WO2013129125A1 - 走査電子顕微鏡 - Google Patents
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Definitions
- the magnetic field generator 21 of the monochromator 20 is a deflector for guiding electrons emitted from the sample toward the detector and energy dispersion for generating energy dispersion. Since the device is also used, it is possible to reduce the number of parts arranged in the vacuum chamber, and it is possible to realize high resolution, high energy resolution of detection electrons, and simplification of the structure.
Landscapes
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Abstract
Description
2 アノード電極
3 一次電子ビーム
3a 広がった一次電子ビーム
4 第1集束レンズ
5 第1非点補正レンズ
6 絞り
7 第2集束レンズ
8 第2非点補正レンズ
9 走査偏向器
10 対物レンズ
11 試料
12a、12b、12c、12d 放出された電子
13 変換電極
14 変換電極で発生した電子
15、28 シンチレータ
16、29 光電子増倍管
17 加速電極
18 電子集束レンズ
19、25 補助偏向器
20 モノクロメータ
21 磁場発生器
22a 第1電場発生器
22b 第2電場発生器
23 エネルギー選択絞り
24 対称面
26 エネルギー感応アナライザー
27 制限絞り
30 電子顕微鏡制御装置
31 光学系制御装置
32 モノクロメータ制御装置
Claims (8)
- 電子源と、当該電子源から放出された電子ビームをモノクロ化するモノクロメータを備えた走査電子顕微鏡において、
前記モノクロメータは、前記電子ビームを偏向する磁場発生器と、当該磁場発生器により偏向された電子ビームの一部を通過させるエネルギー選択絞りを備え、
当該モノクロメータを通過した電子ビームが試料に照射されたときに、試料から放出される電子が、前記磁場発生器が発生する磁場によって偏向される軌道上に、前記試料から放出された電子の一部を通過させる第1の絞りと、当該第1の絞りを通過した電子を検出する第1の検出器を配置することを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項1において、
前記磁場発生器と第1の絞りとの間に、当該磁場発生器を通過した電子を偏向する偏向器を配置したことを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項1において、
前記磁場発生器と、前記試料との間に、前記試料から放出される電子の内、前記電子ビームの光軸を中心として、所定の放射角度より広い角度範囲の電子の通過を制限する第2の絞りを備えたことを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項3において、
前記第2の絞りは、前記試料から放出される電子の衝突によって電子を発生する変換電極であって、当該変換電極から放出される電子を検出する第2の検出器を備えたことを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項3において、
前記第2の絞りは第2の検出器であることを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項3において、
前記第2の絞りに衝突した電子、或いは前記第2の絞りに衝突することによって発生する電子を検出する第2の検出器と、前記第1の検出器の出力と前記第2の検出器の出力を合成する演算器を備えたことを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項1において、
前記絞りを通過した電子のエネルギーを分析するエネルギー感応アナライザーを設けたことを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項1において、
前記試料から放出される電子が、前記磁場発生器が発生する磁場によって偏向される軌道上に、前記試料から放出された電子の一部を通過させる複数の絞りと、当該絞りを通過した電子を検出する複数の検出器を備えたことを特徴とする走査電子顕微鏡。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE112013000704.5T DE112013000704T5 (de) | 2012-02-28 | 2013-02-15 | Rasterelektronenmikroskop |
US14/379,733 US9305745B2 (en) | 2012-02-28 | 2013-02-15 | Scanning electron microscope |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012040863A JP5948083B2 (ja) | 2012-02-28 | 2012-02-28 | 走査電子顕微鏡 |
JP2012-040863 | 2012-02-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2013129125A1 true WO2013129125A1 (ja) | 2013-09-06 |
Family
ID=49082327
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2013/053608 WO2013129125A1 (ja) | 2012-02-28 | 2013-02-15 | 走査電子顕微鏡 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9305745B2 (ja) |
JP (1) | JP5948083B2 (ja) |
DE (1) | DE112013000704T5 (ja) |
WO (1) | WO2013129125A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2012
- 2012-02-28 JP JP2012040863A patent/JP5948083B2/ja active Active
-
2013
- 2013-02-15 DE DE112013000704.5T patent/DE112013000704T5/de active Pending
- 2013-02-15 US US14/379,733 patent/US9305745B2/en active Active
- 2013-02-15 WO PCT/JP2013/053608 patent/WO2013129125A1/ja active Application Filing
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Ref document number: 13754158 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
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