WO2010110694A1 - Плазменная печь - Google Patents

Плазменная печь Download PDF

Info

Publication number
WO2010110694A1
WO2010110694A1 PCT/RU2010/000126 RU2010000126W WO2010110694A1 WO 2010110694 A1 WO2010110694 A1 WO 2010110694A1 RU 2010000126 W RU2010000126 W RU 2010000126W WO 2010110694 A1 WO2010110694 A1 WO 2010110694A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
cathode
anode
chamber
melting chamber
microwave
Prior art date
Application number
PCT/RU2010/000126
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Георгий Васильевич Лысов
Игорь Анатольевич Леонтьев
Александр Геннадиевич Павельев
Евгений Алексеевич Петров
Original Assignee
Общество С Ограниченной Ответственностью "Твинн"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Общество С Ограниченной Ответственностью "Твинн" filed Critical Общество С Ограниченной Ответственностью "Твинн"
Priority to GB1118362.1A priority Critical patent/GB2484209B/en
Priority to EA201171158A priority patent/EA020329B1/ru
Publication of WO2010110694A1 publication Critical patent/WO2010110694A1/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C21—METALLURGY OF IRON
    • C21B—MANUFACTURE OF IRON OR STEEL
    • C21B13/00—Making spongy iron or liquid steel, by direct processes
    • C21B13/12—Making spongy iron or liquid steel, by direct processes in electric furnaces
    • C21B13/125—By using plasma
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C21—METALLURGY OF IRON
    • C21C—PROCESSING OF PIG-IRON, e.g. REFINING, MANUFACTURE OF WROUGHT-IRON OR STEEL; TREATMENT IN MOLTEN STATE OF FERROUS ALLOYS
    • C21C5/00—Manufacture of carbon-steel, e.g. plain mild steel, medium carbon steel or cast steel or stainless steel
    • C21C5/52—Manufacture of steel in electric furnaces
    • C21C5/5205—Manufacture of steel in electric furnaces in a plasma heated furnace
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B17/00—Furnaces of a kind not covered by any preceding group
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B17/00—Furnaces of a kind not covered by any preceding group
    • F27B17/0016—Chamber type furnaces
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D11/00—Arrangement of elements for electric heating in or on furnaces
    • F27D11/08—Heating by electric discharge, e.g. arc discharge
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D11/00—Arrangement of elements for electric heating in or on furnaces
    • F27D11/12—Arrangement of elements for electric heating in or on furnaces with electromagnetic fields acting directly on the material being heated
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P10/00—Technologies related to metal processing
    • Y02P10/10—Reduction of greenhouse gas [GHG] emissions
    • Y02P10/134—Reduction of greenhouse gas [GHG] emissions by avoiding CO2, e.g. using hydrogen
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P10/00—Technologies related to metal processing
    • Y02P10/20—Recycling

