WO2012136512A2 - Method for producing a screen printing mold and solar cell produced therewith - Google Patents

Method for producing a screen printing mold and solar cell produced therewith Download PDF

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WO2012136512A2
WO2012136512A2 PCT/EP2012/055381 EP2012055381W WO2012136512A2 WO 2012136512 A2 WO2012136512 A2 WO 2012136512A2 EP 2012055381 W EP2012055381 W EP 2012055381W WO 2012136512 A2 WO2012136512 A2 WO 2012136512A2
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screen printing
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PCT/EP2012/055381
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Matthias SAUERESSIG
Renate ZAPF-GOTTWICK
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Universität Stuttgart
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/12Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0224Electrodes
    • H01L31/022408Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/022425Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
    • H01L31/022433Particular geometry of the grid contacts
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Definitions

  • the invention relates to a method for producing a screen printing form, which is particularly suitable for producing particularly fine structures in front side printing on solar cells. Furthermore, the invention relates to a screen printing form produced in this way and a solar cell printed in particular on the front side.
  • the metallization is carried out at the front in industrial manufacturing mainly by means of a screen printing process, which is a low-cost technology with high throughput.
  • the structure of a solar cell on the front corresponds to an H-shaped grid with narrow fingers which direct the current collected on the cell to wider bus bars. Since the tracks on the front of the solar cell contribute to the shading and thus deteriorate the efficiency of the solar cell, the tracks should be as narrow as possible on the front, on the other hand have a good electrical conductivity.
  • a disadvantage of screen printing is the ever-increasing influence of the screen mesh, the smaller the structures become. With structures as small as 100 microns or less, so-called “mesh marking" through the mesh becomes more and more prominent. This results in a wave-shaped image both in the width, as well as in the height of the structures. As a result, there are high finger and contact resistances and unnecessary consumption of the silver conductive paste for the front-side contacting.
  • Another application problem with screen printing on the front of solar cells is the printing of contact fingers with reflective color. If the contact grid on the front of the solar cell, no light can penetrate into the solar cell at this point. However, the light incident on the grating may be redirected to the cell by multiple reflection from the grating onto the modulus glass, which requires the printing of a reflective color, such as a white color. However, the viscosity of such colors is usually very low. During screen printing, the ink runs from the existing fingers onto the free area of the solar cell and thus leads to shading losses, which reduce the efficiency of the module.
  • the invention is therefore based on the object to provide a method for producing a screen printing form, which in particular fine structures can be printed, which are particularly suitable for the front side printing of solar cells.
  • a method for producing a screen printing form which in particular fine structures can be printed, which are particularly suitable for the front side printing of solar cells.
  • uniform as possible cross-sections with a high aspect ratio especially in fine line printing should be able to be generated.
  • This object is achieved by a method for producing a screen printing form, in particular for the front side printing on solar cells, in which on the surface of a screen, first a first template structure is generated, which defines a structure to be printed, and in which subsequently on the first Template structure is generated at least one further template structure, which is aligned with the previous template structure and together forms the screen printing form.
  • a larger EOM is made possible by the generation of a two- or multi-level stencil structure.
  • part of the stencil layer which builds up on the stencil carrier, ie on the screen, and whose thickness is the difference between the screen printing plate thickness and the screen thickness.
  • EOM Emersion Over Mesh
  • a more consistent print can be achieved and mesh marking can be reduced, especially when printing fine textures.
  • a recess for a line structure of the printed image to be generated has a greater width than in a previous template structure.
  • the width may be increased by at least about 5%, in particular at least 10%, preferably by at most 30%, more preferably by at most 20%.
  • a shape of a stencil structure can be produced during fine line printing continuous lines while avoiding the mesh markings.
  • the aspect ratio can be improved.
  • a stencil structure thus produced leads to a significant improvement in the electrical conductivity of the finger pressure on the front of solar cells or to avoid the mesh markings.
  • the pressure of narrower fingers is made possible, whereby a higher aspect ratio can be achieved.
  • a line structure in a preceding and a subsequent template structure can thus be widened in a pyramid-like manner.
  • the first template structure can be generated approximately with the following steps:
  • steps (a) to (d) may be repeated with the previous template structure serving as a support for the subsequent template structure.
  • the step (c) in this case preferably comprises covering the copy layer with a film original and the exposure.
  • a capillary film is a carrier film to which a prefabricated emulsion layer is applied with a constant thickness.
  • the capillary film can be applied to the previous stencil structure, whereby sufficient adhesion can be produced by moistening or by applying a small amount of emulsion.
  • the carrier film is removed after the application.
  • the invention is solved by a method for producing a screen printing form, in particular for the front side printing on solar cells, with the following steps:
  • the thixotropy of the printing paste can be utilized, i. E. the property of liquefying under pressure. It can thus reach more paste through the opening on the substrate surface to be printed through the funnel-shaped extension on the doctor side locally.
  • the first inclination angle in the first exposure step is preferably + ot and the second inclination angle in the second exposure step is -ot. This results in a symmetrical widening of the copy layer from the pressure side to the squeegee side on both sides.
  • the inclination angle ⁇ is at least 5 °, in particular at least 10 °, preferably at least 20 °, more preferably at least 30 °.
  • the inclination angle ⁇ is at most 70 °, in particular at most 60 °, particularly preferably at most 50 °.
  • the screen printing forme produced according to the invention for the production of contacts, in particular of fingers, used on the front of solar cells.
  • particularly fine fingers with a width of less than 80 micrometers, preferably in the range of 50 to 60 micrometers, or even lower, and with high electrical conductivity and a high aspect ratio can be produced hereby.
  • a screen printing plate produced according to the invention has a screen on which a template is provided, in which a recess in the template widened or tapers on a characteristic to be printed, starting from the screen to the printing side.
  • the recess of the template may be pyramid-shaped on a feature to be printed on the pressure side. to broaden like that. This embodiment results when the screen printing stencil is made in two layers or in multiple layers.
  • a recess in the template tapers at a feature to be printed obliquely to the pressure side.
  • This embodiment results when the screen printing form is made by utilizing double exposure in different directions as described above.
  • a solar cell produced according to the invention has fingers with a finger width of at most 70 micrometers, which have an aspect ratio of height to width of at least 1: 3.
  • a solar cell can further be produced, in which the fingers are printed with a color, in particular with a reflective color.
  • the ink is essentially applied only to the surface of the fingers and that bleeding is largely avoided.
  • Figure 1 is a view of a screen printing form according to the invention
  • Figure 2 is a partial perspective view of a silicon solar cell
  • FIG. 4e
  • Figure 5 is a partial view of the contacts on the front side of a silicon solar cell according to Figure 2, wherein in the lower part a cross section through a finger is shown in enlarged form, from which the aspect ratio is visible;
  • FIG. 6a, b) shows a section through an alternative embodiment of a screen printing form with the support of a film original with an indication of two different exposure steps according to FIG. 6a) and FIG. 6b);
  • FIG. 7 shows the screen printing form according to FIG. 6 after development
  • 8 shows a finger on an associated wafer for solar cell production, which can be produced with the screen printing form according to FIG. 7, and
  • FIG. 7 shows the screen printing form according to FIG. 6 after development
  • 8 shows a finger on an associated wafer for solar cell production, which can be produced with the screen printing form according to FIG. 7, and
  • FIG. 7 shows the screen printing form according to FIG. 6 after development
  • 8 shows a finger on an associated wafer for solar cell production, which can be produced with the screen printing form according to FIG. 7, and
  • FIG. 7 shows the screen printing form according to FIG. 6 after development
  • 8 shows a finger on an associated wafer for solar cell production, which can be produced with the screen printing form according to FIG. 7, and
  • FIG. 7 shows the screen printing form according to FIG. 6 after development
  • 8 shows a finger on an associated wafer for solar cell production, which can be produced with the screen printing form according to FIG. 7, and
  • FIG. 7 shows the screen printing form according
  • Figure 9 is a view of a conventional screen printing form with a sieve and a slot-shaped opening for the production of a finger, wherein in the right half a hereby generated finger is shown, wherein the mesh marking is visible.
  • a screen printing form according to the invention is shown schematically and generally designated by numeral 10.
  • the screen printing form 10 has a screen printing frame 12, which serves to attach a screen printing stencil carrier.
  • the frame is chosen depending on the screen used, the screen tension and the print motif.
  • the size of the frame 12 depends directly on the size of the print motif. With a certain distance of usually at least 150 millimeters to the frame is the doctor blade surface 16. Within the doctor blade surface 16 finally the template 18 is recorded, which reproduces the print motif.
  • the distance between the doctor blade surface 16 and the frame 12 is also called color rest.
  • the screen 14 may be made of a fabric, such as a PET fabric or steel wire (stainless steel).
  • a fabric such as a PET fabric or steel wire (stainless steel).
