WO2013054605A1 - 光学体、窓材、建具および日射遮蔽装置 - Google Patents

光学体、窓材、建具および日射遮蔽装置 Download PDF

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勉 長浜
鈴木　真樹
寛則 吉田
榎本　正
透 谷田部
正光 影山
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デクセリアルズ株式会社
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    • E06B—FIXED OR MOVABLE CLOSURES FOR OPENINGS IN BUILDINGS, VEHICLES, FENCES OR LIKE ENCLOSURES IN GENERAL, e.g. DOORS, WINDOWS, BLINDS, GATES
    • E06B9/00—Screening or protective devices for wall or similar openings, with or without operating or securing mechanisms; Closures of similar construction
    • E06B9/24—Screens or other constructions affording protection against light, especially against sunshine; Similar screens for privacy or appearance; Slat blinds
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    • E06B9/00—Screening or protective devices for wall or similar openings, with or without operating or securing mechanisms; Closures of similar construction
    • E06B9/24—Screens or other constructions affording protection against light, especially against sunshine; Similar screens for privacy or appearance; Slat blinds
    • E06B2009/2417—Light path control; means to control reflection

Definitions

  • the present invention relates to an optical body, window material, joinery, and solar shading device that can suppress color change.
  • the transmittance of the window in the latter wavelength region is irrelevant to human visibility, and is therefore an important factor that affects the performance as a highly transparent and highly heat-shielding window.
  • a method for shielding near infrared rays while maintaining transparency in the visible region there is a method in which an optical body having a high reflectance in the near infrared region is provided on the window glass.
  • a technique using an optical multilayer film as a reflective layer is disclosed (for example, see Patent Document 1).
  • a reflective layer is provided on a planar film or window glass, it can only regularly reflect incident sunlight.
  • an object of the present invention is to provide an optical body, a window member, a fitting, and a solar radiation shielding device that can suppress a change in color tone due to a change in incident angle.
  • the first invention A first optical layer having an uneven surface; A wavelength selective reflection layer formed on the uneven surface; A second optical layer formed on the wavelength selective reflection layer,
  • the wavelength selective reflection layer has a five-layer configuration in which high refractive index layers and metal layers are alternately stacked,
  • the ratio ⁇ ( d b / d a ) of the optical thickness d b of the entire metal layer to the optical thickness d a of the entire high refractive index layer, and any of the first optical layer side and the second optical layer side
  • the geometric thickness L of the entire wavelength selective reflection layer is 90 nm
  • the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are optical bodies that are included in a region surrounded by the circumferential surface S formed by a group of minute regions ⁇ Si.
  • ⁇ ⁇ 0.0004 ⁇ 2 + 0.0053 ⁇ + 0.0065
  • ⁇ ⁇ 1 ⁇ 10 ⁇ 5 ⁇ 2 + 0.0007 ⁇ + 0.0066
  • ⁇ ⁇ 1 ⁇ 10 ⁇ 5 ⁇ 2 + 0.0005 ⁇ + 0.0119
  • ⁇ 0.012114 (4)
  • ⁇ ⁇ 0.0002 ⁇ 2 + 0.0039 ⁇ + 0.0087 (5)
  • ⁇ ⁇ 3 ⁇ 10 ⁇ 5 ⁇ 2 + 0.0014 ⁇ + 0.0038 (6)
  • ⁇ ⁇ 2 ⁇ 10 ⁇ 5 ⁇ 2 + 0.0006 ⁇ + 0.0112 (7)
  • ⁇ 0.010589
  • the second invention is A first optical layer having an uneven surface; A wavelength selective reflection layer formed on the uneven surface; A second optical layer formed on the wavelength selective reflection layer, The wavelength selective reflection layer has
  • the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are optical bodies that are included in a region surrounded by the circumferential surface S formed by a group of minute regions ⁇ Si.
  • ⁇ ⁇ 0.0002 ⁇ 2 + 0.0039 ⁇ + 0.0087 (5)
  • ⁇ ⁇ 3 ⁇ 10 ⁇ 5 ⁇ 2 + 0.0014 ⁇ + 0.0038 (6)
  • ⁇ ⁇ 2 ⁇ 10 ⁇ 5 ⁇ 2 + 0.0006 ⁇ + 0.0112 (7)
  • ⁇ 0.010589 (8)
  • ⁇ ⁇ 0.0002 ⁇ 2 + 0.0055 ⁇ + 0.0057 (9)
  • ⁇ ⁇ 0.0002 ⁇ 2 + 0.0045 ⁇ 0.0067 (10)
  • ⁇ ⁇ 4 ⁇ 10 ⁇ 5 ⁇ 2 + 0.001 ⁇ + 0.0099 (11)
  • ⁇ 0.009403 (12)
  • the third invention is A first optical layer having an uneven surface; A wavelength selective reflection layer formed on the uneven surface; A second optical layer formed on the wavelength selective reflection layer, The wavelength selective reflection layer has a five-layer
  • the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are optical bodies that are included in a region surrounded by the circumferential surface S formed by a group of minute regions ⁇ Si.
  • ⁇ ⁇ 0.0002 ⁇ 2 + 0.0055 ⁇ + 0.0057 (9)
  • ⁇ ⁇ 0.0002 ⁇ 2 + 0.0045 ⁇ 0.0067 (10)
  • ⁇ ⁇ 4 ⁇ 10 ⁇ 5 ⁇ 2 + 0.001 ⁇ + 0.0099 (11)
  • ⁇ 0.009403
  • ⁇ ⁇ 0.0003 ⁇ 2 + 0.0074 ⁇ + 0.0033 (13)
  • ⁇ ⁇ 0.0014 ⁇ 2 + 0.0191 ⁇ 0.0422 (14)
  • ⁇ ⁇ 9 ⁇ 10 ⁇ 5 ⁇ 2 + 0.0015 ⁇ + 0.0084
  • ⁇ 0.007709
  • the fourth invention is: A first optical layer having an uneven surface; A wavelength selective reflection layer formed on the uneven surface; A second optical layer formed on the wavelength selective reflection layer, The wavelength selective reflection layer has a five-layer configuration in which high refr
  • the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are optical bodies that are included in a region surrounded by the circumferential surface S formed by a group of minute regions ⁇ Si.
  • ⁇ ⁇ 0.0003 ⁇ 2 + 0.0074 ⁇ + 0.0033 (13)
  • ⁇ ⁇ 0.0014 ⁇ 2 + 0.0191 ⁇ 0.0422 (14)
  • ⁇ ⁇ 9 ⁇ 10 ⁇ 5 ⁇ 2 + 0.0015 ⁇ + 0.0084 (15)
  • ⁇ 0.007709
  • ⁇ ⁇ 0.0014 ⁇ 2 + 0.0136 ⁇ 0.0027 (17)
  • ⁇ 10132 ⁇ 2 ⁇ 241.39 ⁇ + 4.747 (18)
  • ⁇ ⁇ 0.0001 ⁇ 2 + 0.002 ⁇ + 0.0074 (19)
  • ⁇ 0.005523 (20)
  • the fifth invention is: A first optical layer having an uneven surface; A wavelength selective reflection layer formed on the uneven surface; A second optical layer formed on the wavelength selective reflection layer, The wavelength selective reflection layer has a five-layer configuration in which high refractive index layers and metal layers are
  • the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are optical bodies that are included in a region surrounded by the circumferential surface S formed by a group of minute regions ⁇ Si.
  • ⁇ ⁇ 0.0014 ⁇ 2 + 0.0136 ⁇ 0.0027 (17)
  • ⁇ 10132 ⁇ 2 ⁇ 241.39 ⁇ + 4.747 (18)
  • ⁇ ⁇ 0.0001 ⁇ 2 + 0.002 ⁇ + 0.0074 (19)
  • ⁇ 0.005523 (20)
  • ⁇ ⁇ 0.005 ⁇ 2 + 0.0273 ⁇ 0.0145 (21)
  • ⁇ 0.0043 ⁇ 2 ⁇ 0.0332 ⁇ + 0.07 (22)
  • ⁇ 2.875 (23)
  • ⁇ ⁇ 0.0001 ⁇ 2 + 0.0025 ⁇ + 0.0062 (24)
  • ⁇ 0.005676 (25)
  • the sixth invention is: A first optical layer having an uneven surface; A wavelength selective reflection layer formed on the uneven surface; A second optical layer formed on the wavelength selective reflection layer, The wavelength selective reflection layer has a five-layer configuration in which high refractive index layers and metal layers are
  • the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are optical bodies that are included in a region surrounded by the circumferential surface S formed by a group of minute regions ⁇ Si.
  • ⁇ ⁇ 0.005 ⁇ 2 + 0.0273 ⁇ 0.0145 (21)
  • ⁇ 0.0043 ⁇ 2 ⁇ 0.0332 ⁇ + 0.07 (22)
  • ⁇ 2.875
  • ⁇ ⁇ 0.0001 ⁇ 2 + 0.0025 ⁇ + 0.0062
  • ⁇ 0.005676
  • ⁇ 0.0093 ⁇ 2 ⁇ 0.0677 ⁇ + 0.1212
  • ⁇ ⁇ 0.0003 ⁇ 2 + 0.0036 ⁇ + 0.0046
  • ⁇ 0.00498 (29)
  • the change in color tone is suppressed by setting the film thickness of each layer in the wavelength selective reflection layer so that the ratio ⁇ and ratio ⁇ are included in the predetermined region.
  • FIG. 1A is a cross-sectional view showing a configuration example of an optical film according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 1B is a cross-sectional view showing an example in which the optical film according to the first embodiment of the present invention is bonded to an adherend.
  • FIG. 2 is a perspective view showing a relationship between incident light incident on the optical film and reflected light reflected by the optical film.
  • 3A to 3C are perspective views showing examples of the shape of the structure formed in the first optical layer.
  • FIG. 4A is a perspective view showing an example of the shape of the structure formed in the first optical layer.
  • FIG. 4B is a cross-sectional view showing a configuration example of an optical film including a first optical layer in which the structure shown in FIG. 4A is formed.
  • FIG. 5 is a schematic diagram illustrating an example of a layer configuration of the wavelength selective reflection layer.
  • FIG. 6A is a schematic diagram illustrating an example of a wavelength selective reflection layer in which the third and fifth high refractive index layers are separated into two layers.
  • FIG. 6B is a schematic diagram illustrating an example of a wavelength selective reflection layer in which a third high refractive index layer is separated into three layers and a fifth high refractive index layer is separated into two layers.
  • FIG. 6C is a schematic diagram illustrating an example of a wavelength selective reflection layer in which the third high refractive index layer is separated into two layers and the fifth high refractive index layer is separated into three layers.
  • FIG. 6A is a schematic diagram illustrating an example of a wavelength selective reflection layer in which the third and fifth high refractive index layers are separated into two layers.
  • FIG. 6B is a schematic diagram illustrating an example of a wavelength selective reflection layer in which a third high refractive index layer is separated into three layers and a fifth high ref
  • FIG. 6D is a schematic diagram illustrating an example of a wavelength selective reflection layer in which the first, third, and fifth high refractive index layers are separated into two layers.
  • FIG. 6E is a schematic diagram illustrating an example of a wavelength selective reflection layer in which the first and fifth high refractive index layers are separated into two layers, and the third high refractive index layer is separated into three layers.
  • FIG. 6F is a schematic diagram illustrating an example of a wavelength selective reflection layer in which the first high refractive index layer is separated into two layers and the third and fifth high refractive index layers are separated into three layers.
  • 7A and 7B are cross-sectional views for explaining an example of the function of the optical film.
  • FIG. 8A and 8B are cross-sectional views for explaining an example of the function of the optical film.
  • FIG. 9A is a cross-sectional view for explaining an example of the function of the optical film.
  • FIG. 9B is a plan view for explaining an example of the function of the optical film.
  • FIG. 10 is a schematic diagram illustrating a configuration example of a manufacturing apparatus for manufacturing the optical film according to the first embodiment of the present invention.
  • 11A to 11C are process diagrams for explaining an example of a method for producing an optical film according to the first embodiment of the present invention.
  • 12A to 12C are process diagrams for explaining an example of a method for producing an optical film according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 13A to 13C are process diagrams for explaining an example of a method for producing an optical film according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 14 is a diagram for explaining the film thickness of the reflective layer.
  • FIG. 15 is a flowchart illustrating an example of a process flow for determining a film thickness that satisfies the conditions of each parameter.
  • FIG. 16A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram showing the distribution of visible light transmittance with respect to ratio ⁇ and ratio ⁇ .
  • FIG. 16B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram showing the distribution of the shielding coefficient with respect to the ratio ⁇ and the ratio ⁇ .
  • FIG. 16C is an ⁇ - ⁇ correlation diagram showing the distribution of the blueness index with respect to the ratio ⁇ and the ratio ⁇ .
  • FIG. 16D is an ⁇ - ⁇ correlation diagram showing the distribution of redness index with respect to ratio ⁇ and ratio ⁇ .
  • FIG. 16E is a diagram illustrating a state where the ⁇ - ⁇ correlation diagrams illustrated in FIGS. 16A to 16D are overlaid.
  • FIG. 17A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram using visible light transmittance, blueness index, and redness index as parameters when the total film thickness L is 80 nm.
  • FIG. 17B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram using the visible light transmittance, the blueness index, and the redness index as parameters when the total film thickness L is 90 nm.
  • FIG. 17A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram using visible light transmittance, blueness index, and the redness index as parameters when the total film thickness L is 90 nm.
  • FIG. 18A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram using the visible light transmittance, the blueness index, and the redness index as parameters when the total film thickness L is 100 nm.
  • FIG. 18B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram using the visible light transmittance, the blueness index, and the redness index as parameters when the total film thickness L is 120 nm.
  • FIG. 19A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram using the visible light transmittance, the blueness index, and the redness index as parameters when the total film thickness L is 140 nm.
  • FIG. 19B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram using the visible light transmittance, the blueness index, and the redness index as parameters when the total film thickness L is 160 nm.
  • FIG. 19A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram using the visible light transmittance, the blueness index, and the redness index as parameters when the total film thickness L is 100 nm.
  • FIG. 18B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram using the visible light transmittance, the blueness index
  • FIG. 20 is an ⁇ - ⁇ correlation diagram using the visible light transmittance, the blueness index, and the redness index as parameters when the total film thickness L is 180 nm.
  • FIG. 21A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram using visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient as parameters when the total film thickness L is 80 nm.
  • FIG. 21B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram using visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient as parameters when the total film thickness L is 90 nm.
  • FIG. 22A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram using visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient as parameters when the total film thickness L is 100 nm.
  • FIG. 21A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram using visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient as parameters when the total film thickness L is 100 nm.
  • FIG. 22B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram using the visible light transmittance, the blueness index, the redness index, and the shielding coefficient as parameters when the total film thickness L is 120 nm.
  • FIG. 23A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram using visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient as parameters when the total film thickness L is 140 nm.
  • FIG. 23B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram using the visible light transmittance, the blueness index, the redness index, and the shielding coefficient as parameters when the total film thickness L is 160 nm.
  • FIG. 24 is an ⁇ - ⁇ correlation diagram using the visible light transmittance, the blueness index, the redness index, and the shielding coefficient as parameters when the total film thickness L is 180 nm.
  • FIG. 25 is a schematic diagram in which regions satisfying the conditions of each parameter are mapped on a three-dimensional plane when the visible light transmittance, the blueness index, and the redness index are used as parameters.
  • FIG. 29 is a schematic diagram in which regions satisfying the conditions of each parameter are mapped on a three-dimensional plane when the visible light transmittance, the blueness index, the redness index, and the shielding coefficient are used as parameters.
  • FIG. 28B is a schematic diagram
  • FIG. 33A is a schematic diagram in which regions satisfying the conditions of each parameter are mapped on the same plane when the visible light transmittance, the blueness index, and the redness index are used as parameters.
  • FIG. 33B is a schematic diagram in which regions satisfying the conditions of the respective parameters are mapped on the same plane when the visible light transmittance, the blueness index, the redness index, and the shielding coefficient are used as parameters.
  • FIG. 33A is a schematic diagram in which regions satisfying the conditions of each parameter are mapped on the same plane when the visible light transmittance, the blueness index, the redness index, and the shielding coefficient are used as parameters.
  • FIG. 34A is a cross-sectional view showing a first modification of the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 34B is a cross-sectional view showing a second modification of the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 35 is a schematic diagram illustrating a method for deriving an approximate line from an approximate curve.
  • FIG. 36A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, and redness index when the total film thickness L is 80 nm.
  • FIG. 36B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, and redness index when the total film thickness L is 90 nm.
  • FIG. 37A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, and redness index when the total film thickness L is 100 nm.
  • FIG. 37B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, and redness index when the total film thickness L is 120 nm.
  • FIG. 38A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, and redness index when the total film thickness L is 140 nm.
  • FIG. 38B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, and redness index when the total film thickness L is 160 nm.
  • FIG. 38A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, and redness index when the total film thickness L is 100 nm.
  • FIG. 37B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance,
  • FIG. 39 is a schematic diagram in which regions satisfying the conditions of each parameter are mapped on a three-dimensional plane when the visible light transmittance, the blueness index, and the redness index are used as parameters.
  • FIG. 40A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient when the total film thickness L is 80 nm.
  • FIG. 40B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on conditions of visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient when the total film thickness L is 90 nm.
  • FIG. 41A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient when the total film thickness L is 100 nm.
  • FIG. 41B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on conditions of visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient when the total film thickness L is 120 nm.
  • FIG. 42A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on conditions of visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient when the total film thickness L is 140 nm.
  • FIG. 42B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on conditions of visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient when the total film thickness L is 160 nm.
  • FIG. 41B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on conditions of visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient when the total film thickness L is 120 nm.
  • FIG. 42A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on conditions of visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient when the total film thickness L is 140 nm.
  • FIG. 42B is an ⁇ -
  • FIG. 43 is a schematic diagram in which regions satisfying the conditions of each parameter are mapped on a three-dimensional plane when the visible light transmittance, the blueness index, the redness index, and the shielding coefficient are used as parameters.
  • FIG. 44A is a perspective view showing a first configuration example of the first optical layer in the optical film according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 44B is a perspective view showing a second configuration example of the first optical layer in the optical film according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 44C is a perspective view showing a third configuration example of the first optical layer in the optical film according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 45A is a plan view showing a third configuration example of the first optical layer in the optical film according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 45B is a cross-sectional view taken along line BB of the first optical layer shown in FIG. 45A.
  • FIG. 45C is a cross-sectional view taken along line CC of the first optical layer shown in FIG. 45A.
  • FIG. 46A is a plan view showing a fourth configuration example of the first optical layer in the optical film according to the third embodiment of the present invention.
  • 46B is a cross-sectional view of the first optical layer shown in FIG. 46A taken along line BB.
  • FIG. 46C is a cross-sectional view taken along the line CC of the first optical layer shown in FIG. 46A.
  • FIG. 47A is a plan view showing a fifth configuration example of the first optical layer in the optical film in accordance with the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 47B is a cross-sectional view of the first optical layer shown in FIG. 47A taken along line BB.
  • FIG. 48A is a cross-sectional view showing a configuration example of an optical film according to the fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 48B is a perspective view showing a configuration example of the first optical layer provided in the optical film according to the fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 49A is a cross-sectional view showing a first configuration example of an optical film according to the fifth embodiment of the present invention.
  • FIG. 49B is a cross-sectional view showing a second configuration example of the optical film according to the fifth embodiment of the present invention.
  • FIG. 49C is a cross-sectional view showing a third configuration example of the optical film according to the fifth embodiment of the present invention.
  • FIG. 48A is a cross-sectional view showing a configuration example of an optical film according to the fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 48B is a perspective view showing a configuration example of the first optical layer
  • FIG. 50A is a cross-sectional view showing a configuration example of an optical film according to the sixth embodiment of the present invention.
  • FIG. 50B is a cross-sectional view showing an example in which an optical film according to a sixth embodiment of the present invention is bonded to an adherend.
  • FIG. 51 is a cross-sectional view showing a structural example of an optical film according to the seventh embodiment of the present invention.
  • FIG. 52 is a perspective view illustrating a configuration example of the blind device according to the eighth embodiment.
  • FIG. 53A is a cross-sectional view showing a first configuration example of a slat.
  • FIG. 53B is a cross-sectional view showing a second configuration example of the slat.
  • FIG. 54A is a perspective view showing a configuration example of a roll screen device according to the ninth embodiment.
  • FIG. 54B is a cross-sectional view showing one configuration example of the screen.
  • FIG. 55A is a perspective view showing a configuration example of a shoji screen according to the tenth embodiment.
  • FIG. 55B is a cross-sectional view showing a configuration example of a shoji paper.
  • First embodiment (example in which structures are arranged one-dimensionally) 2.
  • Second Embodiment (Example in which a region is defined by an approximate straight line) 3.
  • Third embodiment (example of two-dimensional arrangement of structures) 4).
  • Fourth Embodiment (Example of louver-type reflective layer) 5.
  • Fifth embodiment (example in which a light scatterer is provided on an optical film) 6).
  • Sixth embodiment (example in which a reflective layer is exposed) 7).
  • Seventh embodiment (example with a self-cleaning effect layer) 8).
  • Eighth embodiment (example in which an optical film is applied to a blind device) 9.
  • FIG. 1A is a cross-sectional view showing a configuration example of an optical film according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 1B is a cross-sectional view showing an example in which the optical film according to the first embodiment of the present invention is bonded to an adherend.
  • the optical film 1 as an optical body is an optical film having so-called directional reflection performance. As shown in FIG.
  • the optical film 1 includes an optical layer 2 having a concavo-convex shaped interface therein, and a reflective layer 3 provided at the interface of the optical layer 2.
  • the optical layer 2 includes a first optical layer 4 having a concavo-convex first surface and a second optical layer 5 having a concavo-convex second surface.
  • the interface inside the optical layer is formed by a first surface and a second surface having a concave and convex shape that are arranged to face each other.
  • the optical film fills the first optical layer 4 having an uneven surface, the reflective layer 3 formed on the uneven surface of the first optical layer, and the uneven surface on which the reflective layer 3 is formed.
  • the second optical layer 5 formed on the reflective layer 3 is provided.
  • the optical film 1 has an incident surface S1 on which light such as sunlight is incident and an output surface S2 from which light transmitted through the optical film 1 is emitted out of the light incident from the incident surface S1.
  • the optical film 1 is suitable for application to inner wall members, outer wall members, window materials, wall materials, and the like.
  • the optical film 1 is also suitable for use as a slat (sunlight shielding member) for a blind device and a screen (sunlight shielding member) for a roll screen device.
  • the optical film 1 is also suitable for use as an optical body provided in a daylighting part of a fitting such as a shoji (interior member or exterior member).
  • the optical film 1 may further include a first substrate 4a on the emission surface S2 of the optical layer 2 as necessary.
  • the optical film 1 may further include a second base material 5a on the incident surface S1 of the optical layer 2 as necessary.
  • the 1st base material 4a and / or the 2nd base material 5a are optical films. In the state prepared for 1, it is preferable to satisfy the following optical properties such as transparency and transmitted color.
  • the optical film 1 may further include a bonding layer 6 as necessary. This bonding layer 6 is formed on the surface bonded to the window member 10 among the incident surface S1 and the emission surface S2 of the optical film 1. The optical film 1 is bonded to the indoor side or the outdoor side of the window material 10 that is an adherend through the bonding layer 6.
  • an adhesive layer containing an adhesive as a main component for example, a UV curable resin, a two-component mixed resin
  • an adhesive layer containing an adhesive as a main component for example, a pressure-sensitive adhesive material.
  • PSA Pressure Sensitive Adhesive
  • the bonding layer 6 is an adhesive layer, it is preferable to further include a release layer 7 formed on the bonding layer 6. This is because the optical film 1 can be easily bonded to an adherend such as the window material 10 through the bonding layer 6 simply by peeling off the peeling layer 7 with such a configuration. .
  • the optical film 1 improves the bonding properties of the second substrate 5a, the bonding layer 6 and / or the second optical layer 5, the second substrate 5a, the bonding layer 6 and / or A primer layer (not shown) may be further provided between the second optical layer 5 and the second optical layer 5.
  • a primer layer (not shown) may be further provided between the second optical layer 5 and the second optical layer 5.
  • Known physical pretreatments include, for example, plasma treatment and corona treatment.
  • the optical film 1 further includes a barrier layer (not shown) on the entrance surface S1 or the exit surface S2 bonded to the adherend such as the window material 10 or between the surface and the reflective layer 3. May be.
  • the optical film 1 may further include a hard coat layer 8 from the viewpoint of imparting scratch resistance to the surface.
  • the hard coat layer 8 is preferably formed on the opposite surface of the incident surface S1 and the emission surface S2 of the optical film 1 from the surface to be bonded to the adherend such as the window material 10. From the viewpoint of imparting antifouling property to the incident surface S1 of the optical film 1, a layer having water repellency or hydrophilicity may be further provided.
  • the layer having such a function may be directly provided on the optical layer 2 or may be provided on various functional layers such as the hard coat layer 8.
  • the optical film 1 preferably has flexibility from the viewpoint of allowing the optical film 1 to be easily bonded to an adherend such as the window material 10.
  • the film includes a sheet. That is, the optical film 1 includes an optical sheet.
  • the optical film 1 has transparency. As transparency, it is preferable that it has the range of the transmitted image clarity mentioned later.
  • the refractive index difference between the first optical layer 4 and the second optical layer 5 is preferably 0.010 or less, more preferably 0.008 or less, and still more preferably 0.005 or less. If the refractive index difference exceeds 0.010, the transmitted image tends to appear blurred.
  • the optical layer to be bonded to the window material 10 or the like may contain an adhesive as a main component. By setting it as such a structure, the optical film 1 can be bonded together to the window material 10 etc.
  • the refractive index difference of an adhesive is in the said range.
  • the first optical layer 4 and the second optical layer 5 have the same optical characteristics such as refractive index. More specifically, the first optical layer 4 and the second optical layer 5 are preferably made of the same material having transparency in the visible region, for example, the same resin material. By configuring the first optical layer 4 and the second optical layer 5 with the same material, the refractive indexes of both are equal, and thus the transparency of visible light can be improved.
  • the refractive index of the finally generated layer may differ depending on the curing conditions in the film forming process.
  • the first optical layer 4 and the second optical layer 5 are made of different materials, so that the light is refracted around the reflective layer 3 and the transmitted image tends to blur. There is.
  • an additive may be mixed in the first optical layer 4 and / or the second optical layer 5 in order to adjust the value of the refractive index.
  • the first optical layer 4 and the second optical layer 5 have transparency in the visible region.
  • the definition of transparency has two kinds of meanings: no light absorption and no light scattering.
  • the optical film 1 according to the first embodiment preferably includes both.
  • the retroreflectors currently used are intended for visually recognizing display reflected light such as road signs and clothes for night workers, so even if they have scattering properties, they are in close contact with the underlying reflector. If so, the reflected light can be visually recognized.
  • the optical film 1 according to the first embodiment is characterized in that it transmits light other than the specific wavelength that is directionally reflected.
  • the optical film 1 is bonded to a transmission body that mainly transmits the transmission wavelength. In order to observe the transmitted light, it is preferable that there is no light scattering.
  • the second optical layer 5 can be intentionally provided with scattering properties.
  • the optical film 1 is preferably used by being bonded to a rigid body that is mainly transmissive to light having a wavelength other than the specified wavelength, for example, a window material 10 via an adhesive or the like.
  • the window material 10 include window materials for buildings such as high-rise buildings and houses, and window materials for vehicles.
  • the optical film 1 is applied to a building window material, it is particularly preferable to apply the optical film 1 to the window material 10 disposed in any direction between east and south to west (for example, southeast to southwest). . It is because a heat ray can be reflected more effectively by applying to the window material 10 in such a position.
  • the optical film 1 can be used not only for a single-layer window glass but also for a special glass such as a multi-layer glass.
  • the window material 10 is not limited to what consists of glass, You may use what consists of a polymeric material which has transparency. It is preferable that the optical layer 2 has transparency in the visible region. This is because when the optical film 1 is bonded to the window material 10 such as a window glass, visible light can be transmitted and sunlight can be secured by having transparency in this way. Moreover, as a bonding surface, it can be used not only on the inner surface of the glass but also on the outer surface.
  • the optical film 1 can be used in combination with other heat ray cut films. For example, a light-absorbing coating film can be provided on the interface between air and the optical film 1 (that is, the outermost surface of the optical film 1).
  • the optical film 1 can be used in combination with a hard coat layer, an ultraviolet cut layer, a surface antireflection layer, or the like.
  • these functional layers are used in combination, it is preferable to provide these functional layers at the interface between the optical film 1 and air.
  • position about an ultraviolet cut layer on the solar side rather than the optical film 1 when using it for an internal application especially to the indoor window glass surface, between this window glass surface and the optical film 1 is used.
  • an ultraviolet cut layer In this case, an ultraviolet absorber may be kneaded in the bonding layer between the window glass surface and the optical film 1.
  • FIG. 2 is a perspective view showing a relationship between incident light incident on the optical film 1 and reflected light reflected by the optical film 1.
  • the optical film 1 has an incident surface S1 on which the light L is incident.
  • the optical film 1 includes light L in a specific wavelength band out of light L incident on the incident surface S1 at an incident angle ( ⁇ , ⁇ ). 1 Is selectively reflected in a direction other than regular reflection ( ⁇ , ⁇ + 180 °), whereas light L outside the specific wavelength band 2 Is preferably transmitted.
  • the optical film 1 has transparency with respect to light other than the specific wavelength band. As transparency, it is preferable that it has the range of the transmitted image clarity mentioned later.
  • ⁇ perpendicular to the incident surface S1 1 And incident light L or reflected light L 1 Is the angle between ⁇ : specific straight line l in the incident surface S1 2 And incident light L or reflected light L 1 Is an angle formed by a component projected onto the incident surface S1.
  • a specific straight line l in the incident plane 2 Means that the incident angle ( ⁇ , ⁇ ) is fixed and the perpendicular l to the incident surface S1 of the optical film 1 1 When the optical film 1 is rotated around the axis, the reflection intensity in the ⁇ direction is maximized (see FIGS.
  • the light in a specific wavelength band that is selectively directionally reflected is near-infrared light
  • the light in the specific wavelength band that is transmitted is visible light.
  • it is preferable that light in a specific wavelength band that is selectively directionally reflected is mainly near-infrared light having a wavelength band of 780 nm to 2100 nm.
  • the directional reflection means that the reflection has a reflection in a specific direction other than the regular reflection and is sufficiently stronger than the diffuse reflection intensity having no directivity.
  • “reflecting” means that the reflectance in a specific wavelength band, for example, near infrared region is preferably 30% or more, more preferably 50% or more, and further preferably 80% or more.
  • Transmitting means that the transmittance in a specific wavelength band, for example, in the visible light region is preferably 30% or more, more preferably 50% or more, and further preferably 70% or more.
  • the direction ⁇ o for directional reflection is preferably ⁇ 90 ° or more and 90 ° or less.
  • the optical film 1 when the optical film 1 is pasted on the window member 10, the light in the specific wavelength band among the light incident from the sky can be returned to the sky direction.
  • the direction of directional reflection is preferably in the vicinity of ( ⁇ , ⁇ ).
  • the vicinity means a deviation within a range of preferably within 5 degrees from ( ⁇ , ⁇ ), more preferably within 3 degrees, and even more preferably within 2 degrees.
  • a three-dimensional structure such as a spherical surface, a part of a hyperboloid, a triangular pyramid, a quadrangular pyramid, or a cone.
  • the light incident from the ( ⁇ , ⁇ ) direction ( ⁇ 90 ° ⁇ ⁇ 90 °) is based on the shape ( ⁇ o, ⁇ o) direction (0 ° ⁇ o ⁇ 90 °, ⁇ 90 ° ⁇ o ⁇ 90 °).
  • a columnar body extending in one direction is preferable.
  • the directional reflection of the light of the specific wavelength body is in the direction near the retroreflection, that is, the reflection direction of the light of the specific wavelength body with respect to the light incident on the incident surface S1 at the incident angle ( ⁇ , ⁇ ). It is preferably in the vicinity of ⁇ , ⁇ ). This is because, when the optical film 1 is attached to the window member 10, light in a specific wavelength band can be returned to the sky among the light incident from the sky.
  • the vicinity is preferably within 5 degrees, more preferably within 3 degrees, and further preferably within 2 degrees. This is because, when the optical film 1 is pasted on the window member 10 within this range, light in a specific wavelength band among the light incident from the sky can be efficiently returned to the sky.
  • the infrared light irradiation part and the light receiving part are adjacent to each other as in an infrared sensor or infrared imaging, the retroreflection direction must be equal to the incident direction, but sensing from a specific direction as in the present invention. If it is not necessary to do so, it is not necessary to have the exact same direction.
  • the value when the optical comb of 0.5 mm is used is preferably 50 or more, more preferably 60 or more, and still more preferably 75 or more, with respect to the transmitted image clarity for a wavelength band having transparency. .
  • the transmitted image definition is less than 50, the transmitted image tends to appear blurred. If it is 50 or more and less than 60, it depends on the brightness of the outside, but there is no problem in daily life. If it is 60 or more and less than 75, only the very bright object such as a light source is concerned about the diffraction pattern, but the outside scenery can be clearly seen. If it is 75 or more, the diffraction pattern is hardly a concern.
  • the total value of transmitted image sharpness values measured using optical combs of 0.125 mm, 0.5 mm, 1.0 mm, and 2.0 mm is preferably 230 or more, more preferably 270 or more, and even more preferably 350. That's it.
  • the total value of the transmitted image definition is less than 230, the transmitted image tends to appear blurred. If it is 230 or more and less than 270, it depends on the external brightness, but there is no problem in daily life. If it is 270 or more and less than 350, the diffraction pattern is worrisome only for a very bright object such as a light source, but the outside scenery can be clearly seen. If it is 350 or more, the diffraction pattern is hardly a concern.
  • the value of transmitted image definition is measured according to JIS K7105 using ICM-1T manufactured by Suga Test Instruments.
  • the wavelength to be transmitted is different from the wavelength of the D65 light source, it is preferable to perform measurement after calibrating with a filter having a wavelength to be transmitted.
  • the haze with respect to the wavelength band having transparency is preferably 6% or less, more preferably 4% or less, and further preferably 2% or less. This is because if the haze exceeds 6%, the transmitted light is scattered and it looks cloudy.
  • haze is measured by a measuring method defined in JIS K7136 using HM-150 made by Murakami Color.
  • the incident surface S1, preferably the incident surface S1 and the exit surface S2 of the optical film 1 have smoothness that does not reduce the transmitted image definition.
  • the arithmetic average roughness Ra of the entrance surface S1 and the exit surface S2 is preferably 0.08 ⁇ m or less, more preferably 0.06 ⁇ m or less, and even more preferably 0.04 ⁇ m or less.
  • the arithmetic average roughness Ra is calculated as a roughness parameter by measuring the surface roughness of the incident surface, obtaining a roughness curve from a two-dimensional sectional curve.
  • Measurement conditions are based on JIS B0601: 2001. The measurement apparatus and measurement conditions are shown below.
  • the transmitted color of the optical film 1 is as close to neutral as possible, and a light color tone such as blue, blue-green, or green that gives a cool impression even if colored is preferable.
  • the chromaticity coordinates x and y of the transmitted light and the reflected light that are incident from the incident surface S1, transmitted through the optical layer 2 and the reflective layer 3, and emitted from the output surface S2 are, for example,
  • a D65 light source preferably 0.20 ⁇ x ⁇ 0.35 and 0.20 ⁇ y ⁇ 0.40, more preferably 0.25 ⁇ x ⁇ 0.32 and 0.25 ⁇ y. It is desirable to satisfy the range of ⁇ 0.37, more preferably 0.30 ⁇ x ⁇ 0.32 and 0.30 ⁇ y ⁇ 0.35.
  • the color tone not to be reddish, it is preferable that y> x ⁇ 0.02, more preferably y> x. Further, if the reflection color tone changes depending on the incident angle, for example, when applied to a building window, the color tone varies depending on the location or the color appears to change when walking, which is not preferable. From the viewpoint of suppressing such a change in color tone, the color coordinate x of the specularly reflected light incident from the incident surface S1 or the exit surface S2 at an incident angle ⁇ of 5 ° or more and 60 ° or less and reflected by the optical film 1 is obtained.
  • the absolute value of the difference and the absolute value of the difference of the color coordinate y are preferably 0.05 or less, more preferably 0.03 or less, and still more preferably 0.01 or less, on both the main surfaces of the optical film 1. It is. It is desirable that the limitation of the numerical range regarding the color coordinates x and y with respect to the reflected light is satisfied on both the incident surface S1 and the exit surface S2.
  • the 1st optical layer 4, the 2nd optical layer 5, and the reflection layer 3 which comprise the optical film 1 are demonstrated sequentially.
  • the first optical layer 4 is, for example, for supporting and protecting the reflective layer 3.
  • the 1st optical layer 4 consists of a layer which has resin as a main component from a viewpoint which provides the optical film 1 with flexibility, for example.
  • first optical layer 4 for example, one surface is a smooth surface and the other surface is an uneven surface (first surface).
  • the reflective layer 3 is formed on the uneven surface.
  • the second optical layer 5 is for protecting the reflective layer 3 by embedding the first surface (uneven surface) of the first optical layer 4 on which the reflective layer 3 is formed.
  • the 2nd optical layer 5 consists of a layer which has resin as a main component from a viewpoint which provides the optical film 1 with flexibility, for example.
  • one surface is a smooth surface and the other surface is an uneven surface (second surface).
  • the concavo-convex surface of the first optical layer 4 and the concavo-convex surface of the second optical layer 5 are in a relationship in which the unevenness is inverted.
  • the uneven surface of the first optical layer 4 is formed by, for example, a plurality of structures 4c arranged one-dimensionally.
  • the uneven surface of the second optical layer 5 is formed by, for example, a plurality of structures 5c arranged one-dimensionally (see FIGS. 3 and 4).
  • the structure 4c of the first optical layer 4 is different from the structure 5c of the second optical layer 5 only in that the unevenness is inverted. Therefore, the structure 4c of the first optical layer 4 will be described below. To do.
  • the pitch P of the structures 4c is preferably 5 ⁇ m or more and 5 mm or less, more preferably 5 ⁇ m or more and less than 250 ⁇ m, and further preferably 20 ⁇ m or more and 200 ⁇ m or less. If the pitch of the structures 4c is less than 5 ⁇ m, it is difficult to obtain the desired shape of the structures 4c, and the wavelength selection characteristics of the reflective layer 3 are generally difficult to be steep. A part of the transmission wavelength may be reflected. When such reflection occurs, diffraction occurs and even higher-order reflection is visually recognized, so that the transparency tends to be felt poorly.
  • the pitch of the structures 4c exceeds 5 mm, when considering the shape of the structures 4c necessary for directional reflection, the necessary film thickness is increased and flexibility is lost, and the structure 4c is bonded to a rigid body such as the window material 10. It becomes difficult. Further, by setting the pitch of the structures 4c to less than 250 ⁇ m, flexibility is further increased, roll-to-roll manufacturing is facilitated, and batch production is not required. In order to apply the optical film 1 of the present invention to a building material such as a window, a length of about several meters is required, and roll-to-roll production is more suitable than batch production. Further, when the pitch is 20 ⁇ m or more and 200 ⁇ m or less, the productivity is further improved.
  • the shape of the structure 4 c formed on the surface of the first optical layer 4 is not limited to one type, and a plurality of types of structures 4 c are formed on the surface of the first optical layer 4. You may do it.
  • a predetermined pattern composed of a plurality of types of structures 4c may be periodically repeated.
  • a plurality of types of structures 4c may be formed randomly (non-periodically).
  • 3A to 3C are perspective views showing examples of the shape of the structure formed in the first optical layer.
  • the structure 4c is a columnar recess extending in one direction, and the columnar structures 4c are arranged one-dimensionally in one direction.
  • the shape of the reflective layer 3 has the same shape as the surface shape of the structure 4c.
  • the shape of the structure 4c for example, the prism shape shown in FIG. 3A, the shape shown in FIG. 3B in which the ridge line portion of the prism is rounded, the inverted shape of the lenticular shape shown in FIG. 3C, or these inverted shapes are given. be able to.
  • the lenticular shape means that the cross-sectional shape perpendicular to the ridge line of the convex portion is an arc shape or a substantially arc shape, an elliptical arc shape or a substantially elliptical arc, or a part of a parabolic shape or a substantially parabolic shape. Therefore, a cylindrical shape is also included in the lenticular shape.
  • the ridge portion may have R, preferably the ratio R / P of the radius of curvature R and the pitch P of the structures 4c is 7% or less, more preferably 5% or less, Preferably it is 3% or less.
  • the shape of the structure 4c is not limited to the shape shown in FIGS.
  • the inverted shape thereof may be a toroidal shape, a hyperbolic column shape, an elliptical column shape, a polygonal column shape, or a free-form surface shape.
  • the apex of the prism shape and the lenticular shape may be a polygonal shape (for example, a pentagonal shape).
  • the inclination angle ⁇ of the prism-shaped structure 4c is, for example, 45 °.
  • the structure 4c preferably has a flat surface or a curved surface with an inclination angle of 45 ° or more from the viewpoint of reflecting a large amount of light incident from above and returning it to the sky.
  • the shape of the structure 4c is changed to a perpendicular l perpendicular to the incident surface S1 or the outgoing surface S2 of the optical film 1.
  • the shape may be asymmetric. In this case, the main axis l of the structure 4c m Is perpendicular l 1 Is inclined in the arrangement direction a of the structures 4c on the basis of.
  • the main axis l of the structure 4c m Means a straight line passing through the midpoint of the bottom of the cross section of the structure and the apex of the structure.
  • the prism-shaped structure 4c is a vertical line l. 1
  • An example of an asymmetric shape is shown.
  • the structure 4c other than the prism shape is perpendicular 1
  • the shape may be asymmetric.
  • a corner cube body is perpendicular l 1
  • the shape may be asymmetric.
  • the first optical layer 4 is mainly composed of a resin in which the storage elastic modulus at 100 ° C. is small and the storage elastic modulus at 25 ° C. and 100 ° C. is not significantly different. Specifically, the storage elastic modulus at 25 ° C. is 3 ⁇ 10.
  • the first optical layer 4 is preferably made of one type of resin, but may contain two or more types of resins. Moreover, the additive may be mixed as needed.
  • the main component is a resin in which the storage elastic modulus at 100 ° C. is small and the storage elastic modulus at 25 ° C. and 100 ° C. is not significantly different, a process involving heat or heat and pressurization is performed. Even when the uneven surface (first surface) of the first optical layer 4 is present after the formation, the designed interface shape can be substantially maintained. On the other hand, when the storage elastic modulus at 100 ° C.
  • the optical film 1 may be curled.
  • the process involving heat is not limited to a process in which heat is directly applied to the optical film 1 or its constituent members, such as an annealing process, but also during the formation of a thin film and the resin composition.
  • the temperature of the film formation surface rises locally and heat is indirectly applied to them, or the temperature of the mold rises due to energy ray irradiation, which indirectly heats the optical film.
  • the process of adding is also included.
  • the effect obtained by limiting the numerical range of the storage elastic modulus described above is not particularly limited to the type of resin, and any of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and an energy beam irradiation type resin can be obtained. it can.
  • the storage elastic modulus of the first optical layer 4 can be confirmed as follows, for example. When the surface of the 1st optical layer 4 is exposed, it can confirm by measuring the storage elastic modulus of the exposed surface using a micro hardness meter. Further, when the first substrate 4a or the like is formed on the surface of the first optical layer 4, the first substrate 4a or the like is peeled off to expose the surface of the first optical layer 4. Then, the storage elastic modulus of the exposed surface can be confirmed by measuring using a micro hardness meter.
  • Examples of a method for suppressing a decrease in elastic modulus at high temperature include a method for adjusting the length and type of side chains in the case of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and energy beam irradiation.
  • a method of adjusting the amount of crosslinking points, the molecular structure of the crosslinking material, and the like can be mentioned.
  • it is preferable that such a structural change does not impair the characteristics required for the resin material itself.
  • the modulus of elasticity near room temperature may be high and become brittle, or shrinkage may increase and the film may be curved or curled. It is preferable to select appropriately according to the characteristics to be performed.
  • the glass transition point is higher than the maximum temperature during the manufacturing process, and the storage elastic modulus at the maximum temperature during the manufacturing process. It is preferable that the main component is a resin with a small decrease in the temperature. On the other hand, when a resin having a glass transition point in the range of room temperature 25 ° C. or higher and below the maximum temperature during the manufacturing process and a large decrease in storage elastic modulus at the maximum temperature during the manufacturing process is used, It becomes difficult to maintain the designed ideal interface shape during the process.
  • the melting point is higher than the maximum temperature during the manufacturing process, and the storage elastic modulus at the maximum temperature during the manufacturing process is It is preferable that the main component is a resin with little decrease.
  • the maximum temperature during the manufacturing process means the maximum temperature of the uneven surface (first surface) of the first optical layer 4 during the manufacturing process.
  • the above-described numerical range of the storage elastic modulus and the temperature range of the glass transition point also satisfy the second optical layer 5. That is, at least one of the first optical layer 4 and the second optical layer 5 has a storage elastic modulus at 25 ° C. of 3 ⁇ 10. 9 It is preferable that the resin which is Pa or less is included. This is because flexibility can be imparted to the optical film 1 at room temperature of 25 ° C., so that the optical film 1 can be manufactured in a roll-to-roll manner.
  • the 1st base material 4a and the 2nd base material 5a have transparency, for example.
  • the shape of the base material is preferably a film shape from the viewpoint of imparting flexibility to the optical film 1, but is not particularly limited to this shape.
  • a known polymer material can be used as a material of the first base material 4a and the second base material 5a.
  • Known polymer materials include, for example, triacetyl cellulose (TAC), polyester (TPEE), polyethylene terephthalate (PET), polyimide (PI), polyamide (PA), aramid, polyethylene (PE), polyacrylate, polyether Examples include sulfone, polysulfone, polypropylene (PP), diacetyl cellulose, polyvinyl chloride, acrylic resin (PMMA), polycarbonate (PC), epoxy resin, urea resin, urethane resin, melamine resin, etc. It is not limited.
  • the thickness of the first base material 4a and the second base material 5a is preferably 38 to 100 ⁇ m from the viewpoint of productivity, but is not particularly limited to this range.
  • the first base material 4a and the second base material 5a preferably have energy ray permeability. Thereby, as will be described later, the first base material 4a or the energy base curable resin interposed between the second base material 5a or the second base material 5a and the reflective layer 3, or This is because the energy beam curable resin can be cured by irradiating the energy beam from the second substrate 5a side.
  • the first optical layer 4 and the second optical layer 5 have transparency, for example.
  • the first optical layer 4 and the second optical layer 5 are obtained, for example, by curing a resin composition.
  • the resin composition is preferably an energy beam curable resin that is cured by light or an electron beam, or a thermosetting resin that is cured by heat.
  • the energy ray curable resin a photosensitive resin composition curable by light is preferable, and an ultraviolet curable resin composition curable by ultraviolet light is most preferable.
  • the resin composition contains a compound containing phosphoric acid, a compound containing succinic acid, and butyrolactone from the viewpoint of improving the adhesion between the first optical layer 4 or the second optical layer 5 and the reflective layer 3. It is preferable to further contain a compound to be used.
  • (meth) acrylate containing phosphoric acid for example, (meth) acrylate containing phosphoric acid, preferably a (meth) acrylic monomer or oligomer having phosphoric acid as a functional group can be used.
  • succinic acid for example, a (meth) acrylate containing succinic acid, preferably a (meth) acrylic monomer or oligomer having succinic acid as a functional group can be used.
  • butyrolactone for example, a (meth) acrylate containing butyrolactone, preferably a (meth) acryl monomer or oligomer having butyrolactone as a functional group can be used.
  • the ultraviolet curable resin composition contains, for example, (meth) acrylate and a photopolymerization initiator. Moreover, you may make it an ultraviolet curable resin composition further contain a light stabilizer, a flame retardant, a leveling agent, antioxidant, etc. as needed.
  • the acrylate it is preferable to use a monomer and / or an oligomer having two or more (meth) acryloyl groups. As this monomer and / or oligomer, for example, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate and the like are used.
  • the (meth) acryloyl group means either an acryloyl group or a methacryloyl group.
  • the oligomer refers to a molecule having a molecular weight of 500 or more and 60000 or less.
  • the photopolymerization initiator those appropriately selected from known materials can be used.
  • a benzophenone derivative, an acetophenone derivative, an anthraquinone derivative, or the like can be used alone or in combination.
  • the blending amount of the polymerization initiator is preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less in the solid content.
  • solid content means all the components which comprise the hard-coat layer 12 after hardening. Specifically, for example, acrylate, photopolymerization initiator, and the like are referred to as solid content.
  • the resin is preferably one that can transfer the structure by irradiation with energy rays or heat, and any type of resin can be used as long as it satisfies the above refractive index requirements, such as vinyl resin, epoxy resin, and thermoplastic resin. May be.
  • an oligomer may be added.
  • Polyisocyanate and the like may be included as a curing agent.
  • monomers having a hydroxyl group, a carboxyl group, and a phosphate group polyhydric alcohols, carboxylic acid, silane, Coupling agents such as aluminum and titanium and various chelating agents may be added.
  • the resin composition further contains a crosslinking agent.
  • this crosslinking agent it is particularly preferable to use a cyclic crosslinking agent. This is because the use of the cross-linking agent makes it possible to heat the resin without greatly changing the storage elastic modulus at room temperature.
  • the optical film 1 becomes brittle, and it becomes difficult to produce the optical film 1 by a roll-to-roll process or the like.
  • the cyclic crosslinking agent include dioxane glycol diacrylate, tricyclodecane dimethanol diacrylate, tricyclodecane dimethanol dimethacrylate, ethylene oxide modified isocyanuric acid diacrylate, ethylene oxide modified isocyanuric acid triacrylate, caprolactone modified tris (acryloxy). And ethyl) isocyanurate.
  • the first base material 4a or the second base material 5a preferably has a lower water vapor transmission rate than the first optical layer 4 or the second optical layer 5.
  • the first substrate 4a has a water vapor transmission rate lower than that of the first optical layer 4, and energy rays. It is preferably formed of a resin such as polyethylene terephthalate (PET) having transparency. Thereby, the diffusion of moisture from the incident surface S1 or the exit surface S2 to the reflective layer 3 can be reduced, and deterioration of metals and the like contained in the reflective layer 3 can be suppressed. Therefore, the durability of the optical film 1 can be improved.
  • the water vapor transmission rate of PET having a thickness of 75 ⁇ m is 10 g / m. 2 / Day (40 ° C., 90% RH).
  • the first optical layer 4 and the second optical layer 5 includes a highly polar functional group, and the content thereof is different between the first optical layer 4 and the second optical layer 5.
  • Both the 1st optical layer 4 and the 2nd optical layer 5 contain a phosphoric acid compound (for example, phosphate ester), The said phosphoric acid compound in the 1st optical layer 4 and the 2nd optical layer 5 It is preferable that the contents of are different.
  • the content of the phosphoric acid compound in the first optical layer 4 and the second optical layer 5 is preferably 2 times or more, more preferably 5 times or more, and further preferably 10 times or more.
  • the reflective layer 3 includes the first optical layer 4 or the second optical layer 5 including the phosphate compound.
  • the contact surface preferably contains an oxide, nitride, or oxynitride.
  • the reflective layer 3 particularly preferably has a layer containing zinc oxide (ZnO) or niobium oxide on the surface in contact with the first optical layer 4 or the second optical layer 5 containing a phosphate compound. This is because the adhesion between these optical layers and the reflective layer 3 is improved. Moreover, it is because the anti-corrosion effect is high when the reflective layer 3 contains metals, such as Ag.
  • the reflective layer 3 may contain a dopant such as Al or Ga.
  • the pigment dispersed in the resin may be either an organic pigment or an inorganic pigment, but it is particularly preferable to use an inorganic pigment having high weather resistance.
  • zircon gray (Co, Ni-doped ZrSiO 4 ), Praseodymium yellow (Pr-doped ZrSiO) 4 ), Chrome titanium yellow (Cr, Sb doped TiO) 2 Or Cr, W-doped TiO 2 ), Chrome Green (Cr 2 O 3 Etc.), Peacock Blue ((CoZn) O (AlCr) 2 O 3 ), Victoria Green ((Al, Cr) 2 O 3 ), Bitumen (CoO ⁇ Al 2 O 3 ⁇ SiO 2 ), Vanadium zirconium blue (V-doped ZrSiO) 4 ), Chrome tin pink (Cr-doped CaO / SnO) 2 ⁇ SiO 2 ), Ceramic red (Mn-doped Al) 2 O 3 ), Salmon pink (Fe-doped ZrSiO) 4 Organic pigments such as azo pigments and phthalocyanine pigments.
  • the reflective layer 3 is, for example, a multi-layer film that transmits and transmits light in a specific wavelength band while directionally reflecting light in a specific wavelength band among light incident on an incident surface at an incident angle ( ⁇ , ⁇ ). It is a wavelength selective reflection layer.
  • the average layer thickness of the reflective layer 3 is preferably 20 ⁇ m, more preferably 5 ⁇ m or less, and even more preferably 1 ⁇ m or less. When the average layer thickness of the reflective layer 3 exceeds 20 ⁇ m, the optical path through which the transmitted light is refracted becomes long and the transmitted image tends to appear distorted.
  • the reflective layer for example, a sputtering method, a vapor deposition method, a dip coating method, a die coating method, or the like can be used.
  • the laminated film is formed, for example, by alternately laminating a metal layer having a high reflectance in the infrared region and a high refractive index layer having a high refractive index and a function as an antireflection layer with respect to the metal layer in the visible region.
