WO2012049428A9 - Procédé de dépôt de nanoparticules sur une surface et appareil de dépôt de nanoparticules correspondant - Google Patents

Procédé de dépôt de nanoparticules sur une surface et appareil de dépôt de nanoparticules correspondant Download PDF

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WO2012049428A9
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nanoparticles
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spray
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Paolo Bondavalli
Louis Gorintin
Pierre Legagneux
Pascal Ponard
Original Assignee
Thales
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Publication of WO2012049428A3 publication Critical patent/WO2012049428A3/fr
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    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/02—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by spraying
    • B05D1/12—Applying particulate materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
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    • B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Definitions

  • the present invention relates to a method for depositing nanoparticles on a surface of a support.
  • US 2007/0144431 discloses a process for depositing nanoparticles by sputtering, in which a solution of carbon nanoparticles is sprayed onto a support.
  • WO 2009/048269 discloses a method of deposition of nanoparticles by spraying for the realization of a non-uniform deposition of nanoparticles in a loop pattern of the "interlaced coffee drops" type.
  • An object of the invention is to provide a nanoparticle deposition process for producing nanoparticle deposits on large areas with a low cost and controlled nanoparticle density.
  • the invention proposes a method for depositing nanoparticles on a surface of a support, in which a suspension of nanoparticles in solution in a liquid is sprayed onto the surface of the support, forming at least one spray jet while moving the zone of impact of the or each jet during the spraying so as to spray the suspension according to at least one strip.
  • the nanoparticle deposition process has one or more of the following characteristics, taken individually or in any technically possible combination:
  • the suspension is heated during the spraying so as to promote the total evaporation of the microdroplets on the support surface;
  • the suspension is heated during the spraying so that the microdroplets reaching the support are brought to a temperature at least equal to 80% of the boiling point of the liquid;
  • the suspension is heated during the spraying so that the microdrops reaching the support are brought to a temperature equal to or less than 3 times the boiling temperature of the liquid;
  • the suspension is heated during the spraying by heating the support as a whole, by heating the surface of the support locally, by heating the microdroplets in the or each spray jet before the microdrops reach the surface of the support and / or heating a spray gas of the suspension before spraying;
  • the surface of the support is heated locally during the radiation spraying, in particular by light radiation, in particular by pointing a laser or infrared beam on the surface of the support;
  • the surface of the support is heated locally during the spraying along the path of the impact zone;
  • the suspension is sprayed with a spray gas at a spray pressure of between 1 and 5 bar;
  • the suspension is sprayed with a suspension rate of between 0.1 ml / min and 5 ml / min;
  • the suspension is sprayed with at least one nozzle, the or each nozzle having an outlet orifice with a diameter of between 0.1 mm and 3 mm;
  • microdroplets are sprayed in parallel strips partially overlapping
  • each band has a Gaussian density distribution of nanoparticles transversely to the band having a standard deviation, the spacing between the central lines of two adjacent bands being less than 3 times the standard deviation;
  • the suspension is sprayed while simultaneously forming a plurality of spray jets which are displaced with respect to the surface of the support in order to apply the nanoparticles in parallel strips;
  • the suspension is sprayed so as to form a layer of nanoparticles and at least partially covers the nanoparticle layer with a coating layer devoid of nanoparticles that is applied by spraying;
  • the suspension is sprayed onto a support in the form of a web of continuous material
  • the liquid of the suspension is chosen from among the following compounds: water (H 2 O), methanol (CH 4 O), Ethanol (C 2 H 6 O), ethylene chloride (EDC), dichlorobenzidine (DCB), methylpyrridone (NMP) or dimethylformamide (DMF) hexamethylphosphoramide (HMPA), cyclopentanone (C5H80), tetramethylene sulfoxide (TMSO), ⁇ -caprolactone 1, 2-dichlorobenzene, 1,2-dimethylbenzene, bromobenzene, lodobenzene, and toluene.
  • the invention also relates to an apparatus for producing deposits of nanoparticles comprising at least one reservoir containing a suspension of nanoparticles in a liquid and connected to at least one spray nozzle for spraying the suspension in microdroplets, and own displacement means moving the or each nozzle relative to the support surface during spraying to apply the following suspensions at least one band resulting from the displacement of the or each nozzle.
  • the apparatus for producing nanoparticle deposits comprises one or more of the following characteristics, taken in isolation or in any technically possible combination:
  • the heating means are suitable for heating the suspension so that the microdroplets reaching the support are brought to a temperature at least equal to 80% of the boiling temperature of the liquid;
  • the heating means are suitable for heating the support, for locally heating the surface of the support, for heating the sputtering gas before spraying and / or for heating the sprayed microdroplets in the or each spray jet formed by the nozzle;
  • Heating means for locally heating the surface of the support comprising at least one radiation source, in particular laser radiation or infrared radiation;
  • Means for heating the microdroplets sprayed in the or each spray jet comprise at least one radiation source, in particular laser radiation or infrared radiation, directed through the jet, in particular at the outlet of the spray nozzle.
  • Figure 1 is a schematic view of an apparatus for producing nanoparticle deposition according to a method according to the invention
  • FIG. 2 is a diagrammatic view from above of a deposit of nanoparticles deposited on a support according to the invention
  • Fig. 3 is a graph illustrating a density of nanoparticles along the line III-III in Fig. 2;
  • FIG. 4 is a schematic view from above of a deposit of nanoparticles deposited on a support made according to the invention.
  • FIG. 5 is a schematic view illustrating nanoparticle deposition paths on a support according to the invention.
  • Figures 6 to 8 schematically illustrate apparatus for depositing nanoparticles on supports, according to the invention;
  • Figures 9 to 12 schematically illustrate deposits of nanoparticles on a support according to methods according to the invention.
  • FIG. 13 is a schematic view of an apparatus for producing nanoparticle deposits according to the invention.
  • the apparatus 2 for producing nanoparticle deposits illustrated in FIG. 1 is capable of producing deposits of nanoparticles on a surface 4 to be covered with a support 6.
  • the apparatus 2 comprises a spray nozzle 8, a tank 10 containing a suspension of nanoparticles in a liquid and a source 12 of spray gas.
  • the nanoparticles are, for example, carbon nanotubes, semiconductor nanoparticles and / or graphene. Other nanoparticles are conceivable.
  • the liquid of the suspension is chosen from the following compounds: water (H 2 O), methanol (CH 4 O), ethanol (C 2 H 6 O), ethylene chloride (EDC), dichlorobenzidine (DCB), methylpyrridone (NMP) or dimethylformamide (DMF), hexamethylphosphoramide (HMPA), cyclopentanone (C5H80), tetramethylene sulfoxide (TMSO), ⁇ -caprolactone 1, 2-dichlorobenzene, 1,2-dimethylbenzene, bromobenzene, lodobenzene, and toluene. Other compounds are conceivable.
  • the sputtering gas is, for example, air.
  • the nozzle 8 is fed with suspension from the tank 10 and spray gas from the source 12.
  • the nozzle 8 is suitable for spraying the suspension fed at low pressure microdroplets using the gas supplied at high pressure.
  • the nozzle 8 is of the airbrush type.
  • microdroplets microscopically sized drops, the diameter of which is between about 1 and 100 micrometers.
