RU140498U1 - Плазматрон для порошкового напыления - Google Patents

Плазматрон для порошкового напыления Download PDF

Info

Publication number
RU140498U1
RU140498U1 RU2013122645/02U RU2013122645U RU140498U1 RU 140498 U1 RU140498 U1 RU 140498U1 RU 2013122645/02 U RU2013122645/02 U RU 2013122645/02U RU 2013122645 U RU2013122645 U RU 2013122645U RU 140498 U1 RU140498 U1 RU 140498U1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
cathode
anode
plasma
channel
housing
Prior art date
Application number
RU2013122645/02U
Other languages
English (en)
Inventor
Владимир Андреевич Деманов
Николай Иванович Никифоров
Игорь Дмитриевич Орлов
Original Assignee
Российская Федерация, От Имени Которой Выступает Министерство Промышленности И Торговли Российской Федерации
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Российская Федерация, От Имени Которой Выступает Министерство Промышленности И Торговли Российской Федерации filed Critical Российская Федерация, От Имени Которой Выступает Министерство Промышленности И Торговли Российской Федерации
Priority to RU2013122645/02U priority Critical patent/RU140498U1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU140498U1 publication Critical patent/RU140498U1/ru

Links

Images

Landscapes

  • Plasma Technology (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)

Abstract

Плазмотрон для напыления порошковых материалов, содержащий расположенные в корпусе катодный и анодный узлы с токоподводами, межэлектродную вставку, расположенную между катодным и анодным узлами, систему охлаждения с каналами подачи охлаждающей среды, канал подачи плазмообразующего газа в радиальный канал вдувания порошка в струю плазмы, отличающийся тем, что анодный узел состоит из корпуса и расположенного в нем водоохлаждаемого сопла с каналом длиной 6-10 его диаметра, армированным тугоплавкой молибденовой втулкой, в котором выполнены радиальные каналы для вдувания порошка в струю плазмы, а его наружная поверхность выполнена с винтовым оребрением, катодный узел состоит из корпуса и размещенного в нем катододержателя с катодом, выполненным из лантанированного вольфрама или гафния или циркония, в котором расположена вихревая трубка для охлаждения катода, а система охлаждения выполнена с возможностью охлаждения сначала катодного узла и затем анодного узла.

