WO2012102104A1 - 露光装置、液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

本発明は、走査露光方式によって配向処理を行った場合でも、表示画面上に継ぎ目が発生するのを抑制することができる露光装置、液晶表示装置及びその製造方法を提供する。本発明は、光配向膜が表面に設けられた基板を露光光に対して相対的に移動させながら光配向膜を露光する露光装置であって、露光装置は、光配向膜の第１部分及び第２部分を露光する第１露光と、光配向膜の第３部分を露光するとともに第２部分を再び露光する第２露光とを行うものであり、第２部分は、第１部分及び前記第３部分の間にあり、第２部分の照射量が第１部分の照射量よりも小さくなるように第１露光は行われ、第２部分の照射量が第３部分の照射量よりも小さくなるように、第２露光は行われ、第１露光による第２部分の照射量、及び、第２露光による第２部分の照射量の合計は、第１部分の照射量、及び、第３部分の照射量のいずれよりも小さく設定される露光装置である。

Description

露光装置、液晶表示装置及びその製造方法

本発明は、露光装置、液晶表示装置及びその製造方法に関する。より詳しくは、光配向膜の光配向処理に好適に使用される露光装置と、光配向膜を備える液晶表示装置と、その液晶表示装置の製造方法とに関するものである。

液晶表示装置は、軽量化、薄型化及び低消費電力化が可能な表示装置であることから、テレビ、パーソナルコンピュータ用モニタ、携帯端末用モニタ等に広く利用されている。このような液晶表示装置は、通常、一対の基板間（液晶層）に印加される電圧に応じて変化する液晶分子の傾斜角度によって液晶層を透過する光の透過率を制御する。そのため、液晶表示装置は、透過率に角度依存性を有することになる。その結果、従来の液晶表示装置においては、視角（観察）方向によってはコントラストの低下、中間調表示時の階調反転等の表示不具合が発生することがあった。したがって、一般的に、液晶表示装置においては、視野角特性を向上するという点で改善の余地があった。

そこで、液晶分子の傾斜方向が異なる２以上の領域に各画素を分割する配向分割の技術が開発されている。この技術によれば、液晶層に電圧が印加された場合、液晶分子は、画素内で異なる方向に傾斜することから、視野角特性を改善することができる。なお、配向方向が異なる各領域は、ドメインとも呼ばれ、配向分割は、マルチドメインとも呼ばれる。

配向分割が行われる液晶モードとしては、水平配向モードでは、マルチドメイン捩れネマチック（ＴＮ；Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、マルチドメイン複屈折制御（ＥＣＢ；Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ　Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ　Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モード、マルチドメイン光学補償複屈折（ＯＣＢ；Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ　Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ　Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モード等が挙げられる。一方、垂直配向モードでは、マルチドメイン垂直配向（ＭＶＡ；Ｍｕｌｔｉ－Ｄｏｍａｉｎ　Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、マルチドメイン垂直配向捩れネマチック（ＶＡＴＮ；Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ　Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ　Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、マルチドメインＶＡＥＣＢ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ　ＥＣＢ）モード等が挙げられ、各モードの液晶表示装置において、更なる広視野角化を実現するための様々な改良がなされている。

配向分割を行う方法としては、ラビング法、光配向法等が挙げられる（例えば、特許文献１、２参照。）。ラビング法の具体例としては、ラビング領域と非ラビング領域とをパターン形成されたレジストにより分離した状態で配向膜のラビング処理を行う方法が提案されている。しかしながら、ラビング法は、ローラに巻き付けられた布で配向膜表面を擦ることによって配向処理を行う。したがって、ラビング法においては、布の毛、削れ片等のごみが発生したり、静電気によるスイッチング素子の破壊、特性シフト、劣化等の不良が発生したりすることがあり、更に改善の余地があった。

一方、光配向法は、配向膜として光配向膜を用い、光配向膜に紫外線等の光を照射（露光）することによって、配向膜に配向規制力を生じさせる、及び／又は、配向膜の配向規制方向を変化させる配向方法である。したがって、光配向法は、配向膜の配向処理を非接触で行うことができるので、配向処理中における汚れ、ごみ等の発生を抑制することができる。また、露光時にフォトマスクを用いることによって、配向膜面内の所望の領域に異なった条件で光照射を行うことができる。そのため、所望のデザインを有するドメインを容易に形成することができる。

また近年、液晶表示装置の大型化が進み、４０型から６０型といった従来はプラズマテレビの主戦場であったサイズ領域に液晶テレビが急速に進出してきている。

特開平１１－１３３４２９号公報 特表２００９－５１７６９７号公報 国際公開第２００７／０８６４７４号 特表２００８－５３８８１９号公報

M. Kimura、他3名、「Photo-Rubbing Method: A Single-Exposure Method to Stable Liquid-Crystal Pretilt Angle on Photo-Alignment Film」、IDW’04: proceedings of the 11th International Display Workshops、IDW’04 Publication committee、2004年、LCT2-1、p. 35-38

しかしながら、このような６０型クラスの大型液晶表示装置を光配向法により配向分割することは非常に困難であった。なぜなら、６０型クラスの基板を１度に露光可能であり、かつ工場内に設置可能なサイズである露光装置は、今のところ実際は存在せず、６０型クラスの基板全面を１度に露光することは不可能であるためである。そこで、大型液晶表示装置を光配向法により配向分割する場合には、基板を何回かに分割して露光する必要があった。また、２０型クラスの比較的小型の液晶表示装置を光配向法により配向分割する場合にも、露光装置のサイズをできる限り小さくしたいとの要請から、基板を何回かに分割して露光することが必須になることも考えられる。しかしながら、このように基板を何回かに分割して露光することによって配向分割された液晶表示装置においては、表示画面に各露光領域間の継ぎ目がはっきりと見えることがあり、不良品となってしまうことがあった。したがって、基板を分割して露光することによって液晶表示装置の配向分割を行った場合において、表示品位を向上し、歩留まりを向上させるという点で未だ工夫の余地があった。

それを改善するための技術として、本発明者らは以下の方法を開発し、既に特許出願している（特許文献３参照。）。この方法は、基板面内を２以上の露光領域に分割し、露光領域毎にフォトマスクを介して配向膜の露光を行う露光工程を含み、上記露光工程は、隣り合う露光領域の一部が重複するように露光するものであり、上記フォトマスクは、重複する露光領域に対応したハーフトーン部を有する。

しかしながら、特許文献３に記載の技術において走査露光（スキャン露光）方式を採用した場合は、実使用上、目視されないレベルにまで継ぎ目の発生を抑制する、すなわち継ぎ目をより見え難くするという点において未だ改善の余地があった。

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、走査露光方式によって配向処理を行った場合でも、表示画面上に継ぎ目が発生するのを効果的に抑制することができる露光装置、液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とするものである。

本発明者らは、走査露光方式によって配向処理を行った場合でも、表示画面上に継ぎ目が発生するのを効果的に抑制することができる露光装置及び液晶表示装置の製造方法について種々検討したところ、重複して露光される部分（露光継ぎ部）における照射量に着目した。特許文献３では、露光継ぎ部以外の部分、すなわち１度の露光が行われる部分（通常露光部）の照射量を１００％とした場合、露光継ぎ部の合計照射量は好適には５０～２００％、より好適には７０～１５０％であると記載されていた。しかしながら、本発明者らが更に詳細に検討した結果、走査露光方式を採用した場合は、露光継ぎ部の合計照射量を通常露光部の照射量よりも小さくすることが継ぎ目を目視されなくする観点から非常に有効であることを新たに見いだした。

常識的には、或いは、直感的には、露光継ぎ部の合計照射量を１００％に設定することが最適と予想されるが、走査露光方式では１００％より小さく設定することによって継ぎ目の発生が特に効果的に抑制されるという結果は意外である。この原因は詳細には分かっていないが、本発明者らは以下のように推察している。通常露光部と異なり、露光継ぎ部では光配向膜は２回露光され、露光光のエッジが少なくとも合計４回通過する。一方、通常露光部では、通常、露光光のエッジが合計２回通過する。この露光光エッジの通過回数の相違が、光配向膜のチルト角を付与する何らかの要因に影響するのではと考えている。そして、露光継ぎ部の合計照射量を１００％にした場合、照射量の値としては通常露光部と同じであっても、露光継ぎ部において、より低いチルト角が光配向膜に実効的には付与されているのではないかと推察している。

以上の結果を踏まえて更に検討したところ、基板上の光配向膜に第１～第３部分を設定し、第２部分を第１部分及び第３部分の間に設け、第２部分の照射量が第１部分の照射量よりも小さくなるように第１部分及び第２部分を走査露光する第１露光と、第２部分の照射量が第３部分の照射量よりも小さくなるように第３部分を走査露光するとともに第２部分を再び走査露光する第２露光とを行い、第１露光による第２部分の照射量と、第２露光による第２部分の照射量との合計を、第１部分の照射量よりも小さく、かつ、第３部分の照射量よりも小さく設定することにより、基板（光配向膜）の露光すべき領域（露光領域）を、第１部分及び第２部分を含む領域と、第２部分及び第３部分を含む領域とに分割して走査露光が実施でき、すなわち、第２部分を含む領域を露光継ぎ部（２回以上露光された部分）として利用でき、更に、この基板を用いて作製された液晶表示装置の表示画面上に継ぎ目が発生するのを効果的に抑制できることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。