  • steel fabrics are used, since this finer structures can be achieved because they work with a lower thread size and can be used with a higher fabric tension.
  • Fig. 2 is a partial perspective view of a silicon solar cell is shown, which is generally designated 20.
  • the solar cell 20 has on its front side an emitter 22 (n-type), followed by a base layer 24 (p-type) to which a rear-side contact 26 made of aluminum is applied flatly.
  • front side contacts 28 are arranged on the front side, which have a H- form a shaped structure, with two bus bars 30 parallel to each other with a larger cross-section, from which extend starting on both sides fingers 32 with a much smaller cross-section.
  • the front side contacts 28 are made of a silver alloy. They should be as small as possible to avoid shading losses, but have sufficient electrical conductivity.
  • fingers with a width of about 80 to 100 micrometers and a height of 20 to 25 micrometers can be produced with conventional screen printing forms.
  • Fig. 3 shows the various phases in the production of a screen printing form according to the invention.
  • a first template structure 34 is produced on a wire 14 in a conventional manner.
  • a UV-sensitive emulsion is applied to the wire 14 and then dried.
  • the copying layer 36 thus produced is then irradiated with UV radiation in the wavelength range from 350 to 450 nanometers with the interposition of a film original which reproduces the printed pattern.
  • the monomers combine to form long-chain polymers and the copy layer 36 loses its solubility in the sense of solvent (water).
  • the copying layer 36 thus becomes water-insoluble in the impingement region of the radiation, while the places covered by the film template, ie the image plane locations, remain water-soluble.
  • a screen printing plate produced in this way with a first conventionally produced screen printing layer 34 is shown in cross section in FIG. 3a).
  • a second template structure is subsequently applied to this first template structure 34.
  • a spacer 38 can be applied on both sides on both sides to predetermine the desired application thickness when applying an emulsion.
  • the application thickness is 60 microns.
  • UV-sensitive emulsion is again applied with a doctor blade 40, so that a second copying layer 43 results.
  • the screen printing form is then dried with the print side up in a drying oven.
  • the second copy layer 43 has a thickness of about 25 microns, as shown in Fig. 3c). Subsequently, an exposure takes place again with high-energy UV radiation with the interposition of a film original 44, which must be precisely aligned with respect to the structure previously generated in the first template structure 34.
  • the basic production corresponds to the previously explained with reference to FIG. 3 steps.
  • Fig. 4a shows a cross section through a screen printing form in which on the screen 14, a first template structure 34 has been produced in the conventional manner described above.
  • a second stencil structure 42 is applied thereto, which forms a second copying layer 43.
  • a second film original 44 is precisely aligned and subsequently exposed to UV radiation.
  • the second film original 44 is preferably designed so that it has a slightly larger width at a line-shaped recess 52 than the associated recess 50 in the first template structure 34.
  • the first recess 50 could have a width of 50 microns
  • the second Recess 52 has a width of about 60 microns, as dashed lines in Fig. 4c) and 4d) is indicated.
  • FIG. 4e shows a finger structure 48 produced with such a screen printing form 10 'on a substrate 46.
  • the result is a structure sharply defined at the edges, avoiding bleeding with a good aspect ratio.
  • a section of the front side contacting is shown schematically in the upper part, with a bus bar 30 and fingers 32 extending therefrom.
  • the fingers have a width w.
  • a cross section through one of the fingers 32 is shown enlarged.
  • the width of the finger is w, while the height is h.
  • an aspect ratio of about 0.4 can be achieved for an actual finger width of 50 micrometers. This represents a significant improvement over screen printing with conventional screen printing forms.
  • the screen printing form 10 " is produced in one stage in contrast to the previously described screen printing form.
  • a UV-sensitive emulsion is first applied in the usual way in order to produce a copying layer 36 ", followed by the usual drying step in the drying oven.
  • a first film original 44 is placed on the surface of the copy layer 36".
  • the exposure is subsequently not effected with a single exposure step with vertically incident light, but in two successive exposure steps with obliquely incident UV radiation.
  • the UV radiation is directed obliquely from the right onto the first film original 44 ", so that an angle of inclination ⁇ of approximately 45 ° results to the right with respect to the vertical , wider film original 44 "'launched (Fig. 6a)).
  • the second film original 44 "'prevents the UV radiation in the area to be developed later on the one side .
  • the incident radiation is indicated by solid lines.
  • the second film original 44 "' is shifted to the other side to prevent the incidence of radiation on the other side.”
  • the incident UV radiation is tilted at the angle -a from the vertical, ie 45 ° in the opposite direction ( Figure 6b).) Behind the film master 44 ", a V-shaped region of the master copy 36", which was not irradiated, thus results behind a recess 54 in the original film 44 ".
  • a screen printing form 10 "results as shown in FIG. 7, which has a V-shaped recess, which increases from the pressure side to the doctor side. If such a screen printing form 10 "is used in order to produce a fine structure, the thixotropic property is advantageously utilized, in particular when printing silver pastes on solar cells, in order to be able to produce particularly fine structures, since openings are formed in the area of the funnel-shaped widened opening liquefaction of the screen printing paste results, which leads to a higher material output in this area and thus enables printing of fine structures with a high aspect ratio.

Abstract

The invention relates to a method for producing a screen printing mold (10), in particular for the face printing of solar cells (20), in which first a first stencil structure (34) is generated on the surface of a screen (14), said stencil structure defining a structure to be printed, and in which subsequently at least one further stencil structure (42) is generated on the first stencil structure (34), said further stencil structure being aligned with the previous stencil structure (34) and forming the screen printing mold together therewith.

Description

Verfahren zur Herstellung einer Siebdruckform und damit hergestellte Solarzelle  Process for producing a screen printing form and solar cell produced therewith
[0001] Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Siebdruckform, die insbesondere dazu geeignet ist, um beim Vorderseitendruck auf Solarzellen besonders feine Strukturen zu erzeugen. Ferner betrifft die Erfindung eine solchermaßen hergestellte Siebdruckform und eine insbesondere auf der Vorderseite bedruckte Solarzelle. The invention relates to a method for producing a screen printing form, which is particularly suitable for producing particularly fine structures in front side printing on solar cells. Furthermore, the invention relates to a screen printing form produced in this way and a solar cell printed in particular on the front side.
[0002] Bei der Herstellung von kristallinen Silizium-Solarzellen erfolgt die Metallisierung an der Vorderseite in der industriellen Fertigung überwiegend mittels eines Siebdruckverfahrens, wobei es sich um eine kostengünstige Technologie mit hohem Durchsatz handelt. [0003] Die Struktur einer Solarzelle auf der Vorderseite entspricht einem H- förmigen Gitter mit schmalen Fingerleitern (fingers), die den auf der Zelle gesammelten Strom auf breitere Stromsammeischienen (bus bars) leiten. Da die Leiterbahnen auf der Vorderseite der Solarzelle zur Abschattung beitragen und somit den Wirkungsgrad der Solarzelle verschlechtern, sollten die Leiterbahnen auf der Vorderseite so schmal wie möglich sein, andererseits eine gute elektrische Leitfähigkeit aufweisen. In the production of crystalline silicon solar cells, the metallization is carried out at the front in industrial manufacturing mainly by means of a screen printing process, which is a low-cost technology with high throughput. The structure of a solar cell on the front corresponds to an H-shaped grid with narrow fingers which direct the current collected on the cell to wider bus bars. Since the tracks on the front of the solar cell contribute to the shading and thus deteriorate the efficiency of the solar cell, the tracks should be as narrow as possible on the front, on the other hand have a good electrical conductivity.
[0004] Ein Nachteil beim Siebdruck ist der immer größer werdende Einfluss des Siebgewebes, je kleiner die Strukturen werden. Bei Strukturen in der Größe von 100 Mikrometer oder darunter rückt das sogenannte "mesh marking" durch das Siebgewebe mehr und mehr in den Vordergrund. Es ergibt sich eine wellenförmige Abbildung sowohl in der Breite, als auch in der Höhe der Strukturen. Als Folge davon ergeben sich hohe Finger- und Kontaktwiderstände und ein unnötiger Verbrauch der Silberleitpaste für die Vorderseitenkontaktierung. A disadvantage of screen printing is the ever-increasing influence of the screen mesh, the smaller the structures become. With structures as small as 100 microns or less, so-called "mesh marking" through the mesh becomes more and more prominent. This results in a wave-shaped image both in the width, as well as in the height of the structures. As a result, there are high finger and contact resistances and unnecessary consumption of the silver conductive paste for the front-side contacting.
