WO2011016192A1 - Circuit board - Google Patents

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荒井進也
栗林宏行
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住友ベークライト株式会社
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Definitions

  • the circuit board according to the present invention which has been made to solve the above-described problems, is a circuit board in which a signal transmission path is formed on one surface and a ground layer is formed on the other surface with an insulator layer interposed therebetween.
  • a shield layer is further laminated on the ground layer via an insulator layer, and the ground layer is formed as an opening where a metal foil is not laid at a position along the signal transmission path.
  • the characteristic impedance of the signal transmission path is controlled by a coupling capacitance formed between the shield layer and the shield layer.

Abstract

Signal transmission paths (3a, 3b) are formed on one surface of an insulator layer (2), and a ground layer (4) is formed on the other surface of the insulator layer (2). A shield layer (9) is laminated on the ground layer (4) via insulator layers (7, 8), and openings (4B) on which a metal foil is not placed are formed in the ground layer (4) along the signal transmission paths (3a, 3b). With this structure, the characteristic impedance of the signal transmission paths depends on a coupling capacitance formed between the signal transmission paths and the shield layer. Thus, the characteristic impedance of a wiring line can be sufficiently controlled without using a mesh-like conductor in the ground layer (4).

Description

回路基板Circuit board
 この発明は、グランド層と前記グランド層に対して絶縁体層を介して信号配線を配設した回路基板に関する。 The present invention relates to a ground layer and a circuit board in which signal wirings are arranged with respect to the ground layer via an insulator layer.
 例えば高周波帯で動作するディバイスを実装する回路基板は、信号の反射や波形歪みの発生を抑えるために信号伝送路の特性インピーダンス(以下、Zoとも称する。)を、前記ディバイスの入出力インピーダンスに整合させる必要がある。
 前記した信号伝送路の特性インピーダンスを整合させるためには、適切なパターン幅の信号伝送路(ストリップライン)に適切な厚さの絶縁層を挟んでグランド層を対峙させるマイクロストリップ構造が採用されている。
For example, in a circuit board on which a device operating in a high frequency band is mounted, the characteristic impedance (hereinafter also referred to as Zo) of the signal transmission path is matched to the input / output impedance of the device in order to suppress signal reflection and waveform distortion. It is necessary to let
In order to match the characteristic impedance of the signal transmission path described above, a microstrip structure is adopted in which a ground layer is opposed to a signal transmission path (strip line) having an appropriate pattern width with an insulating layer having an appropriate thickness interposed therebetween. Yes.
 前記した回路基板構造における前記グランド層は、信号伝送路の特性インピーダンスを規定する電気的な基準面となる。そして、一般に特性インピーダンスはシングルエンド伝送で50Ω前後に、差動伝送で100Ω前後に選択される場合が多い。 The ground layer in the circuit board structure described above serves as an electrical reference plane that defines the characteristic impedance of the signal transmission path. In general, the characteristic impedance is often selected to be around 50Ω for single-ended transmission and around 100Ω for differential transmission.
 図2は、ペア配線による差動伝送路が絶縁体層を介してグランド層に対峙し、マイクロストリップ構造を形成した従来の回路基板の例を断面図で示したものである。この回路基板1は、両面基板を基本にして構成され、ベース基材となる絶縁体層2の一方の面(表面)に貼着された金属箔(銅箔)3の一部は、例えばエッチング処理により信号伝送路、すなわちペア配線3a,3bとして形成され、このペア配線が互いに差動伝送路を構成している。 FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a conventional circuit board in which a differential transmission path by pair wiring faces a ground layer through an insulator layer to form a microstrip structure. This circuit board 1 is configured on the basis of a double-sided board, and a part of a metal foil (copper foil) 3 adhered to one surface (front surface) of an insulator layer 2 to be a base substrate is etched, for example. By processing, signal transmission paths, that is, pair wirings 3a and 3b are formed, and the pair wirings constitute a differential transmission path.
 前記絶縁体層2の他方の面(裏面)には、同じく金属箔(銅箔)が全面にわたってベタ電極として貼着され、これがグランド層4を構成している。
 加えて、前記金属箔3およびペア配線3a,3bの表面には、接着層5を介して被覆層6が積層され、また前記グランド層4の裏面には、同じく接着層7を介して被覆層8が積層されている。
Similarly, a metal foil (copper foil) is adhered to the other surface (back surface) of the insulator layer 2 as a solid electrode over the entire surface, and this constitutes the ground layer 4.
In addition, a coating layer 6 is laminated on the surface of the metal foil 3 and the pair wirings 3a and 3b via an adhesive layer 5, and a coating layer is also provided on the back surface of the ground layer 4 via an adhesive layer 7. 8 are stacked.
 前記した構成の回路基板1における信号伝送路(ペア配線3a,3b)の特性インピーダンスZoは、信号伝送路の単位長さあたりのリアクタンスLと、前記信号伝送路とグランド層との間における単位面積あたりの静電(結合)容量Cの比(リアクタンスL/結合容量C)の平方根で近似される値となる。 The characteristic impedance Zo of the signal transmission path (pair wiring 3a, 3b) in the circuit board 1 having the above-described configuration is the reactance L per unit length of the signal transmission path and the unit area between the signal transmission path and the ground layer. It is a value approximated by the square root of the ratio (reactance L / coupling capacitance C) of the electrostatic (coupling) capacitance C per unit.