すなわち、本発明の一側面は、光配向膜が表面に設けられた基板を露光光に対して相対的に移動させながら前記光配向膜を露光する露光装置であって、前記露光装置は、前記光配向膜の第１部分及び第２部分を露光する第１露光と、前記光配向膜の第３部分を露光するとともに前記第２部分を再び露光する第２露光とを行うものであり、前記第２部分は、前記第１部分及び前記第３部分の間にあり、前記第２部分の照射量が前記第１部分の照射量よりも小さくなるように、前記第１露光は行われ、前記第２部分の照射量が前記第３部分の照射量よりも小さくなるように、前記第２露光は行われ、前記第１露光による前記第２部分の前記照射量、及び、前記第２露光による前記第２部分の前記照射量の合計は、前記第１部分の前記照射量、及び、前記第３部分の前記照射量のいずれよりも小さく設定される露光装置（以下、本発明の露光装置とも言う。）である。

本発明の露光装置の構成としては、このような構成要素を必須として形成されるものである限り、その他の構成要素により特に限定されるものではないが、光源と、前記基板を載置するテーブルと、前記光源及び／又は前記テーブルを所定方向に移動する移動手段とを備えてもよい。

本発明の他の側面は、光配向膜が表面に設けられた基板を露光光に対して相対的に移動させながら前記光配向膜を露光する露光工程を含む液晶表示装置の製造方法であって、前記露光工程において、前記光配向膜の第１部分及び第２部分を露光する第１露光と、前記光配向膜の第３部分を露光するとともに前記第２部分を再び露光する第２露光とを行い、前記第２部分の照射量が前記第１部分の照射量よりも小さくなるように、前記第１露光は行われ、前記第２部分の照射量が前記第３部分の照射量よりも小さくなるように、前記第２露光は行われ、前記第１露光による前記第２部分の前記照射量、及び、前記第２露光による前記第２部分の前記照射量の合計は、前記第１部分の前記照射量、及び、前記第３部分の前記照射量のいずれよりも小さく設定される液晶表示装置の製造方法（以下、本発明の液晶表示装置の製造方法とも言う。）である。

本発明の液晶表示装置の製造方法の工程としては、このような工程を必須として含むものである限り、その他の工程により特に限定されるものではない。

なお、本発明において、光配向膜への照射量は次式で計算することができる。
（照射量）＝（照度）×（露光光の幅）／（走査速度）
なお、照度とは、より詳細には、露光光の光配向膜上での照度を意味する。また、露光光の幅とは、より詳細には、露光光の光配向膜上での走査（移動）方向における幅（長さ）を意味する。露光光は、平面的な領域に照射されるため、通常、当該露光光の光配向膜上での移動方向に直交する方向に広がっている。このように露光光が広がりを持ち、かつ、場所によって露光光の幅が一定でない場合（例えば、露光継ぎ部に対応する領域内において露光光の幅がサイン関数的に減少する場合等）、露光光の幅とは、上記の直交する方向上の各場所における幅（長さ）を意味する。更に、走査速度とは、より詳細には、露光光に対する基板の相対的な移動（走査）速度を意味する。なお、露光光及び基板のいずれが移動するかは特に限定されず、いずれか一方のみが移動してもよいし、両者が移動してもよい。

本発明の露光装置及び液晶表示装置の製造方法における好ましい形態について以下に詳しく説明する。以下に示す各種形態は、適宜組み合わされてもよく、以下の２以上の好ましい形態を互いに組み合わせた形態もまた、好ましい形態の一つである。

本発明の露光装置及び液晶表示装置の製造方法において、前記第１～第３部分の各部分近傍の液晶分子のチルト方向が実質的に同じになるように、前記第１露光及び前記第２露光は実施されることが好ましい。これにより、各画素（各絵素でもよい。）を効率的に配向分割することができる。なお、第１～第３部分近傍の液晶分子のチルト方向は、互いのなす角が５°以下であることが好ましく、２°以下であることがより好ましい。

本発明の露光装置及び液晶表示装置の製造方法において、前記光配向膜は、露光光（露光光の光軸でもよい。）の方向、及び／又は、露光光の当該膜上での移動方向、に応じて液晶の配向方向が変化する材料（光配向材料）を用いて形成されることが好ましい。

本発明の露光装置及び液晶表示装置の製造方法において、前記第１部分の前記照射量、及び／又は、前記第３部分の前記照射量を１００％としたとき、前記第２部分の前記照射量の合計の最小値は、８５．２％より大きく、１００％より小さいことが好ましく、９１％以上、９６％以下であることがより好ましい。本発明の一実施態様においては、第１部分上を露光光の２つの端部が各々１回通過して露光光の端部が計２回通過することとなり、第３部分上も同様に露光光の端部が計２回通過することとなり、第２部分上を露光光の２つの端部が各々２回通過して露光光の端部が計４回通過することとなる。

なお、第１部分の照射量と第３部分の照射量とは、通常、実質的に同じに設定され、いずれか一方の照射量を１００％とした時に、両者の差は、５％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましい。

本発明の露光装置は、紫外線を前記基板の面の法線に対して斜め方向から入射させるものであることが好ましい。これにより、所望のプレチルト角を容易に発現することができる。ただし、非特許文献１に開示の光配向法のように、プレチルト角の発現が光の照射領域の移動方向による場合には、露光光を基板の面に対して斜めから入射させる必要がなく、基板の面に対して略垂直に入射させることができる。なお、上記紫外線の波長範囲は、露光する光配向膜の材料により適宜設定すればよい。

同様の観点から、前記露光工程において、紫外線を前記基板の面の法線に対して斜め方向から入射させることが好ましい。

本発明の露光装置及び液晶表示装置の製造方法において、前記紫外線は、偏光紫外線であることが好ましい。このように異方性の紫外線を光配向膜に照射することによって、光配向膜内の分子の異方的な再配列及び／又は化学反応を容易に誘起することができる。したがって、光配向膜近傍の液晶分子の配向方位をより均一に制御することができる。

前記第１～第３部分における照射量の調整は、例えば、それぞれの部分に専用の点光源（例えば、レーザ光源）を設け、点光源から照射される点状光線（スポット状光線）の照度を調節することによって行ってもよいが、フォトマスクを用いて行われることが好ましい。すなわち、本発明の露光装置は、遮光部及び複数の透光部を含むフォトマスクを備え、前記フォトマスクを介して前記光配向膜を露光することが好ましい。フォトマスクの透光部の開口率は、透光部の大きさを変える等して、容易に変更することができる。したがって、この形態によれば、一種類の光源を用いて、第１部分及び第３部分と、第２部分とで互いに照射量を容易に異ならせることができる。

同様の観点から、前記露光工程において、遮光部及び複数の透光部を含むフォトマスクを介して前記光配向膜を露光することが好ましい。

本発明の露光装置及び液晶表示装置の製造方法において、前記遮光部及び前記複数の透光部は、ストライプ状に配置されることが好ましい。これにより、画素領域（絵素領域でもよい。）がマトリックス状に配列された基板に対して、効率よく配向処理を行うことができる。

またこのとき、前記複数の透光部の長手方向の方位と、前記基板の相対的な移動方向の方位とが実質的に同じであることが好ましい。これにより、フォトマスクと基板とを相対的に移動させるだけで、全画素領域（全絵素領域でもよい。）を精度よく、かつ簡便に配向分割することができる。なお、前記複数の透光部の長手方向の方位と、前記基板の相対的な移動方向の方位とが実質的に同じであるとは、両方位が必ずしも厳密に一致する必要はなく、両方位のなす角が、５°（より好適には２°）以下であることが好ましい。

本発明の露光装置及び液晶表示装置の製造方法における好適な形態としては、下記形態（１）が挙げられる。

形態（１）において、前記フォトマスクは、前記第１部分、及び／又は、前記第３部分に対応して設けられた複数の第１透光部と、前記第２部分に対応して設けられた複数の第２透光部とを含み、各第２透光部の開口率は、各第１透光部の開口率よりも小さい。上記形態（１）によれば、第１部分及び第３部分のそれぞれの照射量に比べて、第２部分の照射量を容易に小さくすることができる。

なお、開口率とは、任意の透光部（通常は、最も大きな面積を有する透光部）の面積に対する当該透光部の面積の割合（百分率）を意味する。

上記形態（１）における好適な形態としては、下記形態（Ａ）が挙げられる。

形態（Ａ）において、前記複数の第２透光部の開口率は、前記複数の第１透光部から離れるにしたがって減少する。上記形態（Ａ）によれば、継ぎ目が視認されるのをより効果的に抑制することができる。

上記形態（Ａ）における好適な形態としては、下記形態（Ａ－１）、（Ａ－２）が挙げられる。

形態（Ａ－１）において、前記複数の第２透光部の開口率の変化は、線形関数又は三角関数で表される。上記形態（Ａ－１）によれば、第２透光部の開口率の変化に不連続なステップが生じるのを防ぐことができる。また、開口率の変化が三角関数で表される場合は、第１透光部側の端と、それとは反対側の端とにおいて、開口率の変化の微分係数が実質的にゼロとなるので、継ぎ目が視認されるのを特に効果的に抑制することができる。

形態（Ａ－２）において、前記複数の第２透光部の長さ（長手方向の長さ）は、前記複数の第１透光部から離れるにしたがって短くなる。上記形態（Ａ－２）によれば、走査露光方式を採用する本発明の露光装置及び液晶表示装置の製造方法において、第２部分の照射量の合計を容易に制御することができる。

本発明の露光装置及び液晶表示装置の製造方法において、前記フォトマスク及び前記基板の間に、プロキシミティギャップが設けられることが好ましい。これにより、基板を露光光に対してスムーズに相対的に移動させることができるとともに、フォトマスクが自重により撓んだとしても基板に接触することを抑制することができる。

本発明の露光装置は、前記基板のパターンを読み取る撮像手段を備えることが好ましい。これにより、基板のパターンを読み取りながら基板の露光光に対する相対的な移動方向を制御することができる。したがって、基板が歪んでいるような場合であっても、画素配列に沿って高精度の走査露光を行うことができる。