[0005] Ein weiteres Anwendungsproblem beim Siebdruck auf der Vorderseite von Solarzellen besteht in der Bedruckung von Kontaktfingern mit reflektierender Farbe. Liegt das Kontaktgitter auf der Vorderseite der Solarzelle, kann an dieser Stelle kein Licht in die Solarzelle eindringen. Jedoch kann das auf das Gitter auftreffende Licht durch Mehrfachreflexion vom Gitter auf das Modulglas wieder auf die Zelle gelenkt werden, wozu das Aufdrucken einer reflektierenden Farbe, etwa einer weißen Farbe, erforderlich ist. Allerdings ist die Viskosität bei derartigen Farben in der Regel sehr niedrig. Die Farbe verläuft beim Siebdruck von den vorhandenen Fingern auf die freie Fläche der Solarzelle und führt somit zu Abschattungsverlusten, die den Wirkungsgrad des Moduls reduzieren. Another application problem with screen printing on the front of solar cells is the printing of contact fingers with reflective color. If the contact grid on the front of the solar cell, no light can penetrate into the solar cell at this point. However, the light incident on the grating may be redirected to the cell by multiple reflection from the grating onto the modulus glass, which requires the printing of a reflective color, such as a white color. However, the viscosity of such colors is usually very low. During screen printing, the ink runs from the existing fingers onto the free area of the solar cell and thus leads to shading losses, which reduce the efficiency of the module.
[0006] Mit der bisherigen Siebdrucktechnologie für Solarzellen können Finger in der Breite von etwa 80 bis 100 Mikrometer und einer Höhe von etwa 20 bis 25 Mikrometer hergestellt werden, wobei sich also ein Aspektverhältnis von Höhe zu Breite von höchstens etwa 0,31 ergibt. Vorteilhaft wären jedoch schmalere Finger mit einem dennoch geringen elektrischen Widerstand, was ein höheres Aspektverhältnis voraussetzt. With the previous screen printing technology for solar cells fingers can be made in the width of about 80 to 100 microns and a height of about 20 to 25 microns, so that an aspect ratio of height to width of at most about 0.31 results. However, narrower fingers would be advantageous yet low electrical resistance, which requires a higher aspect ratio.
[0007] Um einen Feinliniendruck zu verwirklichen, könnte ein Mehrfachdruck der elektrisch leitfähigen Paste ausgeführt werden, was bislang jedoch industriell wenig verwendet wird. Hierzu wäre ein größerer apparativer Aufwand erforderlich, nämlich eine weitere Siebdruckeinrichtung und ein weiterer Trockner. In order to realize a fine line printing, a multiple printing of the electrically conductive paste could be carried out, which has been used industrially but little so far. For this purpose, a greater amount of equipment would be required, namely another screen printing device and another dryer.
[0008] Der Erfindung liegt somit die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung einer Siebdruckform anzugeben, womit insbesondere Feinstrukturen gedruckt werden können, die insbesondere für den Vorderseitendruck von Solarzellen geeignet sind. Hierbei sollen möglichst gleichmäßige Querschnitte mit hohem Aspektverhältnis insbesondere im Feinliniendruck erzeugt werden können. The invention is therefore based on the object to provide a method for producing a screen printing form, which in particular fine structures can be printed, which are particularly suitable for the front side printing of solar cells. In this case, as uniform as possible cross-sections with a high aspect ratio, especially in fine line printing should be able to be generated.
[0009] Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren zur Herstellung einer Siebdruckform gelöst, insbesondere für den Vorderseitendruck auf Solarzellen, bei dem auf der Oberfläche eines Siebes zunächst eine erste Schablonenstruktur erzeugt wird, die eine zu druckende Struktur definiert, und bei dem anschließend auf der ersten Schablonenstruktur zumindest eine weitere Schablonenstruktur erzeugt wird, die mit der vorherigen Schablonenstruktur ausgerichtet ist und gemeinsam damit die Siebdruckform bildet. This object is achieved by a method for producing a screen printing form, in particular for the front side printing on solar cells, in which on the surface of a screen, first a first template structure is generated, which defines a structure to be printed, and in which subsequently on the first Template structure is generated at least one further template structure, which is aligned with the previous template structure and together forms the screen printing form.
[0010] Die Aufgabe der Erfindung wird auf diese Weise vollkommen gelöst. The object of the invention is completely solved in this way.
[0011] Erfindungsgemäß wird durch die Erzeugung einer zwei- oder mehrstufigen Schablonenstruktur eine größere EOM (Emersion Over Mesh) ermöglicht. Hiermit ist der Teil der Schablonenschicht gemeint, der sich auf dem Schablonenträger, das heißt auf dem Sieb, aufbaut und dessen Dicke sich als Differenz zwischen Siebdruckform-Dicke und Siebdicke darstellt. Mit einem größeren EOM lässt sich ein gleichmäßigerer Druck verwirklichen und das mesh marking lässt sich insbesondere beim Drucken von feinen Strukturen reduzieren. [0012] In bevorzugter Weiterbildung der Erfindung weist bei einer nachfolgenden Schablonenstruktur eine Ausnehmung für eine zu erzeugende Linienstruktur des Druckbildes eine größere Breite als bei einer vorherigen Schablonenstruktur auf. According to the invention a larger EOM (Emersion Over Mesh) is made possible by the generation of a two- or multi-level stencil structure. By this is meant that part of the stencil layer which builds up on the stencil carrier, ie on the screen, and whose thickness is the difference between the screen printing plate thickness and the screen thickness. With a larger EOM, a more consistent print can be achieved and mesh marking can be reduced, especially when printing fine textures. In a preferred embodiment of the invention, in a subsequent template structure, a recess for a line structure of the printed image to be generated has a greater width than in a previous template structure.
[0013] Hierbei kann die Breite etwa mindestens um 5 %, insbesondere mindestens 10 %, bevorzugt um höchstens 30 %, weiter bevorzugt um höchstens 20 % vergrößert sein. In this case, the width may be increased by at least about 5%, in particular at least 10%, preferably by at most 30%, more preferably by at most 20%.
[0014] Mit einer derartigen Form einer Schablonenstruktur lassen sich auch beim Feinliniendruck durchgehende Linien unter Vermeidung des mesh markings erzeugen. Gleichfalls kann das Aspektverhältnis verbessert werden. Insgesamt führt eine so erzeugte Schablonenstruktur zu einer deutlichen Verbesserung der elektrischen Leitfähigkeit beim Fingerdruck auf der Vorderseite von Solarzellen bzw. zur Vermeidung des mesh markings. Gleichzeitig wird der Druck von schmaleren Fingern ermöglicht, wobei ein höheres Aspektverhältnis erreicht werden kann. Eine Linienstruktur in einer vorhergehenden und einer nachfolgenden Schablonenstruktur können somit pyramidenartig verbreitert sein. With such a shape of a stencil structure can be produced during fine line printing continuous lines while avoiding the mesh markings. Likewise, the aspect ratio can be improved. Overall, a stencil structure thus produced leads to a significant improvement in the electrical conductivity of the finger pressure on the front of solar cells or to avoid the mesh markings. At the same time, the pressure of narrower fingers is made possible, whereby a higher aspect ratio can be achieved. A line structure in a preceding and a subsequent template structure can thus be widened in a pyramid-like manner.
[0015] Mit einer derartigen Ausgestaltung einer Siebdruckform kann gleichzeitig das Problem des sogenannten "bleedings", das heißt des Ausblutens der Druckstruktur an den Rändern reduziert werden. With such a configuration of a screen printing form can be reduced at the same time the problem of so-called "bleeding", that is, the bleeding of the print structure at the edges.
[0016] Die erste Schablonenstruktur kann etwa mit den folgenden Schritten erzeugt werden: The first template structure can be generated approximately with the following steps:
(a) Auftragen einer lichtempfindlichen Kopierschicht auf die Oberfläche eines Trägers, das heißt eines Siebes;  (a) applying a photosensitive copy layer to the surface of a support, ie, a screen;
(b) Trocknen der Kopierschicht;  (b) drying the copy layer;
(c) Belichten der Kopierschicht mit einer zu druckenden Struktur;  (c) exposing the copy layer to a structure to be printed;
(d) Entwickeln der Kopierschicht. [0017] Bei der nachfolgenden Herstellung einer weiteren Schablonenstruktur müssen die übereinander zu erzeugenden Schablonenstrukturen vor der Belichtung genau ausgerichtet werden. Sodann können die Schritte (a) bis (d) wiederholt werden, wobei die vorherige Schablonenstruktur als Träger für die nachfolgende Schablonenstruktur dient. (d) developing the copy layer. In the subsequent production of a further stencil structure, the stencil structures to be produced one above the other must be exactly aligned before the exposure. Then, steps (a) to (d) may be repeated with the previous template structure serving as a support for the subsequent template structure.
[0018] Der Schritt (c) umfasst hierbei vorzugsweise das Abdecken der Kopierschicht mit einer Filmvorlage und die Belichtung. The step (c) in this case preferably comprises covering the copy layer with a film original and the exposure.