 すなわち、図2に示す回路基板構造における信号伝送路の特性インピーダンスは、ペア配線3a,3bの各線幅W1と、ベース基材となる絶縁体層2の厚さt1、および前記絶縁体層2を構成する素材の比誘電率に依存することになる。 That is, the characteristic impedance of the signal transmission path in the circuit board structure shown in FIG. 2 is determined by the line width W1 of the pair wirings 3a and 3b, the thickness t1 of the insulating layer 2 serving as the base substrate, and the insulating layer 2 It depends on the relative dielectric constant of the constituent material.
 ところで、近年においては前記したディバイスを実装する回路基板として、薄いリジッド基板やフレキシブル回路基板が多用されている。
 このような回路基板を採用した場合においては、当然ながら前記グランド層と信号伝送路との間の絶縁体層の厚さを薄く成形せざるを得ない。したがって、信号伝送路とグランド層における結合容量Cの値が前記層間の寸法にほぼ反比例して上昇し、これにより伝送路の特性インピーダンスを適切に制御することが困難になる。 
In recent years, thin rigid boards and flexible circuit boards are frequently used as circuit boards on which the above-described devices are mounted.
When such a circuit board is employed, it is natural that the thickness of the insulator layer between the ground layer and the signal transmission path must be reduced. Therefore, the value of the coupling capacitance C between the signal transmission line and the ground layer increases in inverse proportion to the dimension between the layers, which makes it difficult to appropriately control the characteristic impedance of the transmission line.
 図3は、前記した従来の薄物の回路基板の例を断面図で示したものである。なお図3においては、すでに説明した図2に示す各部と同一の機能を果たす部分を同一符号で示しており、したがってその詳細な説明は省略する。
 図3に示すように、絶縁体層2の厚さがより薄く構成され、その厚さがt2になされた回路基板1において、所望の前記Zoを得ようとするには、絶縁体層2に比誘電率の小さな素材を選択すれば良いことになるが、これには限界がある。
 そこで、信号伝送路3a,3bの各線幅をより狭く(細く)形成し、模式的にW2で示した線幅にすることで、前記結合容量Cの上昇を抑える手段を採用せざるを得ない。
FIG. 3 is a sectional view showing an example of the conventional thin circuit board. Note that, in FIG. 3, parts that perform the same functions as those shown in FIG. 2 already described are denoted by the same reference numerals, and thus detailed description thereof is omitted.
As shown in FIG. 3, in the circuit board 1 in which the thickness of the insulator layer 2 is made thinner and the thickness is t2, in order to obtain the desired Zo, the insulator layer 2 is Although it is sufficient to select a material having a small relative dielectric constant, this has limitations.
Therefore, it is unavoidable to adopt a means for suppressing the increase in the coupling capacitance C by forming the line widths of the signal transmission paths 3a and 3b to be narrower (thinner) and to have a line width schematically indicated by W2. .
 このように所望のZoを得るために、信号伝送路3a,3bの線幅W2を細く形成しようとする場合には、伝送路の加工が困難なほどに細くせざるを得ない場合も生ずる。
 また、たとえ伝送路の加工が可能であっても、伝送路が細いほど回路加工精度および線幅ばらつきの比率が高まり、これに伴ってZoのばらつきが増大する。
Thus, in order to obtain the desired Zo, when the line width W2 of the signal transmission paths 3a and 3b is to be narrowed, the transmission path may have to be made so thin that it is difficult to process.
Even if the transmission line can be processed, the thinner the transmission line, the higher the ratio of circuit processing accuracy and line width variation, and the Zo variation increases accordingly.
 このために、前記Zoの変化が大きな伝送路部分において、信号の反射や波形歪みを発生させるという問題を招来させる。さらに、伝送路の配線抵抗値が高くなるために、これに供給される信号周波数が高いほど、伝送特性の悪化の要因になる等の問題を抱えることになる。 For this reason, there arises a problem that signal reflection and waveform distortion occur in the transmission line portion where the change of Zo is large. Furthermore, since the wiring resistance value of the transmission path is increased, there is a problem that the higher the signal frequency supplied to the transmission path, the worse the transmission characteristics.
 そこで、前記した技術的な課題を解決するために、いわゆるベタ電極層として形成される前記グランド層4をメッシュ状に銅抜きして、単位面積あたりのグランド層4と伝送路3a,3bとの対向面積を実質的に小さくさせることで、前記伝送路の線幅W2を適切に確保する提案がなされている。これは次に示す先行技術文献に開示されている。 Therefore, in order to solve the technical problem described above, the ground layer 4 formed as a so-called solid electrode layer is removed in a mesh shape so that the ground layer 4 per unit area and the transmission paths 3a and 3b Proposals have been made to ensure the line width W2 of the transmission line appropriately by reducing the facing area substantially. This is disclosed in the following prior art documents.
