリア１２は、隣接する着色層１３同士の間隙部分に存在する。なお、画素部分とは、カラーフィルタを各種表示装置に用いた場合に光が透過する部分のことをいい、本発明のカラーフィルタ１０においては、必ずしも画素部分のすべて着色層１３が形成されていなくてもよく、画素部分の一部は単に光が透過する領域となっていてもよい。
　透明基板１１は、可視光に対して透明な基板であれば特に限定されるものではなく、一般的なカラーフィルタに用いられる透明基板と同様なものを用いることができる。具体的には、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英などのリジッド材、あるいは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。
　着色層１３は、赤色着色層１３Ｒ、緑色着色層１３Ｇおよび青色着色層１３Ｂを有し、通常、これらが順次配列された状態でパターン形成されるが、そのパターン配列は特に図示のものに限定されるものではない。ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、４画素配置型等の公知の配列とすることができ、各着色層の面積は任意に設定することができる。
　なお、図面における画素部分である着色層１３の数（画素数）はあくまで例示として記載されているものであり、図示例のものに限定されるものではない。着色層１３の形成方法としては、一般的なカラーフィルタにおける着色層１３の形成方法、例えば、フォトリソグラフィー法、インクジェット法、印刷法等を用いればよい。
　本実施形態における非画素エリア１２には、通常、遮光部１２ａ（いわゆるブラックマトリックスと称されることもある）が形成されることが望ましいが、本発明の作用効果を発現させるためには必須となるものではない。遮光部１２ａは、通常、格子状の遮光層として構成され、通常、黒色顔料とバインダー樹脂と溶剤とを含有したフォトレジストや印刷用インキ、あるいはクロムなどの金属を用いて構成される。印刷用インキに用いられる黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック、チタンブラック等を挙げることができ、バインダー樹脂としては、例えば、ベンジルメタクリレート：スチレン：アクリル酸：２－ヒドロキシエチルメタクリレートの共重合体等を挙げることができ、溶剤としては、公知の種々の中から選定して用いることができる。
　遮光部１２ａの形成方法としては、フォトリソグラフィー法、各種のパターン印刷方法、各種のめっき方法等で形成することができる。
　本発明におけるカラーフィルタ１０は、上記で説明した画素部分である着色層１３および非画素エリア１２に位置する遮光部１２ａの全体を覆うようにオーバーコート層１４が設けられている。当該オーバーコート層１４は、本発明の必須の構成ではないが、当該オーバーコート層１４を形成することにより、この後に説明するメタル補助電極層や凸状柱を形成するに当たり、これらの形成面を平坦化することができるとともに、着色層１３を保護することができる点で好適である。
　オーバーコート層１４を形成する材料としては特に限定することはなく、従来から用いられている各種樹脂を適宜選択すればよく、その形成方法にあっても、各種印刷方法などを用いればよい。
　ここで、非画素エリア１２には、より具体的には非画素エリア１２に位置する前記オーバーコート層１４の表面には、メタル補助電極層１５が設けられている。メタル補助電極層１５に用いられる材質としては、例えば、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｏといった金属やそれらの合金、またはＭＡＭ（モリブデン／アルミニウム・ネオジウム合金／モリブデン）に代表される複層金属膜等を挙げることができる。
　また、このようなメタル補助電極層１５の形成方法としては、例えば、蒸着法もしくはスパッタリング法等によって薄膜を形成した後に、フォトリソグラフィー法によりパターンニングする方法が好適に用いられる。
　メタル補助電極層１５を形成する場所については、図１や図２に示すように、非画素エリア１２に線状にパターン配設することが好ましいが、これに限定されることはなく、外部から供給される電流を、後述する凸状柱の頂部に形成される透明電極層を介して、有機ＥＬ素子側基板に導通することができる位置であって、表示時に開口部の開口率を低下させることがない位置であれれば自由に設計可能である。
　本発明のカラーフィルタ１０の非画素エリア１２には、前記メタル補助電極層１５の他、当該非画素エリア１２の少なくとも一箇所以上に非導電性の凸状柱１７が形成されている。そして、当該凸状柱１７の頂部には、透明電極層１８が設けられている。そして、本発明のカラーフィルタ１０においては、前記メタル補助電極層１５と当該凸状柱１７の頂部の透明電極層１８とが導通している。これにより、後述する有機ＥＬ層８３を有する有機ＥＬ素子側基板７０からの電流を凸状柱１７の頂部に形成された透明電極層１８およびメタル補助電極層１５を介してカラーフィルタ１０側に導いて逃がすことにより、電圧降下を防ぐことができる。そしてその結果、本発明の課題である画面の中央部と画面の外周部との輝度ムラの発生を防止することができる。