  • the high refractive index layer an optical transparent layer or a transparent conductive layer can be used.
  • the metal layer having high reflectivity in the infrared region may be, for example, a simple substance such as Au, Ag, Cu, Al, Ni, Cr, Ti, Pd, Co, Si, Ta, W, Mo, Ge, or a simple substance thereof.
  • the main component is an alloy containing two or more kinds. Of these, Ag-based, Cu-based, Al-based, Si-based, or Ge-based materials are preferred among these.
  • the metal layer may be AlCu, AlTi, AlCr, AlCo, AlNdCu, AlMgSi, AgBi, AgNdCu, AgPdCu, AgPdTi, AgCuTi, AgPdCa, AgPdMg, AgPdFe, Ag, SiB, etc. Is preferably the main component.
  • materials such as Ti and Nd to the metal layer.
  • Ag is used as the material of the metal layer, it is preferable to add the above material.
  • the optical transparent layer is an optical transparent layer that has a high refractive index in the visible region and functions as an antireflection layer.
  • the optical transparent layer contains, as a main component, a high dielectric material such as niobium oxide, tantalum oxide, or titanium oxide.
  • the transparent conductive layer includes, for example, a main component such as a ZnO-based oxide or indium-doped tin oxide.
  • ZnO-based oxide include zinc oxide (ZnO), zinc oxide (GAZO) doped with gallium (Ga) and aluminum (Al), zinc oxide (AZO) doped with Al, and gallium (Ga). At least one selected from the group consisting of zinc oxide doped with (GZO) can be used.
  • the refractive index of the high refractive index layer contained in a laminated film is in the range of 1.7 or more and 2.6 or less. More preferably, it is 1.8 or more and 2.6 or less, More preferably, it is 1.9 or more and 2.6 or less. This is because antireflection in the visible light region can be realized with a thin film that does not cause cracks.
  • the refractive index is at a wavelength of 550 nm.
  • the high refractive index layer is, for example, a layer mainly composed of a metal oxide.
  • the metal oxide for example, at least one selected from the group consisting of niobium oxide, zinc oxide, titanium oxide, and tantalum oxide can be used, from the viewpoint of relaxing the stress of the layer and suppressing the occurrence of cracks. Then, it may be preferable to use metal oxides other than zinc oxide. In particular, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of niobium oxide (for example, niobium pentoxide), tantalum oxide (for example, tantalum pentoxide), and titanium oxide.
  • the film thickness of the high refractive index layer is preferably 10 nm to 120 nm, more preferably 10 nm to 100 nm, and still more preferably 10 nm to 80 nm.
  • FIG. 5 shows an example of the layer configuration of the reflective layer 3.
  • the first layer, the second layer, the third layer, the fourth layer, and the fifth layer will be referred to as appropriate in order from the exit surface side of the reflective layer 3.
  • the first layer, the third layer, and the fifth layer are high refractive index layers mainly composed of, for example, GAZO, and the first layer and the fifth layer are formed with substantially the same film thickness.
  • the difference in film thickness between the first layer and the fifth layer is preferably within 10%, more preferably within 5%, and even more preferably within 3% with respect to the film thickness of one of the two layers.
  • the second layer and the fourth layer are metal layers mainly composed of, for example, AgNdCu, and are formed with substantially the same film thickness.
  • the difference in film thickness between the second and fourth layers is preferably within 10%, more preferably within 5%, and even more preferably within 3% with respect to the film thickness of one of the two layers. It is.
  • the layer configuration of the reflective layer 3 is not limited to this, and for example, each high refractive index layer may be separated into a plurality of layers to form one layer.
  • the third and fifth high refractive index layers are ZnO and Nb. 2 O 5 It is separated into two layers mainly composed of
  • the third high refractive index layer is formed by GAZO, Nb. 2 O 5
  • the third high-refractive-index layer is composed of GAZO and Nb. 2 O 5
  • the third high refractive index layer is composed of ZnO and Nb. 2 O 5
  • the fifth high refractive index layer is ZnO, Nb.
  • the first, third, and fifth high refractive index layers are formed by GAZO and Nb. 2 O 5 It is separated into two layers mainly composed of
  • the first and fifth high refractive index layers are formed by GAZO and Nb. 2 O 5
  • the third high refractive index layer is GAZO, Nb. 2 O 5
  • three layers mainly composed of GAZO are formed of GAZO.
  • the first high refractive index layer is formed by GAZO and Nb. 2 O 5
  • the third and fifth high refractive index layers are separated by GAZO, Nb. 2 O 5 And three layers mainly composed of GAZO.
  • the laminated film is not limited to a thin film made of an inorganic material, and may be constituted by laminating a thin film made of a polymer material or a layer in which fine particles are dispersed in a polymer. Further, for the purpose of preventing oxidative degradation of the lower layer metal during the formation of the optical transparent layer, a thin buffer layer such as Ti of about several nm may be provided at the interface of the optical transparent layer to be formed.
  • the buffer layer is a layer for suppressing oxidation of a metal layer or the like as a lower layer by being oxidized by itself during upper film formation.
  • an index value indicating a color tone such as blue or reddish is set, and the change in the color tone is suppressed by forming a laminated film so as to satisfy the index value.
  • a blueness index and a redness index are set as index values for the color tone.
  • the blueness index is an index value for determining whether or not the transmitted light appears bluish.
  • the blueness index value is obtained by dividing a value obtained by integrating the light source spectrum, the reflectance, and the visibility in the wavelength range of 620 nm to 750 nm, and dividing by a value obtained by integrating the light source spectrum and the visibility. It is calculated by.
  • the blueness index value is preferably less than 0.152, more preferably less than 0.111.
  • the blueness index value is 0 or more and less than 0.111, the blueness is hardly noticed.
  • the blueness index value is 0.111 or more and less than 0.152, it depends on the outside brightness. This is because it is not possible.
  • the blueness index value is 0.152 or more and less than 0.2, the transmitted light tends to appear slightly bluish in a specific angle direction, and when it is 0.2 or more, the specific angle In the direction, the transmitted light tends to appear dark blue.
  • the redness index is an index value for determining whether or not the transmitted light looks reddish.
  • the redness index value like the blueness index value, is obtained by multiplying the light source spectrum, the reflectance, and the visibility obtained by integrating the light source spectrum, the reflectance, and the visibility in the wavelength range of 620 nm to 750 nm. Is divided by the integrated value.
  • the redness index value is preferably less than 0.258, more preferably less than 0.175. When the redness index value is 0 or more and less than 0.175, the redness is hardly noticed. When the redness index value is 0.175 or more and less than 0.258, the redness index value depends on the outside brightness. This is because it is not possible.
  • (Function of optical film) 7A and 7B are cross-sectional views for explaining an example of the function of the optical film.
  • the shape of the structure is a prism shape with an inclination angle of 45 ° will be described as an example. As shown in FIG.
  • the ratio x is expressed by the following formula (1).
  • x (sin (45 ⁇ ′) + cos (45 ⁇ ′) / tan (45 + ⁇ ′)) / (sin (45 ⁇ ′) + cos (45 ⁇ ′)) ⁇ R 2 ...
  • ⁇ ′ sin -1 (Sin ⁇ / n) Component L that does not reflect above B As the ratio increases, the ratio of incident light reflected to the sky decreases.
  • the shape of the reflective layer 3 that is, the shape of the structure 4c of the first optical layer 4.
  • the shape of the structure 4c is preferably a lenticular shape shown in FIG. 3C or an asymmetric shape shown in FIG.
  • FIG. 9 shows the ridgeline l of the columnar structure 4c. 3 Incident light L and reflected light L 1 Shows the relationship.
  • the optical film 1 includes light L in a specific wavelength band out of light L incident on the incident surface S1 at an incident angle ( ⁇ , ⁇ ).
  • FIG. 10 is a schematic diagram illustrating a configuration example of a manufacturing apparatus for manufacturing the optical film according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 10, the manufacturing apparatus includes laminate rolls 41 and 42, a guide roll 43, a coating device 45, and an irradiation device 46.
  • the laminate rolls 41 and 42 are configured to be able to nip the optical layer 9 with a reflective layer and the second substrate 5a.
  • the optical layer 9 with a reflective layer is obtained by forming the reflective layer 3 on one main surface of the first optical layer 4.
  • the 1st base material 4a may be formed on the other main surface on the opposite side to the surface in which the reflective layer 3 of the 1st optical layer 4 was formed into a film. In this example, the case where the reflective layer 3 is formed on one main surface of the first optical layer 4 and the first base material 4a is formed on the other main surface is shown.
  • the guide roll 43 is disposed on a conveyance path in the manufacturing apparatus so that the belt-shaped optical film 1 can be conveyed.
  • the material of the laminate rolls 41 and 42 and the guide roll 43 is not particularly limited, and a metal such as stainless steel, rubber, silicone, or the like can be appropriately selected and used according to desired roll characteristics.
  • a coating device 45 for example, a device including coating means such as a coater can be used.
  • a coater for example, a coater such as a gravure, a wire bar, and a die can be appropriately used in consideration of physical properties of the resin composition to be applied.
  • the irradiation device 46 is an irradiation device that irradiates an ionizing ray such as an electron beam, an ultraviolet ray, a visible ray, or a gamma ray.
  • an ionizing ray such as an electron beam, an ultraviolet ray, a visible ray, or a gamma ray.
  • a UV lamp that irradiates ultraviolet rays is used as the irradiation device 46 is illustrated.
  • FIGS An example of a method for producing an optical film according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Note that part or all of the manufacturing process described below is preferably performed by roll-to-roll as shown in FIG. 10 in consideration of productivity. However, the mold manufacturing process is excluded. First, as shown in FIG.
  • a mold having the same concave and convex shape as that of the structure 4c or a mold (replica) having an inverted shape of the mold is formed by, for example, bite processing or laser processing.
  • the uneven shape of the mold is transferred to a film-like resin material by using, for example, a melt extrusion method or a transfer method.
  • a transfer method an energy ray curable resin is poured into a mold and cured by irradiating energy rays, a method of transferring heat and pressure to the resin to transfer a shape, or a resin film is supplied from a roll and heat is applied.
  • the first optical layer 4 having the structure 4c on one principal surface is formed.
  • the first optical layer 4 may be formed on the first base material 4a.
  • the first substrate 4a in the form of a film is supplied from a roll, applied with an energy ray curable resin on the substrate, and then pressed against the die to transfer the shape of the die. Is used to cure the resin.
  • the resin preferably further contains a cross-linking agent. This is because the resin can be heat resistant without greatly changing the storage elastic modulus at room temperature.
  • the reflective layer 3 is formed on one main surface of the first optical layer 4.
  • the method for forming the reflective layer 3 include a sputtering method, a vapor deposition method, a CVD (Chemical Vapor Deposition) method, a dip coating method, a die coating method, a wet coating method, and a spray coating method. From the method, it is preferable to select appropriately according to the shape of the structure 4c and the like.
  • annealing treatment 31 is performed on the reflective layer 3 as necessary.
  • the annealing temperature is, for example, in the range of 100 ° C. or higher and 250 ° C. or lower.
  • FIG. 12B annealing treatment 31 is, for example, in the range of 100 ° C. or higher and 250 ° C. or lower.
  • an uncured resin 22 is applied on the reflective layer 3.
  • the resin 22 for example, an energy beam curable resin, a thermosetting resin, or the like can be used.
  • an ultraviolet curable resin is preferable.
  • the second base material 5a is placed on the resin 22 to form a laminate.
  • the resin 22 is cured by energy rays 32 or heating 32, and a pressure 33 is applied to the laminate.
  • the energy beam for example, an electron beam, an ultraviolet ray, a visible ray, a gamma ray, an electron beam or the like can be used, and an ultraviolet ray is preferable from the viewpoint of production equipment.
  • the integrated dose is preferably selected as appropriate in consideration of the curing characteristics of the resin, the suppression of yellowing of the resin and the substrate, and the like.
  • the pressure applied to the laminate is preferably in the range of 0.01 MPa to 1 MPa. If the pressure is less than 0.01 MPa, a problem occurs in the runnability of the film. On the other hand, when it exceeds 1 MPa, it is necessary to use a metal roll as a nip roll, and pressure unevenness is likely to occur, which is not preferable.
  • the second optical layer 5 is formed on the reflective layer 3, and the optical film 1 is obtained.
  • the formation method of the optical film 1 is demonstrated concretely using the manufacturing apparatus shown in FIG.
  • the second base material 5 a is sent from a base material supply roll (not shown), and the sent second base material 5 a passes under the coating device 45.
  • the ionizing radiation curable resin 44 is applied by the coating device 45 to the second base material 5 a passing under the coating device 45.
  • the 2nd base material 5a with which ionizing ray hardening resin 44 was applied is conveyed toward a lamination roll.
  • the optical layer 9 with a reflective layer is sent out from an optical layer supply roll (not shown) and conveyed toward the laminate rolls 41 and 42.
  • the carried-in 2nd base material 5a and the optical layer 9 with a reflection layer are laminated rolls 41 and 42 so that a bubble may not enter between the 2nd base material 5a and the optical layer 9 with a reflection layer.
  • the optical layer 9 with a reflective layer is laminated on the second substrate 5a.
  • ionizing-ray hardening from the 2nd base material 5a side by the irradiation apparatus 46 is carried out.
  • the resin 44 is irradiated with ionizing radiation, and the ionizing radiation curable resin 44 is cured.
  • the cured first optical layer 4 has a storage elastic modulus of 3 ⁇ 10 at (t ⁇ 20) ° C. when the process temperature at the time of forming the second optical layer is t ° C. 7 It is preferable that it is Pa or more.
  • the process temperature t is, for example, the heating temperature of the laminate roll 41.
  • the first optical layer 4 is provided on the first base material 4a and is conveyed along the laminating roll 41 via the first base material 4a. It has been empirically found that the temperature applied to is about (t-20) ° C. Therefore, the storage elastic modulus of the first optical layer 4 at (t-20) ° C. is 3 ⁇ 10. 7 By setting it to Pa or more, it is possible to suppress deformation of the uneven shape of the interface inside the optical layer due to heat, or heat and pressure.
  • the first optical layer 4 has a storage elastic modulus of 3 ⁇ 10 5 at 25 ° C. 9 It is preferable that it is Pa or less. Thereby, flexibility can be imparted to the optical film at room temperature.
  • the optical film 1 can be produced by a production process such as roll-to-roll.
  • the process temperature t is preferably 200 ° C. or lower in consideration of the heat resistance of the resin used for the optical layer or the base material.
  • the process temperature t can be set to 200 ° C. or higher by using a resin having high heat resistance.
  • Reflective layer thickness setting As described above, the blueness index value and the redness index value indicating the hues of blueness and redness change according to the film thickness of each layer in the laminated film of the reflective layer 3. Therefore, in the embodiment of the present invention, the blueness index value and the redness index value are used as parameters, and the film thickness of the laminated film is set so as to satisfy the parameter conditions.
  • the film thickness of the laminated film is set using the visible light transmittance and the shielding coefficient as parameters.
  • the visible light transmittance is a parameter indicating the light transmittance, and is preferably 70% or more.
  • the shielding coefficient is a parameter indicating the efficiency of shielding heat, and is preferably 0.6 or less.
  • the visible light transmittance and the shielding coefficient also change according to the film thickness of the laminated film.
  • the film thickness of each layer in the laminated film that satisfies the conditions of each parameter can be calculated by simulation, for example.
  • the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are determined according to the thickness of each layer in the laminated film of the reflective layer 3.
  • the ratio ⁇ indicates the ratio of the optical film thickness of the entire metal layer to the optical film thickness of the entire high refractive index layer.
  • the ratio ⁇ is the optical film thickness of the third high-refractive index layer with respect to the optical film thickness of the first high-refractive index layer as viewed from either the first optical layer side or the second optical layer side. The ratio is shown.
  • the optical film thickness indicates a film thickness obtained by multiplying the geometric film thickness by the refractive index.
  • a high refractive index layer shall have a high refractive index with respect to a metal layer.
  • the optical film thickness of the first and fifth high refractive index layers of the laminated film is X1
  • the optical film thickness of the third high refractive index layer is X2
  • the optical properties of the second and fourth metal layers are calculated by the following formulas (2) to (4).
  • the total film thickness is obtained, and the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are obtained to set the film thickness that satisfies the conditions of each parameter of each layer in the laminated film of the reflective layer 3. can do.
  • the direction perpendicular to the inclined surface of the structure 4 c formed in the first optical layer 4 is the thickness direction of the laminated film of the reflective layer 3. Define.
  • steps S1 to S5 are set.
  • step S1 the total film thickness L of the laminated film is set.
  • step S2 the inclination angle of the shape formed in the laminated film is set.
  • step S3 the film thickness distribution of each layer in the laminated film is set.
  • step S4 the refractive indexes of the first optical layer (shape layer) and the second optical layer (embedding layer) are set.
  • step S5 the ratio ⁇ and ratio ⁇ are input.
  • step S6 a simulation is performed based on the conditions set in steps S1 to S5, and the values of the parameters at the set ratio ⁇ and ratio ⁇ are calculated.
  • step S7 the visible light transmittance at the set ratio ⁇ and ratio ⁇ is calculated.
  • step S8 the shielding coefficient at the set ratio ⁇ and ratio ⁇ is calculated.
  • step S9 a blueness index at the set ratio ⁇ and ratio ⁇ is calculated.
  • step S10 a redness index at the set ratio ⁇ and ratio ⁇ is calculated.
  • step S11 the film thickness of each layer is changed by changing the ratio ⁇ and ratio ⁇ , and the simulation of steps S6 to S10 is repeated to calculate the values of the respective parameters.
  • step S12 the values of the parameters calculated in steps S7 to S10 are mapped on the ⁇ - ⁇ plane, and as shown in FIGS.
  • FIG. 16A shows the distribution of visible light transmittance with respect to the ratio ⁇ and the ratio ⁇ .
  • FIG. 16B shows the distribution of the shielding coefficient with respect to the ratio ⁇ and the ratio ⁇ .
  • FIG. 16C shows the distribution of the blueness index with respect to the ratio ⁇ and the ratio ⁇ .
  • FIG. 16D shows the distribution of the redness index with respect to the ratio ⁇ and the ratio ⁇ .
  • the shaded area indicates an area that does not satisfy the shielding coefficient condition.
  • the shaded area indicates an area that does not satisfy the condition of the blueness index.
  • the shaded area indicates an area that does not satisfy the condition of the redness index.
  • the conditions for each parameter are set as follows. Blueness index: less than 0.152, redness index: less than 0.258, shielding coefficient: 0.6 or less, visible light transmittance: 70% or more Regions satisfying the conditions of each parameter are extracted by superimposing the ⁇ - ⁇ correlation diagrams shown in FIGS. 16A to 16D created as described above.
  • FIG. 16E shows a state in which the ⁇ - ⁇ correlation diagrams shown in FIGS. 16A to 16D are superimposed. In FIG.
  • an area other than the shaded area is extracted.
  • This region is a region that satisfies all the parameters. That is, the area that satisfies the conditions of each parameter is an area surrounded by a boundary line between the area that satisfies the conditions of each parameter and the area that does not satisfy the conditions of each parameter.
  • this boundary line is converted into a mathematical expression. For example, a predetermined value on the boundary line is extracted, and based on this value, an approximate curve of a boundary line between a region that satisfies the condition of each parameter and a region that does not satisfy each parameter is derived, and the boundary line is mathematically expressed. Thereby, the area
  • FIG. 17A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, and redness index when the total film thickness L is 80 nm.
  • a point “ ⁇ ” and a point “ ⁇ ” indicate predetermined points on the boundary line between the region that satisfies the condition of the blueness index and the region that does not satisfy the condition of the blueness index.
  • the point “ ⁇ ” indicates a predetermined point on the boundary line between the region that satisfies the condition of the redness index and the region that does not satisfy the condition of the redness index.
  • the predetermined point ( ⁇ , ⁇ ) on the boundary line between the region that satisfies the visible light transmittance condition and the region that does not satisfy the condition is outside the region indicated by shading, and is not shown.
  • FIG. 17B to FIG. 20 used in the following description are similarly expressed.
  • first area R1 a shaded area (hereinafter referred to as “first area R1”) surrounded by the approximate curves shown in Expressions (5) to (7) and the straight line shown in Expression (8) below. Is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the first region R1, the conditions of each parameter can be satisfied.
  • the first region R1 includes the above approximate curve and straight line.
  • Formula (8) is set to prevent the thickness of the metal layer from becoming 5 nm or less. This is because when the thickness of the metal layer is 5 nm or less, the physical property value of the material used for the metal layer changes, and the possibility of deviation from the simulation value increases.
  • ⁇ 0.012114 (8)
  • L 90nm
  • FIG. 17B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, and redness index when the total film thickness L is 90 nm. In FIG.
  • the predetermined point ( ⁇ , ⁇ ) on the boundary line between the region that satisfies the visible light transmittance condition and the region that does not satisfy the condition is outside the region indicated by shading, and is not shown. ing. Based on the points on the boundary lines of the parameters plotted in the ⁇ - ⁇ correlation diagram, approximate curves of the boundary lines in the parameters shown in the following formulas (9) to (11) are derived.
  • a shaded area hereinafter referred to as “second area R2” surrounded by the approximate curves shown in Expressions (9) to (11) and the straight line shown in Expression (12) below. Is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the second region R2, the conditions of each parameter can be satisfied.
  • the second region R2 includes the above-described approximate curve and straight line.
  • FIG. 18A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, and redness index when the total film thickness L is 100 nm.
  • the predetermined point ( ⁇ , ⁇ ) on the boundary line between the region that satisfies the visible light transmittance condition and the region that does not satisfy the condition is outside the region indicated by shading, and is not shown. ing.
  • FIG. 18B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, and redness index when the total film thickness L is 120 nm.
  • the predetermined point ( ⁇ , ⁇ ) on the boundary line between the region that satisfies the visible light transmittance condition and the region that does not satisfy the condition is outside the region indicated by shading, and is not shown. ing. Based on the points on the boundary line of each parameter plotted in the ⁇ - ⁇ correlation diagram, approximate curves of the boundary line in each parameter shown in the following equations (17) to (19) are derived.
  • fourth region R4 a shaded area surrounded by the approximate curve represented by Expression (17) to Expression (19) and the straight line represented by Expression (20) below. Is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the fourth region R4, the conditions of each parameter can be satisfied.
  • the fourth region R4 includes the above approximate curve and straight line.
  • FIG. 19A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, and redness index when the total film thickness L is 140 nm.
  • the predetermined point ( ⁇ , ⁇ ) on the boundary line between the region that satisfies the visible light transmittance condition and the region that does not satisfy the condition is outside the region indicated by shading, and is not shown. ing.
  • FIG. 19B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, and redness index when the total film thickness L is 160 nm.
  • the predetermined point ( ⁇ , ⁇ ) on the boundary line between the region that satisfies the visible light transmittance condition and the region that does not satisfy the condition is outside the region indicated by shading, and is not shown. ing. Based on the points on the boundary line of each parameter plotted in the ⁇ - ⁇ correlation diagram, the approximate curve of the boundary line in each parameter shown in the following equations (25) to (28) is derived.
  • a shaded area hereinafter referred to as “sixth area R6” surrounded by the approximate curves shown in Expressions (25) to (28) and the straight line shown in Expression (29) below. Is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the sixth region R6, the conditions of each parameter can be satisfied.
  • the sixth region R6 includes the above approximate curve and straight line.
  • FIG. 20 is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, and redness index when the total film thickness L is 180 nm.
  • the predetermined point ( ⁇ , ⁇ ) on the boundary line between the region that satisfies the visible light transmittance condition and the region that does not satisfy the condition is outside the region indicated by shading, and is not shown. ing.
  • the seventh region R7 includes the above-described approximate curve and straight line.
  • Expression (33) is set to prevent the thickness of the metal layer from becoming 5 nm or less.
  • ⁇ 0.00498 (33)
  • FIG. 21A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on conditions of visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient when the total film thickness L is 80 nm.
  • a point “x” indicates a predetermined point on a boundary line between a region that satisfies the shielding coefficient condition and a region that does not satisfy the condition of the shielding coefficient.
  • the predetermined point ( ⁇ , ⁇ ) on the boundary line between the region that satisfies the visible light transmittance condition and the region that does not satisfy the visible light transmittance is outside the region indicated by shading, and is not shown.
  • FIG. 21B to FIG. 24 used in the following description are also expressed in the same manner.
  • first area R11 -6 ⁇ 10 -6 ⁇ 2 + 0.0002 ⁇ + 0.0141
  • FIG. 21B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient when the total film thickness L is 90 nm.
  • the predetermined point ( ⁇ , ⁇ ) on the boundary line between the region that satisfies the visible light transmittance condition and the region that does not satisfy the condition is outside the region indicated by shading, and is not shown. ing.
  • FIG. 22A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient when the total film thickness L is 100 nm.
  • the predetermined point ( ⁇ , ⁇ ) on the boundary line between the region that satisfies the visible light transmittance condition and the region that does not satisfy the condition is outside the region indicated by shading, and is not shown. ing.
  • FIG. 22B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on conditions of visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient when the total film thickness L is 120 nm.
  • the predetermined point ( ⁇ , ⁇ ) on the boundary line between the region that satisfies the visible light transmittance condition and the region that does not satisfy the condition is outside the region indicated by shading, and is not shown. ing.
  • the boundary shown in the following equation (37) is based on the points on the boundary line of the shielding coefficient plotted in the ⁇ - ⁇ correlation diagram.
  • An approximate curve of the line is derived.
  • ⁇ ⁇ 7 ⁇ 10 -5 ⁇ 2 + 0.0007 ⁇ + 0.0097 (37)
  • the area indicated by shading hereinafter referred to as “fourth area R14”
  • the approximate curves shown in Expression (18), Expression (19), and Expression (37) is the condition of all parameters. It will be an area that satisfies. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the fourth region R14, the conditions of each parameter can be satisfied.
  • FIG. 23A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on conditions of visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient when the total film thickness L is 140 nm.
  • the predetermined point ( ⁇ , ⁇ ) on the boundary line between the region that satisfies the visible light transmittance condition and the region that does not satisfy the condition is outside the region indicated by shading, and is not shown. ing.
  • the boundary shown in the following equation (38) is based on the points on the boundary of the shielding coefficient plotted in the ⁇ - ⁇ correlation diagram.
  • An approximate curve of the line is derived.
  • ⁇ ⁇ 0.0001 ⁇ 2 + 0.0011 ⁇ + 0.0083 (38)
  • the area indicated by shading hereinafter referred to as “fifth area R15”
  • Expression (22), Expression (23) and Expression (38) is the condition of all parameters. It will be an area that satisfies. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the fifth region R15, the conditions of each parameter can be satisfied.
  • FIG. 23B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on conditions of visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient when the total film thickness L is 160 nm.
  • the predetermined point ( ⁇ , ⁇ ) on the boundary line between the region that satisfies the visible light transmittance condition and the region that does not satisfy the condition is outside the region indicated by shading, and is not shown. ing.
  • the boundary shown in the following equation (39) is based on the points on the boundary of the shielding coefficient plotted in the ⁇ - ⁇ correlation diagram.
  • An approximate curve of the line is derived.
  • ⁇ ⁇ 0.0002 ⁇ 2 + 0.0016 ⁇ + 0.0067 (39)
  • a shaded area (hereinafter referred to as “sixth area R16”) surrounded by the approximate curves shown in Expression (25) to Expression (28) and Expression (39) is the condition of all parameters. It will be an area that satisfies. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the sixth region R16, the conditions of each parameter can be satisfied.
  • FIG. 24 is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient when the total film thickness L is 180 nm.
  • the predetermined point ( ⁇ , ⁇ ) on the boundary line between the region that satisfies the visible light transmittance condition and the region that does not satisfy the visible light transmittance is outside the region indicated by shading, and is not shown. ing.
  • the boundary shown in the following equation (40) is based on the points on the boundary line of the shielding coefficient plotted in the ⁇ - ⁇ correlation diagram.
  • An approximate curve of the line is derived.
  • ⁇ ⁇ 0.0003 ⁇ 2 + 0.0021 ⁇ + 0.0055 (40)
  • the shaded area (hereinafter referred to as “seventh area R17”) surrounded by the approximate curves shown in Expression (30) to Expression (32) and Expression (40) is the condition of all parameters. It will be an area that satisfies. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the seventh region R17, the conditions of each parameter can be satisfied.
  • the seventh region R17 includes the above-described approximate curve.
  • FIG. 25 shows a region that satisfies the conditions of each parameter determined based on the ⁇ - ⁇ correlation diagrams shown in FIGS. 17A to 20 on a three-dimensional plane with the ratio ⁇ , the ratio ⁇ , and the total film thickness L as axes. It is a mapping.
  • This example shows a region that satisfies the conditions of each parameter when the visible light transmittance, the blueness index, and the redness index are used as parameters. It should be noted that, for each value of total film thickness L, an approximate curve derived from a predetermined point ( ⁇ , ⁇ ) on a boundary line between a region satisfying the visible light transmittance condition and a region not satisfying the visible light transmittance condition and a group of these points. Since the values of the total film thickness L in FIG. 25 are outside the area indicated by shading, the illustration is omitted. As shown in FIG. 25, the region satisfying the conditions of each parameter is considered to be continuous with respect to the total film thickness L.
  • the specific total film thickness L is other than 80 nm, 90 nm,..., 180 nm
  • the area surrounded by the circumferential surface S having both end surfaces of the adjacent specific total film thickness L is set to each parameter.
  • the region satisfies the above condition.
  • 80nm ⁇ L ⁇ 90nm When the total film thickness L is 80 nm ⁇ L ⁇ 90 nm, as shown in FIG.
  • the first plane Sp1 defined by the first region R1 and the second plane Sp2 defined by the second region R2 A region surrounded by the peripheral surface S1 having both end surfaces as a region is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the region surrounded by the circumferential surface S1, the conditions of each parameter can be satisfied.
  • the region surrounded by the circumferential surface S1 includes the circumferential surface S1 itself.
  • the peripheral surface S1 is a region defined as follows.
  • Each minute side formed by dividing the periphery C1 of the first region R1 into n equal parts starting from the intersection P between the expressions (5) and (7) is defined as ⁇ C1i
  • the periphery C2 of the second region R2 Are each divided into n equal parts starting from the intersection point P between the expressions (9) and (11) as ⁇ C2i
  • each rectangular minute area having both short sides as ⁇ C1i and ⁇ C2i
  • ⁇ Si is a natural number from 0 to n, and is preferably n ⁇ ⁇ .
  • i increases in the clockwise direction from the L-axis direction (that is, the direction in which the total film thickness L increases) as viewed from the first region R1 and the second region R2.
  • a circumferential surface formed by the group of minute regions ⁇ Si defined in this way is defined as a circumferential surface S1.
  • the region surrounded by the circumferential surface S2 includes the circumferential surface S2 itself.
  • the peripheral surface S2 is an area defined as follows, as shown in FIG. 26B.
  • Each minute side formed by dividing the periphery C2 of the second region R2 into n equal parts starting from the intersection P between the expressions (9) and (11) is defined as ⁇ C2i
  • the periphery C3 of the third region R3 Are each divided into n equal parts starting from the intersection point P of the equations (13) and (15) as ⁇ C3i
  • each rectangular minute region having both short sides as ⁇ C2i and ⁇ C3i
  • ⁇ Si is a natural number from 0 to n, and is preferably n ⁇ ⁇ .
  • i increases in the clockwise direction when viewing the second region R2 and the third region R3 from the L-axis direction (that is, the direction in which the total film thickness L increases).
  • a circumferential surface formed by the group of minute regions ⁇ Si defined in this way is defined as a circumferential surface S2.
  • ⁇ ⁇ 0.0002 ⁇ 2 + 0.0039 ⁇ + 0.0087 (9)
  • ⁇ -2 ⁇ 10 -5 ⁇ 2 + 0.0006 ⁇ + 0.0112 (11)
  • ⁇ ⁇ 0.0002 ⁇ 2 + 0.0055 ⁇ + 0.0057 (13)
  • ⁇ -4 ⁇ 10 -5 ⁇ 2 + 0.001 ⁇ + 0.0099 (15) (100nm ⁇ L ⁇ 120nm)
  • a region surrounded by the circumferential surface S3 having both end surfaces as the end surfaces satisfies the conditions of each parameter. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the region surrounded by the circumferential surface S3, the conditions of each parameter can be satisfied.
  • the region surrounded by the circumferential surface S3 includes the circumferential surface S3 itself.
  • the peripheral surface S3 is a region defined as follows.
  • Each minute side formed by dividing the periphery C3 of the third region R3 into n equal parts starting from the intersection P between the expressions (13) and (15) is defined as ⁇ C3i
  • the periphery C4 of the fourth region R4 Are each divided into n equal parts starting from the intersection point P between the expression (17) and the expression (19) as ⁇ C4i, and each rectangular minute area having both short sides as ⁇ C3i and ⁇ C4i
  • ⁇ Si is a natural number from 0 to n, and is preferably n ⁇ ⁇ .
  • i increases in the clockwise direction when viewing the third region R3 and the fourth region R4 from the L-axis direction (that is, the direction in which the total film thickness L increases).
  • a circumferential surface formed by the group of minute regions ⁇ Si defined in this way is defined as a circumferential surface S3.
  • the region surrounded by the circumferential surface S4 includes the circumferential surface S4 itself.
  • the peripheral surface S4 is a region defined as follows.
  • Each minute side formed by dividing the periphery C4 of the fourth region R4 into n equal parts starting from the intersection P between the equations (17) and (19) is defined as ⁇ C4i
  • the periphery C5 of the fifth region R5 Are each divided into n equal parts starting from the intersection point P of the equations (21) and (23) as ⁇ C5i
  • each rectangular minute region having both short sides as ⁇ C4i and ⁇ C5i
  • ⁇ Si is a natural number from 0 to n, and is preferably n ⁇ ⁇ .
  • i increases in the clockwise direction from the L-axis direction (that is, the direction in which the total film thickness L increases) when viewed from the fourth region R4 and the fifth region R5.
  • a circumferential surface formed by the group of minute regions ⁇ Si defined in this way is defined as a circumferential surface S4.
  • the region surrounded by the circumferential surface S5 includes the circumferential surface S5 itself.
  • the peripheral surface S5 is a region defined as follows.
  • Each minute side formed by dividing the periphery C5 of the fifth region R5 into n equal parts starting from the intersection P between the expressions (21) and (23) is defined as ⁇ C5i
  • the periphery C6 of the sixth region R6 Are each divided into n equal parts starting from the intersection point P between the expression (25) and the expression (28) as ⁇ C6i
  • each rectangular minute region having both short sides as ⁇ C5i and ⁇ C6i
  • ⁇ Si is a natural number from 0 to n, and is preferably n ⁇ ⁇ .
  • i increases in the clockwise direction from the L-axis direction (that is, the direction in which the total film thickness L increases) when viewing the fifth region R5 and the sixth region R6.
  • a circumferential surface formed by the group of minute regions ⁇ Si defined in this way is defined as a circumferential surface S5.
  • the region surrounded by the circumferential surface S7 includes the circumferential surface S7 itself.
  • the peripheral surface S6 is an area defined as follows, as shown in FIG. 28B.
  • Each minute side formed by dividing the periphery C6 of the sixth region R6 into n equal parts starting from the intersection P between the expressions (25) and (28) is defined as ⁇ C6i
  • the periphery C7 of the seventh region R7 Are each divided into n equal parts starting from the intersection point P between the expression (30) and the expression (32) as ⁇ C7i
  • each rectangular minute area having both short sides as ⁇ C6i and ⁇ C7i is defined as Let ⁇ Si.
  • i is a natural number from 0 to n, and is preferably n ⁇ ⁇ .
  • i increases in the clockwise direction from the L-axis direction (that is, the direction in which the total film thickness L increases) when viewed from the sixth region R6 and the seventh region R7.
  • a circumferential surface formed by the group of minute regions ⁇ Si defined in this way is defined as a circumferential surface S6.
  • the region satisfying the conditions of the visible light transmittance, the blueness index, and the redness index parameter is set as follows for each total film thickness L range.
  • a region (space) V1 surrounded by the circumferential surface S1 as both end surfaces is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are included in the region (space) V1 surrounded by the plane Sp1, the plane Sp2, and the circumferential surface S1 having these planes as both end faces, thereby satisfying the conditions of each parameter. can do.
  • the region (space) V1 includes the plane Sp1, the plane Sp2, and the circumferential surface S1.
  • a region (space) V2 surrounded by the peripheral surface S2 as both end surfaces is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are included in the region (space) V2 surrounded by the plane Sp2, the plane Sp3, and the circumferential surface S2 having these planes as both end faces, thereby satisfying the conditions of each parameter. can do.
  • the region (space) V2 includes a plane Sp2, a plane Sp3, and a circumferential surface S2.
  • the third plane Sp3 defined by the third region R3, the fourth plane Sp4 defined by the fourth region R4, and these planes A region (space) V3 surrounded by the peripheral surface S3 as both end surfaces is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are included in the region (space) V3 surrounded by the plane Sp3, the plane Sp4, and the peripheral surface S3 having these planes as both end faces, thereby satisfying the conditions of each parameter. can do.
  • the region (space) V3 includes a plane Sp3, a plane Sp4, and a circumferential surface S3.
  • the fourth plane Sp4 defined by the fourth region R4, the fifth plane Sp5 defined by the fifth region R5, and these planes is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are included in the region (space) V4 surrounded by the plane Sp4, the plane Sp5, and the peripheral surface S4 having these planes as both end faces, thereby satisfying the conditions of each parameter. can do.
  • the region (space) V4 includes a plane Sp4, a plane Sp5, and a circumferential surface S4.
  • the fifth plane Sp5 defined by the fifth region R5, the sixth plane Sp6 defined by the sixth region R6, and these planes A region (space) V5 surrounded by the peripheral surface S5 as both end surfaces is a region that satisfies the conditions of each parameter.
  • the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are included in the region (space) V5 surrounded by the plane Sp5, the plane Sp6, and the peripheral surface S5 having these planes as both end faces, thereby satisfying the conditions of each parameter. can do.
  • the region (space) V5 includes the plane Sp5, the plane Sp6, and the circumferential surface S5.
  • a region (space) V6 surrounded by the peripheral surface S6 as both end surfaces is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are included in the region (space) V6 surrounded by the plane Sp6, the plane Sp7, and the peripheral surface S6 having these planes as both end faces, thereby satisfying the conditions of each parameter. can do.
  • the region (space) V6 includes the plane Sp6, the plane Sp7, and the circumferential surface S6.
  • the shielding coefficient is a parameter
  • FIG. 29 shows a region that satisfies the conditions of each parameter determined based on the ⁇ - ⁇ correlation diagrams shown in FIGS. 21A to 24 on a three-dimensional plane with the ratio ⁇ , the ratio ⁇ , and the total film thickness L as axes. It is a mapping.
  • This example shows a region that satisfies the conditions of each parameter when the visible light transmittance, the blueness index, the redness index, and the shielding coefficient are used as parameters.
  • the visible light transmittance, the blueness index, the redness index, and the shielding coefficient are used as parameters, the area satisfying the conditions of each parameter is continuous with respect to the total film thickness L.
  • the region surrounded by the circumferential surface S having both end surfaces as the adjacent specific total film thickness L is set to each parameter.
  • the region satisfies the above condition. (80nm ⁇ L ⁇ 90nm)
  • a region surrounded by the circumferential surface S11 having both end surfaces as the end surfaces satisfies the conditions of each parameter.
  • the region surrounded by the circumferential surface S11 includes the circumferential surface S11 itself.
  • the peripheral surface S11 is a region defined as follows, as shown in FIG. 30A.
  • Each minute side formed by dividing the periphery C11 of the first region R11 into n equal parts starting from the intersection P between the expressions (7) and (34) is defined as ⁇ C11i
  • the periphery C12 of the second region R12 Are each divided into n equal parts starting from the intersection point P of the expressions (11) and (35) as ⁇ C12i
  • rectangular minute areas having both short sides is defined as ⁇ C11i and ⁇ C12i It is defined as ⁇ Si.
  • i is a natural number from 0 to n, and is preferably n ⁇ ⁇ .
  • a circumferential surface formed by the group of minute regions ⁇ Si defined in this way is defined as a circumferential surface S11.
  • a region surrounded by the circumferential surface S12 having both end surfaces as the end surfaces is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the region surrounded by the circumferential surface S12, the conditions of each parameter can be satisfied.
  • the region surrounded by the circumferential surface S12 includes the circumferential surface S12 itself.
  • the peripheral surface S12 is a region defined as follows, as shown in FIG. 30B.
  • Each minute side formed by dividing the periphery C12 of the second region R12 into n equal parts starting from the intersection P between the expressions (11) and (35) is defined as ⁇ C12i
  • the periphery C13 of the third region 13 Are each divided into n equal parts starting from the intersection point P of the expressions (15) and (36) as ⁇ C13i
  • each rectangular minute area having both short sides as ⁇ C12i and ⁇ C13i is defined as It is defined as ⁇ Si.
  • i is a natural number from 0 to n, and is preferably n ⁇ ⁇ .
  • a peripheral surface formed by the group of minute regions ⁇ Si defined in this way is defined as a peripheral surface S12.
  • the region surrounded by the circumferential surface S13 having both end surfaces as the end surfaces satisfies the conditions of the respective parameters. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the region surrounded by the circumferential surface S13, the conditions of each parameter can be satisfied.
  • the region surrounded by the circumferential surface S13 includes the circumferential surface S13 itself.
  • the circumferential surface S13 is a region defined as follows, as shown in FIG. 31A.
  • Each minute side formed by dividing the periphery C13 of the third region R13 into n equal parts starting from the intersection P between the expressions (15) and (36) is defined as ⁇ C13i
  • the periphery C14 of the fourth area 14 are each divided into n equal parts starting from the intersection point P of the equations (19) and (37) as ⁇ C14i
  • each rectangular minute region having both short sides is defined as ⁇ C13i and ⁇ C14i It is defined as ⁇ Si.
  • i is a natural number from 0 to n, and is preferably n ⁇ ⁇ .
  • a circumferential surface formed by the group of minute regions ⁇ Si defined in this way is defined as a circumferential surface S13.
  • a region surrounded by the peripheral surface S14 having both end surfaces as the end surfaces satisfies the conditions of each parameter. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the region surrounded by the circumferential surface S14, the conditions of each parameter can be satisfied.
  • the region surrounded by the circumferential surface S14 includes the circumferential surface S14 itself.
  • the circumferential surface S14 is an area defined as follows, as shown in FIG. 31B.
  • Each minute side formed by dividing the periphery C14 of the fourth region R14 into n equal parts starting from the intersection P between the equations (19) and (37) is defined as ⁇ C14i
  • the periphery C15 of the fifth region 15 are each divided into n equal parts starting from the intersection point P of the expressions (23) and (38) as ⁇ C15i
  • each rectangular minute area having both short sides as ⁇ C14i and ⁇ C15i is defined as ⁇ C15i. It is defined as ⁇ Si.
  • i is a natural number from 0 to n, and is preferably n ⁇ ⁇ .
  • a circumferential surface formed by the group of minute regions ⁇ Si defined in this way is defined as a circumferential surface S14.
  • the region surrounded by the circumferential surface S15 includes the circumferential surface S15 itself.
  • the peripheral surface S15 is an area defined as follows, as shown in FIG. 32A.
  • Each minute side formed by dividing the periphery C15 of the fifth region R15 into n equal parts starting from the intersection P between the expressions (23) and (38) is defined as ⁇ C15i
  • the periphery C16 of the sixth region 16 Are each divided into n equal parts starting from the intersection point P between the expression (125) and the expression (39) as ⁇ C16i
  • each rectangular minute area having both short sides is defined as ⁇ C15i and ⁇ C16i It is defined as ⁇ Si.
  • i is a natural number from 0 to n, and is preferably n ⁇ ⁇ .
  • a peripheral surface formed by the group of minute regions ⁇ Si defined in this way is defined as a peripheral surface S15.
  • ⁇ ⁇ 0.0001 ⁇ 2 + 0.002 ⁇ + 0.0074 (23)
  • ⁇ ⁇ 0.0001 ⁇ 2 + 0.0011 ⁇ + 0.0083 (38)
  • ⁇ ⁇ 0.005 ⁇ 2 + 0.0273 ⁇ 0.0145 (25)
  • ⁇ ⁇ 0.0002 ⁇ 2 + 0.0016 ⁇ + 0.0067 (39) (160nm ⁇ L ⁇ 180nm)
  • the total film thickness L is 160 nm ⁇ L ⁇ 180 nm, as shown in FIG.
  • the sixth plane Sp16 defined by the sixth region R16 and the seventh plane Sp17 defined by the seventh region R17 are a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the region surrounded by the circumferential surface S16, the conditions of each parameter can be satisfied.
  • the region surrounded by the circumferential surface S16 includes the circumferential surface S16 itself.
  • the circumferential surface S16 is a region defined as follows, as shown in FIG. 32B.
  • Each minute side formed by dividing the periphery C16 of the sixth region R16 into n equal parts starting from the intersection P between the expressions (25) and (39) is defined as ⁇ C16i
  • the periphery C17 of the seventh area 17 Are each divided into n equal parts starting from the intersection P between the expression (130) and the expression (40) as ⁇ C17i
  • each rectangular minute area having both short sides as ⁇ C16i and ⁇ C17i is defined as It is defined as ⁇ Si.
  • i is a natural number from 0 to n, and is preferably n ⁇ ⁇ .
  • a circumferential surface formed by the group of minute regions ⁇ Si defined in this way is defined as a circumferential surface S16.
  • the first plane Sp11 defined by the first region R11, the second plane Sp12 defined by the second region R12, and these planes A region (space) V11 surrounded by the peripheral surface S11 as both end surfaces is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are included in the region (space) V11 surrounded by the plane Sp11, the plane Sp12, and the peripheral surface Sp11 having these planes as both end faces, thereby satisfying the conditions of each parameter. can do.
  • the region (space) V11 includes a plane Sp11, a plane Sp12, and a circumferential surface S11.
  • the second plane Sp12 defined by the second region R12, the third plane Sp13 defined by the third region R13, and these planes A region (space) V12 surrounded by the peripheral surface S12 as both end surfaces is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are included in the region (space) V12 surrounded by the plane Sp12, the plane Sp13, and the circumferential surface Sp12 having these planes as both end faces, thereby satisfying the conditions of each parameter. can do.
  • the region (space) V12 includes a plane Sp12, a plane Sp13, and a circumferential surface S12. (100 nm ⁇ L ⁇ 120 nm)
  • the third plane Sp13 defined by the third region R13, the fourth plane Sp14 defined by the fourth region R14, and these planes A region (space) V13 surrounded by the peripheral surface S13 as both end surfaces is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are included in the region (space) V13 surrounded by the plane Sp13, the plane Sp14, and the peripheral surface Sp13 having these planes as both end faces, thereby satisfying the conditions of each parameter.
  • the region (space) V13 includes a plane Sp13, a plane Sp14, and a circumferential surface S13. (120nm ⁇ L ⁇ 140nm)
  • the fourth plane Sp14 defined by the fourth region R14, the fifth plane Sp15 defined by the fifth region R15, and these planes A region (space) V14 surrounded by the circumferential surface S14 as both end surfaces is a region that satisfies the conditions of each parameter.
  • the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are included in the region (space) V14 surrounded by the plane Sp14, the plane Sp15, and the circumferential surface Sp14 having these planes as both end faces, thereby satisfying the conditions of each parameter. can do.
  • the region (space) V14 includes a plane Sp14, a plane Sp15, and a circumferential surface S14.
  • the fifth plane Sp15 defined by the fifth region R15, the sixth plane Sp16 defined by the sixth region R16, and these planes A region (space) V15 surrounded by the circumferential surface S15 as both end surfaces is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are included in the region (space) V15 surrounded by the plane Sp15, the plane Sp16, and the peripheral surface Sp15 having these planes as both end faces, thereby satisfying the conditions of each parameter. can do.
  • the region (space) V15 includes a plane Sp15, a plane Sp16, and a circumferential surface S15.
  • the sixth plane Sp16 defined by the sixth region R16, the seventh plane Sp17 defined by the seventh region R17, and these planes A region (space) V16 surrounded by the peripheral surface S16 as both end surfaces is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are included in the region (space) V16 surrounded by the plane Sp16, the plane Sp17, and the circumferential surface Sp16 having these planes as both end faces, thereby satisfying the conditions of each parameter.
  • the region (space) V16 includes a plane Sp16, a plane Sp17, and a circumferential surface S16.
  • the total film thickness L is set, and the film thickness of each layer is set so that the ratio ⁇ and ratio ⁇ in the shaded region are obtained, thereby producing a laminated film that satisfies the conditions of each parameter. be able to.
  • the region satisfying the condition of each parameter in the case other than the specific total film thickness L is the region surrounded by the circumferential surface S having both adjacent end surfaces of the specific total film thickness L.
  • the region that satisfies the conditions of each parameter is not limited to this example.
  • the region that satisfies the conditions of each parameter when the total film thickness L is other than a specific value may be a region where adjacent regions of the specific total film thickness L overlap each other.
  • FIG. 33A is a diagram in which regions satisfying the conditions of each parameter when the visible light transmittance, the blueness index, and the redness index are used as parameters are mapped on the same plane.
  • a region where the total film thickness L is 160 nm and 180 nm is shown.
  • a region where two adjacent regions overlap each other is formed by mapping regions in a specific total film thickness L adjacent to each other on the same plane.
  • the overlapping region can be a region that satisfies the conditions of each parameter. Regions that overlap each other can be determined based on the approximate curves that form the respective regions. (80nm ⁇ L ⁇ 90nm)
  • the total film thickness L is more than 80 nm and less than 90 nm, it is surrounded by the following formulas (8), (10), and (11) based on a region that satisfies the conditions of the parameters shown in FIGS. 17A and 17B. The region that satisfies the conditions of each parameter.
  • FIG. 33B is a diagram in which areas satisfying the conditions of each parameter are mapped on the same plane when the visible light transmittance, the blueness index, the redness index, and the shielding coefficient are used as parameters.
  • a region where the total film thickness L is 160 nm and 180 nm is shown.
  • a region where two adjacent regions overlap each other is formed by mapping adjacent regions of a specific total film thickness L on the same plane.
  • the overlapping region can be a region that satisfies the conditions of each parameter. Regions that overlap each other can be determined based on the approximate curves that form the respective regions.
  • the total film thickness L is more than 80 nm and less than 90 nm, even if regions that satisfy the conditions of the parameters shown in FIGS. 21A and 21B are mapped on the same plane, there are no overlapping regions. Therefore, it is impossible to determine a region that satisfies the conditions of each parameter by this method.
  • a region that satisfies the conditions of each parameter for the ratio ⁇ and the ratio ⁇ determined according to the film thickness of each layer of the reflective layer 3 is determined, and the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are within this region.
  • FIG. 34A is a cross-sectional view showing a first modification of the first embodiment of the present invention.
  • the optical film 1 according to the first modification has a concave-convex incident surface S1.
  • the concave / convex shape of the incident surface S1 and the concave / convex shape of the first optical layer 4 are formed, for example, so that the concave / convex shapes of both correspond to each other, and the positions of the top of the convex portion and the bottom of the concave portion Match.
  • the uneven shape of the incident surface S ⁇ b> 1 is preferably gentler than the uneven shape of the first optical layer 4.
  • FIG. 34B is a cross-sectional view showing a second modification of the first embodiment of the present invention.
  • the position of the convex top of the concave-convex surface of the first optical layer 4 on which the reflective layer 3 is formed is the first optical layer.
  • the layer 4 is formed to have substantially the same height as the incident surface S1.
  • Second Embodiment> The second embodiment is different from the first embodiment in that the area to be satisfied by each parameter is set by using the area defined by the approximate straight line instead of the area defined by the approximate curve. Is different.
  • the approximate straight line is derived from the approximate curve obtained in the first embodiment.
  • the curve direction of the approximate curve represented by the equations (21) and (23) is (a) opposite to the center of gravity G of the region R5, whereas
  • the curve direction of the approximate curve represented by Expression (22) is the direction of the center of gravity G of (b) region R5. Since the method for deriving the approximate line differs depending on the curve direction of these approximate curves, (a) the curve direction opposite to the center of gravity G of the region R5 and (b) the curve direction of the region R5 in the direction of the center of gravity G.
  • the approximate curve derivation method will be described separately.
  • the approximate straight line represented by the formula (21a) can be obtained as follows, for example. First, the coordinates of the intersections A and B between the straight line (24) and the approximate curve (23) intersecting the approximate curve represented by the equation (21) are obtained. Next, a straight line passing through the coordinates of these two intersections A and B is obtained, and this straight line is set as an approximate straight line (21a). From the approximate curve represented by Expression (23), the approximate straight line represented by Expression (23a) can be obtained, for example, as follows.
  • FIG. 36A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, and redness index when the total film thickness L is 80 nm.
  • the boundary line between the region that satisfies the visible light transmittance condition and the region that does not satisfy the visible light transmittance is outside the region indicated by shading, and is not shown. Note that the boundary lines are similarly omitted in FIGS. 36B to 38B used in the following description.
  • the following approximate straight line equations (5a) to (7a) are derived from the approximate curve equations (5) to (7) defining the region R1 (FIG. 17A).
  • the following linear equation (8) that defines the region R1 (FIG. 17A) is set in order to prevent the thickness of the metal layer from becoming 5 nm or less, as described in the first embodiment. Therefore, the second embodiment is used without any particular change.
  • first region R1a A region defined by the approximate straight line represented by the equations (5a) to (7a) and the straight line represented by the equation (8) (hereinafter referred to as “first region R1a”) is visible light transmission. This is a region that satisfies the conditions of each parameter of rate, blueness index, and redness index. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the first region R1a, the conditions of the respective parameters described above can be satisfied.