[0019] Anstelle der Variante der Herstellung der Siebdruckform im Direktverfahren, bei dem eine Emulsion direkt auf das Sieb appliziert wird, kann auch ein sogenannter Kapillarfilm appliziert werden, woran sich dann die üblichen Schritte der Trocknung, Belichtung und Entwicklung anschließen, um eine nachfolgende Schablonenstruktur zu erzeugen. Instead of the variant of the production of the screen printing in the direct process, in which an emulsion is applied directly to the screen, and a so-called capillary film can be applied, then followed by the usual steps of drying, exposure and development followed by a subsequent stencil structure to create.
[0020] Bei einem Kapillarfilm handelt es sich um eine Trägerfolie, auf die eine vorgefertigte Emulsionsschicht mit konstanter Dicke appliziert ist. Der Kapillarfilm kann auf die vorherige Schablonenstruktur aufgetragen werden, wobei durch Befeuchtung oder durch Auftragen einer geringen Emulsionsmenge eine ausreichende Haftung erzeugt werden kann. Die Trägerfolie wird nach der Applikation entfernt. In a capillary film is a carrier film to which a prefabricated emulsion layer is applied with a constant thickness. The capillary film can be applied to the previous stencil structure, whereby sufficient adhesion can be produced by moistening or by applying a small amount of emulsion. The carrier film is removed after the application.
[0021] In alternativer Weise wird die Erfindung durch ein Verfahren zur Herstellung einer Siebdruckform, insbesondere für den Vorderseitendruck auf Solarzellen, mit den folgenden Schritten gelöst: Alternatively, the invention is solved by a method for producing a screen printing form, in particular for the front side printing on solar cells, with the following steps:
(a) Applizieren einer lichtempfindlichen Kopierschicht auf die Oberfläche eines Siebes;  (a) applying a photosensitive copy layer to the surface of a screen;
(b) Trocknen der Kopierschicht;  (b) drying the copy layer;
(c) Abdecken der Kopierschicht mit einer Filmvorlage, die eine zu druckende Struktur definiert;  (c) covering the copy layer with a film original defining a structure to be printed;
(d) Abdecken der Kopierschicht mit einer zweiten Filmvorlage seitlich versetzt zur ersten Filmvorlage; (e) Belichten der Kopierschicht in einem ersten Belichtungsschritt mit einem in Bezug auf die Kopierschicht gegenüber einem senkrechten Einfallswinkel um einen ersten Neigungswinkel zu einer ersten Seite hin geneigten Einfallswinkel; (D) covering the copy layer with a second film original laterally offset from the first film original; (e) exposing the copying layer in a first exposure step with an angle of incidence inclined with respect to the copying layer from a perpendicular angle of incidence by a first angle of inclination to a first side;
(f) Verschieben der zweiten Filmvorlage zur anderen Seite hin;  (f) moving the second film original to the other side;
(g) Belichten der Kopierschicht in einem zweiten Belichtungsschritt mit einem gegenüber einem senkrechten Einfallswinkel um einen zweiten Neigungswinkel zu einer der ersten Seite gegenüber liegenden zweiten Seite hin geneigten Einfallswinkel;  (g) exposing the copying layer in a second exposure step with an angle of incidence inclined to a vertical angle of incidence by a second angle of inclination to a second side opposite the first side;
(h) Entwickeln der Kopierschicht.  (h) developing the copy layer.
[0022] Auch auf diese Weise wird die Aufgabe der Erfindung vollkommen gelöst. Also in this way the object of the invention is completely solved.
[0023] Erfindungsgemäß werden nämlich durch die Belichtung der Kopierschicht in zwei Belichtungsschritten mit schrägen Einfallswinkeln, die gegenüber der Senkrechten zu unterschiedlichen Seiten hin geneigt sind, in der Kopierschicht schräge Kanten erzeugt. Nach dem Entwickeln und nachfolgendem Auswaschen verbleiben so geneigte Seitenränder. According to the invention namely by the exposure of the copy layer in two exposure steps with oblique angles of incidence, which are inclined relative to the vertical to different sides, generated in the copy layer oblique edges. After development and subsequent washing left as inclined side edges.
[0024] Beim nachfolgenden Drucken unter Benutzung einer solchen Siebdruckform kann die Thixotropie der Druckpaste genutzt werden, d.h. die Eigenschaft, sich unter Druckeinwirkung zu verflüssigen. Es kann so durch die trichterförmige Erweiterung auf der Rakelseite lokal mehr Paste durch die Öffnung auf die zu bedruckende Substratoberfläche gelangen. In the subsequent printing using such a screen printing form, the thixotropy of the printing paste can be utilized, i. E. the property of liquefying under pressure. It can thus reach more paste through the opening on the substrate surface to be printed through the funnel-shaped extension on the doctor side locally.
[0025] Dies erlaubt es insbesondere im Feinliniendruck sehr feine Strukturen unter Vermeidung von mesh marking zu erzeugen. This makes it possible, in particular in fine line printing to produce very fine structures while avoiding mesh marking.
[0026] Vorzugsweise beträgt hierbei der erste Neigungswinkel im ersten Belichtungsschritt +ot und der zweite Neigungswinkel im zweiten Belichtungsschritt -ot. [0027] Damit ergibt sich auf beiden Seiten eine symmetrische Aufweitung der Kopierschicht von der Druckseite zur Rakelseite hin. In this case, the first inclination angle in the first exposure step is preferably + ot and the second inclination angle in the second exposure step is -ot. This results in a symmetrical widening of the copy layer from the pressure side to the squeegee side on both sides.
[0028] Bevorzugt beträgt der Neigungswinkel α mindestens 5°, insbesondere mindestens 10°, bevorzugt mindestens 20°, weiter bevorzugt mindestens 30°. Preferably, the inclination angle α is at least 5 °, in particular at least 10 °, preferably at least 20 °, more preferably at least 30 °.
[0029] Weiter bevorzugt beträgt der Neigungswinkel α höchstens 70°, insbesondere höchstens 60°, besonders bevorzugt höchstens 50°. More preferably, the inclination angle α is at most 70 °, in particular at most 60 °, particularly preferably at most 50 °.
[0030] Mit einem derartigen Neigungswinkel gegenüber der Senkrechten ergeben sich besonders günstige Verhältnisse beim späteren Siebdruck. With such a tilt angle relative to the vertical, particularly favorable conditions result in the later screen printing.
[0031] Vorzugsweise wird die erfindungsgemäß hergestellte Siebdruckform zur Herstellung von Kontakten, insbesondere von Fingern, auf der Vorderseite von Solarzellen verwendet. Preferably, the screen printing forme produced according to the invention for the production of contacts, in particular of fingers, used on the front of solar cells.
[0032] Wie bereits vorstehend erläutert, können hiermit besonders feine Finger mit einer Breite von weniger als 80 Mikrometer, vorzugsweise im Bereich von 50 bis 60 Mikrometer, oder noch geringer, und mit hoher elektrischer Leitfähigkeit und einem hohen Aspektverhältnis erzeugt werden. As already explained above, particularly fine fingers with a width of less than 80 micrometers, preferably in the range of 50 to 60 micrometers, or even lower, and with high electrical conductivity and a high aspect ratio can be produced hereby.
[0033] Gleichzeitig kann hierbei das bleeding, d.h. das Ausfransen der Finger an den Rändern weitgehend reduziert werden und der Pastenverbrauch minimiert werden. At the same time, bleeding, i. the fraying of the fingers at the edges are largely reduced and the paste consumption is minimized.
[0034] Eine erfindungsgemäß hergestellte Siebdruckform weist ein Sieb auf, auf dem eine Schablone vorgesehen ist, bei der sich eine Ausnehmung in der Schablone an einem zu druckenden Merkmal ausgehend vom Sieb zur Druckseite hin verbreitert oder verjüngt. Bei einer ersten Variante kann sich hierbei die Ausnehmung der Schablone an einem zu druckenden Merkmal zur Druckseite hin pyrami- denartig verbreitern. Diese Ausführung ergibt sich, wenn die Siebdruckschablone zweischichtig oder mehrschichtig hergestellt ist. A screen printing plate produced according to the invention has a screen on which a template is provided, in which a recess in the template widened or tapers on a characteristic to be printed, starting from the screen to the printing side. In a first variant, the recess of the template may be pyramid-shaped on a feature to be printed on the pressure side. to broaden like that. This embodiment results when the screen printing stencil is made in two layers or in multiple layers.
[0035] Gemäß einer weiteren Ausführung der Erfindung verjüngt sich eine Ausnehmung in der Schablone an einem zu druckenden Merkmal schräg zur Druckseite hin. According to a further embodiment of the invention, a recess in the template tapers at a feature to be printed obliquely to the pressure side.