このような観点から、本発明の露光装置は、前記基板のパターンを読み取りながら前記基板の露光光に対する相対的な移動方向を制御することが好ましい。

なお、本発明の露光装置において、基板のパターンは、必須の構成要素ではなく、基板上にはパターンがなくてもよいが、通常は、基板にはパターンが形成されている。また、パターンの具体例は特に限定されないが、前記基板の相対的な移動方向に周期的又は連続的に形成された点状又は線状の部材が好ましく、なかでもバスライン（例えば、ソースバスライン、ゲートバスライン）、ブラックマトリックスが好適である。

本発明の液晶表示装置の製造方法は、垂直配向型の液晶層を形成する工程を含むことが好ましい。これにより、垂直配向モードの液晶表示装置を実現することが可能となる。

本発明の液晶表示装置の製造方法は、誘電率異方性が負の液晶材料を含有する液晶層を形成する工程を含むことが好ましい。これにより、垂直配向モードの液晶表示装置において、液晶層を効率的に駆動することができるので、透過率を大きくすることができる。

本発明の液晶表示装置の製造方法は、前記露光工程によって露光処理された２枚の基板を、露光光の照射方向の当該基板の面への射影方向（露光方位でもよい。）が互いに略直交するように、貼り合わせる工程を含んでもよい。これにより、ＴＮモード、ＶＡＴＮモード、マルチドメインＴＮモード又はマルチドメインＶＡＴＮモードの液晶表示装置を実現することができる。なお、前記射影方向が互いに略直交するとは、射影方向のなす角度が必ずしも厳密に９０°である必要はなく、射影方向のなす角度が、９０°±１０°（より好適には９０°±５°）の範囲内であることが好ましい。

本発明の液晶表示装置の製造方法は、前記基板を平面視したときに、互いに反平行方向に露光される２つの領域を各画素内（各絵素内でもよい。）に形成するように、前記光配向膜を露光する工程を含むことが好ましい。これにより、マルチドメインＴＮモード、マルチドメインＥＣＢモード、マルチドメインＶＡＥＣＢモード、マルチドメインＶＡＨＡＮ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ　Ｈｙｂｒｉｄ－ａｌｉｇｎｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、マルチドメインＶＡＴＮ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ　Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）モード等の広視野角の液晶表示装置を容易に実現することができる。なお、反平行方向とは、２つの方向が必ずしも厳密に反対かつ平行である必要はなく、両方向のなす角度が、１７５°（より好適には１７８°）以上、１８０°以下であることが好ましい。

本発明の更に他の側面は、本発明の露光装置、又は、本発明の液晶表示装置の製造方法を用いて作製された液晶表示装置（以下、本発明の液晶表示装置とも言う。）である。

本発明の液晶表示装置は、アクティブマトリックス駆動されることが好ましいが、単純駆動されてもよい。

本発明の液晶表示装置は、ＶＡＴＮモードで駆動されることが好ましい。なお、ＶＡＴＮモードの液晶表示装置は、一対の基板と、ネマチック液晶を含有する液晶層と、それぞれの基板上に設けられた一対の垂直配向膜とを備え、両基板面を平面視したときに、これらの垂直配向膜に施された配向処理の方向が互いに略直交し、電圧無印加時に、ネマチック液晶が垂直、かつツイスト配向する。

本発明の液晶表示装置は、２以上のドメインを有することが好ましく、４以下のドメインを有することが好ましく、４つのドメインを有することがより好ましい。これにより、製造工程の複雑化を抑制しつつ、視野角特性に優れた液晶表示装置を実現できる。また、ドメインを４つにすることによって、例えば上下左右の４つの方向といったように、互いに直交する４つの方向のいずれにおいても広視野角化できる。また、互いに直交する４つの方向のいずれの視野角特性もほぼ同一にすることが可能となる。すなわち、対称性に優れた視野角特性を実現することが可能となる。そのため、視野角依存性の小さい液晶表示装置を実現できる。なお、４つのドメインに配向分割した場合のドメインの配置形態としては特に限定されず、マトリックス状、目の字のようなストライプ状等が挙げられる。

本発明によれば、走査露光方式によって配向処理を行った場合でも、表示画面上に継ぎ目が発生するのを抑制することができる露光装置、液晶表示装置及びその製造方法を実現することができる。

実施形態１に係る液晶表示装置の製造方法を用いたマザーガラス基板の平面模式図である。 実施形態１に係る液晶表示装置の製造方法を用いたマザーガラス基板（アレイ基板）の絵素領域を模式的に示した斜視図である。 実施形態１に係る液晶表示装置の製造方法を用いたマザーガラス基板（カラーフィルタ基板）の絵素領域を模式的に示した斜視図である。 実施形態１に係る露光装置の要部を示す模式図であり、上方から見た図である。 実施形態１に係る露光装置の要部を示す模式図であり、側方から見た図である。 実施形態１に係る液晶表示装置の製造方法を用いたフォトマスクを模式的に示した斜視図である。 実施形態１に係る液晶表示装置の製造方法を用いたフォトマスクを模式的に示した平面図である。 実施形態１に係る液晶表示装置の製造方法を用いたマザーガラス基板に対する光配向処理を模式的に示した斜視図である。 光配向膜への照射量と、液晶分子のプレチルト角との関係を示すグラフである。 実施形態１に係る液晶表示装置の製造方法において、アレイ基板用フォトマスクとアレイ基板用マザーガラス基板に形成されるパターンとの寸法及び位置の関係を示した図である。 実施形態１に係る液晶表示装置の製造方法における露光工程を模式的に示した図であり、側方から見た図である。 実施形態１に係る液晶表示装置の製造方法における露光工程を模式的に示した図であり、上方から見た図である。 実施形態１に係る液晶表示装置の製造方法を用いたアレイ基板用マザーガラス基板を模式的に示した平面図であり、露光工程後の状態を示す。 実施形態１に係る液晶表示装置の製造方法に用いたアレイ基板用フォトマスクについて、フォトマスクに形成されるパターンと、露光工程におけるフォトマスクの配置場所とを模式的に示した平面図である。 実施形態１に係る液晶表示装置の製造方法において、通常露光部と露光継ぎ部における照射量を示したグラフである。 図１１及び１２で示した露光工程後の基板について、各絵素内における各種方向の関係を模式的に示した平面図である。 液晶分子のチルト方向及びチルト角を模式的に示した図である。 実施形態１に係る液晶表示装置の製造方法において、カラーフィルタ基板用フォトマスクとカラーフィルタ基板用マザーガラス基板に形成されるパターンとの寸法及び位置の関係を示した図である。 実施形態１に係る液晶表示パネル及び液晶表示装置を模式的に示した断面図である。 実施形態１に係る液晶表示パネルについて、各絵素内における液晶分子の配向方向を模式的に示した図である。 実施形態１に係る液晶表示パネルにおいて、１つの絵素における明るさをシミュレーションした結果を示す。 パネル試作における露光工程を模式的に示した図であり、上方から見た図である。 パネル試作に用いたカラーフィルタ基板用フォトマスクについて、フォトマスクに形成されるパターンと、露光工程におけるフォトマスクの配置場所とを模式的に示した平面図である。 試作パネル１～３の露光継ぎ部の見え方を目視によって評価する方法を説明するための平面模式図である。 試作パネル１～３の輝度ムラを測定した結果を示す画像である。 試作パネル１～３について、通常露光部にある各絵素内における液晶分子の配向方向を模式的に示した図である。 試作パネル１～３について、露光継ぎ部にある各絵素内における液晶分子の配向方向を模式的に示した図である。 試作パネル４～１３を模式的に示す平面図である。 試作パネル４～１３の露光継ぎ部の見え方を目視によって評価する方法を説明するための斜視模式図である。 試作パネル４～１３について、通常露光部にある各絵素内における液晶分子の配向方向を模式的に示した図である。 試作パネル４～１３について、露光継ぎ部にある各絵素内における液晶分子の配向方向を模式的に示した図である。 実施形態２に係る液晶表示装置の製造方法における露光工程を模式的に示した図であり、上方から見た図である。 実施形態２に係る液晶表示装置の製造方法に用いたフォトマスクについて、フォトマスクに形成されるパターンと、露光工程におけるフォトマスクの配置場所とを模式的に示した平面図である。 実施形態２に係る液晶表示装置の製造方法における露光工程を模式的に示した図であり、側方から見た図である。 図３２及び３４で示した露光工程後の基板について、各絵素内における各種方向の関係を模式的に示した平面図である。 実施形態３に係る露光装置の要部を示す平面模式図である。 実施形態１に係る変形例１の液晶表示パネルについて、各絵素内における液晶分子の配向方向を模式的に示した図である。 実施形態１に係る変形例２の液晶表示パネルについて、各絵素内における液晶分子の配向方向を模式的に示した図である。 実施形態１に係る変形例３の液晶表示パネルについて、各絵素内における液晶分子の配向方向を模式的に示した図である。

以下に実施形態を掲げ、本発明を図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。

（実施形態１）
以下に、実施形態１に係る液晶表示装置の製造方法について説明する。
本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法は、光配向処理を施す露光工程を含む液晶表示装置の製造方法に適用されるものである。本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法は、さまざまな表示モードの液晶表示装置に適用できるものであるが、なかでも、ねじれネマチック垂直配向（Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ　Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ（ＶＡＴＮ））モードの液晶表示装置に好適である。以下では、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を用いてＶＡＴＮモードの液晶表示装置を作製する方法を説明する。

まず、一般的な方法により、図１に示すように、配向膜形成前の一対のマザーガラス基板１０を準備する。各マザーガラス基板１０からは、例えば、複数枚（例えば６枚）のアレイ基板又はカラーフィルタ基板が得られる。なお、本実施形態では、単体のアレイ基板、単体のカラーフィルタ基板を用いてもよい。各マザーガラス基板１０には、得られるアレイ基板又はカラーフィルタ基板に対応して、複数のパネル領域１１が設けられている。