  • FIG. 36B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, and redness index when the total film thickness L is 90 nm. From the approximate curve equations (9) to (11) that define the region R2 (FIG. 17B), the following approximate straight line equations (9a) to (11a) are derived. The following linear equation (12) that defines the region R2 (FIG.
  • FIG. 37A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, and redness index when the total film thickness L is 100 nm. From the approximate curve equations (13) to (15) that define the region R3 (FIG.
  • a region defined by the approximate straight line represented by these equations (13a) to (15a) and the straight line represented by equation (16) (hereinafter referred to as “third region R3a”) is visible light transmission. This is a region that satisfies the conditions of each parameter of rate, blueness index, and redness index. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the third region R3a, the conditions of the respective parameters described above can be satisfied.
  • FIG. 37B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, and redness index when the total film thickness L is 120 nm. From the approximate curve equations (17) to (19) that define the region R4 (FIG. 18B), the following approximate straight line equations (17a) to (19a) are derived. The following linear equation (20) that defines the region R4 (FIG.
  • FIG. 38A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, and redness index when the total film thickness L is 140 nm.
  • the following approximate straight line equations (21a) to (23a) are derived from the approximate curve equations (21) to (23) defining the region R5 (FIG. 19A).
  • the following linear equation (24) that defines the region R5 (FIG. 19A) is set to prevent the thickness of the metal layer from becoming 5 nm or less, as described in the first embodiment. Therefore, the second embodiment is used without any particular change.
  • a region defined by the approximate straight line represented by the equations (21a) to (23a) and the straight line represented by the equation (24) (hereinafter referred to as “fifth region R5a”) is visible light transmission. This is a region that satisfies the conditions of each parameter of rate, blueness index, and redness index. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the fifth region R5a, the conditions of the respective parameters described above can be satisfied.
  • the fifth region R5a includes an approximate straight line represented by the equations (21a) to (23a) and a straight line represented by the equation (24).
  • FIG. 38B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, and redness index when the total film thickness L is 160 nm.
  • the following approximate straight line equations (25a), (26a), and (28a) are derived from the approximate curve equations (25), (26), and (28) that define the region R6 (FIG. 19B).
  • a region defined by the approximate straight line represented by these equations (25a), (26a), and (28a) and the straight line represented by equation (29) (hereinafter referred to as “sixth region R6a”).
  • the region satisfies the conditions of the parameters of visible light transmittance, blueness index, and redness index. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the sixth region R6a, the conditions of the respective parameters described above can be satisfied.
  • the sixth region R6a includes an approximate straight line represented by the expressions (25a), (26a), and (28a) and a straight line represented by the expression (29).
  • the region satisfying the conditions of each parameter is considered to be continuous with respect to the total film thickness L. Therefore, when the specific total film thickness L is other than 80 nm, 90 nm,..., 160 nm, the region surrounded by the circumferential surface S having both end surfaces of the adjacent specific total film thickness L is set to each parameter. The region satisfies the above condition.
  • the following formulas (41) to (44) are derived based on the positions of the vertices in the region satisfying the conditions of the parameters shown in FIGS. 36A and 36B.
  • a plane having two approximate sides of the approximate straight lines of Equation (41) and Equation (42)... S1 A plane with two approximate sides of the approximate straight line of Equation (42) and Equation (43)...
  • S2 A plane with two approximate sides of the approximate straight lines of Equation (43) and Equation (44)...
  • S3 A plane with two approximate sides of the approximate straight line of formula (44) and formula (41)... S4
  • the region (space) V1a includes approximate straight lines themselves of the equations (41) to (44).
  • the surfaces having the approximate straight lines of Equation (41) and Equation (42) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the line segment ab is arranged such that both end points thereof are along the line segment aa (line segment represented by the formula (41)) and the line segment bb (line segment represented by the formula (42)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (the direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp1a.
  • the moving range of the line segment ab is 80 nm ⁇ L ⁇ 90 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of Equation (42) and Equation (43) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the line segment bd is arranged so that both end points thereof are along the line segment bb (line segment represented by the formula (42)) and the line segment dd (line segment represented by the formula (43)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (the direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp1a.
  • the moving range of the line segment bd is 80 nm ⁇ L ⁇ 90 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of Equation (43) and Equation (44) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the first line of the line segment dc is set so that both end points thereof are along the line segment dd (the line segment represented by Expression (43)) and the line segment cc (the line segment represented by Expression (44)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (the direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp1a.
  • the moving range of the line segment dc is 80 nm ⁇ L ⁇ 90 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of Equation (44) and Equation (41) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the first line of the line segment ca so that both end points thereof are along the line segment cc (the line segment represented by the formula (44)) and the line segment aa (the line segment represented by the formula (41)).
  • This is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp1a.
  • the moving range of the line segment ca is 80 nm ⁇ L ⁇ 90 nm. (90nm ⁇ L ⁇ 100nm)
  • the following formulas (51) to (54) are derived based on the positions of the vertices in the region satisfying the parameter conditions shown in FIGS. 36B and 37A.
  • a plane having two approximate sides of the approximate straight lines of Equation (51) and Equation (52)... S1 A plane with two approximate sides of the approximate straight line of Formula (52) and Formula (53) ... s2 A plane having two approximate sides of the approximate straight lines of Expression (53) and Expression (54)... S3 A plane having two opposite sides of the approximate straight line of Equation (54) and Equation (51)... S4
  • the region (space) V2a includes the approximate straight line itself of the equations (51) to (54).
  • the surfaces having the approximate straight lines of Equation (51) and Equation (52) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the second segment ab is set so that both end points thereof are along the segment aa (the segment represented by the equation (51)) and the segment bb (the segment represented by the equation (52)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp2a.
  • the moving range of the line segment ab is 90 nm ⁇ L ⁇ 100 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of Expression (52) and Expression (53) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the line segment bd is arranged so that both end points thereof are along the line segment bb (line segment represented by the formula (52)) and the line segment dc (line segment represented by the formula (53)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp2a.
  • the moving range of the line segment bd is 90 nm ⁇ L ⁇ 100 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of Equation (53) and Equation (54) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the second end of the line segment dc is along the line segment dc (the line segment represented by Expression (53)) and the line segment cd (the line segment represented by Expression (54)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp2a.
  • the moving range of the line segment dc is 90 nm ⁇ L ⁇ 100 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of Expression (54) and Expression (51) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the second line of the line segment ca so that both end points thereof are along the line segment cc (the line segment represented by the expression (54)) and the line segment aa (the line segment represented by the expression (51)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp2a.
  • the moving range of the line segment ca is 90 nm ⁇ L ⁇ 100 nm. (100nm ⁇ L ⁇ 120nm)
  • the following formulas (61) to (64) are derived based on the positions of the vertices in the region satisfying the parameter conditions shown in FIGS. 37A and 37B.
  • a plane having two approximate sides of the approximate straight line of formula (61) and formula (62)... S1 A plane with two approximate sides of the approximate straight line of Formula (62) and Formula (63) ... s2 A plane having two approximate sides of the approximate straight line of Equation (63) and Equation (64)... S3 A plane with two approximate sides of the approximate straight line of Equation (64) and Equation (61)... S4
  • the region (space) V3a includes the approximate straight line itself of the equations (61) to (64).
  • the surfaces having the approximate straight lines of Equation (61) and Equation (62) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the line segment ab is arranged so that both end points thereof are along the line segment aa (line segment represented by the formula (61)) and the line segment bb (line segment represented by the formula (62)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp3a.
  • the moving range of the line segment ab is 100 nm ⁇ L ⁇ 120 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of the equations (62) and (63) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the line segment bc is arranged so that both end points thereof are along the line segment bb (line segment represented by the formula (62)) and the line segment cc (line segment represented by the formula (63)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp3a.
  • the moving range of the line segment bc is 100 nm ⁇ L ⁇ 120 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of Equation (63) and Equation (64) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the third line of the line segment cd is set so that both end points thereof are along the line segment cc (the line segment represented by the expression (63)) and the line segment dd (the line segment represented by the expression (64)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp3a.
  • the moving range of the line segment cd is 100 nm ⁇ L ⁇ 120 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of the equations (64) and (61) as two sides facing each other are surfaces formed as follows.
  • the third line of the line segment da is aligned with the line segment dd (the line segment represented by the expression (64)) and the line segment aa (the line segment represented by the expression (61)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp3a.
  • the moving range of the line segment da is 100 nm ⁇ L ⁇ 120 nm. (120nm ⁇ L ⁇ 140nm)
  • the following formulas (71) to (74) are derived based on the positions of the vertices in the region satisfying the parameter conditions shown in FIGS. 37B and 38A.
  • a plane having two approximate sides of the approximate straight line of formula (71) and formula (72)... S1 A plane with two approximate sides of the approximate straight line of Expression (72) and Expression (73)...
  • S2 A plane having two approximate sides of the approximate straight lines of Expression (73) and Expression (74)...
  • S3 A plane having two approximate sides of the approximate straight line of formula (74) and formula (71)... S4
  • the region (space) V4a includes approximate straight lines themselves of the equations (71) to (74).
  • the surfaces having the approximate straight lines of Expression (71) and Expression (72) as two opposing sides are surfaces formed as follows.
  • the line segment ab is arranged so that both end points thereof are along line segment aa (line segment represented by formula (71)) and line segment bb (line segment represented by formula (72)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp4a.
  • the moving range of the line segment ab is 120 nm ⁇ L ⁇ 140 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of the equations (72) and (73) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the line segment bc is arranged so that both end points thereof are along the line segment bb (line segment represented by the expression (72)) and the line segment cc (line segment represented by the expression (73)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp4a.
  • the moving range of the line segment bc is 120 nm ⁇ L ⁇ 140 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of Expression (73) and Expression (74) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the line segment cd is arranged so that both end points thereof are along the line segment cc (the line segment represented by the expression (73)) and the line segment dd (the line segment represented by the expression (74)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp4a.
  • the moving range of the line segment cd is 120 nm ⁇ L ⁇ 140 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of Expression (74) and Expression (71) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the line segment da is arranged so that both end points thereof are along the line segment dd (line segment represented by the formula (74)) and the line segment aa (line segment represented by the formula (71)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp4a.
  • the moving range of the line segment da is 120 nm ⁇ L ⁇ 140 nm. (140nm ⁇ L ⁇ 160nm)
  • the following formulas (81) to (84) are derived based on the positions of the vertices in the region that satisfies the conditions of the parameters shown in FIGS. 38A and 38B.
  • the region (space) V5a includes the approximate straight lines themselves of the equations (81) to (84).
  • a plane having two approximate sides of the approximate straight line of the equations (81) and (82)... S1 A plane with two approximate sides of the approximate straight line of Equation (82) and Equation (83)...
  • S2 A plane having two approximate sides of the approximate straight line of Equation (83) and Equation (84)...
  • S3 A plane having two opposite sides of the approximate straight line of formula (84) and formula (81)... S4
  • the region (space) V4a includes the approximate straight lines themselves of the equations (81) to (84).
  • the surfaces having the approximate straight lines of the equations (81) and (82) as two opposite sides are surfaces formed as follows. That is, the line segment ab is arranged so that its both end points are along the line segment aa (line segment represented by the formula (81)) and the line segment bb (line segment represented by the formula (82)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (the direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp5a. However, the moving range of the line segment ab is 140 nm ⁇ L ⁇ 160 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of the equations (82) and (83) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the line segment bc is arranged so that its both end points are along the line segment bb (line segment represented by the formula (82)) and the line segment cc (line segment represented by the formula (83)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (the direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp5a.
  • the moving range of the line segment bc is 140 nm ⁇ L ⁇ 160 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of the equations (83) and (84) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the line segment cd is arranged so that both end points thereof are along the line segment cc (line segment represented by the formula (83)) and the line segment dd (line segment represented by the formula (84)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (the direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp5a.
  • the moving range of the line segment cd is 140 nm ⁇ L ⁇ 160 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of the equations (84) and (81) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the line segment da is arranged so that its both end points are along the line segment dd (line segment represented by the formula (84)) and the line segment aa (line segment represented by the formula (81)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (the direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp5a.
  • the moving range of the line segment da is 140 nm ⁇ L ⁇ 160 nm. Therefore, the region satisfying the conditions of the visible light transmittance, the blueness index, and the redness index parameter is set as follows for each total film thickness L range.
  • a region (space) V1b surrounded by the following six surfaces is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the region (space) V1b, the conditions of each parameter can be satisfied.
  • Formula (5a), Formula (7a), Formula (6a) and Formula (8) Approximate straight line and plane with straight lines as four sides Sp1a An approximate straight line of Formula (9a), Formula (11a), Formula (10a), and Formula (12) and a plane having four sides as a straight line.
  • the surfaces s1a to s4a are formed in the same manner as the surfaces s1 to s4 in the range where the total film thickness L is 80 nm ⁇ L ⁇ 90 nm, except that the movement range of each line segment is in the range of 80 nm ⁇ L ⁇ 90 nm.
  • Surface. (90nm ⁇ L ⁇ 100nm) When the total film thickness L is 90 nm ⁇ L ⁇ 100 nm, a region (space) V2b surrounded by the following six surfaces is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the region (space) V2b, the conditions of each parameter can be satisfied.
  • Sp3a A plane having four sides of the approximate straight line of Formula (9a), Formula (13a), Formula (51), and Formula (52)..
  • S1a A plane having four sides of the approximate straight line of Formula (11a), Formula (15a), Formula (52), and Formula (53)
  • S2a A plane having four sides of the approximate straight line of Formula (10a), Formula (14a), Formula (53), and Formula (54)...
  • S3a A plane having four sides of the approximate straight line of Expression (12), Expression (16), Expression (54), and Expression (51)... S4a
  • the region (space) V2b includes the approximate straight lines that define the above-described surfaces and the straight lines themselves.
  • a region (space) V3b surrounded by the following six surfaces is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the region (space) V3b, the conditions of each parameter can be satisfied.
  • Sp4a A plane having four sides of the approximate straight line of Formula (13a), Formula (17a), Formula (61), and Formula (62).
  • S1a A plane having four sides of the approximate straight line of formula (15a), formula (19a), formula (62), and formula (63)
  • S2a A plane having four sides of the approximate straight line of formula (14a), formula (18a), formula (63), and formula (64)
  • S3a A plane having four sides of the approximate straight line of Expression (16), Expression (20), Expression (64), and Expression (61)... S4a
  • the region (space) V3b includes the approximate straight lines that define the above-described surfaces and the straight lines themselves.
  • Surface. (120nm ⁇ L ⁇ 140nm) When the total film thickness L is 120 nm ⁇ L ⁇ 140 nm, a region (space) V4b surrounded by the following six surfaces is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the region (space) V4b, the conditions of each parameter can be satisfied.
  • Sp4a An approximate straight line of formula (21a), formula (23a), formula (22a), and formula (24), and a plane having four straight lines as the sides: Sp5a A plane having four sides of the approximate straight line of Expression (17a), Expression (21a), Expression (71), and Expression (72)...
  • S1a A plane having four sides of the approximate straight line of Formula (19a), Formula (23a), Formula (72), and Formula (73)...
  • S2a A plane having four sides of the approximate straight line of formula (18a), formula (22a), formula (73), and formula (74)...
  • S3a A plane having four sides of the approximate straight line of Expression (20), Expression (24), Expression (74), and Expression (71)... S4a
  • the region (space) V4b includes the approximate straight lines that define the above-described surfaces and the straight lines themselves.
  • a region (space) V5b surrounded by the following six surfaces is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the region (space) V5b, the conditions of each parameter can be satisfied.
  • S3a A plane having four sides of the approximate straight line of Formula (24), Formula (29), Formula (84), and Formula (81)... S4a
  • the region (space) V5b includes the approximate straight lines that define the above-described surfaces and the straight lines themselves.
  • FIG. 40A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient when the total film thickness L is 80 nm.
  • the following approximate straight line equations (6b), (7b), and (34b) are derived from the approximate curve equations (6), (7), and (34) that define the region R11 (FIG. 21A).
  • first region R11a A region defined by the approximate straight line represented by these formulas (6b), (7b), and (34b) (hereinafter referred to as “first region R11a”) has a visible light transmittance, a blueness index, a redness index, and This is a region that satisfies the conditions of each parameter of the shielding coefficient. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the first region R11a, the conditions of the respective parameters described above can be satisfied.
  • FIG. 40B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on conditions of visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient when the total film thickness L is 90 nm. From the approximate curve equations (10), (11), and (35) that define the region R12 (FIG. 21B), the following approximate straight line equations (10b), (11b), and (35b) are derived.
  • second region R12a A region defined by the approximate straight line represented by these formulas (10b), (11b), and (35b) (hereinafter referred to as “second region R12a”) has a visible light transmittance, a blueness index, a redness index, and This is a region that satisfies the conditions of each parameter of the shielding coefficient. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the second region R12a, the conditions of the respective parameters described above can be satisfied.
  • FIG. 41A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on the conditions of visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient when the total film thickness L is 100 nm. From the approximate curve equations (14), (15), and (36) that define the region R13 (FIG. 22A), the following approximate straight line equations (14b), (15b), and (36b) are derived.
  • third region R13a A region defined by the approximate straight line represented by these equations (14b), (15b), and (36b) (hereinafter referred to as “third region R13a”) is a visible light transmittance, a blueness index, a redness index, and This is a region that satisfies the conditions of each parameter of the shielding coefficient. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the third region R13a, it is possible to satisfy the conditions of the respective parameters described above.
  • FIG. 41B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on conditions of visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient when the total film thickness L is 120 nm.
  • the following approximate straight line equations (18b), (19b), and (37b) are derived from the approximate curve equations (18), (19), and (37) that define the region R14 (FIG. 22B).
  • a region defined by the approximate straight line represented by these equations (18b), (19b), and (37b) (hereinafter referred to as “fourth region R14a”) has a visible light transmittance, a blueness index, a redness index, and This is a region that satisfies the conditions of each parameter of the shielding coefficient. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the fourth region R14a, the conditions of the respective parameters described above can be satisfied.
  • FIG. 42A is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on conditions of visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient when the total film thickness L is 140 nm.
  • the following approximate straight line equations (22b), (23b), and (38b) are derived from the approximate curve equations (22), (23), and (38) that define the region R15 (FIG. 23A).
  • a region defined by the approximate straight line represented by these equations (22b), (23b), and (38b) (hereinafter referred to as “fifth region R15a”) has a visible light transmittance, a blueness index, a redness index, and This is a region that satisfies the conditions of each parameter of the shielding coefficient. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the fifth region R15a, the conditions of the respective parameters described above can be satisfied.
  • FIG. 42B is an ⁇ - ⁇ correlation diagram based on conditions of visible light transmittance, blueness index, redness index, and shielding coefficient when the total film thickness L is 160 nm.
  • the following approximate straight line equations (26b), (28b), and (39b) are derived from the approximate curve equations (26), (28), and (39) that define the region R16 (FIG. 23B).
  • a region defined by the approximate straight line represented by these equations (26b), (28b), and (39b) (hereinafter referred to as “sixth region R16a”) is a visible light transmittance, a blueness index, a redness index, and This is a region that satisfies the conditions of each parameter of the shielding coefficient. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the sixth region R16a, the conditions of the respective parameters described above can be satisfied.
  • the sixth region R16a includes approximate straight lines represented by equations (26b), (28b), and (39b).
  • the region satisfying the conditions of each parameter is considered to be continuous with respect to the total film thickness L. Therefore, when the specific total film thickness L is other than 80 nm, 90 nm,..., 160 nm, the region surrounded by the circumferential surface S having both end surfaces of the adjacent specific total film thickness L is set to each parameter. The region satisfies the above condition.
  • the line segment de is arranged so that both end points thereof are along the line segment dd (the line segment represented by the expression (43)) and the line segment ee (the line segment represented by the expression (45)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp11a.
  • the moving range of the line segment de is 80 nm ⁇ L ⁇ 90 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of Expression (45) and Expression (46) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the first segment of the line segment ef is set so that both end points thereof are along the line segment ee (line segment represented by the formula (45)) and the line segment ff (line segment represented by the formula (46)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp11a.
  • the moving range of the line segment ef is 80 nm ⁇ L ⁇ 90 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of Equation (46) and Equation (43) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the first segment of the line segment fd is such that both end points thereof are along the line segment ff (the line segment represented by the expression (46)) and the line segment dd (the line segment represented by the expression (43)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp11a.
  • the moving range of the line segment fd is 80 nm ⁇ L ⁇ 90 nm. (90nm ⁇ L ⁇ 100nm) Based on the positions of the vertices in the region satisfying the parameter conditions shown in FIGS. 40B and 41A, the following equations (53), (55), and (56) are derived.
  • the region (space) V12a includes the approximate straight line itself of the equations (53), (55), and (56).
  • the surfaces having the approximate straight lines of Expression (53) and Expression (55) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the second line of the line segment de is such that both end points thereof are along the line segment dc (the line segment represented by the expression (53)) and the line segment ee (the line segment represented by the expression (55)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp12a.
  • the moving range of the line segment de is 90 nm ⁇ L ⁇ 100 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of Expression (55) and Expression (56) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the second end of the line segment ef is along the line segment ee (the line segment represented by the expression (55)) and the line segment ff (the line segment represented by the expression (56)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp12a.
  • the moving range of the line segment ef is 90 nm ⁇ L ⁇ 100 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of Expression (56) and Expression (53) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the second line of the line segment fd is set so that both end points thereof are along the line segment ff (the line segment represented by Expression (56)) and the line segment dc (the line segment represented by Expression (53)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp12a.
  • the moving range of the line segment fd is 90 nm ⁇ L ⁇ 100 nm. (100nm ⁇ L ⁇ 120nm)
  • the following equations (63), (65), and (66) are derived based on the positions of the vertices in the region that satisfies the conditions of the parameters shown in FIGS. 41A and 41B.
  • S5 A plane having two approximate sides of the approximate straight line of Formula (65) and Formula (66)...
  • S6 A plane having two approximate sides of the approximate straight line of Equation (66) and Equation (63)... S7
  • the region (space) V13a includes approximate straight lines themselves of the equations (63), (65), and (66).
  • the surfaces having the approximate straight lines of Equation (63) and Equation (65) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the line segment ce is arranged so that both end points thereof are along the line segment cc (line segment represented by the formula (63)) and the line segment ee (line segment represented by the formula (65)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp13a.
  • the moving range of the line segment ce is 100 nm ⁇ L ⁇ 120 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of the equations (65) and (66) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the third segment of the line segment ef is set so that both end points thereof are along the line segment ee (line segment represented by the formula (65)) and the line segment ff (line segment represented by the formula (66)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp13a.
  • the moving range of the line segment ef is 100 nm ⁇ L ⁇ 120 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of the equations (66) and (63) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the third line of the line segment fc is set so that both end points thereof are along the line segment ff (the line segment represented by Expression (66)) and the line segment cc (the line segment represented by Expression (63)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp13a.
  • the moving range of the line segment fc is 100 nm ⁇ L ⁇ 120 nm. (120nm ⁇ L ⁇ 140nm)
  • the following equations (73), (75), and (76) are derived based on the positions of the vertices in the region that satisfies the parameter conditions shown in FIGS. 41B and 42A.
  • S5 A plane having two opposite sides of the approximate straight line of Expression (75) and Expression (76).
  • S6 A plane having two opposite sides of the approximate straight line of Equation (76) and Equation (73)... S7
  • the region (space) V14a includes the approximate straight lines themselves of the equations (73), (75), and (76).
  • the surfaces having the approximate straight lines of Expression (73) and Expression (75) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the line segment ce is arranged so that both end points thereof are along the line segment cc (the line segment represented by the expression (73)) and the line segment ee (the line segment represented by the expression (75)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (the direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp14a.
  • the moving range of the line segment ce is 120 nm ⁇ L ⁇ 140 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of Expression (75) and Expression (76) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the fourth segment of the line segment ef is arranged so that both end points thereof are along the line segment ee (line segment represented by the formula (75)) and the line segment ff (line segment represented by the formula (76)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (the direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp14a.
  • the moving range of the line segment ef is 120 nm ⁇ L ⁇ 140 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of Equation (76) and Equation (73) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the line segment fc is arranged so that both end points thereof are along the line segment ff (the line segment represented by Expression (76)) and the line segment cc (the line segment represented by Expression (73)). It is a surface formed by moving in the L-axis direction (the direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp14a.
  • the moving range of the line segment fc is 120 nm ⁇ L ⁇ 140 nm. (140nm ⁇ L ⁇ 160nm)
  • the following equations (83), (85), and (86) are derived based on the positions of the vertices in the region that satisfies the conditions of the parameters shown in FIGS. 42A and 42B.
  • a plane having two opposite sides of the approximate straight line of Expression (83) and Expression (85)... S5 A plane having two approximate sides of the approximate straight line of formula (85) and formula (86) ... s6
  • the region (space) V15a includes the approximate straight lines themselves of the equations (83), (85), and (86).
  • the surfaces having the approximate straight lines of the equations (83) and (85) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the line segment ce is arranged so that both end points thereof are along the line segment cc (the line segment represented by the expression (83)) and the line segment ee (the line segment represented by the expression (85)).
  • This is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp15a.
  • the moving range of the line segment ce is 140 nm ⁇ L ⁇ 160 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of Expression (85) and Expression (86) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the line segment ef is so arranged that the both end points thereof are along the line segment ee (line segment represented by the formula (85)) and the line segment ff (line segment represented by the formula (86)).
  • This is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp15a.
  • the moving range of the line segment ef is 140 nm ⁇ L ⁇ 160 nm.
  • the surfaces having the approximate straight lines of Expression (86) and Expression (83) as two opposite sides are surfaces formed as follows.
  • the line segment fc is arranged so that its both end points are along the line segment ff (the line segment represented by the expression (86)) and the line segment cc (the line segment represented by the expression (83)).
  • This is a surface formed by moving in the L-axis direction (direction in which the total film thickness L increases) while maintaining a positional relationship parallel to the plane Sp15a.
  • the moving range of the line segment fc is 140 nm ⁇ L ⁇ 160 nm. Therefore, the region satisfying the conditions of the parameters of the visible light transmittance, the blueness index, the redness index, and the shielding coefficient is set as follows for each total film thickness L range.
  • a region (space) V11b surrounded by the following five surfaces is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the region (space) V11b, the conditions of each parameter can be satisfied.
  • a plane having three sides of the approximate straight line of Expression (6b), Expression (7b), and Expression (34b)... Sp11a A plane having three sides of the approximate straight line of Expression (10b), Expression (11b), and Expression (35b)...
  • Sp12a A plane having four sides of the approximate straight line of Expression (7b), Expression (11b), Expression (43), and Expression (45).
  • S5a A plane having four sides of the approximate straight line of Formula (6b), Formula (10b), Formula (43), and Formula (46)...
  • S7a A plane having four sides of the approximate straight line of formula (34b), formula (35b), formula (45), and formula (46)... S6a
  • the region (space) V11b includes the approximate straight lines themselves that define the above-described surfaces.
  • the surfaces s5a to s7a are formed in the same manner as the surfaces s5 to s7 in the range where the total film thickness L is 80 nm ⁇ L ⁇ 90 nm, except that the movement range of each line segment is in the range of 80 nm ⁇ L ⁇ 90 nm. It is a surface. (90nm ⁇ L ⁇ 100nm) When the total film thickness L is 90 nm ⁇ L ⁇ 100 nm, a region (space) V12b surrounded by the following five surfaces is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the region (space) V12b, the conditions of each parameter can be satisfied.
  • Surface. (120nm ⁇ L ⁇ 140nm) When the total film thickness L is 120 nm ⁇ L ⁇ 140 nm, a region (space) V14b surrounded by the following five surfaces is a region that satisfies the conditions of each parameter. That is, by allowing the ratio ⁇ and ratio ⁇ to be included in the region (space) V14b, the conditions of each parameter can be satisfied.
  • the region (space) V14b includes the approximate straight lines themselves that define the above-described surfaces.
  • Surface. (140 nm ⁇ L ⁇ 160 nm) When the total film thickness L is 140 nm ⁇ L ⁇ 160 nm, a region (space) V15b surrounded by the following five surfaces is a region that satisfies the conditions of each parameter.
  • Sp15a A plane having three sides of the approximate straight line of Expression (26b), Expression (28b), and Expression (39b).
  • Sp16a A plane having four sides of the approximate straight line of Expression (23b), Expression (28b), Expression (83), and Expression (85)...
  • S5a A plane having four sides of the approximate straight line of Formula (22b), Formula (26b), Formula (83), and Formula (86)...
  • S7a A plane having four sides of the approximate straight line of formula (38b), formula (39b), formula (85), and formula (86)... S6a
  • the region (space) V15b includes the approximate straight lines themselves that define the above-described surfaces.
  • 44A to 47B show a configuration example of the structure of the optical film according to the third embodiment of the present invention.
  • symbol is attached
  • the third embodiment is different from the first embodiment in that the structures 4 c are two-dimensionally arranged on one main surface of the first optical layer 4.
  • the two-dimensional array is preferably a two-dimensional array in a close-packed state. This is because the directional reflectance can be improved.
  • one main surface of the first optical layer 4 is formed by, for example, orthogonally arranging columnar structures (columnar bodies) 4c. Specifically, the first structures 4c arranged in the first direction and the second structures 4c arranged in the second direction orthogonal to the first direction are provided.
  • the columnar structure 4c has, for example, a prism shape (FIG. 44A), a column shape such as a lenticular shape (FIG. 44B), or a convex shape (FIG. 44C) in which the top of these columnar shapes is a polygonal shape (for example, a pentagonal shape). Part or recess.
  • a structure 4c having a shape such as a spherical shape or a corner cube shape, for example, is arranged two-dimensionally in the most densely packed state on one main surface of the first optical layer 4, thereby obtaining a square dense array or a delta dense array.
  • a dense array such as a hexagonal dense array may be formed.
  • the square dense array is a structure in which structures 4c having a rectangular (for example, square) bottom are arranged in a square dense form, that is, in a matrix (lattice).
  • the hexagonal close-packed array is an array of structures 4c having hexagonal bottom surfaces arranged in a hexagonal close-packed shape.
  • the delta dense array is a structure in which structures 4c (for example, triangular pyramids) having a triangular bottom surface are arranged in a close-packed state.
  • the structure 4c is, for example, a convex portion such as a corner cube shape, a hemisphere shape, a semi-elliptical sphere shape, a prism shape, a cylindrical shape, a free-form surface shape, a polygon shape, a cone shape, a polygonal pyramid shape, a truncated cone shape, and a parabolic shape. Or it is a recessed part.
  • the bottom surface of the structure 4c has, for example, a circular shape, an elliptical shape, or a polygonal shape such as a triangular shape, a quadrangular shape, a hexagonal shape, or an octagonal shape.
  • the pitches P1 and P2 of the structures 4c are preferably selected as appropriate according to desired optical characteristics. Further, when the main axis of the structure 4c is tilted with respect to a perpendicular perpendicular to the incident surface of the optical film 1, the main axis of the structure 4c is tilted in at least one arrangement direction of the two-dimensional arrangement of the structures 4c. It is preferable to do so. When the optical film 1 is pasted on a window material arranged substantially perpendicular to the ground, it is preferable that the main axis of the structure 4c is inclined downward (on the ground side) with respect to the vertical line.
  • the structure 4c is a corner cube shape
  • the ridge line R when the ridge line R is large, it is better to incline toward the sky.
  • retroreflection is realized by reflecting the reflection surface three times, but part of light leaks in a direction other than the retroreflection due to reflection twice.
  • FIG. 48A is a cross-sectional view showing a configuration example of an optical film according to the fourth embodiment of the present invention.
  • symbol is attached
  • the fourth embodiment is different from the first embodiment in that a plurality of reflective layers 3 inclined with respect to the light incident surface are provided in the optical layer 2 and these reflective layers 3 are arranged in parallel to each other. Is different.
  • the 48B is a perspective view showing one structural example of the structure of the optical film according to the fourth embodiment of the present invention.
  • the structure 4c is a triangular prism-shaped convex portion extending in one direction, and the columnar structures 4c are arranged one-dimensionally in one direction.
  • the cross section perpendicular to the extending direction of the structure 4c has, for example, a right triangle shape.
  • the reflective layer 3 is formed on the inclined surface on the acute angle side of the structure 4c by, for example, a directional thin film forming method such as a vapor deposition method or a sputtering method.
  • the plurality of reflective layers 3 are arranged in parallel in the optical layer 5.
  • the fifth embodiment is different from the first embodiment in that light having a specific wavelength is directionally reflected, whereas light other than the specific wavelength is scattered.
  • the optical film 1 includes a light scatterer that scatters incident light. This scatterer is provided, for example, in at least one place among the surface of the optical layer 2, the inside of the optical layer 2, and the space between the reflective layer 3 and the optical layer 2.
  • the light scatterer is preferably provided between at least one of the reflective layer 3 and the first optical layer 4, the inside of the first optical layer 4, and the surface of the first optical layer 4. Yes.
  • the optical film 1 When the optical film 1 is bonded to a support such as a window material, it can be applied to both the indoor side and the outdoor side.
  • the optical film 1 When the optical film 1 is bonded to the outdoor side, it is preferable to provide a light scatterer that scatters light other than the specific wavelength only between the reflective layer 3 and a support such as a window material. This is because if a light scatterer is present between the reflective layer 3 and the incident surface, the directional reflection characteristics are lost.
  • FIG. 49A is a cross-sectional view showing a first configuration example of an optical film 1 according to the fifth embodiment of the present invention.
  • the first optical layer 4 includes a resin and fine particles 11.
  • the fine particles 11 have a refractive index different from that of the resin that is the main constituent material of the first optical layer 4.
  • the fine particles 11 for example, at least one of organic fine particles and inorganic fine particles can be used. Further, as the fine particles 11, hollow fine particles may be used.
  • FIG. 49B is a cross-sectional view showing a second configuration example of the optical film 1 according to the fifth embodiment of the present invention.
  • the optical film 1 further includes a light diffusion layer 12 on the surface of the first optical layer 4.
  • the light diffusion layer 12 includes, for example, a resin and fine particles.
  • the fine particles the same fine particles as in the first example can be used.
  • FIG. 49C is a cross-sectional view showing a third configuration example of the optical film 1 according to the fifth embodiment of the present invention. As shown in FIG.
  • the optical film 1 further includes a light diffusion layer 12 between the reflective layer 3 and the first optical layer 4.
  • the light diffusion layer 12 includes, for example, a resin and fine particles.
  • the fine particles the same fine particles as in the first example can be used.
  • light in a specific wavelength band such as infrared light can be directed and reflected, and light other than the specific wavelength pair such as visible light can be scattered. Therefore, the optical film 1 can be fogged to impart design properties to the optical film 1.
  • FIG. 50A is a cross-sectional view showing a configuration example of an optical film according to the sixth embodiment of the present invention.
  • the same portions as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
  • the uneven surface of the optical layer 2a is not embedded with a resin material or the like, and the reflective layer is formed on the uneven surface of the optical layer 2a.
  • the third embodiment is different from the first embodiment in that 3 is exposed.
  • the optical film 1 has a concavo-convex incident surface S1 on which light such as sunlight is incident and an output surface S2 from which light transmitted through the optical film 1 is emitted out of the light incident from the incident surface S1.
  • the optical film 1 may further include a base material 2b on the emission surface S2 of the optical layer 2a as necessary.
  • FIG. 50B is a cross-sectional view showing an example in which an optical film according to a sixth embodiment of the present invention is bonded to an adherend. As shown in FIG. 50B, the incident surface S2 of the optical film 1 is bonded to the adherend 10a via the bonding layer 6, for example.
  • adherend 10a window materials, blinds, roll screens, pleated screens and the like are preferable.
  • FIG. 51 is a cross-sectional view showing a structural example of an optical film according to the seventh embodiment of the present invention.
  • a self-cleaning effect layer 51 that exhibits a cleaning effect is formed on the exposed surface opposite to the surface to be bonded to the adherend among the incident surface S1 and the exit surface S2 of the optical film 1.
  • the self-cleaning effect layer 51 includes, for example, a photocatalyst.
  • a photocatalyst for example, TiO 2 Can be used.
  • the optical film 1 is characterized in that it semi-transmits incident light. When the optical film 1 is used outdoors or in a room with much dirt, the surface is always optically transparent because light is scattered by the dirt attached to the surface and the transparency and reflectivity are lost. Is preferred.
  • the surface is excellent in water repellency and hydrophilicity, and the surface automatically exhibits a cleaning effect.
  • the optical film 1 since the optical film 1 includes the self-cleaning effect layer 51, water repellency, hydrophilicity, and the like can be imparted to the incident surface. Therefore, it is possible to suppress the adhesion of dirt and the like to the incident surface and to suppress the reduction of the directional reflection characteristics.
  • the present invention is not limited to this example, and the present invention is not limited to the window material. It is possible to apply.
  • the present invention is not limited to stationary interior members and exterior members fixed like walls and roofs, but also according to changes in the amount of sunlight due to seasonal and temporal fluctuations, Alternatively, the reflection amount can be adjusted by moving the interior member or the exterior member, and can be applied to a device that can be taken into a space such as indoors.
  • solar radiation shielding that can adjust the shielding amount of incident light by the solar radiation shielding member group by changing the angle of the solar radiation shielding member group including a plurality of solar radiation shielding members.
  • the device blind device
  • FIG. 52 is a perspective view showing a configuration example of a blind device according to the eighth embodiment of the present invention. As shown in FIG.
  • a blind device 201 that is a solar shading device includes a head box 203, a slat group (solar shading member group) 202 including a plurality of slats (feathers) 202a, and a bottom rail 204.
  • the head box 203 is provided above a slat group 202 including a plurality of slats 202a.
  • a ladder cord 206 and a lifting / lowering cord 205 extend downward from the head box 203, and a bottom rail 204 is suspended from the lower ends of these cords.
  • the slat 202a which is a solar radiation shielding member, has, for example, an elongated rectangular shape, and is supported by being suspended at a predetermined interval by a ladder cord 206 extending downward from the head box 203.
  • the head box 203 is provided with operating means (not shown) such as a rod for adjusting the angle of the slat group 202 composed of a plurality of slats 202a.
  • the head box 203 is a drive unit that adjusts the amount of light taken into a space such as a room by rotationally driving a slat group 202 including a plurality of slats 202a according to an operation of an operation unit such as a rod.
  • FIG. 53A is a cross-sectional view showing a first configuration example of a slat.
  • the slat 202a includes a base material 211 and the optical film 1.
  • the optical film 1 is preferably provided on the incident surface side (for example, the surface side facing the window material) on which external light is incident in a state where the slat group 202 is closed, in both main surfaces of the base material 211.
  • the optical film 1 and the base material 211 are bonded by a bonding layer such as an adhesive layer or an adhesive layer, for example.
  • a bonding layer such as an adhesive layer or an adhesive layer, for example.
  • the shape of the base material 211 include a sheet shape, a film shape, and a plate shape.
  • a material of the base material 211 glass, a resin material, a paper material, a cloth material, or the like can be used. In consideration of taking visible light into a predetermined space such as a room, a resin material having transparency is used. It is preferable.
  • As the glass, resin material, paper material, and cloth material those conventionally known as roll screens can be used.
  • the optical film 1 one or two or more of the optical films 1 according to the first to seventh embodiments described above can be used in combination. FIG.
  • FIG. 53B is a cross-sectional view showing a second configuration example of the slat.
  • the second configuration example uses the optical film 1 as the slat 202a. It is preferable that the optical film 1 can be supported by the ladder cord 205 and has rigidity enough to maintain the shape in the supported state.
  • 9th Embodiment demonstrates the roll screen apparatus which is an example of the solar radiation shielding apparatus which can adjust the shielding amount of the incident light by a solar radiation shielding member by winding up or unwinding a solar radiation shielding member.
  • FIG. 54A is a perspective view showing a configuration example of a roll screen device according to the ninth embodiment of the present invention. As shown in FIG.
  • a roll screen device 301 that is a solar shading device includes a screen 302, a head box 303, and a core material 304.
  • the head box 303 is configured such that the screen 302 can be moved up and down by operating an operation unit such as a chain 305.
  • the head box 303 has a winding shaft for winding and unwinding the screen therein, and one end of the screen 302 is coupled to the winding shaft.
  • a core material 304 is coupled to the other end of the screen 302.
  • the screen 302 has flexibility, and the shape thereof is not particularly limited, and is preferably selected according to the shape of a window material to which the roll screen device 301 is applied, for example, a rectangular shape. FIG.
  • the screen 302 includes a base material 311 and the optical film 1 and preferably has flexibility.
  • the optical film 1 is preferably provided on the incident surface side (surface side facing the window material) through which external light is incident, out of both main surfaces of the substrate 211.
  • the optical film 1 and the base material 311 are bonded by a bonding layer such as an adhesive layer or an adhesive layer, for example.
  • the configuration of the screen 302 is not limited to this example, and the optical film 1 may be used as the screen 302.
  • Examples of the shape of the base material 311 include a sheet shape, a film shape, and a plate shape.
  • the base material 31 glass, resin material, paper material, cloth material, or the like can be used. In consideration of taking visible light into a predetermined space such as a room, a transparent resin material is used. preferable. As the glass, resin material, paper material, and cloth material, those conventionally known as roll screens can be used. As the optical film 1, one or two or more of the optical films 1 according to the first to seventh embodiments described above can be used in combination. ⁇ 10. Tenth Embodiment> In the tenth embodiment, an example will be described in which the present invention is applied to a fitting (an interior member or an exterior member) that includes a lighting unit in an optical body having directional reflection performance. FIG.
  • FIG. 55A is a perspective view showing a structural example of a joinery according to the tenth embodiment of the present invention.
  • the joinery 401 has a configuration in which the daylighting unit 404 includes an optical body 402.
  • the fitting 401 includes an optical body 402 and a frame member 403 provided on the peripheral edge of the optical body 402.
  • the optical body 402 is fixed by a frame member 403, and the optical member 402 can be detached by disassembling the frame member 403 as necessary.
  • a shoji can be mentioned, but the present invention is not limited to this example, and can be applied to various fittings having a daylighting unit.
  • FIG. 55B is a cross-sectional view showing a configuration example of an optical body.
  • the optical body 402 includes a base material 411 and the optical film 1.
  • the optical film 1 is provided on the incident surface side (surface side facing the window material) through which external light is incident, out of both main surfaces of the base material 411.
  • the optical film 1 and the base material 311 are bonded by a bonding layer such as an adhesive layer or an adhesive layer.
  • the configuration of the shoji 402 is not limited to this example, and the optical film 1 may be used as the optical body 402.
  • the base material 411 is, for example, a flexible sheet, film, or substrate.
  • As the base material 411 glass, a resin material, a paper material, a cloth material, or the like can be used.
  • a resin material having transparency is used.
  • the glass the resin material, the paper material, and the cloth material, those conventionally known as optical bodies for joinery can be used.
  • the optical film 1 one or two or more of the optical films 1 according to the first to seventh embodiments described above can be used in combination.
  • Example 1-3 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 1-1 except that the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0138 and the ratio ⁇ was 17.9.
  • Sample 1-4 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 1-1 except that the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0155 and the ratio ⁇ was 17.4.
  • Sample 1-5 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 1-1 except that the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0172 and the ratio ⁇ was 14.6.
  • Example 2-1 A laminated film is assumed in the same manner as Sample 1-1 except that the total film thickness L of the laminated film is 90 nm and the film thickness of each layer is changed so that the ratio ⁇ is 0.0106 and the ratio ⁇ is 4. did.
  • Sample 2-2 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 2-1, except that the thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0123 and the ratio ⁇ was 10.6.
  • Sample 2-3 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 2-1, except that the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.014 and the ratio ⁇ was 7.6.
  • Example 2-4 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 2-1, except that the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0157 and the ratio ⁇ was 1.6.
  • Sample 2-5) A laminated film was assumed in the same manner as Sample 2-1, except that the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0157 and the ratio ⁇ was 9.
  • Sample 3-1) The laminated film was formed in the same manner as Sample 1-1 except that the total film thickness L of the laminated film was 100 nm, and the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0095 and the ratio ⁇ was 4.2. Was assumed.
  • Example 3-2 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 3-1, except that the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0122 and the ratio ⁇ was 6.6.
  • Sample 3-3 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 3-1, except that the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0129 and the ratio ⁇ was 4.8.
  • Sample 3-4 A laminated film was assumed in the same manner as the sump 3-1, except that the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0129 and the ratio ⁇ was 7.4.
  • Example 3-5 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 3-1, except that the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0146 and the ratio ⁇ was 4.8.
  • Sample 4-1 A laminated film is assumed in the same manner as Sample 1-1 except that the total film thickness L of the laminated film is 120 nm and the film thickness of each layer is changed so that the ratio ⁇ is 0.0094 and the ratio ⁇ is 3. did.
  • Sample 4-2 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 4-1, except that the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0111 and the ratio ⁇ was 4.6.
  • Example 4-3 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 4-1, except that the thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0128 and the ratio ⁇ was 4.
  • Sample 4-4 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 4-1, except that the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0128 and the ratio ⁇ was 5.8.
  • Sample 4-5 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 4-1, except that the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0145 and the ratio ⁇ was 3.
  • Example 5-1 The laminated film was formed in the same manner as Sample 1-1 except that the total film thickness L of the laminated film was 140 nm and the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0065 and the ratio ⁇ was 2.4. Was assumed.
  • Sample 5-2 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 5-1, except that the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0082 and the ratio ⁇ was 3.8.
  • Sample 5-3 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 5-1, except that the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0099 and the ratio ⁇ was 1.6.
  • Example 5-4 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 5-1, except that the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0099 and the ratio ⁇ was 4.2.
  • Sample 5-5 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 5-1, except that the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0116 and the ratio ⁇ was 1.6.
  • Sample 6-1 The laminated film was formed in the same manner as Sample 1-1 except that the total film thickness L of the laminated film was 160 nm, and the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0057 and the ratio ⁇ was 2.2. Was assumed.
  • Example 6-2 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 6-1, except that the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0074 and the ratio ⁇ was 3.6.
  • Sample 6-3 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 6-1, except that the thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0091 and the ratio ⁇ was 1.6.
  • Sample 6-4 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 6-1, except that the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0108 and the ratio ⁇ was 1.2.
  • Example 6-5 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 6-1, except that the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0125 and the ratio ⁇ was 3.2.
  • Sample 7-1 The laminated film was formed in the same manner as Sample 1-1 except that the total film thickness L of the laminated film was 180 nm and the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.005 and the ratio ⁇ was 1.8. Was assumed.
  • Sample 7-2 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 7-1 except that the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0067 and the ratio ⁇ was 3.4.
  • Example 7-3 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 7-1 except that the film thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0101 and the ratio ⁇ was 2.
  • Example 7-4 A laminated film was assumed in the same manner as Sample 7-1 except that the thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0118 and the ratio ⁇ was 1.6.
  • Sample 7-5) A laminated film was assumed in the same manner as Sample 7-1 except that the thickness of each layer was changed so that the ratio ⁇ was 0.0135 and the ratio ⁇ was 2.
  • Tables 1 and 2 show the simulation results for the laminated films shown in Sample 1-1 to Sample 7-5. Table 1 and Table 2 show the following.
  • Sample 2-4 is outside the region shown in FIG. 17B because the visible light transmittance, the blueness index, and the redness index do not satisfy the conditions.
  • Sample 2-5 is outside the region shown in FIG. 17B because the redness index does not satisfy the condition.
  • the shielding coefficient when the shielding coefficient is a parameter, the sample 2-3 satisfies the conditions of the shielding coefficient, so the set ratio ⁇ and ratio ⁇ are It is in the region shown in FIG. 21B. Since sample 2-1 does not satisfy the condition of the shielding coefficient, sample 2-1 is outside the region shown in FIG. 21B.
  • the sample 4-1 and the sample 4-3 satisfy the conditions of each parameter, and thus the set ratio ⁇ and ratio ⁇ are regions shown in FIG. 18B.
  • Samples 4-2 and 4-4 are outside the region shown in FIG.
  • sample 4-5 is outside the region shown in FIG. 18B because the blueness index does not satisfy the condition.
  • Sample 4-5 is outside the region shown in FIG. 18B because the visible light transmittance and the redness index do not satisfy the conditions.
  • the sample 4-3 satisfies the shielding coefficient condition, so the set ratio ⁇ and ratio ⁇ are It is in the region shown in FIG. 22B. Since sample 4-1 does not satisfy the condition of the shielding coefficient, sample 4-1 is outside the region shown in FIG. 22B.
  • the sample 6-1 and the sample 6-3 satisfy the conditions of each parameter, and thus the set ratio ⁇ and ratio ⁇ are regions shown in FIG. 19B.
  • Samples 6-2 and 6-5 are outside the region shown in FIG.
  • sample 6-4 is outside the region shown in FIG. 19B because the blueness index does not satisfy the condition.
  • Sample 6-4 is outside the region shown in FIG. 19B because the visible light transmittance and the redness index do not satisfy the conditions.
  • the sample 6-3 also satisfies the shielding coefficient condition, so the set ratio ⁇ and ratio ⁇ are It is in the region shown in FIG. 23B. Since sample 6-1 does not satisfy the condition of the shielding coefficient, sample 6-1 is outside the region shown in FIG. 23B.
  • the sample 7-3 satisfies the conditions of the shielding coefficient, so the set ratio ⁇ and ratio ⁇ are It is within the region shown in FIG. Since sample 7-1 does not satisfy the condition of the shielding coefficient, sample 7-1 is outside the region shown in FIG.
  • this invention is not limited to the above-mentioned embodiment, Various deformation
  • the configurations, methods, shapes, materials, numerical values, and the like given in the above-described embodiments are merely examples, and different configurations, methods, shapes, materials, numerical values, and the like may be used as necessary.
  • the configurations of the above-described embodiments can be combined with each other without departing from the gist of the present invention.
  • the case where the driving method of the branding device and the roll screen device is a manual type has been described as an example.
  • the driving method of the branding device and the roll screen device may be an electric type.
  • the configuration in which the optical film is bonded to an adherend such as a window member is described as an example.
  • the adherend such as the window member is attached to the first optical layer or the second optical film.
  • the function of directional reflection can be previously imparted to an optical body such as a window member.
  • the shape of an optical body is not limited to a film shape, A plate shape, a block shape, etc. may be sufficient.
  • the case where the present invention is applied to an interior member or exterior member such as a window material, a joinery, a slat of a blind device, and a screen of a roll screen device has been described as an example.
  • the present invention is limited to this example.
  • the present invention can be applied to interior members and exterior members other than those described above.
  • an interior member or exterior member to which the optical body according to the present invention is applied for example, an interior member or exterior member composed of the optical body itself, an interior member composed of a transparent base material on which a directional reflector is bonded, or the like. Or an exterior member etc. are mentioned.
  • the present invention since there is almost no scattering reflection to the indoor side by an interior member or an exterior member, the surrounding temperature rise can also be suppressed. Moreover, it is also possible to apply to bonding members other than a transparent base material according to required purposes, such as visibility control and intensity
  • the example which applied this invention to the solar radiation shielding apparatus (for example, roll screen apparatus) which can adjust the shielding amount of the incident light by a solar radiation shielding member by winding up or unwinding a solar radiation shielding member.
  • the present invention is not limited to this example.
  • the present invention can be applied to a solar radiation shielding device that can adjust the amount of incident light shielded by the solar radiation shielding member by folding the solar radiation shielding member.
  • a solar radiation shielding device for example, a pleated screen device that adjusts the shielding amount of incident light by folding a screen that is a solar radiation shielding member in a bellows shape can be exemplified.
  • the present invention in the above-described embodiment, an example in which the present invention is applied to a horizontal blind device (Venetian blind device) has been described. However, the present invention can also be applied to a vertical blind device (vertical blind device).
  • a minute region ⁇ Si is defined between adjacent regions, and the peripheral surface S formed by the group of minute regions ⁇ Si is used.
  • the ratio ⁇ and ratio ⁇ may be set in the enclosed region.
  • the present technology can be configured as follows.
  • the wavelength selective reflection layer has a five-layer configuration in which high refractive index layers and metal layers are alternately stacked,
  • the ratio ⁇ ( d b / d a ) of the optical thickness d b of the entire metal layer to the optical thickness d a of the entire high refractive index layer, and the first optical layer side and the second optical layer
  • the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are included in the second region surrounded by the following
  • Each minute side formed by dividing the periphery C2 of the second region into n equal parts starting from the intersection of the equations (5) and (7) is defined as ⁇ C2i, and ⁇ C1i and ⁇ C2i are defined as both short sides.
  • ⁇ Si An optical body in which the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are included in a region surrounded by a circumferential surface S formed by the group of the minute regions ⁇ Si.
  • a first optical layer having an uneven surface; A wavelength selective reflection layer formed on the uneven surface; A second optical layer formed on the wavelength selective reflection layer, The wavelength selective reflection layer has a five-layer configuration in which high refractive index layers and metal layers are alternately stacked, When the geometric thickness L of the entire wavelength selective reflection layer is 90 nm, The ratio ⁇ ( d b / d a
  • Each minute side formed by dividing the periphery C2 of the second region into n equal parts starting from the intersection of the equations (9) and (11) is ⁇ C2i, and ⁇ C1i and ⁇ C2i are both short sides.
  • ⁇ Si An optical body in which the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are included in a region surrounded by a circumferential surface S formed by the group of the minute regions ⁇ Si.
  • a first optical layer having an uneven surface; A wavelength selective reflection layer formed on the uneven surface; A second optical layer formed on the wavelength selective reflection layer, The wavelength selective reflection layer has a five-layer configuration in which high refractive index layers and metal layers are alternately stacked, When the geometric thickness L of the entire wavelength selective reflection layer is 100 nm, The ratio ⁇ ( d b / d a ) of the optical component
  • Each minute side formed by dividing the periphery C2 of the second region into n equal parts starting from the intersection of the equations (13) and (15) is defined as ⁇ C2i, and ⁇ C1i and ⁇ C2i are defined as both short sides.