  • the nozzle 8 is movable relative to the support 6 in at least one direction of displacement parallel to the surface 4 to be covered (arrow F1) and preferably in two directions of movement parallel to the surface 4 to be covered and perpendicular to each other.
  • the nozzle 4 is also movable in a direction perpendicular to the surface 4 to be covered to adjust the distance between the nozzle 8 and the surface 4 to be covered.
  • the apparatus 2 comprises heating elements 14 of the support 6 in the form of resistive heating elements, connected to a power supply circuit (not shown) so that the resistive heating elements emit heat by Joule effect. when they are crossed by an electric current.
  • the device comprises means for heating the support by induction, comprising for example a plate on which is placed the support 6 and inductors to induce currents in the plate and generate heat.
  • the apparatus 2 comprises a temperature sensor 16 arranged to measure the temperature of the support 6.
  • the apparatus 2 comprises a control unit 18 programmed to control the displacement of the nozzle 8 relative to the support 6 and to control the heating elements 14 so as to maintain the support 6 at a predetermined temperature.
  • the nozzle 8 In operation, the nozzle 8 generates a spray jet 20 formed of suspension microdroplets projected toward the surface 4 to be covered with the support 6.
  • the spray jet 20 reaches the surface 4 to be covered in an impact zone 22 whose shape and dimensions depend in particular on the geometry of the nozzle 8, the setting of the nozzle 8 and the position of the nozzle 8 relative to the surface 4 to be covered.
  • the shape and dimensions of the impact zone 22 depend in particular on the angle ⁇ at the apex of the cone formed by the spray jet 20 at the outlet of the nozzle 8 and the distance between the outlet of the nozzle 8 and the surface 4 of support 6. They also depend on the pressure of the sputtering gas, the spraying gas flow rate and the slurry flow rate.
  • the spray jet 20 is for example conical of revolution, so that it forms an impact zone of generally circular shape.
  • the spray jet could define an oblong impact zone, more elongated in a first direction than in a second direction perpendicular to the first direction.
  • FIG. 2 illustrates a strip 24 extending in a direction line L rectilinear. In a variant, the line L is curved.
  • the heating elements 14 controlled by the control unit 18 as a function of the signal supplied by the sensor 16 make it possible to maintain the temperature of the support 6 at a sufficiently high set point for heating the microdroplets reaching the support 6 so as to promote the rapid total evaporation of the microdroplets reaching the support 6.
  • the apparatus 2 allows the implementation of a nanoparticle deposition process the surface 4 of the support 6 according to the invention.
  • microdroplets of suspensions of nanoparticles are sprayed onto the surface 4 of the support 6 by displacing the spray jet during spraying so as to spray the suspension according to at least one strip.
  • the density of nanoparticles taken transversely to a band applied by moving a spray pattern varies over the width of the band.
  • Figure 3 is a graph showing on the abscissa the position along the line III-III in Figure 2 with respect to the center line L of the strip 24 and ordinate the density of nanoparticles.
  • the density of nanoparticles has a Gaussian distribution transverse to the band whose apex, corresponding to the maximum density of nanoparticles, is located in the middle of the strip in the direction of the width of the strip.
  • the Gaussian density distribution is characterized in particular by its amplitude A and its standard deviation o.
  • nanoparticles are deposited by spraying a suspension of nanoparticles into a liquid, forming one or more spray jet (s) that are displaced to apply the nanoparticles.
  • spray jet s
  • in parallel bands 26, 28 inducing Gaussian distributions of nanoparticle density of substantially the same amplitude A and of the same type o spread, overlapping, with a difference E between the central lines L1, L2 of the adjacent bands less than 3 times the ⁇ standard deviation of the Gaussian transverse density distribution of nanoparticles in the bands. This makes it possible to obtain a distribution of the nanoparticles transversely to the bands having a satisfactory homogeneity.
  • a first deposit is made in parallel strips at a first direction and a second deposit covering the first deposit, the second deposit being made in strips parallel to a second direction.
  • the second direction is perpendicular to the first direction.
  • parallel strip deposition is achieved by moving a spray jet along a boustrophedon path, moving the jet along lines parallel to a direction of travel. alternately in one direction and then in the other.
  • superimposed deposits are produced, for example, making a first deposit along a first boustrophedon path parallel to a first direction and a second deposit following a second path. in boustrophedon parallel to a second direction perpendicular to the first direction.
  • deposition is carried out in overlapping parallel strips by forming a plurality of spray jets with the aid of a plurality of spray nozzles. spray shifted transversely to a direction of movement of the spray jets.
  • an apparatus 2 for producing nanoparticle deposits comprises a plurality of nozzles 8 offset transversely to a direction of movement of the spray jets (perpendicular to the plane of Figure 6).
  • the nozzles 8 comprise a first series of nozzles and a second series of nozzles offset from those of the first series in the direction of displacement.
  • the nozzles are successively offset, so that they are arranged in a line that is oblique with respect to the direction of movement of the nozzles relative to the support 6.
  • Such nozzle arrangements avoid the problems of nozzle space and interference between the spray jets 20.
  • the support 6 and the nozzle 8 are moved to obtain the relative displacement of the nozzle 8 and the support 6. In a variant, only the nozzle 8 or only the support 6 is moved.
  • nanoparticles are deposited on the outer surface of a circular cylindrical support having an axis A (perpendicular to the plane of FIG. 7), driving the support in rotation around its axis. (arrow F3).
  • annular bands are made by keeping the fixed nozzle relative to the support along the axis A of the support 6.
  • the nozzle is moved relative to the support 6 on the along the axis A of the support 6 to make a helical band.
  • several nozzles are used simultaneously.
  • a deposition of nanoparticles is carried out on a strip of continuous material serving as a support 6 by unwinding the strip of continuous material from a roll and driving the strip of continuous material along of a path (arrow F4), and parallel strips of nanoparticles are sprayed onto the web of continuous material by means of spray nozzles 8 distributed over the width of the web of continuous material.
  • the suspension is heated so as to promote the total rapid evaporation of the liquid from the microdroplets on the support. Once the liquid has evaporated, only the nanoparticles remain on the support 6.
  • the heating of the suspension is carried out by heating the support.
  • the microdrops are heated to the desired temperature upon reaching the support. Because of their small size and the temperature of the support, the evaporation time of the microdroplets is low, which makes it possible to limit the coalescence of microdrops.
  • Such heating can be achieved with the apparatus of FIG. 1 by means of the heating elements 14.
  • the heating of the suspension is carried out by heating the surface of the support locally, for example by subjecting the surface of the support to radiation, in particular laser radiation.
  • a nanoparticle deposition apparatus 2 comprises means for locally heating the surface 4 of a support 6 to be covered in the form of a laser or infrared source 34 arranged with in order to emit a laser or infra-red beam 36 towards a heated zone 38 of the surface 4 to be covered.
  • the heated zone 38 is situated immediately downstream of the impact zone 22 of a spray jet 20 along the path of the impact zone 22 resulting from the displacement (arrow F5) of the spray jet 20 with respect to the surface 4 to be covered.
  • the laser or infrared source 34 is moved together with the nozzle 8.
  • the surface 4 to be coated is heated locally and superficially just before spraying microdroplets.