[0036] Diese Ausführung ergibt sich, wenn die Siebdruckform unter Ausnutzung von zweifacher Belichtung mit verschiedenen Richtungen hergestellt wird, wie vorstehend beschrieben. This embodiment results when the screen printing form is made by utilizing double exposure in different directions as described above.
[0037] Eine erfindungsgemäß hergestellte Solarzelle weist Finger mit einer Fingerbreite von höchstens 70 Mikrometern auf, die ein Aspektverhältnis von Höhe zu Breite von mindestens 1:3 aufweisen. A solar cell produced according to the invention has fingers with a finger width of at most 70 micrometers, which have an aspect ratio of height to width of at least 1: 3.
[0038] Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren kann ferner eine Solarzelle hergestellt werden, bei der die Finger mit einer Farbe, insbesondere mit einer reflektierenden Farbe, bedruckt sind. With the method according to the invention, a solar cell can further be produced, in which the fingers are printed with a color, in particular with a reflective color.
[0039] Durch die erfindungsgemäße Siebdruckform wird hierbei gewährleistet, dass die Farbe im Wesentlichen nur auf die Oberfläche der Finger appliziert wird und dass ein Verlaufen weitgehend vermieden wird. In this case, it is ensured by the screen printing form according to the invention that the ink is essentially applied only to the surface of the fingers and that bleeding is largely avoided.
[0040] Es versteht sich, dass die vorstehend genannten und die nachstehend noch zu erläuternden Merkmale der Erfindung nicht nur in der jeweils angegebenen Kombination, sondern auch in anderen Kombinationen oder in Alleinstellung der Erfindung verwendbar sind, ohne den Rahmen der Erfindung zu verlassen. It is understood that the above-mentioned and the features of the invention to be explained below not only in the combination, but also in other combinations or in isolation of the invention can be used without departing from the scope of the invention.
[0041] Weitere Merkmale und Vorteile der der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele unter Bezugnahme auf die Zeichnung. Es zeigen: Figur 1 eine Ansicht einer erfindungsgemäßen Siebdruckform; Figur 2 eine perspektivische Teildarstellung einer Silizium-Solarzelle; Figur 3 a) bis c) Further features and advantages of the invention will become apparent from the following description of preferred embodiments with reference to the drawings. Show it: Figure 1 is a view of a screen printing form according to the invention; Figure 2 is a partial perspective view of a silicon solar cell; FIG. 3 a) to c)
einen Schnitt durch eine erfindungsgemäße Siebdruckform in verschiedenen Phasen der Herstellung;  a section through a screen printing form according to the invention in different stages of production;
Figur 4a) bis d) FIGS. 4a) to d)
einen Schnitt durch eine erfindungsgemäß hergestellte Siebdruckform in verschiedenen Phasen der Herstellung, in leicht abgewandelter Ausführung gegenüber Figur 3;  a section through a screen printing plate produced according to the invention in different stages of production, in a slightly modified version with respect to Figure 3;
Figur 4e) FIG. 4e)
einen zugeordneten Finger auf einem Wafer zur Solarzellenherstellung, der mittels der Siebdruckform gedruckt wurde;  an associated finger on a wafer for solar cell production printed by the screen printing form;
Figur 5 eine Teilansicht der Kontakte auf der Vorderseite einer Silizium- Solarzelle gemäß Figur 2, wobei im unteren Teil ein Querschnitt durch einen Finger in vergrößerter Form dargestellt ist, woraus das Aspektverhältnis ersichtlich ist; Figure 5 is a partial view of the contacts on the front side of a silicon solar cell according to Figure 2, wherein in the lower part a cross section through a finger is shown in enlarged form, from which the aspect ratio is visible;
Figur 6a,b) einen Schnitt durch eine alternative Ausführungsform einer Siebdruckform unter Auflage einer Filmvorlage mit Andeutung von zwei verschiedenen Belichtungsschritten gemäß Fig. 6a) und Fig. 6b); 6a, b) shows a section through an alternative embodiment of a screen printing form with the support of a film original with an indication of two different exposure steps according to FIG. 6a) and FIG. 6b);
Figur 7 die Siebdruckform gemäß Figur 6 nach dem Entwickeln; Figur 8 einen Finger auf einem zugeordneten Wafer zur Solarzellenherstellung, der mit der Siebdruckform gemäß Figur 7 herstellbar ist und FIG. 7 shows the screen printing form according to FIG. 6 after development; 8 shows a finger on an associated wafer for solar cell production, which can be produced with the screen printing form according to FIG. 7, and FIG
Figur 9 eine Ansicht einer herkömmlichen Siebdruckform mit Sieb und einer schlitzförmigen Öffnung zur Erzeugung eines Fingers, wobei in der rechten Hälfte ein hiermit erzeugter Finger dargestellt ist, wobei das mesh marking ersichtlich ist. Figure 9 is a view of a conventional screen printing form with a sieve and a slot-shaped opening for the production of a finger, wherein in the right half a hereby generated finger is shown, wherein the mesh marking is visible.
[0042] In Fig. 1 ist eine erfindungsgemäße Siebdruckform schematisch dargestellt und insgesamt mit Ziffer 10 bezeichnet. Die Siebdruckform 10 weist einen Siebdruckrahmen 12 auf, der der Befestigung eines Siebdruckschablonenträgers dient. Während des Druckprozesses entstehen durch das Rakeln hohe mechanische Belastungen auf das Sieb und den Rahmen. Deshalb wird der Rahmen in Abhängigkeit des verwendeten Siebes, der Siebspannung und des Druckmotivs gewählt. Die Größe des Rahmens 12 hängt unmittelbar von der Größe des Druckmotivs ab. Mit einem gewissen Abstand von in der Regel mindestens 150 Millimeter zum Rahmen befindet sich die Rakelfläche 16. Innerhalb der Rakelfläche 16 ist schließlich die Schablone 18 aufgenommen, die das Druckmotiv wiedergibt. Der Abstand zwischen der Rakelfläche 16 und dem Rahmen 12 wird auch Farbruhe genannt. In Fig. 1, a screen printing form according to the invention is shown schematically and generally designated by numeral 10. The screen printing form 10 has a screen printing frame 12, which serves to attach a screen printing stencil carrier. During the printing process, high mechanical stress on the screen and the frame is caused by the doctoring. Therefore, the frame is chosen depending on the screen used, the screen tension and the print motif. The size of the frame 12 depends directly on the size of the print motif. With a certain distance of usually at least 150 millimeters to the frame is the doctor blade surface 16. Within the doctor blade surface 16 finally the template 18 is recorded, which reproduces the print motif. The distance between the doctor blade surface 16 and the frame 12 is also called color rest.
[0043] Das Sieb 14 kann aus einem Gewebe, etwa einem PET-Gewebe oder aus Stahldraht (Edelstahl) bestehen. Im technischen Siebdruck werden meist Stahlgewebe verwendet, da sich hiermit feinere Strukturen erzielen lassen, da sie mit einer geringeren Fadenstärke auskommen und mit einer höheren Gewebespannung eingesetzt werden können. The screen 14 may be made of a fabric, such as a PET fabric or steel wire (stainless steel). In technical screen printing usually steel fabrics are used, since this finer structures can be achieved because they work with a lower thread size and can be used with a higher fabric tension.
[0044] In Fig. 2 ist eine perspektivische Teilansicht einer Silizium-Solarzelle gezeigt, die insgesamt mit 20 bezeichnet ist. Die Solarzelle 20 weist an ihrer Vorderseite einen Emitter 22 (n-Typ) auf, gefolgt von einer Basisschicht 24 (p-Typ), auf die ein Rückseitenkontakt 26 bestehend aus Aluminium flächig aufgebracht ist. Auf dem Emitter 22 sind an der Vorderseite Vorderseitenkontakte 28 angeordnet, die eine H- förmige Struktur bilden, mit zwei zueinander parallelen bus bars 30 mit größerem Querschnitt, von denen ausgehend sich zu beiden Seiten hin Finger 32 mit deutlich kleinerem Querschnitt erstrecken. Die Vorderseitenkontakte 28 bestehen aus einer Silberlegierung. Sie sollten zwecks einer Vermeidung von Abschattungsverlusten eine so geringe Fläche wie möglich einnehmen, jedoch eine ausreichende elektrische Leitfähigkeit aufweisen. In Fig. 2 is a partial perspective view of a silicon solar cell is shown, which is generally designated 20. The solar cell 20 has on its front side an emitter 22 (n-type), followed by a base layer 24 (p-type) to which a rear-side contact 26 made of aluminum is applied flatly. On the emitter 22 front side contacts 28 are arranged on the front side, which have a H- form a shaped structure, with two bus bars 30 parallel to each other with a larger cross-section, from which extend starting on both sides fingers 32 with a much smaller cross-section. The front side contacts 28 are made of a silver alloy. They should be as small as possible to avoid shading losses, but have sufficient electrical conductivity.