特開平7-321463号公報JP 7-32463 A
 図3に示す符号4Aは、前記グランド層4に施されたメッシュ状の開口敷設部、すなわちメッシュ状導体部を示すものであり、図4はメッシュ状導体部4Aが施されたグランド層4に対してペアの信号伝送路3a,3bが対峙した状態を、回路基板1の板面に直交する方向から透視した状態で示している。 Reference numeral 4A shown in FIG. 3 indicates a mesh-shaped opening laying portion applied to the ground layer 4, that is, a mesh-shaped conductor portion. FIG. 4 illustrates the ground layer 4 provided with the mesh-shaped conductor portion 4A. On the other hand, a state in which the pair of signal transmission paths 3 a and 3 b are opposed to each other is shown in a state seen through from a direction orthogonal to the plate surface of the circuit board 1.
 なお、図4に示すメッシュの構成例は、交差する二方向の各線によりグランド層4に多数の菱形の開口を形成させたものであり、信号配線3a,3bの長手方向に対するグランド層4側における前記二方向の線の交差角度が略同一となるように構成されている。 In the mesh configuration example shown in FIG. 4, a large number of rhombus openings are formed in the ground layer 4 by lines intersecting in two directions, and the ground layer 4 side in the longitudinal direction of the signal wirings 3a and 3b is formed. The intersection angles of the lines in the two directions are configured to be substantially the same.
 ところで、前記したように層間が益々薄く形成される回路基板において、最低限の線幅W2を確保しようとすれば、図3および図4に示すメッシュ状導体部4Aの導体残存率をより低く設定すれば良いことになる。 By the way, in the circuit board in which the layers are formed thinner and thinner as described above, if the minimum line width W2 is to be secured, the conductor remaining rate of the mesh-like conductor portion 4A shown in FIGS. 3 and 4 is set lower. I will do it.
 しかしながら、導体残存率をある程度を超えて低くするとメッシュがまばらになるために、前記Zoのばらつきが部分的に発生し、信号波形に歪みを発生させるなど、高周波特性に影響を与えることになる。したがって、図3および図4に示したメッシュ状導体部4Aの採用にも限界が生ずる。 However, if the conductor residual ratio is lowered beyond a certain level, the mesh becomes sparse, so that the Zo variation partially occurs and the signal waveform is distorted, which affects the high frequency characteristics. Therefore, there is a limit to the use of the mesh-like conductor portion 4A shown in FIGS.
 この発明は、前記した技術的な問題点に着目してなされたものであり、信号伝送路の線幅を確保しつつ、前記したメッシュ状導体部を用いることなく線路の特性インピーダンスの制御を十分に果たすことが可能であり、さらに屈曲が可能なフレキシブル基板にも好適に採用することができる回路基板を提供することを課題とするものである。 The present invention has been made paying attention to the technical problems described above, and can sufficiently control the characteristic impedance of the line without using the mesh-like conductor part while ensuring the line width of the signal transmission path. It is an object of the present invention to provide a circuit board that can be suitably applied to a flexible board that can be bent.
 前記した課題を解決するためになされたこの発明にかかる回路基板は、絶縁体層を挟んで、一方の面に信号伝送路が形成され、他方の面にグランド層が形成された回路基板であって、前記グランド層には、さらに絶縁体層を介してシールド層が積層されると共に、前記グランド層は、前記信号伝送路に沿う位置において金属箔が敷設されない開口部になされ、前記信号伝送路と前記シールド層との間で形成される結合容量により、前記信号伝送路の特性インピーダンスの制御がなされるように構成したことを特徴とする。 The circuit board according to the present invention, which has been made to solve the above-described problems, is a circuit board in which a signal transmission path is formed on one surface and a ground layer is formed on the other surface with an insulator layer interposed therebetween. In addition, a shield layer is further laminated on the ground layer via an insulator layer, and the ground layer is formed as an opening where a metal foil is not laid at a position along the signal transmission path. The characteristic impedance of the signal transmission path is controlled by a coupling capacitance formed between the shield layer and the shield layer.
 この場合、前記シールド層は、好ましくは導電性ペーストもしくは導電性シールドフィルムにより構成される。そして、前記グランド層とシールド層との間の絶縁体層には、望ましくはビアホールが形成され、このビアホールを介して、前記シールド層がグランド層に接続された構成にされる。 In this case, the shield layer is preferably composed of a conductive paste or a conductive shield film. A via hole is desirably formed in the insulator layer between the ground layer and the shield layer, and the shield layer is connected to the ground layer through the via hole.
 加えて、前記信号伝送路と前記グランド層との間に介在される絶縁体層としては、好ましくはフィルム状ベース基材を用いた構成にされる。 In addition, the insulator layer interposed between the signal transmission path and the ground layer is preferably configured using a film-like base substrate.