Definitions

  • the invention relates to plasma chemical metallurgy, in particular, to devices for plasma processing of powder metal-containing raw materials, for example, direct reduction of metals and obtaining ultrafine metal nanopowders and their compounds.
  • a plasma furnace for direct reduction of metals which contains a cooled working chamber with a lid and a device for collecting the finished product, a charge feeder, a charge input device and means for introducing reducing gas into the working chamber , a hollow cathode mounted on a central axis with the possibility of movement, an anode combined with a collecting device, and a magnetic system (RF patent W 2007463).
  • the charge and the reducing gas are introduced through the cavity of the cathode; while the wear of the cathode (usually graphite) is determined mainly by two factors: chemical - due to the partial reduction of ore due to the electrode material and thermal - due to the evaporation of the cathode material due to its uneven heating by the arc current to the cathode.
  • the wear of the cathode usually graphite
  • the arc burns onto cold metal frequent arc breaks occur (A. V. Smirnov.
  • the closest prototype of the invention is a plasma furnace containing a melting discharge chamber with a lid, a wall and a bottom, means for collecting the finished product, means for introducing reaction gases into the working chamber, a cylindrical hollow cathode and anode mounted on the central axis of the device, means for supplying microwave energy to the discharge a chamber, an external pipe, in the cavity of which a charge introduction means is installed, made in the form of a cooled electrically conductive inner pipe, a plasma-forming gas inlet pipe on an external pipe baa, swirl the gas flow, means for electrically isolating the cathode from the anode and a magnetic system around said melting chamber (RU N ° 2315813, M. Cl. C21B 13/12, prior. 2006).
  • This furnace contains a coaxial line, an outer tube, and an anode combined with the collecting means.
  • the mixture is fed through the inner tube, microwave energy - through the coaxial line formed by the cathode and the outer tube.
  • the main arc discharge burns between the cathode and the anode, microwave energy is supplied to it from the outside, microwave energy is introduced along the entire length of the plasma channel, but only part of it affects the area at the end of the cathode.
  • a disadvantage of the known design is the limitation of the productivity of the furnace due to restrictions on the amount of electric energy introduced into the plasma.
  • the technical problem solved by the proposed device is to increase the productivity of the furnace.
  • the technical result is to remove restrictions on the amount of input electric energy and increase the efficiency of processing of raw materials.
  • the means for exciting the microwave discharge is located outside the melting discharge chamber and creates using the swirlers a rotating plasma torch of the microwave discharge inside the cathode, and the simultaneous introduction of a rotating flow of reducing gas towards it ensures the existence of a diffuse discharge mode over the entire surface of the cathode.
  • the essence of the invention lies in the fact that in a plasma furnace containing a melting discharge chamber with a lid, a wall and a bottom, means for collecting the finished product, means for introducing reaction gases into the working chamber, a cylindrical hollow cathode and anode mounted on the central axis of the device, microwave supply means energy into the discharge chamber, the outer tube, in the cavity of which the charge introduction means is installed, made in the form of a cooled electrically conductive inner pipe, a plasma-forming gas inlet pipe on the outer pipe, a gas flow swirler, means for electrically isolating the cathode from the anode and a magnetic system around said melting discharge chamber, the cathode is installed in the opening of the chamber cover, means the collection is made in the form of a cylinder connected to the bottom of the aforementioned melting chamber, in which a cylindrical hollow an is fixed with an axial clearance relative to the cathode d with the possibility of movement and in which holes are made around the anode, a reducing gas inlet
  • means of electrical insulation in the form of dielectric rings are introduced between the nozzle and the outer tube or between the nozzle and the cathode together with the microwave choke, as well as between the cover and the wall of the said melting chamber and / or between the bottom and the wall of the said melting chamber
  • means of electrical insulation in the form of dielectric rings are introduced between the bottom of said melting chamber and the collection means, as well as between the wall and the cover of said melting chamber and microwave power supply means ergii embodied as a coaxial - waveguide junction, comprising a rectangular waveguide, the wide wall and the axis of which is perpendicular to the axis of the device connected to the microwave energy source and the coaxial line formed by the outer and inner tubes.
  • the gap along the axis between the inner tube and the conical nozzle is about ⁇ / 2 ( ⁇ is the length of the working electromagnetic microwave wave in the microwave chamber), the cathode protrudes into the said melting chamber from its cover on a component (0.5-1) of the inner diameter of the cathode, the anode protrudes into the space of the aforementioned melting chamber to a height approximately equal to the outer diameter of the anode, the gap between the anode and cathode is approximately equal to the inner diameter of the anode, the total area of the holes in the bottom of the melting chamber around the anode less than the area of the lateral surface of the axial clearance between the anode and cathode, a device for initiating a microwave discharge is installed in the side wall of the microwave discharge chamber, the furnace is equipped with an anode moving mechanism, an inner tube, cathode, and bottom of the celled melting chamber and the walls of both of these chambers are made water-cooled, the charge feeder is connected to the inner pipe through
  • a plasma furnace is a device containing two or more electrodes, between which an electric discharge is excited in a plasma-forming gas medium, controlled by gas or magnetodynamic methods, the plasma of which is used to heat the gas, melt and recover ore materials.
  • Feeder - a device, usually containing a bunker with the original ore raw materials and means for feeding it at a given speed.
  • the mixture is a mixture consisting of ore raw materials (ore, concentrate), alloying and refining additives.
  • Coaxial - waveguide transition - a device for converting a microwave wave of a coaxial line into a microwave wave propagating in a waveguide, and vice versa.
  • a coaxial line made in the form of external and internal conductors, and located perpendicular to its axis of a rectangular waveguide.
  • FIG. 1 is a schematic longitudinal section of a preferred embodiment of the device.
  • the plasma furnace comprises a melting discharge chamber 1 with a lid 2, a wall 3 and a bottom 4, and a microwave discharge chamber 5.
  • the chamber 1 includes a cylindrical hollow anode 6, mounted on the bottom 4 with a possibility of movement, a cathode 7 mounted in the hole of the cover 2 of the chamber 1, a first gas swirl 8 on the wall 3 of the chamber 1, connected to a reducing gas inlet (not shown), openings 9 withdrawal of excess exhaust gas, openings 10 in the bottom 4 of the chamber 1 and means 11 for collecting the finished product in the form of a cylinder with a conical lower part connected to the bottom 4 of the chamber 1.