　従って、凸状柱１７は、その作用を奏すべく輝度ムラが発生しやすい箇所、特に、基板の中央部付近に形成されることが望ましい。本実施形態では、図１における断面図の中央部近傍に３本の凸状柱１７が形成されているが、これらはあくまでも例示として記載されているだけであり、その本数および配置場所は図示のもに限定されるものではない。本発明の作用効果が最適な状態で発現できるように適宜、本数、配置場所等を設定するようにすればよい。
　なお、１または複数の凸状柱１７を配設する場合において、基板中央部に配設された凸状柱の配設密度Ｄ１と、基板外周部の凸状柱の配設密度Ｄ２とを比較した場合、Ｄ１≧Ｄ２、好ましくはＤ１＞Ｄ２となるように構成することが望ましい。
　なお、Ｄ１およびＤ２を求めるに際しては、画面の大きさに相当する基板の大きさを縦横に３等分して基板を３×３の９分割にする。その中央部のエリアが基板中央部に該当し、ここで測定される凸状柱の配設密度がＤ１として定義される。そして、この中央部のエリア以外の８つの外エリアが基板外周部に該当し、これらの各エリアで測定される凸状柱の配設密度のうち最も大きい値がＤ２として定義される。
　このような凸状柱１７は非導電性の材料で形成されている。本発明のカラーフィルタ１０にあっては、凸状柱１７の頂部に設けられる透明電極層１８によって導通を担保しているため、当該凸状柱１７自体に導電性を付与する必要がないため、その材料設計の自由度を向上することができ、凸状柱１７に導電性材料を混入せしめる必要がないため、その強度が低下することもない。凸状柱１７の具体的な材料としては、各種樹脂を用いることができる。
　凸状柱１７の形状としては、特に限定されることはないが、図示するように、基部側から頂部に至るまでにその径が漸減するテーパー形状をなすように構成することが望ましい。後述するように、有機ＥＬ層を有する有機ＥＬ素子側基板７０との一体化を容易にするためである。凸状柱の具体的な形状としては、図示するように円錐の先端部を切り取った形状である円錐台や、円柱、三角錐台、四角錘台等を挙げることができる。凸状柱１７の根元である基部の幅は、８～１００μｍ程度、頂部の幅は、３～９５μｍ程度、高さは、２．５～２５μｍ程度とされる。また、基部側から頂部に至るテーパー角度は３０～８９°程度とされる。
　第１の実施形態においては、凸状柱１７の頂部に設けられる透明電極層１８は、当該頂部のみならず、いわゆるベタ膜として構成されている。このようにベタ膜として構成することにより、メタル補助電極層１５との導通を確実なものとすることができるとともに、その形成が容易となる点で好ましい。
　なお、本明細書において、凸状柱１７の頂部とは、カラーフィルタ１０と対向して設けられる有機ＥＬ素子側基板７０と接触し、電流が流れる領域を意味し、凸状柱１７において最も高い位置のみを意味するもではない。
　このような透明電極層１８の抵抗値については、有機ＥＬ素子側基板７０からの電流を不足なくカラーフィルタ側に導いて逃がすことができる程度であればよく、特に限定することはない。例えば、１０Ω／ｓｑ～５００Ω／ｓｑ程度であることが好ましく、３０Ω／ｓｑ～２００Ω／ｓｑ程度が特に好ましい。
　このような透明電極層１８の形成材料としては、例えば透明性および導電性を有する金属酸化物等が挙げられる。このような金属酸化物としては、例えば酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化亜鉛、もしくは酸化第二錫等が挙げられる。透明電極層１８の厚さは、５０ｎｍ～１５００ｎｍ、より好ましくは、１２０ｎｍ～１２００ｎｍ、とされる。透明電極層１８の形成方法としては、例えば、蒸着法もしくはスパッタリング法等を用いるようにすればよい。
　本発明のカラーフィルタ１０に好適に使用される着色層１３についてさらに説明を加える。なお、前述したように、本発明のカラーフィルタ用基板においては、当該着色層１３は必須の構成ではなく、また、本発明のカラーフィルタ１０においても、画素部分の全部に着色層が設けられてなくてもよい。
　赤色着色層１３Ｒ、緑色着色層１３Ｇおよび青色着色層１３Ｂを有し構成される着色層１３は、有機ＥＬ表示装置１００（図２参照）の単位画素に対応して設けられる。そして、これらの赤色着色層１３Ｒ、緑色着色層１３Ｇおよび青色着色層１３Ｂは、それぞれ、各色の顔料や染料等の着色剤を感光性樹脂中に分散または溶解させた後に基板の上に形成される。
　赤色着色層１３Ｒに用いられる着色剤としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
　緑色着色層１３Ｇに用いられる着色剤としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニンン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
　青色着色層１３Ｂに用いられる着色剤としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
　なお、非画素エリア１２は、縦横方向のラインが交わる交差部位を有し、当該非画素エリア１２の交差部位に凸状柱１７を形成することが望ましい。凸状柱１７の形成位置にスペース的な余裕をもたせ、強度を高めた状態で形成させることができるからである。また、形成も比較的容易で歩留まり向上に寄与することができる。なお、ＴＦＴの設計によっては凸状柱１７の形成位置は交差部位でなくともよい。