一方のマザーガラス基板のパネル領域１１には、図２に示すように、互いに交差するソースバスライン１２及びゲートバスライン１３が網目状に形成されており、ソースバスライン１２及びゲートバスライン１３により区画された各絵素領域に、薄膜トランジスタ１４及び絵素電極１５が形成されている。そして、各絵素領域内に、その両側のソースバスライン１２の略中間（図中の線ＣＬ１）で二分されて形成される２つの領域Ａ１、Ａ２を想定し、後述する露光工程において、それぞれの領域Ａ１、Ａ２に対して、基板１０の面の法線に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から偏光紫外線を照射する。各領域に対する偏光紫外線の照射の向きは、それぞれ照射される偏光紫外線の光軸を基板１０の面に投影した場合に、これらの投影した光軸がソースバスライン１２に平行でかつ互いに１８０°異なる向きとする。

他方のマザーガラス基板のパネル領域１１には、図３に示すように、ブラックマトリックス１６が網目状に形成されており、ブラックマトリックス１６により区画された各絵素領域に、カラーフィルタ１７が形成されており、ブラックマトリックス１６及びカラーフィルタ１７上には、共通電極（図示せず）が形成されている。そして、各絵素領域内に、アレイ基板と貼り合わせた際にゲートバスライン１３に平行となる２辺の略中間（図中の線ＣＬ２）で二分されて形成される２つの領域Ｂ１、Ｂ２を想定し、後述する露光工程において、それぞれの領域Ｂ１、Ｂ２に対して、基板１０の面の法線に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から偏光紫外線を照射する。各領域に対する偏光紫外線の照射の向きは、それぞれ照射される偏光紫外線の光軸を基板１０の面に投影した場合に、これらの投影した光軸が、ゲートバスライン１３に平行でかつ互いに１８０°異なる向きとする。

なお、本実施形態では、各画素が複数の絵素から構成されるカラー表示の液晶表示装置について説明しているが、本実施形態に係る液晶表示装置は、モノクロ表示の液晶表示装置であってもよい。その場合、本実施形態において、絵素を画素と読み替えればよい。なお、絵素は、画素を構成する要素であり、サブ画素と同義である。

次に、各マザーガラス基板１０に対して、光配向膜材料を含む溶液をスピンキャスト法等により塗布した後、例えば１８０℃で６０分間、光配向膜材料の焼成を行うことによって、光配向膜（垂直配向膜）を形成する。光配向膜材料としては特に限定されず、感光性基を含む樹脂等が挙げられる。より具体的には、４－カルコン基（下記化学式（１））、４’－カルコン基（下記化学式（２））、クマリン基（下記化学式（３））、シンナモイル基（下記化学式（４））等の感光性基を含むポリイミド等が好適である。下記化学式（１）～（４）の感光性基は、光（好適には紫外線）の照射により架橋反応（二量化反応を含む）、異性化反応、光再配向等を生じるものであり、これらによれば、光分解型の光配向膜材料に比べて配向膜面内におけるプレチルト角のばらつきを効果的に小さくすることができる。なお、下記化学式（１）～（４）の感光性基には、ベンゼン環に置換基が結合した構造も含まれる。また、下記化学式（４）のシンナモイル基におけるカルボニル基に更に酸素原子が結合したシンナメート基（Ｃ_６Ｈ_５－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、下記化学式（５））は、合成しやすいという利点を有している。したがって、光配向膜材料としては、シンナメート基を含むポリイミドがより好ましい。なお、焼成温度、焼成時間及び光配向膜の膜厚は特に限定されず、適宜設定すればよい。

なお、本実施形態においては、配向膜材料として、光に反応し、光線の照射方向に液晶分子のプレチルト角を生じる光配向膜材料を使用したが、非特許文献１に開示の光配向法のように、光の照射領域の移動方向によってプレチルト方向の規定が可能である光配向膜材料を用いてもよい。この場合は、光を基板に対して斜めから入射させる必要はなく、基板に対して略垂直に入射させることができる。

次に、光配向膜の露光工程について説明する。まず、本実施形態の露光装置３０について説明する。

図４、５に示すように、露光装置３０は、１ステージタイプの走査型露光装置であり、複数の露光ヘッド３１を含む露光ステージ３２と、マザーガラス基板１０を載置して所定方向に移動させるテーブル３３とを備える。テーブル３３は、移動手段としても機能する。なお、露光装置３０は、露光ステージ３２を移動させる移動手段を備えてもよいし、移動手段として機能せず、マザーガラス基板１０を載置するテーブルと、露光ステージ３２を移動させる移動手段とを備えてもよい。

複数の露光ヘッド３１は、基板１０の移動方向（走査方向）ａに対して直交する方向ｂに、間隔をあけて配置されている。各露光ヘッド３１は、基板１０の被照射面に平行な面内を方向ｂに移動可能な状態で支持されている。

各露光ヘッド３１は、紫外線を発する紫外線光源３４と、フォトマスク５０と、光源３４及びフォトマスク５０の間に設けられた偏光フィルタ、光学レンズ等の光学部材（図示せず）とを備え、フォトマスク５０を介して基板１０の表面に所定の照射角度（基板１０の面の法線方向と、露光光の照射方向とのなす角度、例えば、４０°）で偏光紫外線を照射できるように構成される。各光学部材は、光源３４が発した紫外線を所望の露光光に光学的に変換する。光源３４は、照射対象に応じて適宜選択すればよく、可視光線を発する光源であってもよい。

また、各露光ヘッド３１は、撮像手段３５と、記憶手段と、照合手段と、マスク移動手段とを備える。撮像手段３５は、基板１０の表面を撮影でき、基板１０のパターン（例えば、ソースバスライン１２、ゲートバスライン１３、ブラックマトリックス１６等）を読み取ることができる。撮像手段３５には、例えばＣＣＤカメラ等のカメラが適用できる。記憶手段は、露光の位置合わせの基準となる基準画像を記憶しておくことができる。照合手段は、撮像手段３５が撮影した画像と基準画像とを比較照合して、実際に露光している位置と露光すべき位置とのズレを算出する。マスク移動手段は、照合手段によるズレの算出結果に基づいて、マスク５０の位置や角度を補正する。これにより、基板１０のパターンを読み取り、基板１０の露光光に対する相対的な移動方向及び位置を高精度に制御しながら、走査露光を行うことができる。なお、照合手段は、基準画像を用いる代わりに、基板１０を撮像した結果とマスク５０を撮像した結果とを比較照合する方法によっても、同様にマスク５０の位置及び角度を補正することができる。

マスク５０は、その表面が基板１０の被照射面に略平行となるように配置され、マスク５０と、基板１０の被照射面、すなわち光配向膜の表面との間にはプロキシミティギャップ４１が設けられている。

マスク５０は、例えば板状の部材であり、図６に示すように、石英ガラス等を用いて形成された透明基板と、透明基板の表面に所定のパターン（好適にはストライプ状のパターン）で形成された遮光部５２及び複数の透光部５１とを有する。各透光部５１は、長手状であり、複数の透光部５１は、所定のピッチで、基板１０の移動方向ａに対して直交する方向ｂに並んでいる。また、マスク５０は、図７に示すように、中央領域５３及びオーバーラップ領域５４を有する。そして、オーバーラップ領域５４内に設けられた透光部５６（上記第２透光部に対応）の長さは、中央領域５３から離れるにしたがって徐々に短くなっている。このようにして、オーバーラップ領域５４内に設けられた透光部５６の開口率が中央領域５３内に設けられた透光部５５（上記第１透光部に対応）の開口率よりも小さくなっている。換言すると、透光部５５からより離れた透光部５６ほど、その長さはより短く、また、その開口率はより小さい。

このようなマスク５０の直下を基板１０が通過すると、透光部５１の直下を通過した領域のみが露光される。この結果、図８に示すように、基板１０の表面の所定の細長い線状の領域１８が露光される。なお、透光部５１の材質は、光（例えば偏光紫外線）を透過することができれば特に限定されない。透光部５１は、例えば、マスク５０を貫通する開口部であってもよい。

走査露光方式を採用した本実施形態では、マスク５０の透光部５１の長さＹと、基板１０の移動速度（走査速度）Ｖで照射量が設定されている。より具体的には、光配向膜への照射量は次式で計算される。
（照射量）＝（照度）×（透光部の長さＹ）／（基板の移動速度Ｖ）
なお、照度とは、より詳細には、露光光の光配向膜上での照度を意味する。したがって、照度及び移動速度Ｖを一定に保てば、照射量は、透光部の長さＹに比例することとなる。

図９は、光配向膜への照射量と、液晶分子のプレチルト角との関係を示すグラフである。図９に示すように、一般的に、光配向膜への照射量が大きくなるほど、該配向膜近傍の液晶分子のプレチルト角は、小さくなっていく。このように、プレチルト角は、照射量に依存し、プレチルト角を制御する上で照射量は非常に重要な要素である。また、特許文献４に記載されているように、ＶＡＴＮモードでは、プレチルト角を高精度に制御することが極めて重要である。

次に、露光装置３０を用いてマザーガラス基板１０を露光する方法について説明する。本実施形態では、マザーガラス基板１０の露光すべき領域を複数の領域に分割して露光（光配向処理）する。まず、アレイ基板用のマザーガラス基板１０ａについて説明する。