  • the microwave discharge chamber 5 includes an internal metal cooled pipe 12 and an external metal pipe 13, a conical nozzle 14, means for supplying microwave energy in the form of a coaxial waveguide transition 15 with a coaxial part 16 and a rectangular waveguide 17, a porous dielectric insert 18, a first plasma-forming gas inlet 19, a second swirl 20 and a second pipe connected to it the input of a plasma-forming gas (not shown), a microwave choke 21 and a dielectric ring 22 between the nozzle 14 and the outer pipe 13.
  • a solenoid 23 is installed around the chamber 1.
  • the microwave discharge chamber 5 is formed by an inner tube 12, an outer tube 13, and a cone nozzle 14 fixed to the bottom of the outer tube 13.
  • the cap 2, the cathode 7, the nozzle 14, and the outer tube 13 are electrically integrated.
  • the nozzle 14 is electrically connected to the cathode 7, but with the help of the microwave choke 21 and the ring 22 is isolated from the outer tube 13 (or the nozzle 14 is isolated from the cathode 7), which made it possible to always use the chambers of the 5 microwave discharge at Earth potential.
  • the charge introduction means is aligned with the inner tube 12.
  • the gap between the tubes 12 and 13 is fixed by the dielectric insert 18, the gas permeability of which is associated with the need to prevent discharge into the waveguide by creating an overpressure relative to the pressure above the insert 18 using the first nozzle 19 of the plasma-forming gas in the area under the insert 18 created by the second input pipe plasma forming gas connected to the second swirler 20.
  • the chamber 5 can be mounted on the chamber l without using a cone nozzle, and, for example, by installing an external pipe 13 on the cover 2, but in this case it is necessary to take additional measures to direct the flow of the charge and microwave plasma discharge into the cathode 7 opening.
  • the commonly used device for initiating microwave discharge 24 made in the form of a metal pin, briefly inserted into the chamber 5. Electrical insulation of the walls 3 of the chamber 1 from the cover 2 can be performed using a dielectric ring 25, and from the bottom 4 - using dielectric ring 26. If necessary, the bottom 4 may be isolated from the collecting device 11 by a dielectric ring 27.
  • the means for supplying microwave energy to the chamber 5 is made in the form of a coaxial waveguide transition 15 consisting of a rectangular waveguide 17 and a coaxial line 16 formed by tubes 12 and 13.
  • the microwave energy can be supplied to the chamber 5 by other means , for example, not a rectangular, but a round or coaxial waveguide.
  • the recommended gap between the inner tube 12 and the cone nozzle 14, which in the embodiment of the invention is about half the length of the working electromagnetic wave, is indicated as the initial one when designing the furnace and subsequent tuning of the microwave units.
  • the length of this gap should be specified when tuning chamber 5 according to the criterion of minimum reflected power in order to ensure resonance in the region of the specified gap, under which there is a complete transfer of the supplied microwave energy to chamber 5. Adjustment is made before the furnace starts operation, its results are recorded and do not change further.
  • the ratio according to which the cathode 7 protrudes into the said melting chamber 1 from its cover 2 by an amount of (0.5 - 1) the inner diameter of the cathode 7, the anode 6 protrudes into the space of the said melting chamber 1 to a height approximately equal to the outer diameter of the anode 6 and the gap between the anode 6 and the cathode 7 is approximately equal to the inner diameter of the anode 6, are selected experimentally.
  • the magnetic field can be created by a permanent magnet, but in the proposed embodiment, a solenoid 23 is used in connection with the large size of the chamber 1.
  • the device operates as follows.
  • Regular voltages are set at the anode 6 and cathode 7 (in the preferred embodiment, the anode is grounded).
  • microwave energy is introduced into a coaxial waveguide 16 on a TEM type wave.
  • a plasma-forming gas for example, nitrogen or an argon-hydrogen mixture introduced through the pipe 19, penetrates through the porous insert 18 and moves along the axis along the gap between the pipes 12 and 13.
  • the gas introduced through the second swirler 20 moves tangentially to the surfaces of the pipes 12 and 13. C using the device 24 under the insert, a microwave discharge is initiated.
  • the initiation of a microwave discharge can be performed in another way (for example, by briefly touching the inner tube 12 of the cathode 7 with a reduced voltage between them, using a starting plasma torch, high-frequency breakdown, etc.), therefore, in one embodiment, the inner tube 12 is arranged to move .
  • the inner tube 12 In the case of initiating a microwave discharge using a voltage supply to the pipe 12 between it and the charge feeder (not shown) must be installed an insulator, and between it and the pipe 13 - microwave choke.
  • a plasma torch of a microwave discharge in a rotating stream of plasma-forming gas moves toward chamber 1.
  • reducing gas is supplied to the chamber 1, an arc discharge is initiated in the gap between the anode 6 and the cathode 7 by applying a short-time high-voltage pulse between them or a high-frequency breakdown, using the possibility of moving the anode 6.
  • the movement mechanism can be performed similarly to that described in patent RU N ° 1781306 or in the form of a pin on a bar.
  • Arc ignition is facilitated by the presence of a microwave discharge plasma in this gap, which is introduced by centrifugal forces under the lower end of cathode 7. This is further facilitated by the rotation of the arc under the action of a magnetic field generated by the solenoid 23.
  • the total area of the holes 10 in the bottom 4 of the melting chamber 1 around the anode 6 should be less than the lateral surface area of the axial clearance between the anode 6 and the cathode 7 in order to create an excess of pressure of the reducing gas supplied through the reducing gas inlet pipe and the first swirl 8 in the region between the wall 3 and electrodes (cathode 7 and anode 6) with respect to the pressure in the gap between them and in the cavity of the anode 6.
  • the plasma-chemical interaction of the charge with the reducing gas is carried out under conditions of increasing gas temperature to values that ensure melting and restoration of the charge.
  • the finished product (reduced metal) is collected in the collection means 11, the exhaust gases exit through the pipe 9.
  • a physical effect consisting in the diffuse nature of the arc burning, in which current sampling is carried out uniformly from the entire surface of the end of the cathode 7 at a current density substantially lower than in the prototype, realized due to the fact that with the vortex nature of the movement of the plasma-forming and reducing gases in the axial magnetic field of the solenoid 26 of the microwave and arc discharge plasma is drawn under the lower end of the cathode 7. Moreover, as our experimental studies have shown, Current sampling from the end of cathode 7 is carried out without noticeable erosion of cathode 7.
  • a microwave discharge in the near-cathode region of the arc discharge stabilizes the arc, since even with possible jumps of the arc observed in known devices, the microwave discharge plasma filling this region does not allow the current to cease with the main arc breaking off.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Furnace Details (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Gasification And Melting Of Waste (AREA)
  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)