　（有機ＥＬ素子側基板７０の説明）
　図１に示すように有機ＥＬ素子側基板７０は、基板７１と、当該基板７１上に形成された有機ＥＬ層８３を含む有機エレクトロルミネッセンス素子８０と、を有して構成される。
　このような有機ＥＬ素子側基板７０と前記カラーフィルタ１０を一体化・接合させることによって、図２に示されるような有機エレクトロルミネッセンス表示装置１００が形成される。なお、有機ＥＬ素子側基板７０と前記カラーフィルタ１０との一体化・接合に際しては、有機ＥＬ素子側基板７０の有機エレクトロルミネッセンス素子８０と、カラーフィルタ１０の着色層１３とが対向するように配置される。
　有機エレクトロルミネッセンス素子８０は、有機ＥＬ層８３と、この有機ＥＬ層８３を挟持するように配置された一対の下面電極層８１と上面透明電極層８５を有して構成される。また、有機ＥＬ層８３の周囲には絶縁層９１が形成され、この絶縁層９１によって有機ＥＬ層８３が区画化されるとともに、下面電極層８１と上面透明電極層８５とが直接接触することが防止される。さらに、上面透明電極層８５の上には、主として有機ＥＬ層８３を保護するための封止層９５が、素子全体を覆うように形成されている。なお、前記封止層９５は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置１００に必須の構成ではない。
　そして、このような封止層９５の前記カラーフィルタ１０との対向面には、貫通孔９５ａが形成されている。この貫通孔９５ａは、前記カラーフィルタ１０に形成された凸状柱１７の先端部分を挿着させることができ、前記凸状柱１７の頂部に形成された透明電極層１８の部分と、有機エレクトロルミネッセンス素子８０の上面透明電極層８５とが接触して導通が図れるように形成されている。貫通孔９５ａは、挿入される凸状柱１７の先端部分と同様なテーパー形状を備える形態とし、凸状柱１７の先端部分が貫通孔９５ａに嵌着できるような形態とすることが望ましい。また、貫通孔９５ａの深さは、上面透明電極層８５に到達する深さとされる。また、図示はしていないが、透明電極層１８と上面透明電極層８５との導通を確保し易いように、貫通孔９５ａの側面に導電膜を形成しておくようにしてもよい。このような貫通孔９５ａを設けておくことにより、封止層９５がある場合においても、導通を確保できるので好ましい。
　貫通孔９５ａが形成される部位は、発光エリアを狭めないように有機ＥＬ層が存在しない部位に設けることが好ましい。例えば、図１や図２に示されるように、隣接する有機ＥＬ層８３同士の間隙部分に貫通孔９５ａを形成するようにすればよい。
　上述のごとく構成を採択することによって、前述したように有機ＥＬ層８３を有する有機ＥＬ素子側基板７０からの電流を凸状柱１７の頂部に形成された透明電極層１８、および当該透明電極層と導通しているメタル補助電極層１５を介してカラーフィルタ１０側に導いて逃がすことにより、電圧降下を防ぐように作用させることが可能となる。
　なお、基板７１には、図示のごとく、画素を構成する有機エレクトロルミネッセンス素子８０に流れる電流を制御するためのＴＦＴ (Thin Film Transistor)７５が、画素ごとに配置形成されており、通常、各ＴＦＴの回路には、図示していないゲート線、信号線、電源線が接続されている。このようなＴＦＴ７５の形成手法は、公知の方法に従えばよく、ＴＦＴ７５の上には、通常、絶縁層７７が形成される。なお、絶縁層７７としては、後述する絶縁層９１と同様な材料を用いることができる。
　以下、有機ＥＬ素子側基板７０の各構成について、さらに説明を加える。
　基板７１
　本発明に用いられる基板７１としては、有機エレクトロルミネッセンス素子８０等を支持することができるものであればよく、有機ＥＬ表示装置の構成部材として一般的に用いられるものを使用することができる。なお、本実施形態は、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１０側から光が取り出される、いわゆるトップエミッション方式であるため、有機ＥＬ素子側基板７０の基板７１としては、透明であっても、不透明であってもよい。
　絶縁層９１
　本発明における絶縁層９１は、上述したように下面電極層８１と上面透明電極層８５とが直接接触することを防ぐために形成される。
　このような絶縁層９１の形成材料としては、例えば感光性ポリイミド樹脂、アクリル系樹脂等の光硬化型樹脂、および熱硬化型樹脂、ならびに無機材料などを用いることができる。絶縁層９１のパターンは、通常、線状とすることができ、絶縁層９１の形成によって、例えばマトリクス状またはストライプ状等の開口部を有するパターンを形成することができる。
　絶縁層９１の形成方法としては、上記材料を塗布して、フォトリソグラフィー法によりパターンニングする方法が挙げられる。また、印刷法等を用いることもできる。
　有機ＥＬ層８３
　本発明に用いられる有機ＥＬ層８３は、発光層、特に、好ましくは白色発光層を有するように構成される。白色発光層に代えて、赤色発光層、青色発光層および緑色発光層を順じ備えるように構成することもできるが、ここでは、より好ましい態様である白色発光層を備える場合を例にとって説明する。
　また、有機ＥＬ層８３は、発光層に加えて、通常、複数層の有機層から構成されるものであり、正孔注入層や電子注入層といった電荷注入層や、白色発光層に正孔を輸送する正孔輸送層、白色発光層に電子を輸送する電子輸送層といった電荷輸送層を有するものとすることができる。