[0045] Mit herkömmlichen Siebdruckformen können bislang Finger mit einer Breite von etwa 80 bis 100 Mikrometer und einer Höhe von 20 bis 25 Mikrometer hergestellt werden. So far, fingers with a width of about 80 to 100 micrometers and a height of 20 to 25 micrometers can be produced with conventional screen printing forms.
[0046] Wird versucht, mit herkömmlichen Siebdruckformen schmalere Finger zu drucken, so tritt mesh marking auf, wie dies in Fig. 9 verdeutlicht ist, was bis zu Fingerunterbrechungen und hohen elektrischen Widerständen führen kann. If attempts are made to print narrower fingers with conventional screen printing forms, mesh marking occurs, as is illustrated in FIG. 9, which can lead to finger interruptions and high electrical resistances.
[0047] Mit einer erfindungsgemäßen Siebdruckform 10 können nunmehr deutlich schmalere Finger 32 mit einer Breite von 60 Mikrometer oder weniger und einem Aspektverhältnis von 0,3 oder mehr hergestellt werden. Gleichzeitig kann das mesh marking vermieden werden. With a screen printing form 10 according to the invention, significantly narrower fingers 32 having a width of 60 micrometers or less and an aspect ratio of 0.3 or more can now be produced. At the same time, the mesh marking can be avoided.
[0048] Fig. 3 zeigt die verschiedenen Phasen bei der Herstellung einer erfindungsgemäßen Siebdruckform. Fig. 3 shows the various phases in the production of a screen printing form according to the invention.
[0049] Gemäß Fig. 3a) wird zunächst eine erste Schablonenstruktur 34 auf einem Sieb 14 in herkömmlicher Weise erzeugt. Hierzu wird eine UV-empfindliche Emulsion auf das Sieb 14 aufgetragen und anschließend getrocknet. Die so erzeugte Kopierschicht 36 wird dann unter Zwischenlage einer Filmvorlage, die das Druckmuster wiedergibt, mit UV-Strahlung im Wellenlängenbereich von 350 bis 450 Nanome- ter bestrahlt. Hierbei verbinden sich die Monomere zu langkettigen Polymeren und die Kopierschicht 36 verliert ihre Löslichkeit im Sinne von Lösemittel (Wasser). Die Kopierschicht 36 wird somit im Auftreffbereich der Strahlung wasserunlöslich, während die Stellen, die von der Filmvorlage abgedeckt sind, also die Bildebenenstellen, wasserlöslich bleiben. According to Fig. 3a), first a first template structure 34 is produced on a wire 14 in a conventional manner. For this purpose, a UV-sensitive emulsion is applied to the wire 14 and then dried. The copying layer 36 thus produced is then irradiated with UV radiation in the wavelength range from 350 to 450 nanometers with the interposition of a film original which reproduces the printed pattern. Here, the monomers combine to form long-chain polymers and the copy layer 36 loses its solubility in the sense of solvent (water). The copying layer 36 thus becomes water-insoluble in the impingement region of the radiation, while the places covered by the film template, ie the image plane locations, remain water-soluble.
[0050] Nach der Belichtung werden diese Stellen mit einem kräftigen Wasserstrahl ausgewaschen, so dass die Siebdruckform verbleibt. Bei diesem Schritt spricht man auch von der Entwicklung. Eine so hergestellte Siebdruckform mit einer ersten konventionell hergestellten Siebdruckschicht 34 ist in Fig. 3a) im Querschnitt dargestellt. After exposure, these areas are washed out with a powerful jet of water so that the screen printing form remains. This step is also called development. A screen printing plate produced in this way with a first conventionally produced screen printing layer 34 is shown in cross section in FIG. 3a).
[0051] Auf diese erste Schablonenstruktur 34 wird anschließend eine zweite Schablonenstruktur appliziert. Bei einer manuellen Herstellung kann hierzu beispielsweise an beiden Seiten ein Abstandshalter 38 randseitig aufgelegt werden, um die gewünschte Auftragungsdicke beim Auftrag einer Emulsion vorzugeben. Im vorliegenden Fall beträgt die Auftragsdicke 60 Mikrometer. A second template structure is subsequently applied to this first template structure 34. In the case of a manual production, for example, a spacer 38 can be applied on both sides on both sides to predetermine the desired application thickness when applying an emulsion. In the present case, the application thickness is 60 microns.
[0052] Im nachfolgenden Schritt gemäß Fig. 3b) wird mit einem Rakel 40 wiederum UV-empfindliche Emulsion aufgetragen, so dass sich eine zweite Kopierschicht 43 ergibt. In the subsequent step according to FIG. 3b), UV-sensitive emulsion is again applied with a doctor blade 40, so that a second copying layer 43 results.
[0053] Die Siebdruckform wird anschließend mit der Druckseite nach oben in einem Trockenschrank getrocknet. The screen printing form is then dried with the print side up in a drying oven.
[0054] Nach der Trocknung hat die zweite Kopierschicht 43 eine Dicke von etwa 25 Mikrometer, wie in Fig. 3c) dargestellt. Anschließend erfolgt eine Belichtung wiederum mit energiereicher UV-Strahlung unter Zwischenlage einer Filmvorlage 44, die präzise im Hinblick auf die zuvor in der ersten Schablonenstruktur 34 erzeugte Struktur ausgerichtet sein muss. After drying, the second copy layer 43 has a thickness of about 25 microns, as shown in Fig. 3c). Subsequently, an exposure takes place again with high-energy UV radiation with the interposition of a film original 44, which must be precisely aligned with respect to the structure previously generated in the first template structure 34.
[0055] Mit einer so hergestellten Siebdruckform kann ein größere EOM- Dicke erzeugt werden, was einen feineren Druck und gleichmäßigere Strukturen erlaubt. [0056] Während zuvor anhand von Fig. 3 die grundsätzlichen Schritte der Erzeugung einer Siebdruckform mit zweischichtigem Aufbau erläutert wurden, wird im Folgenden anhand von Fig. 4 der bevorzugte Aufbau zur Herstellung von Fingern auf Silizium-Solarzellen 20 gemäß Fig. 2 näher erläutert. With a screen printing plate thus produced, a larger EOM thickness can be produced, which allows a finer pressure and more uniform structures. While the basic steps of producing a screen printing plate having a two-layer structure were explained above with reference to FIG. 3, the preferred structure for producing fingers on silicon solar cells 20 according to FIG. 2 will be explained in more detail below with reference to FIG.
[0057] Die grundsätzliche Herstellung entspricht dem zuvor anhand von Fig. 3 erläuterten Schritten. The basic production corresponds to the previously explained with reference to FIG. 3 steps.
[0058] Fig. 4a) zeigt einen Querschnitt durch eine Siebdruckform, bei der auf dem Sieb 14 eine erste Schablonenstruktur 34 in der zuvor beschriebenen herkömmlichen Weise erzeugt wurde. Fig. 4a) shows a cross section through a screen printing form in which on the screen 14, a first template structure 34 has been produced in the conventional manner described above.
[0059] Im nachfolgenden Schritt gemäß Fig. 4b) wird hierauf eine zweite Schablonenstruktur 42 aufgetragen, die eine zweite Kopierschicht 43 bildet. Anschließend wird gemäß Fig. 4c) eine zweite Filmvorlage 44 präzise ausgerichtet und anschließend mit UV-Strahlung belichtet. Hierbei ist die zweite Filmvorlage 44 vorzugsweise so gestaltet, dass diese bei einer linienförmigen Ausnehmung 52 eine etwas größere Breite hat als die zugeordnete Ausnehmung 50 in der ersten Schablonenstruktur 34. So könnte etwa die erste Ausnehmung 50 eine Breite von 50 Mikrometer haben, während die zweite Ausnehmung 52 eine Breite von etwa 60 Mikrometer hat, wie gestrichelt in den Fig. 4c) und 4d) angedeutet ist. In the subsequent step according to FIG. 4b), a second stencil structure 42 is applied thereto, which forms a second copying layer 43. Subsequently, according to FIG. 4c), a second film original 44 is precisely aligned and subsequently exposed to UV radiation. Here, the second film original 44 is preferably designed so that it has a slightly larger width at a line-shaped recess 52 than the associated recess 50 in the first template structure 34. For example, the first recess 50 could have a width of 50 microns, while the second Recess 52 has a width of about 60 microns, as dashed lines in Fig. 4c) and 4d) is indicated.
[0060] Fig. 4e) zeigt eine mit einer solchen Siebdruckform 10' hergestellte Fingerstruktur 48 auf einem Substrat 46. Es ergibt sich eine an den Rändern scharf definierte Struktur unter Vermeidung von bleeding mit einem guten Aspektverhältnis. 4e) shows a finger structure 48 produced with such a screen printing form 10 'on a substrate 46. The result is a structure sharply defined at the edges, avoiding bleeding with a good aspect ratio.