Abstract

Изобретение относится к устройствам для плазменной обработки порошкового металлосодержащего сырья. Печь содержит плавильную разрядную камеру, средство сбора готового продукта, цилиндрические полые катод и анод, установленные на центральной оси печи, средство подачи СВЧ энергии, внешнюю и внутреннюю трубы и магнитную систему вокруг плавильной камеры. Печь снабжена конусным соплом, закрепленным на нижней части внешней трубы и соединяющим катод с внешней трубой, который с трубами и средством подачи СВЧ энергии образует камеру СВЧ разряда, расположенную вдоль общей оси с плавильной разрядной камерой. На стенке плавильной разрядной камеры под её крышкой установлен первый завихритель, подсоединенный к патрубку ввода восстановительного газа. Между упомянутыми трубами помещена газопроницаемая диэлектрическая вставка, над которой расположен первый патрубок ввода плазмообразующего газа, а под ней на внешней трубе - второй завихритель газа со вторым патрубком ввода плазмообразующего газа.

Description

ПЛАЗМЕННАЯ ПЕЧЬ
Изобретение относится к плазмохимической металлургии, в частности, к устройствам для плазменной обработки порошкового металлосодержащего сырья, например, прямого восстановления металлов и получения ультрадисперсных нанопорошков металлов и их соединений.
Устройства для прямого восстановления металлов на основе дуговых разрядов описаны в технической литературе, например, известна плазменная печь для прямого восстановления металлов, содержащая охлаждаемую рабочую камеру с крышкой и устройством сбора готового продукта, питатель шихты, устройство ввода шихты и средство ввода восстановительного газа в рабочую камеру, полый катод, установленный на центральной оси с возможностью перемещения, анод, совмещенный с устройством сбора, и магнитную систему (патент РФ Ш 2007463).
В этом устройстве шихту и восстановительный газ вводят через полость катода; при этом износ катода (обычно - графитового) определяется в основном двумя факторами: химическим - вследствие частичного восстановления руды за счет материала электрода и тепловым - за счет испарения материала катода вследствие его неравномерного нагрева током дуги на катод. Одновременно имеет место процесс сужения полости катода вследствие осаждения на нем углерода, образовавшегося в результате пиролиза при использовании в качестве восстановительного газа углеводородов. На начальной стадии периода расплавления, когда дуга горит на холодный металл, возникают частые обрывы дуг (А. В. Смирнов. Управление перемещением электродов в дуговой печи в экстремальных ситуациях. «Элeктpoмeтaллypгия», 2001, N° 6, с. 21). Ближайшим прототипом предлагаемого изобретения является плазменная печь, содержащая плавильную разрядную камеру с крышкой, стенкой и днищем, средство сбора готового продукта, средства ввода реакционных газов в рабочую камеру, цилиндрический полый катод и анод, установленные на центральной оси устройства, средство подачи СВЧ энергии в разрядную камеру, внешнюю трубу, в полости которой установлено средство ввода шихты, выполненное в виде охлаждаемой электропроводной внутренней трубы, патрубок ввода плазмообразующего газа на внешней трубе, завихритель газового потока, средства электрической изоляции катода от анода и магнитную систему вокруг упомянутой плавильной камеры (RU N° 2315813, M. Кл. C21B 13/12, приор. 2006г).
Эта печь содержит коаксиальную линию, внешнюю трубу и совмещенный со средством сбора анод. Шихту подают по внутренней трубе, СВЧ энергию - по коаксиальной линии, образованной катодом и внешней трубой. Основной дуговой разряд горит между катодом и анодом, СВЧ энергия поступает к нему с внешней стороны, СВЧ энергия вводится по всей длине плазменного канала, но лишь часть ее воздействует на область у торца катода. Так как при увеличении тока основного разряда растет электропроводность созданного ею плазменного канала, уменьшается скин-сло (глубина проникновения СВЧ полей в плазму), уменьшается влияние СВЧ электромагнитных полей на процессы в прикатодной области, снижается ресурс катода и ухудшается стабилизации дуги в пространстве анод-катод. Таким образом, недостатком известной конструкции является ограничение производительности печи вследствие ограничений на величину вводимой в плазму электрической энергии.
Техническая задача, решаемая предлагаемым устройством, заключается в увеличении производительности печи.
Технический результат заключается в устранении ограничений на величину вводимой электрической энергии и увеличении эффективности переработки сырья.
Указанный результат достигается благодаря тому, что средство возбуждения СВЧ разряда размещено вне плавильной разрядной камеры и создает с помощью завихрителей вращающийся плазменный факел СВЧ разряда внутри катода, а одновременное введение навстречу ему вращающегося потока восстановительного газа обеспечивает существование диффузного режима разряда у всей поверхности катода.
Сущность изобретения заключается в том, что в плазменной печи, содержащей плавильную разрядную камеру с крышкой, стенкой и днищем, средство сбора готового продукта, средства ввода реакционных газов в рабочую камеру, цилиндрический полый катод и анод, установленные на центральной оси устройства, средство подачи СВЧ энергии в разрядную камеру, внешнюю трубу, в полости которой установлено средство ввода шихты, выполненное в виде охлаждаемой электропроводной внутренней трубы, патрубок ввода плазмообразующего газа на внешней трубе, завихритель газового потока, средства электрической изоляции катода от анода и магнитную систему вокруг упомянутой плавильной разрядной камеры, катод установлен в отверстии крышки камеры, средство сбора выполнено в виде цилиндра, подсоединенного к днищу упомянутой плавильной камеры, в котором с осевым зазором относительно катода закреплен цилиндрический полый анод с возможностью перемещения и в котором вокруг анода выполнены отверстия, патрубок ввода восстановительного газа с первым завихрителем установлен на стенке этой камеры под ее крышкой, на упомянутой плавильной камере вдоль общей оси установлена камера СВЧ разряда, образованная упомянутыми трубами и конусным соплом, закрепленным на нижней части внешней трубы и с помощью которого катод соединен с внешней трубой, между упомянутыми трубами помещена газопроницаемая диэлектрическая вставка, при этом над вставкой расположен первый патрубок ввода плазмообразующего газа, а под ней на внешней трубе - второй завихритель газа со вторым патрубком ввода плазмообразующего газа.