　白色発光層
　本発明において好適な発光層として用いられる白色発光層は、白色光を発光することができるものであればよい。このような白色発光層は、具体的には、有機ＥＬ層８３に電圧が加えられた際に、少なくとも青色光（４３０ｎｍ～４７０ｎｍ）、緑色光（４７０ｎｍ～６００ｎｍ）、および赤色光（６００ｎｍ～７００ｎｍ）の波長域の発光スペクトルを有するものであればよい。さらには、発光スペクトルにおいて緑色光（４７０ｎｍ～６００ｎｍ）ピークの最大発光強度と青色光（４３０ｎｍ～４７０ｎｍ）ピークの最大発光強度の比（緑色光ピークの最大発光強度／青色光ピークの最大は高強度）が、０．３～０．８の範囲内であることが好ましく、０．３～０．７の範囲内であることがより好ましく、特に０．３～０．５の範囲内であることが好ましい。
　緑色光ピークの最大発光強度と青色光ピークの最大発光強度の比が上記の範囲内であることにより、青色パターンの透過率が大きいことによる消費電力低減効果を、より効果的に発揮することができる。また、赤色光（６００ｎｍ～７００ｎｍ）については、赤色光ピークの最大発光強度と青色光ピークの最大発光強度の比（赤色光ピークの最大発光強度／青色光ピークの最大発光強度）が０．３～１．０の範囲内であることが好ましい。
　このような白色発光層を構成する材料としては、蛍光または燐光を発するものであればよく、特に限定されるものではない。また、発光材料は、正孔輸送性や電子輸送性を有していてもよい。発光材料としては、色素系材料、金属錯体系材料、および高分子系材料を挙げることができる。
　上記の色素系材料としては、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、およびピラゾリンダイマー等を挙げることができる。
　また、上記の金属錯体系材料としては、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、およびユーロピウム錯体、あるいは、中心金属に、Ａｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等またはＴｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子に、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、およびキノリン構造等を有する金属錯体などを挙げることができる。
　また、上記の高分子系の材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体等、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ならびに上記の色素系材料および金属錯体系材料を高分子化したもの等を挙げることができる。
　上記の白色発光層の形成方法としては、例えば、蒸着法、印刷法、インクジェット法、またはスピンコート法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法、および自己組織化法（交互吸着法、自己組織化単分子膜法）等を挙げることができる。これらの中でも特に、蒸着法、スピンコート法、およびインクジェット法を用いることが好ましい。
　本発明に用いられる白色発光層の膜厚は、通常５ｎｍ～５μｍ程度とされる。
　正孔注入層
　本発明においては、白色発光層と陽極（下面電極層８１もしくは上面透明電極層８５）との間に正孔注入層が形成されていてもよい。正孔注入層を設けることにより、白色発光層への正孔の注入が安定化し、発光効率を高めることができる。
　本発明に用いられる正孔注入層の形成材料としては、一般的に有機ＥＬ素子の正孔注入層に使用されている材料を用いることができる。また、正孔注入層の形成材料は、正孔の注入性もしくは電子の障壁性のいずれかを有するものであればよい。
　具体的に、正孔注入層の形成材料としては、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、およびチオフェンオリゴマー等の導電性高分子オリゴマー等を例示することができる。さらに、正孔注入層の形成材料としては、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、およびスチリルアミン化合物等を例示することができる。
　このような材料から構成される正孔注入層の膜厚は、通常、５ｎｍ～１μｍ程度とされる。
　電子注入層
　本発明においては、白色発光層と陰極（上面透明電極層８５もしくは下面電極層８１）との間に電子注入層が形成されていてもよい。電子注入層を設けることにより、白色発光層への電子の注入が安定化し、発光効率を高めることができるからである。
　本発明に用いられる電子注入層の形成材料としては、例えばニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス（８－キノリノール）アルミニウム等の８－キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、ならびにジスチリルピラジン誘導体等を例示することができる。
　このような材料から構成される電子注入層の膜厚は、通常、５ｎｍ～１μｍ程度とされる。
　上面透明電極層８５