[0061] In Fig. 5 ist im oberen Teil ein Ausschnitt der Vorderseitenkontaktie- rung schematisch dargestellt, mit einem bus bar 30 und davon ausgehenden Fingern 32. Die Finger haben eine Breite w. Im unteren Teil von Fig. 5 ist ein Querschnitt durch einen der Finger 32 vergrößert dargestellt. Die Breite des Fingers beträgt w, während die Höhe h ist. [0062] Das Aspektverhältnis a ist als das Verhältnis von Höhe h zu Breite w definiert: a = h/w. 5, a section of the front side contacting is shown schematically in the upper part, with a bus bar 30 and fingers 32 extending therefrom. The fingers have a width w. In the lower part of Fig. 5 is a cross section through one of the fingers 32 is shown enlarged. The width of the finger is w, while the height is h. The aspect ratio a is defined as the ratio of height h to width w: a = h / w.
[0063] Mit einer erfindungsgemäßen Siebdruckform 10' gemäß Fig. 4 lässt sich für eine Ist-Fingerbreite von 50 Mikrometer ein Aspektverhältnis von etwa 0,4 erzielen. Dies stellt eine deutliche Verbesserung gegenüber dem Siebdruck mit herkömmlichen Siebdruckformen dar. With an inventive screen printing form 10 'according to FIG. 4, an aspect ratio of about 0.4 can be achieved for an actual finger width of 50 micrometers. This represents a significant improvement over screen printing with conventional screen printing forms.
[0064] Mit herkömmlichen Siebdruckformen lässt sich im einstufigen Siebdruck infolge des mesh markings (vergleiche Fig. 9) keine Fingerbreite unterhalb von 80 Mikrometer realisieren. Das Aspektverhältnis ist deutlich geringer als 0,4. With conventional screen printing forms can be in the single-stage screen printing as a result of the mesh markings (see Fig. 9) realize no finger width below 80 microns. The aspect ratio is significantly lower than 0.4.
[0065] Außerdem wird der Pastenverbrauch gegenüber dem herkömmlichen einstufigen Siebdruck durch die dünneren Fingerbreiten und das größere Aspektverhältnis reduziert, was zu einer deutlichen Kosteneinsparung führt. In addition, the paste consumption over the conventional single-stage screen printing is reduced by the thinner finger widths and the larger aspect ratio, resulting in a significant cost savings.
[0066] Gleichzeitig wird durch die verringerte Abschattung an der Vorderseite einer Solarzelle der Wirkungsgrad merklich verbessert. At the same time the efficiency is markedly improved by the reduced shading on the front of a solar cell.
[0067] Bei dem hier an Hand von Fig. 3 und 4 beschriebenen Verfahren handelt es sich um ein manuelles Verfahren unter Verwendung eines Rakels. Bei industrieller Umsetzung wird der Prozess in der Regel vollautomatisch durchgeführt. Es versteht sich, dass sich hiermit eine noch höhere Präzision und eine weitere Verbesserung erzielen lässt. The method described herein with reference to Figs. 3 and 4 is a manual method using a squeegee. In industrial implementation, the process is usually carried out fully automatically. It is understood that this can achieve even higher precision and further improvement.
[0068] Anhand der Fig. 6 bis 8 wird im Folgenden ein alternatives Herstellungsverfahren zur Herstellung einer Siebdruckform 10" erläutert. An alternative manufacturing method for producing a screen printing form 10 "is explained below with reference to FIGS. 6 to 8.
[0069] Die Siebdruckform 10" wird im Gegensatz zu der zuvor beschriebenen Siebdruckform einstufig hergestellt. [0070] Auf einem Sieb 14 bestehend aus Stahldraht wird zunächst in der üblichen Weise eine UV-empfindliche Emulsion aufgetragen, um eine Kopierschicht 36" zu erzeugen. Anschließend erfolgt der übliche Trocknungsschritt im Trockenofen. The screen printing form 10 "is produced in one stage in contrast to the previously described screen printing form. On a wire 14 consisting of steel wire, a UV-sensitive emulsion is first applied in the usual way in order to produce a copying layer 36 ", followed by the usual drying step in the drying oven.
[0071] Nachfolgend wird eine erste Filmvorlage 44" auf die Oberfläche der Kopierschicht 36" aufgelegt. Im Unterschied zum im Stand der Technik üblichen Verfahren erfolgt die Belichtung nachfolgend jedoch nicht mit einem einzigen Belichtungsschritt mit senkrecht auftreffendem Licht, sondern in zwei aufeinanderfolgenden Belichtungsschritten mit schräg einfallender UV-Strahlung. Subsequently, a first film original 44 "is placed on the surface of the copy layer 36". However, in contrast to conventional methods in the prior art, the exposure is subsequently not effected with a single exposure step with vertically incident light, but in two successive exposure steps with obliquely incident UV radiation.
[0072] In einem ersten Belichtungsschritt wird die UV-Strahlung schräg von rechts her einfallend auf die erste Filmvorlage 44" gerichtet, so dass sich ein Neigungswinkel α von etwa 45° nach rechts gegenüber der Senkrechten ergibt. Auf die erste Filmvorlage wird versetzt eine zweite, breitere Filmvorlage 44"' aufgelegt (Fig. 6a)). Die zweite Filmvorlage 44"' verhindert die UV-Einstrahlung in den später zu entwickelnden Bereich auf der einen Seite. Die einfallende Strahlung ist durch ausgezogene Linien angedeutet. In a first exposure step, the UV radiation is directed obliquely from the right onto the first film original 44 ", so that an angle of inclination α of approximately 45 ° results to the right with respect to the vertical , wider film original 44 "'launched (Fig. 6a)). The second film original 44 "'prevents the UV radiation in the area to be developed later on the one side .The incident radiation is indicated by solid lines.
[0073] Anschließend wird die zweite Filmvorlage 44"' zur anderen Seite hin verschoben, um den Strahlungseinfall auf der anderen Seite zu verhindern. In einem nachfolgenden zweiten Belichtungsschritt wird die einfallende UV-Strahlung an dem Winkel -a gegenüber der Senkrechten geneigt, also um 45° in die entgegengesetzte Richtung (Fig. 6b)). Hinter der Filmvorlage 44" ergibt sich somit hinter einer Ausnehmung 54 in der Filmvorlage 44" ein V-förmiger Bereich der Kopiervorlage 36", der nicht bestrahlt wurde. Subsequently, the second film original 44 "'is shifted to the other side to prevent the incidence of radiation on the other side." In a subsequent second exposure step, the incident UV radiation is tilted at the angle -a from the vertical, ie 45 ° in the opposite direction (Figure 6b).) Behind the film master 44 ", a V-shaped region of the master copy 36", which was not irradiated, thus results behind a recess 54 in the original film 44 ".
[0074] Nach der Entwicklung ergibt sich eine Siebdruckform 10" gemäß Fig. 7, die eine V-förmige Ausnehmung aufweist, die sich von der Druckseite zur Rakelseite hin vergrößert. [0075] Wird nun eine solche Siebdruckform 10" genutzt, um eine Feinstruktur zu erzeugen, so wird die thixotrope Eigenschaft insbesondere beim Drucken von Silberpasten auf Solarzellen vorteilhaft dazu ausgenutzt, um besonders feine Strukturen erzeugen zu können, da im Bereich der trichterförmig aufgeweiteten Öffnung sich eine Verflüssigung der Siebdruckpaste ergibt, was zu einem höheren Materialaus- trag in diesem Bereich führt und somit ein Drucken von feinen Strukturen mit großem Aspektverhältnis ermöglicht. After development, a screen printing form 10 "results as shown in FIG. 7, which has a V-shaped recess, which increases from the pressure side to the doctor side. If such a screen printing form 10 "is used in order to produce a fine structure, the thixotropic property is advantageously utilized, in particular when printing silver pastes on solar cells, in order to be able to produce particularly fine structures, since openings are formed in the area of the funnel-shaped widened opening liquefaction of the screen printing paste results, which leads to a higher material output in this area and thus enables printing of fine structures with a high aspect ratio.

Claims

Patentansprüche claims
1. Verfahren zur Herstellung einer Siebdruckform (10), insbesondere für den Vorderseitendruck auf Solarzellen (20), bei dem auf der Oberfläche eines Siebes (12) zunächst eine erste Schablonenstruktur (34) erzeugt wird, die eine zu druckende Struktur definiert, und bei dem anschließend auf der ersten Schablonenstruktur (34) zumindest eine weitere Schablonenstruktur (42) erzeugt wird, die mit der vorherigen Schablonenstruktur (34) ausgerichtet ist und gemeinsam damit die Siebdruckform (10) bildet. 1. A method for producing a screen printing form (10), in particular for the front side printing on solar cells (20), wherein on the surface of a screen (12) first a first template structure (34) is defined which defines a structure to be printed, and in at least one further stencil structure (42) is subsequently produced on the first stencil structure (34), which is aligned with the previous stencil structure (34) and together forms the screen printing form (10).