  • the heating of the surface 4 is brief which limits the risk of altering the material of the support 6 sensitive to heat, and requires less energy input.
  • the heating of the suspension is carried out by heating the microdroplets in the spray jet, for example by subjecting the jet to radiation, in particular laser radiation.
  • a nanoparticle deposition apparatus 2 comprises a laser or infrared source 34 oriented to generate a beam 36 in the direction of the spray jet 20 at the birth of the spray jet 30 at the outlet 40 of the nozzle 8.
  • heating of the slurry is accomplished by heating the sputtering gas prior to spraying.
  • a nanoparticle deposition apparatus 2 comprises heating elements 42 arranged along a conduit 48 for feeding the sputtering gas to the nozzle 8.
  • a layer of nanoparticles deposited on the surface 4 of the support 6 is covered by a covering layer devoid of nanoparticles.
  • the covering layer is applied by spraying a covering liquid, for example a resin, with the aid of at least one nozzle 49 which is displaced (arrow F6). It is thus possible to deposit alternately layers of nanoparticles and layers of materials devoid of nanoparticles.
  • nanoparticles are deposited on the surface of a support by spraying, by moving a spray jet relative to the surface to be coated so as to deposit the nanoparticles in at least one strip. and heating the suspension to promote evaporation of microdroplets on the surface of the support.
  • the application of nanoparticles by spraying is reliable.
  • the spray nozzles make it possible to form microdroplets of appropriate size while providing conduits and / or openings for the circulation of the suspension in liquid form or in the form of microdroplets, larger than those of microdroplets and nanoparticles, which avoids clogging. spray nozzles.
  • Microdroplets reaching the surface of the support tend to coalesce to form larger drops. These larger drops take longer to evaporate, so that they can lead to the formation of convection currents within these drops, which can cause an inhomogeneous distribution of the nanoparticles in suspension in the liquid. Generally, there is a greater density of nanoparticles at the periphery of the drop. This effect is known as "coffee drops”.
  • the displacement of the spray jet makes it possible to deposit on large areas.
  • the displacement of the spray jet also makes it possible to limit the coalescence of the microdroplets.
  • the regular displacement of the spray jet allows a homogeneous density of the nanoparticles along the band applied on the surface of the support.
  • Heating the suspension so that the microdroplets reaching the support are brought to a sufficiently high temperature makes it possible to rapidly evaporate the liquid from the suspension of the microdroplets having reached the support while at least partially preventing coalescence of the microdroplets. This results in better control of the distribution of nanoparticles, including a more homogeneous distribution. We avoid or at least limit the effect "drop of coffee".
  • the suspension is heated to promote rapid evaporation of the liquid, while avoiding its complete evaporation before the microdroplets reach the surface of the support to be coated, particularly when the suspension is heated before the microdrops reach the support, for example in the nozzle and in the spray jet.
  • the evaporation time of the microdrop suspension fluid depends in particular on the boiling point of the liquid, the temperature of the microdroplets and the diameter of the microdroplets.
  • the diameter of the microdroplets depends on the sputtering parameters, including the spraying pressure, the flow rate of the sprayed liquid and the diameter of the outlet orifice of the spray nozzle.
  • the time of evaporation of the microdroplets sprayed is heated so that it is between 1 ms and 100 ms.
  • the evaporation times of NMP microdroplets of 10 ⁇ in diameter is of the order of ten milliseconds.
  • the heating means is controlled so as to bring the microdroplets to a temperature at least equal to 80% of the boiling point evaporation temperature of the liquid of the suspension. This ensures rapid evaporation.
  • the heating means is controlled so as to bring the microdrops to a temperature equal to or less than 3 times the boiling temperature of the liquid of the suspension. This prevents evaporation too fast.
  • the spray pressure is between 1 and 5 bar.
  • the flow rate of the sprayed liquid is between 0.1 ml / min and 5 ml / min.
  • the diameter of the outlet orifice of the spray nozzle is between 0.1 mm and 3 mm.
  • the concentration of the suspension in nanoparticles is from a few milligrams per liter to a few grams per liter.
  • the coating thicknesses of nanoparticles obtained may range from a few particles to a few hundred micrometers.
  • the suspension is heated by heating the support as a whole, by heating the surface of the support locally, by heating the microdroplets in the or each spray jet before the microdroplets reach the surface of the support. and / or by heating a spray gas of the suspension prior to spraying.
  • a nanoparticle deposition apparatus 2 according to the invention will now be described with reference to FIG. 13, taking again the numerical references corresponding to elements similar to those already mentioned previously.
  • the nanoparticle deposition apparatus 2 illustrated in FIG. 14 comprises an automaton 50 making it possible to move a nozzle 8 with respect to a support 6 in three directions of an orthogonal reference: a horizontal longitudinal direction X, a horizontal transversal direction Y, and a vertical direction Z.
  • the controller 50 comprises a fixed base 52 delimiting a working space 54, a plate 56 slidably mounted on the base 52 in the longitudinal direction X, in the working space 54, two uprights 58 extending vertically upwards to from the base 52, a cross member 60 extending transversely between the upper ends of the uprights 58, above the working space 54, a carriage 62 slidably mounted on the crossmember 60 in the transverse direction Y (arrow F7) , and a carrier 64 mounted to move on the carriage 62 in the vertical direction Z (arrow F8).
  • the plate 56 is provided to receive the support 6.
  • the nozzle 8 is fixed on the carrier 64.
  • the longitudinal displacements of the cradle 56, transverse of the carriage 62 and vertical of the carrier 64 can move the nozzle 8 along the three directions X, Y , Z.
  • the apparatus 2 comprises means for heating the plate 56, and thus heating the support 6 received on the plate 56.
  • the heating means comprise heating elements 14 arranged under and / or in the plate 56.
  • the apparatus 2 comprises a temperature sensor 16 arranged to measure the temperature of the support 6.
  • the apparatus 2 comprises a control unit 18 programmed to control the controller 50 so as to cause the nozzle 8 to move relative to the support 6 and to control the heating elements 14 so as to maintain the support 6 at a predetermined temperature according to the temperature measurement provided by the sensor 16.
  • the invention applies for example to the manufacture of transistor matrices on mats of nanoparticles, especially carbon nanotubes.
  • the method according to the invention generally makes it possible to better control the uniformity of a deposition of nanoparticles. It thus makes it possible to produce uniform deposits of nanoparticles on a surface. It also makes it possible to modulate the density of nanoparticles deposited on a surface, for example by depositing a number of layers of different nanoparticles in different areas of the surface and / or by changing the spacing between strips deposited in parallel and / or by intersecting them. to create areas of higher density of nanoparticles and areas of lower density of nanoparticles.

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Abstract

Procédé de dépôt de nanoparticules sur une surface et appareil de dépôt de nanoparticules correspondant Dans ce procédé de dépôt de nanoparticules, on pulvérise une suspension de nanoparticules en solution dans un liquide sur la surface (4) du support (6) en formant au moins un jet (20) de pulvérisation en déplaçant la zone d'impact (22) du ou de chaque jet pendant la pulvérisation de façon à pulvériser la suspension suivant au moins une bande.

Description

Procédé de dépôt de nanoparticules sur une surface et appareil de dépôt de nanoparticules correspondant
La présente invention concerne un procédé de dépôt de nanoparticules sur une surface d'un support.