　本発明における上面透明電極層８５は、後に詳述する下面電極層８１との間に挟まれた有機ＥＬ層８３に電圧をかけ、白色発光層で発光を起こさせるために設けられる。
　また、上面透明電極層８５は、白色発光層で発生した光を、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ側に透過させるものであるから、図１に示されるように有機ＥＬ層８３と、有機ＥＬ層８３の上側に位置する有機ＥＬ表示装置カラーフィルタ１０との間に配置される。
　本発明に用いられる上面透明電極層８５の形成材料としては、例えば、透明性および導電性を有する金属酸化物等が挙げられる。このような金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化亜鉛、および酸化第二錫等が挙げられる。
　このような材料から構成される上面透明電極層８５の膜厚は、通常、１００ｎｍ～３００ｎｍ程度とされる。
　上面透明電極層８５の形成方法としては、例えば、蒸着法もしくはスパッタリング法等によって薄膜を形成した後に、フォトリソグラフィー法によりパターンニングする方法が好適に用いられる。
　下面電極層８１
　本発明における下面電極層８１は、図１に示されるように有機ＥＬ層８３と、有機ＥＬ層８３の下側に位置する基板７１との間に配置される。下面電極層８１は、白色発光層を発光させるための他方の電極をなすものであり、上記の上面透明電極層８５と反対の電荷をもつ電極として構成される。
　用いられる下面電極層８１の形成材料としては、例えば仕事関数が４ｅＶ以下程度と小さい金属、合金、およびそれらの混合物等が挙げられる。具体的には、ナトリウム、ナトリウム－カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム／銅混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）混合物、インジウム、リチウム／アルミニウム混合物、および希土類金属等を例示することができる。より好ましくは、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）混合物、およびリチウム／アルミニウム混合物等を挙げることができる。
　下面電極層８１は、そのシート抵抗が数Ω／ｃｍ以下であることが好ましい。また、下面電極層８１の膜厚は、通常、１０ｎｍ～１μｍ程度とされる。
　下面電極層８１の形成方法としては、例えば、蒸着法もしくはスパッタリング法等によって薄膜を形成した後に、フォトリソグラフィー法によりパターニングする方法が好適に用いられる。なお、下面電極層８１には有機ＥＬ素子に流れる電流を制御するためのＴＦＴ(Thin Film Transistor)７５が接続される。
　封止層９５
　上述した貫通孔９５ａを有する封止層９５は、上面透明電極層８５の上、すなわち、上面透明電極層８５と、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１０との間に形成されている。封止層９５は、通常、有機ＥＬ層８３へ水蒸気や酸素が到達するのを遮断する保護層として設けられる。
　封止層９５としては、水蒸気や酸素に対してバリア性を発現することができ、かつ透明であれば特に限定されるものではなく、例えば透明無機膜、透明樹脂膜、あるいは有機－無機ハイブリッド膜等が用いられる。中でも、バリア性が高い点から、透明無機膜が好ましい。
　封止層９５として好適に用いられる透明無機膜パネルの形成材料としては、例えば酸化アルミニウム、酸化ケイ素、および酸化マグネシウム等の酸化物；窒化ケイ素等の窒化物；窒化酸化ケイ素等の窒化酸化物；などが用いられる。特に、ピンホールが生じにくくガスバリア性が高いことから、窒化酸化ケイ素が好適である。
　封止層９５は、単層であっても良く、多層であってもよい。例えば、封止層９５が複数の窒化酸化ケイ素膜が積層された多層である場合は、バリア性をさらに高めることができる。また、封止層９５が多層である場合は、各層にそれぞれ異なる材料を用いてもよい。
　封止層９５の膜厚は、用いる封止層９５の形成材料の種類等に応じて適宜、決定するようにすればよい。通常、５ｎｍ～５μｍ程度とされる。この封止層９５の厚さが薄すぎるとバリア性が不十分となる傾向が生じ、また封止層９５の厚さが厚すぎると薄膜の膜応力によるクラック等の現象が生じ易くなるという傾向が生じる。
　封止層９５が透明の無機膜である場合、この透明無機膜の形成方法としては、真空状態で形成できる膜の形成方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、電子ビーム（ＥＢ）蒸着法や抵抗加熱法等の真空蒸着法、原子層エピタキシ（ＡＬＥ）法、レーザーアブレーション法、化学気相成長（ＣＶＤ）法等が挙げられる。これらの中でも、生産性の観点から、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法が好ましく用いられる。
　封止層９５の所定の箇所に上述した貫通孔９５ａを形成する手法としては、例えば、封止層９５の薄膜を形成した後に、フォトリソグラフィー法によりパターニングする方法が好適に用いられる。