При этом в одном варианте изобретения средства электрической изоляции в виде диэлектрических колец введены между соплом и внешней трубой или между соплом и катодом вместе с СВЧ дросселем, а также между крышкой и стенкой упомянутой плавильной камеры или/и между днищем и стенкой упомянутой плавильной камеры, в другом варианте средства электрической изоляции в виде диэлектрических колец введены между днищем упомянутой плавильной камеры и средством сбора, а также между стенкой и крышкой упомянутой плавильной камеры и средство подачи СВЧ энергии выполнено в виде коаксиально - волноводного перехода, содержащего прямоугольный волновод, широкая стенка и ось которого перпендикулярны оси устройства, подключенный к источнику СВЧ энергии, и коаксиальную линию, образованную внешней и внутренней трубами. Кроме того, зазор вдоль оси между внутренней трубой и конусным соплом составляет около λ/2 ( λ - длина рабочей электромагнитной СВЧ волны в СВЧ камере), катод выступает в упомянутую плавильную камеру из ее крышки на величину, составляющую (0,5-1) внутреннего диаметра катода, анод выступает в пространство упомянутой плавильной камеры на высоту, примерно равную внешнему диаметру анода, зазор между анодом и катодом примерно равен внутреннему диаметру анода, общая площадь отверстий в днище плавильной камеры вокруг анода меньше площади боковой поверхности осевого зазора между анодом и катодом, в боковой стенке камеры СВЧ разряда установлено устройство инициирования СВЧ разряда, печь снабжена механизмом перемещения анода, внутренняя труба, катод, днище упомянутой плавильной камеры и стенки обеих упомянутых камер выполнены водоохлаждаемыми, питатель шихты подключен к внутренней трубе через изолятор, в варианте исполнения внутренняя и внешняя трубы изолированы друг от друга и на внешней трубе установлен СВЧ дроссель, а магнитная система выполнена в виде соленоида.
Используемые термины
Плазменная печь - устройство, содержащее два или более электродов, между которыми в среде плазмообразующего газа возбуждают электрический разряд, управляемый газо- или магнитодинамическими методами, плазму которого используют для нагрева газа, плавления и восстановления рудного сырья.
Питатель - устройство, обычно содержащее бункер с исходным рудным сырьем и средство его подачи с заданной скоростью.
Шихта - смесь, состоящая из рудного сырья (руда, концентрат), легирующих и рафинирующих добавок.
Рудное, железорудное сырье - минеральное или техногенное сырье, содержащее один или более окислов, например, железа различной валентности. Коаксиально - волноводный переход - устройство преобразования СВЧ волны коаксиальной линии в СВЧ волну, распространяющуюся в волноводе, и наоборот. Обычно состоит из коаксиальной линии, выполненной в виде внешнего и внутреннего проводников, и расположенного перпендикулярно к ее оси прямоугольного волновода. На фиг. 1 схематически представлено продольное сечение предпочтительного варианта устройства.
В предпочтительном варианте плазменная печь содержит плавильную разрядную камеру 1 с крышкой 2, стенкой 3 и днищем 4 и камеру 5 СВЧ разряда. Камера 1 включает цилиндрический полый анод 6, закрепленный на днище 4 с возможностью перемещения, катод 7, установленный в отверстии крышки 2 камеры 1, первый завихритель 8 газового потока на стенке 3 камеры 1, подсоединенный к патрубку ввода восстановительного газа (не показан), отверстия 9 вывода излишков отработанного газа, отверстия 10 в днище 4 камеры 1 и средство 11 сбора готового продукта в виде цилиндра с конусной нижней частью, подсоединенного к днищу 4 камеры 1. Камера 5 СВЧ разряда включает внутреннюю металлическую охлаждаемую трубу 12 и внешнюю металлическую трубу 13, конусное сопло 14, средство подачи СВЧ энергии в виде коаксиально - волноводного перехода 15 с коаксиальной частью 16 и прямоугольным волноводом 17, пористую диэлектрическую вставку 18, первый патрубок 19 ввода плазмообразующего газа, второй завихритель 20 и подсоединенный к нему второй патрубок ввода плазмообразующего газа (не показан), СВЧ дроссель 21 и диэлектрическое кольцо 22 между соплом 14 и внешней трубой 13. Соленоид 23 установлен вокруг камеры 1 .
Камеру 5 СВЧ разряда образуют внутренняя труба 12, внешняя труба 13 и конусное сопло 14, закрепленное на нижней части внешней трубы 13. В другом варианте изобретения крышка 2, катод 7, сопло 14 и внешняя труба 13 электрически составляют единое целое. При этом для обеспечения возможности эксплуатации камеры 5 (в частности, ее трубы 13) при потенциале Земли, что может определяться требованиями электробезопасности, необходимо использовать источник питания дуги с высоким потенциалом на положительном электроде, что не всегда удобно. В предпочтительном варианте сопло 14 электрически соединено с катодом 7, но с помощью СВЧ дросселя 21 и кольца 22 изолировано от внешней трубы 13 (или сопло 14 изолировано от катода 7), что позволило всегда использовать камер у 5 СВЧ разряда при потенциале Земли. Средство ввода шихты совмещено с внутренней трубой 12. Величина зазора между трубами 12 и 13 зафиксирована диэлектрической вставкой 18, газопроницаемость которой связана с необходимостью недопущения в волновод плазмы разряда путем создания над вставкой 18 с помощью первого патрубка 19 ввода плазмообразующего газа избыточного давления по отношению к давлению в области под вставкой 18, создаваемому вторым патрубком ввода плазмообразующего газа, подсоединенным ко второму завихрителю 20.
Камера 5 может быть закреплена на камере lи без использования конусного сопла, а, например, установкой внешней трубы 13 на крышке 2, но в таком случае необходимо принять дополнительные меры для направления потока шихты и плазмы СВЧ разряда в отверстие катода 7.
На внешней трубе 13 помещено обычно применяемое устройство инициирования СВЧ разряда 24, выполненное в виде металлического штыря, кратковременно вводимого в камеру 5. Электрическая изоляция стенок 3 камеры 1 от крышки 2 может быть выполнена с помощью диэлектрического кольца 25, а от днища 4 - с помощью диэлектрического кольца 26. При необходимости днище 4 может быть изолировано от устройства сбора 11 диэлектрическим кольцом 27.
В представленном здесь предпочтительном варианте средство подачи СВЧ энергии в камеру 5 выполнено в виде коаксиально - волноводного перехода 15, состоящего из прямоугольного волновода 17 и коаксиальной линии 16, образованной трубами 12 и 13. Однако подача СВЧ энергии в камеру 5 может быть осуществлена и другими средствами, например, не прямоугольным, а круглым или коаксиальным волноводом. Рекомендуемый зазор между внутренней трубой 12 и конусным соплом 14, составляющий в варианте изобретения около половины длины рабочей электромагнитной волны, указан в качестве исходного при проектировании печи и последующей настройке СВЧ узлов. Вследствие неопределенных граничных условий длина этого зазора должна уточняться при настройке камеры 5 по критерию минимальной отраженной мощности для обеспечения резонанса в области указанного зазора, в условиях которого происходит полная передача подводимой СВЧ энергии в камеру 5. Настройка выполняется до начала эксплуатации печи, ее результаты фиксируются и в дальнейшем не меняются.