 前記した回路基板によれば、信号伝送路に沿う位置におけるグランド層は金属箔が敷設されない開口部になされ、前記信号伝送路はさらに絶縁体層を介して積層されたシールド層との間における結合容量により、特性インピーダンスの制御がなされるように構成される。これにより、回路基板の薄型化に伴って発生する信号伝送路の特性インピーダンス制御の問題点を容易に解消することができる。 According to the circuit board described above, the ground layer at the position along the signal transmission path is formed as an opening where no metal foil is laid, and the signal transmission path is further coupled with the shield layer stacked via the insulator layer. The characteristic impedance is controlled by the capacitance. As a result, it is possible to easily solve the problem of characteristic impedance control of the signal transmission path that occurs as the circuit board becomes thinner.
 すなわち、前記した構成の回路基板によれば、回路基板の薄型化に伴って採られる信号伝送路の極端な細線化を抑制することができ、また信号伝送路に対峙するグランド層をメッシュ化した場合において、導体残存率の極端な低下に起因するZoの部分的なばらつきの発生等も、効果的に解消することができる。 That is, according to the circuit board having the above-described configuration, it is possible to suppress the extreme thinning of the signal transmission path taken with the thinning of the circuit board, and the ground layer facing the signal transmission path is meshed. In this case, it is possible to effectively eliminate the occurrence of a partial variation of Zo due to an extreme decrease in the conductor remaining rate.
この発明にかかる回路基板を断面図で示した積層構造図である。It is the laminated structure figure which showed the circuit board concerning this invention with sectional drawing. 従来の回路基板の一例を断面図で示した積層構造図である。It is the laminated structure figure which showed an example of the conventional circuit board with sectional drawing. 従来の回路基板の他の例を断面図で示した積層構造図である。It is the laminated structure figure which showed the other example of the conventional circuit board with sectional drawing. 図3に示す回路基板におけるグランド層と信号伝送路の一部の構成を示した透視図である。FIG. 4 is a perspective view showing a configuration of a part of a ground layer and a signal transmission path in the circuit board shown in FIG. 3.
 以下、この発明にかかる回路基板について、図に示す実施の形態に基づいて説明する。図1は、この発明にかかる回路基板の積層構造を示すものであり、図1においては、すでに説明した図2に示す各部と同一の機能を果たす部分を同一符号で示している。 Hereinafter, a circuit board according to the present invention will be described based on the embodiments shown in the drawings. FIG. 1 shows a laminated structure of a circuit board according to the present invention. In FIG. 1, parts having the same functions as those shown in FIG.
 すなわち、図1に示す回路基板1は、両面基板を基本にして構成され、中央のベース基材となる絶縁体層2の厚さは、より薄く形成されて模式的にt3で示す厚さに形成されている。
 そして、中央のベース基材となる前記絶縁体層2の一方の面(表面)に貼着された金属箔(銅箔)3の一部は、例えばエッチング処理により信号伝送路、すなわちペア配線3a,3bとして形成され、このペア配線が互いに差動伝送路を構成している。
That is, the circuit board 1 shown in FIG. 1 is configured on the basis of a double-sided board, and the thickness of the insulator layer 2 serving as a central base material is formed to be thinner and schematically shown by t3. Is formed.
Then, a part of the metal foil (copper foil) 3 adhered to one surface (front surface) of the insulator layer 2 serving as a central base substrate is a signal transmission path, that is, a pair wiring 3a by, for example, an etching process. , 3b, and the pair wirings constitute a differential transmission path.
 また、前記絶縁体層2の他方の面(裏面)には、同じく金属箔(銅箔)がベタ電極として貼着されて、これがグランド層4を構成している。なお、前記グランド層4における前記信号伝送路3a,3bが対峙する部分は、前記信号伝送路3a,3bに沿うようにして、前記金属箔が敷設されない開口部4Bになされている。 Also, a metal foil (copper foil) is similarly attached as a solid electrode to the other surface (back surface) of the insulator layer 2, and this constitutes the ground layer 4. The portion of the ground layer 4 where the signal transmission paths 3a and 3b face each other is an opening 4B along the signal transmission paths 3a and 3b where the metal foil is not laid.
 また、前記金属箔3および信号伝送路3a,3bの表面には、接着層5(以下、第1の接着層とも言う。)を介して被覆層6(以下、第1の被覆層とも言う。)が積層され、また前記グランド層4の裏面には、同じく接着層7(以下、第2の接着層とも言う。)を介して被覆層8(以下、第2の被覆層とも言う。)が積層され、前記第2の接着層7と第2の被覆層8とにより絶縁体層を構成している。
 さらに、前記第2の被覆層8の裏面には、シールド層9が形成されており、このシールド層9は、前記第2の接着層7および第2の被覆層8からなる前記絶縁体層を貫通するようにして形成されたビアホール8aを介して前記グランド層4に接続されている。
The surface of the metal foil 3 and the signal transmission paths 3a and 3b is also referred to as a covering layer 6 (hereinafter referred to as a first covering layer) via an adhesive layer 5 (hereinafter also referred to as a first adhesive layer). ) And a coating layer 8 (hereinafter also referred to as a second coating layer) via an adhesive layer 7 (hereinafter also referred to as a second adhesive layer) on the back surface of the ground layer 4. The insulating layer is constituted by the second adhesive layer 7 and the second covering layer 8 which are laminated.