　このような構成を有する有機ＥＬ素子側基板７０と、前記カラーフィルタ１０とを一体化・接合させることによって、図２に示されるような有機エレクトロルミネッセンス表示装置１００が形成される。すなわち、有機ＥＬ素子側基板７０と前記カラーフィルタ１０との一体化・接合に際しては、有機ＥＬ素子側基板７０の封止層９５に形成された貫通孔９５ａと、カラーフィルタ１０の非画素エリアに形成された凸状柱１７の先端部と、を位置合わせした後、凸状柱１７の先端部を封止層９５の貫通孔９５ａに嵌着させ、凸状柱の頂部１７ａに形成された前記透明電極層１８の部分と前記上面透明電極層８５とを接触させて導通が図れるように一体化させる。しかる後、封止層９５と透明電極層１８との隙間部分に、図２に示されるような接着剤層９９を充填して、カラーフィルタ１０と有機ＥＬ素子側基板７０との一体化・接合を図り、図２に示されるような有機エレクトロルミネッセンス表示装置１００が形成される。
　接着剤層９９としては、透明で接着力を有し、かつ、硬化性を有するものであれば特に限定されるものではない。このような接着剤層９９を形成する材料としては、例えば、熱硬化性を有する接着剤、あるいは光硬化性を有する接着剤を好適例として挙げることができる。通常、溶剤を必要としないタイプのものがよい。また、フィルム状の接着シートタイプのものを用いてもよい。具体的には、エポキシ系、アクリル系、ポリイミド系、合成ゴム系などの接着剤や接着シートを挙げることができる。
　また、接着剤層９９を設けることなく封止層９５と透明電極層１８との隙間部分を空けたままにしておき、窒素等の不活性ガス雰囲気中において上記有機ＥＬ素子側基板７０および有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１０の周縁部をシール剤により封止し、中空の内部に酸化バリウム等の捕水剤を備えるようにしてもよい。
　電源からの配線形態は、例えば、図２に示されるように、電源Ｐの一方の極から各々のＴＦＴ７５に至る配線２０１と、電源の他方の極から上面透明電極層８５に至る配線２０２－２０３と、電源の他方の極からメタル補助電極層１５に至る配線２０２－２０４と、を有し構成される。有機ＥＬ素子８０を発光させるための配線回路が配線２０１と配線２０２－２０３であり、ＴＦＴ側の電流をカラーフィルタ側のメタル補助電極層１５へ逃がして電圧降下を防止するための配線回路が配線２０１と配線２０４－２０２である。
　このような構成を採択することによって、前述した用に有機ＥＬ層８３を有する有機ＥＬ素子側基板７０からの電流を、凸状柱１７の頂部に形成された透明電極層１８およびメタル補助電極層１５を介してカラーフィルタ１０側に導いて逃すことにより、電圧降下を防ぐように作用させることが可能となる。
　なお、上記の実施形態においては、好適な態様として、白色発光層を備える有機ＥＬ層から発光される白色の光を、赤色着色層１３Ｒ、緑色着色層１３Ｇおよび青色着色層１３Ｂを備えるカラーフィルタを用いてＲＧＢの３色で発光させる方式を取り挙げて説明した。しかし、この方式に限定されることなく、例えば、青色発光の有機ＥＬ層を、青色の光を吸収して緑や赤の色で発光させる色変換層（ＣＣＭ）を用いてＲＧＢの３色で発光させるいわゆる青色ＥＬ色変換（ＣＣＭ）フルカラー方式や、ＲＧＢ発光する有機ＥＬ素子を画素ごとに塗り分けるいわゆるＲＧＢ発光層並置フルカラー方式のいずれにおいても本発明の要部の構成を適用させることができる。
　＜第２の実施形態＞
　次に、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの第２の実施形態について説明する。なお、以降の説明は、カラーフィルタのみの説明とし、これと一体化・接合される有機ＥＬ素子側基板、および有機エレクトロルミネッセンス表示装置の説明については省略する。また、説明の便宜上、上記図１～３に示した構成と同じ構成については、同じ符号を用いることとする。
　図４は、本発明のカラーフィルタの第２の実施形態を説明するための概略断面図である。
　このカラーフィルタ２０は、図１～３に示したカラーフィルタ１０と同様に、透明基板１１、画素部分である着色層１３、非画素エリア１２としての遮光部１２ａを有しており、さらに前記着色層１３および遮光部１２ａの全体を覆うようにオーバーコート層１４が設けられている。そして、非画素エリア１２に位置するオーバーコート層１４の表面には、メタル補助電極層１５が設けられているとともに、非導電性の凸状柱１７も設けられている。また、透明電極層１８が、前記凸状柱１７の頂部を含め、当該凸状柱１７の側面、メタル補助電極層１５、さらにはオーバーコート層１４の全体を覆うように設けられている。
　カラーフィルタ２０は、着色層１３が、赤色着色層１３Ｒ、緑色着色層１３Ｇおよび青色着色層１３Ｂに加え、透明着色層１３Ｗを有している点で図１～３に示す第１の実施形態にかかるカラーフィルタ１０と異なっている。
　このように、本発明のカラーフィルタにおいては、着色層１３は必ずしもＲ・Ｇ・Ｂの三原色から構成されている必要はなく、図４に示すように、透明着色層１３Ｗを有していてもよい。透明着色層１３Ｗを設けることにより、有機エレクトロルミネッセンス表示装置全体の輝度を向上することができる。
　＜第３の実施形態＞
　図５は、本発明のカラーフィルタの第３の実施形態を説明するための概略断面図である。
　このカラーフィルタ２５は、凸状柱１７の下にメタル補助電極層１５が存在しない点において、図４に示す第２の実施形態にかかるカラーフィルタ２０と異なり、その他の部分は前記第２の実施形態にかかるカラーフィルタ２０と共通している。