US 2007/0144431 divulgue un procédé de dépôt de nanoparticules par pulvérisation, dans lequel une solution de nanoparticules de carbone est pulvérisée sur un support.
WO 2009/048269 divulgue un procédé de dépôt de nanoparticules par pulvérisation visant à la réalisation d'un dépôt non uniforme de nanoparticules suivant un motif en boucles du type « gouttes de café » entrelacées.
En vue d'une production industrielle d'objets utilisant des dépôts de nanoparticules, il est souhaitable de pouvoir réaliser des dépôts de nanoparticules sur de grandes surfaces, avec une densité de nanoparticules maîtrisée et à un coût faible.
Un but de l'invention est de proposer un procédé de dépôt de nanoparticules permettant de réaliser des dépôts de nanoparticules sur des grandes surfaces avec une densité de nanoparticules maîtrisée et à coût faible.
A cet effet, l'invention propose un procédé de dépôt de nanoparticules sur une surface d'un support, dans lequel on pulvérise une suspension de nanoparticules en solution dans un liquide sur la surface du support en formant au moins un jet de pulvérisation en déplaçant la zone d'impact du ou de chaque jet pendant la pulvérisation de façon à pulvériser la suspension suivant au moins une bande.
Selon d'autres modes de mise en œuvre, le procédé de dépôt de nanoparticules présente une ou plusieurs des caractéristiques suivantes, prise(s) isolément ou selon toutes les combinaisons techniquement possibles:
- on chauffe la suspension pendant la pulvérisation de façon à promouvoir l'évaporation totale des microgouttes sur la surface de support ;
- on chauffe la suspension pendant la pulvérisation de façon que les microgouttes atteignant le support soient portées à une température au moins égale à 80 % de la température d'ébullition du liquide ;
- on chauffe la suspension pendant la pulvérisation de façon que les microgouttes atteignant le support soient portées à une température égale ou inférieure à 3 fois la température d'ébullition du liquide ;
- on chauffe la suspension pendant la pulvérisation en chauffant le support dans son ensemble, en chauffant localement la surface du support, en chauffant les microgouttes dans le ou chaque jet de pulvérisation avant que les microgouttes atteignent la surface du support et/ou en chauffant un gaz de pulvérisation de la suspension avant la pulvérisation ;
- on chauffe localement la surface du support pendant la pulvérisation par rayonnement, notamment par rayonnement lumineux, en particulier en pointant un faisceau laser ou infrarouge sur la surface du support ;
- on chauffe localement la surface du support pendant la pulvérisation le long du trajet de la zone d'impact ;
- on pulvérise la suspension à l'aide d'un gaz de pulvérisation à une pression de pulvérisation comprise entre 1 et 5 bars ;
- on pulvérise la suspension avec un débit de suspension compris entre 0,1 ml/min et 5 ml/min ;
- on pulvérise la suspension à l'aide d'au moins une buse, la ou chaque buse présentant un orifice de sortie de diamètre compris entre 0,1 mm et 3 mm ;
- on pulvérise les microgouttes suivant des bandes parallèles se recouvrant partiellement ;
- chaque bande présente une distribution gaussienne de densité de nanoparticules transversalement à la bande possédant un écart type, l'écartement entre les lignes centrales de deux bandes adjacentes étant inférieur à 3 fois l'écart type ;
- on pulvérise la suspension en formant simultanément plusieurs jets de pulvérisation que l'on déplace par rapport à la surface du support pour appliquer les nanoparticules suivant des bandes parallèles ;
- on pulvérise la suspension de façon à former une couche de nanoparticules et on recouvre au moins partiellement la couche de nanoparticules d'une couche de recouvrement dépourvue de nanoparticules que l'on applique par pulvérisation ;
- on pulvérise la suspension sur un support sous la forme d'une bande de matière continue ;
- on choisit le liquide de la suspension parmi les composés suivants : eau (H20), méthanol (CH40), Ethanol (C2H60), chlorure d'éthylène (DCE), dichlorobenzidine (DCB), méthylpyrridone (NMP) ou diméthylformamide (DMF), hexamethylphosphoramide (HMPA), cyclopentanone (C5H80 ), tetramethylene sulfoxide (TMSO), ε-caprolactone 1 ,2-dichlorobenzene, 1 ,2-dimethylbenzene, bromobenzene, lodobenzene, et toluène.
L'invention concerne également un appareil pour la réalisation de dépôts de nanoparticules comprenant au moins un réservoir contenant une suspension de nanoparticules dans un liquide et relié à au moins une buse de pulvérisation pour la pulvérisation de la suspension en microgouttes, et moyens de déplacement propres à déplacer la ou chaque buse par rapport à la surface du support pendant la pulvérisation pour appliquer la suspensions suivant au moins une bande résultant du déplacement de la ou chaque buse.
Selon d'autres modes de réalisation, l'appareil pour la réalisation de dépôts de nanoparticules comprend une ou plusieurs des caractéristiques suivantes, prise(s) isolément ou selon toutes les combinaisons techniquement possibles :
- des moyens de chauffage de la suspension et une unité de commande des moyens de chauffage programmée pour commander les moyens de chauffage de façon à chauffer la suspension pendant la pulvérisation de façon à promouvoir l'évaporation totale du liquide sur la surface du support ;
- les moyens de chauffages sont propres à chauffer la suspension de façon que les microgouttes atteignant le support soient portées à une température au moins égale à 80 % de la température d'ébullition du liquide ;
- les moyens de chauffage sont propres à chauffer le support, à chauffer localement la surface du support, à chauffer le gaz de pulvérisation avant la pulvérisation et/ou à chauffer les microgouttes pulvérisées dans le ou chaque jet de pulvérisation formé par la buse ;
- des moyens de chauffage propres à chauffer localement la surface du support comprenant au moins une source de rayonnement, notamment de rayonnement laser ou de rayonnement infrarouge ;
- des moyens de chauffage des microgouttes pulvérisées dans le ou chaque jet de pulvérisation comprennent au moins une source de rayonnement, notamment de rayonnement laser ou de rayonnement infrarouge, dirigée au travers du jet, notamment à la sortie de la buse de pulvérisation.
L'invention et ses avantages seront mieux compris à la lecture de la description qui va suivre, donnée uniquement à titre d'exemple et faite en se référant aux dessins annexés sur lesquels :
la figure 1 est une vue schématique d'un appareil pour la réalisation de dépôt de nanoparticules suivant un procédé conforme à l'invention ;
la figure 2 est une vue schématique de dessus d'un dépôt de nanoparticules déposées sur un support conformément à l'invention ;
la figure 3 est un graphique illustrant une densité de nanoparticules suivant la ligne lll-lll sur la figure 2 ;
la figure 4 est une vue schématique de dessus d'un dépôt de nanoparticules déposées sur un support réalisé conformément à l'invention ;
- la figure 5 est une vue schématique illustrant des trajets de dépôts de nanoparticules sur un support conformément à l'invention ; les figures 6 à 8 illustrent schématiquement des appareils de dépôt de nanoparticules sur des supports, conformes à l'invention ;
les figures 9 à 12 illustrent schématiquement des dépôts de nanoparticules sur un support suivant des procédés conforme à l'invention ; et
- la figure 13 est une vue schématique d'un appareil pour la réalisation de dépôts de nanoparticules conforme à l'invention.