  • ⁇ Si An optical body in which the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are included in a region surrounded by a circumferential surface S formed by the group of the minute regions ⁇ Si.
  • a first optical layer having an uneven surface; A wavelength selective reflection layer formed on the uneven surface; A second optical layer formed on the wavelength selective reflection layer, The wavelength selective reflection layer has a five-layer configuration in which high refractive index layers and metal layers are alternately stacked, When the geometric thickness L of the entire wavelength selective reflection layer is 120 nm, The ratio ⁇ ( d b / d a ) of the optical thickness d b of
  • Each minute side formed by dividing the periphery C2 of the second region into n equal parts starting from the intersection of the equations (17) and (19) is ⁇ C2i, and ⁇ C1i and ⁇ C2i are both short sides.
  • ⁇ Si An optical body in which the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are included in a region surrounded by a circumferential surface S formed by the group of the minute regions ⁇ Si.
  • a first optical layer having an uneven surface; A wavelength selective reflection layer formed on the uneven surface; A second optical layer formed on the wavelength selective reflection layer, The wavelength selective reflection layer has a five-layer configuration in which high refractive index layers and metal layers are alternately stacked, When the geometric thickness L of the entire wavelength selective reflection layer is 140 nm, The ratio ⁇ ( d b / d a ) of the optical thickness d b of the entire metal layer to the optical
  • Each minute side formed by dividing the periphery C2 of the second region into n equal parts starting from the intersection of the equations (21) and (24) is defined as ⁇ C2i, and ⁇ C1i and ⁇ C2i are defined as both short sides.
  • ⁇ Si An optical body in which the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are included in a region surrounded by a circumferential surface S formed by the group of the minute regions ⁇ Si.
  • a first optical layer having an uneven surface; A wavelength selective reflection layer formed on the uneven surface; A second optical layer formed on the wavelength selective reflection layer, The wavelength selective reflection layer has a five-layer configuration in which high refractive index layers and metal layers are alternately stacked, When the geometric thickness L of the entire wavelength selective reflection layer is 160 nm, The ratio ⁇ ( d b / d a ) of the optical thickness d b of the entire metal layer to the optical
  • Each minute side formed by dividing the periphery C2 of the second region into n equal parts starting from the intersection of the equations (26) and (28) is ⁇ C2i, and ⁇ C1i and ⁇ C2i are both short sides.
  • ⁇ Si An optical body in which the ratio ⁇ and the ratio ⁇ are included in a region surrounded by a circumferential surface S formed by the group of the minute regions ⁇ Si.
  • the high refractive index layer includes at least one selected from the group consisting of niobium oxide, zinc oxide, titanium oxide, and tantalum oxide, The optical body according to any one of (1) to (12), wherein the metal layer includes an Ag alloy.
  • a window material comprising the optical body according to any one of (16).

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Abstract

　光学体は、高屈折率層と金属層とが交互に積層された５層構成の波長選択反射層を有する。高屈折率層全体の光学膜厚ｄａに対する金属層全体の光学膜厚ｄｂの比率αと、第１の光学層側および第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の高屈折率層の光学膜厚ｄ１に対する３層目の高屈折率層の光学膜厚ｄ３の比率β（＝ｄ３／ｄ１）とが所定の領域内に含まれるようにする。

Description

光学体、窓材、建具および日射遮蔽装置
　この発明は、色調変化を抑制できる光学体、窓材、建具および日射遮蔽装置に関する。
　近年、高層ビル、住居などの建築用ガラスや車窓ガラスに太陽光の一部を吸収、または反射させる層が設けられるケースが増加している。これは地球温暖化防止を目的とした省エネルギー対策のひとつであり、太陽から注がれる光エネルギーが窓から屋内に入り、屋内温度が上昇することによりかかる冷房設備の負荷を軽減することを目的としている。太陽光から注がれる光エネルギーは、波長３８０~７８０ｎｍの可視領域と７８０~２１００ｎｍの近赤外領域とが大きな比率を占めている。このうち後者の波長域における窓の透過率は、人間の視認性と無関係であるため、高透明性かつ高熱遮蔽性を有する窓としての性能を左右する重要な要素となる。
　可視領域の透明性を維持しながら近赤外線を遮蔽する方法としては、近赤外領域に高い反射率を有する光学体を窓ガラスに設ける方法がある。この方法については、反射層として光学多層膜を用いる技術が開示されている（例えば特許文献１参照）。しかしながら、このような反射層は平面状のフィルムや窓ガラスに設けられるため、入射した太陽光を正反射させることしかできない。このため、上空から照射されて正反射された光は、屋外の別な建物や地面に到達し、吸収されて熱に変わり周囲の気温を上昇させる。これにより、このような反射層が窓全体に貼られたビルの周辺では、局所的な温度上昇が起こり、都市部ではヒートアイランドが増長されたり、反射光の照射面のみ芝生が生長しないなどの問題が生じている。
特開２００７−１５２７７３号公報
　しかしながら、従来は、平板上に多層膜を成膜することで熱線遮断膜の設計が行われていた。この従来の手法による多層膜設計を行った場合、多層膜界面における屈折率や、入射光線の界面に対する入射角が変化することで、設計スペクトルが最適値から逸脱して色調が変化し、青みや赤みを帯びてしまうという問題があった。
　したがって、本発明の目的は、入射角の変化による色調変化を抑制することができる光学体、窓材、建具および日射遮蔽装置を提供することにある。
　上述の課題を解決するために、第１の発明は、
　凹凸面を有する第１の光学層と、
　凹凸面上に形成された波長選択反射層と、
　波長選択反射層上に形成された第２の光学層と
　を備え、
　波長選択反射層は、高屈折率層と金属層とが交互に積層された５層構成を有し、
　波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが８０ｎｍである場合、
　高屈折率層全体の光学膜厚ｄａに対する金属層全体の光学膜厚ｄｂの比率α（＝ｄｂ／ｄａ）、および第１の光学層側および第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の高屈折率層の光学膜厚ｄ１に対する３層目の高屈折率層の光学膜厚ｄ３の比率β（＝ｄ３／ｄ１）が、下記式（１）~式（４）で囲まれた第１の領域に含まれ、
　波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが９０ｎｍである場合、
　比率αおよび比率βが、下記式（５）~式（８）で囲まれた第２の領域に含まれ、
　波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍである場合、
　第１の領域の周辺Ｃ１を式（１）と式（３）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、第２の領域の周辺Ｃ２を式（５）と式（７）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ２ｉとし、ΔＣ１ｉ、ΔＣ２ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
　比率αおよび比率βが、微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる光学体である。
　α＝−０．０００４β２＋０．００５３β＋０．００６５　・・・（１）
　α＝−１×１０−５β２＋０．０００７β＋０．００６６　・・・（２）
　α＝−１×１０−５β２＋０．０００５β＋０．０１１９　・・・（３）
　α＝０．０１２１１４　・・・（４）
　α＝−０．０００２β２＋０．００３９β＋０．００８７　・・・（５）
　α＝−３×１０−５β２＋０．００１４β＋０．００３８　・・・（６）
　α＝−２×１０−５β２＋０．０００６β＋０．０１１２　・・・（７）
　α＝０．０１０５８９　・・・（８）
　第２の発明は、
　凹凸面を有する第１の光学層と、
　凹凸面上に形成された波長選択反射層と、
　波長選択反射層上に形成された第２の光学層と
　を備え、
　波長選択反射層は、高屈折率層と金属層とが交互に積層された５層構成を有し、
　波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが９０ｎｍである場合、
　高屈折率層全体の光学膜厚ｄａに対する金属層全体の光学膜厚ｄｂの比率α（＝ｄｂ／ｄａ）、および第１の光学層側および第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の高屈折率層の光学膜厚ｄ１に対する３層目の高屈折率層の光学膜厚ｄ３の比率β（＝ｄ３／ｄ１）が、下記式（５）~式（８）で囲まれた第１の領域に含まれ、
　波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１００ｎｍである場合、
　比率αおよび比率βが、下記式（９）~式（１２）で囲まれた第２の領域に含まれ、
　波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍである場合、
　第１の領域の周辺Ｃ１を式（５）と式（７）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、第２の領域の周辺Ｃ２を式（９）と式（１１）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ２ｉとし、ΔＣ１ｉ、ΔＣ２ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
　比率αおよび比率βが、微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる光学体である。
　α＝−０．０００２β２＋０．００３９β＋０．００８７　・・・（５）
　α＝−３×１０−５β２＋０．００１４β＋０．００３８　・・・（６）
　α＝−２×１０−５β２＋０．０００６β＋０．０１１２　・・・（７）
　α＝０．０１０５８９　・・・（８）
　α＝−０．０００２β２＋０．００５５β＋０．００５７　・・・（９）
　α＝−０．０００２β２＋０．００４５β−０．００６７　・・・（１０）
　α＝−４×１０−５β２＋０．００１β＋０．００９９　・・・（１１）
　α＝０．００９４０３　・・・（１２）
　第３の発明は、
　凹凸面を有する第１の光学層と、
　凹凸面上に形成された波長選択反射層と、
　波長選択反射層上に形成された第２の光学層と
　を備え、
　波長選択反射層は、高屈折率層と金属層とが交互に積層された５層構成を有し、
　波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１００ｎｍである場合、
　高屈折率層全体の光学膜厚ｄａに対する金属層全体の光学膜厚ｄｂの比率α（＝ｄｂ／ｄａ）、および第１の光学層側および第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の高屈折率層の光学膜厚ｄ１に対する３層目の高屈折率層の光学膜厚ｄ３の比率β（＝ｄ３／ｄ１）が、下記式（９）~式（１２）で囲まれた第１の領域に含まれ、
　波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１２０ｎｍである場合、
　比率αおよび比率βが、下記式（１３）~式（１６）で囲まれた第２の領域に含まれ、
　波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍである場合、
　第１の領域の周辺Ｃ１を式（９）と式（１１）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、第２の領域の周辺Ｃ２を式（１３）と式（１５）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ２ｉとし、ΔＣ１ｉ、ΔＣ２ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
　比率αおよび比率βが、微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる光学体である。
　α＝−０．０００２β２＋０．００５５β＋０．００５７　・・・（９）
　α＝−０．０００２β２＋０．００４５β−０．００６７　・・・（１０）
　α＝−４×１０−５β２＋０．００１β＋０．００９９　・・・（１１）
　α＝０．００９４０３　・・・（１２）
　α＝−０．０００３β２＋０．００７４β＋０．００３３　・・・（１３）
　α＝−０．００１４β２＋０．０１９１β−０．０４２２　・・・（１４）
　α＝−９×１０−５β２＋０．００１５β＋０．００８４　・・・（１５）
　α＝０．００７７０９　・・・（１６）
　第４の発明は、
　凹凸面を有する第１の光学層と、
　凹凸面上に形成された波長選択反射層と、
　波長選択反射層上に形成された第２の光学層と
　を備え、
　波長選択反射層は、高屈折率層と金属層とが交互に積層された５層構成を有し、
　波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１２０ｎｍである場合、
　高屈折率層全体の光学膜厚ｄａに対する金属層全体の光学膜厚ｄｂの比率α（＝ｄｂ／ｄａ）、および第１の光学層側および第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の高屈折率層の光学膜厚ｄ１に対する３層目の高屈折率層の光学膜厚ｄ３の比率β（＝ｄ３／ｄ１）が、下記式（１３）~式（１６）で囲まれた第１の領域に含まれ、
　波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１４０ｎｍである場合、
　比率αおよび比率βが、下記式（１７）~式（２０）で囲まれた第２の領域に含まれ、
　波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍである場合、
　第１の領域の周辺Ｃ１を式（１３）と式（１５）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、第２の領域の周辺Ｃ２を式（１７）と式（１９）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ２ｉとし、ΔＣ１ｉ、ΔＣ２ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
　比率αおよび比率βが、微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる光学体である。
　α＝−０．０００３β２＋０．００７４β＋０．００３３　・・・（１３）
　α＝−０．００１４β２＋０．０１９１β−０．０４２２　・・・（１４）
　α＝−９×１０−５β２＋０．００１５β＋０．００８４　・・・（１５）
　α＝０．００７７０９　・・・（１６）
　α＝−０．００１４β２＋０．０１３６β−０．００２７　・・・（１７）
　β＝１０１３２α２−２４１．３９α＋４．７４７　・・・（１８）
　α＝−０．０００１β２＋０．００２β＋０．００７４　・・・（１９）
　α＝０．００６５２３　・・・（２０）
　第５の発明は、
　凹凸面を有する第１の光学層と、
　凹凸面上に形成された波長選択反射層と、
　波長選択反射層上に形成された第２の光学層と
　を備え、
　波長選択反射層は、高屈折率層と金属層とが交互に積層された５層構成を有し、
　波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１４０ｎｍである場合、
　高屈折率層全体の光学膜厚ｄａに対する金属層全体の光学膜厚ｄｂの比率α（＝ｄｂ／ｄａ）、および第１の光学層側および第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の高屈折率層の光学膜厚ｄ１に対する３層目の高屈折率層の光学膜厚ｄ３の比率β（＝ｄ３／ｄ１）が、下記式（１７）~式（２０）で囲まれた第１の領域に含まれ、
　波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１６０ｎｍである場合、
　比率αおよび比率βが、下記式（２１）~式（２５）で囲まれた第２の領域に含まれ、
　波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍである場合、
　第１の領域の周辺Ｃ１を式（１７）と式（１９）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、第２の領域の周辺Ｃ２を式（２１）と式（２４）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ２ｉとし、ΔＣ１ｉ、ΔＣ２ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
　比率αおよび比率βが、微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる光学体である。
　α＝−０．００１４β２＋０．０１３６β−０．００２７　・・・（１７）
　β＝１０１３２α２−２４１．３９α＋４．７４７　・・・（１８）
　α＝−０．０００１β２＋０．００２β＋０．００７４　・・・（１９）
　α＝０．００６５２３　・・・（２０）
　α＝−０．００５β２＋０．０２７３β−０．０１４５　・・・（２１）
　α＝０．００４３β２−０．０３３２β＋０．０７　・・・（２２）
　β＝２．８７５　・・・（２３）
　α＝−０．０００１β２＋０．００２５β＋０．００６２　・・・（２４）
　α＝０．００５６７６　・・・（２５）
　第６の発明は、
　凹凸面を有する第１の光学層と、
　凹凸面上に形成された波長選択反射層と、
　波長選択反射層上に形成された第２の光学層と
　を備え、
　波長選択反射層は、高屈折率層と金属層とが交互に積層された５層構成を有し、
　波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１６０ｎｍである場合、
　高屈折率層全体の光学膜厚ｄａに対する金属層全体の光学膜厚ｄｂの比率α（＝ｄｂ／ｄａ）、および第１の光学層側および第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の高屈折率層の光学膜厚ｄ１に対する３層目の高屈折率層の光学膜厚ｄ３の比率β（＝ｄ３／ｄ１）が、下記式（２１）~式（２５）で囲まれた第１の領域に含まれ、
　波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１８０ｎｍである場合、
　比率αおよび比率βが、下記式（２６）~式（２９）で囲まれた第２の領域に含まれ、
　波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１６０ｎｍ＜Ｌ＜１８０ｎｍである場合、
　第１の領域の周辺Ｃ１を式（２１）と式（２４）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、第２の領域の周辺Ｃ２を式（２６）と式（２８）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ２ｉとし、ΔＣ１ｉ、ΔＣ２ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
　比率αおよび比率βが、微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる光学体である。
　α＝−０．００５β２＋０．０２７３β−０．０１４５　・・・（２１）
　α＝０．００４３β２−０．０３３２β＋０．０７　・・・（２２）
　β＝２．８７５　・・・（２３）
　α＝−０．０００１β２＋０．００２５β＋０．００６２　・・・（２４）
　α＝０．００５６７６　・・・（２５）
　α＝−０．０１０３β２＋０．０４７β−０．０３２２　・・・（２６）
　α＝０．００９３β２−０．０６７７β＋０．１２１２　・・・（２７）
　α＝−０．０００３β２＋０．００３６β＋０．００４６　・・・（２８）
　α＝０．００４９８　・・・（２９）
　第１~第６の発明では、比率αおよび比率βが所定の領域内に含まれるように、波長選択反射層における各層の膜厚を設定することにより、色調変化が抑制される。
　以上説明したように、本発明によれば、入射角による色調変化を抑制することができる。
　図１Ａは、本発明の第１の実施形態に係る光学フィルムの一構成例を示す断面図である。図１Ｂは、本発明の第１の実施形態に係る光学フィルムを被着体に貼り合わせた例を示す断面図である。
　図２は、光学フィルムに対して入射する入射光と、光学フィルムにより反射された反射光との関係を示す斜視図である。
　図３Ａ~図３Ｃは、第１の光学層に形成された構造体の形状例を示す斜視図である。
　図４Ａは、第１の光学層に形成された構造体の形状例を示す斜視図である。図４Ｂは、図４Ａに示す構造体が形成された第１の光学層を備える光学フィルムの一構成例を示す断面図である。
　図５は、波長選択反射層の層構成の一例を示す略線図である。
　図６Ａは、３層目および５層目の高屈折率層が２層に分離した波長選択反射層の一例を示す略線図である。図６Ｂは、３層目の高屈折率層が３層に分離し、５層目の高屈折率層が２層に分離した波長選択反射層の一例を示す略線図である。図６Ｃは、３層目の高屈折率層が２層に分離し、５層目の高屈折率層が３層に分離した波長選択反射層の一例を示す略線図である。図６Ｄは、１層目、３層目および５層目の高屈折率層が２層に分離した波長選択反射層の一例を示す略線図である。図６Ｅは、１層目および５層目の高屈折率層が２層に分離し、３層目の高屈折率層が３層に分離した波長選択反射層の一例を示す略線図である。図６Ｆは、１層目の高屈折率層が２層に分離し、３層目および５層目の高屈折率層が３層に分離した波長選択反射層の一例を示す略線図である。
　図７Ａ、図７Ｂは、光学フィルムの機能の一例を説明するための断面図である。
　図８Ａ、図８Ｂは、光学フィルムの機能の一例を説明するための断面図である。
　図９Ａは、光学フィルムの機能の一例を説明するための断面図である。図９Ｂは、光学フィルムの機能の一例を説明するための平面図である。
　図１０は、本発明の第１の実施形態に係る光学フィルムを製造するための製造装置の一構成例を示す概略図である。
　図１１Ａ~図１１Ｃは、本発明の第１の実施形態に係る光学フィルムの製造方法の一例を説明するための工程図である。
　図１２Ａ~図１２Ｃは、本発明の第１の実施形態に係る光学フィルムの製造方法の一例を説明するための工程図である。
　図１３Ａ~図１３Ｃは、本発明の第１の実施形態に係る光学フィルムの製造方法の一例を説明するための工程図である。
　図１４は、反射層の膜厚について説明するための図である。
　図１５は、各パラメータの条件を満足する膜厚を決定する処理の流れの一例を示すフローチャートである。
　図１６Ａは、比率αおよび比率βに対する可視光線透過率の分布を示すα−β相関図である。図１６Ｂは、比率αおよび比率βに対する遮蔽係数の分布を示すα−β相関図である。図１６Ｃは、比率αおよび比率βに対する青み指標の分布を示すα−β相関図である。図１６Ｄは、比率αおよび比率βに対する赤み指標の分布を示すα−β相関図である。図１６Ｅは、図１６Ａ~図１６Ｄに示すα−β相関図をそれぞれ重ね合わせた状態を示す図である。
　図１７Ａは、総膜厚Ｌが８０ｎｍの場合に、可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとしたα−β相関図である。図１７Ｂは、総膜厚Ｌが９０ｎｍの場合に、可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとしたα−β相関図である。
　図１８Ａは、総膜厚Ｌが１００ｎｍの場合に、可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとしたα−β相関図である。図１８Ｂは、総膜厚Ｌが１２０ｎｍの場合に、可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとしたα−β相関図である。
　図１９Ａは、総膜厚Ｌが１４０ｎｍの場合に、可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとしたα−β相関図である。図１９Ｂは、総膜厚Ｌが１６０ｎｍの場合に、可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとしたα−β相関図である。
　図２０は、総膜厚Ｌが１８０ｎｍの場合に、可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとしたα−β相関図である。
　図２１Ａは、総膜厚Ｌが８０ｎｍの場合に、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数をパラメータとしたα−β相関図である。図２１Ｂは、総膜厚Ｌが９０ｎｍの場合に、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数をパラメータとしたα−β相関図である。
　図２２Ａは、総膜厚Ｌが１００ｎｍの場合に、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数をパラメータとしたα−β相関図である。図２２Ｂは、総膜厚Ｌが１２０ｎｍの場合に、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数をパラメータとしたα−β相関図である。
　図２３Ａは、総膜厚Ｌが１４０ｎｍの場合に、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数をパラメータとしたα−β相関図である。図２３Ｂは、総膜厚Ｌが１６０ｎｍの場合に、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数をパラメータとしたα−β相関図である。
　図２４は、総膜厚Ｌが１８０ｎｍの場合に、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数をパラメータとしたα−β相関図である。
　図２５は、可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとした場合の、各パラメータの条件を満足する領域を３次元平面上にマッピングした略線図である。
　図２６Ａは、総膜厚Ｌ＝８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍにおいて各パターメータの条件を満足する領域を示す略線図である。図２６Ｂは、総膜厚Ｌ＝９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍにおいて各パターメータの条件を満足する領域を示す略線図である。
　図２７Ａは、総膜厚Ｌ＝１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍにおいて各パターメータの条件を満足する領域を示す略線図である。図２７Ｂは、総膜厚Ｌ＝１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍにおいて各パターメータの条件を満足する領域を示す略線図である。
　図２８Ａは、総膜厚Ｌ＝１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍにおいて各パターメータの条件を満足する領域を示す略線図である。図２８Ｂは、総膜厚Ｌ＝１６０ｎｍ＜Ｌ＜１８０ｎｍにおいて各パターメータの条件を満足する領域を示す略線図である。
　図２９は、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数をパラメータとした場合の、各パラメータの条件を満足する領域を３次元平面上にマッピングした略線図である。
　図３０Ａは、総膜厚Ｌ＝８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍにおいて各パターメータの条件を満足する領域を示す略線図である。図３０Ｂは、総膜厚Ｌ＝９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍにおいて各パターメータの条件を満足する領域を示す略線図である。
　図３１Ａは、総膜厚Ｌ＝１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍにおいて各パターメータの条件を満足する領域を示す略線図である。図３１Ｂは、総膜厚Ｌ＝１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍにおいて各パターメータの条件を満足する領域を示す略線図である。
　図３２Ａは、総膜厚Ｌ＝１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍにおいて各パターメータの条件を満足する領域を示す略線図である。図３２Ｂは、総膜厚Ｌ＝１６０ｎｍ＜Ｌ＜１８０ｎｍにおいて各パターメータの条件を満足する領域を示す略線図である。
　図３３Ａは、可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとした場合の、各パラメータの条件を満足する領域を同一平面上にマッピングした略線図である。図３３Ｂは、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数をパラメータとした場合の、各パラメータの条件を満足する領域を同一平面上にマッピングした略線図である。
　図３４Ａは、本発明の第１の実施形態の第１の変形例を示す断面図である。図３４Ｂは、本発明の第１の実施形態の第２の変形例を示す断面図である。
　図３５は、近似曲線から近似直線を導出する方法について説明する略線図である。
　図３６Ａは、総膜厚Ｌが８０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の条件に基づくα−β相関図である。図３６Ｂは、総膜厚Ｌが９０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の条件に基づくα−β相関図である。
　図３７Ａは、総膜厚Ｌが１００ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の条件に基づくα−β相関図である。図３７Ｂは、総膜厚Ｌが１２０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の条件に基づくα−β相関図である。
　図３８Ａは、総膜厚Ｌが１４０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の条件に基づくα−β相関図である。図３８Ｂは、総膜厚Ｌが１６０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の条件に基づくα−β相関図である。
　図３９は、可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとした場合の、各パラメータの条件を満足する領域を３次元平面上にマッピングした略線図である。
　図４０Ａは、総膜厚Ｌが８０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の条件に基づくα−β相関図である。図４０Ｂは、総膜厚Ｌが９０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の条件に基づくα−β相関図である。
　図４１Ａは、総膜厚Ｌが１００ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の条件に基づくα−β相関図である。図４１Ｂは、総膜厚Ｌが１２０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の条件に基づくα−β相関図である。
　図４２Ａは、総膜厚Ｌが１４０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の条件に基づくα−β相関図である。図４２Ｂは、総膜厚Ｌが１６０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の条件に基づくα−β相関図である。
　図４３は、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数をパラメータとした場合の、各パラメータの条件を満足する領域を３次元平面上にマッピングした略線図である。
　図４４Ａは、本発明の第３の実施形態に係る光学フィルムにおける第１の光学層の第１の構成例を示す斜視図である。図４４Ｂは、本発明の第３の実施形態に係る光学フィルムにおける第１の光学層の第２の構成例を示す斜視図である。図４４Ｃは、本発明の第３の実施形態に係る光学フィルムにおける第１の光学層の第３の構成例を示す斜視図である。
　図４５Ａは、本発明の第３の実施形態に係る光学フィルムにおける第１の光学層の第３の構成例を示す平面図である。図４５Ｂは、図４５Ａに示した第１の光学層のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。図４５Ｃは、図４５Ａに示した第１の光学層のＣ−Ｃ線に沿った断面図である。
　図４６Ａは、本発明の第３の実施形態に係る光学フィルムにおける第１の光学層の第４の構成例を示す平面図である。図４６Ｂは、図４６Ａに示した第１の光学層のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。図４６Ｃは、図４６Ａに示した第１の光学層のＣ−Ｃ線に沿った断面図である。
　図４７Ａは、本発明の第３の実施形態に係る光学フィルムにおける第１の光学層の第５の構成例を示す平面図である。図４７Ｂは、図４７Ａに示した第１の光学層のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。
　図４８Ａは、本発明の第４の実施形態に係る光学フィルムの一構成例を示す断面図である。図４８Ｂは、本発明の第４の実施形態に係る光学フィルムが備える第１の光学層の一構成例を示す斜視図である。
　図４９Ａは、本発明の第５の実施形態に係る光学フィルムの第１の構成例を示す断面図である。図４９Ｂは、本発明の第５の実施形態に係る光学フィルムの第２の構成例を示す断面図である。図４９Ｃは、本発明の第５の実施形態に係る光学フィルムの第３の構成例を示す断面図である。
　図５０Ａは、本発明の第６の実施形態に係る光学フィルムの一構成例を示す断面図である。図５０Ｂは、本発明の第６の実施形態に係る光学フィルムを被着体に貼り合わせた例を示す断面図である。
　図５１は、本発明の第７の実施形態に係る光学フィルムの一構成例を示す断面図である。
　図５２は、第８の実施形態に係るブラインド装置の一構成例を示す斜視図である。
　図５３Ａは、スラットの第１の構成例を示す断面図である。図５３Ｂは、スラットの第２の構成例を示す断面図である。
　図５４Ａは、第９の実施形態に係るロールスクリーン装置の一構成例を示す斜視図である。図５４Ｂは、スクリーンの一構成例を示す断面図である。
　図５５Ａは、第１０の実施形態に係る障子の一構成例を示す斜視図である。図５５Ｂは、障子の一構成例を示す断面図である。
　本発明の実施形態について図面を参照しながら以下の順序で説明する。
１．第１の実施形態（構造体を１次元配列した例）
２．第２の実施形態（近似直線により領域を規定した例）
３．第３の実施形態（構造体を２次元配列した例）
４．第４の実施形態（ルーバ型の反射層の例）
５．第５の実施形態（光学フィルムに光散乱体を設けた例）
６．第６の実施形態（反射層を露出させた例）
７．第７の実施形態（自己洗浄効果層を備えた例）
８．第８の実施形態（ブラインド装置に光学フィルムを適用した例）
９．第９の実施形態（ロールスクリーン装置に光学フィルムを適用した例）
１０．第１０の実施形態（建具に光学フィルムを適用した例）
＜１．第１の実施形態＞
［光学フィルムの構成］
　図１Ａは、本発明の第１の実施形態に係る光学フィルムの一構成例を示す断面図である。図１Ｂは、本発明の第１の実施形態に係る光学フィルムを被着体に貼り合わせた例を示す断面図である。光学体としての光学フィルム１は、いわゆる指向反射性能を有する光学フィルムである。図１Ａに示すように、この光学フィルム１は、凹凸形状の界面を内部に有する光学層２と、この光学層２の界面に設けられた反射層３とを備える。光学層２は、凹凸形状の第１の面を有する第１の光学層４と、凹凸形状の第２の面を有する第２の光学層５とを備える。光学層内部の界面は、対向配置された凹凸形状の第１の面と第２の面とにより形成されている。具体的には、光学フィルムは、凹凸面を有する第１の光学層４と、第１の光学層の凹凸面上に形成された反射層３と、反射層３が形成された凹凸面を埋めるように、反射層３上に形成された第２の光学層５とを備える。光学フィルム１は、太陽光などの光が入射する入射面Ｓ１と、この入射面Ｓ１より入射した光のうち、光学フィルム１を透過した光が出射される出射面Ｓ２とを有する。光学フィルム１は、内壁部材、外壁部材、窓材、壁材などに適用して好適なものである。また、光学フィルム１は、ブラインド装置のスラット（日射遮蔽部材）、およびロールスクリーン装置のスクリーン（日射遮蔽部材）として用いても好適なものである。さらに、光学フィルム１は、障子などの建具（内装部材または外装部材）の採光部に設けられる光学体として用いても好適なものである。
　光学フィルム１が、必要に応じて、光学層２の出射面Ｓ２に第１の基材４ａをさらに備えるようにしてもよい。また、光学フィルム１が、必要に応じて、光学層２の入射面Ｓ１に第２の基材５ａをさらに備えるようにしてもよい。なお、このように第１の基材４ａ、および／または第２の基材５ａを光学フィルム１に備える場合には、第１の基材４ａ、および／または第２の基材５ａを光学フィルム１に備えた状態において、以下に示す透明性、および透過色などの光学特性を満たすことが好ましい。
　光学フィルム１が、必要に応じて貼合層６をさらに備えるようにしてもよい。この貼合層６は、光学フィルム１の入射面Ｓ１および出射面Ｓ２のうち、窓材１０に貼り合わされる面に形成される。この貼合層６を介して、光学フィルム１は被着体である窓材１０の屋内側または屋外側に貼り合わされる。貼合層６としては、例えば、接着剤を主成分とする接着層（例えば、ＵＶ硬化型樹脂、２液混合型樹脂）、または粘着剤を主成分とする粘着層（例えば、感圧粘着材（ＰＳＡ：Ｐｒｅｓｓｕｒｅ　Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ　Ａｄｈｅｓｉｖｅ））を用いることができる。貼合層６が粘着層である場合、貼合層６上に形成された剥離層７をさらに備えることが好ましい。このような構成にすることで、剥離層７を剥離するだけで、貼合層６を介して窓材１０などの被着体に対して光学フィルム１を容易に貼り合わせることができるからである。
　光学フィルム１が、第２の基材５ａと、貼合層６および／または第２の光学層５の接合性を向上させる観点から、第２の基材５ａと、貼合層６および／または第２の光学層５との間に、プライマー層（図示せず）をさらに備えるようにしてもよい。また、同様の箇所の接合性を向上させる観点から、プライマー層に代えて、またはプライマー層と共に、公知の物理的前処理を施すことが好ましい。公知の物理的前処理としては、例えば、プラズマ処理、コロナ処理などが挙げられる。
　光学フィルム１が、窓材１０などの被着体に貼り合わされる入射面Ｓ１または出射面Ｓ２上、またはその面と反射層３との間に、バリア層（図示せず）をさらに備えるようにしてもよい。このようにバリア層を備えることで、入射面Ｓ１または出射面Ｓ２から反射層３への水分の拡散を低減し、反射層３に含まれる金属などの劣化を抑制することができる。したがって、光学フィルム１の耐久性を向上させることができる。
　光学フィルム１は、表面に耐擦傷性などを付与する観点から、ハードコート層８をさらに備えるようにしてもよい。このハードコート層８は、光学フィルム１の入射面Ｓ１および出射面Ｓ２のうち、窓材１０などの被着体に貼り合わされる面とは反対側の面に形成することが好ましい。光学フィルム１の入射面Ｓ１に、防汚性などを付与する観点から、撥水性または親水性を有する層をさらに備えてもよい。このような機能を有する層は、例えば、光学層２上に直接備える、またはハードコート層８などの各種機能層上に備えるようにしてもよい。
　光学フィルム１は、光学フィルム１を窓材１０などの被着体に容易に貼り合わせ可能にする観点からすると、可撓性を有することが好ましい。ここで、フィルムにはシートが含まれるものとする。すなわち、光学フィルム１には光学シートも含まれものとする。
　光学フィルム１は、透明性を有している。透明性としては、後述する透過像鮮明度の範囲を有するものであることが好ましい。第１の光学層４と第２の光学層５との屈折率差が、好ましくは０．０１０以下、より好ましくは０．００８以下、さらに好ましくは０．００５以下である。屈折率差が０．０１０を超えると、透過像がぼけて見える傾向がある。０．００８を超え０．０１０以下の範囲であると、外の明るさにも依存するが日常生活には問題がない。０．００５を超え０．００８以下の範囲であると、光源のように非常に明るい物体のみ回折パターンが気になるが、外の景色を鮮明に見ることができる。０．００５以下であれば、回折パターンは殆ど気にならない。第１の光学層４および第２の光学層５のうち、窓材１０などと貼り合わせる側となる光学層は、粘着剤を主成分としてもよい。このような構成とすることで、粘着材を主成分とする第１の光学層４、または第２の光学層５により光学フィルム１を窓材１０などに貼り合わせることができる。なお、このような構成にする場合、粘着剤の屈折率差が上記範囲内であることが好ましい。
　第１の光学層４と第２の光学層５とは、屈折率などの光学特性が同じであることが好ましい。より具体的には、第１の光学層４と第２の光学層５とが、可視領域において透明性を有する同一材料、例えば同一樹脂材料からなることが好ましい。第１の光学層４と第２の光学層５とを同一材料により構成することで、両者の屈折率が等しくなるので、可視光の透明性を向上させることができる。ただし、同一材料を出発源としても、成膜工程における硬化条件などにより最終的に生成する層の屈折率が異なることがあるので、注意が必要である。これに対して、第１の光学層４と第２の光学層５とを異なる材料により構成すると、両者の屈折率が異なるので、反射層３を境界として光が屈折し、透過像がぼやける傾向がある。特に、遠くの電灯など点光源に近い物を観察すると回折パターンが顕著に観察される傾向がある。なお、屈折率の値を調整するために、第１の光学層４および／または第２の光学層５に添加剤を混入させてもよい。
　第１の光学層４と第２の光学層５は、可視領域において透明性を有することが好ましい。ここで、透明性の定義には２種類の意味があり、光の吸収がないことと、光の散乱がないことである。一般的に透明と言った場合に前者だけを指すことがあるが、第１の実施形態に係る光学フィルム１では両者を備えることが好ましい。現在利用されている再帰反射体は、道路標識や夜間作業者の衣服など、その表示反射光を視認することを目的としているため、例えば散乱性を有していても、下地反射体と密着していれば、その反射光を視認することができる。例えば、画像表示装置の前面に、防眩性の付与を目的として散乱性を有するアンチグレア処理をしても、画像は視認できるのと同一の原理である。しかしながら、第１の実施形態に係る光学フィルム１は、指向反射する特定の波長以外の光を透過する点に特徴を有しており、この透過波長を主に透過する透過体に接着し、その透過光を観察するため、光の散乱がないことが好ましい。但し、その用途によっては、第２の光学層５に意図的に散乱性を持たせることも可能である。
　光学フィルム１は、好ましくは、透過した特定波長以外の光に対して主に透過性を有する剛体、例えば、窓材１０に粘着剤などを介して貼り合わせて使用される。窓材１０としては、高層ビルや住宅などの建築用窓材、車両用の窓材などが挙げられる。建築用窓材に光学フィルム１を適用する場合、特に東~南~西向きの間のいずれかの向き（例えば南東~南西向き）に配置された窓材１０に光学フィルム１を適用することが好ましい。このような位置の窓材１０に適用することで、より効果的に熱線を反射することができるからである。光学フィルム１は、単層の窓ガラスのみならず、複層ガラスなどの特殊なガラスにも用いることができる。また、窓材１０は、ガラスからなるものに限定されるものではなく、透明性を有する高分子材料からなるものを用いてもよい。光学層２が、可視領域において透明性を有することが好ましい。このように透明性を有することで、光学フィルム１を窓ガラスなどの窓材１０に貼り合せた場合、可視光を透過し、太陽光による採光を確保することができるからである。また、貼り合わせる面としてはガラスの内面のみならず、外面にも使用することができる。
　また、光学フィルム１は他の熱線カットフィルムと併用して用いることができ、例えば空気と光学フィルム１との界面（すなわち、光学フィルム１の最表面）に光吸収塗膜を設けることもできる。また、光学フィルム１は、ハードコート層、紫外線カット層、表面反射防止層などとも併用して用いることができる。これらの機能層を併用する場合、これらの機能層を光学フィルム１と空気との間の界面に設けることが好ましい。ただし、紫外線カット層については、光学フィルム１よりも太陽側に配置する必要があるため、特に室内の窓ガラス面に内貼り用として用いる場合には、該窓ガラス面と光学フィルム１の間に紫外線カット層を設けることが望ましい。この場合、窓ガラス面と光学フィルム１の間の貼合層中に、紫外線吸収剤を練りこんでおいてもよい。
　また、光学フィルム１の用途に応じて、光学フィルム１に対して着色を施し、意匠性を付与するようにしてもよい。このように意匠性を付与する場合、透明性を損なわない範囲で第１の光学層４および第２の光学層５の少なくとも一方が、可視領域における特定の波長帯の光を主として吸収する構成とすることが好ましい。
　図２は、光学フィルム１に対して入射する入射光と、光学フィルム１により反射された反射光との関係を示す斜視図である。光学フィルム１は、光Ｌが入射する入射面Ｓ１を有する。光学フィルム１は、入射角（θ、φ）で入射面Ｓ１に入射した光Ｌのうち、特定波長帯の光Ｌ１を選択的に正反射（−θ、φ＋１８０°）以外の方向に指向反射するのに対して、特定波長帯以外の光Ｌ２を透過することが好ましい。また、光学フィルム１は、上記特定波長帯以外の光に対して透明性を有する。透明性としては、後述する透過像鮮明度の範囲を有するものであることが好ましい。但し、θ：入射面Ｓ１に対する垂線ｌ１と、入射光Ｌまたは反射光Ｌ１とのなす角である。φ：入射面Ｓ１内の特定の直線ｌ２と、入射光Ｌまたは反射光Ｌ１を入射面Ｓ１に射影した成分とのなす角である。ここで、入射面内の特定の直線ｌ２とは、入射角（θ、φ）を固定し、光学フィルム１の入射面Ｓ１に対する垂線ｌ１を軸として光学フィルム１を回転したときに、φ方向への反射強度が最大になる軸である（図３および図４参照）。但し、反射強度が最大となる軸（方向）が複数ある場合、そのうちの１つを直線ｌ２として選択するものとする。なお、垂線ｌ１を基準にして時計回りに回転した角度θを「＋θ」とし、反時計回りに回転した角度θを「−θ」とする。直線ｌ２を基準にして時計回りに回転した角度φを「＋φ」とし、反時計回りに回転した角度φを「−φ」とする。
　選択的に指向反射する特定の波長帯の光、および透過させる特定の光は、光学フィルム１の用途により異なる。例えば、窓材１０に対して光学フィルム１を適用する場合、選択的に指向反射する特定の波長帯の光は近赤外光であり、透過させる特定の波長帯の光は可視光であることが好ましい。具体的には、選択的に指向反射する特定の波長帯の光が、主に波長帯域７８０ｎｍ~２１００ｎｍの近赤外線であることが好ましい。近赤外線を反射することで、光学体をガラス窓などの窓材に貼り合わせた場合に、建物内の温度上昇を抑制することができる。したがって、冷房負荷を軽減し、省エネルギー化を図ることができる。ここで、指向反射とは、正反射以外のある特定の方向への反射を有し、かつ、指向性を持たない拡散反射強度よりも十分に強いことを意味する。ここで、反射するとは、特定の波長帯域、例えば近赤外域における反射率が好ましくは３０％以上、より好ましくは５０％以上、更に好ましくは８０％以上であることを示す。透過するとは、特定の波長帯域、例えば可視光域における透過率が好ましくは３０％以上、より好ましくは５０％以上、更に好ましくは７０％以上であることを示す。
　光学フィルム１において、指向反射する方向φｏが−９０°以上、９０°以下であることが好ましい。光学フィルム１を窓材１０に貼った場合、上空から入射する光のうち、特定波長帯の光を上空方向に戻すことができるからである。周辺に高い建物がない場合にはこの範囲の光学フィルム１が有用である。また、指向反射する方向が（θ、−φ）近傍であることが好ましい。近傍とは、好ましく（θ、−φ）から５度以内、より好ましくは３度以内であり、さらに好ましくは２度以内の範囲内のずれのことをいう。この範囲にすることで、光学フィルム１を窓材１０に貼った場合、同程度の高さが立ち並ぶ建物の上空から入射する光のうち、特定波長帯の光を他の建物の上空に効率良く戻すことができるからである。このような指向反射を実現するためには、例えば球面や双曲面の一部や三角錐、四角錘、円錐などの３次元構造体を用いることが好ましい。（θ、φ）方向（−９０°＜φ＜９０°）から入射した光は、その形状に基づいて（θｏ、φｏ）方向（０°＜θｏ＜９０°、−９０°＜φｏ＜９０°）に反射させることができる。または、一方向に伸びた柱状体にすることが好ましい。（θ、φ）方向（−９０°＜φ＜９０°）から入射した光は、柱状体の傾斜角に基づいて（θｏ、−φ）方向（０°＜θｏ＜９０°）に反射させることができる。
　光学フィルム１において、特定波長体の光の指向反射が、再帰反射近傍方向、すなわち、入射角（θ、φ）で入射面Ｓ１に入射した光に対する、特定波長体の光の反射方向が、（θ、φ）近傍であることが好ましい。光学フィルム１を窓材１０に貼った場合、上空から入射する光のうち、特定波長帯の光を上空に戻すことができるからである。ここで近傍とは５度以内が好ましく、より好ましくは３度以内であり、さらに好ましくは２度以内である。この範囲にすることで、光学フィルム１を窓材１０に貼った場合、上空から入射する光のうち、特定波長帯の光を上空に効率良く戻すことができるからである。また、赤外線センサーや赤外線撮像のように、赤外光照射部と受光部が隣接している場合は、再帰反射方向は入射方向と等しくなければならないが、本発明のように特定の方向からセンシングする必要がない場合は、厳密に同一方向とする必要はない。
　光学フィルム１において、透過性を持つ波長帯に対する透過像鮮明度に関し、０．５ｍｍの光学くしを用いたときの値が、好ましくは５０以上、より好ましくは６０以上、さらに好ましくは７５以上である。透過像鮮明度の値が５０未満であると、透過像がぼけて見える傾向がある。５０以上６０未満であると、外の明るさにも依存するが日常生活には問題がない。６０以上７５未満であると、光源のように非常に明るい物体のみ回折パターンが気になるが、外の景色を鮮明に見ることができる。７５以上であれば、回折パターンは殆ど気にならない。更に０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ、２．０ｍｍの光学くしを用いて測定した透過像鮮明度の値の合計値が、好ましくは２３０以上、より好ましくは２７０以上、さらに好ましくは３５０以上である。透過像鮮明度の合計値が２３０未満であると、透過像がぼけて見える傾向がある。２３０以上２７０未満であると、外の明るさにも依存するが日常生活には問題がない。２７０以上３５０未満であると、光源のように非常に明るい物体のみ回折パターンが気になるが、外の景色を鮮明に見ることができる。３５０以上であれば、回折パターンは殆ど気にならない。ここで、透過像鮮明度の値は、スガ試験機製ＩＣＭ−１Ｔを用いて、ＪＩＳ　Ｋ７１０５に準じて測定したものである。ただし、透過させたい波長がＤ６５光源波長と異なる場合は、透過したい波長のフィルターを用いて校正した後に測定することが好ましい。
　光学フィルム１において、透過性を持つ波長帯に対するヘイズが、好ましくは６％以下、より好ましくは４％以下、さらに好ましくは２％以下である。ヘイズが６％を超えると、透過光が散乱され、曇って見えるためである。ここで、ヘイズは、村上色彩製ＨＭ−１５０を用いて、ＪＩＳ　Ｋ７１３６で規定される測定方法により測定したものである。ただし、透過させたい波長がＤ６５光源波長と異なる場合は、透過したい波長のフィルターを用いて校正した後に測定することが好ましい。光学フィルム１の入射面Ｓ１、好ましくは入射面Ｓ１および出射面Ｓ２は、透過像鮮明度を低下させない程度の平滑性を有する。具体的には、入射面Ｓ１および出射面Ｓ２の算術平均粗さＲａは、好ましくは０．０８μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下、さらに好ましくは０．０４μｍ以下である。なお、上記算術平均粗さＲａは、入射面の表面粗さを測定し、２次元断面曲線から粗さ曲線を取得し、粗さパラメータとして算出したものである。なお、測定条件はＪＩＳ　Ｂ０６０１：２００１に準拠している。以下に測定装置および測定条件を示す。
　測定装置：全自動微細形状測定機　サーフコーダーＥＴ４０００Ａ（株式会社小坂研究所）
　λｃ＝０．８ｍｍ、評価長さ４ｍｍ、カットオフ×５倍
　データサンプリング間隔０．５μｍ
　光学フィルム１の透過色はなるべくニュートラルに近く、色付きがあるとしても涼しい印象を与える青、青緑、緑色などの薄い色調が好ましい。このような色調を得る観点からすると、入射面Ｓ１から入射し、光学層２および反射層３を透過し、出射面Ｓ２から出射される透過光および反射光の色度座標ｘ、ｙは、例えばＤ６５光源の照射に対しては、好ましくは０．２０＜ｘ＜０．３５かつ０．２０＜ｙ＜０．４０、より好ましくは、０．２５＜ｘ＜０．３２かつ０．２５＜ｙ＜０．３７、更に好ましくは０．３０＜ｘ＜０．３２かつ０．３０＜ｙ＜０．３５の範囲を満たすのが望ましい。更に、色調が赤みを帯びないためには、好ましくはｙ＞ｘ−０．０２、より好ましくはｙ＞ｘの関係を満たすのが望ましい。また、反射色調が入射角度によって変化すると、例えばビルの窓に適用された場合に、場所によって色調が異なったり、歩くと色が変化して見えるため好ましくない。このような色調の変化を抑制する観点からすると、５°以上６０°以下の入射角度θで入射面Ｓ１または出射面Ｓ２から入射し、光学フィルム１により反射された正反射光の色座標ｘの差の絶対値、および色座標ｙの差の絶対値が、光学フィルム１の両主面のいずれにおいても、好ましくは０．０５以下、より好ましくは０．０３以下、さらに好ましくは０．０１以下である。このような反射光に対する色座標ｘ、ｙに関する数値範囲の限定は、入射面Ｓ１、および出射面Ｓ２の両方の面において満たされることが望ましい。
　以下、光学フィルム１を構成する第１の光学層４、第２の光学層５、および反射層３について順次説明する。
（第１の光学層、第２の光学層）
　第１の光学層４は、例えば、反射層３を支持し、かつ保護するためのものである。第１の光学層４は、光学フィルム１に可撓性を付与する観点から、例えば、樹脂を主成分とする層からなる。第１の光学層４の両主面のうち、例えば、一方の面は平滑面であり、他方の面は凹凸面（第１の面）である。反射層３は該凹凸面上に形成される。
　第２の光学層５は、反射層３が形成された第１の光学層４の第１の面（凹凸面）を包埋することにより、反射層３を保護するためのものである。第２の光学層５は、光学フィルム１に可撓性を付与する観点から、例えば、樹脂を主成分とする層からなる。第２の光学層５の両主面のうち、例えば、一方の面は平滑面であり、他方の面は凹凸面（第２の面）である。第１の光学層４の凹凸面と第２の光学層５の凹凸面とは、互いに凹凸を反転した関係にある。
　第１の光学層４の凹凸面は、例えば、１次元配列された複数の構造体４ｃにより形成されている。第２の光学層５の凹凸面は、例えば、１次元配列された複数の構造体５ｃにより形成されている（図３、図４参照）。第１の光学層４の構造体４ｃと第２の光学層５の構造体５ｃとは、凹凸が反転している点のみが異なるので、以下では第１の光学層４の構造体４ｃについて説明する。
　光学フィルム１において、構造体４ｃのピッチＰは、好ましくは５μｍ以上５ｍｍ以下、より好ましくは５μｍ以上２５０μｍ未満、さらに好ましくは２０μｍ以上２００μｍ以下である。構造体４ｃのピッチが５μｍ未満であると、構造体４ｃの形状を所望のものとすることが難しい上、反射層３の波長選択特性は一般的には急峻にすることが困難であるため、透過波長の一部を反射することがある。このような反射が起こると回折が生じて高次の反射まで視認されるため、透明性が悪く感じられる傾向がある。一方、構造体４ｃのピッチが５ｍｍを超えると、指向反射に必要な構造体４ｃの形状を考慮した場合、必要な膜厚が厚くなりフレキシブル性が失われ、窓材１０などの剛体に貼りあわせることが困難になる。また、構造体４ｃのピッチを２５０μｍ未満にすることにより、さらにフレキシブル性が増し、ロール・ツー・ロールでの製造が容易となり、バッチ生産が不要となる。窓などの建材に本発明の光学フィルム１を適用するためには、数ｍ程度の長さが必要であり、バッチ生産よりもロール・ツー・ロールでの製造が適している。さらに、ピッチを２０μｍ以上２００μｍ以下とした場合には、より生産性が向上する。
　また、第１の光学層４の表面に形成される構造体４ｃの形状は１種類に限定されるものではなく、複数種類の形状の構造体４ｃを第１の光学層４の表面に形成するようにしてもよい。複数種類の形状の構造体４ｃを表面に設ける場合、複数種類の形状の構造体４ｃからなる所定のパターンが周期的に繰り返されるようにしてもよい。また、所望とする特性によっては、複数種類の構造体４ｃがランダム（非周期的）に形成されるようにしてもよい。
　図３Ａ~図３Ｃは、第１の光学層に形成された構造体の形状例を示す斜視図である。構造体４ｃは、一方向に延在された柱状の凹部であり、この柱状の構造体４ｃが一方向に向かって一次元配列されている。反射層３はこの構造体４ｃ上に成膜させるため、反射層３の形状は、構造体４ｃの表面形状と同様の形状を有することになる。
　構造体４ｃの形状としては、例えば、図３Ａに示すプリズム形状、図３Ｂに示す、プリズムの稜線部に丸みを付与した形状、図３Ｃに示すレンチキュラー形状の反転形状、またはこれらの反転形状を挙げることができる。ここで、レンチキュラー形状とは、凸部の稜線に垂直な断面形状が円弧状もしくはほぼ円弧状、楕円弧状もしくはほぼ楕円弧、または放物線状もしくはほぼ放物線状の一部となっているものをいう。したがって、シリンドリカル形状もレンチキュラー形状に含まれる。なお、図３Ｂに示すように、稜線部分にはＲがあっても良く、好ましくは曲率半径Ｒと構造体４ｃのピッチＰの比Ｒ／Ｐが７％以下、より好ましくは５％以下、さらに好ましくは３％以下が好ましい。また、構造体４ｃの形状は、図３Ａ~図３Ｃに示した形状、またはこれらの反転形状に限定されるものではなく、トロイダル形状、双曲柱状、楕円柱状、多角柱状、自由曲面状としてもよい。また、プリズム形状、およびレンチキュラー形状の頂部を多角形状（例えば五角形状）の形状としてもよい。構造体４ｃをプリズム形状とする場合、プリズム形状の構造体４ｃの傾斜角度θは、例えば４５°である。構造体４ｃは、窓材１０に適用した場合に、上空から入射した光を反射して上空に多く戻す観点からは、傾斜角が４５°以上傾斜した平面または曲面を有することが好ましい。このような形状にすることで、入射光はほぼ１回の反射で上空へ戻るため、反射層３の反射率がそれ程高く無くとも効率的に上空方向へ入射光を反射できると共に、反射層３における光の吸収を低減できるからである。
　また、図４Ａに示すように、構造体４ｃの形状を、光学フィルム１の入射面Ｓ１または出射面Ｓ２に垂直な垂線ｌ１に対して非対称な形状としてもよい。この場合、構造体４ｃの主軸ｌｍが、垂線ｌ１を基準にして構造体４ｃの配列方向ａに傾くことになる。ここで、構造体４ｃの主軸ｌｍは、構造体断面の底辺の中点と構造体の頂点とを通る直線を意味する。地面に対して略垂直に配置された窓材１０に光学フィルム１を貼る場合には、図４Ｂに示すように、構造体４ｃの主軸ｌｍが、垂線ｌ１を基準にして窓材１０の下方（地面側）に傾いていることが好ましい。一般に窓を介した熱の流入が多いのは昼過ぎ頃の時間帯であり、太陽の高度が４５°より高いことが多いため、上記形状を採用することで、これら高角度から入射する光を効率的に上方に反射できるからである。図４Ａおよび図４Ｂでは、プリズム形状の構造体４ｃを垂線ｌ１に対して非対称な形状とした例が示されている。なお、プリズム形状以外の構造体４ｃを垂線ｌ１に対して非対称な形状としてもよい。例えば、コーナーキューブ体を垂線ｌ１に対して非対称な形状としてもよい。
　第１の光学層４が、１００℃での貯蔵弾性率の低下が少なく、２５℃と１００℃とでの貯蔵弾性率が著しく異ならない樹脂を主成分としていることが好ましい。具体的には、２５℃での貯蔵弾性率が３×１０９Ｐａ以下であり、１００℃での貯蔵弾性率が３×１０７Ｐａ以上である樹脂を含んでいることが好ましい。なお、第１の光学層４は、１種類の樹脂で構成されているのが好ましいが、２種類以上の樹脂を含んでいてもよい。また、必要に応じて、添加剤が混入されていてもよい。
　このように１００℃での貯蔵弾性率の低下が少なく、２５℃と１００℃とでの貯蔵弾性率が著しく異ならない樹脂を主成分としていると、熱、または熱と加圧とを伴うプロセスが第１の光学層４の凹凸面（第１の面）を形成後に存在する場合でも、設計した界面形状をほぼ保つことができる。これに対して、１００℃での貯蔵弾性率の低下が大きく、２５℃と１００℃とでの貯蔵弾性率が著しく異なる樹脂を主成分としていると、設計した界面形状からの変形が大きくなり、光学フィルム１にカールが生じたりする。
　ここで、熱を伴うプロセスには、アニール処理などのように直接的に光学フィルム１またはその構成部材に対して熱を加えるようなプロセスのみならず、薄膜の成膜時、および樹脂組成物の硬化時などに、成膜面が局所的に温度上昇して間接的にそれらに対して熱を加えるようなプロセスや、エネルギー線照射により金型の温度が上昇し、間接的に光学フィルムに熱を加えるようなプロセスも含まれる。また、上述した貯蔵弾性率の数値範囲を限定することにより得られる効果は、樹脂の種類に特に限定されず、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、およびエネルギー線照射型樹脂のいずれでも得ることができる。
　第１の光学層４の貯蔵弾性率は、例えば以下のようにして確認することができる。第１の光学層４の表面が露出している場合には、その露出面の貯蔵弾性率を微小硬度計を用いて測定することにより確認することができる。また、第１の光学層４の表面に第１の基材４ａなどが形成されている場合には、第１の基材４ａなどを剥離して、第１の光学層４の表面を露出させた後、その露出面の貯蔵弾性率を微小硬度計を用いて測定することにより確認することができる。
　高温下での弾性率の低下を抑制する方法としては、例えば、熱可塑性樹脂にあっては、側鎖の長さおよび種類などを調整する方法が挙げられ、熱硬化型樹脂、およびエネルギー線照射型樹脂にあっては、架橋点の量および架橋材の分子構造などを調整する方法が挙げられる。但し、このような構造変更によって樹脂材料そのものに求められる特性が損なわれないようにすることが好ましい。例えば、架橋剤の種類によっては室温付近での弾性率が高くなり、脆くなってしまったり、収縮が大きくなりフィルムが湾曲したり、カールしたりすることがあるので、架橋剤の種類を所望とする特性に応じて適宜選択することが好ましい。
　第１の光学層４が、結晶性高分子材料を主成分として含んでいる場合には、ガラス転移点が、製造プロセス中の最高温度より大きく、製造プロセス中の最高温度下での貯蔵弾性率の低下が少ない樹脂を主成分としていることが好ましい。これに対して、ガラス転移点が、室温２５℃以上、製造プロセス中の最高温度以下の範囲内にあり、製造プロセス中の最高温度下での貯蔵弾性率の低下が大きい樹脂を用いると、製造プロセス中に、設計した理想的な界面形状を保持することが困難になる。