　このように、本発明のカラーフィルタにおいては、メタル補助電極層１５を配設する位置については特に限定されることはなく、必ずしも凸状柱１７の下に設ける必要はない。つまり、電圧降下が生じない程度において、メタル補助電極層１５を間引いて配設することができる。このような態様であっても、凸状柱１７の頂部に位置する透明電極層１８と、これと導通しているメタル補助電極層１５とにより電圧降下を防止することができる。
　＜第４の実施形態＞
　図６は、本発明のカラーフィルタの第４の実施形態を説明するための概略断面図である。
　このカラーフィルタ３０は、凸状柱１７の下に位置する遮光部１２ａ上に、赤色着色層１３Ｒ'と緑色着色層１３Ｇ'が台座として設けられている点において、図４に示す第２の実施形態にかかるカラーフィルタ２０と異なり、その他の部分は前記第２の実施形態にかかるカラーフィルタ２０と共通している。
　ここで、台座として設けられている赤色着色層１３Ｒ'と緑色着色層１３Ｇ'は、図６からも明確なように、画素部分として機能するものではなく、凸状柱１７の高さを嵩上げするための、「台座」として設けられるものである。このように着色層１３を形成するにあたり、画素部分とはならず凸状柱１７が形成される位置に台座としての着色層を形成しておくことにより、凸状柱１７の高さを嵩上げすることができるとともに、前述の通りオーバーコート層１４を用いて表面を平坦化するのが容易となる。なお、この実施形態にかかるカラーフィルタ４０にあっては、赤色着色層１３Ｒ'と緑色着色層１３Ｇ'を台座として用いているが、これに限定されることはなく、Ｒ・Ｇ・Ｂ・Ｗの４色から任意に選択した１～４色の着色層を用いて台座とすることができる。また、当該台座を形成するにあっては、各色の着色層を形成するのと同時に形成すればよい。
　＜第５の実施形態＞
　図７は、本発明のカラーフィルタの第５の実施形態を説明するための概略断面図である。
　このカラーフィルタ３５は、透明電極層１８が、ベタ膜ではなく、メタル補助電極層１５の表面、および凸状柱１７の表面にパターンとして形成されている点において、図４に示す第２の実施形態にかかるカラーフィルタ２０と異なり、その他の部分は前記第２の実施形態にかかるカラーフィルタ２０と共通している。
　本発明のカラーフィルタにあっては、凸状部１７の頂部に位置する透明電極層１８と、メタル補助電極層１５とが導通していればよく、したがって透明電極層１８がベタ膜として存在している必要はない。このように画素部分としての着色層１３上に透明電極層１８を設けないようにすることで、透過率を向上せしめ、全体の輝度を上げることができる。なお、図示はしないが、図７に示すカラーフィルタ３５のさらに変形例として、凸状柱１７が形成されているメタル補助電極層１５以外のメタル補助電極、つまり着色層１３の間に配設されているメタル補助電極の表面には、透明電極層を形成しない態様としてもよい。凸状柱１７が形成されているメタル補助電極層１５と透明電極層１８とが導通をとれていれば、本発明の効果は発揮されるからである。
　＜第６の実施形態＞
　図８は、本発明のカラーフィルタの第６の実施形態を説明するための概略断面図である。
　このカラーフィルタ４０は、オーバーコート層１４が設けられていない点で図４に示す第２の実施形態にかかるカラーフィルタ２０と異なり、その他の部分は前記第２の実施形態にかかるカラーフィルタ２０と共通している。当該カラーフィルタ４０にあっては、オーバーコート層１４が設けられていないので、メタル補助電極層１５は、非画素エリアとしての遮光層１２ａ上に形成されている。
　本発明のカラーフィルタにあっては、前述したように、オーバーコート層１４は必須の構成ではない。当該カラーフィルタ４０のように、オーバーコート層１４を設けないことにより、画素部分としての着色層からの光の透過率を向上することができ、全体の輝度を上げることができる。
　＜第７の実施形態＞
　図９は、本発明のカラーフィルタの第７の実施形態を説明するための概略断面図である。
　このカラーフィルタ４５は、前記第６の実施形態にかかるカラーフィルタ４０と同様、メタル補助電極層１５が、非画素エリアとしての遮光層１２ａ上に形成されつつ、その上にオーバーコート層１４が設けられている点で図４に示す第２の実施形態にかかるカラーフィルタ２０と異なり、その他の部分は前記第２の実施形態にかかるカラーフィルタ２０と共通している。当該カラーフィルタ４５にあっては、凸状柱１７の頂部に位置する透明電極層１８とメタル補助電極層１５との導通を図るため、オーバーコート層１４の一部にスルーホールＸが形成されており、当該スルーホールＸ内に透明電極層１８が入り込んでいる。
　本発明のカラーフィルタにあっては、前述の通り、凸状柱１７の頂部に位置する透明電極層１８とメタル補助電極層１５と導通していればよく、従って図９に示すような態様とすることもできる。
　＜第８の実施形態＞
　図１０は、本発明のカラーフィルタの第８の実施形態を説明するための概略断面図である。
　このカラーフィルタ５０は、前記第５の実施形態にかかるカラーフィルタ３５を変形した実施形態であり、凸状柱１７の頂部にのみ透明電極層１８が設けられており、凸状柱１７の側面はメタル補助電極層１５で覆われている。そして、凸状柱１７の頂部にのみ設けられた透明電極層１８と凸状柱１７の側面を覆うメタル補助電極層１５が導通しており、さらに、凸状柱１７の側面を覆うメタル補助電極層１５と非画素エリアのメタル補助電極層１５とが導通している。