図１０に示すように、アレイ基板用フォトマスク６０は、略長方形の板状の部材である。そして偏光紫外線が通過できるスリット状の透光部６１が、所定のピッチＰｘで複数平行に形成されている。ピッチＰｘは、ソースバスライン１２のピッチに等しく設定される。また、透光部６１のピッチ方向の寸法Ｌｘは、ソースバスライン１２のピッチの約１／２の寸法に設定される。また、マスク６０は、中央領域及びオーバーラップ領域を有し、オーバーラップ領域内に設けられた透光部の開口率が中央領域内に設けられた透光部の開口率よりも小さくなっている。

そして、図１１、１２に示すように、基板１０ａ及びテーブルを＋ｘ軸方向に等速で移動させながら、フォトマスク６０を介して、基板１０ａの表面に設けられた光配向膜１９の端から端まで偏光紫外線を照射する（第１露光（１））。このとき、基板１０ａは、ソースバスライン１２がフォトマスク６０の透光部６１の長手方向に沿うように移動させられる。この第１露光（１）の結果、フォトマスク６０の中央領域が通過した領域２１内と、フォトマスク６０のオーバーラップ領域が通過した領域２２内とにおいて、図２で示した絵素領域の領域Ａ１が露光されることとなる。ただし、オーバーラップ領域内に設けられた透光部の開口率が中央領域内に設けられた透光部の開口率よりも小さいため、領域２２内における領域Ａ１の照射量は、領域２１内における領域Ａ１の照射量よりも小さくなる。また、フォトマスク６０の透光部６１が通過しなかった領域２３内の絵素領域は、この段階では、露光されていない。

次に、基板１０ａ及びテーブルを－ｘ軸方向に移動させ、露光ステージ３２の手前の位置に戻す。また、各露光ヘッド３１を１つの露光ヘッド分だけ＋ｙ軸方向に移動させる。その結果、フォトマスク６０の中央領域が領域２３に対応して配置され、フォトマスク６０のオーバーラップ領域が領域２２に対応して配置される。

そして、図１１、１２に示すように、基板１０ａ及びテーブルを＋ｘ軸方向に等速で移動させながら、フォトマスク６０を介して、基板１０ａの表面に設けられた光配向膜１９の端から端まで偏光紫外線を照射する（第１露光（２））。このとき、基板１０ａは、ソースバスライン１２がフォトマスク６０の透光部６１の長手方向に沿うように移動させられる。この第１露光（２）の結果、フォトマスク６０の中央領域が通過した領域２３内において、絵素領域の領域Ａ１が露光されることとなる。また、フォトマスク６０のオーバーラップ領域が通過した領域２２内において、領域Ａ１が再び露光されることとなる。このように、第１露光（１）及び第１露光（２）は、同じ領域Ａ１を照射する。ただし、領域２２内における第１露光（１）による領域Ａ１の照射量と、領域２２内における第１露光（２）による領域Ａ１の照射量との合計は、領域２１内における第１露光（１）による領域Ａ１の照射量よりも小さく、また、領域２３内における第１露光（２）による領域Ａ１の照射量よりも小さい。なお、光配向膜１９の一部であって、領域２１、領域２２及び領域２３内の領域Ａ１にある部分は、それぞれ、上記第１部分、上記第２部分及び上記第３部分に対応する。

次に、基板１０ａ及びテーブルを－ｘ軸方向に移動させ、露光ステージ３２の手前の位置に戻す。また、基板１０ａを面内で１８０°回転させてテーブル上に載置する。更に、各露光ヘッド３１を１つの露光ヘッド分だけ－ｙ軸方向に移動させる。その結果、フォトマスク６０は、第１露光（１）時の位置とほぼ同じ位置に配置される。ただし、フォトマスク６０は、第１露光（１）時の位置に比べて、ソースバスライン１２のピッチの半分だけｙ軸方向にずれた位置に配置される。

そして、図１１、１２に示すように、基板１０ａ及びテーブルを＋ｘ軸方向に等速で移動させながら、フォトマスク６０を介して、基板１０ａの表面に設けられた光配向膜１９の端から端まで偏光紫外線を照射する（第２露光（１））。このとき、基板１０ａは、ソースバスライン１２がフォトマスク６０の透光部６１の長手方向に沿うように移動させられる。この第２露光（１）の結果、フォトマスク６０の中央領域が通過した領域２１内と、フォトマスク６０のオーバーラップ領域が通過した領域２２内とにおいて、図２で示した絵素領域の残りの領域Ａ２が露光されることとなる。ただし、領域２２内における領域Ａ２の照射量は、領域２１内における領域Ａ２の照射量よりも小さくなる。また、フォトマスク６０の透光部６１が通過しなかった領域２３内の絵素領域の領域Ａ２は、この段階では、露光されていない。

次に、基板１０ａ及びテーブルを－ｘ軸方向に移動させ、露光ステージ３２の手前の位置に戻す。また、各露光ヘッド３１を１つの露光ヘッド分だけ＋ｙ軸方向に移動させる。その結果、フォトマスク６０の中央領域が領域２３に対応して配置され、フォトマスク６０のオーバーラップ領域が領域２２に対応して配置される。そして、フォトマスク６０は、第１露光（２）時の位置とほぼ同じ位置に配置される。ただし、フォトマスク６０は、第１露光（２）時の位置に比べて、ソースバスライン１２のピッチの半分だけｙ軸方向にずれた位置に配置される。

そして、図１１、１２に示すように、基板１０ａ及びテーブルを＋ｘ軸方向に等速で移動させながら、フォトマスク６０を介して、基板１０ａの表面に設けられた光配向膜１９の端から端まで偏光紫外線を照射する（第２露光（２））。このとき、基板１０ａは、ソースバスライン１２がフォトマスク６０の透光部６１の長手方向に沿うように移動させられる。この第２露光（２）の結果、フォトマスク６０の中央領域が通過した領域２３内において、絵素領域の領域Ａ２が露光されることとなる。また、フォトマスク６０のオーバーラップ領域が通過した領域２２内において、絵素領域の領域Ａ２が再び露光されることとなる。このように、第２露光（１）及び第２露光（２）は、同じ領域Ａ２を照射する。ただし、領域２２内における第２露光（１）による領域Ａ２の照射量と、領域２２内における第２露光（２）による領域Ａ２の照射量との合計は、領域２１内における第２露光（１）による領域Ａ２の照射量よりも小さく、また、領域２３内における第２露光（２）による領域Ａ２の照射量よりも小さい。なお、光配向膜１９の一部であって、領域２１、領域２２及び領域２３内の領域Ａ２にある部分は、それぞれ、上記第１部分、上記第２部分及び上記第３部分に対応する。

以上の結果、基板１０ａは、全面にわたって露光され、基板１０ａの光配向処理が完了する。そして、図１３に示すように、基板１０ａには、１度のみ露光された通常露光部２４と、２回露光された露光継ぎ部２５とが形成されることになる。なお、光配向膜１９の一部であって、通常露光部２４内にある部分は、上記第１及び第３部分に対応し、光配向膜１９の一部であって、露光継ぎ部２５内にある部分は、上記第２部分に対応する。

図１４は、フォトマスク６０に形成されるパターンと、露光工程におけるフォトマスク６０の配置場所とを模式的に示した平面図である。フォトマスク６０は、図１４に示すように、中央領域６３及びオーバーラップ領域６４を有する。オーバーラップ領域６４の幅は、１０～８０ｍｍ（好適には、３０～６０ｍｍ、例えば４５ｍｍ）である。オーバーラップ領域６４内に設けられた透光部６６（上記第２透光部に対応）の長さｙは、中央領域６３内に設けられた透光部６５（上記第１透光部に対応）の長さｙ０よりも小さくなっている。また、中央領域６３から離れるにしたがって、透光部６６の長さｙは徐々に短くなっており、これにより、透光部６６の開口率が徐々に減少している。したがって、第１露光（１）又は第２露光（１）において相対的に長い透光部６６を通して露光された部分は、第１露光（２）又は第２露光（２）において相対的に短い透光部６６を通して露光されることになる。透光部６６の長さ（開口率）は、好適には、線形関数又は三角関数に従って変化している。また、露光継ぎ部２５内において、第１露光（１）と第１露光（２）同士、第２露光（１）と第２露光（２）同士が同一部分（例えば絵素の同一の片側半分）を露光するように、マスク６０は設計されている。

なお、中央領域６３から離れるにしたがって、透光部６６の開口率を徐々に減少させる方法は特に限定されず、例えば、特許文献３に記載の方法を適宜採用することができる。また、透光部６６の長さを一定に保った状態で透光部６６に網掛けをし、この網掛けの濃度を中央領域６３から離れるにしたがって徐々に濃くする方法でもよい。

図１５は、通常露光部２４と露光継ぎ部２５における照射量を示したグラフである。通常露光部２４の照射量Ｅ０は、中央領域６３内に設けられた透光部６５の長さｙ０に比例し、位置ｘに関わらず一定である。露光継ぎ部２５の照射量Ｅは、オーバーラップ領域６４内に設けられた透光部６６の長さｙに比例するため、通常露光部２４から離れるにしたがって徐々に減少している。露光継ぎ部２５は、上述のように２回露光されるので、露光継ぎ部２５の合計照射量は、第１露光（１）による照射量及び第１露光（２）による照射量の和、又は、第２露光（１）による照射量及び第２露光（２）による照射量の和となる。すなわち、露光継ぎ部２５の合計照射量は、各露光による照射量に依存し、最大値Ｅ_ｍａｘを有する場合もあれば、最小値Ｅ_ｍｉｎを有する場合もある。しかしながら、本実施形態では、上述のように、露光継ぎ部２５の合計照射量が通常露光部２４の照射量Ｅ０よりも小さくなるように、フォトマスク６０を設計している。これにより、隣接する通常露光部２４の間で継ぎ目が発生するのを効果的に抑制することができる。