Соотношения, согласно которым катод 7 выступает в упомянутую плавильную камеру 1 из ее крышки 2 на величину, составляющую (0,5 - 1) внутреннего диаметра катода 7, анод 6 выступает в пространство упомянутой плавильной камеры 1 на высоту, примерно равную внешнему диаметру анода 6, а зазор между анодом 6 и катодом 7 примерно равен внутреннему диаметру анода 6, подобраны экспериментально. Данные соотношения влияют на формирование вихревого потока газа в камере 1 с последующим формированием плазменного канала и справедливы для использованных размеров камеры 1 (внутренний диаметр катода 30мм, анод выступает на высоту 70 мм, внутренний диаметр анода 40 мм, зазор между анодом и катодом 40 мм) и режима работы печи UдyГИ= 100 В ,
Figure imgf000009_0001
400 А , PCвч= 4 кВт, для других размеров и режима они могут оказаться иными. Эти соотношения также являются исходными для проектирования и в процессе настройки режима работы камеры 1 могут быть уточнены.
Для охлаждения печи при малой мощности может быть использовано воздушное охлаждение, однако при большой мощности, подводимой к печи, ее конструктивные элементы могут сильно нагреваться с последующим выходом из строя, поэтому внутренняя труба 12, катод 7, днище 4 упомянутой плавильной камеры 1 и стенки обеих упомянутых камер 1 и 5 должны быть выполнены водоохлаждаемыми. Магнитное поле может быть создано и постоянным магнитом, но в предлагаемом варианте применен соленоид 23 в связи с большими размерами камеры 1.
Устройство работает следующим образом.
На аноде 6 и катоде 7 устанавливают штатные напряжения (в предпочтительном варианте конструкции заземленным является анод). Через прямоугольный волновод 17 от источника СВЧ энергии (не показан) в коаксиальный волновод 16 вводят СВЧ энергию на волне типа ТЕМ. Плазмообразующий газ, например, азот или аргоноводородная смесь, вводимый через патрубок 19, проникает через пористую вставку 18 и движется вдоль оси по зазору между трубами 12 и 13. Газ, вводимый через второй завихритель 20, движется тангенциально к поверхностям труб 12 и 13. С помощью устройства 24 под вставкой инициируют СВЧ разряд. Инициирование СВЧ разряда может быть выполнено и иным способом (например, кратковременным касанием внутренней трубой 12 катода 7 при пониженном напряжении между ними, использованием пускового плазмотрона, высокочастотным пробоем и т.д.), поэтому в одном из вариантов внутренняя труба 12 выполнена с возможностью перемещения. В случае инициирования СВЧ разряда с использованием подачи напряжения на трубу 12 между ней и питателем шихты (не показан) необходимо установить изолятор, а между ней и трубой 13 - СВЧ дроссель.
Плазменный факел СВЧ разряда во вращающемся потоке плазмообразующего газа движется в сторону камеры 1. Регулировкой соотношения расходов газа через патрубок 19 и завихритель 20 создают условия для горения и транспортировки факела плазмы СВЧ разряда в сторону камеры 1. Экспериментально установлено, что удовлетворительным является примерно равное соотношение расходов.
Через первый завихритель 8 восстановительный газ подают в камеру 1, инициируют дуговой разряд в зазоре между анодом 6 и катодом 7 путем подачи кратковременного высоковольтного импульса между ними или высокочастотным пробоем, используя возможность перемещения анода 6. Механизм перемещения может быть выполнен аналогично описанному в патенте RU N° 1781306 или в виде цапфы на штанге. Поджиг дуги облегчен присутствием в этом зазоре плазмы СВЧ разряда, которая центробежными силами вводится под нижний торец катода 7. Этому дополнительно способствует вращение дуги под действием создаваемого соленоидом 23 магнитного поля. Встречное движение вращающегося потока восстановительного газа турбулизирует плазму и препятствует ее выходу из - под нижнего торца катода 7 в сторону стенки 3 камеры 1. Как показали наши экспериментальные исследования, благодаря обтеканию плазмой СВЧ разряда нижнего торца катода 7 пятно дугового разряда не перескакивает по поверхности торца, фиксируясь в отдельных точках, а трансформируется в диффузное плазменное кольцо у его поверхности. При этом обеспечиваются условия равномерного токоотбора с поверхности торца катода 7. Затем через внутреннюю трубу 12 шихту от питателя (не показан) подают в рабочую камеру 1.
Общая площадь отверстий 10 в днище 4 плавильной камеры 1 вокруг анода 6 должна быть меньше площади боковой поверхности осевого зазора между анодом 6 и катодом 7, чтобы создать превышение давления восстановительного газа, подаваемого через патрубок ввода восстановительного газа и первый завихритель 8, в области между стенкой 3 и электродами (катодом 7 и анодом 6) по отношению к давлению в зазоре между ними и в полости анода 6. Меньшая суммарная площадь отверстий 10 в днище 4 по сравнению с площадью боковой поверхности зазора анод 6 - катод 7 обеспечивает прохождение существенной части восстановительного газа, вводимого через завихритель 8, через этот зазор в полость анода 6, вовлекая туда шихту, поступающую из камеры 5. Наличие отверстий 10 позволяет сбрасывать излишки объема газа, подаваемого через завихритель 8, и предотвращать сдувание дуги, одновременно захолаживая стенку 3, чтобы избежать ее разрушения.
В зазоре анод 6 - катод 7 и полости анода 6 по мере продвижения шихты в направлении средства сбора 1 1 осуществляется плазмохимическое взаимодействие шихты с восстановительным газом в условиях нарастания температуры газа до величин, обеспечивающих плавление и восстановление шихты. Готовый продукт (восстановленный металл) собирается в средстве сбора 11, отходящие газы выходят через патрубок 9.
В предлагаемом изобретении использован физический эффект, заключающийся в диффузном характере горения дуги, при котором токоотбор осуществляется равномерно со всей поверхности торца катода 7 при плотности тока, существенно меньшей, чем в прототипе, реализованный благодаря тому, что при вихревом характере движения плазмообразующего и восстановительного газов в осевом магнитном поле соленоида 26 плазма СВЧ разряда и дугового разряда втягивается под нижний торец катода 7. При этом, как показали наши экспериментальные исследования равномерный токоотбор с торца катода 7 осуществляется без заметной эрозии катода 7.
Кроме того, СВЧ разряд в прикатодной области дугового разряда стабилизирует дугу, так как даже при возможных перескоках дуги, наблюдаемых в известных устройствах, заполняющая эту область плазма СВЧ разряда не допускает прекращения тока с обрывом основной дуги.
Таким образом, обеспечение диффузного характера горения дуги путем введения плазмы СВЧ разряда под нижний торец катода 7 позволяет устранить ограничения на величину вводимой электрической энергии и в результате этого увеличить эффективность переработки сырья. Увеличение подводимой электрической энергии позволяет также перерабатывать большее количество шихты в единицу времени и увеличить производительность печи.