　第１の光学層４が、非晶性高分子材料を主成分として含んでいる場合には、融点が、製造プロセス中の最高温度より大きく、製造プロセス中の最高温度下での貯蔵弾性率の低下が少ない樹脂を主成分としていることが好ましい。これに対して、融点が、室温２５℃以上、製造プロセス中の最高温度以下の範囲内にあり、製造プロセス中の最高温度下での貯蔵弾性率の低下が大きい樹脂を用いると、製造プロセス中に、設計した理想的な界面形状を保持することが困難になる。
　ここで、製造プロセス中の最高温度とは、製造プロセス中における第１の光学層４の凹凸面（第１の面）の最高温度を意味している。上述した貯蔵弾性率の数値範囲、およびガラス転移点の温度範囲は、第２の光学層５も満たしていることが好ましい。
　すなわち、第１の光学層４、および第２の光学層５の少なくとも一方が、２５℃での貯蔵弾性率が３×１０９Ｐａ以下である樹脂を含んでいることが好ましい。室温２５℃において光学フィルム１に可撓性を付与することができるので、ロール・ツー・ロールでの光学フィルム１の製造が可能となるからである。
　第１の基材４ａ、および第２の基材５ａは、例えば、透明性を有している。基材の形状としては、光学フィルム１に可撓性を付与する観点から、フィルム状を有することが好ましいが、特にこの形状に限定されるものではない。第１の基材４ａ、および第２の基材５ａの材料としては、例えば、公知の高分子材料を用いることができる。公知の高分子材料としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエステル（ＴＰＥＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミド（ＰＡ）、アラミド、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂などが挙げられるが、特にこれらの材料に限定されるものではない。第１の基材４ａ、および第２の基材５ａの厚さは、生産性の観点から３８~１００μｍであることが好ましいが、この範囲に特に限定されるものではない。第１の基材４ａ、および第２の基材５ａは、エネルギー線透過性を有することが好ましい。これにより、後述するように、第１の基材４ａ、または第２の基材５ａと反射層３との間に介在させたエネルギー線硬化型樹脂に対して、第１の基材４ａ、または第２の基材５ａ側からエネルギー線を照射し、エネルギー線硬化型樹脂を硬化させることができるからである。
　第１の光学層４、および第２の光学層５は、例えば、透明性を有する。第１の光学層４、および第２の光学層５は、例えば、樹脂組成物を硬化することにより得られる。樹脂組成物としては、製造の容易性の観点からすると、光または電子線などにより硬化するエネルギー線硬化型樹脂、または熱により硬化する熱硬化型樹脂を用いることが好ましい。エネルギー線硬化型樹脂としては、光により硬化する感光性樹脂組成物が好ましく、紫外線により硬化する紫外線硬化型樹脂組成物が最も好ましい。樹脂組成物は、第１の光学層４、または第２の光学層５と反射層３との密着性を向上させる観点から、リン酸を含有する化合物、コハク酸を含有する化合物、ブチロラクトンを含有する化合物をさらに含有することが好ましい。リン酸を含有する化合物としては、例えばリン酸を含有する（メタ）アクリレート、好ましくはリン酸を官能基に有する（メタ）アクリルモノマーまたはオリゴマーを用いることができる。コハク酸を含有する化合物としては、例えば、コハク酸を含有する（メタ）アクリレート、好ましくはコハク酸を官能基に有する（メタ）アクリルモノマーまたはオリゴマーを用いることができる。ブチロラクトンを含有する化合物としては、例えば、ブチロラクトンを含有する（メタ）アクリレート、好ましくはブチロラクトンを官能基に有する（メタ）アクリルモノマーまたはオリゴマーを用いることができる。
　紫外線硬化型樹脂組成物は、例えば、（メタ）アクリレートと、光重合開始剤とを含有している。また、紫外線硬化型樹脂組成物が、必要に応じて、光安定剤、難燃剤、レベリング剤および酸化防止剤などをさらに含有するようにしてもよい。
　アクリレートとしては、２個以上の（メタ）アクリロイル基を有するモノマーおよび／またはオリゴマーを用いることが好ましい。このモノマーおよび／またはオリゴマーとしては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレートなどを用いることができる。ここで、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基およびメタアクリロイル基のいずれかを意味するものである。ここで、オリゴマーとは、分子量５００以上６００００以下の分子をいう。
　光重合開始剤としては、公知の材料から適宜選択したものを使用できる。公知の材料としては、例えば、ベンゾフェノン誘導体、アセトフェノン誘導体、アントラキノン誘導体などを単独で、または併用して用いることができる。重合開始剤の配合量は、固形分中０．１質量％以上１０質量％以下であることが好ましい。０．１質量％未満であると、光硬化性が低下し、実質的に工業生産に適さない。一方、１０質量％を超えると、照射光量が小さい場合に、塗膜に臭気が残る傾向にある。ここで、固形分とは、硬化後のハードコート層１２を構成する全ての成分をいう。具体的には例えば、アクリレート、および光重合開始剤などを固形分という。
　樹脂はエネルギー線照射や熱などによって構造を転写できるものが好ましく、ビニル系樹脂、エポキシ系樹脂、熱可塑性樹脂など上述の屈折率の要求を満たすものであればどのような種類の樹脂を使用しても良い。
　硬化収縮を低減するために、オリゴマーを添加してもよい。硬化剤としてポリイソシアネートなどを含んでもよい。また、第１の光学層４、および第２の光学層５との密着性を考慮して水酸基やカルボキシル基、リン酸基を有するような単量体、多価アルコール類、カルボン酸、シラン、アルミ、チタンなどのカップリング剤や各種キレート剤などを添加しても良い。
　樹脂組成物が、架橋剤をさらに含んでいることが好ましい。この架橋剤としては、環状の架橋剤を用いることが特に好ましい。架橋剤を用いることで、室温での貯蔵弾性率を大きく変化させることなく、樹脂を耐熱化することができるからである。なお、室温での貯蔵弾性率が大きく変化すると、光学フィルム１が脆くなり、ロール・ツー・ロール工程などによる光学フィルム１の作製が困難となる。環状の架橋剤としては、例えば、ジオキサングリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸ジアクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸トリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートなどを挙げることができる。
　第１の基材４ａ、または第２の基材５ａは、第１の光学層４、または第２の光学層５より水蒸気透過率が低いことが好ましい。例えば、第１の光学層４をウレタンアクリレートのようなエネルギー線硬化型樹脂で形成する場合には、第１の基材４ａを第１の光学層４より水蒸気透過率が低く、かつ、エネルギー線透過性を有するポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの樹脂により形成することが好ましい。これにより、入射面Ｓ１または出射面Ｓ２から反射層３への水分の拡散を低減し、反射層３に含まれる金属などの劣化を抑制することができる。したがって、光学フィルム１の耐久性を向上させることができる。なお、厚み７５μｍのＰＥＴの水蒸気透過率は、１０ｇ／ｍ２／ｄａｙ（４０℃、９０％ＲＨ）程度である。
　第１の光学層４および第２の光学層５の少なくとも一方が、極性の高い官能基を含み、その含有量が第１の光学層４と第２の光学層５とで異なることが好ましい。第１の光学層４と第２の光学層５との両方が、リン酸化合物（例えば、リン酸エステル）を含み、第１の光学層４と第２の光学層５とにおける上記リン酸化合物の含有量が異なることが好ましい。リン酸化合物の含有量は、第１の光学層４と第２の光学層５とにおいて、好ましくは２倍以上、より好ましくは５倍以上、さらに好ましくは１０倍以上異なることが好ましい。
　第１の光学層４、および第２の光学層５の少なくとも一方が、リン酸化合物を含む場合、反射層３は、リン酸化合物を含む第１の光学層４または第２の光学層５と接する面に、酸化物もしくは窒化物、酸窒化物を含むことが好ましい。反射層３は、リン酸化合物を含む第１の光学層４または第２の光学層５と接する面に、酸化亜鉛（ＺｎＯ）または酸化ニオブを含む層を有することが特に好ましい。これらの光学層と反射層３との密着性が向上するためである。また、反射層３がＡｇ等の金属を含む場合に、腐食防止効果が高いからである。また、この反射層３は、Ａｌ、Ｇａなどのドーパントを含有していても良い。金属酸化物層をスパッタ法等で形成する場合に、膜質や平滑性が向上するからである。
　第１の光学層４、および第２の光学層５の少なくとも一方が、光学フィルム１や窓材１０などに意匠性を付与する観点からすると、可視領域における特定の波長帯の光を吸収する特性を有することが好ましい。樹脂中に分散させる顔料は、有機系顔料および無機系顔料のいずれであってもよいが、特に顔料自体の耐候性が高い無機系顔料とすることが好ましい。具体的には、ジルコングレー（Ｃｏ、ＮｉドープＺｒＳｉＯ４）、プラセオジムイエロー（ＰｒドープＺｒＳｉＯ４）、クロムチタンイエロー（Ｃｒ、ＳｂドープＴｉＯ２またはＣｒ、ＷドープＴｉＯ２）、クロムグリーン（Ｃｒ２Ｏ３など）、ピーコックブルー（（ＣｏＺｎ）Ｏ（ＡｌＣｒ）２Ｏ３）、ビクトリアグリーン（（Ａｌ、Ｃｒ）２Ｏ３）、紺青（ＣｏＯ・Ａｌ２Ｏ３・ＳｉＯ２）、バナジウムジルコニウム青（ＶドープＺｒＳｉＯ４）、クロム錫ピンク（ＣｒドープＣａＯ・ＳｎＯ２・ＳｉＯ２）、陶試紅（ＭｎドープＡｌ２Ｏ３）、サーモンピンク（ＦｅドープＺｒＳｉＯ４）などの無機顔料、アゾ系顔料やフタロシアニン系顔料などの有機顔料が挙げられる。
（反射層）
　反射層３は、例えば、入射角（θ、φ）で入射面に入射した光のうち、特定波長帯の光を指向反射するのに対して、特定波長帯以外の光を透過する積層膜の波長選択反射層である。反射層３の平均層厚は、好ましくは２０μｍ、より好ましくは５μｍ以下、さらに好ましくは１μｍ以下である。反射層３の平均層厚が２０μｍを超えると、透過光が屈折する光路が長くなり、透過像が歪んで見える傾向がある。反射層の形成方法としては、例えば、スパッタ法、蒸着法、ディップコーティング法、ダイコーティング法などを用いることができる。
　積層膜は、例えば、赤外領域において反射率の高い金属層と、可視領域において金属層に対して屈折率が高く反射防止層として機能する高屈折率層とを交互に積層してなる、少なくとも５層構成とされた積層膜である。高屈折率層としては、光学透明層、または透明導電層を用いることができる。
　赤外領域において反射率の高い金属層は、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｃｏ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｇｅなどの単体、またはこれらの単体を２種以上含む合金を主成分とする。そして、実用性の面を考慮すると、これらのうちのＡｇ系、Ｃｕ系、Ａｌ系、Ｓｉ系またはＧｅ系の材料が好ましい。また、金属層の材料として合金を用いる場合には、金属層は、ＡｌＣｕ、ＡｌＴｉ、ＡｌＣｒ、ＡｌＣｏ、ＡｌＮｄＣｕ、ＡｌＭｇＳｉ、ＡｇＢｉ、ＡｇＮｄＣｕ、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＰｄＴｉ、ＡｇＣｕＴｉ、ＡｇＰｄＣａ、ＡｇＰｄＭｇ、ＡｇＰｄＦｅ、ＡｇまたはＳｉＢなどを主成分とすることが好ましい。また、金属層の腐食を抑えるために、金属層に対してＴｉ、Ｎｄなどの材料を添加することが好ましい。特に、金属層の材料としてＡｇを用いる場合には、上記材料を添加することが好ましい。
　光学透明層は、可視領域において屈折率が高く反射防止層として機能する光学透明層である。光学透明層は、例えば酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化チタンなどの高誘電体を主成分とする。透明導電層は、例えば、ＺｎＯ系酸化物、インジウムドープ酸化錫などの主成分とする。なお、ＺｎＯ系酸化物としては、例えば、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、ガリウム（Ｇａ）およびアルミニウム（Ａｌ）をドープした酸化亜鉛（ＧＡＺＯ）、Ａｌをドープした酸化亜鉛（ＡＺＯ）、およびガリウム（Ｇａ）をドープした酸化亜鉛（ＧＺＯ）からなる群より選ばれる少なくとも１種を用いることができる。
　また、積層膜に含まれる高屈折率層の屈折率は、１．７以上２．６以下の範囲内であることが好ましい。より好ましくは１．８以上２．６以下、更に好ましくは１．９以上２．６以下である。これにより、クラックが発生しない程度の薄い膜で可視光領域での反射防止が実現できるからである。ここで、屈折率は、波長５５０ｎｍにおけるものである。高屈折率層は、例えば、金属の酸化物を主成分とする層である。金属の酸化物としては、例えば、酸化ニオブ、酸化亜鉛、酸化チタンおよび酸化タンタルからなる群より選ばれる少なくとも１種を用いることができ、層の応力を緩和し、クラックの発生を抑制する観点からすると、酸化亜鉛以外の金属酸化物を用いることが好ましい場合もある。特に、酸化ニオブ（例えば、五酸化ニオブ）、酸化タンタル（例えば、五酸化タンタル）、および酸化チタンからなる群より選ばれる少なくとも１種を用いることが好ましい。高屈折率層の膜厚は、好ましくは１０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下、さらに好ましくは１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下である。膜厚が１０ｎｍ未満であると、可視光が反射しやすくなる傾向がある。一方、膜厚が１２０ｎｍを超えると、透過率の低下やクラックが発生しやすくなる傾向がある。
　図５は、反射層３の層構成の一例を示す。以下では、反射層３の出射面側から順に１層目、２層目、３層目、４層目および５層目と適宜称して説明する。１層目、３層目および５層目は、例えばＧＡＺＯを主成分とする高屈折率層であり、１層目および５層目の膜厚が略等しく形成されている。１層目および５層目の膜厚の差分は、２つの層のうちいずれか一方の層の膜厚に対して、好ましくは１０％以内、より好ましくは５％以内、さらに好ましくは３％以内である。また、２層目および４層目は、例えばＡｇＮｄＣｕを主成分とする金属層であり、膜厚が略等しく形成されている。２層目および４層目の膜厚の差分は、２つの層のうちいずれか一方の層の膜厚に対して、好ましくは１０％以内、より好ましくは５％以内、さらに好ましくは３％以内である。
　反射層３の層構成は、これに限られず、例えば、それぞれの高屈折率層が複数の層に分離して１つの層を形成するようにしてもよい。図６Ａ~図６Ｆは、高屈折率層が複数の層に分離して形成された反射層３の層構成の一例を示す。図６Ａに示す例では、３層目および５層目の高屈折率層がＺｎＯおよびＮｂ２Ｏ５を主成分とした２層に分離している。図６Ｂに示す例では、３層目の高屈折率層がＧＡＺＯ、Ｎｂ２Ｏ５およびＧＡＺＯを主成分とした３層に分離し、５層目の高屈折率層がＧＡＺＯおよびＮｂ２Ｏ５を主成分とした２層に分離している。図６Ｃに示す例では、３層目の高屈折率層がＺｎＯおよびＮｂ２Ｏ５を主成分とした２層に分離し、５層目の高屈折率層がＺｎＯ、Ｎｂ２Ｏ５およびＺｎＯを主成分とした３層に分離している。
　また、図６Ｄに示す例では、１層目、３層目および５層目の高屈折率層がＧＡＺＯおよびＮｂ２Ｏ５を主成分とした２層に分離している。図６Ｅに示す例では、１層目および５層目の高屈折率層がＧＡＺＯおよびＮｂ２Ｏ５を主成分とした２層に分離し、３層目の高屈折率層がＧＡＺＯ、Ｎｂ２Ｏ５およびＧＡＺＯを主成分とした３層に分離している。図６Ｆに示す例では、１層目の高屈折率層がＧＡＺＯおよびＮｂ２Ｏ５を主成分とした２層に分離し、３層目および５層目の高屈折率層がＧＡＺＯ、Ｎｂ２Ｏ５およびＧＡＺＯを主成分とした３層に分離している。
　なお、積層膜は、無機材料からなる薄膜に限定されるものではなく、高分子材料からなる薄膜や高分子中に微粒子などを分散した層を積層して構成してもよい。また、これら光学透明層製膜時の下層金属の酸化劣化を防ぐ目的で、成膜する光学透明層の界面に数ｎｍ程度のＴｉなどの薄いバッファー層を設けてもよい。ここで、バッファー層とは、上層製膜時に、自らが酸化することで下層である金属層などの酸化を抑制するための層である。
（色調変化の抑制）
　この発明の実施形態では、青みや赤みなどの色調を示す指標値を設定し、この指標値を満足するように積層膜を形成することで、色調の変化を抑制している。この例では、色調に対する指標値として、青み指標および赤み指標を設定している。
　青み指標は、透過光が青みを帯びて見えるか否かを判断するための指標値である。青み指標値は、波長が６２０ｎｍ~７５０ｎｍの範囲における光源スペクトルと反射率と視感度とをそれぞれ乗じたものを積分した値を、光源スペクトルと視感度とを乗じたものを積分した値で除することで算出される。
　青み指標値は、好ましくは０．１５２未満、より好ましくは０．１１１未満であるのが望ましい。これは、青み指標値が０以上０．１１１未満の場合には、青みがほとんど気にならず、０．１１１以上０．１５２未満の場合には、外の明るさに依存するが、気にならない程度であるからである。一方、青み指標値が０．１５２以上０．２未満の場合には、特定の角度方向において、透過光がやや青みを帯びて見える傾向があり、０．２以上の場合には、特定の角度方向において、透過光が濃い青みを帯びて見える傾向がある。
　赤み指標は、透過光が赤みを帯びて見えるか否かを判断するための指標値である。赤み指標値は、青み指標値と同様に、波長が６２０ｎｍ~７５０ｎｍの範囲における光源スペクトルと反射率と視感度とをそれぞれ乗じたものを積分した値を、光源スペクトルと視感度とを乗じたものを積分した値で除することで算出される。
　赤み指標値は、好ましくは０．２５８未満、より好ましくは０．１７５未満であるのが望ましい。これは、赤み指標値が０以上０．１７５未満の場合には、赤みがほとんど気にならず、０．１７５以上０．２５８未満の場合には、外の明るさに依存するが、気にならない程度であるからである。一方、赤み指標値が０．２５８以上０．３未満の場合には、特定の角度方向において、透過光がやや赤みを帯びて見える傾向があり、０．３以上の場合には、特定の角度方向において、透過光が濃い赤みを帯びて見える傾向がある。
（光学フィルムの機能）
　図７Ａ、図７Ｂは、光学フィルムの機能の一例を説明するための断面図である。ここでは、例として、構造体の形状が傾斜角４５°のプリズム形状である場合を例として説明する。図７Ａに示すように、この光学フィルム１に入射した太陽光のうち近赤外線Ｌ１の一部は、入射した方向と同程度の上空方向に指向反射するのに対して、可視光Ｌ２は光学フィルム１を透過する。
　また、図７Ｂに示すように、光学フィルム１に入射し、反射層３の反射層面で反射された光は、入射角度に応じた割合で、上空反射する成分ＬＡと、上空反射しない成分ＬＢとに分離する。そして、上空反射しない成分ＬＢは、第２の光学層４と空気との界面で全反射した後、最終的に入射方向とは異なる方向に反射する。
　光の入射角度をδ、第１の光学層４の屈折率をｎ、反射層３の反射率をＲとすると、全入射成分に対する上空反射成分ＬＡの割合ｘは以下の式（１）で表される。
　ｘ＝（ｓｉｎ（４５−δ’）＋ｃｏｓ（４５−δ’）／ｔａｎ（４５＋δ’））／（ｓｉｎ（４５−δ’）＋ｃｏｓ（４５−δ’））×Ｒ２　　　　　・・・（１）
　但し、δ’＝ｓｉｎ−１（ｓｉｎδ／ｎ）
　上空反射しない成分ＬＢの割合が多くなると、入射光が上空反射する割合が減少する。上空反射の割合を向上させるためには、反射層３の形状、すなわち、第１の光学層４の構造体４ｃの形状を工夫することが有効である。例えば、上空反射の割合を向上させるためには、構造体４ｃの形状は、図３Ｃに示すレンチキュラー形状、または図４に示す非対称な形状とすることが好ましい。このような形状にすることで、入射光と全く同じ方向に光を反射することはできなくても、建築用窓材などの上方向から入射した光を上方向に反射させる割合を多くすることが可能である。図３Ｃおよび図４に示す二つの形状は、図８Ａおよび図８Ｂに示すように、反射層３による入射光の反射回数が１回で済むため、図７に示すような２回（もしくは３回以上）反射させる形状よりも、最終的な反射成分を多くすることが可能である。例えば、２回反射を利用する場合、反射層３のある波長に対する反射率を８０％とすると、上空反射率は理論的には６４％となるが、１回反射で済めば上空反射率は８０％となる。
　図９は、柱状の構造体４ｃの稜線ｌ３と、入射光Ｌおよび反射光Ｌ１との関係を示す。光学フィルム１は、入射角（θ、φ）で入射面Ｓ１に入射した光Ｌのうち、特定波長帯の光Ｌ１を選択的に（θｏ、−φ）の方向（０°＜θｏ＜９０°）に指向反射するのに対して、特定波長帯以外の光Ｌ２を透過することが好ましい。このような関係を満たすことで、特定波長帯の光を上空方向に反射できるからである。但し、θ：入射面Ｓ１に対する垂線ｌ１と、入射光Ｌまたは反射光Ｌ１とのなす角である。φ：入射面Ｓ１内において柱状の構造体４ｃの稜線ｌ３と直交する直線とｌ２と、入射光Ｌまたは反射光Ｌ１を入射面Ｓ１に射影した成分とのなす角である。なお、垂線ｌ１を基準にして時計回りに回転した角度θを「＋θ」とし、反時計回りに回転した角度θを「−θ」とする。直線ｌ２を基準にして時計回りに回転した角度φを「＋φ」とし、反時計回りに回転した角度φを「−φ」とする。
［光学フィルムの製造装置］
　図１０は、本発明の第１の実施形態に係る光学フィルムを製造するための製造装置の一構成例を示す概略図である。図１０に示すように、この製造装置は、ラミネートロール４１、４２、ガイドロール４３、塗布装置４５、および照射装置４６を備える。
　ラミネートロール４１、４２は、反射層付き光学層９と、第２の基材５ａとをニップ可能に構成されている。ここで、反射層付き光学層９は、第１の光学層４の一主面上に反射層３を成膜したものである。なお、反射層付き光学層９として、第１の光学層４の反射層３が成膜された面と反対側の他主面上に第１の基材４ａが形成されていてもよい。この例では、第１の光学層４の一主面上に反射層３が成膜され、他主面上に第１の基材４ａが形成された場合が示されている。ガイドロール４３は、帯状の光学フィルム１を搬送できるように、この製造装置内の搬送路に配置されている。ラミネートロール４１、４２およびガイドロール４３の材質は特に限定されるものではなく、所望とするロール特性に応じてステンレスなどの金属、ゴム、シリコーンなどを適宜選択して用いることができる。
　塗布装置４５は、例えば、コーターなどの塗布手段を備える装置を用いることができる。コーターとしては、例えば、塗布する樹脂組成物の物性などを考慮して、グラビア、ワイヤバー、およびダイなどのコーターを適宜使用することができる。照射装置４６は、例えば、電子線、紫外線、可視光線、またはガンマ線などの電離線を照射する照射装置である。この例では、照射装置４６として紫外線を照射するＵＶランプを用いた場合が図示されている。
［光学フィルムの製造方法］
　以下、図１０~図１３を参照して、本発明の第１の実施形態に係る光学フィルムの製造方法の一例について説明する。なお、以下に示す製造プロセスの一部または全部は、生産性を考慮して、図１０に示すようなロール・ツー・ロールにより行われることが好ましい。但し、金型の作製工程は除くものとする。
　まず、図１１Ａに示すように、例えばバイト加工またはレーザー加工などにより、構造体４ｃと同一の凹凸形状の金型、またはその金型の反転形状を有する金型（レプリカ）を形成する。次に、図１１Ｂに示すように、例えば溶融押し出し法または転写法などを用いて、上記金型の凹凸形状をフィルム状の樹脂材料に転写する。転写法としては、型にエネルギー線硬化型樹脂を流し込み、エネルギー線を照射して硬化させる方法、樹脂に熱や圧力を加え、形状を転写する方法、または樹脂フィルムをロールから供給し、熱を加えながら型の形状を転写する方法（ラミネート転写法）などが挙げられる。これにより、図１１Ｃに示すように、一主面に構造体４ｃを有する第１の光学層４が形成される。
　また、図１１Ｃに示すように、第１の基材４ａ上に、第１の光学層４を形成するようにしてもよい。この場合には、例えば、フィルム状の第１の基材４ａをロールから供給し、該基材上にエネルギー線硬化型樹脂を塗布した後に型に押し当て、型の形状を転写し、エネルギー線を照射して樹脂を硬化させる方法が用いられる。なお、樹脂は、架橋剤をさらに含んでいることが好ましい。室温での貯蔵弾性率を大きく変化させることなく、樹脂を耐熱化することができるからである。
　次に、図１２Ａに示すように、その第１の光学層４の一主面上に反射層３を成膜する。反射層３の成膜方法としては、例えば、スパッタリング法、蒸着法、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｖａｐｏｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、ディップコーティング法、ダイコーティング法、ウェットコーティング法、スプレーコーティング法などが挙げられ、これらの成膜方法から、構造体４ｃの形状などに応じて適宜選択することが好ましい。次に、図１２Ｂに示すように、必要に応じて、反射層３に対してアニール処理３１を施す。アニール処理の温度は、例えば１００℃以上２５０℃以下の範囲内である。
　次に、図１２Ｃに示すように、未硬化状態の樹脂２２を反射層３上に塗布する。樹脂２２としては、例えば、エネルギー線硬化型樹脂、または熱硬化型樹脂などを用いることができる。エネルギー線硬化型樹脂としては、紫外線硬化樹脂が好ましい。次に、図１３Ａのように、樹脂２２上に第２の基材５ａを被せることにより、積層体を形成する。次に、図１３Ｂに示すように、例えばエネルギー線３２または加熱３２により樹脂２２を硬化させるとともに、積層体に対して圧力３３を加える。エネルギー線としては、例えば、電子線、紫外線、可視光線、ガンマ線、電子線などを用いることができ、生産設備の観点から、紫外線が好ましい。積算照射量は、樹脂の硬化特性、樹脂や基材の黄変抑制などを考慮して適宜選択することが好ましい。積層体に加える圧力は、０．０１ＭＰａ以上１ＭＰａ以下の範囲内であることが好ましい。０．０１ＭＰａ未満であると、フィルムの走行性に問題が生じる。一方、１ＭＰａを超えると、ニップロールとして金属ロールを用いる必要があり、圧力ムラが生じ易く好ましくない。以上により、図１３Ｃに示すように、反射層３上に第２の光学層５が形成され、光学フィルム１が得られる。
　ここで、図１０に示す製造装置を用いて、光学フィルム１の形成方法について具体的に説明する。まず、図示しない基材供給ロールから第２の基材５ａを送出し、送出された第２の基材５ａは、塗布装置４５の下を通過する。次に、塗布装置４５の下を通過する第２の基材５ａ状に、塗布装置４５により電離線硬化樹脂４４を塗布する。次に、電離線硬化樹脂４４が塗布された第２の基材５ａをラミネートロールに向けて搬送する。一方、図示しない光学層供給ロールから反射層付き光学層９を送出し、ラミネートロール４１、４２に向けて搬送する。
　次に、第２の基材５ａと反射層付き光学層９との間に気泡が入らないように、搬入された第２の基材５ａと反射層付き光学層９とをラミネートロール４１、４２により挟み合わせ、第２の基材５ａに対して反射層付き光学層９をラミネートする。次に、反射層付き光学層９によりラミネートされた第２の基材５ａを、ラミネートロール４１の外周面に沿わせながら搬送するとともに、照射装置４６により第２の基材５ａ側から電離線硬化樹脂４４に電離線を照射し、電離線硬化樹脂４４を硬化させる。これにより、第２の基材５ａと反射層付き光学層９とが電離線硬化樹脂４４を介して貼り合わされ、目的とする長尺の光学フィルム１が作製される。次に、作製された帯状の光学フィルム１を図示しない巻き取りロールにより巻き取る。これにより、帯状の光学フィルム１が巻回された原反が得られる。
　硬化した第１の光学層４は、上述の第２の光学層形成時のプロセス温度をｔ℃としたときに、（ｔ−２０）℃における貯蔵弾性率が３×１０７Ｐａ以上であることが好ましい。ここで、プロセス温度ｔとは、例えば、ラミネートロール４１の加熱温度である。第１の光学層４は、例えば、第１の基材４ａ上に設けられ、第１の基材４ａを介してラミネートロール４１に沿うように搬送されるため、実際に第１の光学層４にかかる温度は、経験的に（ｔ−２０）℃程度であることが分かっている。したがって、第１の光学層４の（ｔ−２０）℃における貯蔵弾性率を３×１０７Ｐａ以上にすることにより、熱、または熱と加圧とにより光学層内部の界面の凹凸形状が変形することを抑制することができる。
　また、第１の光学層４は、２５℃での貯蔵弾性率が３×１０９Ｐａ以下であることが好ましい。これにより、室温において可撓性を光学フィルムに付与することができる。したがって、ロール・ツー・ロールなどの製造工程により光学フィルム１を作製することが可能となる。
　なお、プロセス温度ｔは、光学層または基材の使用樹脂の耐熱性を考慮すると、２００℃以下であることが好ましい。ただし、耐熱性の高い樹脂を用いることにより、プロセス温度ｔを２００℃以上に設定することも可能である。
［反射層の膜厚の設定］
　上述したように、青みおよび赤みの色調を示す青み指標値および赤み指標値は、反射層３の積層膜における各層の膜厚に応じて変化する。そこで、この発明の実施形態では、青み指標値および赤み指標値をパラメータとして、このパラメータの条件を満足するような積層膜の膜厚に設定する。
　また、この例では、青み指標および赤み指標に加えて、可視光線透過率および遮蔽係数をパラメータとして、積層膜の膜厚を設定する。可視光線透過率は、光の透過率を示すパラメータであり、好ましくは７０％以上である。遮蔽係数は、熱を遮る効率を示すパラメータであり、好ましくは０．６以下である。可視光線透過率および遮蔽係数についても、青み指標および赤み指標と同様に、積層膜の膜厚に応じて変化する。
　各パラメータの条件を満足するような積層膜における各層の膜厚は、例えばシミュレーションにより算出することができる。例えば、膜厚に対する各パラメータの分布をシミュレーションにより求めることで、各パラメータの条件を満足する膜厚を設定することができる。
　シミュレーションを行う際には、反射層３の積層膜における各層の膜厚に応じて決定される比率αおよび比率βで規定する。比率αは、高屈折率層全体の光学膜厚に対する金属層全体の光学膜厚の比率を示す。比率βは、第１の光学層側および第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の高屈折率層の光学膜厚に対する３層目の高屈折率層の光学膜厚の比率を示す。なお、光学膜厚は、幾何膜厚に対して屈折率を乗じることによって得られる膜厚を示す。
　ここでは、第１の光学層側および上記第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目および５層目の高屈折率層の膜厚が略等しく、かつ、２層目および４層目の金属層の膜厚が略等しい場合について説明する。なお、高屈折率層は、金属層に対して高屈折率を有するものとする。積層膜の１層目および５層目の高屈折率層の光学膜厚をＸ１、３層目の高屈折率層の光学膜厚をＸ２とし、２層目および４層目の金属層の光学膜厚をＹとした場合、光学膜厚での総膜厚（幾何膜厚）Ｌ、比率αおよび比率βは、以下の式（２）~式（４）で算出される。
　Ｌ＝Ｘ１＋Ｙ＋Ｘ２＋Ｙ＋Ｘ１　・・・（２）
　α＝２Ｙ／（２Ｘ１＋Ｘ２）　・・・（３）
　β＝Ｘ２／Ｘ１　・・・（４）
　上述した式（２）~式（４）に基づき、総膜厚し、比率αおよび比率βを求めることにより、反射層３の積層膜における各層の、各パラメータの条件を満足する膜厚を設定することができる。
　なお、この発明の実施形態では、図１４に示すように、第１の光学層４に形成された構造体４ｃの傾斜面に対して垂直な方向を、反射層３の積層膜の厚み方向と定義する。第１の光学層４の主面に対する構造体４ｃの傾斜面の角度をθとした場合、第１の光学層４の主面に対して垂直な方向の膜厚Ａと、構造体４ｃの傾斜面に対して垂直な方向の膜厚Ｂとの間には、「Ａ＝Ｂ／ｃｏｓθ」の関係が成立する。例えば、構造体４ｃの傾斜面の角度θが５４°の場合、「Ａ≒１．７Ｂ」となる。
　各パラメータの条件を満足する膜厚を決定する処理の流れの一例について、図１５に示すフローチャートを参照して説明する。先ず、反射層３の積層膜における各層の膜厚を変化させた場合のシミュレーションを行うために、ステップＳ１~ステップＳ５に示す条件を設定する。ステップＳ１では、積層膜の総膜厚Ｌを設定する。ステップＳ２では、積層膜に形成された形状の傾斜角度を設定する。ステップＳ３では、積層膜における各層の膜厚分布を設定する。ステップＳ４では、第１の光学層（形状層）および第２の光学層（包埋層）の屈折率を設定する。ステップＳ５では、比率αおよび比率βを入力する。
　ステップＳ６において、ステップＳ１~ステップＳ５で設定された条件に基づきシミュレーションを行い、設定された比率αおよび比率βにおける各パラメータの値をそれぞれ算出する。ステップＳ７では、設定された比率αおよび比率βにおける可視光線透過率が算出される。ステップＳ８では、設定された比率αおよび比率βにおける遮蔽係数が算出される。ステップＳ９では、設定された比率αおよび比率βにおける青み指標が算出される。ステップＳ１０では、設定された比率αおよび比率βにおける赤み指標が算出される。
　ステップＳ１１において、比率αおよび比率βを変化させることにより各層の膜厚を変化させ、ステップＳ６~ステップＳ１０のシミュレーションを繰り返し行い、各パラメータの値をそれぞれ算出する。
　ステップＳ１２では、ステップＳ７~ステップＳ１０で算出された各パラメータの値をα−β平面上にマッピングし、図１６Ａ~図１６Ｄに示すように、比率αおよび比率βに対する各パラメータの分布を示すα−β相関図を作成する。図１６Ａは、比率αおよび比率βに対する可視光線透過率の分布を示す。図１６Ｂは、比率αおよび比率βに対する遮蔽係数の分布を示す。図１６Ｃは、比率αおよび比率βに対する青み指標の分布を示す。図１６Ｄは、比率αおよび比率βに対する赤み指標の分布を示す。
　次に、ステップＳ１３において、図１６Ａ~図１６Ｄに示す各パラメータに対するα−β相関図に基づき、各パラメータの条件を満足する領域を抽出する。図１６Ｂにおいて、網掛けで示す領域は、遮蔽係数の条件を満足しない領域を示している。図１６Ｃにおいて、網掛けで示す領域は、青み指標の条件を満足しない領域を示している。図１６Ｄにおいて、網掛けで示す領域は、赤み指標の条件を満足しない領域を示している。なお、このシミュレーションにおいては、各パラメータの条件を以下のように設定している。
　青み指標：０．１５２未満、赤み指標：０．２５８未満、遮蔽係数：０．６以下、可視光透過率：７０％以上
　このように作成された、図１６Ａ~図１６Ｄに示すα−β相関図をそれぞれ重ね合わせることにより、各パラメータの条件を満足する領域が抽出される。図１６Ｅは、図１６Ａ~図１６Ｄに示すα−β相関図をそれぞれ重ね合わせた状態を示す。図１６Ｅでは、網掛けされた領域以外の領域が抽出される。この領域が各パラメータの条件を全て満足する領域となる。すなわち、各パラメータの条件を満足する領域は、各パラメータの条件を満足する領域と満足しない領域との境界線に囲まれた領域である。
　ステップＳ１４では、この境界線を数式化する。例えば、境界線上の所定の値を抽出し、この値に基づき各パラメータの条件を満足する領域と満足しない領域との境界線の近似曲線を導出して、境界線を数式化する。これにより、各パラメータの条件を満足する領域を決定することができる。
　比率αおよび比率βに対する各パラメータの条件を満足する領域について、具体的に説明する。先ず、可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとした場合について、反射層３の総膜厚Ｌ毎に説明する。
（Ｌ＝８０ｎｍ）
　図１７Ａは、総膜厚Ｌが８０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の条件に基づくα−β相関図である。図１７Ａにおいて、点「●」および点「▲」は、青み指標の条件を満足する領域と満足しない領域との境界線上の所定の点を示す。また、点「■」は、赤み指標の条件を満足する領域と満足しない領域との境界線上の所定の点を示す。図１７Ａにおいて、可視光線透過率の条件を満足する領域と満足しない領域との境界線上の所定の点（α，β）は、網掛けで示す領域の外側となるので、図示を省略している。なお、以下の説明で用いられる図１７Ｂ~図２０についても、同様に表記する。
　α−β相関図にプロットされた各パラメータの境界線上の点に基づき、以下の式（５）~式（７）に示す各パラメータにおける境界線の近似曲線が導出される。
　α＝−０．０００４β２＋０．００５３β＋０．００６５　・・・（５）
　α＝−１×１０−５β２＋０．０００７β＋０．００６６　・・・（６）
　α＝−１×１０−５β２＋０．０００５β＋０．０１１９　・・・（７）
　この場合、式（５）~式（７）に示す近似曲線と、以下の式（８）に示す直線とに囲まれた、網掛けで示す領域（以下「第１の領域Ｒ１」という。）が、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第１の領域Ｒ１に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第１の領域Ｒ１には、上述の近似曲線および直線を含むものとする。式（８）は、金属層の膜厚が５ｎｍ以下となるのを防ぐために設定される。これは、金属層の膜厚が５ｎｍ以下となると、金属層に用いられる材料の物性値が変化してしまい、シミュレーション値から乖離する可能性が増大してしまうからである。
　α＝０．０１２１１４　・・・（８）
　なお、以下では、Ｌ＝８０ｎｍの平面のうち、第１の領域Ｒ１により規定される部分を「第１の平面Ｓｐ１」と適宜称する。
（Ｌ＝９０ｎｍ）
　図１７Ｂは、総膜厚Ｌが９０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の条件に基づくα−β相関図である。なお、図１７Ｂにおいて、可視光線透過率の条件を満足する領域と満足しない領域との境界線上の所定の点（α，β）は、網掛けで示す領域の外側となるので、図示を省略している。α−β相関図にプロットされた各パラメータの境界線上の点に基づき、以下の式（９）~式（１１）に示す各パラメータにおける境界線の近似曲線が導出される。
　α＝−０．０００２β２＋０．００３９β＋０．００８７　・・・（９）
　α＝−３×１０−５β２＋０．００１４β＋０．００３８　・・・（１０）
　α＝−２×１０−５β２＋０．０００６β＋０．０１１２　・・・（１１）
　この場合、式（９）~式（１１）に示す近似曲線と、以下の式（１２）に示す直線とに囲まれた、網掛けで示す領域（以下「第２の領域Ｒ２」という。）が、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第２の領域Ｒ２に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第２の領域Ｒ２には、上述の近似曲線および直線を含むものとする。式（１２）は、金属層の膜厚が５ｎｍ以下となるのを防ぐために設定される。
　α＝０．０１０５８９　・・・（１２）
　なお、以下では、Ｌ＝９０ｎｍの平面のうち、第２の領域Ｒ２により規定される部分を「第２の平面Ｓｐ２」と適宜称する。
（Ｌ＝１００ｎｍ）
　図１８Ａは、総膜厚Ｌが１００ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の条件に基づくα−β相関図である。なお、図１８Ａにおいて、可視光線透過率の条件を満足する領域と満足しない領域との境界線上の所定の点（α，β）は、網掛けで示す領域の外側となるので、図示を省略している。α−β相関図にプロットされた各パラメータの境界線上の点に基づき、以下の式（１３）~式（１５）に示す各パラメータにおける境界線の近似曲線が導出される。
　α＝−０．０００２β２＋０．００５５β＋０．００５７　・・・（１３）
　α＝−０．０００２β２＋０．００４５β−０．００６７　・・・（１４）
　α＝−４×１０−５β２＋０．００１β＋０．００９９　・・・（１５）
　この場合、式（１３）~式（１５）に示す近似曲線と、以下の式（１６）に示す直線とに囲まれた、網掛けで示す領域（以下「第３の領域Ｒ３」という。）が、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第３の領域Ｒ３に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第３の領域Ｒ３には、上述の近似曲線および直線を含むものとする。式（１６）は、金属層の膜厚が５ｎｍ以下となるのを防ぐために設定される。
　α＝０．００９４０３　・・・（１６）
　なお、以下では、Ｌ＝１００ｎｍの平面のうち、第３の領域Ｒ３により規定される部分を「第３の平面Ｓｐ３」と適宜称する。
（Ｌ＝１２０ｎｍ）
　図１８Ｂは、総膜厚Ｌが１２０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の条件に基づくα−β相関図である。なお、図１８Ｂにおいて、可視光線透過率の条件を満足する領域と満足しない領域との境界線上の所定の点（α，β）は、網掛けで示す領域の外側となるので、図示を省略している。α−β相関図にプロットされた各パラメータの境界線上の点に基づき、以下の式（１７）~式（１９）に示す各パラメータにおける境界線の近似曲線が導出される。
　α＝−０．０００３β２＋０．００７４β＋０．００３３　・・・（１７）
　α＝−０．００１４β２＋０．０１９１β−０．０４２２　・・・（１８）
　α＝−９×１０−５β２＋０．００１５β＋０．００８４　・・・（１９）
　この場合、式（１７）~式（１９）に示す近似曲線と、以下の式（２０）に示す直線とに囲まれた、網掛けで示す領域（以下「第４の領域Ｒ４」という。）が、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第４の領域Ｒ４に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第４の領域Ｒ４には、上述の近似曲線および直線を含むものとする。式（２０）は、金属層の膜厚が５ｎｍ以下となるのを防ぐために設定される。
　α＝０．００７７０９　・・・（２０）
　なお、以下では、Ｌ＝１２０ｎｍの平面のうち、第４の領域Ｒ４により規定される部分を「第４の平面Ｓｐ４」と適宜称する。
（Ｌ＝１４０ｎｍ）
　図１９Ａは、総膜厚Ｌが１４０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の条件に基づくα−β相関図である。なお、図１９Ａにおいて、可視光線透過率の条件を満足する領域と満足しない領域との境界線上の所定の点（α，β）は、網掛けで示す領域の外側となるので、図示を省略している。α−β相関図にプロットされた各パラメータの境界線上の点に基づき、以下の式（２１）~式（２３）に示す各パラメータにおける境界線の近似曲線が導出される。
　α＝−０．００１４β２＋０．０１３６β−０．００２７　・・・（２１）
　β＝１０１３２α２−２４１．３９α＋４．７４７　・・・（２２）
　α＝−０．０００１β２＋０．００２β＋０．００７４　・・・（２３）
　この場合、式（２１）~式（２３）に示す近似曲線と、以下の式（２４）に示す直線とに囲まれた、網掛けで示す領域（以下「第５の領域Ｒ５」という。）が、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第５の領域Ｒ５に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第５の領域Ｒ５には、上述の近似曲線および直線を含むものとする。式（２４）は、金属層の膜厚が５ｎｍ以下となるのを防ぐために設定される。
　α＝０．００６５２３　・・・（２４）
　なお、以下では、Ｌ＝１４０ｎｍの平面のうち、第５の領域Ｒ５により規定される部分を「第５の平面Ｓｐ５」と適宜称する。
（Ｌ＝１６０ｎｍ）
　図１９Ｂは、総膜厚Ｌが１６０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の条件に基づくα−β相関図である。なお、図１９Ｂにおいて、可視光線透過率の条件を満足する領域と満足しない領域との境界線上の所定の点（α，β）は、網掛けで示す領域の外側となるので、図示を省略している。α−β相関図にプロットされた各パラメータの境界線上の点に基づき、以下の式（２５）~式（２８）に示す各パラメータにおける境界線の近似曲線が導出される。
　α＝−０．００５β２＋０．０２７３β−０．０１４５　・・・（２５）
　α＝０．００４３β２−０．０３３２β＋０．０７　・・・（２６）
　β＝２．８７５　・・・（２７）
　α＝−０．０００１β２＋０．００２５β＋０．００６２　・・・（２８）
　この場合、式（２５）~式（２８）に示す近似曲線と、以下の式（２９）に示す直線とに囲まれた、網掛けで示す領域（以下「第６の領域Ｒ６」という。）が、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第６の領域Ｒ６に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第６の領域Ｒ６には、上述の近似曲線および直線を含むものとする。式（２９）は、金属層の膜厚が５ｎｍ以下となるのを防ぐために設定される。
　α＝０．００５６７６　・・・（２９）
　なお、以下では、Ｌ＝１６０ｎｍの平面のうち、第６の領域Ｒ６により規定される部分を「第６の平面Ｓｐ６」と適宜称する。
（Ｌ＝１８０ｎｍ）
　図２０は、総膜厚Ｌが１８０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の条件に基づくα−β相関図である。なお、図２０において、可視光線透過率の条件を満足する領域と満足しない領域との境界線上の所定の点（α，β）は、網掛けで示す領域の外側となるので、図示を省略している。α−β相関図にプロットされた各パラメータの境界線上の点に基づき、以下の式（３０）~式（３２）に示す各パラメータにおける境界線の近似曲線が導出される。
　α＝−０．０１０３β２＋０．０４７β−０．０３２２　・・・（３０）
　α＝０．００９３β２−０．０６７７β＋０．１２１２　・・・（３１）
　α＝−０．０００３β２＋０．００３６β＋０．００４６　・・・（３２）
　この場合、式（３０）~式（３２）に示す近似曲線と、以下の式（３３）に示す直線とに囲まれた、網掛けで示す領域（以下「第７の領域Ｒ７」という。）が、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第７の領域Ｒ７に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第７の領域Ｒ７には、上述の近似曲線および直線を含むものとする。式（３３）は、金属層の膜厚が５ｎｍ以下となるのを防ぐために設定される。
　α＝０．００４９８　・・・（３３）
　なお、以下では、Ｌ＝１８０ｎｍの平面のうち、第７の領域Ｒ７により規定される部分を「第７の平面Ｓｐ７」と適宜称する。
　次に、上述した可視光線透過率、青み指標および赤み指標に加えて、遮蔽係数をパラメータとした場合について、反射層３の総膜厚Ｌ毎に説明する。
（Ｌ＝８０ｎｍ）
　図２１Ａは、総膜厚Ｌが８０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の条件に基づくα−β相関図である。図２１Ａにおいて、点「×」は、遮蔽係数の条件を満足する領域と満足しない領域との境界線上の所定の点を示す。図２１Ａにおいて、可視光線透過率の条件を満足する領域と満足しない領域との境界線上の所定の点（α，β）は、網掛けで示す領域の外側となるので、図示を省略している。なお、以下の説明で用いられる図２１Ｂ~図２４についても、同様に表記する。
　上述の式（５）~式（７）に示す境界線の近似曲線に加えて、α−β相関図にプロットされた遮蔽係数の境界線上の点に基づき、以下の式（３４）に示す境界線の近似曲線が導出される。
　α＝−６×１０−６β２＋０．０００２β＋０．０１４１　・・・（３４）
　この場合、式（６）、式（７）および式（３４）に示す近似曲線に囲まれた、網掛けで示す領域（以下「第１の領域Ｒ１１」という。）が、全てのパラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第１の領域Ｒ１１に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第１の領域Ｒ１１には、上述の近似曲線を含むものとする。なお、以下では、Ｌ＝８０ｎｍの平面のうち、第１の領域Ｒ１１により規定される部分を「第１の平面Ｓｐ１１」と適宜称する。
（Ｌ＝９０ｎｍ）
　図２１Ｂは、総膜厚Ｌが９０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の条件に基づく場合のα−β相関図である。なお、図２１Ｂにおいて、可視光線透過率の条件を満足する領域と満足しない領域との境界線上の所定の点（α，β）は、網掛けで示す領域の外側となるので、図示を省略している。上述の式（９）~式（１１）に示す境界線の近似曲線に加えて、α−β相関図にプロットされた遮蔽係数の境界線上の点に基づき、以下の式（３５）に示す境界線の近似曲線が導出される。
　α＝−１×１０−５β２＋０．０００２β＋０．０１２５　・・・（３５）
　この場合、式（１０）、式（１１）および式（３５）に示す近似曲線に囲まれた、網掛けで示す領域（以下「第２の領域Ｒ１２」という。）が、全てのパラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第２の領域Ｒ１２に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第２の領域Ｒ１２には、上述の近似曲線を含むものとする。なお、以下では、Ｌ＝９０ｎｍの平面のうち、第２の領域Ｒ１２により規定される部分を「第２の平面Ｓｐ１２」と適宜称する。
（Ｌ＝１００ｎｍ）
　図２２Ａは、総膜厚Ｌが１００ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の条件に基づく場合のα−β相関図である。なお、図２２Ａにおいて、可視光線透過率の条件を満足する領域と満足しない領域との境界線上の所定の点（α，β）は、網掛けで示す領域の外側となるので、図示を省略している。上述の式（１３）~式（１５）に示す境界線の近似曲線に加えて、α−β相関図にプロットされた遮蔽係数の境界線上の点に基づき、以下の式（３６）に示す境界線の近似曲線が導出される。
　α＝−３×１０−５β２＋０．０００４β＋０．０１１３　・・・（３６）
　この場合、式（１４）、式（１５）および式（３６）に示す近似曲線に囲まれた、網掛けで示す領域（以下「第３の領域Ｒ１３」という。）が、全てのパラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第３の領域Ｒ１３に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第３の領域Ｒ１３には、上述の近似曲線を含むものとする。なお、以下では、Ｌ＝１００ｎｍの平面のうち、第３の領域Ｒ１３により規定される部分を「第３の平面Ｓｐ１３」と適宜称する。
（Ｌ＝１２０ｎｍ）
　図２２Ｂは、総膜厚Ｌが１２０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の条件に基づくα−β相関図である。なお、図２２Ｂにおいて、可視光線透過率の条件を満足する領域と満足しない領域との境界線上の所定の点（α，β）は、網掛けで示す領域の外側となるので、図示を省略している。上述の式（１７）~式（１９）に示す境界線の近似曲線に加えて、α−β相関図にプロットされた遮蔽係数の境界線上の点に基づき、以下の式（３７）に示す境界線の近似曲線が導出される。
　α＝−７×１０−５β２＋０．０００７β＋０．００９７　・・・（３７）
　この場合、式（１８）、式（１９）および式（３７）に示す近似曲線に囲まれた、網掛けで示す領域（以下「第４の領域Ｒ１４」という。）が、全てのパラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第４の領域Ｒ１４に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第４の領域Ｒ１４には、上述の近似曲線を含むものとする。なお、以下では、Ｌ＝１２０ｎｍの平面のうち、第４の領域Ｒ１４により規定される部分を「第４の平面Ｓｐ１４」と適宜称する。
（Ｌ＝１４０ｎｍ）
　図２３Ａは、総膜厚Ｌが１４０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の条件に基づくα−β相関図である。なお、図２３Ａにおいて、可視光線透過率の条件を満足する領域と満足しない領域との境界線上の所定の点（α，β）は、網掛けで示す領域の外側となるので、図示を省略している。上述の式（２１）~式（２３）に示す境界線の近似曲線に加えて、α−β相関図にプロットされた遮蔽係数の境界線上の点に基づき、以下の式（３８）に示す境界線の近似曲線が導出される。
　α＝−０．０００１β２＋０．００１１β＋０．００８３　・・・（３８）
　この場合、式（２２）、式（２３）および式（３８）に示す近似曲線に囲まれた、網掛けで示す領域（以下「第５の領域Ｒ１５」という。）が、全てのパラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第５の領域Ｒ１５に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第５の領域Ｒ１５には、上述の近似曲線を含むものとする。なお、以下では、Ｌ＝１４０ｎｍの平面のうち、第５の領域Ｒ１５により規定される部分を「第５の平面Ｓｐ１５」と適宜称する。
（Ｌ＝１６０ｎｍ）
　図２３Ｂは、総膜厚Ｌが１６０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の条件に基づくα−β相関図である。なお、図２３Ｂにおいて、可視光線透過率の条件を満足する領域と満足しない領域との境界線上の所定の点（α，β）は、網掛けで示す領域の外側となるので、図示を省略している。上述の式（２５）~式（２８）に示す境界線の近似曲線に加えて、α−β相関図にプロットされた遮蔽係数の境界線上の点に基づき、以下の式（３９）に示す境界線の近似曲線が導出される。
　α＝−０．０００２β２＋０．００１６β＋０．００６７　・・・（３９）
　この場合、式（２５）~式（２８）および式（３９）に示す近似曲線に囲まれた、網掛けで示す領域（以下「第６の領域Ｒ１６」という。）が、全てのパラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第６の領域Ｒ１６に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第６の領域Ｒ１６には、上述の近似曲線を含むものとする。なお、以下では、Ｌ＝１６０ｎｍの平面のうち、第６の領域Ｒ１６により規定される部分を「第６の平面Ｓｐ１６」と適宜称する。
（Ｌ＝１８０ｎｍ）
　図２４は、総膜厚Ｌが１８０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の条件に基づくα−β相関図である。なお、図２４において、可視光線透過率の条件を満足する領域と満足しない領域との境界線上の所定の点（α，β）は、網掛けで示す領域の外側となるので、図示を省略している。上述の式（３０）~式（３２）に示す境界線の近似曲線に加えて、α−β相関図にプロットされた遮蔽係数の境界線上の点に基づき、以下の式（４０）に示す境界線の近似曲線が導出される。
　α＝−０．０００３β２＋０．００２１β＋０．００５５　・・・（４０）
　この場合、式（３０）~式（３２）および式（４０）に示す近似曲線に囲まれた、網掛けで示す領域（以下「第７の領域Ｒ１７」という。）が、全てのパラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第７の領域Ｒ１７に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第７の領域Ｒ１７には、上述の近似曲線を含むものとする。なお、以下では、Ｌ＝１８０ｎｍの平面のうち、第７の領域Ｒ１７により規定される部分を「第７の平面Ｓｐ１７」と適宜称する。
　次に、総膜厚Ｌが特定の膜厚以外の場合における、各パラメータの条件を満足する領域を決定する方法について説明する。図２５は、図１７Ａ~図２０に示すα−β相関図に基づき決定された各パラメータの条件を満足する領域を、比率α、比率βおよび総膜厚Ｌを軸とした３次元平面上にマッピングしたものである。この例では、可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとした場合における、各パラメータの条件を満足する領域を示す。なお、各総膜厚Ｌの値における、可視光線透過率の条件を満足する領域と満足しない領域との境界線上の所定の点（α，β）およびこれらの点の群から導出される近似曲線は、図２５に各総膜厚Ｌの値についてそれぞれ網掛けで示す領域の外側となるので、図示を省略している。
　図２５に示すように、各パラメータの条件を満足する領域は、総膜厚Ｌに対して連続的であると考えられる。そこで、特定の総膜厚Ｌ＝８０ｎｍ、９０ｎｍ、・・・、１８０ｎｍ以外の場合には、隣り合う特定の総膜厚Ｌの領域を両端面とする周面Ｓで囲まれる領域を、各パラメータの条件を満足する領域とする。
　先ず、可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとし、これらのパラメータの条件を満足するように、総膜厚Ｌを特定の総膜厚Ｌ（＝８０ｎｍ、９０ｎｍ、・・・、１８０ｎｍ）の間の値に設定した場合について説明する。
（８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍである場合、図２６Ａに示すように、第１の領域Ｒ１により規定される第１の平面Ｓｐ１と第２の領域Ｒ２により規定される第２の平面Ｓｐ２とを両端面とする周面Ｓ１で囲まれる領域が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが周面Ｓ１で囲まれる領域に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、周面Ｓ１で囲まれる領域には、周面Ｓ１自体を含むものとする。
　上記周面Ｓ１は、図２６Ａに示すように、以下のように定義される領域である。
　第１の領域Ｒ１の周辺Ｃ１を式（５）と式（７）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１ｉとし、第２の領域Ｒ２の周辺Ｃ２を式（９）と式（１１）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ２ｉとし、ΔＣ１ｉ、ΔＣ２ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとする。但し、ｉは、０からｎの自然数であり、ｎ→∞とすることが好ましい。また、Ｌ軸方向（すなわち、総膜厚Ｌが増加する方向）から第１の領域Ｒ１および第２の領域Ｒ２を見て時計回りの方向に、ｉは増加するものとする。このように定義された微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面を周面Ｓ１と定義する。
　α＝−０．０００４β２＋０．００５３β＋０．００６５　・・・（５）
　α＝−１×１０−５β２＋０．０００５β＋０．０１１９　・・・（７）
　α＝−０．０００２β２＋０．００３９β＋０．００８７　・・・（９）
　α＝−２×１０−５β２＋０．０００６β＋０．０１１２　・・・（１１）
（９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍ）
　総膜厚Ｌが９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍである場合、図２６Ｂに示すように、第２の領域Ｒ２により規定される第２の平面Ｓｐ２と第３の領域Ｒ３により規定される第３の平面Ｓｐ３とを両端面とする周面Ｓ２で囲まれる領域が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが周面Ｓ２で囲まれる領域に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、周面Ｓ２で囲まれる領域には、周面Ｓ２自体を含むものとする。
　上記周面Ｓ２は、図２６Ｂに示すように、以下のように定義される領域である。
　第２の領域Ｒ２の周辺Ｃ２を式（９）と式（１１）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ２ｉとし、第３の領域Ｒ３の周辺Ｃ３を式（１３）と式（１５）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ３ｉとし、ΔＣ２ｉ、ΔＣ３ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとする。但し、ｉは、０からｎの自然数であり、ｎ→∞とすることが好ましい。また、Ｌ軸方向（すなわち、総膜厚Ｌが増加する方向）から第２の領域Ｒ２および第３の領域Ｒ３を見て時計回りの方向に、ｉは増加するものとする。このように定義された微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面を周面Ｓ２と定義する。
　α＝−０．０００２β２＋０．００３９β＋０．００８７　・・・（９）
　α＝−２×１０−５β２＋０．０００６β＋０．０１１２　・・・（１１）
　α＝−０．０００２β２＋０．００５５β＋０．００５７　・・・（１３）
　α＝−４×１０−５β２＋０．００１β＋０．００９９　・・・（１５）
（１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍである場合、図２７Ａに示すように、第３の領域Ｒ３により規定される第３の平面Ｓｐ３と第４の領域Ｒ４により規定される第４の平面Ｓｐ４とを両端面とする周面Ｓ３で囲まれる領域が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが周面Ｓ３で囲まれる領域に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、周面Ｓ３で囲まれる領域には、周面Ｓ３自体を含むものとする。
　上記周面Ｓ３は、図２７Ａに示すように、以下のように定義される領域である。
　第３の領域Ｒ３の周辺Ｃ３を式（１３）と式（１５）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ３ｉとし、第４の領域Ｒ４の周辺Ｃ４を式（１７）と式（１９）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ４ｉとし、ΔＣ３ｉ、ΔＣ４ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとする。但し、ｉは、０からｎの自然数であり、ｎ→∞とすることが好ましい。また、Ｌ軸方向（すなわち、総膜厚Ｌが増加する方向）から第３の領域Ｒ３および第４の領域Ｒ４を見て時計回りの方向に、ｉは増加するものとする。このように定義された微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面を周面Ｓ３と定義する。
　α＝−０．０００２β２＋０．００５５β＋０．００５７　・・・（１３）
　α＝−４×１０−５β２＋０．００１β＋０．００９９　・・・（１５）
　α＝−０．０００３β２＋０．００７４β＋０．００３３　・・・（１７）
　α＝−９×１０−５β２＋０．００１５β＋０．００８４　・・・（１９）
（１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍである場合、図２７Ｂに示すように、第４の領域Ｒ４により規定される第４の平面Ｓｐ４と第５の領域Ｒ５により規定される第５の平面Ｓｐ５とを両端面とする周面Ｓ４で囲まれる領域が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが周面Ｓ４で囲まれる領域に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、周面Ｓ４で囲まれる領域には、周面Ｓ４自体を含むものとする。
　上記周面Ｓ４は、図２７Ｂに示すように、以下のように定義される領域である。
　第４の領域Ｒ４の周辺Ｃ４を式（１７）と式（１９）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ４ｉとし、第５の領域Ｒ５の周辺Ｃ５を式（２１）と式（２３）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ５ｉとし、ΔＣ４ｉ、ΔＣ５ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとする。但し、ｉは、０からｎの自然数であり、ｎ→∞とすることが好ましい。また、Ｌ軸方向（すなわち、総膜厚Ｌが増加する方向）から第４の領域Ｒ４および第５の領域Ｒ５を見て時計回りの方向に、ｉは増加するものとする。このように定義された微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面を周面Ｓ４と定義する。
　α＝−０．０００３β２＋０．００７４β＋０．００３３　・・・（１７）
　α＝−９×１０−５β２＋０．００１５β＋０．００８４　・・・（１９）
　α＝−０．００１４β２＋０．０１３６β−０．００２７　・・・（２１）
　α＝−０．０００１β２＋０．００２β＋０．００７４　・・・（２３）
（１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍである場合、図２８Ａに示すように、第５の領域Ｒ５により規定される第５の平面Ｓｐ５と第６の領域Ｒ６により規定される第６の平面Ｓｐ６とを両端面とする周面Ｓ５で囲まれる領域が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが周面Ｓ５で囲まれる領域に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、周面Ｓ５で囲まれる領域には、周面Ｓ５自体を含むものとする。
　上記周面Ｓ５は、図２８Ａに示すように、以下のように定義される領域である。
　第５の領域Ｒ５の周辺Ｃ５を式（２１）と式（２３）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ５ｉとし、第６の領域Ｒ６の周辺Ｃ６を式（２５）と式（２８）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ６ｉとし、ΔＣ５ｉ、ΔＣ６ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとする。但し、ｉは、０からｎの自然数であり、ｎ→∞とすることが好ましい。また、Ｌ軸方向（すなわち、総膜厚Ｌが増加する方向）から第５の領域Ｒ５および第６の領域Ｒ６を見て時計回りの方向に、ｉは増加するものとする。このように定義された微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面を周面Ｓ５と定義する。
　α＝−０．００１４β２＋０．０１３６β−０．００２７　・・・（２１）
　α＝−０．０００１β２＋０．００２β＋０．００７４　・・・（２３）
　α＝−０．００５β２＋０．０２７３β−０．０１４５　・・・（２５）
　α＝−０．０００１β２＋０．００２５β＋０．００６２　・・・（２８）
（１６０ｎｍ＜Ｌ＜１８０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１６０ｎｍ＜Ｌ＜１８０ｎｍである場合、図２８Ｂに示すように、第６の領域Ｒ６により規定される第６の平面Ｓｐ６と第７の領域Ｒ７により規定される第７の平面Ｓｐ７とを両端面とする周面Ｓ６で囲まれる領域が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが周面Ｓ７で囲まれる領域に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、周面Ｓ７で囲まれる領域には、周面Ｓ７自体を含むものとする。