図１６は、図１１及び１２で示した露光工程後の基板について、各絵素内における各種方向の関係を模式的に示した平面図である。図１６に示すように、第１露光（１）、（２）と、第２露光（１）、（２）との間で、偏光紫外線の照射方向（光軸の方向でもよい。）の基板面への射影方向Ａは、互いに、平行でかつ１８０°異なる向きとなる。また、第１露光（１）、（２）と、第２露光（１）、（２）との間で、基板の移動方向Ｂは、互いに、平行でかつ１８０°異なる向きとなる。その結果、第１露光（１）及び／又は第１露光（２）によって露光された領域Ａ１と、第２露光（１）及び／又は第２露光（２）によって露光された領域Ａ２との間で、光配向膜近傍の液晶分子のチルト方向Ｃは、互いに、平行でかつ１８０°異なる向きとなる。なお、チルト方向は、図１７に示すように、光配向膜近傍の液晶分子４ｂの長軸の基板１０の面への射影方向を意味する。また、チルト角θは、液晶分子４ｂの長軸と、基板１０の面とのなす角を意味する。また、本実施形態において、上記射影方向Ａと、基板の移動方向Ｂとの関係は、全ての露光（第１露光（１）、（２）及び第２露光（１）、（２））において同一である。

次に、カラーフィルタ基板用のマザーガラス基板１０ｂに対する露光方法について説明する。

図１８に示すように、カラーフィルタ基板用フォトマスク７０は、アレイ基板用フォトマスク６０とほぼ同一の構成を備える。すなわち、偏光紫外線が通過できるスリット状の透光部７１が、所定のピッチＰｙをおいて複数平行に形成される。ピッチＰｙは、ブラックマトリックス１６のピッチ（ここでは、アレイ基板と重ね合わせた場合に、アレイ基板のゲートバスライン１３に平行する辺のピッチ）と等しくなるように設定される。また、透光部７１のピッチ方向の寸法Ｌｙは、ブラックマトリックス１６のピッチの約１／２の寸法に設定される。また、マスク７０は、中央領域及びオーバーラップ領域を有し、オーバーラップ領域内に設けられた透光部の開口率が中央領域内に設けられた透光部の開口率よりも小さくなっている。

そして、露光装置３０を用いてマザーガラス基板１０ｂを露光する。マザーガラス基板１０ｂに対する露光態様は、基板の向きが９０°異なるだけで、アレイ基板用のマザーガラス基板１０ａに対する露光態様とほぼ同様であるので、その詳細な説明は省略する。この結果、領域Ｂ１は、第１露光（１）及び／又は第１露光（２）によって露光され、領域Ｂ２は、第２露光（１）及び／又は第２露光（２）によって露光される。

その後、基板１０ａ、１０ｂを各パネル領域に分断し、アレイ基板１及びカラーフィルタ基板２を作製する。そして、配向処理が施された基板１、２の貼り合わせ工程を行う。貼り合わせ工程では、一方の基板の額縁領域にシール材を塗布する。次に、例えば粒径４μｍのプラスチックビーズをシール材が塗布された基板上に散布した後、両基板を貼り合わせる。そして、図１９に示すように、両基板１、２の間に、誘電率異方性が負のネマチック液晶材料を封入し、液晶層３を形成することによって、液晶表示パネルが完成する。

なお、液晶表示パネルの作製には、以下のようなプロセスを採用してもよい。まず、基板１０ａ、１０ｂの一方について、各パネル領域１１の額縁領域にシール材を塗布する。次に、他方の基板表面に、誘電率異方性が負のネマチック液晶材料を所定のピッチで点状に滴下する。そして、このように処理した両基板を真空環境下で貼り合わせる。セル厚は、カラーフィルタ基板用のマザーガラス基板１０ｂに予め設置されたフォトスペーサーによって制御され、例えば４μｍに設定される。その後、シール材を硬化し、各パネルに分断して液晶表示パネルが完成する。　

液晶層３内の液晶分子４は、駆動電圧が液晶層３に印加されていないとき（電圧無印加時）には、光配向膜１９の表面に対して略垂直方向に配向される。実際には、液晶分子４は、このとき、光配向膜１９の表面の法線方向に対して０．１°程度から数°程度、若干傾いて配向される。すなわち、液晶分子４は、若干のプレチルト角を有するように、光配向１９により配向されている。なお、プレチルト角とは、電圧無印加時におけるチルト角を意味する。

図２０は、各絵素内における液晶分子の配向方向を模式的に示した図である。上記のように配向処理が施されたアレイ基板及びカラーフィルタ基板を貼り合わせて液晶表示パネルを構成すると、液晶分子は、各基板の各領域に施された配向処理の向き、すなわち偏光紫外線の照射方向にしたがって配向する。その結果、図２０に示すように、アレイ基板近傍の液晶分子のチルト方向（図２０中の点線矢印）と、カラーフィルタ基板近傍の液晶分子のチルト方向（図２０中の実線矢印）とは、互いに略直交する。そして、各絵素内には、液晶分子の配向の向きが互いに異なる４つのドメインＤ１～Ｄ４が形成される。各ドメインにおいて、液晶分子は、略９０°捩れて配向する。また、各ドメインにおいて、液晶分子は、液晶層３に閾値以上の充分な駆動電圧が印加されたとき（電圧印加時）、両基板のチルト方向を２等分する方位に倒れる。例えば、両基板表面から等距離に位置する液晶分子４ａは、電圧印加時、４５°方位、１３５°方位、２２５°方位、又は、３１５°方位に倒れる。また、液晶分子４ａは、両基板の面に対して略平行な方向にまで傾斜する。

次に、図１９に示すように、基板１、２の外側に、２枚の位相差板７ａ、７ｂ、及び、２枚の偏光板６ａ、６ｂを貼り付ける。なお、位相差板７ａ、７ｂは、設置しなくともよいが、広視野角を実現する観点からは、設置することが好ましい。また、位相差板７ａ、７ｂは、どちらか一方のみが配置されてもよい。偏光板６ａ、６ｂは、クロスニコルに配置されている。また、偏光板６ａ、６ｂの一方は、その吸収軸がアレイ基板近傍の液晶分子のチルト方向（図２０中の点線矢印）と平行となるように配置され、他方は、その吸収軸がカラーフィルタ基板近傍の液晶分子のチルト方向（図２０中の実線矢印）と平行となるように配置される。上述のように、電圧無印加時に、液晶分子は、ほぼ垂直配向するため、本実施形態の液晶表示パネルは、良好な黒表示（ノーマリーブラックモード）を実現することができる。また、本実施形態の液晶表示パネルは、４つのドメインを有し、４つのドメインの液晶分子は、互いに異なる４方向に応答するため、視角方向にほとんど依存しない表示特性を示すことができる。

図２１は、実施形態１に係る液晶表示パネルにおいて、１つの絵素における明るさをシミュレーションした結果を示す。図２１に示すように、実施形態１に係る液晶表示パネルにおいては、４つのドメインＤ１～Ｄ４内における液晶分子４ａの倒れる方向は、互いに略９０°の角度をなしている。したがって、異なるドメインの境界においては、液晶分子４ａは、互いに異なる方向に倒れた液晶分子４ａを連続的に繋ぐように配向することになる。また、４つのドメインＤ１～Ｄ４内における液晶分子４ａの倒れる方向は、偏光板６ａ、６ｂの吸収軸方向に対して略４５°異なる。その結果、異なるドメインの境界における液晶分子４ａの配向方位は、偏光板６ａの吸収軸方向、又は、偏光板６ｂの吸収軸方向と略同一又は略直交する方位となる。したがって、異なるドメインの境界において、下側の偏光板６ａを透過した偏光には、液晶分子によるリターデーション（位相差）が発生しない。すなわち、下側の偏光板６ａを透過した偏光は、液晶層３で何ら影響を受けず、下側の偏光板６ａを透過した偏光は、上側の偏光板６ｂを透過することができない。その結果、異なるドメインの境界において輝度の低い、暗い線、すなわち暗線が発生することとなる。

なお、図２０、２１では、カラーフィルタ基板側からパネルを観察したときに、逆卍状の暗線が発生するように液晶分子の配向方向が設定された場合を示しているが、液晶分子の配向方向は、図３７～３９に示すように設定されてもよい。図３７～３９において、点線矢印は、アレイ基板近傍の液晶分子のチルト方向を示し、実線矢印は、カラーフィルタ基板近傍の液晶分子のチルト方向を示す。カラーフィルタ基板側からパネルを観察したときに、図３７に示す場合は卍状の暗線が発生し、図３８に示す場合は８の字状の暗線が発生し、図３９に示す場合は逆８の字状の暗線が発生する。また、図２６等に示すように、１つの絵素領域を２つの領域に分割し、各領域内に４つのドメインを形成してもよい。

その後、一般的なモジュール製造工程を経て、実施形態１の液晶表示装置を完成することができる。

本実施形態の液晶表示装置は、４ドメインのＶＡＴＮモードである。４ドメインのＶＡＴＮモードによれば、基板１０ａ、１０ｂをそれぞれ２回照射し、合計４回の照射で４つのドメインを形成することができる。そのため、装置台数の削減と配向処理時間の短縮（タクトタイムの短縮）とが実現できる。また、１絵素を４ドメインに分割させることは液晶表示装置の広視野角化を実現する観点から好ましい形態である。更に、従来のＭＶＡモード等のように配向制御構造物を有する液晶モードにおいて必要であったリブ（突起）等の配向制御構造物を形成するためのフォトマスク、すなわちフォトリソ工程を削減することができ、その結果、製造プロセスの簡略化が可能となる。なお、１画素（１サブ画素）を２ドメインに分割させた場合には、例えば上下又は左右のどちらかの方向については広視野角化できるが、他方の方向の視野角特性を向上することはできない。また、５つ以上にドメインを増やしても構わないが、プロセスが煩雑となる上、処理時間も長くなるためあまり好ましくない。更に、４ドメインとそれ以上のドメインとでは、視野角特性には実用上それ程違いがないことも分かっている。