Claims

ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ
1. Плазменная печь, содержащая плавильную разрядную камеру с крышкой, стенкой и днищем, средство сбора готового продукта, средства ввода реакционных газов в рабочую камеру, цилиндрический полый катод и анод, установленные на центральной оси устройства, средство подачи СВЧ энергии в разрядную камеру, внешнюю трубу, в полости которой установлено средство ввода шихты, выполненное в виде охлаждаемой электропроводной внутренней трубы, патрубок ввода плазмообразующего газа на внешней трубе, завихритель газового потока, средства электрической изоляции катода от анода и магнитную систему вокруг упомянутой плавильной камеры, отличающаяся тем, что катод установлен в отверстии крышки камеры, средство сбора выполнено в виде цилиндра, подсоединенного к днищу упомянутой плавильной камеры, в котором с осевым зазором относительно катода закреплен цилиндрический полый анод с возможностью перемещения и в котором вокруг анода выполнены отверстия, патрубок ввода восстановительного газа с первым завихрителем установлен на стенке этой камеры под ее крышкой, на упомянутой плавильной камере вдоль общей оси установлена камера СВЧ разряда, образованная упомянутыми трубами и конусным соплом, закрепленным на нижней части внешней трубы и с помощью которого катод соединен с внешней трубой, между упомянутыми трубами помещена газопроницаемая диэлектрическая вставка, при этом над вставкой расположен первый патрубок ввода плазмообразующего газа, а под ней на внешней трубе - второй завихритель газа со вторым патрубком плазмообразующего газа.
2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что средства электрической изоляции в виде диэлектрических вставок введены между соплом и внешней трубой или между соплом и катодом вместе с СВЧ дросселем, а также между крышкой и стенкой упомянутой плавильной камеры или/и между днищем и стенкой упомянутой плавильной камеры.
3. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что средства электрической изоляции в виде диэлектрических вставок введены между днищем упомянутой плавильной камеры и средством сбора, а также между стенкой и крышкой упомянутой плавильной камеры.
4. Устройство по любому из п. п. 1-3, отличающееся тем, что средство подачи СВЧ энергии выполнено в виде коаксиально - волноводного перехода, содержащего прямоугольный волновод, широкая стенка и ось которого перпендикулярны оси устройства, подключенный к источнику СВЧ энергии, и коаксиальную линию, образованную внешней и внутренней трубами.
5. Устройство по п.l, отличающееся тем, что зазор вдоль оси между внутренней трубой и конусным соплом составляет около λ/2 ( λ - длина рабочей электромагнитной СВЧ волны в камере СВЧ разряда).
6. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что катод выступает в упомянутую плавильную камеру из ее крышки на величину, составляющую (0,5-
1 ) внутреннего диаметра катода.
7. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что анод выступает в пространство упомянутой плавильной камеры на высоту, примерно равную внешнему диаметру анода.
8. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что зазор между анодом и катодом примерно равен внутреннему диаметру анода.
9. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что общая площадь отверстий в днище плавильной камеры вокруг анода меньше площади боковой поверхности осевого зазора между анодом и катодом.
10. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что в боковой стенке камеры
СВЧ разряда установлено устройство инициирования СВЧ разряда.
11. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что оно снабжено механизмом перемещения анода.
12. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что внутренняя труба, катод, днище упомянутой плавильной камеры и стенки обеих упомянутых камер выполнены водоохлаждаемыми.
13. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что питатель шихты подключен к внутренней трубе через изолятор.
14. Устройство по п.l, отличающееся тем, что внутренняя и внешняя трубы изолированы друг от друга и между ними установлен СВЧ дроссель.
15. Устройство по п.l, отличающееся тем, что внутренняя труба выполнена с возможностью перемещения.
16. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что магнитная система выполнена в виде соленоида.
PCT/RU2010/000126 2009-03-24 2010-03-23 Плазменная печь WO2010110694A1 (ru)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB1118362.1A GB2484209B (en) 2009-03-24 2010-03-23 Plasma Furnace
EA201171158A EA020329B1 (ru) 2009-03-24 2010-03-23 Плазменная печь