L'appareil 2 de réalisation de dépôts de nanoparticules illustré sur la figure 1 est propre à réaliser des dépôts de nanoparticules sur une surface 4 à recouvrir d'un support 6.
L'appareil 2 comprend une buse 8 de pulvérisation, un réservoir 10 contenant une suspension de nanoparticules dans un liquide et une source 12 de gaz de pulvérisation.
Les nanoparticules sont par exemple des nanotubes de carbones, des nanoparticules de semi-conducteur et/ou du graphène. D'autres nanoparticules sont envisageables.
Le liquide de la suspension est choisi parmi les composés suivant : eau (H20), méthanol (CH40), éthanol (C2H60), chlorure d'éthylène (DCE), dichlorobenzidine (DCB), méthylpyrridone (NMP) ou diméthylformamide (DMF), hexaméthylphosphoramide (HMPA), cyclopentanone (C5H80 ), tétraméthylène sulfoxide (TMSO), ε-caprolactone 1 ,2-dichlorobenzène, 1 ,2-diméthylbenzène, bromobenzène, lodobenzène, et toluène. D'autres composés sont envisageables.
Le gaz de pulvérisation est par exemple de l'air.
La buse 8 est alimentée en suspension à partir du réservoir 10 et en gaz de pulvérisation à partir de la source 12. La buse 8 est propre à pulvériser la suspension alimentée à basse pression en microgouttes en utilisant le gaz alimenté à haute pression. La buse 8 est du type aérographe.
Par « microgouttes », on entend des gouttes de taille d'ordre microscopique, dont le diamètre est compris entre environ 1 et 100 micromètres.
La buse 8 est déplaçable par rapport au support 6 suivant au moins une direction de déplacement parallèle à la surface 4 à recouvrir (flèche F1 ) et de préférence suivant deux directions de déplacement parallèle à la surface 4 à recouvrir et perpendiculaires entre elles. La buse 4 est également déplaçable suivant une direction perpendiculaire à la surface 4 à recouvrir pour régler la distance entre la buse 8 et la surface 4 à recouvrir.
L'appareil 2 comprend des éléments de chauffage 14 du support 6 sous la forme d'éléments de chauffage résistifs, reliés à un circuit d'alimentation électrique (non représenté) de sorte que les éléments de chauffage résistifs émettent de la chaleur par effet Joule lorsqu'ils sont traversés par un courant électrique. En variante l'appareil comprend des moyens de chauffage du support par induction, comprenant par exemple une plaque sur laquelle est posée le support 6 et des inducteurs pour induire des courants dans la plaque et générer de la chaleur.
L'appareil 2 comprend un capteur de température 16 disposé de façon à mesurer la température du support 6.
L'appareil 2 comprend une unité de commande 18 programmée pour commander le déplacement de la buse 8 par rapport au support 6 et pour commander les éléments chauffants 14 de façon à maintenir le support 6 à une température déterminée.
En fonctionnement, la buse 8 génère un jet de pulvérisation 20 formé de microgouttes de suspension projetées en direction de la surface 4 à recouvrir du support 6. Le jet de pulvérisation 20 atteint la surface 4 à recouvrir dans une zone d'impact 22 dont la forme et les dimensions dépendent en particulier de la géométrie de la buse 8, du réglage de la buse 8 et de la position de la buse 8 par rapport à la surface 4 à recouvrir.
La forme et les dimensions de la zone d'impact 22 dépendent notamment de l'angle a au sommet du cône formé par le jet de pulvérisation 20 en sortie de la buse 8 et de la distance entre la sortie de la buse 8 et la surface 4 du support 6. Elles dépendent également de la pression du gaz de pulvérisation, du débit de gaz de pulvérisation et du débit de suspension.
Le jet de pulvérisation 20 est par exemple conique de révolution, de sorte qu'il forme une zone d'impact de forme générale circulaire. En variante, le jet de pulvérisation pourrait définir une zone d'impact oblongue, plus allongée dans une première direction que dans une deuxième direction perpendiculaire à la première.
Comme illustré sur la figure 2, le déplacement de la buse 8 (flèche F2) suivant une ligne L pendant la pulvérisation permet de déposer les microgouttes et donc les nanoparticules suivant une bande 24. La figure 2 illustre une bande 24 s'étendant suivant une ligne L rectiligne. En variante, la ligne L est courbe.
Les éléments chauffant 14 commandés par l'unité de commande 18 en fonction du signal fourni par le capteur 16 permettent de maintenir la température du support 6 à une valeur de consigne suffisamment élevée pour chauffer les microgouttes atteignant le support 6 de façon à promouvoir l'évaporation totale rapide des microgouttes atteignant le support 6.
L'appareil 2 permet la mise en œuvre d'un procédé de dépôt de nanoparticules la surface 4 du support 6 conforme à l'invention.
Selon un tel procédé, on pulvérise des microgouttes de suspensions de nanoparticules sur la surface 4 du support 6 en déplaçant pendant la pulvérisation le jet 20 de pulvérisation de façon à pulvériser la suspension suivant au moins une bande. La densité de nanoparticules prises transversalement à une bande appliquée en déplaçant un jet de pulvérisation varie sur la largeur de la bande. La figure 3 est un graphique illustrant en abscisse la position suivant la ligne lll-lll sur la figure 2 par rapport à la ligne centrale L de la bande 24 et en ordonnée la densité de nanoparticules. La densité de nanoparticules présente transversalement à la bande une distribution gaussienne dont le sommet, correspondant à la densité maximale de nanoparticules, est situé en milieu de la bande dans le sens de la largeur de la bande. La distribution de densité gaussienne est caractérisée notamment par son amplitude A et son écart type o.
Selon un mode de mise en œuvre illustré sur la figure 4, on réalise un dépôt de nanoparticules par pulvérisation d'une suspension de nanoparticules dans un liquide en formant un ou plusieurs jet(s) de pulvérisation que l'on déplace pour appliquer les nanoparticules en bandes 26, 28 parallèles, induisant des distributions gaussiennes de densité de nanoparticules sensiblement de même amplitude A et de même écarte type o, se chevauchant, avec un écart E entre les lignes centrales L1 , L2 des bandes adjacentes inférieure à 3 fois l'écart type σ de la distribution transversale gaussienne de densité de nanoparticules dans les bandes. Ceci permet d'obtenir une répartition des nanoparticules transversalement aux bandes présentant une homogénéité satisfaisante.
Dans une variante de mise en œuvre, on réalise plusieurs dépôts successifs superposés en bandes parallèles, les bandes ayant des orientations différentes d'un dépôt à l'autre.
Dans un mode de mise en œuvre, on réalise un premier dépôt en bandes parallèles à une première direction et un deuxième dépôt recouvrant le premier dépôt, le deuxième dépôt étant réalisé en bandes parallèles à une deuxième direction. Avantageusement, la deuxième direction est perpendiculaire à la première direction.