Further, a shield layer 9 is formed on the back surface of the second cover layer 8, and the shield layer 9 is formed by forming the insulator layer composed of the second adhesive layer 7 and the second cover layer 8. It is connected to the ground layer 4 through a via hole 8a formed so as to penetrate therethrough.
 前記した構成により信号伝送路3a,3bは、前記シールド層9との間で形成される結合容量により、特性インピーダンスの制御がなされるマイクロストリップ構造を構成している。 With the above configuration, the signal transmission lines 3a and 3b form a microstrip structure in which the characteristic impedance is controlled by the coupling capacitance formed between the shield layer 9 and the signal transmission lines 3a and 3b.
 中央の絶縁体層として機能する前記ベース基材2は、回路基板1のコアとなる機能も有している。前記ベース基材2の素材としては、樹脂フィルム、繊維基材等を挙げることができる。 The base base material 2 that functions as a central insulator layer also has a function of becoming a core of the circuit board 1. Examples of the material of the base substrate 2 include a resin film and a fiber substrate.
 前記樹脂フィルムを構成する素材としては、例えばポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等のポリイミド系樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂や液晶ポリマーなどの熱可塑性樹脂等を用いることができる。
 これらの中でもポリイミド樹脂または液晶ポリマーが好ましい。例えばポリイミド樹脂の場合は、耐熱性や機械特性に優れ、かつ入手するのが容易である。また、液晶ポリマーの場合は、その比誘電率の低さにより高速信号伝送用途に好適であり、かつ吸湿性の低さにより寸法安定性等にも優れる。
As the material constituting the resin film, for example, polyimide resins such as polyimide resin, polyamide resin, and polyamideimide resin, thermosetting resins such as epoxy resin, thermoplastic resins such as liquid crystal polymer, and the like can be used.
Among these, a polyimide resin or a liquid crystal polymer is preferable. For example, in the case of polyimide resin, it is excellent in heat resistance and mechanical properties and is easy to obtain. In the case of a liquid crystal polymer, it is suitable for high-speed signal transmission due to its low relative dielectric constant, and it has excellent dimensional stability due to its low hygroscopicity.
 また、絶縁体層に用いられる繊維基材としては、例えばガラス繊布、ガラス不繊布等のガラス繊維基材、あるいはガラス以外の無機化合物を成分とする繊布又は不繊布等の無機繊維基材、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミド樹脂、芳香族ポリエステル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂等の有機繊維で構成される有機繊維基材等が挙げられる。これら基材の中でも強度、吸水率の点でガラス繊布に代表されるガラス繊維基材が好ましい。 Examples of the fiber base material used for the insulator layer include glass fiber base materials such as glass fiber cloth and glass non-woven cloth, or inorganic fiber base materials such as fiber cloth and non-fiber cloth containing inorganic compounds other than glass, aromatic And organic fiber base materials composed of organic fibers such as aromatic polyamide resins, polyamide resins, aromatic polyester resins, polyester resins, polyimide resins, and fluororesins. Among these base materials, glass fiber base materials represented by glass fiber fabric are preferable in terms of strength and water absorption.
 前記絶縁体層に繊維基材を用いる場合においては、好ましくは前記繊維基材に樹脂を含浸させた状態で利用される。前記繊維基材に含浸される樹脂としては、好ましくはエポキシ樹脂系、アクリル樹脂系などの熱硬化性樹脂が用いられ、これらの中でも耐熱性の面からエポキシ樹脂系が好ましい。 When a fiber base material is used for the insulator layer, it is preferably used in a state where the fiber base material is impregnated with a resin. As the resin impregnated in the fiber base material, a thermosetting resin such as an epoxy resin or an acrylic resin is preferably used, and among these, an epoxy resin is preferable from the viewpoint of heat resistance.
 前記ベース基材2の厚さは、好ましくは1~100μmの範囲になされ、さらに好ましくは5~50μmの範囲、より好ましくは10~30μmの範囲になされる。
 前記ベース基材2の厚さを前記下限値以上にすることで、信号伝送路の線幅を加工限界以上にすることが容易となり、一方、前記厚さを上限値以下にすることで剛性が高くなり過ぎることを抑え、柔軟さというフレキシブル回路基板など薄物基板の特徴を保持することができる。
The thickness of the base substrate 2 is preferably in the range of 1 to 100 μm, more preferably in the range of 5 to 50 μm, and more preferably in the range of 10 to 30 μm.
By setting the thickness of the base substrate 2 to be equal to or greater than the lower limit value, it becomes easy to make the line width of the signal transmission path equal to or greater than the processing limit. It is possible to prevent the height from becoming too high and to retain the characteristics of a thin substrate such as a flexible circuit board that is flexible.