Description

Полезная модель относится к сварочному производству и касается плазмотронов, используемых для нанесения износостойких, жаростойких, фрикционных, антикоррозионных и других упрочняющих покрытий методом плазменного напыления.
Известен плазмотрон (SU 727369 А), содержащий корпус, катод и охлаждаемый сопло-анод, каналы подачи плазмообразующего газа и напыляемого порошка. Известный плазмотрон относится к группе плазмотронов, у которых катод расположен вблизи анода, что при работе на токах менее 300А не обеспечивает качественное покрытие за счет недостаточной длины дуги.
Известен плазмотрон для напыления порошковых материалов (RU 092981 С1, 10.10.1997), который содержит корпус, расположенные в нем катодный узел и анодный узел с токоподводами, межэлектродную вставку, канал подачи плазмообразующего газа в канал вдувания порошка в струю плазмы (прототип). Этот плазмотрон относится к группе плазмотронов, у которых катод и анод отделены друг от друга межэлектродной вставкой. Такие плазмотроны имеют преимущества перед плазмотронами первой группы, так как длина дуги у них может быть значительно увеличена и соответственно необходимая мощность достигается при более низких токах. Однако при использовании в плазмотронах активных плазмообразующих газов с увеличением мощности снижается степень сжатия дуги, ухудшается формирование газового потока, что может привести к снижению скорости потока плазменной струи и ослаблению воздействия на анодный участок дуги и соответственно ухудшение качества получаемого покрытия.
Задачей создания полезной модели повышение КПД нагрева порошка, увеличение ресурса работы плазматрона, обеспечение равномерного распределения порошка в плазменной струе и увеличения скорости напыляемых частиц.
Для этого в плазмотроне для напыления порошковых материалов, содержащем расположенные в корпусе катодный и анодный узлы с токоподводами, межэлектродную вставку, расположенную между катодным и анодным узлами, систему охлаждения с каналами подачи охлаждающей среды, канал подачи плазмообразующего газа в радиальный канал вдувания порошка в струю плазмы, анодный узел состоит из корпуса и расположенного в нем водоохлаждаемого сопла с каналом длиной 6-10 его диаметра, армированным тугоплавкой молибденовой втулкой, и в котором выполнены радиальные каналы для вдувания порошка в струю плазмы, а его наружная поверхность выполнена с винтовым оребрением, катодный узел состоит из корпуса и размещенного в нем катододержателя с катодом, выполненным из лантанированного вольфрама или гафния или циркония, в котором расположена вихревая трубка охлаждения катода, а система охлаждения выполнена с возможностью охлаждения сначала катодного узла и затем - анодного узла.
На фиг.1 представлен плазмотрон в разрезе.
Плазмотрон состоит из расположенных в корпусе 10 катодного узла и анодного узла, соединенных друг с другом через межэлектродную вставку в виде изоляционно-распределительной прокладки 7. Катодный узел состоит из корпуса 1 и размещенного в нем катододержателя со сменным катодом 5, выполненным из лантанированного вольфрама или гафния или циркония. В катоде размещена вихревая трубка 3 для охлаждения катода 5. Анодный узел состоит из корпуса 9 и расположенного в нем водоохлаждаемого сменного сопла 8 из меди с каналом длиной 6-10 его диаметра, армированным тугоплавкой молибденовой втулкой. В сопле 8 выполнены радиальные каналы 12 для вдувания порошка в струю плазмы. Наружная поверхность сопла 8 выполнена с винтовым оребрением, что позволяет повысить эффективность охлаждения. К анодному корпусу 9 подведен положительный потенциал от источника тока через водоохлаждаемый кабель. Катодный и анодный узлы интенсивно охлаждаются водой, для чего плазмотрон имеет систему охлаждения в виде каналов 2, 13 и 14, которая выполнена так, что сначала охлаждает катодный узел, а затем - анодный.
Плазмотрон обеспечивает преобразование электрической энергии в тепловую в виде плазменной струи, в которой происходит разогрев и транспортирование напыляемых порошковых материалов на обрабатываемую поверхность. Плазменная струя образуется за счет дугового разряда в плазмотроне между водоохлаждаемыми катодом и соплом анодом. К электродам подводится напряжение постоянного тока от источника питания(на чертеже не показано). Плазмообразующие газы подаются в промежуточную область между катодом и соплом. Вид газа, его расход определяют теплофизические характеристики плазменной струи: удельную энтальпию, температуру и скорость истечения газа в различных сечениях по оси потока. На нагрев плазмообразующего газа расходуется около половины подводимой мощности. Подача напыляемых порошков осуществляется в радиальном направлении на анодном участке плазмотрона по двум трубкам 12. Дугу возбуждают между катодом 5 и соплом 8 пробоем высокочастотного искрового разряда высокого напряжения при подаче рабочего напряжения на электроды. Электрическая дуга горит между катодом 5 и внутренней поверхностью медного сопла 8. Анодное пятно дуги перемещается по внутренней стенке канала сопла, а столб дуги оказывается стабилизированным по оси катода и сопла. Плазмообразующий газ, проходя через столб дуги, нагревается, ионизируется и истекает из сопла плазмотрона в виде плазменной струи. Наружный слой газа остается холодным и образует электрическую и тепловую изоляцию между потоком плазмы и каналом сопла, предохраняя сопло от разрушения. Кроме того, наружный слой газа охлаждает столб дуги, в результате чего сечение столба уменьшается, а плотность потока и температура возрастают. Материал покрытия в виде мелкодисперсного порошка подается через сопло 8 в поток плазменной струи, где нагреваясь и расплавляясь в этом потоке, переносится с ним на обрабатываемое изделие. Благодаря высокой скорости плазменной струи частицы порошка приобретают значительную кинетическую энергию и при соударении с напыляемой поверхностью расплющиваются, заполняя неровности. При этом кинетическая энергия частиц при ударе создает условия для образования прочного соединения.
За счет увеличенной в 1,5-2 раза длиной канала сопла обеспечивается повышение стойкости катодно-сопловых элементов. Удлиненные каналы сопла позволяют увеличить длину дуги, повысить напряжение на дуге и ее мощность. Основным преимуществом данной конструкции является то, что мощность дуги повышается не за счет тока дуги, что ограничивается стойкостью анода, а за счет повышения напряжения на дуге. За счет того, что внутренний диаметр канала анода армирован тугоплавкой молибденовой втулкой с толщиной стенки 0,5-1 мм, повышается работоспособность сопла при высоких температурах. Наличие внутренней вихревой трубки позволяет интенсифицировать охлаждение катода и повысить ресурс его работы.