本実施形態で使用可能な材料及び適応可能な製造プロセスにおける条件としては下記が挙げられる。ただし、本実施形態で使用可能な材料及び条件は、下記に限定されるものではない。また、露光に用いる光線の種類は偏光紫外線に特に限定されず、配向膜材料、製造プロセス等によって適宜設定することができ、無偏光（消光比＝１：１）であってもよい。
・液晶材料：Δｎ（複屈折）＝０．０６～０．１４、Δε（誘電率異方性）＝－２．０～－８．０、Ｔｎｉ（ネマチック－アイソトロピック相転移温度）＝６０～１１０℃を有するネマチック液晶。
・プレチルト角：８５～８９．９°
・セル厚：２～５μｍ
・照射エネルギー密度：０．０１～５Ｊ／ｃｍ^２
・プロキシミティギャップ：１００～３００μｍ
・光源：低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマーレーザ
・紫外線の消光比（偏光度）：１：１～６０：１
・紫外線の照射方向：基板面法線方向から０～７０°（例えば４０°）方向

以上説明したように、本実施形態では、露光継ぎ部の合計照射量が通常露光部の照射量Ｅ０よりも小さくなるように露光処理が施されている。これにより、隣接する通常露光部の間で継ぎ目が発生するのを効果的に抑制することができる。

常識的には、或いは、直感的には、通常露光部の照射量Ｅ０を１００％とした場合、露光継ぎ部の合計照射量は１００％にするようにすべきと思われる。すなわち、図１４及び図１５で露光継ぎ部の合計照射量が位置ｘに関わらず一定で１００％とする場合である。そこで本発明者らは次のようなパネルを試作した。

試作ではカラーフィルタ基板で露光継ぎ部の合計照射量の調整を行った。簡単のため、アレイ基板では継ぎ露光を行わない一括露光を行った。すなわち、アレイ基板の全面を一括して露光した。また、アレイ基板における第１露光及び第２露光の方位は、左右方向とした。

図２２に示すように、試作では、フォトマスク７０を含む複数の露光ヘッドを備える露光装置を使用した。試作パネルでは、４つの通常露光部２４の間に、合計３つの露光継ぎ部２５が発生した。また、図２３に示すように、各フォトマスク７０には、中央領域７３及びオーバーラップ領域７４を設け、中央領域７３内に互いの長さが同じ透光部７５（上記第１透光部に対応）を設け、オーバーラップ領域７４内に透光部７６（上記第２透光部に対応）を設け、透光部７６の長さは、中央領域７３から離れるにしたがって徐々に短くなるように設定した。また、露光継ぎ部において、第１露光（１）と第１露光（２）同士、第２露光（１）と第２露光（２）同士が同一部分（例えば絵素の同一の片側半分）を露光するように、マスク７０を設計した。

そして、パネル試作には、マスク７０として、以下の３種類のマスクを使用し、パネル１～３を作製した。第１のマスクは、露光継ぎ部の合計照射量が一定で１００％となるように設計した。第２、第３のマスクは、露光継ぎ部の合計照射量が１００％より高くなるように設計されており、第２のマスクは、露光継ぎ部の最大照射量Ｅ_ｍａｘが１２５％となるよう、第３のマスクは、露光継ぎ部のＥ_ｍａｘが１５０％となるように設計した。

試作パネル１～３において、露光継ぎ部の見え方を目視によって評価した結果を説明する。図２４に示すように、正面方向、左右方向（０°又は１８０°方位）、上下方向（９０°又は２７０°方位）から試作パネル１～３を観察した。得られた結果（１）～（４）を以下に示す。

（１）正面方向から見ると、全階調に渡って露光継ぎ部２５は目視できなかった。
（２）左右方向（０°又は１８０°方位）において斜めから見ると、グレー階調（低階調）で、露光継ぎ部２５が短冊状に通常露光部２４と比べて明るく見えた。
（３）上下方向（９０°又は２７０°方位）において斜めから見ると、低階調で露光継ぎ部２５が短冊状に通常露光部２４と比べて暗く見えた。
（４）１５０％、１２５％、１００％の順に上記見え方の程度は軽くなってはいくが、１００％の場合でも露光継ぎ部２５が目視で視認された。

図２５に、左右方向（０°又は１８０°方位）において斜め６０°方向からの輝度ムラを測定した結果を示す。これは、横方向に輝度計をスキャンしながら測定した。図２５に示すように、輝度計の測定でも上記の目視結果（４）の傾向が再現された。すなわち、１００％では露光継ぎ部に対する露光が依然過剰になっていると言える。

図２６は、試作パネル１～３について、通常露光部にある各絵素内における液晶分子の配向方向を模式的に示した図である。図２７は、試作パネル１～３について、露光継ぎ部にある各絵素内における液晶分子の配向方向を模式的に示した図である。図２６、２７において、実線矢印は、カラーフィルタ基板上のチルト方向を、点線矢印は、アレイ基板上のチルト方向を示す。通常露光部では、アレイ基板上のチルト角と、カラーフィルタ基板上のチルト角とがほぼ等しく、図２６に示すように、液晶分子は、両基板のチルト方向を２等分する方位に倒れる。それに対して、露光継ぎ部では電圧印加時に液晶分子がカラーフィルタ基板上のチルト方向に引っ張られて倒れると推察される。つまり、露光継ぎ部では合計照射量が１００％であっても通常露光部よりチルト角が低いと考えられる。そのため、図２７に示すように、左右方向からは液晶分子の腹の部分（位相差の大きい部分）をより見ることになり、通常露光部に比べて明るく見え、上下方向からは液晶分子の頭の部分（位相差の小さい部分）をより見ることになり、通常露光部に比べて暗く見えると考えられる。

この試作の結果より、特に走査露光方式においては、通常露光部の照射量に対する露光継ぎ部の合計照射量の割合（百分率）を１００％未満にする必要があることが今回初めて明らかとなった。

露光継ぎ部の最適な合計照射量を見出すべく、合計照射量を１００％未満で細かく振ったパネル４～１３（Ｅ_ｍｉｎ＝７４．８～９５．８％）を試作した。ここではアレイ基板側で継ぎ露光を実施した。先の試作とは異なり、ここではアレイ基板を６個の領域に分割し、縦方向に走査露光した。すなわち、本試作では、図２８に示すように、露光継ぎ部２５は、５つ存在する。なお、露光継ぎ部２５の幅は、４５ｍｍに設定した。

各パネルについて、図２９に示すように、露光継ぎ部２５を左右方向で斜め方向から、ＮＤフィルタを介さず、又は、ＮＤフィルタを介して、目視で観察した。その結果を下記表１に示す。観察は、露光継ぎ部が最も見えやすい階調である３２階調で行った。ＮＤフィルタ越しの評価においては、ＮＤフィルタ越しに継ぎ目が目視できない場合はＯＫとし、目視できる場合はＮＧとした。すなわち、例えば、ＮＤ１％ＯＫとは、１％ＮＤフィルタ越しに露光継ぎ部が見えないことを意味し、ＮＤ３％ＮＧとは、３％ＮＤフィルタ越しに露光継ぎ部が見えることを意味する。なお、ＮＤ値が小さくなるほど、フィルタからの透過光量は低下する。

図３０は、試作パネル４～１３について、通常露光部にある各絵素内における液晶分子の配向方向を模式的に示した図である。図３１は、試作パネル４～１３について、露光継ぎ部にある各絵素内における液晶分子の配向方向を模式的に示した図である。図３０、３１において、実線矢印は、カラーフィルタ基板上のチルト方向を、点線矢印は、アレイ基板上のチルト方向を示す。いずれのパネルについても、通常露光部では、アレイ基板上のチルト角と、カラーフィルタ基板上のチルト角とがほぼ等しく、図３０に示すように、液晶分子は、両基板のチルト方向を２等分する方位に倒れる。例えば露光継ぎ部の最小照射量が７４．８％の場合は左右方向で斜め方向から露光継ぎ部が暗く見えた。この原因としては７４．８％では露光継ぎ部の照射量が不足しており、アレイ基板上において、露光継ぎ部のチルト角が通常露光部のチルト角よりも高くなって、電圧印加時に液晶分子がカラーフィルタ基板側のチルト方向に引っ張られて倒れているためと考えられる。その結果、図３１に示すように、左右方向で斜めから見た際には液晶分子の頭の部分（位相差のより小さい部分）をより見ることになり、露光継ぎ部以外より暗く見えると考えられる。

８５．２＜Ｅ_ｍｉｎ＜１００の範囲であれば、露光継ぎ部は若干、暗く見えるが、ＮＤ３％ＯＫレベルであり、実使用上は許容できる範囲内である。また、９１．５≦Ｅ_ｍｉｎ≦９５．８の範囲であれば、ＮＤ１０％ＯＫレベルであり、全く問題ない良品パネルであると言える。今回の結果から、本実施形態において、露光継ぎ部の合計照射量の範囲は、好ましくは、８５＜Ｅ_ｍｉｎ＜１００であり、より好ましくは、９１≦Ｅ_ｍｉｎ≦９６であると言える。

なお、本実施形態では、１つのステージ３２を有する露光装置３０について説明したが、露光装置３０は複数のステージを有してもよい。例えば、第１露光（１）、第１露光（２）、第２露光（１）、第２露光（２）それぞれに対してステージを設けてもよい。