 前記ベース基材2の表面に配列された信号伝送路3a,3bは、図1に示されたようにベース基材2に直接設けられても良いが、接着剤を介して設けられていてもよい。そして、各信号伝送路の端部もしくは適宜の中間部において、図示しない半導体ディバイス等の実装パッドに接合され、回路基板として機能する。 The signal transmission paths 3a and 3b arranged on the surface of the base substrate 2 may be provided directly on the base substrate 2 as shown in FIG. 1, or may be provided via an adhesive. Good. Then, at an end portion of each signal transmission path or an appropriate intermediate portion, it is bonded to a mounting pad such as a semiconductor device (not shown) and functions as a circuit board.
 前記信号伝送路3a,3bを覆う第1接着層5には、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂等を好適に使用することができる。これらの中でもエポキシ系樹脂が好ましい。これにより、耐熱性と屈曲性を向上することができる。 For the first adhesive layer 5 covering the signal transmission paths 3a and 3b, for example, an acrylic resin, an epoxy resin, a polyimide resin, or the like can be suitably used. Among these, an epoxy resin is preferable. Thereby, heat resistance and flexibility can be improved.
 前記接着層5の厚さは、特に限定されないが、5~40μmであることが好ましく、特に10~30μmが好ましい。接着層5の厚さを前記下限値以上にすることで、回路の埋め込み性低下を抑制し、前記上限値以下にすることで接着層5のシミ出し量の増加を抑制し、かつ層間接着の信頼性を維持することができる。 The thickness of the adhesive layer 5 is not particularly limited, but is preferably 5 to 40 μm, and particularly preferably 10 to 30 μm. By making the thickness of the adhesive layer 5 equal to or higher than the lower limit value, it is possible to suppress a decrease in circuit embeddability, and by setting the thickness to be equal to or lower than the upper limit value, it is possible to suppress an increase in the amount of spotting of the adhesive layer 5 and Reliability can be maintained.
 前記接着層5の表面に積層された第1の被覆層6は、樹脂材料で構成されていることが好ましい。この被覆層6を構成する好ましい樹脂材料としては、例えばポリエステル系樹脂、ポリイミド、液晶ポリマー等を挙げることができる。これらの中でもポリイミドが好ましい。これにより、耐熱性と屈曲性を向上させることができる。 The first covering layer 6 laminated on the surface of the adhesive layer 5 is preferably made of a resin material. Preferable resin materials constituting the coating layer 6 include, for example, polyester resins, polyimides, liquid crystal polymers, and the like. Among these, polyimide is preferable. Thereby, heat resistance and flexibility can be improved.
 前記第1の被覆層6の厚さは、特に限定されないが、5~50μmであることが好ましく、特に10~30μmが好ましい。前記被覆層6の厚さを前記下限値以上にすることで、樹脂層の強度を実用範囲に維持することが容易となり、前記上限値以下にすることで摺動性や屈曲性を最大限に発揮させることが容易となる。 The thickness of the first coating layer 6 is not particularly limited, but is preferably 5 to 50 μm, and particularly preferably 10 to 30 μm. By setting the thickness of the coating layer 6 to be equal to or higher than the lower limit value, it becomes easy to maintain the strength of the resin layer within a practical range, and by setting the thickness to be equal to or lower than the upper limit value, slidability and flexibility are maximized. It is easy to make it appear.
 なお、前記第1の被覆層6には、前記第1の接着層5が予め積層され、カバーレイフィルムとして形成されたものを用いることができる。 The first covering layer 6 may be a cover layer film in which the first adhesive layer 5 is previously laminated.
 前記ベース基材2の裏面に積層されたグランド層4としての銅箔は、前記したとおり、信号伝送路3a,3bが対峙する部分は、前記信号伝送路3a,3bに沿うようにして、前記金属箔が敷設されない開口部4Bになされている。 As described above, the copper foil as the ground layer 4 laminated on the back surface of the base substrate 2 has the portions where the signal transmission paths 3a and 3b face each other along the signal transmission paths 3a and 3b. It is made in the opening 4B where no metal foil is laid.
 そして、前記グランド層4の裏面には、第2の接着層7が設けられている。この第2接着層7を構成する材料としては、前記した第1接着層5を構成する材料と同様に、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂等を挙げることができる。
 これらの中でもエポキシ系樹脂が好ましい。これにより、耐熱性と屈曲性を向上させることができる。なお、前記した第1の接着層5と第2の接着層7を構成する材料は、同じであっても異なっていてもよい。
A second adhesive layer 7 is provided on the back surface of the ground layer 4. Examples of the material constituting the second adhesive layer 7 include acrylic resins, epoxy resins, polyimide resins, and the like, similarly to the materials constituting the first adhesive layer 5 described above.
Among these, an epoxy resin is preferable. Thereby, heat resistance and flexibility can be improved. In addition, the material which comprises the above-mentioned 1st contact bonding layer 5 and the 2nd contact bonding layer 7 may be the same, or may differ.
 前記第2の接着層7の厚さは、特に限定されないが、5~40μmであることが好ましく、特に10~30μmが好ましい。
 これはすでに説明した第1の接着層5と同様に、第2の接着層7の厚さを前記下限値以上にすることで、回路の埋め込み性低下を抑制し、前記上限値以下にすることで接着層7のシミ出し量の増加を抑制し、かつ層間接着の信頼性を維持することができる。
 また、前記第1の接着層5の厚さと、第2の接着層7の厚さとは、同じであっても異なっていても良い。
The thickness of the second adhesive layer 7 is not particularly limited, but is preferably 5 to 40 μm, and particularly preferably 10 to 30 μm.