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2009110298 2009-03-24
RU2009110298/02A RU2009110298A (ru) 2009-03-24 2009-03-24 Плазменная печь

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2010110694A1 true WO2010110694A1 (ru) 2010-09-30

Family

ID=42781227

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/RU2010/000126 WO2010110694A1 (ru) 2009-03-24 2010-03-23 Плазменная печь

Country Status (4)

Country Link
EA (1) EA020329B1 (ru)
GB (1) GB2484209B (ru)
RU (1) RU2009110298A (ru)
WO (1) WO2010110694A1 (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110463357A (zh) * 2017-01-23 2019-11-15 爱德华兹韩国有限公司 等离子体产生设备和气体处理设备
US11985754B2 (en) 2017-01-23 2024-05-14 Edwards Korea Ltd. Nitrogen oxide reduction apparatus and gas treating apparatus

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2650197C1 (ru) * 2017-03-09 2018-04-11 Общество С Ограниченной Ответственностью "Твинн" Многоступенчатый плазмотрон
DE102020202484A1 (de) 2020-02-26 2021-08-26 Technische Universität Bergakademie Freiberg Vorrichtung zum Schmelzen von Metallen

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3834895A (en) * 1973-04-11 1974-09-10 Park Ohio Industries Inc Method of reclaiming iron from ferrous dust
JPH06212228A (ja) * 1992-08-11 1994-08-02 Mintek チタンの多いスラグおよび銑鉄を産出するためのチタン鉄鉱の還元方法
RU67990U1 (ru) * 2007-06-21 2007-11-10 Ооо "Твинн" Свч плазмохимический реактор
RU2315813C1 (ru) * 2006-04-07 2008-01-27 Ооо "Твинн" Плазменная печь для прямого восстановления металлов
RU2007123275A (ru) * 2007-06-21 2008-12-27 Ооо "Твинн" (Ru) Способ прямого восстановления железа и устройство для его осуществления (варианты)

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3834895A (en) * 1973-04-11 1974-09-10 Park Ohio Industries Inc Method of reclaiming iron from ferrous dust
JPH06212228A (ja) * 1992-08-11 1994-08-02 Mintek チタンの多いスラグおよび銑鉄を産出するためのチタン鉄鉱の還元方法
RU2315813C1 (ru) * 2006-04-07 2008-01-27 Ооо "Твинн" Плазменная печь для прямого восстановления металлов
RU67990U1 (ru) * 2007-06-21 2007-11-10 Ооо "Твинн" Свч плазмохимический реактор
RU2007123275A (ru) * 2007-06-21 2008-12-27 Ооо "Твинн" (Ru) Способ прямого восстановления железа и устройство для его осуществления (варианты)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110463357A (zh) * 2017-01-23 2019-11-15 爱德华兹韩国有限公司 等离子体产生设备和气体处理设备
CN110463357B (zh) * 2017-01-23 2021-09-17 爱德华兹韩国有限公司 等离子体产生设备和气体处理设备
US11430638B2 (en) 2017-01-23 2022-08-30 Edwards Limited Plasma generating apparatus and gas treating apparatus
US11985754B2 (en) 2017-01-23 2024-05-14 Edwards Korea Ltd. Nitrogen oxide reduction apparatus and gas treating apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
EA020329B1 (ru) 2014-10-30
EA201171158A1 (ru) 2012-07-30
GB2484209A8 (en) 2013-08-07
GB201118362D0 (en) 2011-12-07
RU2009110298A (ru) 2010-09-27
GB2484209A (en) 2012-04-04
GB2484209B (en) 2013-08-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0019362B1 (en) Method and apparatus for the treatment of matter with low temperature plasma
US20120034135A1 (en) Plasma reactor
RU2670600C9 (ru) Зажигание пламени электроположительного металла путем перевода активного газа в состояние плазмы
KR101041026B1 (ko) 공동형 플라즈마 토치, 플라즈마/가스 혼합형 연소장치 및이를 이용한 용융방법
WO2012067546A2 (en) Device for producing of fullerene-containing soot
US20230110818A1 (en) Device for melting metals
WO2010110694A1 (ru) Плазменная печь
RU2320102C1 (ru) Плазмотрон для напыления
RU2393988C1 (ru) Устройство для плазмохимической конверсии углеводородного газа
RU2315813C1 (ru) Плазменная печь для прямого восстановления металлов
US5017751A (en) Inductively-coupled RF plasma torch
CN109104808A (zh) 一种长使用寿命的新型微波等离子体激发装置
RU85158U1 (ru) Свч плазмохимический реактор
GB2534890A (en) Thermal plasma torch
RU2270536C1 (ru) Свч плазмохимический реактор
RU67990U1 (ru) Свч плазмохимический реактор
RU2360975C2 (ru) Способ прямого восстановления железа и устройство для его осуществления (варианты)
KR20190094273A (ko) 플라즈마 토치
Czernichowski et al. Further development of plasma sources: the GlidArc-III
RU2506724C1 (ru) Электродуговой плазмотрон с водяной стабилизацией дуги
US20230166227A1 (en) Plasma/ionic reactor
RU140498U1 (ru) Плазматрон для порошкового напыления
EP1801845B1 (en) Plasmachemical microwave reactor
RU2401521C1 (ru) Ускоритель плазмы с замкнутым холловским током (варианты)
RU2318876C1 (ru) Устройство для прямого восстановления металлов

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 10756403

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 201171158

Country of ref document: EA

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 1118362

Country of ref document: GB

Kind code of ref document: A

Free format text: PCT FILING DATE = 20100930

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1118362.1

Country of ref document: GB

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 10756403

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1