　上記周面Ｓ６は、図２８Ｂに示すように、以下のように定義される領域である。
　第６の領域Ｒ６の周辺Ｃ６を式（２５）と式（２８）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ６ｉとし、第７の領域Ｒ７の周辺Ｃ７を式（３０）と式（３２）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ７ｉとし、ΔＣ６ｉ、ΔＣ７ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとする。但し、ｉは、０からｎの自然数であり、ｎ→∞とすることが好ましい。また、Ｌ軸方向（すなわち、総膜厚Ｌが増加する方向）から第６の領域Ｒ６および第７の領域Ｒ７を見て時計回りの方向に、ｉは増加するものとする。このように定義された微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面を周面Ｓ６と定義する。
　α＝−０．００５β２＋０．０２７３β−０．０１４５　・・・（２５）
　α＝−０．０００１β２＋０．００２５β＋０．００６２　・・・（２８）
　α＝−０．０１０３β２＋０．０４７β−０．０３２２　・・・（３０）
　α＝−０．０００３β２＋０．００３６β＋０．００４６　・・・（３２）
　したがって、可視光線透過率、青み指標および赤み指標のパラメータの条件を満足する領域は、各総膜厚Ｌの範囲毎に以下のように設定される。
（８０ｎｍ≦Ｌ≦９０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが８０ｎｍ≦Ｌ≦９０ｎｍである場合、第１の領域Ｒ１により規定される第１の平面Ｓｐ１と、第２の領域Ｒ２により規定される第２の平面Ｓｐ２と、これらの平面を両端面とする周面Ｓ１とで囲まれる領域（空間）Ｖ１が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが、平面Ｓｐ１と、平面Ｓｐ２と、これらの平面を両端面とする周面Ｓ１とで囲まれる領域（空間）Ｖ１に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、領域（空間）Ｖ１には、平面Ｓｐ１、平面Ｓｐ２および周面Ｓ１を含むものとする。
（９０ｎｍ≦Ｌ≦１００ｎｍ）
　総膜厚Ｌが９０ｎｍ≦Ｌ≦１００ｎｍである場合、第２の領域Ｒ２により規定される第２の平面Ｓｐ２と、第３の領域Ｒ３により規定される第３の平面Ｓｐ３と、これらの平面を両端面とする周面Ｓ２とで囲まれる領域（空間）Ｖ２が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが、平面Ｓｐ２と、平面Ｓｐ３と、これらの平面を両端面とする周面Ｓ２とで囲まれる領域（空間）Ｖ２に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、領域（空間）Ｖ２には、平面Ｓｐ２、平面Ｓｐ３および周面Ｓ２を含むものとする。
（１００ｎｍ≦Ｌ≦１２０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１００ｎｍ≦Ｌ≦１２０ｎｍである場合、第３の領域Ｒ３により規定される第３の平面Ｓｐ３と、第４の領域Ｒ４により規定される第４の平面Ｓｐ４と、これらの平面を両端面とする周面Ｓ３とで囲まれる領域（空間）Ｖ３が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが、平面Ｓｐ３と、平面Ｓｐ４と、これらの平面を両端面とする周面Ｓ３とで囲まれる領域（空間）Ｖ３に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、領域（空間）Ｖ３には、平面Ｓｐ３、平面Ｓｐ４および周面Ｓ３を含むものとする。
（１２０ｎｍ≦Ｌ≦１４０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１２０ｎｍ≦Ｌ≦１４０ｎｍである場合、第４の領域Ｒ４により規定される第４の平面Ｓｐ４と、第５の領域Ｒ５により規定される第５の平面Ｓｐ５と、これらの平面を両端面とする周面Ｓ４とで囲まれる領域（空間）Ｖ４が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが、平面Ｓｐ４と、平面Ｓｐ５と、これらの平面を両端面とする周面Ｓ４とで囲まれる領域（空間）Ｖ４に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、領域（空間）Ｖ４には、平面Ｓｐ４、平面Ｓｐ５および周面Ｓ４を含むものとする。
（１４０ｎｍ≦Ｌ≦１６０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１４０ｎｍ≦Ｌ≦１６０ｎｍである場合、第５の領域Ｒ５により規定される第５の平面Ｓｐ５と、第６の領域Ｒ６により規定される第６の平面Ｓｐ６と、これらの平面を両端面とする周面Ｓ５とで囲まれる領域（空間）Ｖ５が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが、平面Ｓｐ５と、平面Ｓｐ６と、これらの平面を両端面とする周面Ｓ５とで囲まれる領域（空間）Ｖ５に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、領域（空間）Ｖ５には、平面Ｓｐ５、平面Ｓｐ６および周面Ｓ５を含むものとする。
（１６０ｎｍ≦Ｌ≦１８０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１６０ｎｍ≦Ｌ≦１８０ｎｍである場合、第６の領域Ｒ６により規定される第６の平面Ｓｐ６と、第７の領域Ｒ７により規定される第７の平面Ｓｐ７と、これらの平面を両端面とする周面Ｓ６とで囲まれる領域（空間）Ｖ６が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが、平面Ｓｐ６と、平面Ｓｐ７と、これらの平面を両端面とする周面Ｓ６とで囲まれる領域（空間）Ｖ６に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、領域（空間）Ｖ６には、平面Ｓｐ６、平面Ｓｐ７および周面Ｓ６を含むものとする。
　次に、可視光線透過率、青み指標および赤み指標に加えて、遮蔽係数をパラメータとし、総膜厚Ｌを特定の総膜厚Ｌ（＝８０ｎｍ、９０ｎｍ、・・・、１８０ｎｍ）の間の値に設定した場合について説明する。
　図２９は、図２１Ａ~図２４に示すα−β相関図に基づき決定された各パラメータの条件を満足する領域を、比率α、比率βおよび総膜厚Ｌを軸とした３次元平面上にマッピングしたものである。この例では、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数をパラメータとした場合における、各パラメータの条件を満足する領域を示す。なお、各総膜厚Ｌの値における、可視光線透過率の条件を満足する領域と満足しない領域との境界線上の所定の点（α，β）およびこれらの点の群から導出される近似曲線は、図２９に各総膜厚Ｌの値についてそれぞれ網掛けで示す領域の外側となるので、図示を省略している。
　図２９に示すように、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数をパラメータとした場合についても同様に、各パラメータの条件を満足する領域が総膜厚Ｌに対して連続的であると考えられる。そこで、特定の総膜厚Ｌ＝８０ｎｍ、９０ｎｍ、・・・、１８０ｎｍ以外の場合には、隣り合う特定の総膜厚Ｌにおける領域を両端面とする周面Ｓで囲まれる領域を、各パラメータの条件を満足する領域とする。
（８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍである場合、図３０Ａに示すように、第１の領域Ｒ１１により規定される第１の平面Ｓｐ１１と第２の領域Ｒ１２により規定される第２の平面Ｓｐ１２とを両端面とする周面Ｓ１１で囲まれる領域が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが周面Ｓ１１で囲まれる領域に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、周面Ｓ１１で囲まれる領域には、周面Ｓ１１自体を含むものとする。
　上記周面Ｓ１１は、図３０Ａに示すように、以下のように定義される領域である。
　第１の領域Ｒ１１の周辺Ｃ１１を式（７）と式（３４）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１１ｉとし、第２の領域Ｒ１２の周辺Ｃ１２を式（１１）と式（３５）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１２ｉとし、ΔＣ１１ｉ、ΔＣ１２ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉと定義する。但し、ｉは、０からｎの自然数であり、ｎ→∞とすることが好ましい。Ｌ軸方向（すなわち、総膜厚Ｌが増加する方向）から第１の領域Ｒ１１および第２の領域Ｒ１２を見て時計回りの方向に、ｉは増加するものとする。このように定義された微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面を周面Ｓ１１と定義する。
　α＝−１×１０−５β２＋０．０００５β＋０．０１１９　・・・（７）
　α＝−６×１０−６β２＋０．０００２β＋０．０１４１　・・・（３４）
　α＝−２×１０−５β２＋０．０００６β＋０．０１１２　・・・（１１）
　α＝−１×１０−５β２＋０．０００２β＋０．０１２５　・・・（３５）
（９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍ）
　総膜厚Ｌが９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍである場合、図３０Ｂに示すように、第２の領域Ｒ１２により規定される第２の平面Ｓｐ１２と第３の領域Ｒ１３により規定される第３の平面Ｓｐ１３とを両端面とする周面Ｓ１２で囲まれる領域が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが周面Ｓ１２で囲まれる領域に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、周面Ｓ１２で囲まれる領域には、周面Ｓ１２自体を含むものとする。
　上記周面Ｓ１２は、図３０Ｂに示すように、以下のように定義される領域である。
　第２の領域Ｒ１２の周辺Ｃ１２を式（１１）と式（３５）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１２ｉとし、第３の領域１３の周辺Ｃ１３を式（１５）と式（３６）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１３ｉとし、ΔＣ１２ｉ、ΔＣ１３ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉと定義する。但し、ｉは、０からｎの自然数であり、ｎ→∞とすることが好ましい。Ｌ軸方向（すなわち、総膜厚Ｌが増加する方向）から第２の領域Ｒ１２および第３の領域Ｒ１３を見て時計回りの方向に、ｉは増加するものとする。このように定義された微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面を周面Ｓ１２と定義する。
　α＝−２×１０−５β２＋０．０００６β＋０．０１１２　・・・（１１）
　α＝−１×１０−５β２＋０．０００２β＋０．０１２５　・・・（３５）
　α＝−４×１０−５β２＋０．００１β＋０．００９９　・・・（１５）
　α＝−３×１０−５β２＋０．０００４β＋０．０１１３　・・・（３６）
（１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍである場合、図３１Ａに示すように、第３の領域Ｒ１３により規定される第３の平面Ｓｐ１３と第４の領域Ｒ１４により規定される第４の平面Ｓｐ１４とを両端面とする周面Ｓ１３で囲まれる領域が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが周面Ｓ１３で囲まれる領域に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、周面Ｓ１３で囲まれる領域には、周面Ｓ１３自体を含むものとする。
　上記周面Ｓ１３は、図３１Ａに示すように、以下のように定義される領域である。
　第３の領域Ｒ１３の周辺Ｃ１３を式（１５）と式（３６）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１３ｉとし、第４の領域１４の周辺Ｃ１４を式（１９）と式（３７）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１４ｉとし、ΔＣ１３ｉ、ΔＣ１４ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉと定義する。但し、ｉは、０からｎの自然数であり、ｎ→∞とすることが好ましい。Ｌ軸方向（すなわち、総膜厚Ｌが増加する方向）から第３の領域Ｒ１３および第４の領域Ｒ１４を見て時計回りの方向に、ｉは増加するものとする。このように定義された微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面を周面Ｓ１３と定義する。
　α＝−４×１０−５β２＋０．００１β＋０．００９９　・・・（１５）
　α＝−３×１０−５β２＋０．０００４β＋０．０１１３　・・・（３６）
　α＝−９×１０−５β２＋０．００１５β＋０．００８４　・・・（１９）
　α＝−７×１０−５β２＋０．０００７β＋０．００９７　・・・（３７）
（１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍである場合、図３１Ｂに示すように、第４の領域Ｒ１４により規定される第４の平面Ｓｐ１４と第５の領域Ｒ１５により規定される第５の平面Ｓｐ１５とを両端面とする周面Ｓ１４で囲まれる領域が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが周面Ｓ１４で囲まれる領域に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、周面Ｓ１４で囲まれる領域には、周面Ｓ１４自体を含むものとする。
　上記周面Ｓ１４は、図３１Ｂに示すように、以下のように定義される領域である。
　第４の領域Ｒ１４の周辺Ｃ１４を式（１９）と式（３７）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１４ｉとし、第５の領域１５の周辺Ｃ１５を式（２３）と式（３８）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１５ｉとし、ΔＣ１４ｉ、ΔＣ１５ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉと定義する。但し、ｉは、０からｎの自然数であり、ｎ→∞とすることが好ましい。Ｌ軸方向（すなわち、総膜厚Ｌが増加する方向）から第４の領域Ｒ１４および第５の領域Ｒ１５を見て時計回りの方向に、ｉは増加するものとする。このように定義された微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面を周面Ｓ１４と定義する。
　α＝−９×１０−５β２＋０．００１５β＋０．００８４　・・・（１９）
　α＝−７×１０−５β２＋０．０００７β＋０．００９７　・・・（３７）
　α＝−０．０００１β２＋０．００２β＋０．００７４　・・・（２３）
　α＝−０．０００１β２＋０．００１１β＋０．００８３　・・・（３８）
（１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍである場合、図３２Ａに示すように、第５の領域Ｒ１５により規定される第５の平面Ｓｐ１５と第６の領域Ｒ１６により規定される第６の平面Ｓｐ１６とを両端面とする周面Ｓ１５で囲まれる領域が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが周面Ｓ１５で囲まれる領域に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、周面Ｓ１５で囲まれる領域には、周面Ｓ１５自体を含むものとする。
　上記周面Ｓ１５は、図３２Ａに示すように、以下のように定義される領域である。
　第５の領域Ｒ１５の周辺Ｃ１５を式（２３）と式（３８）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１５ｉとし、第６の領域１６の周辺Ｃ１６を式（１２５）と式（３９）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１６ｉとし、ΔＣ１５ｉ、ΔＣ１６ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉと定義する。但し、ｉは、０からｎの自然数であり、ｎ→∞とすることが好ましい。Ｌ軸方向（すなわち、総膜厚Ｌが増加する方向）から第５の領域Ｒ１５および第６の領域Ｒ１６を見て時計回りの方向に、ｉは増加するものとする。このように定義された微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面を周面Ｓ１５と定義する。
　α＝−０．０００１β２＋０．００２β＋０．００７４　・・・（２３）
　α＝−０．０００１β２＋０．００１１β＋０．００８３　・・・（３８）
　α＝−０．００５β２＋０．０２７３β−０．０１４５　・・・（２５）
　α＝−０．０００２β２＋０．００１６β＋０．００６７　・・・（３９）
（１６０ｎｍ＜Ｌ＜１８０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１６０ｎｍ＜Ｌ＜１８０ｎｍである場合、図３２Ｂに示すように、第６の領域Ｒ１６により規定される第６の平面Ｓｐ１６と第７の領域Ｒ１７により規定される第７の平面Ｓｐ１７とを両端面とする周面Ｓ１６で囲まれる領域が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが周面Ｓ１６で囲まれる領域に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、周面Ｓ１６で囲まれる領域には、周面Ｓ１６自体を含むものとする。
　上記周面Ｓ１６は、図３２Ｂに示すように、以下のように定義される領域である。
　第６の領域Ｒ１６の周辺Ｃ１６を式（２５）と式（３９）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１６ｉとし、第７の領域１７の周辺Ｃ１７を式（１３０）と式（４０）との交点Ｐを始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１７ｉとし、ΔＣ１６ｉ、ΔＣ１７ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉと定義する。但し、ｉは、０からｎの自然数であり、ｎ→∞とすることが好ましい。Ｌ軸方向（すなわち、総膜厚Ｌが増加する方向）から第６の領域Ｒ１６および第７の領域Ｒ１７を見て時計回りの方向に、ｉは増加するものとする。このように定義された微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面を周面Ｓ１６と定義する。
　α＝−０．００５β２＋０．０２７３β−０．０１４５　・・・（２５）
　α＝−０．０００２β２＋０．００１６β＋０．００６７　・・・（３９）
　α＝−０．０１０３β２＋０．０４７β−０．０３２２　・・・（３０）
　α＝−０．０００３β２＋０．００２１β＋０．００５５　・・・（４０）
　したがって、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮光係数のパラメータの条件を満足する領域は、各総膜厚Ｌの範囲毎に以下のようになる。
（８０ｎｍ≦Ｌ≦９０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが８０ｎｍ≦Ｌ≦９０ｎｍである場合、第１の領域Ｒ１１により規定される第１の平面Ｓｐ１１と、第２の領域Ｒ１２により規定される第２の平面Ｓｐ１２と、これらの平面を両端面とする周面Ｓ１１とで囲まれる領域（空間）Ｖ１１が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが、平面Ｓｐ１１と、平面Ｓｐ１２と、これらの平面を両端面とする周面Ｓｐ１１とで囲まれる領域（空間）Ｖ１１に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、領域（空間）Ｖ１１には、平面Ｓｐ１１、平面Ｓｐ１２および周面Ｓ１１を含むものとする。
（９０ｎｍ≦Ｌ≦１００ｎｍ）
　総膜厚Ｌが９０ｎｍ≦Ｌ≦１００ｎｍである場合、第２の領域Ｒ１２により規定される第２の平面Ｓｐ１２と、第３の領域Ｒ１３により規定される第３の平面Ｓｐ１３と、これらの平面を両端面とする周面Ｓ１２とで囲まれる領域（空間）Ｖ１２が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが、平面Ｓｐ１２と、平面Ｓｐ１３と、これらの平面を両端面とする周面Ｓｐ１２とで囲まれる領域（空間）Ｖ１２に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、領域（空間）Ｖ１２には、平面Ｓｐ１２、平面Ｓｐ１３および周面Ｓ１２を含むものとする。
（１００ｎｍ≦Ｌ≦１２０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１００ｎｍ≦Ｌ≦１２０ｎｍである場合、第３の領域Ｒ１３により規定される第３の平面Ｓｐ１３と、第４の領域Ｒ１４により規定される第４の平面Ｓｐ１４と、これらの平面を両端面とする周面Ｓ１３とで囲まれる領域（空間）Ｖ１３が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが、平面Ｓｐ１３と、平面Ｓｐ１４と、これらの平面を両端面とする周面Ｓｐ１３とで囲まれる領域（空間）Ｖ１３に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、領域（空間）Ｖ１３には、平面Ｓｐ１３、平面Ｓｐ１４および周面Ｓ１３を含むものとする。
（１２０ｎｍ≦Ｌ≦１４０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１２０ｎｍ≦Ｌ≦１４０ｎｍである場合、第４の領域Ｒ１４により規定される第４の平面Ｓｐ１４と、第５の領域Ｒ１５により規定される第５の平面Ｓｐ１５と、これらの平面を両端面とする周面Ｓ１４とで囲まれる領域（空間）Ｖ１４が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが、平面Ｓｐ１４と、平面Ｓｐ１５と、これらの平面を両端面とする周面Ｓｐ１４とで囲まれる領域（空間）Ｖ１４に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、領域（空間）Ｖ１４には、平面Ｓｐ１４、平面Ｓｐ１５および周面Ｓ１４を含むものとする。
（１４０ｎｍ≦Ｌ≦１６０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１４０ｎｍ≦Ｌ≦１６０ｎｍである場合、第５の領域Ｒ１５により規定される第５の平面Ｓｐ１５と、第６の領域Ｒ１６により規定される第６の平面Ｓｐ１６と、これらの平面を両端面とする周面Ｓ１５とで囲まれる領域（空間）Ｖ１５が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが、平面Ｓｐ１５と、平面Ｓｐ１６と、これらの平面を両端面とする周面Ｓｐ１５とで囲まれる領域（空間）Ｖ１５に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、領域（空間）Ｖ１５には、平面Ｓｐ１５、平面Ｓｐ１６および周面Ｓ１５を含むものとする。
（１６０ｎｍ≦Ｌ≦１８０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１６０ｎｍ≦Ｌ≦１８０ｎｍである場合、第６の領域Ｒ１６により規定される第６の平面Ｓｐ１６と、第７の領域Ｒ１７により規定される第７の平面Ｓｐ１７と、これらの平面を両端面とする周面Ｓ１６とで囲まれる領域（空間）Ｖ１６が、各パターメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが、平面Ｓｐ１６と、平面Ｓｐ１７と、これらの平面を両端面とする周面Ｓｐ１６とで囲まれる領域（空間）Ｖ１６に含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、領域（空間）Ｖ１６には、平面Ｓｐ１６、平面Ｓｐ１７および周面Ｓ１６を含むものとする。
　このように、総膜厚Ｌを設定し、網掛けで示す領域内の比率αおよび比率βとなるように各層の膜厚を設定することで、各パラメータの条件を満足する積層膜を作製することができる。
　上述では、特定の総膜厚Ｌ以外の場合における各パラメータの条件を満足する領域を、隣り合う特定の総膜厚Ｌの領域を両端面とする周面Ｓで囲まれる領域としているが、上記各パラメータの条件を満足する領域はこの例に限定されるものではない。例えば、総膜厚Ｌが特定の値以外である場合における各パラメータの条件を満足する領域は、隣り合う特定の総膜厚Ｌの値における領域同士が重なり合う領域としてもよい。
　先ず、可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとした場合について説明する。図３３Ａは、可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとした場合の、各パラメータの条件を満足する領域を同一平面上にマッピングしたものである。この例では、総膜厚Ｌが１６０ｎｍおよび１８０ｎｍの場合の領域を示す。
　図３３Ａに示すように、隣り合う特定の総膜厚Ｌにおける領域を同一平面上にマッピングすることにより、２つの領域が重なる領域が形成される。このとき、重なる領域を各パラメータの条件を満足する領域とすることができる。互いに重なる領域は、それぞれの領域を形成する近似曲線に基づき決定することができる。
（８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが８０ｎｍを超え９０ｎｍ未満である場合、図１７Ａおよび図１７Ｂに示す各パラメータの条件を満足する領域に基づき、以下の式（８）、式（１０）および式（１１）で囲まれる領域が、各パラメータの条件を満足する領域となる。
　α＝０．０１２１１４　・・・（８）
　α＝−３×１０−５β２＋０．００１４β＋０．００３８　・・・（１０）
　α＝−２×１０−５β２＋０．０００６β＋０．０１１２　・・・（１１）
（９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍ）
　総膜厚Ｌが９０ｎｍを超え１００ｎｍ未満である場合、図１７Ｂおよび図１８Ａに示す各パラメータの条件を満足する領域に基づき、以下の式（１１）~式（１５）で囲まれる領域が、各パラメータの条件を満足する領域となる。
　α＝−２×１０−５β２＋０．０００６β＋０．０１１２　・・・（１１）
　α＝０．０１０５８９　・・・（１２）
　α＝−０．０００２β２＋０．００５５β＋０．００５７　・・・（１３）
　α＝−０．０００２β２＋０．００４５β−０．００６７　・・・（１４）
　α＝−４×１０−５β２＋０．００１β＋０．００９９　・・・（１５）
（１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１００ｎｍを超え１２０ｎｍ未満である場合、図１８Ａおよび図１８Ｂに示す各パラメータの条件を満足する領域に基づき、以下の式（１５）~式（１９）で囲まれる領域が、各パラメータの条件を満足する領域となる。
　α＝−４×１０−５β２＋０．００１β＋０．００９９　・・・（１５）
　α＝０．００９４０３　・・・（１６）
　α＝−０．０００３β２＋０．００７４β＋０．００３３　・・・（１７）
　α＝−０．００１４β２＋０．０１９１β−０．０４２２　・・・（１８）
　α＝−９×１０−５β２＋０．００１５β＋０．００８４　・・・（１９）
（１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１２０ｎｍを超え１４０ｎｍ未満である場合、図１８Ｂおよび図１９Ａに示す各パラメータの条件を満足する領域に基づき、以下の式（２０）~式（２３）で囲まれる領域が、各パラメータの条件を満足する領域となる。
　α＝０．００７７０９　・・・（２０）
　α＝−０．００１４β２＋０．０１３６β−０．００２７　・・・（２１）
　β＝１０１３２α２−２４１．３９α＋４．７４７　・・・（２２）
　α＝−０．０００１β２＋０．００２β＋０．００７４　・・・（２３）
（１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１４０ｎｍを超え１６０ｎｍ未満である場合、図１９Ａおよび図１９Ｂに示す各パラメータの条件を満足する領域に基づき、以下の式（２３）~式（２８）で囲まれる領域が、各パラメータの条件を満足する領域となる。
　α＝−０．０００１β２＋０．００２β＋０．００７４　・・・（２３）
　α＝０．００６５２３　・・・（２４）
　α＝−０．００５β２＋０．０２７３β−０．０１４５　・・・（２５）
　α＝０．００４３β２−０．０３３２β＋０．０７　・・・（２６）
　β＝２．８７５　・・・（２７）
　α＝−０．０００１β２＋０．００２５β＋０．００６２　・・・（２８）
（１６０ｎｍ＜Ｌ＜１８０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１６０ｎｍを超え１８０ｎｍ未満である場合、図１９Ｂおよび図２０に示す各パラメータの条件を満足する領域に基づき、以下の式（２８）~式（３２）で囲まれる領域が、各パラメータの条件を満足する領域となる。
　α＝−０．０００１β２＋０．００２５β＋０．００６２　・・・（２８）
　α＝０．００５６７６　・・・（２９）
　α＝−０．０１０３β２＋０．０４７β−０．０３２２　・・・（３０）
　α＝０．００９３β２−０．０６７７β＋０．１２１２　・・・（３１）
　α＝−０．０００３β２＋０．００３６β＋０．００４６　・・・（３２）
　次に、可視光線透過率、青み指標および赤み指標に加えて、遮蔽係数をパラメータとした場合について説明する。図３３Ｂは、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数をパラメータとした場合の、各パラメータの条件を満足する領域を同一平面上にマッピングしたものである。この例では、総膜厚Ｌが１６０ｎｍおよび１８０ｎｍの場合の領域を示す。
　図３３Ｂに示すように、隣り合う特定の総膜厚Ｌにおける領域を同一平面上にマッピングすることにより、２つの領域が重なる領域が形成される。このとき、重なる領域を各パラメータの条件を満足する領域とすることができる。互いに重なる領域は、それぞれの領域を形成する近似曲線に基づき決定することができる。
　なお、総膜厚Ｌが８０ｎｍを超え９０ｎｍ未満である場合には、図２１Ａおよび図２１Ｂに示す各パラメータの条件を満足する領域を同一平面上にマッピングしても、互いに重なる領域が存在しないため、この方法による各パラメータの条件を満足する領域の決定を行うことができない。
（９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍ）
　総膜厚Ｌが９０ｎｍを超え１００ｎｍ未満である場合、図２１Ｂおよび図２２Ａに示す各パラメータの条件を満足する領域に基づき、以下の式（１１）、式（１４）、式（１５）および式（３５）で囲まれる領域が、各パラメータの条件を満足する領域となる。
　α＝−２×１０−５β２＋０．０００６β＋０．０１１２　・・・（１１）
　α＝−０．０００２β２＋０．００４５β−０．００６７　・・・（１４）
　α＝−４×１０−５β２＋０．００１β＋０．００９９　・・・（１５）
　α＝−１×１０−５β２＋０．０００２β＋０．０１２５　・・・（３５）
（１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１００ｎｍを超え１２０ｎｍ未満である場合、図２２Ａおよび図２２Ｂに示す各パラメータの条件を満足する領域に基づき、以下の式（１５）、式（１８）、式（１９）および式（３６）で囲まれる領域が、各パラメータの条件を満足する領域となる。
　α＝−４×１０−５β２＋０．００１β＋０．００９９　・・・（１５）
　α＝−０．００１４β２＋０．０１９１β−０．０４２２　・・・（１８）
　α＝−９×１０−５β２＋０．００１５β＋０．００８４　・・・（１９）
　α＝−３×１０−５β２＋０．０００４β＋０．０１１３　・・・（３６）
（１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１２０ｎｍを超え１４０ｎｍ未満である場合、図２２Ｂおよび図２３Ａに示す各パラメータの条件を満足する領域に基づき、以下の式（１９）、式（２２）、式（２３）および式（３７）で囲まれる領域が、各パラメータの条件を満足する領域となる。
　α＝−９×１０−５β２＋０．００１５β＋０．００８４　・・・（１９）
　β＝１０１３２α２−２４１．３９α＋４．７４７　・・・（２２）
　α＝−０．０００１β２＋０．００２β＋０．００７４　・・・（２３）
　α＝−７×１０−５β２＋０．０００７β＋０．００９７　・・・（３７）
（１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１４０ｎｍを超え１６０ｎｍ未満である場合、図２３Ａおよび図２３Ｂに示す各パラメータの条件を満足する領域に基づき、以下の式（２３）、式（２６）、式（２８）および式（３８）で囲まれる領域が、各パラメータの条件を満足する領域となる。
　α＝−０．０００１β２＋０．００２β＋０．００７４　・・・（２３）
　α＝０．００４３β２−０．０３３２β＋０．０７　・・・（２６）
　α＝−０．０００１β２＋０．００２５β＋０．００６２　・・・（２８）
　β＝２．８７５　・・・（３２）
　α＝−０．０００１β２＋０．００１１β＋０．００８３　・・・（３８）
（１６０ｎｍ＜Ｌ＜１８０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１６０ｎｍを超え１８０ｎｍ未満である場合、図２３Ｂおよび図２４に示す各パラメータの条件を満足する領域に基づき、以下の式（２８）、式（３０）、式（３２）、式（３９）および式（３１）で囲まれる領域が、各パラメータの条件を満足する領域となる。
　α＝−０．０００１β２＋０．００２５β＋０．００６２　・・・（２８）
　α＝−０．０１０３β２＋０．０４７β−０．０３２２　・・・（３０）
　α＝−０．０００３β２＋０．００３６β＋０．００４６　・・・（３２）
　α＝−０．０００２β２＋０．００１６β＋０．００６７　・・・（３９）
　α＝０．００９３β２−０．０６７７β＋０．１２１２　・・・（３１）
　第１の実施形態によれば、反射層３の各層の膜厚に応じて決定される比率αおよび比率βに対する各パラメータの条件を満足する領域を決定し、比率αおよび比率βがこの領域内に含まれるように反射層３の膜厚を設定することにより、色調変化を抑制することができる。
＜変形例＞
　以下、上記実施形態の変形例について説明する。
［第１の変形例］
　図３４Ａは、本発明の第１の実施形態の第１の変形例を示す断面図である。図３４Ａに示すように、この第１の変形例に係る光学フィルム１は、凹凸形状の入射面Ｓ１を有している。この入射面Ｓ１の凹凸形状と、第１の光学層４の凹凸形状とは、例えば、両者の凹凸形状が対応するように形成されており、凸部の頂部と凹部の最下部との位置が一致している。入射面Ｓ１の凹凸形状は、第１の光学層４の凹凸形状よりもなだらかであることが好ましい。
［第２の変形例］
　図３４Ｂは、本発明の第１の実施形態の第２の変形例を示す断面図である。図３４Ｂに示すように、この第２の変形例に係る光学フィルム１では、反射層３が形成された第１の光学層４の凹凸面のうちの凸形状頂部の位置が、第１の光学層４の入射面Ｓ１とほぼ同一の高さとなるように形成されている。
＜２．第２の実施形態＞
　第２の実施形態は、近似曲線により規定される領域に代えて、近似直線により規定される領域に用いて、各パラメータが満たすべき領域を設定している点において、第１の実施形態とは異なっている。近似直線は、第１の実施形態にて求めた近似曲線より導出される。
（近似直線の導出方法）
　まず、図３５を参照して、近似曲線から近似直線を導出する方法について説明する。ここでは、Ｌ＝１４０ｎｍの場合を例として近似曲線から近似直線を導出する方法について説明するが、Ｌ＝８０ｎｍ、９０ｎｍ、１００ｎｍ、１２０ｎｍ、１６０ｎｍの場合についても同様の方法により近似直線を導出することができる。
　図３５に示すように、近似曲線は湾曲しており、その湾曲の方向としては、（ａ）領域Ｒ５の重心Ｇとは反対方向と、（ｂ）領域Ｒ５の重心Ｇの方向との２つの湾曲方向がある。具体的には、Ｌ＝１４０ｎｍの場合、式（２１）、式（２３）で表される近似曲線の湾曲方向は、（ａ）領域Ｒ５の重心Ｇとは反対方向であるのに対して、式（２２）で表される近似曲線の湾曲方向は、（ｂ）領域Ｒ５の重心Ｇの方向である。近似直線の導出方法は、これらの近似曲線の湾曲方向により異なっているため、（ａ）領域Ｒ５の重心Ｇとは反対方向の湾曲方向と、（ｂ）領域Ｒ５の重心Ｇの方向の湾曲方向とに分けて近似曲線の導出方法について説明する。
（ａ）領域Ｒ５の重心Ｇとは反対方向の湾曲方向
　式（２１）で表される近似曲線から、式（２１ａ）で表される近似直線を例えば以下のようにして求めることができる。まず、式（２１）で表される近似曲線と交差する直線（２４）と近似曲線（２３）との交点Ａ、Ｂの座標を求める。次に、これらの２つの交点Ａ、Ｂの座標を通過する直線を求め、この直線を近似直線（２１ａ）とする。
　式（２３）で表される近似曲線から、式（２３ａ）で表される近似直線を例えば以下のようにして求めることができる。まず、式（２３）で表される近似曲線と交差する近似曲線（２１）と近似曲線（２２）との交点Ｂ、Ｃの座標を求める。次に、これらの２つの交点Ｂ、Ｃの座標を通過する直線を求め、この直線を近似直線（２３ａ）とする。
（ｂ）領域Ｒ５の重心Ｇの方向の湾曲方向
　式（２２）で表される近似曲線から、式（２２ａ）で表される近似直線を例えば以下のようにして求めることができる。まず、式（２２）で表される近似曲線と交差する近似曲線（２３）と直線（２４）との交点Ｃ、Ｄの座標を求める。次に、これらの２つの交点Ｃ、Ｄの座標を通過する直線２２ｍを求める。次に、この直線２２ｍと平行であり、かつ、近似曲線２２に内接する直線（接線）を求め、この直線を近似直線（２２ａ）とする。
（３つのパラメータの条件を満たす領域）
　まず、可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとした場合について、これらのパラメータの条件を満たす領域について反射層３の総膜厚Ｌ毎に順次説明する。
（Ｌ＝８０ｎｍ）
　図３６Ａは、総膜厚Ｌが８０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の条件に基づくα−β相関図である。図３６Ａにおいて、可視光線透過率の条件を満足する領域と満足しない領域との境界線は、網掛けで示す領域の外側となるので、図示を省略している。なお、以下の説明で用いられる図３６Ｂ~図３８Ｂについても、同様に上記境界線の図示を省略している。
　領域Ｒ１（図１７Ａ）を規定する近似曲線の式（５）~（７）から、以下の近似直線の式（５ａ）~（７ａ）が導出される。なお、領域Ｒ１（図１７Ａ）を規定する以下の直線の式（８）は、第１の実施形態において述べたように、金属層の膜厚が５ｎｍ以下となるのを防ぐために設定されるものであるから、第２の実施形態においても特に変更せずに用いられる。
　ａｂ：α＝０．００４２３６β＋０．００７１５８　・・・（５ａ）
　ｂｄ：α＝０．０００１７２β＋０．０１２２３８　・・・（７ａ）
　ｄｃ：α＝０．０００３１７β＋０．００９１７９　・・・（６ａ）
　ｃａ：α＝０．０１２１１４　・・・（８）
　これらの式（５ａ）~（７ａ）で表される近似直線と、式（８）で表される直線とによって規定される領域（以下「第１の領域Ｒ１ａ」という。）が、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第１の領域Ｒ１ａに含まれることで、上述の各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第１の領域Ｒ１ａには、式（５ａ）~（７ａ）で表される近似直線、および式（８）で表される直線を含むものとする。なお、以下では、Ｌ＝８０ｎｍの平面のうち、第１の領域Ｒ１ａにより規定される部分を「第１の平面Ｓｐ１ａ」と適宜称する。
（Ｌ＝９０ｎｍ）
　図３６Ｂは、総膜厚Ｌが９０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の条件に基づくα−β相関図である。領域Ｒ２（図１７Ｂ）を規定する近似曲線の式（９）~（１１）から、以下の近似直線の式（９ａ）~（１１ａ）が導出される。なお、領域Ｒ２（図１７Ｂ）を規定する以下の直線の式（１２）は、第１の実施形態において述べたように、金属層の膜厚が５ｎｍ以下となるのを防ぐために設定されるものであるから、第２の実施形態においても特に変更せずに用いられる。
　ａｂ：α＝０．００３３８８β＋０．００８８９５　・・・（９ａ）
　ｂｄ：α＝０．０００３７１β＋０．０１１３０９　・・・（１１ａ）
　ｄｃ：α＝０．０００９３４β＋０．００５４５４　・・・（１０ａ）
　ｃａ：α＝０．０１０５８９　・・・（１２）
　これらの式（９ａ）~（１１ａ）で表される近似直線と、式（１２）で表される直線とによって規定される領域（以下「第２の領域Ｒ２ａ」という。）が、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第２の領域Ｒ２ａに含まれることで、上述の各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第２の領域Ｒ２ａには、式（９ａ）~（１１ａ）で表される近似直線、および式（１２）で表される直線を含むものとする。なお、以下では、Ｌ＝９０ｎｍの平面のうち、第２の領域Ｒ２ａにより規定される部分を「第２の平面Ｓｐ２ａ」と適宜称する。
（Ｌ＝１００ｎｍ）
　図３７Ａは、総膜厚Ｌが１００ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の条件に基づくα−β相関図である。領域Ｒ３（図１８Ａ）を規定する近似曲線の式（１３）~（１５）から、以下の近似直線の式（１３ａ）~（１５ａ）が導出される。なお、領域Ｒ２（図１８Ａ）を規定する以下の直線の式（１６）は、第１の実施形態において述べたように、金属層の膜厚が５ｎｍ以下となるのを防ぐために設定されるものであるから、第２の実施形態においても特に変更せずに用いられる。
　ａｂ：α＝０．００５０８３β＋０．００５８４５　・・・（１３ａ）
　ｂｃ：α＝０．０００６１６β＋０．０１０３１２　・・・（１５ａ）
　ｃｄ：α＝０．００２３４β−０．０００８９　・・・（１４ａ）
　ｄａ：α＝０．００９４０３　・・・（１６）
　これらの式（１３ａ）~（１５ａ）で表される近似直線と、式（１６）で表される直線とによって規定される領域（以下「第３の領域Ｒ３ａ」という。）が、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第３の領域Ｒ３ａに含まれることで、上述の各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第３の領域Ｒ３ａには、式（１３ａ）~（１５ａ）で表される近似直線、および式（１６）で表される直線を含むものとする。なお、以下では、Ｌ＝１００ｎｍの平面のうち、第３の領域Ｒ３ａにより規定される部分を「第３の平面Ｓｐ３ａ」と適宜称する。
（Ｌ＝１２０ｎｍ）
　図３７Ｂは、総膜厚Ｌが１２０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の条件に基づくα−β相関図である。領域Ｒ４（図１８Ｂ）を規定する近似曲線の式（１７）~（１９）から、以下の近似直線の式（１７ａ）~（１９ａ）が導出される。なお、領域Ｒ４（図１８Ｂ）を規定する以下の直線の式（２０）は、第１の実施形態において述べたように、金属層の膜厚が５ｎｍ以下となるのを防ぐために設定されるものであるから、第２の実施形態においても特に変更せずに用いられる。
　ａｂ：α＝０．００６７７７β＋０．００３６４３　・・・（１７ａ）
　ｂｃ：α＝０．００１０６２β＋０．００８７８６　・・・（１９ａ）
　ｃｄ：α＝０．００８６０１β−０．０２３２６　・・・（１８ａ）
　ｄａ：α＝０．００７７０９　・・・（２０）
　これらの式（１７ａ）~（１９ａ）で表される近似直線と、式（２０）で表される直線とによって規定される領域（以下「第４の領域Ｒ４ａ」という。）が、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第４の領域Ｒ４ａに含まれることで、上述の各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第４の領域Ｒ４ａには、式（１７ａ）~（１９ａ）で表される近似直線、および式（２０）で表される直線を含むものとする。なお、以下では、Ｌ＝１２０ｎｍの平面のうち、第４の領域Ｒ４ａにより規定される部分を「第４の平面Ｓｐ４ａ」と適宜称する。
（Ｌ＝１４０ｎｍ）
　図３８Ａは、総膜厚Ｌが１４０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の条件に基づくα−β相関図である。領域Ｒ５（図１９Ａ）を規定する近似曲線の式（２１）~（２３）から、以下の近似直線の式（２１ａ）~（２３ａ）が導出される。なお、領域Ｒ５（図１９Ａ）を規定する以下の直線の式（２４）は、第１の実施形態において述べたように、金属層の膜厚が５ｎｍ以下となるのを防ぐために設定されるものであるから、第２の実施形態においても特に変更せずに用いられる。
　ａｂ：α＝０．０１０８４３β−０．００１６１　・・・（２１ａ）
　ｂｃ：α＝０．００１６０３β＋０．００７６３　・・・（２３ａ）
　ｃｄ：α＝−０．０１４１４β＋０．０５６４３３　・・・（２２ａ）
　ｄａ：α＝０．００６５２３　・・・（２４）
　これらの式（２１ａ）~（２３ａ）で表される近似直線と、式（２４）で表される直線とによって規定される領域（以下「第５の領域Ｒ５ａ」という。）が、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第５の領域Ｒ５ａに含まれることで、上述の各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第５の領域Ｒ５ａには、式（２１ａ）~（２３ａ）で表される近似直線、および式（２４）で表される直線を含むものとする。なお、以下では、Ｌ＝１４０ｎｍの平面のうち、第５の領域Ｒ５ａにより規定される部分を「第５の平面Ｓｐ５ａ」と適宜称する。
（Ｌ＝１６０ｎｍ）
　図３８Ｂは、総膜厚Ｌが１６０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の条件に基づくα−β相関図である。領域Ｒ６（図１９Ｂ）を規定する近似曲線の式（２５）、（２６）、（２８）から、以下の近似直線の式（２５ａ）、（２６ａ）、（２８ａ）が導出される。ここで、図１９Ｂに示した式（２６）、式（２７）の２つの近似曲線からなる辺は、式（２６）の近似曲線に内接する直線を求め、近似直線（２６ａ）としている。なお、領域Ｒ６（図１９Ｂ）を規定する以下の直線の式（２９）は、第１の実施形態において述べたように、金属層の膜厚が５ｎｍ以下となるのを防ぐために設定されるものであるから、第２の実施形態においても特に変更せずに用いられる。
　ａｂ：α＝０．０１９７６６β−０．０１２１１　・・・（２５ａ）
　ｂｃ：α＝０．００２１８６β＋０．００６３４５　・・・（２６ａ）
　ｃｄ：α＝−０．００６９１β＋０．０２９８２８　・・・（２８ａ）
　ｄａ：α＝０．００５６７６　・・・（２９）
　これらの式（２５ａ）、（２６ａ）、（２８ａ）で表される近似直線と、式（２９）で表される直線とによって規定される領域（以下「第６の領域Ｒ６ａ」という。）が、可視光線透過率、青み指標および赤み指標の各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第６の領域Ｒ６ａに含まれることで、上述の各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第６の領域Ｒ６ａには、式（２５ａ）、（２６ａ）、（２８ａ）で表される近似直線、および式（２９）で表される直線を含むものとする。なお、以下では、Ｌ＝１６０ｎｍの平面のうち、第６の領域Ｒ６ａにより規定される部分を「第６の平面Ｓｐ６ａ」と適宜称する。
　図３９に示すように、各パラメータの条件を満足する領域は、総膜厚Ｌに対して連続的であると考えられる。そこで、特定の総膜厚Ｌ＝８０ｎｍ、９０ｎｍ、・・・、１６０ｎｍ以外の場合には、隣り合う特定の総膜厚Ｌの領域を両端面とする周面Ｓで囲まれる領域を、各パラメータの条件を満足する領域とする。
　以下、可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとし、これらのパラメータの条件を満足するように、総膜厚Ｌを特定の総膜厚Ｌ（＝８０ｎｍ、９０ｎｍ、・・・、１６０ｎｍ）の間の値に設定した場合について説明する。
（８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍ）
　図３６Ａおよび図３６Ｂに示す各パラメータの条件を満足する領域における各頂点の位置に基づき、以下の式（４１）~式（４４）が導出される。
　ａａ：（β−０．５）／０．６７＝（α−０．０１０５９）／０．００１５２４＝（Ｌ−９０）／（−１０）　・・・（４１）
　ｂｂ：（β−０．８）／０．４５＝（α−０．０１１６１）／０．０００８４７＝（Ｌ−９０）／（−１０）　・・・（４２）
　ｄｄ：（β−１０．４）／１０．６＝（α−０．０１５１６）／０．０００６７７６＝（Ｌ−９０）／（−１０）　・・・（４３）
　ｃｃ：（β−５．５）／３．７５＝（α−０．０１０５９）／０．００１５２４７＝（Ｌ−９０）／（−１０）　・・・（４４）
　総膜厚Ｌが８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍである場合、以下の４つの面で囲まれた領域（空間）Ｖ１ａが、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが領域（空間）Ｖ１ａに含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。
　式（４１）および式（４２）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ１
　式（４２）および式（４３）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ２
　式（４３）および式（４４）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ３
　式（４４）および式（４１）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ４
　ここで、領域（空間）Ｖ１ａには、式（４１）~式（４４）の近似直線自体を含むものとする。
　式（４１）および式（４２）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ａｂを、その両端点が線分ａａ（式（４１）で表される線分）および線分ｂｂ（式（４２）で表される線分）に沿うように、第１の平面Ｓｐ１ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ａｂの移動範囲は、８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍである。
　式（４２）および式（４３）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｂｄを、その両端点が線分ｂｂ（式（４２）で表される線分）および線分ｄｄ（式（４３）で表される線分）に沿うように、第１の平面Ｓｐ１ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｂｄの移動範囲は、８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍである。
　式（４３）および式（４４）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｄｃを、その両端点が線分ｄｄ（式（４３）で表される線分）および線分ｃｃ（式（４４）で表される線分）に沿うように、第１の平面Ｓｐ１ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｄｃの移動範囲は、８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍである。
　式（４４）および式（４１）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｃａを、その両端点が線分ｃｃ（式（４４）で表される線分）および線分ａａ（式（４１）で表される線分）に沿うように、第１の平面Ｓｐ１ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｃａの移動範囲は、８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍである。
（９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍ）
　図３６Ｂおよび図３７Ａに示す各パラメータの条件を満足する領域における各頂点の位置に基づき、以下の式（５１）~式（５４）が導出される。
　ａａ：（β−０．７）／（−０．２）＝（α−０．００９４）／０．００１１８５＝（Ｌ−１００）／（−１０）　・・・（５１）
　ｂｂ：（β−１）／（−０．２）＝（α−０．０１０９３）／０．０００６７７６＝（Ｌ−１００）／（−１０）　・・・（５２）
　ｄｃ：（β−６．５）／３．９＝（α−０．０１４３２）／０．０００８４７＝（Ｌ−１００）／（−１０）　・・・（５３）
　ｃｄ：（β−４．４）／１．１＝（α−０．００９４）／０．００１１８６＝（Ｌ−１００）／（−１０）　・・・（５４）
　総膜厚Ｌが９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍである場合、以下の４つの面で囲まれた領域（空間）Ｖ２ａが、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが領域（空間）Ｖ２ａに含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。
　式（５１）および式（５２）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ１
　式（５２）および式（５３）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ２
　式（５３）および式（５４）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ３
　式（５４）および式（５１）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ４
　ここで、領域（空間）Ｖ２ａには、式（５１）~式（５４）の近似直線自体を含むものとする。
　式（５１）および式（５２）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ａｂを、その両端点が線分ａａ（式（５１）で表される線分）および線分ｂｂ（式（５２）で表される線分）に沿うように、第２の平面Ｓｐ２ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ａｂの移動範囲は、９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍである。
　式（５２）および式（５３）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｂｄを、その両端点が線分ｂｂ（式（５２）で表される線分）および線分ｄｃ（式（５３）で表される線分）に沿うように、第２の平面Ｓｐ２ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｂｄの移動範囲は、９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍである。
　式（５３）および式（５４）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｄｃを、その両端点が線分ｄｃ（式（５３）で表される線分）および線分ｃｄ（式（５４）で表される線分）に沿うように、第２の平面Ｓｐ２ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｄｃの移動範囲は、９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍである。
　式（５４）および式（５１）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｃａを、その両端点が線分ｃｃ（式（５４）で表される線分）および線分ａａ（式（５１）で表される線分）に沿うように、第２の平面Ｓｐ２ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｃａの移動範囲は、９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍである。
（１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍ）
　図３７Ａおよび図３７Ｂに示す各パラメータの条件を満足する領域における各頂点の位置に基づき、以下の式（６１）~式（６４）が導出される。
　ａａ：（β−０．６）／０．１＝（α−０．００７７１）／０．００１６９４＝（Ｌ−１２０）／（−２０）　・・・（６１）
　ｂｂ：（β−０．９）／０．１＝（α−０．００９７４）／０．００１１８５＝（Ｌ−１２０）／（−２０）　・・・（６２）
　ｃｃ：（β−４．２５）／２．２５＝（α−０．０１３３）／０．００１０１６５＝（Ｌ−１２０）／（−２０）　・・・（６３）
　ｄｄ：（β−３．６）／０．８＝（α−０．００７７１）／０．００１６９４２＝（Ｌ−１２０）／（−２０）　・・・（６４）
　総膜厚Ｌが１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍである場合、以下の４つの面で囲まれた領域（空間）Ｖ３ａが、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが領域（空間）Ｖ３ａに含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。
　式（６１）および式（６２）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ１
　式（６２）および式（６３）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ２
　式（６３）および式（６４）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ３
　式（６４）および式（６１）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ４
　ここで、領域（空間）Ｖ３ａには、式（６１）~式（６４）の近似直線自体を含むものとする。
　式（６１）および式（６２）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ａｂを、その両端点が線分ａａ（式（６１）で表される線分）および線分ｂｂ（式（６２）で表される線分）に沿うように、第３の平面Ｓｐ３ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ａｂの移動範囲は、１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍである。
　式（６２）および式（６３）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｂｃを、その両端点が線分ｂｂ（式（６２）で表される線分）および線分ｃｃ（式（６３）で表される線分）に沿うように、第３の平面Ｓｐ３ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｂｃの移動範囲は、１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍである。
　式（６３）および式（６４）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｃｄを、その両端点が線分ｃｃ（式（６３）で表される線分）および線分ｄｄ（式（６４）で表される線分）に沿うように、第３の平面Ｓｐ３ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｃｄの移動範囲は、１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍである。
　式（６４）および式（６１）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｄａを、その両端点が線分ｄｄ（式（６４）で表される線分）および線分ａａ（式（６１）で表される線分）に沿うように、第３の平面Ｓｐ３ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｄａの移動範囲は、１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍである。
（１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍ）
　図３７Ｂおよび図３８Ａに示す各パラメータの条件を満足する領域における各頂点の位置に基づき、以下の式（７１）~式（７４）が導出される。
　ａａ：（β−０．７５）／（−０．１５）＝（α−０．００６５２）／０．００１１８５＝（Ｌ−１４０）／（−２０）　・・・（７１）
　ｂｂ：（β−１）／（−０．１）＝（α−０．００９２３）／０．０００５０８２＝（Ｌ−１４０）／（−２０）　・・・（７２）
　ｃｃ：（β−３．１）／１．１５＝（α−０．０２１６）／０．０００６９９４＝（Ｌ−１４０）／（−２０）　・・・（７３）
　ｄｄ：（β−３．５３）／０．０７＝（α−０．００６５２）／０．００１１８５９＝（Ｌ−１４０）／（−２０）　・・・（７４）
　総膜厚Ｌが１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍである場合、以下の４つの面で囲まれた領域（空間）Ｖ４ａが、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが領域（空間）Ｖ４ａに含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。
　式（７１）および式（７２）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ１
　式（７２）および式（７３）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ２
　式（７３）および式（７４）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ３
　式（７４）および式（７１）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ４
　ここで、領域（空間）Ｖ４ａには、式（７１）~式（７４）の近似直線自体を含むものとする。
　式（７１）および式（７２）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ａｂを、その両端点が線分ａａ（式（７１）で表される線分）および線分ｂｂ（式（７２）で表される線分）に沿うように、第４の平面Ｓｐ４ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ａｂの移動範囲は、１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍである。
　式（７２）および式（７３）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｂｃを、その両端点が線分ｂｂ（式（７２）で表される線分）および線分ｃｃ（式（７３）で表される線分）に沿うように、第４の平面Ｓｐ４ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｂｃの移動範囲は、１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍである。
　式（７３）および式（７４）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｃｄを、その両端点が線分ｃｃ（式（７３）で表される線分）および線分ｄｄ（式（７４）で表される線分）に沿うように、第４の平面Ｓｐ４ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｃｄの移動範囲は、１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍである。
　式（７４）および式（７１）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｄａを、その両端点が線分ｄｄ（式（７４）で表される線分）および線分ａａ（式（７１）で表される線分）に沿うように、第４の平面Ｓｐ４ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｄａの移動範囲は、１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍである。
（１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍ）
　図３８Ａおよび図３８Ｂに示す各パラメータの条件を満足する領域における各頂点の位置に基づき、以下の式（８１）~式（８４）が導出される。
　ａａ：（β−０．９）／（−０．１５）＝（α−０．００５６８）／０．０００８４７１＝（Ｌ−１６０）／（−２０）　・・・（８１）
　ｂｂ：（β−１．０５）／（−０．０５）＝（α−０．００８６４）／０．０００５９２９７＝（Ｌ−１６０）／（−２０）　・・・（８２）
　ｃｃ：（β−２．５８２）／０．５１８＝（α−０．０１１９９）／０．０００６１＝（Ｌ−１６０）／（−２０）　・・・（８３）
　ｄｄ：（β−３．４９６）／０．０３４＝（α−０．００５６８）／０．０００８４７１＝（Ｌ−１６０）／（−２０）　・・・（８４）
　総膜厚Ｌが１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍである場合、以下の４つの面で囲まれた領域（空間）Ｖ５ａが、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが領域（空間）Ｖ５ａに含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。ここで、領域（空間）Ｖ５ａには、式（８１）~式（８４）の近似直線自体を含むものとする。
　式（８１）および式（８２）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ１