In the same manner as the first adhesive layer 5 already described, the thickness of the second adhesive layer 7 is set to be equal to or higher than the lower limit value, thereby suppressing deterioration of circuit embedding property and lower than the upper limit value. Thus, it is possible to suppress an increase in the amount of the stain on the adhesive layer 7 and to maintain the reliability of interlayer adhesion.
Further, the thickness of the first adhesive layer 5 and the thickness of the second adhesive layer 7 may be the same or different.
 前記接着層7の裏面に設けられた第2の被覆層8は、樹脂材料で構成されていることが好ましい。これに用いられる樹脂材料としては、前記した第1の被覆層6と同様に、例えばポリエステル系樹脂、ポリイミド、液晶ポリマー等が挙げられる。これらの中でもポリイミドが好ましい。これにより、耐熱性と屈曲性を向上することができる。
 また、第1の被覆層6を構成する樹脂材料と、第2の被覆層8とを構成する樹脂材料とは、同じであっても異なっていても良い。
The second cover layer 8 provided on the back surface of the adhesive layer 7 is preferably made of a resin material. As a resin material used for this, like the above-mentioned 1st coating layer 6, a polyester-type resin, a polyimide, a liquid crystal polymer etc. are mentioned, for example. Among these, polyimide is preferable. Thereby, heat resistance and flexibility can be improved.
Further, the resin material constituting the first coating layer 6 and the resin material constituting the second coating layer 8 may be the same or different.
 前記第2の被覆層8の厚さは、特に限定されないが、5~50μmであることが好ましく、特に10~30μmが好ましい。
 これはすでに説明した第1の被覆層6と同様に、第2の被覆層8の厚さを前記下限値以上にすることで、樹脂層の強度を実用範囲に維持することが容易となり、前記上限値以下にすることで摺動性や屈曲性を最大限に発揮させることが容易となる。
The thickness of the second coating layer 8 is not particularly limited, but is preferably 5 to 50 μm, and particularly preferably 10 to 30 μm.
As in the case of the first coating layer 6 already described, this makes it easy to maintain the strength of the resin layer in a practical range by setting the thickness of the second coating layer 8 to the lower limit value or more. By making it below the upper limit value, it becomes easy to maximize the slidability and flexibility.
 なお、前記第2の被覆層8には、前記第2の接着層7が予め積層され、カバーレイフィルムとして形成されたものを用いることができる。 It should be noted that the second cover layer 8 may be formed by previously laminating the second adhesive layer 7 and forming a coverlay film.
 さらに、前記した第2の被覆層8の裏面には、シールド層9が形成されており、このシールド層9は、前記したとおり第2の接着層7および第2の被覆層8を貫通するようにして形成されたビアホール8aを介して前記グランド層4に接続されている。 Further, a shield layer 9 is formed on the back surface of the second coating layer 8 described above, and this shield layer 9 penetrates the second adhesive layer 7 and the second coating layer 8 as described above. It is connected to the ground layer 4 through the via hole 8a formed as described above.
 前記シールド層9としては、例えば導電性ペーストもしくは導電性シールドフィルムにより構成されていることが望ましい。
 シールド層9に用いられる導電性ペーストとしては、例えば周知の銀、銅、もしくはカーボン等の導電性粒子を樹脂材料に分散させたものを用いることができ、その厚さは印刷等の手段により10~20μm程度に設定することができる。
 これにより、回路基板の屈曲性等の機能を損ねることなく、シールド層9を構成することができ、同時に前記ビアホール8aを介してグランド層4に接続することができる。
The shield layer 9 is preferably made of, for example, a conductive paste or a conductive shield film.
As the conductive paste used for the shield layer 9, for example, a well-known one in which conductive particles such as silver, copper, or carbon are dispersed in a resin material can be used. It can be set to about 20 μm.
Thereby, the shield layer 9 can be formed without impairing the function of the circuit board such as flexibility, and at the same time, it can be connected to the ground layer 4 through the via hole 8a.
 また、前記シールド層9には導電性シールドフィルムを用いることができ、樹脂製フィルムに例えば銀素材を蒸着した銀シールド材を利用することができる。この銀シールド材に代表される導電性シールドフィルムを用いる場合においても、回路基板の屈曲性等の機能を損ねることなく、シールド層9を構成することができる。  In addition, a conductive shield film can be used for the shield layer 9, and a silver shield material obtained by evaporating a silver material on a resin film can be used. Even when a conductive shield film typified by this silver shield material is used, the shield layer 9 can be formed without impairing the function of the circuit board such as flexibility. *
 前記した回路基板の構成により、基板1の裏面に形成されたシールド層9は、前記グランド層4と同電位になされ、前記信号伝送路3a,3bは、シールド層9との間の距離t4に依存した結合容量に基づいた特性インピーダンスになされることになる。 With the configuration of the circuit board described above, the shield layer 9 formed on the back surface of the substrate 1 is set to the same potential as the ground layer 4, and the signal transmission paths 3 a and 3 b are at a distance t 4 between the shield layer 9. The characteristic impedance is based on the dependent coupling capacitance.