Tel qu'illustré sur la figure 5, dans un mode de mise en œuvre, un dépôt en bandes parallèles est réalisé en déplaçant un jet de pulvérisation suivant un trajet 30 en boustrophédon, en déplaçant le jet suivant des droites parallèles à une direction de déplacement, alternativement dans un sens puis dans l'autre.
Tel qu'illustré sur la figure 5, dans un mode de mise en œuvre, des dépôts superposés sont réalisés par exemple un réalisant un premier dépôt suivant un premier trajet 30 en boustrophédon parallèlement à une première direction et un deuxième dépôt suivant un deuxième trajet 32 en boustrophédon parallèlement à une deuxième direction perpendiculaire à la première direction.
Dans un mode de mise en œuvre, on réalise un dépôt en bandes parallèles se chevauchant en formant plusieurs jets de pulvérisation à l'aide de plusieurs buses de pulvérisation décalées transversalement à une direction de déplacement des jets de pulvérisation.
Tel qu'illustré sur la figure 6, un appareil 2 pour la réalisation de dépôts de nanoparticules comprend plusieurs buses 8 décalées transversalement à une direction de déplacement des jets de pulvérisation (perpendiculaire au plan de la figure 6).
Les buses 8 comprennent une première série de buses et une deuxième série de buses décalées par rapport à celles de la première série suivant la direction de déplacement. Dans une variante, les buses sont décalées successivement, de sorte qu'elles sont disposées suivant une ligne oblique par rapport à la direction de déplacement des buses par rapport au support 6. De telles dispositions de buses évitent les problèmes d'encombrement des buses et d'interférence entre les jets de pulvérisation 20.
Dans un mode de mise en œuvre, le support 6 et la buse 8 sont déplacés pour obtenir le déplacement relatif de la buse 8 et du support 6. En variante, seule la buse 8 ou seul le support 6 est déplacée.
Dans une application possible illustrée sur la figure 7, on réalise un dépôt de nanoparticules sur la surface extérieure d'un support cylindrique circulaire possédant un axe A (perpendiculaire au plan de la figure 7), en entraînant le support en rotation autour de son axe (flèche F3). Dans un mode de mise en œuvre, on réalise des bandes annulaires en maintenant la buse fixe relativement au support le long de l'axe A du support 6. Dans un autre mode de mise en œuvre, on déplace la buse relativement au support 6 le long de l'axe A du support 6 pour réaliser une bande hélicoïdale. Dans un mode de mise en œuvre, on utilise plusieurs buses simultanément.
Dans une autre application possible illustrée sur la figure 8, on réalise un dépôt de nanoparticules sur une bande de matière continue servant de support 6 en dévidant la bande de matière continue à partir d'un rouleau et en entraînant la bande de matière continue le long d'un chemin (flèche F4), et on pulvérise des bandes parallèles de nanoparticules sur la bande de matière continue à l'aide de buses 8 de pulvérisation réparties sur la largeur de la bande de matière continue.
Selon un aspect de l'invention, pendant la pulvérisation, on chauffe la suspension de manière à promouvoir l'évaporation rapide totale du liquide des microgouttes sur le support. Une fois le liquide évaporé, seules les nanoparticules restent sur le support 6.
Dans un mode de mise en œuvre, le chauffage de la suspension est réalisé en chauffant le support. Il en résulte que les microgouttes sont chauffées à la température souhaitée en atteignant le support. Du fait de leur taille réduite et de la température du support, le temps d'évaporation des microgouttes est faible, ce qui permet de limiter la coalescence des microgouttes. Un tel chauffage est réalisable avec l'appareil de la figure 1 à l'aide des éléments de chauffage 14.
Dans un autre mode de mise en œuvre, le chauffage de la suspension est réalisé en chauffant localement la surface du support, par exemple en soumettant la surface du support à un rayonnement, notamment un rayonnement laser.
Pour ce faire, tel qu'illustré sur la figure 9, un appareil 2 de dépôt de nanoparticules comprend des moyens de chauffage local de la surface 4 d'un support 6 à recouvrir sous la forme d'une source laser ou infrarouge 34 disposée de façon à émettre un faisceau 36 laser ou infra rouge en direction d'une zone chauffée 38 de la surface 4 à recouvrir.
Avantageusement, la zone chauffée 38 est située immédiatement en aval de la zone d'impact 22 d'un jet de pulvérisation 20 suivant le trajet de la zone d'impact 22 résultant du déplacement (flèche F5) du jet de pulvérisation 20 par rapport à la surface 4 à recouvrir. La source laser ou infrarouge 34 est déplacée conjointement à la buse 8.
II en résulte que la surface 4 à recouvrir est chauffée localement et superficiellement juste avant la pulvérisation de microgouttes. Le chauffage de la surface 4 est bref ce qui limite les risques d'altérer la matière du support 6 sensible à la chaleur, et requiert moins d'apport d'énergie.
Dans un autre mode de mise en œuvre, le chauffage de la suspension est réalisé en chauffant les microgouttes dans le jet de pulvérisation, par exemple en soumettant le jet à un rayonnement, notamment un rayonnement laser.
Dans un mode de réalisation illustré sur la figure 10, un appareil 2 de dépôt de nanoparticules comprend une source laser ou infrarouge 34 orientée de façon à générer un faisceau 36 en direction du jet de pulvérisation 20 à la naissance du jet de pulvérisation 30 à la sortie 40 de la buse 8.
Dans un autre mode de mise en œuvre, le chauffage de la suspension est réalisé en chauffant le gaz de pulvérisation préalablement à la pulvérisation.
Dans un mode de réalisation illustré sur la figure 1 1 , un appareil 2 de dépôt de nanoparticules comprend des éléments de chauffage 42 disposés le long d'un conduit 48 d'amenée du gaz de pulvérisation à la buse 8.
Tel que représenté sur la figure 12, dans un mode de mise en œuvre, on recouvre une couche de nanoparticules déposée sur la surface 4 du support 6 par une couche de recouvrement dépourvue de nanoparticules. On applique la couche de recouvrement par pulvérisation d'un liquide de recouvrement, par exemple une résine, à l'aide d'au moins une buse 49 que l'on déplace (Flèche F6). Il est ainsi possible de déposer alternativement des couches de nanoparticules et des couches de matériaux dépourvus de nanoparticules.
Dans les différents procédés et modes de mises en œuvre décrits, on dépose des nanoparticules sur la surface d'un support par pulvérisation, en déplaçant un jet de pulvérisation par rapport à la surface à recouvrir de façon à déposer les nanoparticules suivant au moins une bande et en chauffant la suspension pour promouvoir l'évaporation des microgouttes sur la surface du support.
L'application des nanoparticules par pulvérisation est fiable. Les buses de pulvérisation permettent de former des microgouttes de taille appropriée tout en prévoyant des conduits et/orifices de circulation de la suspension sous forme liquide ou sous forme de microgouttes, de dimensions supérieures à celles des microgouttes et des nanoparticules, ce qui évite le bouchage des buses de pulvérisation.
Les microgouttes atteignant la surface du support ont tendance à coalescer pour former des gouttes plus grandes. Ces gouttes plus grandes mettent plus de temps à s'évaporer, de telle sorte qu'elles peuvent conduire à la formation de courants de convection à l'intérieur de ces gouttes, pouvant entraîner une répartition inhomogène des nanoparticules en suspension dans le liquide. Généralement, on retrouve une plus grande densité de nanoparticules à la périphérie de la goutte. Cet effet est connu sous le nom de « gouttes de café ».