　式（８２）および式（８３）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ２
　式（８３）および式（８４）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ３
　式（８４）および式（８１）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ４
　ここで、領域（空間）Ｖ４ａには、式（８１）~式（８４）の近似直線自体を含むものとする。
　式（８１）および式（８２）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ａｂを、その両端点が線分ａａ（式（８１）で表される線分）および線分ｂｂ（式（８２）で表される線分）に沿うように、第５の平面Ｓｐ５ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ａｂの移動範囲は、１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍである。
　式（８２）および式（８３）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｂｃを、その両端点が線分ｂｂ（式（８２）で表される線分）および線分ｃｃ（式（８３）で表される線分）に沿うように、第５の平面Ｓｐ５ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｂｃの移動範囲は、１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍである。
　式（８３）および式（８４）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｃｄを、その両端点が線分ｃｃ（式（８３）で表される線分）および線分ｄｄ（式（８４）で表される線分）に沿うように、第５の平面Ｓｐ５ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｃｄの移動範囲は、１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍである。
　式（８４）および式（８１）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｄａを、その両端点が線分ｄｄ（式（８４）で表される線分）および線分ａａ（式（８１）で表される線分）に沿うように、第５の平面Ｓｐ５ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｄａの移動範囲は、１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍである。
　したがって、可視光線透過率、青み指標および赤み指標のパラメータの条件を満足する領域は、各総膜厚Ｌの範囲毎に以下のように設定される。
（８０ｎｍ≦Ｌ≦９０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが８０ｎｍ≦Ｌ≦９０ｎｍである場合、以下の６つの面で囲まれた領域（空間）Ｖ１ｂが、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが領域（空間）Ｖ１ｂに含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。
　式（５ａ）、式（７ａ）、式（６ａ）および式（８）の近似直線および直線を４辺とする平面　・・・Ｓｐ１ａ
　式（９ａ）、式（１１ａ）、式（１０ａ）および式（１２）の近似直線および直線を４辺とする平面　・・・Ｓｐ２ａ
　式（５ａ）、式（９ａ）、式（４１）および式（４２）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ１ａ
　式（７ａ）、式（１１ａ）、式（４２）および式（４３）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ２ａ
　式（６ａ）、式（１０ａ）、式（４３）および式（４４）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ３ａ
　式（８）、式（１２）、式（４４）および式（４１）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ４ａ
　ここで、領域（空間）Ｖ１ｂには、上述の各面を規定する各近似直線自体を含むものとする。また、面ｓ１ａ~ｓ４ａは、各線分の移動範囲を８０ｎｍ≦Ｌ≦９０ｎｍの範囲とする以外は、総膜厚Ｌが８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍの範囲における面ｓ１~ｓ４と同様にして形成される面である。
（９０ｎｍ≦Ｌ≦１００ｎｍ）
　総膜厚Ｌが９０ｎｍ≦Ｌ≦１００ｎｍである場合、以下の６つの面で囲まれた領域（空間）Ｖ２ｂが、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが領域（空間）Ｖ２ｂに含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。
　式（９ａ）、式（１１ａ）、式（１０ａ）および式（１２）の近似直線および直線を４辺とする平面　・・・Ｓｐ２ａ
　式（１３ａ）、式（１５ａ）、式（１４ａ）および式（１６）の近似直線および直線を４辺とする平面　・・・Ｓｐ３ａ
　式（９ａ）、式（１３ａ）、式（５１）および式（５２）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ１ａ
　式（１１ａ）、式（１５ａ）、式（５２）および式（５３）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ２ａ
　式（１０ａ）、式（１４ａ）、式（５３）および式（５４）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ３ａ
　式（１２）、式（１６）、式（５４）および式（５１）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ４ａ
　ここで、領域（空間）Ｖ２ｂには、上述の各面を規定する各近似直線および直線自体を含むものとする。また、面ｓ１ａ~ｓ４ａは、各線分の移動範囲を９０ｎｍ≦Ｌ≦１００ｎｍの範囲とする以外は、総膜厚Ｌ＝９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍの範囲における面ｓ１~ｓ４と同様にして形成される面である。
（１００ｎｍ≦Ｌ≦１２０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１００ｎｍ≦Ｌ≦１２０ｎｍである場合、以下の６つの面で囲まれた領域（空間）Ｖ３ｂが、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが領域（空間）Ｖ３ｂに含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。
　式（１３ａ）、式（１５ａ）、式（１４ａ）および式（１６）の近似直線および直線を４辺とする平面　・・・Ｓｐ３ａ
　式（１７ａ）、式（１９ａ）、式（１８ａ）および式（２０）の近似直線および直線を４辺とする平面　・・・Ｓｐ４ａ
　式（１３ａ）、式（１７ａ）、式（６１）および式（６２）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ１ａ
　式（１５ａ）、式（１９ａ）、式（６２）および式（６３）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ２ａ
　式（１４ａ）、式（１８ａ）、式（６３）および式（６４）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ３ａ
　式（１６）、式（２０）、式（６４）および式（６１）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ４ａ
　ここで、領域（空間）Ｖ３ｂには、上述の各面を規定する各近似直線および直線自体を含むものとする。また、面ｓ１ａ~ｓ４ａは、各線分の移動範囲を１００ｎｍ≦Ｌ≦１２０ｎｍの範囲とする以外は、総膜厚Ｌ＝１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍの範囲における面ｓ１~ｓ４と同様にして形成される面である。
（１２０ｎｍ≦Ｌ≦１４０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１２０ｎｍ≦Ｌ≦１４０ｎｍである場合、以下の６つの面で囲まれた領域（空間）Ｖ４ｂが、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが領域（空間）Ｖ４ｂに含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。
　式（１７ａ）、式（１９ａ）、式（１８ａ）および式（２０）の近似直線および直線を４辺とする平面　・・・Ｓｐ４ａ
　式（２１ａ）、式（２３ａ）、式（２２ａ）および式（２４）の近似直線および直線を４辺とする平面　・・・Ｓｐ５ａ
　式（１７ａ）、式（２１ａ）、式（７１）および式（７２）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ１ａ
　式（１９ａ）、式（２３ａ）、式（７２）および式（７３）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ２ａ
　式（１８ａ）、式（２２ａ）、式（７３）および式（７４）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ３ａ
　式（２０）、式（２４）、式（７４）および式（７１）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ４ａ
　ここで、領域（空間）Ｖ４ｂには、上述の各面を規定する各近似直線および直線自体を含むものとする。また、面ｓ１ａ~ｓ４ａは、各線分の移動範囲を１２０ｎｍ≦Ｌ≦１４０ｎｍの範囲とする以外は、総膜厚Ｌ＝１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍの範囲における面ｓ１~ｓ４と同様にして形成される面である。
（１４０ｎｍ≦Ｌ≦１６０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１４０ｎｍ≦Ｌ≦１６０ｎｍである場合、以下の６つの面で囲まれた領域（空間）Ｖ５ｂが、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが領域（空間）Ｖ５ｂに含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。
　式（２１ａ）、式（２３ａ）、式（２２ａ）および式（２４）の近似直線および直線を４辺とする平面　・・・Ｓｐ５ａ
　式（２５ａ）、式（２８ａ）、式（２６ａ）および式（２９）の近似直線および直線を４辺とする平面　・・・Ｓｐ６ａ
　式（２１ａ）、式（２５ａ）、式（８１）および式（８２）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ１ａ
　式（２３ａ）、式（２８ａ）、式（８２）および式（８３）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ２ａ
　式（２２ａ）、式（２６ａ）、式（８３）および式（８４）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ３ａ
　式（２４）、式（２９）、式（８４）および式（８１）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ４ａ
　ここで、領域（空間）Ｖ５ｂには、上述の各面を規定する各近似直線および直線自体を含むものとする。また、面ｓ１ａ~ｓ４ａは、各線分の移動範囲を１４０ｎｍ≦Ｌ≦１６０ｎｍの範囲とする以外は、総膜厚Ｌ＝１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍの範囲における面ｓ１~ｓ４と同様にして形成される面である。
（４つのパラメータの条件を満たす領域）
　次に、上述した可視光線透過率、青み指標および赤み指標に加えて、遮蔽係数をパラメータとした場合について、反射層３の総膜厚Ｌ毎に説明する。
（Ｌ＝８０ｎｍ）
　図４０Ａは、総膜厚Ｌが８０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の条件に基づくα−β相関図である。領域Ｒ１１（図２１Ａ）を規定する近似曲線の式（６）、（７）、（３４）から、以下の近似直線の式（６ｂ）、（７ｂ）、（３４ｂ）が導出される。
　ｅｄ：α＝２．９５×１０−５β＋０．０１５２２　・・・（７ｂ）
　ｄｆ：α＝０．０００１９９β＋０．０１１６５５　・・・（６ｂ）
　ｅｆ：α＝−１．２×１０−５β＋０．０１５７３９　・・・（３４ｂ）
　これらの式（６ｂ）、（７ｂ）、（３４ｂ）で表される近似直線によって規定される領域（以下「第１の領域Ｒ１１ａ」という。）が、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第１の領域Ｒ１１ａに含まれることで、上述の各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第１の領域Ｒ１１ａには、式（６ｂ）、（７ｂ）、（３４ｂ）で表される近似直線を含むものとする。なお、以下では、Ｌ＝８０ｎｍの平面のうち、第１の領域Ｒ１１ａにより規定される部分を「第１の平面Ｓｐ１１ａ」と適宜称する。
（Ｌ＝９０ｎｍ）
　図４０Ｂは、総膜厚Ｌが９０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の条件に基づくα−β相関図である。領域Ｒ１２（図２１Ｂ）を規定する近似曲線の式（１０）、（１１）、（３５）から、以下の近似直線の式（１０ｂ）、（１１ｂ）、（３５ｂ）が導出される。
　ｅｄ：α＝０．０００３０８β＋０．０１１９６　・・・（１１ｂ）
　ｄｆ：α＝０．０００７９１β＋０．００６９４１　・・・（１０ｂ）
　ｅｆ：α＝０．０００１２７β＋０．０１２８４６　・・・（３５ｂ）
　これらの式（１０ｂ）、（１１ｂ）、（３５ｂ）で表される近似直線によって規定される領域（以下「第２の領域Ｒ１２ａ」という。）が、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第２の領域Ｒ１２ａに含まれることで、上述の各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第２の領域Ｒ１２ａには、式（１０ｂ）、（１１ｂ）、（３５ｂ）で表される近似直線を含むものとする。なお、以下では、Ｌ＝９０ｎｍの平面のうち、第２の領域Ｒ１２ａにより規定される部分を「第２の平面Ｓｐ１２ａ」と適宜称する。
（Ｌ＝１００ｎｍ）
　図４１Ａは、総膜厚Ｌが１００ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の条件に基づくα−β相関図である。領域Ｒ１３（図２２Ａ）を規定する近似曲線の式（１４）、（１５）、（３６）から、以下の近似直線の式（１４ｂ）、（１５ｂ）、（３６ｂ）が導出される。
　ｅｃ：α＝０．０００５７２β＋０．０１０５９６　・・・（１５ｂ）
　ｃｆ：α＝０．００２４２β−０．００１４２　・・・（１４ｂ）
　ｅｆ：α＝０．０００１４１β＋０．０１１８０３　・・・（３６ｂ）
　これらの式（１４ｂ）、（１５ｂ）、（３６ｂ）で表される近似直線によって規定される領域（以下「第３の領域Ｒ１３ａ」という。）が、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第３の領域Ｒ１３ａに含まれることで、上述の各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第３の領域Ｒ１３ａには、式（１４ｂ）、（１５ｂ）、（３６ｂ）で表される近似直線を含むものとする。なお、以下では、Ｌ＝１００ｎｍの平面のうち、第３の領域Ｒ１３ａにより規定される部分を「第３の平面Ｓｐ１３ａ」と適宜称する。
（Ｌ＝１２０ｎｍ）
　図４１Ｂは、総膜厚Ｌが１２０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の条件に基づくα−β相関図である。領域Ｒ１４（図２２Ｂ）を規定する近似曲線の式（１８）、（１９）、（３７）から、以下の近似直線の式（１８ｂ）、（１９ｂ）、（３７ｂ）が導出される。
　ｅｃ：α＝０．０００９９７β＋０．００９０６４　・・・（１９ｂ）
　ｃｆ：α＝０．００７４５４β−０．０１８３８　・・・（１８ｂ）
　ｅｆ：α＝０．０００２９５β＋０．０１０２５７　・・・（３７ｂ）
　これらの式（１８ｂ）、（１９ｂ）、（３７ｂ）で表される近似直線によって規定される領域（以下「第４の領域Ｒ１４ａ」という。）が、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第４の領域Ｒ１４ａに含まれることで、上述の各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第４の領域Ｒ１４ａには、式（１８ｂ）、（１９ｂ）、（３７ｂ）で表される近似直線を含むものとする。なお、以下では、Ｌ＝１２０ｎｍの平面のうち、第４の領域Ｒ１４ａにより規定される部分を「第４の平面Ｓｐ１４ａ」と適宜称する。
（Ｌ＝１４０ｎｍ）
　図４２Ａは、総膜厚Ｌが１４０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の条件に基づくα−β相関図である。領域Ｒ１５（図２３Ａ）を規定する近似曲線の式（２２）、（２３）、（３８）から、以下の近似直線の式（２２ｂ）、（２３ｂ）、（３８ｂ）が導出される。
　ｅｃ：α＝０．００１５９９β＋０．００７６４４　・・・（２３ｂ）
　ｃｆ：α＝−０．０１０９β＋０．０４６４　・・・（２２ｂ）
　ｅｆ：α＝０．０００４６２β＋０．００８８９５　・・・（３８ｂ）
　これらの式（２２ｂ）、（２３ｂ）、（３８ｂ）で表される近似直線によって規定される領域（以下「第５の領域Ｒ１５ａ」という。）が、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第５の領域Ｒ１５ａに含まれることで、上述の各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第５の領域Ｒ１５ａには、式（２２ｂ）、（２３ｂ）、（３８ｂ）で表される近似直線を含むものとする。なお、以下では、Ｌ＝１４０ｎｍの平面のうち、第５の領域Ｒ１５ａにより規定される部分を「第５の平面Ｓｐ１５ａ」と適宜称する。
（Ｌ＝１６０ｎｍ）
　図４２Ｂは、総膜厚Ｌが１６０ｎｍの場合における、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の条件に基づくα−β相関図である。領域Ｒ１６（図２３Ｂ）を規定する近似曲線の式（２６）、（２８）、（３９）から、以下の近似直線の式（２６ｂ）、（２８ｂ）、（３９ｂ）が導出される。
　ｅｃ：α＝０．００２４６３β＋０．００５６３１　・・・（２８ｂ）
　ｃｆ：α＝−０．００６９３β＋０．０２９８９５　・・・（２６ｂ）
　ｅｆ：α＝０．０００７７３β＋０．００７４０６　・・・（３９ｂ）
　これらの式（２６ｂ）、（２８ｂ）、（３９ｂ）で表される近似直線によって規定される領域（以下「第６の領域Ｒ１６ａ」という。）が、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数の各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが第６の領域Ｒ１６ａに含まれることで、上述の各パターメータの条件を満足することができる。ここで、第６の領域Ｒ１６ａには、式（２６ｂ）、（２８ｂ）、（３９ｂ）で表される近似直線を含むものとする。なお、以下では、Ｌ＝１６０ｎｍの平面のうち、第６の領域Ｒ１６ａにより規定される部分を「第６の平面Ｓｐ１６ａ」と適宜称する。
　図４３に示すように、各パラメータの条件を満足する領域は、総膜厚Ｌに対して連続的であると考えられる。そこで、特定の総膜厚Ｌ＝８０ｎｍ、９０ｎｍ、・・・、１６０ｎｍ以外の場合には、隣り合う特定の総膜厚Ｌの領域を両端面とする周面Ｓで囲まれる領域を、各パラメータの条件を満足する領域とする。
　以下、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数をパラメータとし、これらのパラメータの条件を満足するように、総膜厚Ｌを特定の総膜厚Ｌ（＝８０ｎｍ、９０ｎｍ、・・・、１６０ｎｍ）の間の値に設定した場合について説明する。
（８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍ）
　図４０Ａおよび図４０Ｂに示す各パラメータの条件を満足する領域における各頂点の位置に基づき、以下の式（４３）、式（４５）、式（４６）が導出される。
　ｄｄ：（α−１０．４）／１０．６＝（β−０．０１５１６）／０．０００６７７６＝（Ｌ−９０）／（−１０）　・・・（４３）
　ｅｅ：（α−４．９）／７．５＝（β−０．０１３４７）／０．００２１１７７５＝（Ｌ−９０）／（−１０）　・・・（４５）
　ｆｆ：（α−８．９）／１０．４＝（β−０．０１３９８）／０．００１５２４７＝（Ｌ−９０）／（−１０）　・・・（４６）
　総膜厚Ｌが８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍである場合、以下の３つの面で囲まれた領域（空間）Ｖ１１ａが、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが領域（空間）Ｖ１１ａに含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。
　式（４３）および式（４５）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ５
　式（４５）および式（４６）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ６
　式（４６）および式（４３）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ７
　ここで、領域（空間）Ｖ１１ａには、式（４３）、式（４５）、式（４６）の近似直線自体を含むものとする。
　式（４３）および式（４５）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｄｅを、その両端点が線分ｄｄ（式（４３）で表される線分）および線分ｅｅ（式（４５）で表される線分）に沿うように、第１の平面Ｓｐ１１ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｄｅの移動範囲は、８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍである。
　式（４５）および式（４６）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｅｆを、その両端点が線分ｅｅ（式（４５）で表される線分）および線分ｆｆ（式（４６）で表される線分）に沿うように、第１の平面Ｓｐ１１ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｅｆの移動範囲は、８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍである。
　式（４６）および式（４３）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｆｄを、その両端点が線分ｆｆ（式（４６）で表される線分）および線分ｄｄ（式（４３）で表される線分）に沿うように、第１の平面Ｓｐ１１ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｆｄの移動範囲は、８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍである。
（９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍ）
　図４０Ｂおよび図４１Ａに示す各パラメータの条件を満足する領域における各頂点の位置に基づき、以下の式（５３）、式（５５）、式（５６）が導出される。
　ｄｃ：（α−６．５）／３．９＝（β−０．０１４３２）／０．０００８４７＝（Ｌ−１００）／（−１０）　・・・（５３）
　ｅｅ：（α−２．８）／２．１＝（β−０．０１２２）／０．００１２７＝（Ｌ−１００）／（−１０）　・・・（５５）
　ｆｆ：（α−５．８）／３．１＝（β−０．０１２６２）／０．００１３５５３６＝（Ｌ−１００）／（−１０）　・・・（５６）
　総膜厚Ｌが８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍである場合、以下の３つの面で囲まれた領域（空間）Ｖ１２ａが、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが領域（空間）Ｖ１２ａに含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。
　式（５３）および式（５５）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ５
　式（５５）および式（５６）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ６
　式（５６）および式（５３）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ７
　ここで、領域（空間）Ｖ１２ａには、式（５３）、式（５５）、式（５６）の近似直線自体を含むものとする。
　式（５３）および式（５５）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｄｅを、その両端点が線分ｄｃ（式（５３）で表される線分）および線分ｅｅ（式（５５）で表される線分）に沿うように、第２の平面Ｓｐ１２ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｄｅの移動範囲は、９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍである。
　式（５５）および式（５６）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｅｆを、その両端点が線分ｅｅ（式（５５）で表される線分）および線分ｆｆ（式（５６）で表される線分）に沿うように、第２の平面Ｓｐ１２ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｅｆの移動範囲は、９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍである。
　式（５６）および式（５３）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｆｄを、その両端点が線分ｆｆ（式（５６）で表される線分）および線分ｄｃ（式（５３）で表される線分）に沿うように、第２の平面Ｓｐ１２ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｆｄの移動範囲は、９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍである。
（１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍ）
　図４１Ａおよび図４１Ｂに示す各パラメータの条件を満足する領域における各頂点の位置に基づき、以下の式（６３）、式（６５）、式（６６）が導出される。
　ｃｃ：（α−４．２５）／２．２５＝（β−０．０１３３）／０．００１０１６５＝（Ｌ−１２０）／（−２０）　・・・（６３）
　ｅｅ：（α−１．７）／１．１＝（β−０．０１０７６）／０．００１４４＝（Ｌ−１２０）／（−２０）　・・・（６５）
　ｆｆ：（α−４）／１．８＝（β−０．０１１４４）／０．００１１８６＝（Ｌ−１２０）／（−２０）　・・・（６６）
　総膜厚Ｌが１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍある場合、以下の３つの面で囲まれた領域（空間）Ｖ１３ａが、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが領域（空間）Ｖ１３ａに含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。
　式（６３）および式（６５）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ５
　式（６５）および式（６６）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ６
　式（６６）および式（６３）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ７
　ここで、領域（空間）Ｖ１３ａには、式（６３）、式（６５）、式（６６）の近似直線自体を含むものとする。
　式（６３）および式（６５）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｃｅを、その両端点が線分ｃｃ（式（６３）で表される線分）および線分ｅｅ（式（６５）で表される線分）に沿うように、第３の平面Ｓｐ１３ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｃｅの移動範囲は、１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍである。
　式（６５）および式（６６）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｅｆを、その両端点が線分ｅｅ（式（６５）で表される線分）および線分ｆｆ（式（６６）で表される線分）に沿うように、第３の平面Ｓｐ１３ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｅｆの移動範囲は、１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍである。
　式（６６）および式（６３）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｆｃを、その両端点が線分ｆｆ（式（６６）で表される線分）および線分ｃｃ（式（６３）で表される線分）に沿うように、第３の平面Ｓｐ１３ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｆｃの移動範囲は、１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍである。
（１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍ）
　図４１Ｂおよび図４２Ａに示す各パラメータの条件を満足する領域における各頂点の位置に基づき、以下の式（７３）、式（７５）、式（７６）が導出される。
　ｃｃ：（α−３．１）／１．１５＝（β−０．０２１６）／０．０００６９９４＝（Ｌ−１４０）／（−２０）　・・・（７３）
　ｅｅ：（α−１．１）／０．６＝（β−０．００９４）／０．００１３５５３＝（Ｌ−１４０）／（−２０）　・・・（７５）
　ｆｆ：（α−３．３）／０．７＝（β−０．０１０４２）／０．００１０１６＝（Ｌ−１４０）／（−２０）　・・・（７６）
　総膜厚Ｌが１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍある場合、以下の３つの面で囲まれた領域（空間）Ｖ１４ａが、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが領域（空間）Ｖ１４ａに含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。
　式（７３）および式（７５）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ５
　式（７５）および式（７６）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ６
　式（７６）および式（７３）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ７
　ここで、領域（空間）Ｖ１４ａには、式（７３）、式（７５）、式（７６）の近似直線自体を含むものとする。
　式（７３）および式（７５）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｃｅを、その両端点が線分ｃｃ（式（７３）で表される線分）および線分ｅｅ（式（７５）で表される線分）に沿うように、第４の平面Ｓｐ１４ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｃｅの移動範囲は、１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍである。
　式（７５）および式（７６）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｅｆを、その両端点が線分ｅｅ（式（７５）で表される線分）および線分ｆｆ（式（７６）で表される線分）に沿うように、第４の平面Ｓｐ１４ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｅｆの移動範囲は、１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍである。
　式（７６）および式（７３）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｆｃを、その両端点が線分ｆｆ（式（７６）で表される線分）および線分ｃｃ（式（７３）で表される線分）に沿うように、第４の平面Ｓｐ１４ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｆｃの移動範囲は、１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍである。
（１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍ）
　図４２Ａおよび図４２Ｂに示す各パラメータの条件を満足する領域における各頂点の位置に基づき、以下の式（８３）、式（８５）、式（８６）が導出される。
　ｃｃ：（α−２．５８２）／０．５１８＝（β−０．０１１９９）／０．０００６１＝（Ｌ−１６０）／（−２０）　・・・（８３）
　ｅｅ：（α−１．０５）／０．０５＝（β−０．００８２２）／０．００１１８５９＝（Ｌ−１６０）／（−２０）　・・・（８５）
　ｆｆ：（α−２．９１８）／０．３８２＝（β−０．００９６６）／０．０００７５９３＝（Ｌ−１６０）／（−２０）　・・・（８６）
　総膜厚Ｌが１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍある場合、以下の３つの面で囲まれた領域（空間）Ｖ１５ａが、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが領域（空間）Ｖ１５ａに含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。
　式（８３）および式（８５）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ５
　式（８５）および式（８６）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ６
　式（８６）および式（８３）の近似直線を対向する２辺とする面　・・・ｓ７
　ここで、領域（空間）Ｖ１５ａには、式（８３）、式（８５）、式（８６）の近似直線自体を含むものとする。
　式（８３）および式（８５）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｃｅを、その両端点が線分ｃｃ（式（８３）で表される線分）および線分ｅｅ（式（８５）で表される線分）に沿うように、第５の平面Ｓｐ１５ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｃｅの移動範囲は、１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍである。
　式（８５）および式（８６）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｅｆを、その両端点が線分ｅｅ（式（８５）で表される線分）および線分ｆｆ（式（８６）で表される線分）に沿うように、第５の平面Ｓｐ１５ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｅｆの移動範囲は、１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍである。
　式（８６）および式（８３）の近似直線を対向する２辺とする面は、以下のようにして形成される面である。すなわち、線分ｆｃを、その両端点が線分ｆｆ（式（８６）で表される線分）および線分ｃｃ（式（８３）で表される線分）に沿うように、第５の平面Ｓｐ１５ａに平行な位置関係を維持しながらＬ軸方向（総膜厚Ｌが増加する方向）に移動させることにより形成される面である。但し、線分ｆｃの移動範囲は、１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍである。
　したがって、可視光線透過率、青み指標、赤み指標および遮蔽係数のパラメータの条件を満足する領域は、各総膜厚Ｌの範囲毎に以下のように設定される。
（８０ｎｍ≦Ｌ≦９０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが８０ｎｍ≦Ｌ≦９０ｎｍである場合、以下の５つの面で囲まれた領域（空間）Ｖ１１ｂが、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが領域（空間）Ｖ１１ｂに含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。
　式（６ｂ）、式（７ｂ）および式（３４ｂ）の近似直線を３辺とする平面　・・・Ｓｐ１１ａ
　式（１０ｂ）、式（１１ｂ）および式（３５ｂ）の近似直線を３辺とする平面　・・・Ｓｐ１２ａ
　式（７ｂ）、式（１１ｂ）、式（４３）および式（４５）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ５ａ
　式（６ｂ）、式（１０ｂ）、式（４３）および式（４６）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ７ａ
　式（３４ｂ）、式（３５ｂ）、式（４５）および式（４６）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ６ａ
　ここで、領域（空間）Ｖ１１ｂには、上述の各面を規定する各近似直線自体を含むものとする。また、面ｓ５ａ~ｓ７ａは、各線分の移動範囲を８０ｎｍ≦Ｌ≦９０ｎｍの範囲とする以外は、総膜厚Ｌが８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍの範囲における面ｓ５~ｓ７と同様にして形成される面である。
（９０ｎｍ≦Ｌ≦１００ｎｍ）
　総膜厚Ｌが９０ｎｍ≦Ｌ≦１００ｎｍである場合、以下の５つの面で囲まれた領域（空間）Ｖ１２ｂが、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが領域（空間）Ｖ１２ｂに含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。
　式（１０ｂ）、式（１１ｂ）および式（３５ｂ）の近似直線を３辺とする平面　・・・Ｓｐ１２ａ
　式（１４ｂ）、式（１５ｂ）および式（３６ｂ）の近似直線を３辺とする平面　・・・Ｓｐ１３ａ
　式（１１ｂ）、式（１５ｂ）、式（５３）および式（５５）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ５ａ
　式（１０ｂ）、式（１４ｂ）、式（５３）および式（５６）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ７ａ
　式（３５ｂ）、式（３６ｂ）、式（５５）および式（５６）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ６ａ
　ここで、領域（空間）Ｖ１２ｂには、上述の各面を規定する各近似直線自体を含むものとする。また、面ｓ５ａ~ｓ７ａは、各線分の移動範囲を９０ｎｍ≦Ｌ≦１００ｎｍの範囲とする以外は、総膜厚Ｌ＝９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍの範囲における面ｓ５~ｓ７と同様にして形成される面である。
（１００ｎｍ≦Ｌ≦１２０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１００ｎｍ≦Ｌ≦１２０ｎｍである場合、以下の５つの面で囲まれた領域（空間）Ｖ１３ｂが、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが領域（空間）Ｖ１３ｂに含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。
　式（１４ｂ）、式（１５ｂ）および式（３６ｂ）の近似直線を３辺とする平面　・・・Ｓｐ１３ａ
　式（１８ｂ）、式（１９ｂ）および式（３７ｂ）の近似直線を３辺とする平面　・・・Ｓｐ１４ａ
　式（１５ｂ）、式（１９ｂ）、式（６３）および式（６５）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ５ａ
　式（１４ｂ）、式（１８ｂ）、式（６３）および式（６６）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ７ａ
　式（３６ｂ）、式（３７ｂ）、式（６５）および式（６６）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ６ａ
　ここで、領域（空間）Ｖ１３ｂには、上述の各面を規定する各近似直線自体を含むものとする。また、面ｓ５ａ~ｓ７ａは、各線分の移動範囲を１００ｎｍ≦Ｌ≦１２０ｎｍの範囲とする以外は、総膜厚Ｌ＝１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍの範囲における面ｓ５~ｓ７と同様にして形成される面である。
（１２０ｎｍ≦Ｌ≦１４０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１２０ｎｍ≦Ｌ≦１４０ｎｍである場合、以下の５つの面で囲まれた領域（空間）Ｖ１４ｂが、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが領域（空間）Ｖ１４ｂに含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。
　式（１８ｂ）、式（１９ｂ）および式（３７ｂ）の近似直線を３辺とする平面　・・・Ｓｐ１４ａ
　式（２２ｂ）、式（２３ｂ）および式（３８ｂ）の近似直線を３辺とする平面　・・・Ｓｐ１５ａ
　式（１９ｂ）、式（２３ｂ）、式（７３）および式（７５）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ５ａ
　式（１８ｂ）、式（２２ｂ）、式（７３）および式（７６）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ７ａ
　式（３７ｂ）、式（３８ｂ）、式（７５）および式（７６）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ６ａ
　ここで、領域（空間）Ｖ１４ｂには、上述の各面を規定する各近似直線自体を含むものとする。また、面ｓ５ａ~ｓ７ａは、各線分の移動範囲を１２０ｎｍ≦Ｌ≦１４０ｎｍの範囲とする以外は、総膜厚Ｌ＝１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍの範囲における面ｓ５~ｓ７と同様にして形成される面である。
（１４０ｎｍ≦Ｌ≦１６０ｎｍ）
　総膜厚Ｌが１４０ｎｍ≦Ｌ≦１６０ｎｍである場合、以下の５つの面で囲まれた領域（空間）Ｖ１５ｂが、各パラメータの条件を満足する領域となる。すなわち、比率αおよび比率βが領域（空間）Ｖ１５ｂに含まれることで、各パターメータの条件を満足することができる。
　式（２２ｂ）、式（２３ｂ）および式（３８ｂ）の近似直線を３辺とする平面　・・・Ｓｐ１５ａ
　式（２６ｂ）、式（２８ｂ）および式（３９ｂ）の近似直線を３辺とする平面　・・・Ｓｐ１６ａ
　式（２３ｂ）、式（２８ｂ）、式（８３）および式（８５）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ５ａ
　式（２２ｂ）、式（２６ｂ）、式（８３）および式（８６）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ７ａ
　式（３８ｂ）、式（３９ｂ）、式（８５）および式（８６）の近似直線を４辺とする面　・・・ｓ６ａ
　ここで、領域（空間）Ｖ１５ｂには、上述の各面を規定する各近似直線自体を含むものとする。また、面ｓ５ａ~ｓ７ａは、各線分の移動範囲を１４０ｎｍ≦Ｌ≦１６０ｎｍの範囲とする以外は、総膜厚Ｌ＝１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍの範囲における面ｓ５~ｓ７と同様にして形成される面である。
＜３．第３の実施形態＞
　図４４Ａ~図４７Ｂは、本発明の第３の実施形態に係る光学フィルムの構造体の構成例を示す。第３の実施形態において、第１の実施形態と対応する箇所には同一の符号を付す。第３の実施形態は、第１の光学層４の一主面に、構造体４ｃが２次元配列されている点において、第１の実施形態とは異なっている。２次元配列は、最稠密充填状態での２次元配列であることが好ましい。指向反射率を向上することができるからである。
　図４４Ａ~図４４Ｃに示すように、第１の光学層４の一主面には、例えば、柱状の構造体（柱状体）４ｃを直交配列することにより形成されている。具体的には、第１の方向に向かって配列された第１の構造体４ｃと、上記第１の方向とは直交する第２の方向に向かって配列された第２の構造体４ｃとが、互いの側面を貫通するように配列されている。柱状の構造体４ｃは、例えば、プリズム形状（図４４Ａ）、レンチキュラー形状（図４４Ｂ）などの柱状、またはこれらの柱状の頂部を多角形状（例えば五角形状）とした形状（図４４Ｃ）を有する凸部または凹部である。
　また、第１の光学層４の一主面に、例えば、球面状やコーナーキューブ状などの形状を有する構造体４ｃを最稠密充填状態で２次元配列することにより、正方稠密アレイ、デルタ稠密アレイ、六方稠密アレイなどの稠密アレイを形成するようにしてもよい。正方稠密アレイは、例えば図４５Ａ~図４５Ｃに示すように、四角形状（例えば正方形状）の底面を有する構造体４ｃを正方稠密状、すなわちマトリックス状（格子状）に配列させたものである。六方稠密アレイは、例えば図４６Ａ~図４６Ｃに示すように、六方形状の底面を有する構造体４ｃを六方稠密状に配列させたものである。デルタ稠密アレイは、例えば図図４７Ａ~図４７Ｂに示すように、三角形状の底面を有する構造体４ｃ（例えば三角錐）を最稠密充填状態で配列させたものである。
　構造体４ｃは、例えば、コーナーキューブ状、半球状、半楕円球状、プリズム状、シリンドリカル形状、自由曲面状、多角形状、円錐形状、多角錐状、円錐台形状、放物面状などの凸部または凹部である。構造体４ｃの底面は、例えば、円形状、楕円形状、または三角形状、四角形状、六角形状もしくは八角形状などの多角形状を有している。また、構造体４ｃのピッチＰ１、Ｐ２は、所望とする光学特性に応じて適宜選択することが好ましい。また、光学フィルム１の入射面に対して垂直な垂線に対して、構造体４ｃの主軸を傾ける場合、構造体４ｃの２次元配列のうちの少なくとも一方の配列方向に構造体４ｃの主軸を傾けるようにすることが好ましい。地面に対して略垂直に配置された窓材に光学フィルム１を貼る場合には、構造体４ｃの主軸が、垂線を基準にして窓材の下方（地面側）に傾いていることが好ましい。
　構造体４ｃがコーナーキューブ形状の場合、稜線Ｒが大きい場合は、上空に向けて傾けた方が良く、下方反射を抑制するという目的においては、地面側に向けて傾いている方が好ましい。太陽光線は、フィルムに対して斜めから入射するため、構造の奥まで光が入射しにくく、入射側の形状が重要となる。すなわち、稜線部分のＲが大きい場合は、再帰反射光が減少してしまうため、上空に向けて傾けることでこの現象を抑制することができる。また、コーナーキューブ体では、反射面で３回反射することで再帰反射を実現するが、一部の光が２回反射により再帰反射以外の方向に漏れる。コーナーキューブを地面側に向けて傾けることで、この漏れ光を上空方向に多く戻すことができる。このように、形状や目的に応じてどちらの方向に傾けても良い。
＜４．第４の実施形態＞
　図４８Ａは、本発明の第４の実施形態に係る光学フィルムの一構成例を示す断面図である。第４の実施形態において、第１の実施形態と同一の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。第４の実施形態は、光の入射面に対して傾斜した複数の反射層３を光学層２内に備え、これらの反射層３を互いに平行に配列している点において、第１の実施形態とは異なっている。
　図４８Ｂは、本発明の第４の実施形態に係る光学フィルムの構造体の一構成例を示す斜視図である。構造体４ｃは、一方向に延在された三角柱状の凸部であり、この柱状の構造体４ｃが一方向に向かって一次元配列されている。構造体４ｃの延在方向に垂直な断面は、例えば、直角三角形状を有する。構造体４ｃの鋭角側の傾斜面上に、例えば、蒸着法、スパッタリング法などの、指向性を有する薄膜形成法により、反射層３が形成される。
　第４の実施形態によれば、複数の反射層３を光学層５内に平行に配列している。これにより、反射層３による反射回数を、コーナーキューブ形状やプリズム形状の構造体４ｃを形成した場合に比べて低減することができる。したがって、反射率を高くすることができ、かつ、反射層３による光の吸収を低減できる。
＜５．第５の実施形態＞
　第５の実施形態は、特定波長の光を指向反射するのに対して、特定波長以外の光を散乱させる点において、第１の実施形態とは異なっている。光学フィルム１は、入射光を散乱する光散乱体を備えている。この散乱体は、例えば、光学層２の表面、光学層２の内部、および反射層３と光学層２との間のうち、少なくとも１箇所に設けられている。光散乱体は、好ましくは、反射層３と第１の光学層４との間、第１の光学層４の内部、および第１の光学層４の表面のうちの少なくとも一箇所に設けられている。光学フィルム１を窓材などの支持体に貼り合わせる場合、室内側および室外側のどちらにも適用可能である。光学フィルム１を室外側に対して貼り合わせる場合、反射層３と窓材などの支持体との間にのみ、特定波長以外の光を散乱させる光散乱体を設けることが好ましい。反射層３と入射面との間に光散乱体が存在すると、指向反射特性が失われてしまうからである。また、室内側に光学フィルム１を貼り合せる場合には、その貼り合わせ面とは反対側の出射面と、反射層３との間に光散乱体を設けることが好ましい。
　図４９Ａは、本発明の第５の実施形態に係る光学フィルム１の第１の構成例を示す断面図である。図４９Ａに示すように、第１の光学層４は、樹脂と微粒子１１とを含んでいる。微粒子１１は、第１の光学層４の主構成材料である樹脂とは異なる屈折率を有している。微粒子１１としては、例えば有機微粒子および無機微粒子の少なくとも１種を用いることができる。また、微粒子１１としては、中空微粒子を用いてもよい。微粒子１１としては、例えば、シリカ、アルミナなどの無機微粒子、またはスチレン、アクリルやそれらの共重合体などの有機微粒子が挙げられるが、シリカ微粒子が特に好ましい。
　図４９Ｂは、本発明の第５の実施形態に係る光学フィルム１の第２の構成例を示す断面図である。図４９Ｂに示すように、光学フィルム１は、第１の光学層４の表面に光拡散層１２をさらに備えている。光拡散層１２は、例えば、樹脂と微粒子とを含んでいる。微粒子としては、第１の例と同様のものを用いることができる。
　図４９Ｃは、本発明の第５の実施形態に係る光学フィルム１の第３の構成例を示す断面図である。図４９Ｃに示すように、光学フィルム１は、反射層３と第１の光学層４との間に光拡散層１２をさらに備えている。光拡散層１２は、例えば、樹脂と微粒子とを含んでいる。微粒子としては、第１の例と同様のものを用いることができる。
　第５の実施形態によれば、赤外線などの特定波長帯の光を指向反射し、可視光などの特定波長対以外の光を散乱させることができる。したがって、光学フィルム１を曇らせて、光学フィルム１に対して意匠性を付与することができる。
＜６．第６の実施形態＞
　図５０Ａは、本発明の第６の実施形態に係る光学フィルムの一構成例を示す断面図である。第６の実施形態において、第１の実施形態と同一の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。図５０Ａに示すように、第６の実施形態に係る光学フィルム１は、光学層２ａの凹凸面が樹脂材料などにより包埋されてはおらず、光学層２ａの凹凸面上に形成された反射層３が露出している点において、第１の実施形態とは異なっている。光学フィルム１は、太陽光などの光が入射する凹凸形状の入射面Ｓ１と、この入射面Ｓ１より入射した光のうち、光学フィルム１を透過した光が出射される出射面Ｓ２とを有する。
　光学フィルム１が、必要に応じて、光学層２ａの出射面Ｓ２に基材２ｂをさらに備えるようにしてもよい。また、光学フィルム１が、必要に応じて、光学層２ａの出射面Ｓ２上、または基材２ｂ上に、貼合層６、および剥離層７を備えるようにしてもよい。光学層２ａ、基材２ｂとしては、上述の第１の実施形態における第１の光学層４、基材４ａと同様のものを用いることができる。
　図５０Ｂは、本発明の第６の実施形態に係る光学フィルムを被着体に貼り合わせた例を示す断面図である。図５０Ｂに示すように、光学フィルム１の入射面Ｓ２が、例えば、貼合層６を介して被着体１０ａに対して貼り合わされる。被着体１０ａとしては、窓材、ブラインド、ロールスクリーン、プリーツスクリーンなどが好ましい。
　第６の実施形態によれば、反射層３が形成された光学層２ａの凹凸面を入射面Ｓ１としているので、入射する光の一部は入射面Ｓ１により散乱されるのに対して、散乱されなかった光の一部が光学フィルム１を透過する。したがって、入射光により光の明るさを感じることはできるが、不透明であるという光学フィルム１を得ることができる。このような特性を有するため光学フィルム１は、プライバシーが要求される内装部材、外装部材、および日射遮蔽部材など、より具体的には窓材、ブラインド、ロールスクリーン、およびプリーツスクリーンなどに適用して好適である。
＜７．第７の実施形態＞
　図５１は、本発明の第７の実施形態に係る光学フィルムの一構成例を示す断面図である。第７の実施形態は、光学フィルム１の入射面Ｓ１および出射面Ｓ２のうち、被着体に貼り合わされる面とは反対側の露出面上に、洗浄効果を発現する自己洗浄効果層５１をさらに備えている点において、第１の実施形態とは異なっている。自己洗浄効果層５１は、例えば、光触媒を含んでいる。光触媒としては、例えば、ＴｉＯ２を用いることができる。
　上述したように、光学フィルム１は入射光を半透過する点に特徴を有している。光学フィルム１を屋外や汚れの多い部屋などで使用する際には、表面に付着した汚れにより光が散乱され透過性および反射性が失われてしまうため、表面が常に光学的に透明であることが好ましい。そのため、表面が撥水性や親水性などに優れ、表面が自動的に洗浄効果を発現することが好ましい。
　第７の実施形態によれば、光学フィルム１が自己洗浄効果層５１を備えているので、撥水性や親水性などを入射面に付与することができる。したがって、入射面に対する汚れなどの付着を抑制し、指向反射特性の低減を抑制できる。
＜８．第８の実施形態＞
　上述の第１の実施形態では、本発明を窓材などに適用する場合を例として説明したが、本発明はこの例に限定されるものではなく、窓材以外の内装部材や外装部材などに適用することが可能である。また、本発明は壁や屋根などのように固定された不動の内装部材および外装部材のみならず、季節や時間変動などに起因する太陽光の光量変化に応じて、太陽光の透過量および／または反射量を内装部材または外装部材を動かして調整し、屋内などの空間に取り入れ可能な装置にも適用可能である。第８の実施形態では、このような装置の一例として、複数の日射遮蔽部材からなる日射遮蔽部材群の角度を変更することにより、日射遮蔽部材群による入射光線の遮蔽量を調整可能な日射遮蔽装置（ブラインド装置）について説明する。
　図５２は、本発明の第８の実施形態に係るブラインド装置の一構成例を示す斜視図である。図５２に示すように、日射遮蔽装置であるブラインド装置２０１は、ヘッドボックス２０３と、複数のスラット（羽）２０２ａからなるスラット群（日射遮蔽部材群）２０２と、ボトムレール２０４とを備える。ヘッドボックス２０３は、複数のスラット２０２ａからなるスラット群２０２の上方に設けられている。ヘッドボックス２０３からラダーコード２０６、および昇降コード２０５が下方に向かって延びており、これらのコードの下端にボトムレール２０４が吊り下げられている。日射遮蔽部材であるスラット２０２ａは、例えば、細長い矩形状を有し、ヘッドボックス２０３から下方に延びるラダーコード２０６により所定間隔で吊り下げ支持されている。また、ヘッドボックス２０３には、複数のスラット２０２ａからなるスラット群２０２の角度を調整するためのロッドなどの操作手段（図示省略）が設けられている。
　ヘッドボックス２０３は、ロッドなどの操作手段の操作により応じて、複数のスラット２０２ａからなるスラット群２０２を回転駆動することにより、室内などの空間に取り込まれる光量を調整する駆動手段である。また、ヘッドボックス２０３は、昇降操作コード２０７などの操作手段の適宜操作に応じて、スラット群２０２を昇降する駆動手段（昇降手段）としての機能も有している。
　図５３Ａは、スラットの第１の構成例を示す断面図である。図５３Ａに示すように、スラット２０２ａは、基材２１１と、光学フィルム１とを備える。光学フィルム１は、基材２１１の両主面のうち、スラット群２０２を閉じた状態において外光が入射する入射面側（例えば窓材に対向する面側）に設けることが好ましい。光学フィルム１と基材２１１とは、例えば、接着層または粘着層などの貼合層により貼り合される。
　基材２１１の形状としては、例えば、シート状、フィルム状、および板状などを挙げることができる。基材２１１の材料としては、ガラス、樹脂材料、紙材、および布材などを用いることができ、可視光を室内などの所定の空間に取り込むことを考慮すると、透明性を有する樹脂材料を用いることが好ましい。ガラス、樹脂材料、紙材、および布材としては、従来ロールスクリーンとして公知のものを用いることができる。光学フィルム１としては、上述の第１~第７の実施形態に係る光学フィルム１のうちの１種、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
　図５３Ｂは、スラットの第２の構成例を示す断面図である。図５３Ｂに示すように、第２の構成例は、光学フィルム１をスラット２０２ａとして用いるものである。光学フィルム１は、ラダーコード２０５により支持可能であるとともに、支持した状態において形状を維持できる程度の剛性を有していることが好ましい。
＜９．第９の実施形態＞
　第９の実施形態では、日射遮蔽部材を巻き取る、または巻き出すことで、日射遮蔽部材による入射光線の遮蔽量を調整可能な日射遮蔽装置の一例であるロールスクリーン装置について説明する。
　図５４Ａは、本発明の第９の実施形態に係るロールスクリーン装置の一構成例を示す斜視図である。図５４Ａに示すように、日射遮蔽装置であるロールスクリーン装置３０１は、スクリーン３０２と、ヘッドボックス３０３と、芯材３０４とを備える。ヘッドボックス３０３は、チェーン３０５などの操作部を操作することにより、スクリーン３０２を昇降可能に構成されている。ヘッドボックス３０３は、その内部にスクリーンを巻き取り、および巻き出すための巻軸を有し、この巻軸に対してスクリーン３０２の一端が結合されている。また、スクリーン３０２の他端には芯材３０４が結合されている。スクリーン３０２は可撓性を有し、その形状は特に限定されるものではなく、ロールスクリーン装置３０１を適用する窓材などの形状に応じて選択することが好ましく、例えば矩形状に選ばれる。
　図５４Ｂは、スクリーン３０２の一構成例を示す断面図である。図５４Ｂに示すように、スクリーン３０２は、基材３１１と、光学フィルム１とを備え、可撓性を有していることが好ましい。光学フィルム１は、基材２１１の両主面のうち、外光を入射させる入射面側（窓材に対向する面側）に設けることが好ましい。光学フィルム１と基材３１１とは、例えば、接着層または粘着層などの貼合層により貼り合される。なお、スクリーン３０２の構成はこの例に限定されるものではなく、光学フィルム１をスクリーン３０２として用いるようにしてもよい。
　基材３１１の形状としては、例えば、例えば、シート状、フィルム状、および板状などを挙げることができる。基材３１１としては、ガラス、樹脂材料、紙材、および布材などを用いることができ、可視光を室内などの所定の空間に取り込むことを考慮すると、透明性を有する樹脂材料を用いることが好ましい。ガラス、樹脂材料、紙材、および布材としては、従来ロールスクリーンとして公知のものを用いることができる。光学フィルム１としては、上述の第１~第７の実施形態に係る光学フィルム１のうちの１種、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
＜１０．第１０の実施形態＞
　第１０の実施形態では、指向反射性能を有する光学体に採光部を備える建具（内装部材または外装部材）に対して本発明を適用した例について説明する。
　図５５Ａは、本発明の第１０の実施形態に係る建具の一構成例を示す斜視図である。図５５Ａに示すように、建具４０１は、その採光部４０４に光学体４０２を備える構成を有している。具体的には、建具４０１は、光学体４０２と、光学体４０２の周縁部に設けられる枠材４０３とを備える。光学体４０２は枠材４０３により固定され、必要に応じて枠材４０３を分解して光学体４０２を取り外すことが可能である。建具４０１としては、例えば障子を挙げることができるが、本発明はこの例に限定されるものではなく、採光部を有する種々の建具に適用可能である。
　図５５Ｂは、光学体の一構成例を示す断面図である。図５５Ｂに示すように、光学体４０２は、基材４１１と、光学フィルム１とを備える。光学フィルム１は、基材４１１の両主面のうち、外光を入射させる入射面側（窓材に対向する面側）に設けられる。光学フィルム１と基材３１１とは、接着層または粘着層などの貼合層などにより貼り合される。なお、障子４０２の構成はこの例に限定されるものではなく、光学フィルム１を光学体４０２として用いるようにしてもよい。
　基材４１１は、例えば、可撓性を有するシート、フィルム、または基板である。基材４１１としては、ガラス、樹脂材料、紙材、および布材などを用いることができ、可視光を室内などの所定の空欄に取り込むことを考慮すると、透明性を有する樹脂材料を用いることが好ましい。ガラス、樹脂材料、紙材、および布材としては、従来建具の光学体として公知のものを用いることができる。光学フィルム１としては、上述の第１~第７の実施形態に係る光学フィルム１のうちの１種、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
　以下、実施例によりこの発明を具体的に説明するが、この発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
　以下の実施例では、反射層３の積層膜における各層の膜厚を変化させた場合の積層膜の光学特性をシミュレーションにより求めた。シミュレーションは、ＯＲＡ（Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｒｅｓｅａｒｃｈ　Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ）社の光学シミュレーションソフト（Ｌｉｇｈｔ　Ｔｏｏｌｓ）を用い、下記のサンプル１−１~サンプル７−５に示す積層膜に対して行い、比率αおよび比率βを変化させた場合の可視光線透過率、遮蔽係数、青み指標および赤み指標の値を求めた。
（サンプル１−１）
　まず、高屈折率層および金属層を積層し、５層構造とした積層膜を想定した。この積層膜の構成の詳細を以下に示す。
　層構成：高屈折率層／金属層／高屈折率層／金属層／高屈折率層
　総膜厚Ｌ：８０ｎｍ
　高屈折率層：
　　材料：ＧＡＺＯ
　　屈折率：１．９３６
　　１層目および５層目の幾何膜厚：６．７３ｎｍ
　　３層目の膜厚：５６．５３ｎｍ
　金属層：
　　材料：ＡｇＮｄＣｕ
　　屈折率：０．１６４
　　２層目および４層目の幾何膜厚：５．０ｎｍ
　比率α：０．０１２１
　比率β：８．４
（サンプル１−２）
　比率α：０．０１３８、比率β：１２．４となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル１−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル１−３）
　比率α：０．０１３８、比率β：１７．９となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル１−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル１−４）
　比率α：０．０１５５、比率β：１７．４となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル１−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル１−５）
　比率α：０．０１７２、比率β：１４．６となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル１−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル２−１）
　積層膜の総膜厚Ｌ：９０ｎｍとするとともに、比率α：０．０１０６、比率β：４となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル１−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル２−２）
　比率α：０．０１２３、比率β：１０．６となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル２−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル２−３）
　比率α：０．０１４、比率β：７．６となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル２−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル２−４）
　比率α：０．０１５７、比率β：１．６となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル２−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル２−５）
　比率α：０．０１５７、比率β：９となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル２−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル３−１）