 すなわち、図1に示すように薄物の回路基板を構成した場合においても、信号伝送路3a,3bの特性インピーダンスは、シールド層9との間の距離t4に基づいて決定されることになり、これにより伝送路3a,3b線幅は、適切なW2で示す幅をもって形成することができる。 That is, even when a thin circuit board is configured as shown in FIG. 1, the characteristic impedance of the signal transmission lines 3a and 3b is determined based on the distance t4 between the shield layer 9 and this. Thus, the transmission line 3a, 3b line width can be formed with an appropriate width indicated by W2.
 さらに、信号伝送路3a,3bとシールド層9との間の距離t4を確保できるので、シールド層9としてベタ電極を採用することができ、図3に示すようにグランド層をメッシュ化することにより発生するZoの部分的なばらつきの発生等も、効果的に解消することができる。 Furthermore, since the distance t4 between the signal transmission paths 3a and 3b and the shield layer 9 can be secured, a solid electrode can be adopted as the shield layer 9, and by meshing the ground layer as shown in FIG. Occurrence of partial variations in the generated Zo can be effectively eliminated.
 以上説明した実施の形態は、ペア配線による差動伝送路を採用した回路基板を例にしているが、これはシングルエンドの伝送線路を構成した場合においても、同様の作用効果を得ることができる。 In the above-described embodiment, the circuit board adopting the differential transmission line by the pair wiring is taken as an example, but this can obtain the same operation effect even when a single-end transmission line is configured. .
 また、前記した実施の形態におけるグランド層およびシールド層には、回路の基準電位が印加される場合もあり、また回路基板に搭載される各ディバイスの動作電源が重畳される場合もある。したがって、グランド層およびシールド層に印加される電位は特に限定されるものではない。 In addition, a reference potential of a circuit may be applied to the ground layer and the shield layer in the above-described embodiment, and an operation power source of each device mounted on the circuit board may be superimposed. Therefore, the potential applied to the ground layer and the shield layer is not particularly limited.
 この発明にかかる回路基板は、特に高周波帯で動作するディバイスを実装する例えばフレキシブルプリント配線板、多層フレキシブルプリント配線板等の薄物の回路基板に好適に採用することができる。 The circuit board according to the present invention can be suitably used for a thin circuit board such as a flexible printed wiring board or a multilayer flexible printed wiring board on which a device operating in a high frequency band is mounted.
 1     回路基板
 2     ベース基材(絶縁体層)
 3     金属箔(銅箔)
 3a,3b 信号伝送路(ペア配線)
 4     グランド層
 4B    金属箔の開口部
 5     第1の接着層
 6     第1の被覆層
 7     第2の接着層
 8     第2の被覆層
 8a    ビアホール
 9     シールド層
 
1 Circuit board 2 Base substrate (insulator layer)
3 Metal foil (copper foil)
3a, 3b Signal transmission path (pair wiring)
4 Ground Layer 4B Metal Foil Opening 5 First Adhesive Layer 6 First Covering Layer 7 Second Adhesive Layer 8 Second Covering Layer 8a Via Hole 9 Shield Layer

Claims (4)

  1.  絶縁体層を挟んで、一方の面に信号伝送路が形成され、他方の面にグランド層が形成された回路基板であって、
     前記グランド層には、さらに絶縁体層を介してシールド層が積層されると共に、前記グランド層は、前記信号伝送路に沿う位置において金属箔が敷設されない開口部になされ、前記信号伝送路と前記シールド層との間で形成される結合容量により、前記信号伝送路の特性インピーダンスの制御がなされるように構成したことを特徴とする回路基板。
    A circuit board in which a signal transmission path is formed on one surface and a ground layer is formed on the other surface across an insulator layer,
    The ground layer is further laminated with a shield layer through an insulator layer, and the ground layer is formed in an opening where a metal foil is not laid at a position along the signal transmission path. A circuit board, wherein the characteristic impedance of the signal transmission path is controlled by a coupling capacitance formed between the shield layer and the shield layer.
  2.  前記シールド層は、導電性ペーストもしくは導電性シールドフィルムにより構成されていることを特徴とする請求項1に記載された回路基板。 The circuit board according to claim 1, wherein the shield layer is made of a conductive paste or a conductive shield film.
  3.  前記グランド層とシールド層との間の前記絶縁体層に形成されたビアホールを介して、前記シールド層がグランド層に接続されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載された回路基板。 3. The shield layer according to claim 1, wherein the shield layer is connected to the ground layer through a via hole formed in the insulator layer between the ground layer and the shield layer. Circuit board.
  4.  前記信号伝送路と前記グランド層との間に介在される絶縁体層は、フィルム状ベース基材により構成されていることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載された回路基板。
     
     
    The insulator layer interposed between the signal transmission path and the ground layer is formed of a film-like base substrate, and is described in any one of claims 1 to 3. Circuit board.

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