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die erste Schablonenstruktur (34) mit den folgenden Schritten erzeugt wird: 2. The method of claim 1, wherein the first template structure (34) is generated with the following steps:
(a) Auftragen einer lichtempfindlichen Kopierschicht (36) auf die Oberfläche eines Trägers (12);  (a) applying a photosensitive copy layer (36) to the surface of a support (12);
(b) Trocknen der Kopierschicht (36);  (b) drying the copy layer (36);
(c) Belichten der Kopierschicht (36) mit einer zu druckenden Struktur; (c) exposing the copy layer (36) to a structure to be printed;
(d) Entwickeln der Kopierschicht (36). (d) developing the copy layer (36).
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, bei dem zur Erzeugung einer weiteren Schablonenstruktur (42) die Schritte (a) bis (d) wiederholt werden, wobei die vorherige Schablonenstruktur (34) als Träger für die nachfolgende Schablonenstruktur (42) dient. 3. The method of claim 1 or 2, wherein the steps (a) to (d) are repeated to produce a further template structure (42), wherein the previous template structure (34) serves as a support for the subsequent template structure (42).
4. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, bei dem der Schritt (c) das Abdecken der Kopierschicht (43) mit einer Filmvorlage (44) und das Belichten umfasst. The method of claim 2 or 3, wherein step (c) comprises covering the copy layer (43) with a film master (44) and exposing.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem auf eine zuvor erzeugte Schablonenstruktur (34) ein Kapillarfilm appliziert wird, gefolgt von einer Trocknung, Belichtung und Entwicklung, um eine nachfolgende Schablonenstruktur (42) zu erzeugen. A method according to any one of the preceding claims, wherein a capillary film is applied to a previously created stencil structure (34) followed by drying, exposure and development to produce a subsequent stencil structure (42).
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem bei einer nachfolgenden Schablonenstruktur (42) eine Ausnehmung (52) für die zu erzeugende Linienstruktur eine größere Breite (50) als bei einer vorhergehenden Schablonenstruktur (34) aufweist. 6. The method according to any one of the preceding claims, wherein in a subsequent template structure (42) has a recess (52) for the line structure to be generated has a greater width (50) than in a previous template structure (34).
7. Verfahren nach Anspruch 6, bei dem die Breite mindestens um 5%, insbesondere um mindestens 10%, bevorzugt um höchstens 30%, weiter bevorzugt um höchstens 20 % vergrößert ist. 7. The method of claim 6, wherein the width is increased at least by 5%, in particular by at least 10%, preferably by at most 30%, more preferably by at most 20%.
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem eine Linienstruktur in einer vorhergehenden (34) und einer nachfolgenden (42) Schablonenstruktur pyramidenartig verbreitert ist. 8. The method according to any one of the preceding claims, wherein a line structure in a preceding (34) and a subsequent (42) stencil structure is widened in a pyramid.
9. Verfahren zur Herstellung einer Siebdruckform (10), insbesondere für den Vorderseitendruck auf Solarzellen (20), mit den folgenden Schritten: 9. A method for producing a screen printing form (10), in particular for the front side printing on solar cells (20), comprising the following steps:
(a) Applizieren einer lichtempfindlichen Kopierschicht (36") auf die Oberfläche eines Siebes (14);  (a) applying a photosensitive copy layer (36 ") to the surface of a screen (14);
(b) Trocknen der Kopierschicht (36");  (b) drying the copy layer (36 ");
(c) Abdecken der Kopierschicht (36") mit einer ersten Filmvorlage (44"), die eine zu druckende Struktur definiert;  (c) covering the copy layer (36 ") with a first film original (44") defining a structure to be printed;
(d) Abdecken der Kopierschicht (36") mit einer zweiten Filmvorlage (44"') seitlich versetzt zur ersten Filmvorlage;  (D) covering the copy layer (36 ") with a second film original (44" ') laterally offset from the first film original;
(e) Belichten der Kopierschicht (36") in einem ersten Belichtungsschritt mit einem in Bezug auf die Kopierschicht gegenüber einem senkrechten Einfallswinkel um einen ersten Neigungswinkel zu einer ersten Seite hin geneigten Einfallswinkel;  (e) exposing the copying layer (36 ") in a first exposure step with an angle of incidence inclined with respect to the copying layer from a normal angle of incidence by a first angle of inclination to a first side;
(f) Verschieben der zweiten Filmvorlage (44"') zur anderen Seite hin;  (f) moving the second film original (44 "') to the other side;
(g) Belichten der Kopierschicht (36") in einem zweiten Belichtungsschritt mit einem gegenüber einem senkrechten Einfallswinkel um einen zweiten Neigungswinkel zu einer der ersten Seite gegenüber liegenden zweiten Seite hin geneigten Einfallswinkel;  (g) exposing the copy layer (36 ") in a second exposure step with an angle of incidence inclined to a perpendicular angle of incidence by a second angle of inclination to a second side opposite the first side;
(h) Entwickeln der Kopierschicht (36"). (h) developing the copy layer (36 ").
10. Verfahren nach Anspruch 9, bei dem der erste Neigungswinkel im ersten Belichtungsschritt +a beträgt und der zweite Neigungswinkel im zweiten Belichtungsschritt -a beträgt. The method of claim 9, wherein the first tilt angle in the first exposure step is + a and the second tilt angle in the second exposure step is -a.
11. Verfahren nach Anspruch 10, bei dem der Neigungswinkel (a) mindestens 5°, insbesondere mindestens 10°, bevorzugt mindestens 20°, weiter bevorzugt mindestens 30° beträgt. 11. The method according to claim 10, wherein the angle of inclination (a) at least 5 °, in particular at least 10 °, preferably at least 20 °, more preferably at least 30 °.
12. Verfahren nach Anspruch 10 oder 11, bei dem der Neigungswinkel (a) höchstens 70°, insbesondere höchstens 60°, bevorzugt höchstens 50° beträgt. 12. The method according to claim 10 or 11, wherein the angle of inclination (a) is at most 70 °, in particular at most 60 °, preferably at most 50 °.
13. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die Siebdruckform (10, 10") zur Herstellung von Kontakten, insbesondere von Fingern (32), auf der Vorderseite von Solarzellen (20) verwendet wird. 13. The method according to any one of the preceding claims, wherein the screen printing form (10, 10 ") for the production of contacts, in particular of fingers (32), on the front of solar cells (20) is used.
14. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die Siebdruckform (10, 10") zum Bedrucken von Fingern (32) auf der Vorderseite von Solarzellen (20) mit Farbe verwendet wird. 14. The method according to any one of the preceding claims, wherein the screen printing form (10, 10 ") for printing fingers (32) on the front of solar cells (20) is used with color.
15. Siebdruckform mit einem Sieb (14), auf dem eine Schablone (18) vorgesehen ist, bei der eine Ausnehmung in der Schablone (18) an einem zu druckenden Merkmal ausgehend vom Sieb (14) zur Druckseite hin verbreitert oder verjüngt ist. 15. Screen printing form with a sieve (14) on which a template (18) is provided, wherein a recess in the template (18) on a characteristic to be printed, starting from the screen (14) widened or tapered towards the pressure side.
16. Siebdruckform nach Anspruch 15, bei der sich die Ausnehmung in der Schablone (18) an einem zu druckenden Merkmal zur Druckseite hin pyramidenartig verbreitert. 16. Screen printing form according to claim 15, wherein the recess in the template (18) widens in a pyramid-like manner on a feature to be printed on the pressure side.
17. Siebdruckform nach Anspruch 15, bei der sich die Ausnehmung in der Schablone (18) an einem zu druckenden Merkmal zur Druckseite hin schräg verjüngt. 17. Screen printing form according to claim 15, in which the recess in the template (18) tapers obliquely on a feature to be printed on the pressure side.
18. Solarzelle, vorzugsweise hergestellt nach einem der vorhergehenden Ansprüche, mit Fingerkontakten (32) mit einer Fingerbreite von höchstens 60 Mikrometern, die ein Aspektverhältnis von Höhe zu Breite von mindestens 1:3 aufweisen. 18. A solar cell, preferably produced according to one of the preceding claims, with finger contacts (32) having a finger width of at most 60 micrometers, which have an aspect ratio of height to width of at least 1: 3.
19. Solarzelle nach Anspruch 18, bei der die Fingerkontakte (32) mit einer Farbe, insbesondere mit einer reflektierenden Farbe, bedruckt sind. 19. A solar cell according to claim 18, wherein the finger contacts (32) are printed with a color, in particular with a reflective color.
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