Le déplacement du jet de pulvérisation permet de réaliser des dépôts sur de grandes surfaces. Le déplacement du jet de pulvérisation permet également de limiter la coalescence des microgouttes. Le déplacement régulier du jet de pulvérisation permet une densité homogène des nanoparticules le long de la bande appliquée sur la surface du support.
Le chauffage de la suspension de façon que les microgouttes atteignant le support sont portées à une température suffisamment élevée permet d'assurer l'évaporation rapide du liquide de la suspension des microgouttes ayant atteint le support en évitant au moins partiellement la coalescence des microgouttes. Il en résulte une meilleure maîtrise de la répartition des nanoparticules, notamment une répartition plus homogène. On évite ou au moins on limite l'effet « goutte de café ».
La suspension est chauffée de façon à promouvoir l'évaporation rapide du liquide, tout en évitant son évaporation complète avant que les microgouttes atteignent la surface du support à recouvrir, en particulier lorsque la suspension est chauffée avant que les microgouttes atteignent le support, par exemple dans la buse et dans le jet de pulvérisation. Le temps d'évaporation du liquide de suspension des microgouttes dépend notamment de la température d'ébullition du liquide, de la température des microgouttes et du diamètre des microgouttes. Le diamètre des microgouttes dépend des paramètres de pulvérisation, et notamment de la pression de pulvérisation, du débit du liquide pulvérisé et du diamètre de l'orifice de sortie de la buse de pulvérisation.
De préférence, on chauffe de façon que le temps d'évaporation des microgouttes pulvérisées soit compris entre 1 ms et 100 ms. Pour exemple, les temps d'évaporation de microgouttes de NMP de 10μηι de diamètre est de l'ordre de la dizaine milliseconde.
De préférence, on commande les moyens de chauffage de façon à porter les microgouttes à une température au moins égale à 80 % de la température d'évaporation d'ébullition du liquide de la suspension. Ceci permet d'assurer une évaporation rapide.
De préférence également, on commande les moyens de chauffage de façon à porter les microgouttes à une température égale ou inférieure à 3 fois la température d'ébullition du liquide de la suspension. Ceci permet d'éviter une évaporation trop rapide.
De préférence la pression de pulvérisation est comprise entre 1 et 5 bars. De préférence, le débit de liquide pulvérisé est compris entre 0, 1 ml/min et 5 ml/min. De préférence, le diamètre de l'orifice de sortie de la buse de pulvérisation est compris entre 0, 1 mm et 3 mm. Ces réglages permettent d'obtenir des microgouttes de taille appropriée.
Par ailleurs, la concentration de la suspension en nanoparticules est de quelques milligrammes par litre à quelques grammes par litre. Les épaisseurs de revêtement de nanoparticules obtenus peuvent aller de quelques particules à quelques centaines de micromètres.
Les différents modes de mise en œuvre du chauffage de la suspension peuvent être combinés. Ainsi, selon un aspect de l'invention, on chauffe la suspension en chauffant le support dans son ensemble, en chauffant la surface du support localement, en chauffant les microgouttes dans le ou chaque jet de pulvérisation avant que les microgouttes atteignent la surface du support et/ou en chauffant un gaz de pulvérisation de la suspension avant la pulvérisation.
Un appareil 2 de dépôt de nanoparticules conforme à l'invention va maintenant être décrit en référence à la figure 13 en reprenant les références numériques correspondant à des éléments analogues à ceux déjà mentionnés auparavant.
L'appareil 2 de dépôt de nanoparticules illustré sur la figure 14 comprend un automate 50 permettant de déplacer une buse 8 par rapport à un support 6 suivant trois directions d'un repère orthogonal : une direction longitudinale X horizontale, une direction transversale Y horizontale, et une direction verticale Z. L'automate 50 comprend une base 52 fixe délimitant un espace de travail 54, une plaque 56 montée coulissante sur la base 52 suivant la direction longitudinale X, dans l'espace de travail 54, deux montants 58 s'étendant verticalement vers le haut à partir de la base 52, une traverse 60 s'étendant transversalement entre les extrémités supérieures des montants 58, au-dessus de l'espace de travail 54, un chariot 62 monté coulissant sur la traverse 60 suivant la direction transversale Y (flèche F7), et un porteur 64 monté mobile sur le chariot 62 suivant la direction verticale Z (flèche F8).
La plaque 56 est prévue pour recevoir le support 6. La buse 8 est fixée sur le porteur 64. Les déplacements longitudinaux du berceau 56, transversal du chariot 62 et vertical du porteur 64 permettent de déplacer la buse 8 suivant les trois directions X, Y, Z.
L'appareil 2 comprend des moyens de chauffage de la plaque 56, et ainsi chauffer le support 6 reçu sur la plaque 56. Les moyens de chauffage comprennent des éléments chauffants 14 disposés sous et/ou dans la plaque 56.
L'appareil 2 comprend un capteur de température 16 disposé de façon à mesurer la température du support 6.
L'appareil 2 comprend une unité de commande 18 programmée pour commander l'automate 50 de façon à provoquer le déplacement de la buse 8 par rapport au support 6 et pour commander les éléments chauffants 14 de façon à maintenir le support 6 à une température déterminée en fonction de la mesure de température fournie par le capteur 16.
L'invention s'applique par exemple à la fabrication de matrices de transistors sur des tapis de nanoparticules, notamment de nanotubes de carbone.
Le procédé selon l'invention permet de manière générale de mieux maîtriser l'uniformité d'un dépôt de nanoparticules. Il permet ainsi de réaliser des dépôts uniformes de nanoparticules sur une surface. Il permet également de moduler la densité de nanoparticules déposée sur une surface, par exemple en déposant un nombre de couches de nanoparticules différent dans différentes zones de la surface et/ou en modifiant l'écartement entre des bandes déposées parallèlement et/ou en les entrecroisant pour créer des zones de plus forte densité de nanoparticules et des zones de moins forte densité de nanoparticules.

Claims

REVENDICATIONS
1 . - Procédé de dépôt de nanoparticules sur une surface (4) d'un support (6), dans lequel on pulvérise une suspension de nanoparticules en solution dans un liquide sur la surface (4) du support (6) en formant au moins un jet (20) de pulvérisation en déplaçant la zone d'impact (22) du ou de chaque jet pendant la pulvérisation de façon à pulvériser la suspension suivant au moins une bande.
2. - Procédé de dépôt de nanoparticules selon la revendication 1 , dans lequel on chauffe la suspension pendant la pulvérisation de façon à promouvoir l'évaporation totale des microgouttes sur la surface (4) de support (6).
3.- Procédé de dépôt de nanoparticules selon la revendication 1 ou 2, dans lequel on chauffe la suspension pendant la pulvérisation de façon que les microgouttes atteignant le support soient portées à une température au moins égale à 80 % de la température d'ébullition du liquide.
4. - Procédé de dépôt de nanoparticules selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel on chauffe la suspension pendant la pulvérisation de façon que les microgouttes atteignant le support soient portées à une température égale ou inférieure à 3 fois la température d'ébullition du liquide.