　積層膜の総膜厚Ｌ：１００ｎｍとするとともに、比率α：０．００９５、比率β：４．２となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル１−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル３−２）
　比率α：０．０１２２、比率β：６．６となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル３−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル３−３）
　比率α：０．０１２９、比率β：４．８となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル３−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル３−４）
　比率α：０．０１２９、比率β：７．４となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプ３−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル３−５）
　比率α：０．０１４６、比率β：４．８となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル３−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル４−１）
　積層膜の総膜厚Ｌ：１２０ｎｍとするとともに、比率α：０．００９４、比率β：３となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル１−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル４−２）
　比率α：０．０１１１、比率β：４．６となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル４−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル４−３）
　比率α：０．０１２８、比率β：４となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル４−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル４−４）
　比率α：０．０１２８、比率β：５．８となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル４−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル４−５）
　比率α：０．０１４５、比率β：３となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル４−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル５−１）
　積層膜の総膜厚Ｌ：１４０ｎｍとするとともに、比率α：０．００６５、比率β：２．４となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル１−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル５−２）
　比率α：０．００８２、比率β：３．８となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル５−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル５−３）
　比率α：０．００９９、比率β：１．６となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル５−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル５−４）
　比率α：０．００９９、比率β：４．２となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル５−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル５−５）
　比率α：０．０１１６、比率β：１．６となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル５−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル６−１）
　積層膜の総膜厚Ｌ：１６０ｎｍとするとともに、比率α：０．００５７、比率β：２．２となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル１−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル６−２）
　比率α：０．００７４、比率β：３．６となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル６−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル６−３）
　比率α：０．００９１、比率β：１．６となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル６−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル６−４）
　比率α：０．０１０８、比率β：１．２となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル６−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル６−５）
　比率α：０．０１２５、比率β：３．２となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル６−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル７−１）
　積層膜の総膜厚Ｌ：１８０ｎｍとするとともに、比率α：０．００５、比率β：１．８となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル１−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル７−２）
　比率α：０．００６７、比率β：３．４となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル７−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル７−３）
　比率α：０．０１０１、比率β：２となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル７−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル７−４）
　比率α：０．０１１８、比率β：１．６となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル７−１と同様にして、積層膜を想定した。
（サンプル７−５）
　比率α：０．０１３５、比率β：２となるように各層の膜厚を変化させる以外はサンプル７−１と同様にして、積層膜を想定した。
［シミュレーション結果］
　サンプル１−１~サンプル７−５に示す積層膜に対するシミュレーションの結果を表１および表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 　表１および表２から以下のことがわかる。
（Ｌ＝８０ｎｍ）
　可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとした場合、サンプル１−１、サンプル１−２およびサンプル１−４は、各パラメータの条件を満足するため、設定された比率αおよび比率βが図１７Ａに示す領域内となる。サンプル１−３は、青み指標が条件を満足しないため、図１７Ａに示す領域外となる。サンプル１−５は、可視光線透過率および赤み指標が条件を満足しないため、図１７Ａに示す領域外となる。
　また、可視光線透過率、青み指標および赤み指標に加えて、さらに遮蔽係数をパラメータとした場合、サンプル１−４は、遮蔽係数の条件についても満足するため、設定された比率αおよび比率βが図２１Ａに示す領域内となる。サンプル１−１およびサンプル１−２は、遮蔽係数の条件を満足しないため、図２１Ａに示す領域外となる。
（Ｌ＝９０ｎｍ）
　可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとした場合、サンプル２−１およびサンプル２−３は、各パラメータの条件を満足するため、設定された比率αおよび比率βが図１７Ｂに示す領域内となる。サンプル２−２は、青み指標が条件を満足しないため、図１７Ｂに示す領域外となる。サンプル２−４は、可視光線透過率、青み指標および赤み指標が条件を満足しないため、図１７Ｂに示す領域外となる。サンプル２−５は、赤み指標が条件を満足しないため、図１７Ｂに示す領域外となる。
　また、可視光線透過率、青み指標および赤み指標に加えて、さらに遮蔽係数をパラメータとした場合、サンプル２−３は、遮蔽係数の条件についても満足するため、設定された比率αおよび比率βが図２１Ｂに示す領域内となる。サンプル２−１は、遮蔽係数の条件を満足しないため、図２１Ｂに示す領域外となる。
（Ｌ＝１００ｎｍ）
　可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとした場合、サンプル３−１およびサンプル３−３は、各パラメータの条件を満足するため、設定された比率αおよび比率βが図１８Ａに示す領域内となる。サンプル３−２およびサンプル３−４は、青み指標が条件を満足しないため、図１８Ａに示す領域外となる。サンプル３−５は、可視光線透過率および赤み指標が条件を満足しないため、図１８Ａに示す領域外となる。
　また、可視光線透過率、青み指標および赤み指標に加えて、さらに遮蔽係数をパラメータとした場合、サンプル３−３は、遮蔽係数の条件についても満足するため、設定された比率αおよび比率βが図２２Ａに示す領域内となる。サンプル３−１は、遮蔽係数の条件を満足しないため、図２２Ａに示す領域外となる。
（Ｌ＝１２０ｎｍ）
　可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとした場合、サンプル４−１およびサンプル４−３は、各パラメータの条件を満足するため、設定された比率αおよび比率βが図１８Ｂに示す領域内となる。サンプル４−２およびサンプル４−４は、青み指標が条件を満足しないため、図１８Ｂに示す領域外となる。サンプル４−５は、可視光線透過率および赤み指標が条件を満足しないため、図１８Ｂに示す領域外となる。
　また、可視光線透過率、青み指標および赤み指標に加えて、さらに遮蔽係数をパラメータとした場合、サンプル４−３は、遮蔽係数の条件についても満足するため、設定された比率αおよび比率βが図２２Ｂに示す領域内となる。サンプル４−１は、遮蔽係数の条件を満足しないため、図２２Ｂに示す領域外となる。
（Ｌ＝１４０ｎｍ）
　可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとした場合、サンプル５−１およびサンプル５−３は、各パラメータの条件を満足するため、設定された比率αおよび比率βが図１９Ａに示す領域内となる。サンプル５−２およびサンプル５−４は、青み指標が条件を満足しないため、図１９Ａに示す領域外となる。サンプル５−５は、可視光線透過率および赤み指標が条件を満足しないため、図１９Ａに示す領域外となる。
　また、可視光線透過率、青み指標および赤み指標に加えて、さらに遮蔽係数をパラメータとした場合、サンプル５−３は、遮蔽係数の条件についても満足するため、設定された比率αおよび比率βが図２３Ａに示す領域内となる。サンプル５−１は、遮蔽係数の条件を満足しないため、図２３Ａに示す領域外となる。
（Ｌ＝１６０ｎｍ）
　可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとした場合、サンプル６−１およびサンプル６−３は、各パラメータの条件を満足するため、設定された比率αおよび比率βが図１９Ｂに示す領域内となる。サンプル６−２およびサンプル６−５は、青み指標が条件を満足しないため、図１９Ｂに示す領域外となる。サンプル６−４は、可視光線透過率および赤み指標が条件を満足しないため、図１９Ｂに示す領域外となる。
　また、可視光線透過率、青み指標および赤み指標に加えて、さらに遮蔽係数をパラメータとした場合、サンプル６−３は、遮蔽係数の条件についても満足するため、設定された比率αおよび比率βが図２３Ｂに示す領域内となる。サンプル６−１は、遮蔽係数の条件を満足しないため、図２３Ｂに示す領域外となる。
（Ｌ＝１８０ｎｍ）
　可視光線透過率、青み指標および赤み指標をパラメータとした場合、サンプル７−１およびサンプル７−３は、各パラメータの条件を満足するため、設定された比率αおよび比率βが図２０に示す領域内となる。サンプル７−２は、青み指標が条件を満足しないため、図２０に示す領域外となる。サンプル７−４およびサンプル７−５は、可視光線透過率および赤み指標が条件を満足しないため、図２０に示す領域外となる。
　また、可視光線透過率、青み指標および赤み指標に加えて、さらに遮蔽係数をパラメータとした場合、サンプル７−３は、遮蔽係数の条件についても満足するため、設定された比率αおよび比率βが図２４に示す領域内となる。サンプル７−１は、遮蔽係数の条件を満足しないため、図２４に示す領域外となる。
　以上、本発明の実施形態について具体的に説明したが、本発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
　例えば、上述の実施形態において挙げた構成、方法、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、形状、材料および数値などを用いてもよい。
　また、上述の実施形態の各構成は、本発明の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。
　また、上述の実施形態では、ブランインド装置、およびロールスクリーン装置の駆動方式が手動式である場合を例として説明したが、ブランインド装置、およびロールスクリーン装置の駆動方式を電動式としてもよい。
　また、上述の実施形態では、光学フィルムを窓材などの被着体に貼り合わせる構成を例として説明したが、窓材などの被着体を光学フィルムの第１の光学層、または第２の光学層自体とする構成を採用するようにしてもよい。これにより、窓材などの光学体に予め指向反射の機能を付与することができる。
　また、上述の実施形態では、光学体が光学フィルムである場合を例として説明したが、光学体の形状はフィルム状に限定されるものではなく、プレート状、ブロック状などでもよい。
　上述の実施形態では、本発明を窓材、建具、ブラインド装置のスラット、およびロールスクリーン装置のスクリーンなどの内装部材または外装部材に適用した場合を例として説明したが、本発明はこの例に限定されるものではなく、上記以外の内装部材および外装部材にも適用可能である。
　本発明に係る光学体が適用される内装部材または外装部材としては、例えば、光学体自体により構成された内装部材または外装部材、指向反射体が貼り合わされた透明基材などにより構成された内装部材または外装部材などが挙げられる。このような内装部材または外装部材を室内の窓付近に設置することで、例えば、赤外線だけを屋外に指向反射し、可視光線を室内に取り入れることができる。したがって、内装部材または外装部材を設置した場合にも、室内照明の必要性が低減される。また、内装部材または外装部材による室内側への散乱反射も殆どないため、周囲の温度上昇も抑えることができる。また、視認性制御や強度向上など必要な目的に応じ、透明基材以外の貼り合わせ部材に適用することも可能である。
　また、上述の実施形態では、ブラインド装置、およびロールスクリーン装置に対して本発明を適用した例について説明したが、本発明はこの例に限定されるものではなく、室内または屋内に設置される種々の日射遮蔽装置に適用可能である。
　また、上述の実施形態では、日射遮蔽部材を巻き取る、または巻き出すことで、日射遮蔽部材による入射光線の遮蔽量を調整可能な日射遮蔽装置（例えばロールスクリーン装置）に本発明を適用した例について説明したが、本発明はこの例に限定されるものではない。例えば、日射遮蔽部材を折り畳むことで、日射遮蔽部材による入射光線の遮蔽量を調整可能な日射遮蔽装置に対しても本発明は適用可能である。このような日射遮蔽装置としては、例えば、日射遮蔽部材であるスクリーンを蛇腹状に折り畳むことで、入射光線の遮蔽量を調整するプリーツスクリーン装置を挙げることができる。
　また、上述の実施形態では、本発明を横型ブラインド装置（ベネシアンブラインド装置）に対して適用した例について説明したが、縦型ブラインド装置（バーチカルブラインド装置）に対しても適用可能である。
　また、上述の第２の実施形態において、第１の実施形態と同様にして、隣接する各領域間に微小領域ΔＳｉを定義して、この微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域内に比率αおよび比率βを設定するようにしてもよい。
　本技術は以下のような構成もとることができる。
（１）
　凹凸面を有する第１の光学層と、
　上記凹凸面上に形成された波長選択反射層と、
　上記波長選択反射層上に形成された第２の光学層と
　を備え、
　上記波長選択反射層は、高屈折率層と金属層とが交互に積層された５層構成を有し、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが８０ｎｍである場合、
　上記高屈折率層全体の光学膜厚ｄａに対する上記金属層全体の光学膜厚ｄｂの比率α（＝ｄｂ／ｄａ）、および上記第１の光学層側および上記第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ１に対する３層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ３の比率β（＝ｄ３／ｄ１）が、下記式（１）~式（４）で囲まれた第１の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが９０ｎｍである場合、
　上記比率αおよび上記比率βが、下記式（５）~式（８）で囲まれた第２の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍである場合、
　上記第１の領域の周辺Ｃ１を式（１）と式（３）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第２の領域の周辺Ｃ２を式（５）と式（７）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ２ｉとし、ΔＣ１ｉ、ΔＣ２ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる光学体。
　α＝−０．０００４β２＋０．００５３β＋０．００６５　・・・（１）
　α＝−１×１０−５β２＋０．０００７β＋０．００６６　・・・（２）
　α＝−１×１０−５β２＋０．０００５β＋０．０１１９　・・・（３）
　α＝０．０１２１１４　・・・（４）
　α＝−０．０００２β２＋０．００３９β＋０．００８７　・・・（５）
　α＝−３×１０−５β２＋０．００１４β＋０．００３８　・・・（６）
　α＝−２×１０−５β２＋０．０００６β＋０．０１１２　・・・（７）
　α＝０．０１０５８９　・・・（８）
（２）
　凹凸面を有する第１の光学層と、
　上記凹凸面上に形成された波長選択反射層と、
　上記波長選択反射層上に形成された第２の光学層と
　を備え、
　上記波長選択反射層は、高屈折率層と金属層とが交互に積層された５層構成を有し、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが９０ｎｍである場合、
　上記高屈折率層全体の光学膜厚ｄａに対する上記金属層全体の光学膜厚ｄｂの比率α（＝ｄｂ／ｄａ）、および上記第１の光学層側および上記第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ１に対する３層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ３の比率β（＝ｄ３／ｄ１）が、下記式（５）~式（８）で囲まれた第１の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１００ｎｍである場合、
　上記比率αおよび上記比率βが、下記式（９）~式（１２）で囲まれた第２の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍである場合、
　上記第１の領域の周辺Ｃ１を式（５）と式（７）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第２の領域の周辺Ｃ２を式（９）と式（１１）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ２ｉとし、ΔＣ１ｉ、ΔＣ２ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる光学体。
　α＝−０．０００２β２＋０．００３９β＋０．００８７　・・・（５）
　α＝−３×１０−５β２＋０．００１４β＋０．００３８　・・・（６）
　α＝−２×１０−５β２＋０．０００６β＋０．０１１２　・・・（７）
　α＝０．０１０５８９　・・・（８）
　α＝−０．０００２β２＋０．００５５β＋０．００５７　・・・（９）
　α＝−０．０００２β２＋０．００４５β−０．００６７　・・・（１０）
　α＝−４×１０−５β２＋０．００１β＋０．００９９　・・・（１１）
　α＝０．００９４０３　・・・（１２）
（３）
　凹凸面を有する第１の光学層と、
　上記凹凸面上に形成された波長選択反射層と、
　上記波長選択反射層上に形成された第２の光学層と
　を備え、
　上記波長選択反射層は、高屈折率層と金属層とが交互に積層された５層構成を有し、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１００ｎｍである場合、
　上記高屈折率層全体の光学膜厚ｄａに対する上記金属層全体の光学膜厚ｄｂの比率α（＝ｄｂ／ｄａ）、および上記第１の光学層側および上記第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ１に対する３層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ３の比率β（＝ｄ３／ｄ１）が、下記式（９）~式（１２）で囲まれた第１の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１２０ｎｍである場合、
　上記比率αおよび上記比率βが、下記式（１３）~式（１６）で囲まれた第２の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍである場合、
　上記第１の領域の周辺Ｃ１を式（９）と式（１１）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第２の領域の周辺Ｃ２を式（１３）と式（１５）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ２ｉとし、ΔＣ１ｉ、ΔＣ２ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる光学体。
　α＝−０．０００２β２＋０．００５５β＋０．００５７　・・・（９）
　α＝−０．０００２β２＋０．００４５β−０．００６７　・・・（１０）
　α＝−４×１０−５β２＋０．００１β＋０．００９９　・・・（１１）
　α＝０．００９４０３　・・・（１２）
　α＝−０．０００３β２＋０．００７４β＋０．００３３　・・・（１３）
　α＝−０．００１４β２＋０．０１９１β−０．０４２２　・・・（１４）
　α＝−９×１０−５β２＋０．００１５β＋０．００８４　・・・（１５）
　α＝０．００７７０９　・・・（１６）
（４）
　凹凸面を有する第１の光学層と、
　上記凹凸面上に形成された波長選択反射層と、
　上記波長選択反射層上に形成された第２の光学層と
　を備え、
　上記波長選択反射層は、高屈折率層と金属層とが交互に積層された５層構成を有し、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１２０ｎｍである場合、
　上記高屈折率層全体の光学膜厚ｄａに対する上記金属層全体の光学膜厚ｄｂの比率α（＝ｄｂ／ｄａ）、および上記第１の光学層側および上記第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ１に対する３層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ３の比率β（＝ｄ３／ｄ１）が、下記式（１３）~式（１６）で囲まれた第１の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１４０ｎｍである場合、
　上記比率αおよび上記比率βが、下記式（１７）~式（２０）で囲まれた第２の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍである場合、
　上記第１の領域の周辺Ｃ１を式（１３）と式（１５）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第２の領域の周辺Ｃ２を式（１７）と式（１９）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ２ｉとし、ΔＣ１ｉ、ΔＣ２ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる光学体。
　α＝−０．０００３β２＋０．００７４β＋０．００３３　・・・（１３）
　α＝−０．００１４β２＋０．０１９１β−０．０４２２　・・・（１４）
　α＝−９×１０−５β２＋０．００１５β＋０．００８４　・・・（１５）
　α＝０．００７７０９　・・・（１６）
　α＝−０．００１４β２＋０．０１３６β−０．００２７　・・・（１７）
　β＝１０１３２α２−２４１．３９α＋４．７４７　・・・（１８）
　α＝−０．０００１β２＋０．００２β＋０．００７４　・・・（１９）
　α＝０．００６５２３　・・・（２０）
（５）
　凹凸面を有する第１の光学層と、
　上記凹凸面上に形成された波長選択反射層と、
　上記波長選択反射層上に形成された第２の光学層と
　を備え、
　上記波長選択反射層は、高屈折率層と金属層とが交互に積層された５層構成を有し、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１４０ｎｍである場合、
　上記高屈折率層全体の光学膜厚ｄａに対する上記金属層全体の光学膜厚ｄｂの比率α（＝ｄｂ／ｄａ）、および上記第１の光学層側および上記第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ１に対する３層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ３の比率β（＝ｄ３／ｄ１）が、下記式（１７）~式（２０）で囲まれた第１の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１６０ｎｍである場合、
　上記比率αおよび上記比率βが、下記式（２１）~式（２５）で囲まれた第２の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍである場合、
　上記第１の領域の周辺Ｃ１を式（１７）と式（１９）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第２の領域の周辺Ｃ２を式（２１）と式（２４）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ２ｉとし、ΔＣ１ｉ、ΔＣ２ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる光学体。
　α＝−０．００１４β２＋０．０１３６β−０．００２７　・・・（１７）
　β＝１０１３２α２−２４１．３９α＋４．７４７　・・・（１８）
　α＝−０．０００１β２＋０．００２β＋０．００７４　・・・（１９）
　α＝０．００６５２３　・・・（２０）
　α＝−０．００５β２＋０．０２７３β−０．０１４５　・・・（２１）
　α＝０．００４３β２−０．０３３２β＋０．０７　・・・（２２）
　β＝２．８７５　・・・（２３）
　α＝−０．０００１β２＋０．００２５β＋０．００６２　・・・（２４）
　α＝０．００５６７６　・・・（２５）
（６）
　凹凸面を有する第１の光学層と、
　上記凹凸面上に形成された波長選択反射層と、
　上記波長選択反射層上に形成された第２の光学層と
　を備え、
　上記波長選択反射層は、高屈折率層と金属層とが交互に積層された５層構成を有し、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１６０ｎｍである場合、
　上記高屈折率層全体の光学膜厚ｄａに対する上記金属層全体の光学膜厚ｄｂの比率α（＝ｄｂ／ｄａ）、および上記第１の光学層側および上記第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ１に対する３層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ３の比率β（＝ｄ３／ｄ１）が、下記式（２１）~式（２５）で囲まれた第１の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１８０ｎｍである場合、
　上記比率αおよび上記比率βが、下記式（２６）~式（２９）で囲まれた第２の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１６０ｎｍ＜Ｌ＜１８０ｎｍである場合、
　上記第１の領域の周辺Ｃ１を式（２１）と式（２４）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第２の領域の周辺Ｃ２を式（２６）と式（２８）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ２ｉとし、ΔＣ１ｉ、ΔＣ２ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる光学体。
　α＝−０．００５β２＋０．０２７３β−０．０１４５　・・・（２１）
　α＝０．００４３β２−０．０３３２β＋０．０７　・・・（２２）
　β＝２．８７５　・・・（２３）
　α＝−０．０００１β２＋０．００２５β＋０．００６２　・・・（２４）
　α＝０．００５６７６　・・・（２５）
　α＝−０．０１０３β２＋０．０４７β−０．０３２２　・・・（２６）
　α＝０．００９３β２−０．０６７７β＋０．１２１２　・・・（２７）
　α＝−０．０００３β２＋０．００３６β＋０．００４６　・・・（２８）
　α＝０．００４９８　・・・（２９）
（７）
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが８０ｎｍである場合、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（２）、式（３）および下記式（３０）で囲まれた第３の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが９０ｎｍである場合、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（６）、式（７）および下記式（３１）で囲まれた第４の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍである場合、
　上記第３の領域の周辺Ｃ３を上記式（３）と式（３０）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ３ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第４の領域の周辺Ｃ４を上記式（７）と式（３１）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ４ｉとし、ΔＣ３ｉ、ΔＣ４ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる（１）に記載の光学体。
　α＝−６×１０−６β２＋０．０００２β＋０．０１４１　・・・（３０）
　α＝−１×１０−５β２＋０．０００２β＋０．０１２５　・・・（３１）
（８）
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが９０ｎｍである場合、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（６）、式（７）および下記式（３１）で囲まれた第３の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１００ｎｍである場合、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（１０）、式（１１）および下記式（３２）で囲まれた第４の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍである場合、
　上記第３の領域の周辺Ｃ３を上記式（７）と式（３１）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ３ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第４の領域の周辺Ｃ４を上記式（１１）と式（３２）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ４ｉとし、ΔＣ３ｉ、ΔＣ４ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる（２）に記載の光学体。
　α＝−１×１０−５β２＋０．０００２β＋０．０１２５　・・・（３１）
　α＝−３×１０−５β２＋０．０００４β＋０．０１１３　・・・（３２）
（９）
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１００ｎｍである場合、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（１０）、式（１１）および下記式（３２）で囲まれた第３の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１２０ｎｍである場合、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（１４）、式（１５）および下記式（３３）で囲まれた第４の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍである場合、
　上記第３の領域の周辺Ｃ３を上記式（１１）と式（３２）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ３ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第４の領域の周辺Ｃ４を上記式（１５）と式（３３）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ４ｉとし、ΔＣ３ｉ、ΔＣ４ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる（３）に記載の光学体。
　α＝−３×１０−５β２＋０．０００４β＋０．０１１３　・・・（３２）
　α＝−７×１０−５β２＋０．０００７β＋０．００９７　・・・（３３）
（１０）
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１２０ｎｍである場合、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（１４）、式（１５）および下記式（３３）で囲まれた第３の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１４０ｎｍである場合、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（１８）、式（１９）および下記式（３４）で囲まれた第４の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍである場合、
　上記第３の領域の周辺Ｃ３を上記式（１５）と式（３３）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ３ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第４の領域の周辺Ｃ４を上記式（１９）と式（３４）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ４ｉとし、ΔＣ３ｉ、ΔＣ４ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる（４）に記載の光学体。
　α＝−７×１０−５β２＋０．０００７β＋０．００９７　・・・（３３）
　α＝−０．０００１β２＋０．００１１β＋０．００８３　・・・（３４）
（１１）
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１４０ｎｍである場合、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（１８）、式（１９）および下記式（３４）で囲まれた第３の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１６０ｎｍである場合、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（２１）~式（２４）および下記式（３５）で囲まれた第４の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍである場合、
　上記第３の領域の周辺Ｃ３を上記式（１９）と式（３４）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ３ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第４の領域の周辺Ｃ４を上記式（２１）と式（３５）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ４ｉとし、ΔＣ３ｉ、ΔＣ４ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる（５）に記載の光学体。
　α＝−０．０００１β２＋０．００１１β＋０．００８３　・・・（３４）
　α＝−０．０００２β２＋０．００１６β＋０．００６７　・・・（３５）
（１２）
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１６０ｎｍである場合、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（２１）~式（２４）および下記式（３５）で囲まれた第３の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１８０ｎｍである場合、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（２６）~式（２８）および下記式（３６）で囲まれた第４の領域に含まれ、
　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１６０ｎｍ＜Ｌ＜１８０ｎｍである場合、
　上記第３の領域の周辺Ｃ３を上記式（２１）と式（３５）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ３ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第４の領域の周辺Ｃ４を上記式（２６）と式（３６）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ４ｉとし、ΔＣ３ｉ、ΔＣ４ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる（６）に記載の光学体。
　α＝−０．０００２β２＋０．００１６β＋０．００６７　・・・（３５）
　α＝−０．０００３β２＋０．００２１β＋０．００５５　・・・（３６）
（１３）
　上記第１の光学層側および上記第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目および５層目の上記高屈折率層の膜厚が略等しく、かつ、２層目および４層目の上記金属層の膜厚が略等しい（１）~（１２）のいずれかに記載の光学体。
（１４）
　上記高屈折率層は、上記金属層に対して高屈折率を有する（１）~（１２）のいずれかに記載の光学体。
（１５）
　上記高屈折率層の屈折率が、１．７以上２．６以下である（１）~（１２）のいずれかに記載の光学体。
（１６）
　上記高屈折率層は、酸化ニオブ、酸化亜鉛、酸化チタンおよび酸化タンタルからなる群より選ばれる少なくとも１種を含み、
　上記金属層は、Ａｇ合金を含んでいる（１）~（１２）のいずれかに記載の光学体。
（１７）
　（１）~（１６）のいずれかに記載の光学体を備える窓材。
（１８）
　（１）~（１６）のいずれかに記載の光学体を採光部に備える建具。
（１９）
　日射を遮蔽する１または複数の日射遮蔽部材を備え、
　上記日射遮蔽部材が、（１）~（１６）のいずれかに記載の光学体を備える日射遮蔽装置。
　１　　光学フィルム
　２　　光学層
　３　　反射層
　４　　第１の光学層
　４ａ　　第１の基材
　５　　第２の光学層
　５ａ　　第２の基材
　６　　貼合層
　７　　剥離層
　８　　ハードコート層
　９　　反射層付き光学層
　Ｓ１　　入射面
　Ｓ２　　出射面

Claims (19)

  1. 　凹凸面を有する第１の光学層と、
    　上記凹凸面上に形成された波長選択反射層と、
    　上記波長選択反射層上に形成された第２の光学層と
    　を備え、
    　上記波長選択反射層は、高屈折率層と金属層とが交互に積層された５層構成を有し、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが８０ｎｍである場合、
    　上記高屈折率層全体の光学膜厚ｄａに対する上記金属層全体の光学膜厚ｄｂの比率α（＝ｄｂ／ｄａ）、および上記第１の光学層側および上記第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ１に対する３層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ３の比率β（＝ｄ３／ｄ１）が、下記式（１）~式（４）で囲まれた第１の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが９０ｎｍである場合、
    　上記比率αおよび上記比率βが、下記式（５）~式（８）で囲まれた第２の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍである場合、
    　上記第１の領域の周辺Ｃ１を式（１）と式（３）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第２の領域の周辺Ｃ２を式（５）と式（７）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ２ｉとし、ΔＣ１ｉ、ΔＣ２ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる光学体。
    　α＝−０．０００４β２＋０．００５３β＋０．００６５　・・・（１）
    　α＝−１×１０−５β２＋０．０００７β＋０．００６６　・・・（２）
    　α＝−１×１０−５β２＋０．０００５β＋０．０１１９　・・・（３）
    　α＝０．０１２１１４　・・・（４）
    　α＝−０．０００２β２＋０．００３９β＋０．００８７　・・・（５）
    　α＝−３×１０−５β２＋０．００１４β＋０．００３８　・・・（６）
    　α＝−２×１０−５β２＋０．０００６β＋０．０１１２　・・・（７）
    　α＝０．０１０５８９　・・・（８）
  2. 　凹凸面を有する第１の光学層と、
    　上記凹凸面上に形成された波長選択反射層と、
    　上記波長選択反射層上に形成された第２の光学層と
    　を備え、
    　上記波長選択反射層は、高屈折率層と金属層とが交互に積層された５層構成を有し、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが９０ｎｍである場合、
    　上記高屈折率層全体の光学膜厚ｄａに対する上記金属層全体の光学膜厚ｄｂの比率α（＝ｄｂ／ｄａ）、および上記第１の光学層側および上記第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ１に対する３層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ３の比率β（＝ｄ３／ｄ１）が、下記式（５）~式（８）で囲まれた第１の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１００ｎｍである場合、
    　上記比率αおよび上記比率βが、下記式（９）~式（１２）で囲まれた第２の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍである場合、
    　上記第１の領域の周辺Ｃ１を式（５）と式（７）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第２の領域の周辺Ｃ２を式（９）と式（１１）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ２ｉとし、ΔＣ１ｉ、ΔＣ２ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる光学体。
    　α＝−０．０００２β２＋０．００３９β＋０．００８７　・・・（５）
    　α＝−３×１０−５β２＋０．００１４β＋０．００３８　・・・（６）
    　α＝−２×１０−５β２＋０．０００６β＋０．０１１２　・・・（７）
    　α＝０．０１０５８９　・・・（８）
    　α＝−０．０００２β２＋０．００５５β＋０．００５７　・・・（９）
    　α＝−０．０００２β２＋０．００４５β−０．００６７　・・・（１０）
    　α＝−４×１０−５β２＋０．００１β＋０．００９９　・・・（１１）
    　α＝０．００９４０３　・・・（１２）
  3. 　凹凸面を有する第１の光学層と、
    　上記凹凸面上に形成された波長選択反射層と、
    　上記波長選択反射層上に形成された第２の光学層と
    　を備え、
    　上記波長選択反射層は、高屈折率層と金属層とが交互に積層された５層構成を有し、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１００ｎｍである場合、
    　上記高屈折率層全体の光学膜厚ｄａに対する上記金属層全体の光学膜厚ｄｂの比率α（＝ｄｂ／ｄａ）、および上記第１の光学層側および上記第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ１に対する３層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ３の比率β（＝ｄ３／ｄ１）が、下記式（９）~式（１２）で囲まれた第１の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１２０ｎｍである場合、
    　上記比率αおよび上記比率βが、下記式（１３）~式（１６）で囲まれた第２の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍである場合、
    　上記第１の領域の周辺Ｃ１を式（９）と式（１１）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第２の領域の周辺Ｃ２を式（１３）と式（１５）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ２ｉとし、ΔＣ１ｉ、ΔＣ２ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる光学体。
    　α＝−０．０００２β２＋０．００５５β＋０．００５７　・・・（９）
    　α＝−０．０００２β２＋０．００４５β−０．００６７　・・・（１０）
    　α＝−４×１０−５β２＋０．００１β＋０．００９９　・・・（１１）
    　α＝０．００９４０３　・・・（１２）
    　α＝−０．０００３β２＋０．００７４β＋０．００３３　・・・（１３）
    　α＝−０．００１４β２＋０．０１９１β−０．０４２２　・・・（１４）
    　α＝−９×１０−５β２＋０．００１５β＋０．００８４　・・・（１５）
    　α＝０．００７７０９　・・・（１６）
  4. 　凹凸面を有する第１の光学層と、
    　上記凹凸面上に形成された波長選択反射層と、
    　上記波長選択反射層上に形成された第２の光学層と
    　を備え、
    　上記波長選択反射層は、高屈折率層と金属層とが交互に積層された５層構成を有し、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１２０ｎｍである場合、
    　上記高屈折率層全体の光学膜厚ｄａに対する上記金属層全体の光学膜厚ｄｂの比率α（＝ｄｂ／ｄａ）、および上記第１の光学層側および上記第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ１に対する３層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ３の比率β（＝ｄ３／ｄ１）が、下記式（１３）~式（１６）で囲まれた第１の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１４０ｎｍである場合、
    　上記比率αおよび上記比率βが、下記式（１７）~式（２０）で囲まれた第２の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍである場合、
    　上記第１の領域の周辺Ｃ１を式（１３）と式（１５）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第２の領域の周辺Ｃ２を式（１７）と式（１９）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ２ｉとし、ΔＣ１ｉ、ΔＣ２ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる光学体。
    　α＝−０．０００３β２＋０．００７４β＋０．００３３　・・・（１３）
    　α＝−０．００１４β２＋０．０１９１β−０．０４２２　・・・（１４）
    　α＝−９×１０−５β２＋０．００１５β＋０．００８４　・・・（１５）
    　α＝０．００７７０９　・・・（１６）
    　α＝−０．００１４β２＋０．０１３６β−０．００２７　・・・（１７）
    　β＝１０１３２α２−２４１．３９α＋４．７４７　・・・（１８）
    　α＝−０．０００１β２＋０．００２β＋０．００７４　・・・（１９）
    　α＝０．００６５２３　・・・（２０）
  5. 　凹凸面を有する第１の光学層と、
    　上記凹凸面上に形成された波長選択反射層と、
    　上記波長選択反射層上に形成された第２の光学層と
    　を備え、
    　上記波長選択反射層は、高屈折率層と金属層とが交互に積層された５層構成を有し、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１４０ｎｍである場合、
    　上記高屈折率層全体の光学膜厚ｄａに対する上記金属層全体の光学膜厚ｄｂの比率α（＝ｄｂ／ｄａ）、および上記第１の光学層側および上記第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ１に対する３層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ３の比率β（＝ｄ３／ｄ１）が、下記式（１７）~式（２０）で囲まれた第１の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１６０ｎｍである場合、
    　上記比率αおよび上記比率βが、下記式（２１）~式（２５）で囲まれた第２の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍである場合、
    　上記第１の領域の周辺Ｃ１を式（１７）と式（１９）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第２の領域の周辺Ｃ２を式（２１）と式（２４）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ２ｉとし、ΔＣ１ｉ、ΔＣ２ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる光学体。
    　α＝−０．００１４β２＋０．０１３６β−０．００２７　・・・（１７）
    　β＝１０１３２α２−２４１．３９α＋４．７４７　・・・（１８）
    　α＝−０．０００１β２＋０．００２β＋０．００７４　・・・（１９）
    　α＝０．００６５２３　・・・（２０）
    　α＝−０．００５β２＋０．０２７３β−０．０１４５　・・・（２１）
    　α＝０．００４３β２−０．０３３２β＋０．０７　・・・（２２）
    　β＝２．８７５　・・・（２３）
    　α＝−０．０００１β２＋０．００２５β＋０．００６２　・・・（２４）
    　α＝０．００５６７６　・・・（２５）
  6. 　凹凸面を有する第１の光学層と、
    　上記凹凸面上に形成された波長選択反射層と、
    　上記波長選択反射層上に形成された第２の光学層と
    　を備え、
    　上記波長選択反射層は、高屈折率層と金属層とが交互に積層された５層構成を有し、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１６０ｎｍである場合、
    　上記高屈折率層全体の光学膜厚ｄａに対する上記金属層全体の光学膜厚ｄｂの比率α（＝ｄｂ／ｄａ）、および上記第１の光学層側および上記第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ１に対する３層目の上記高屈折率層の光学膜厚ｄ３の比率β（＝ｄ３／ｄ１）が、下記式（２１）~式（２５）で囲まれた第１の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１８０ｎｍである場合、
    　上記比率αおよび上記比率βが、下記式（２６）~式（２９）で囲まれた第２の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１６０ｎｍ＜Ｌ＜１８０ｎｍである場合、
    　上記第１の領域の周辺Ｃ１を式（２１）と式（２４）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第２の領域の周辺Ｃ２を式（２６）と式（２８）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ２ｉとし、ΔＣ１ｉ、ΔＣ２ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる光学体。
    　α＝−０．００５β２＋０．０２７３β−０．０１４５　・・・（２１）
    　α＝０．００４３β２−０．０３３２β＋０．０７　・・・（２２）
    　β＝２．８７５　・・・（２３）
    　α＝−０．０００１β２＋０．００２５β＋０．００６２　・・・（２４）
    　α＝０．００５６７６　・・・（２５）
    　α＝−０．０１０３β２＋０．０４７β−０．０３２２　・・・（２６）
    　α＝０．００９３β２−０．０６７７β＋０．１２１２　・・・（２７）
    　α＝−０．０００３β２＋０．００３６β＋０．００４６　・・・（２８）
    　α＝０．００４９８　・・・（２９）
  7. 　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが８０ｎｍである場合、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（２）、式（３）および下記式（３０）で囲まれた第３の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが９０ｎｍである場合、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（６）、式（７）および下記式（３１）で囲まれた第４の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが８０ｎｍ＜Ｌ＜９０ｎｍである場合、
    　上記第３の領域の周辺Ｃ３を上記式（３）と式（３０）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ３ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第４の領域の周辺Ｃ４を上記式（７）と式（３１）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ４ｉとし、ΔＣ３ｉ、ΔＣ４ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる請求項１に記載の光学体。
    　α＝−６×１０−６β２＋０．０００２β＋０．０１４１　・・・（３０）
    　α＝−１×１０−５β２＋０．０００２β＋０．０１２５　・・・（３１）
  8. 　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが９０ｎｍである場合、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（６）、式（７）および下記式（３１）で囲まれた第３の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１００ｎｍである場合、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（１０）、式（１１）および下記式（３２）で囲まれた第４の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが９０ｎｍ＜Ｌ＜１００ｎｍである場合、
    　上記第３の領域の周辺Ｃ３を上記式（７）と式（３１）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ３ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第４の領域の周辺Ｃ４を上記式（１１）と式（３２）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ４ｉとし、ΔＣ３ｉ、ΔＣ４ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる請求項２に記載の光学体。
    　α＝−１×１０−５β２＋０．０００２β＋０．０１２５　・・・（３１）
    　α＝−３×１０−５β２＋０．０００４β＋０．０１１３　・・・（３２）
  9. 　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１００ｎｍである場合、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（１０）、式（１１）および下記式（３２）で囲まれた第３の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１２０ｎｍである場合、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（１４）、式（１５）および下記式（３３）で囲まれた第４の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１００ｎｍ＜Ｌ＜１２０ｎｍである場合、
    　上記第３の領域の周辺Ｃ３を上記式（１１）と式（３２）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ１ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第４の領域の周辺Ｃ４を上記式（１５）と式（３３）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ４ｉとし、ΔＣ３ｉ、ΔＣ４ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる請求項３に記載の光学体。
    　α＝−３×１０−５β２＋０．０００４β＋０．０１１３　・・・（３２）
    　α＝−７×１０−５β２＋０．０００７β＋０．００９７　・・・（３３）
  10. 　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１２０ｎｍである場合、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（１４）、式（１５）および下記式（３３）で囲まれた第３の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１４０ｎｍである場合、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（１８）、式（１９）および下記式（３４）で囲まれた第４の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１２０ｎｍ＜Ｌ＜１４０ｎｍである場合、
    　上記第３の領域の周辺Ｃ３を上記式（１５）と式（３３）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ３ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第４の領域の周辺Ｃ４を上記式（１９）と式（３４）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ４ｉとし、ΔＣ３ｉ、ΔＣ４ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる請求項４に記載の光学体。
    　α＝−７×１０−５β２＋０．０００７β＋０．００９７　・・・（３３）
    　α＝−０．０００１β２＋０．００１１β＋０．００８３　・・・（３４）
  11. 　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１４０ｎｍである場合、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（１８）、式（１９）および下記式（３４）で囲まれた第３の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１６０ｎｍである場合、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（２１）~式（２４）および下記式（３５）で囲まれた第４の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１４０ｎｍ＜Ｌ＜１６０ｎｍである場合、
    　上記第３の領域の周辺Ｃ３を上記式（１９）と式（３４）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ３ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第４の領域の周辺Ｃ４を上記式（２１）と式（３５）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ４ｉとし、ΔＣ３ｉ、ΔＣ４ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる請求項５に記載の光学体。
    　α＝−０．０００１β２＋０．００１１β＋０．００８３　・・・（３４）
    　α＝−０．０００２β２＋０．００１６β＋０．００６７　・・・（３５）
  12. 　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１６０ｎｍである場合、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（２１）~式（２４）および下記式（３５）で囲まれた第３の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１８０ｎｍである場合、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記式（２６）~式（２８）および下記式（３６）で囲まれた第４の領域に含まれ、
    　上記波長選択反射層全体の幾何膜厚Ｌが１６０ｎｍ＜Ｌ＜１８０ｎｍである場合、
    　上記第３の領域の周辺Ｃ３を上記式（２１）と式（３５）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ３ｉ（ｉは、０からｎの自然数）とし、上記第４の領域の周辺Ｃ４を上記式（２６）と式（３６）との交点を始点としてｎ等分に分割して形成される各微小辺をΔＣ４ｉとし、ΔＣ３ｉ、ΔＣ４ｉを両短辺とする矩形状の各微小領域をΔＳｉとしたとき、
    　上記比率αおよび上記比率βが、上記微小領域ΔＳｉからなる群により形成される周面Ｓで囲まれる領域に含まれる請求項６に記載の光学体。
    　α＝−０．０００２β２＋０．００１６β＋０．００６７　・・・（３５）
    　α＝−０．０００３β２＋０．００２１β＋０．００５５　・・・（３６）
  13. 　上記第１の光学層側および上記第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目および５層目の上記高屈折率層の膜厚が略等しく、かつ、２層目および４層目の上記金属層の膜厚が略等しい請求項１~６のいずれかに記載の光学体。
  14. 　上記高屈折率層は、上記金属層に対して高屈折率を有する請求項１~６のいずれかに記載の光学体。
  15. 　上記高屈折率層の屈折率が、１．７以上２．６以下である請求項１~６のいずれかに記載の光学体。
  16. 　上記高屈折率層は、酸化ニオブ、酸化亜鉛、酸化チタンおよび酸化タンタルからなる群より選ばれる少なくとも１種を含み、
    　上記金属層は、Ａｇ合金を含んでいる請求項１~６のいずれかに記載の光学体。
  17. 　請求項１~６のいずれかに記載の光学体を備える窓材。
  18. 　請求項１~６のいずれかに記載の光学体を採光部に備える建具。
  19. 　日射を遮蔽する１または複数の日射遮蔽部材を備え、
    　上記日射遮蔽部材が、請求項１~６のいずれかに記載の光学体を備える日射遮蔽装置。
PCT/JP2012/072085 2011-10-12 2012-08-24 光学体、窓材、建具および日射遮蔽装置 WO2013054605A1 (ja)

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