　このように、本発明のカラーフィルタにあっては、凸状柱１７の少なくとも頂部に透明電極層１８が設けられていればよく、凸状柱１７の側面にあっては、必ずしも透明電極層１８は必要ではなく、図１０に示すようにメタル補助電極層１５が設けられていてもよい。
　＜第９の実施形態＞
　図１１は、本発明のカラーフィルタの第９の実施形態を説明するための概略断面図である。
　このカラーフィルタ５５は、前記第８の実施形態にかかるカラーフィルタ５０をさらに変形した実施形態であり、凸状柱１７の頂部および凸状柱１７の側部の途中まで透明電極層１８が設けられており、凸状柱１７の側面において前記透明電極層１８が設けられていない部分がメタル補助電極層１５で覆われている。
　前述の通り、本発明のカラーフィルタにあっては、凸状柱１７の少なくとも頂部に透明電極層１８が設けられていればよく、凸状柱１７の側面にあっては、透明電極層１８とメタル補助電極層１５の両方が設けられていてもよい。
１０、２０、２５、３０、３５、４０、４５、５０、５５…有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ
１１…透明基板
１２…非画素エリア
１３…着色層
１５…メタル補助電極層
１７…凸状柱
１８…透明電極層
７０…有機ＥＬ素子側基板
１００…有機ＥＬ表示装置

Claims (6)

  1. 　透明基板と、当該透明基板上に形成された画素部分と、前記画素部分の周囲に形成された非画素エリアと、を有し、
    　前記非画素エリアには、メタル補助電極層が設けられているとともに、当該非画素エリアの少なくとも一箇所以上に非導電性の凸状柱が形成されており、
    　前記凸状柱の少なくとも頂部には透明電極層が設けられており、
    　前記非画素エリアのメタル補助電極層と前記凸状柱の頂部の透明電極層とが導通していることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板。
  2. 　前記非画素エリアは、複数のラインが交わる交差部分を有し、当該交差部分に前記凸状柱が形成されていることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ用基板。
  3. 　前記凸状柱は、基部側から頂部に至るまでにその径が漸減するテーパー形状をなしていることを特徴とする請求項１または２に記載のカラーフィルタ用基板。
  4. 　基板中央部に配設された凸状柱の配設密度Ｄ１と、基板の外周部に配設された凸状柱の配設密度Ｄ２とを比較した場合、Ｄ１＞Ｄ２であることを特徴とする請求項１～３のいずれか一項に記載のカラーフィルタ用基板。
  5. 　透明基板と、当該透明基板上に形成された画素部分と、前記画素部分の周囲に形成された非画素エリアと、を有し、前記非画素エリアには、メタル補助電極層が設けられているとともに、当該非画素エリアの少なくとも一箇所以上に非導電性の凸状柱が形成されており、前記凸状柱の少なくとも頂部には透明電極層が設けられており、前記非画素エリアのメタル補助電極層と前記凸状柱の頂部の透明電極層とが導通している、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板と、
    　前記カラーフィルタ用基板の画素部分に形成された着色層と、
    　を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ。
  6. 　透明基板と、当該透明基板上に形成された画素部分と、前記画素部分の周囲に形成された非画素エリアと、を有し、前記非画素エリアには、メタル補助電極層が設けられているとともに、当該非画素エリアの少なくとも一箇所以上に非導電性の凸状柱が形成されており、前記凸状柱の少なくとも頂部には透明電極層が設けられており、前記非画素エリアのメタル補助電極層と前記凸状柱の頂部の透明電極層とが導通している、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板と、前記カラーフィルタ用基板の画素部分に形成された着色層と、を含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタと、
    　基板および当該基板上に形成された有機ＥＬ層を含む有機エレクトロルミネッセンス素子と、を有する有機ＥＬ素子側基板と、を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
    　前記カラーフィルタと、前記有機ＥＬ素子側基板とは、前記着色層および前記有機エレクトロルミネッセンス素子が対向するように配置されており、
    　前記有機エレクトロルミネッセンス素子は、前記有機ＥＬ層と、前記有機ＥＬ層を挟持するように配置された一対の下面電極層と上面透明電極層を含み、
    　前記凸状柱の頂部に形成された前記透明電極層の部分と前記上面透明電極層とが接触して導通が図れるように形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
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