5. - Procédé de dépôt de nanoparticules selon l'une quelconque des revendications 2 à 4, dans lequel on chauffe la suspension pendant la pulvérisation en chauffant le support dans son ensemble, en chauffant localement la surface du support, en chauffant les microgouttes dans le ou chaque jet de pulvérisation avant que les microgouttes atteignent la surface du support et/ou en chauffant un gaz de pulvérisation de la suspension avant la pulvérisation.
6. - Procédé de dépôt de nanoparticules selon l'une quelconque des revendications 2 à 4, dans lequel on chauffe localement la surface (4) du support (6) pendant la pulvérisation par rayonnement, notamment par rayonnement lumineux, en particulier en pointant un faisceau laser ou infrarouge sur la surface (4) du support.
7. - Procédé de dépôt de nanoparticules selon l'une quelconque des revendications 4 à 6, dans lequel on chauffe localement la surface du support pendant la pulvérisation le long du trajet de la zone d'impact.
8. - Procédé de dépôt de nanoparticules selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel on pulvérise la suspension à l'aide d'un gaz de pulvérisation à une pression de pulvérisation comprise entre 1 et 5 bars.
9. - Procédé de dépôt de nanoparticules selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel on pulvérise la suspension avec un débit de suspension compris entre 0,1 ml/min et 5 ml/min.
10.- Procédé de dépôt de nanoparticules selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel on pulvérise la suspension à l'aide d'au moins une buse (8), la ou chaque buse (8) présentant un orifice de sortie de diamètre compris entre 0, 1 mm et 3 mm.
1 1 .- Procédé de dépôt de nanoparticules selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel on pulvérise les microgouttes suivant des bandes parallèles se recouvrant partiellement.
12. - Procédé de dépôt de nanoparticules selon la revendication 1 1 , dans lequel la ou chaque bande présente une distribution gaussienne de densité de nanoparticules transversalement à la bande possédant un écart type (o), l'écartement entre les lignes centrales de deux bandes adjacentes étant inférieur à 3 fois l'écart type (o).
13. - Procédé de dépôt de nanoparticules selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel on pulvérise la suspension en formant simultanément plusieurs jets de pulvérisation que l'on déplace par rapport à la surface du support pour appliquer les nanoparticules suivant des bandes parallèles.
14. - Procédé de dépôt de nanoparticules selon l'une quelconques des revendications précédentes, dans lequel on pulvérise la suspension de façon à former une couche de nanoparticules et on recouvre au moins partiellement la couche de nanoparticules d'une couche de recouvrement dépourvue de nanoparticules que l'on applique par pulvérisation.
15. - Procédé de dépôt de nanoparticules selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel on pulvérise la suspension sur un support sous la forme d'une bande de matière continue.
16. - Procédé de dépôt de nanoparticules selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel on choisit le liquide de la suspension parmi les composés suivants : eau (H20), méthanol (CH40), Ethanol (C2H60), chlorure d'éthylène (DCE), dichlorobenzidine (DCB), méthylpyrridone (NMP) ou diméthylformamide (DMF), hexamethylphosphoramide (HMPA), cyclopentanone (C5H80 ), tetramethylene sulfoxide (TMSO), ε-caprolactone 1 ,2-dichlorobenzene, 1 ,2-dimethylbenzene, bromobenzene, lodobenzene, et toluène.
17. - Appareil pour la réalisation d'un dépôt de nanoparticules sur la surface (4) d'un support (6), comprenant au moins un réservoir contenant une suspension de nanoparticules dans un liquide et relié à au moins une buse (8)de pulvérisation pour la pulvérisation de la suspension en microgouttes, et moyens de déplacement propres à déplacer la ou chaque buse (8) par rapport à la surface (4) du support (6) pendant la pulvérisation pour appliquer la suspensions suivant au moins une bande résultant du déplacement de la ou chaque buse.
18. - Appareil selon la revendication 17, comprenant des moyens de chauffage de la suspension et une unité de commande des moyens de chauffage programmée pour commander les moyens de chauffage de façon à chauffer la suspension pendant la pulvérisation de façon à promouvoir l'évaporation totale du liquide sur la surface (4) du support (6).
19. - Appareil selon la revendication 18, dans lequel les moyens de chauffages sont propres à chauffer la suspension de façon que les microgouttes atteignant le support soient portées à une température au moins égale à 80 % de la température d'ébullition du liquide.
20. - Appareil selon la revendication 18 ou 19, dans lequel les moyens de chauffage sont propres à chauffer le support, à chauffer localement la surface du support, à chauffer le gaz de pulvérisation avant la pulvérisation et/ou à chauffer les microgouttes pulvérisées dans le ou chaque jet de pulvérisation formé par la buse.
21 . - Appareil selon la revendication 20, comprenant des moyens de chauffage propres à chauffer localement la surface du support comprenant au moins une source de rayonnement, notamment de rayonnement laser ou de rayonnement infrarouge.
22. - Appareil selon la revendication 20 ou 21 , comprenant des moyens de chauffage des microgouttes pulvérisées dans le ou chaque jet de pulvérisation comprennent au moins une source de rayonnement, notamment de rayonnement laser ou de rayonnement infrarouge, dirigée au travers du jet, notamment à la sortie de la buse de pulvérisation.
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR3011363B1 (fr) * 2013-10-02 2017-02-17 Thales Sa Circuit neuromimetrique et procede de fabrication
DE102013112404B4 (de) 2013-11-12 2023-03-16 ACTEGA Schmid Rhyner AG Erzeugung von polymeren Partikeln sowie rauer Beschichtungen mittels Ink-Jet-Druck
FR3051592B1 (fr) * 2016-05-20 2021-11-26 Thales Sa Procede de fabrication de supercondensateur
US11947256B2 (en) * 2017-08-03 2024-04-02 Asml Netherlands B.V. Simultaneous double-side coating of multilayer graphene pellicle by local thermal processing
FR3077420B1 (fr) * 2018-01-30 2020-03-20 Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives Dispositif de depot de particules de taille nanometrique sur un substrat
FR3104828B1 (fr) 2019-12-13 2022-11-11 Electricite De France Procédé de fabrication d’une électrode à gaz présentant un gradient de composition
CN112354709A (zh) * 2020-10-18 2021-02-12 中国人民解放军陆军工程大学 纳米复合材料的高效制备装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005039814A2 (fr) * 2003-09-26 2005-05-06 Optomec Design Company Traitement au laser pour depot thermosensible a l'echelle mesoscopique
SE526237C2 (sv) * 2003-12-23 2005-08-02 Tetra Laval Holdings & Finance Metod och anordning för att förse ett substrat med ett beläggningsskikt av ett polymert material
CN100453188C (zh) 2005-10-14 2009-01-21 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 沉积碳纳米管薄膜的设备
ITMI20060560A1 (it) * 2006-03-24 2007-09-25 Nanophoton S R L Metodo per rivestire superfici solide
US8512810B2 (en) * 2006-04-28 2013-08-20 Cal Poly Corporation Shear-induced alignment of nanoparticles in coatings
KR100895521B1 (ko) 2007-10-12 2009-04-30 (주)탑나노시스 스프레이 코팅을 이용한 탄소나노튜브 투명도전막 및 그제조방법

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