（実施形態２）
本実施形態は、使用する露光装置が異なり、露光工程の態様が異なる点を除いて、実施形態１とほとんど同じである。

本実施形態に係る露光装置は、図３２に示すように、複数の露光ヘッド２３１を含む露光ステージ２３２を備える。各露光ヘッド２３１は、第１露光（１）、（２）用の光源及び光学部材と、第２露光（１）、（２）用の光源及び光学部材と、フォトマスク２５０とを有する。各フォトマスク２５０には、第１露光（１）、（２）用の透光部パターン２５１ａと、第２露光（１）、（２）用の透光部パターン２５１ｂとが形成されている。図３３に示すように、透光部パターン２５１ａ、２５１ｂは、例えば、互いに絵素ピッチの半分だけずれて配置されている。マスク２５０は、中央領域２５３及びオーバーラップ領域２５４を有する。オーバーラップ領域２５４内に設けられた透光部の長さは、中央領域２５３から離れるにしたがって徐々に短くなっている。

そして、図３２、３４に示すように、第１露光（１）、（２）用の光源から生成された偏光紫外線を透光部パターン２５１ａに照射し、第２露光（１）、（２）用の光源から生成された偏光紫外線を透光部パターン２５１ｂに照射した状態で、基板１０をマスク２５０の下を通過させる。これらの偏光紫外線は、互いに反対方向から照射されている。これにより、第１露光（１）及び第２露光（１）を同時に実施でき、また、第１露光（２）及び第２露光（２）を同時に実施できる。すなわち、合計２回の走査露光を行うのみで基板１０の配向処理が完了する。

なお、本実施形態では、図３５に示すように、第１露光（１）、（２）と、第２露光（１）、（２）との間で、偏光紫外線の照射方向の基板面への射影方向Ａと、基板の移動方向Ｂとの関係が互いに異なるが、光配向膜近傍の液晶分子のチルト方向Ｃは、実施形態１の場合と同じである。

また、本実施形態に係る露光装置は、複数のステージを有してもよい。例えば、第１露光（１）及び第２露光（１）用のステージと、第１露光（２）及び第２露光（２）用のステージとを設けてもよい。

（実施形態３）
本実施形態は、使用する露光装置が異なり、露光工程の態様が異なる点を除いて、実施形態１、２とほとんど同じである。

本実施形態に係る露光装置において、各露光ヘッドは、図３６に示すように、フォトマスク３５０及び遮光部材３５６を有する。フォトマスク３５０には、同じ長さの複数の透光部３５１が形成されているが、透光部３５１の開口率が徐々に減少するように端側の透光部３５１の一部が遮光部材３５６によって遮光されている。

本実施形態によっても、実施形態１、２と同様に、露光継ぎ部の合計照射量を通常露光部の照射量よりも小さくすることができる。

遮光部材３５６としては、光源からの光を部分的に遮断する部材であればよく、例えば、光シャッター、光ブラインド等を適宜選択できる。また、遮光部材３５６の配置位置をメカニカルに可変とする機構を部材３５６に設けてもよく、この場合は露光継ぎ部の照射量を容易に調整できるというメリットがある。

本願は、２０１１年１月２４日に出願された日本国特許出願２０１１－０１２３９１号を基礎として、パリ条約ないし移行する国における法規に基づく優先権を主張するものである。該出願の内容は、その全体が本願中に参照として組み込まれている。

１：アレイ基板
２：カラーフィルタ基板
３：液晶層
４、４ａ、４ｂ：液晶分子
６ａ、６ｂ：偏光板
７ａ、７ｂ：位相差板
１０：マザーガラス基板
１０ａ：アレイ基板用のマザーガラス基板
１０ｂ：カラーフィルタ基板用のマザーガラス基板
１１：パネル領域
１２：ソースバスライン
１３：ゲートバスライン
１４：薄膜トランジスタ
１５：絵素電極
１６：ブラックマトリックス
１７：カラーフィルタ
１９：光配向膜
１８、２１、２２、２３、Ａ１、Ａ２、Ｂ１、Ｂ２：領域
２４：通常露光部
２５：露光継ぎ部
３０：露光装置
３１、２３１：露光ヘッド
３２、２３２：露光ステージ
３３：テーブル
３４：紫外線光源
３５：撮像手段
４１：プロキシミティギャップ
５０、２５０、３５０：フォトマスク
５２：遮光部
５１、５５、５６、６１、６５、６６、７１、７５、７６、３５１：透光部
５３、６３、７３、２５３：中央領域
５４、６４、７４、２５４：オーバーラップ領域
６０：アレイ基板用フォトマスク
７０：カラーフィルタ基板用フォトマスク
２５１ａ、２５１ｂ：透光部パターン
３５６：遮光部材
Ａ：偏光紫外線の照射方向の基板面への射影方向
Ｂ：基板の移動方向
Ｃ：チルト方向
Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４：ドメイン

Claims (24)

1. 光配向膜が表面に設けられた基板を露光光に対して相対的に移動させながら前記光配向膜を露光する露光装置であって、
   前記露光装置は、前記光配向膜の第１部分及び第２部分を露光する第１露光と、前記光配向膜の第３部分を露光するとともに前記第２部分を再び露光する第２露光とを行うものであり、
   前記第２部分は、前記第１部分及び前記第３部分の間にあり、
   前記第２部分の照射量が前記第１部分の照射量よりも小さくなるように、前記第１露光は行われ、
   前記第２部分の照射量が前記第３部分の照射量よりも小さくなるように、前記第２露光は行われ、
   前記第１露光による前記第２部分の前記照射量、及び、前記第２露光による前記第２部分の前記照射量の合計は、前記第１部分の前記照射量、及び、前記第３部分の前記照射量のいずれよりも小さく設定されることを特徴とする露光装置。
2. 前記第１部分の前記照射量、及び／又は、前記第３部分の前記照射量を１００％としたとき、
   前記第２部分の前記照射量の合計の最小値は、８５．２％より大きく、１００％より小さいことを特徴とする請求項１記載の露光装置。
3. 前記第２部分の前記照射量の合計の最小値は、９１％以上、９６％以下であることを特徴とする請求項２記載の露光装置。
4. 前記露光装置は、紫外線を前記基板の面の法線に対して斜め方向から入射させるものであることを特徴とする請求項１～３のいずれかに記載の露光装置。
5. 前記紫外線は、偏光紫外線であることを特徴とする請求項４記載の露光装置。
6. 前記露光装置は、遮光部及び複数の透光部を含むフォトマスクを備え、
   前記フォトマスクを介して前記光配向膜を露光することを特徴とする請求項１～４のいずれかに記載の露光装置。
7. 前記遮光部及び前記複数の透光部は、ストライプ状に配置されることを特徴とする請求項６記載の露光装置。
8. 前記複数の透光部の長手方向の方位と、前記基板の相対的な移動方向の方位とが実質的に同じであることを特徴とする請求項７記載の露光装置。
9. 前記フォトマスクは、前記第１部分、及び／又は、前記第３部分に対応して設けられた複数の第１透光部と、前記第２部分に対応して設けられた複数の第２透光部とを含み、
   各第２透光部の開口率は、各第１透光部の開口率よりも小さいことを特徴とする請求項６～８のいずれかに記載の露光装置。
10. 前記複数の第２透光部の開口率は、前記複数の第１透光部から離れるにしたがって減少することを特徴とする請求項９記載の露光装置。
11. 前記複数の第２透光部の開口率の変化は、線形関数又は三角関数で表されることを特徴とする請求項１０記載の露光装置。
12. 前記複数の第２透光部の長さは、前記複数の第１透光部から離れるにしたがって短くなることを特徴とする請求項１０又は１１記載の露光装置。
13. 前記フォトマスク及び前記基板の間に、プロキシミティギャップが設けられることを特徴とする請求項６～１２のいずれかに記載の露光装置。
14. 前記基板のパターンを読み取る撮像手段を備えることを特徴とする請求項１～１３のいずれかに記載の露光装置。
15. 前記基板のパターンを読み取りながら前記基板の露光光に対する相対的な移動方向を制御することを特徴とする請求項１４記載の露光装置。
16. 請求項１～１５のいずれかに記載の露光装置を用いて作製されたことを特徴とする液晶表示装置。
17. ＶＡＴＮモードで駆動されることを特徴とする請求項１６記載の液晶表示装置。
18. ２以上のドメインを有することを特徴とする請求項１６又は１７記載の液晶表示装置。
19. 光配向膜が表面に設けられた基板を露光光に対して相対的に移動させながら前記光配向膜を露光する露光工程を含む液晶表示装置の製造方法であって、
    前記露光工程において、前記光配向膜の第１部分及び第２部分を露光する第１露光と、前記光配向膜の第３部分を露光するとともに前記第２部分を再び露光する第２露光とを行い、
    前記第２部分の照射量が前記第１部分の照射量よりも小さくなるように、前記第１露光は行われ、
    前記第２部分の照射量が前記第３部分の照射量よりも小さくなるように、前記第２露光は行われ、
    前記第１露光による前記第２部分の前記照射量、及び、前記第２露光による前記第２部分の前記照射量の合計は、前記第１部分の前記照射量、及び、前記第３部分の前記照射量のいずれよりも小さく設定されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
20. 垂直配向型の液晶層を形成する工程を含むことを特徴とする請求項１９記載の液晶表示装置の製造方法。
21. 誘電率異方性が負の液晶材料を含有する液晶層を形成する工程を含むことを特徴とする請求項１９又は２０記載の液晶表示装置の製造方法。
22. 前記露光工程によって露光処理された２枚の基板を、露光光の照射方向の当該基板の面への射影方向が互いに略直交するように、貼り合わせる工程を含むことを特徴とする１９～２１のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
23. 前記基板を平面視したときに、互いに反平行方向に露光される２つの領域を各画素内に形成するように、前記光配向膜を露光する工程を含むことを特徴とする請求項１９～２２のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
24. 請求項１９～２３のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法を用いて作製されたことを特徴とする液晶表示装置。

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