Claims (1)

  1. Плазмотрон для напыления порошковых материалов, содержащий расположенные в корпусе катодный и анодный узлы с токоподводами, межэлектродную вставку, расположенную между катодным и анодным узлами, систему охлаждения с каналами подачи охлаждающей среды, канал подачи плазмообразующего газа в радиальный канал вдувания порошка в струю плазмы, отличающийся тем, что анодный узел состоит из корпуса и расположенного в нем водоохлаждаемого сопла с каналом длиной 6-10 его диаметра, армированным тугоплавкой молибденовой втулкой, в котором выполнены радиальные каналы для вдувания порошка в струю плазмы, а его наружная поверхность выполнена с винтовым оребрением, катодный узел состоит из корпуса и размещенного в нем катододержателя с катодом, выполненным из лантанированного вольфрама или гафния или циркония, в котором расположена вихревая трубка для охлаждения катода, а система охлаждения выполнена с возможностью охлаждения сначала катодного узла и затем анодного узла.
    Figure 00000001
RU2013122645/02U 2013-05-17 2013-05-17 Плазматрон для порошкового напыления RU140498U1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2013122645/02U RU140498U1 (ru) 2013-05-17 2013-05-17 Плазматрон для порошкового напыления

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2013122645/02U RU140498U1 (ru) 2013-05-17 2013-05-17 Плазматрон для порошкового напыления

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU140498U1 true RU140498U1 (ru) 2014-05-10

Family

ID=50630190

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2013122645/02U RU140498U1 (ru) 2013-05-17 2013-05-17 Плазматрон для порошкового напыления

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU140498U1 (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2705847C1 (ru) * 2018-12-21 2019-11-12 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС" Плазмотрон для плазменно-селективного припекания металлических порошков
RU2778889C1 (ru) * 2021-06-28 2022-08-29 Общество с ограниченной ответственностью "Техноплазма" Плазмотрон для наплавки внутренней поверхности порошковым материалом

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2705847C1 (ru) * 2018-12-21 2019-11-12 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС" Плазмотрон для плазменно-селективного припекания металлических порошков
RU2778889C1 (ru) * 2021-06-28 2022-08-29 Общество с ограниченной ответственностью "Техноплазма" Плазмотрон для наплавки внутренней поверхности порошковым материалом

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5597652B2 (ja) 側面インジェクタを有するプラズマトーチ
RU2524919C2 (ru) Охлаждающая труба, электродержатель и электрод для плазменно-дуговой горелки, а также состоящие из них устройства и плазменно-дуговая горелка с ними
JP7271489B2 (ja) 高エネルギー効率、高出力のプラズマトーチ
CN104203477A (zh) 延长的级联等离子枪
CN105430863A (zh) 一种基于滑动电弧放电原理的等离子发生器
JP3733461B2 (ja) 複合トーチ型プラズマ発生方法及び装置
JP5871789B2 (ja) 束縛されたプラズマビームを生成させるための方法及びビーム発生器
US11109475B2 (en) Consumable assembly with internal heat removal elements
CN110881239A (zh) 一种引入外加磁场的多弧等离子体反应器及运行方法
RU140498U1 (ru) Плазматрон для порошкового напыления
JP2014004629A (ja) プラズマ切断トーチ用電極及びその使用
WO2019040816A1 (en) DELIVERY OF PLASMA AND SPRAY MATERIAL TO EXTENDED LOCATIONS
CN109578233B (zh) 一种基于多阳极电极结构的烧蚀型脉冲等离子体推进器
JPS63154272A (ja) プラズマト−チ
RU2092981C1 (ru) Плазмотрон для напыления порошковых материалов
CN110740559A (zh) 一种热等离子体发生器
RU2366122C1 (ru) Плазмотрон для нанесения покрытий
RU159626U1 (ru) Плазмотрон для напыления
CN210958932U (zh) 一种热等离子体发生器
JP2016536464A (ja) プラズマワイヤアーク塗装のための合金ワイヤ
KR100493731B1 (ko) 플라즈마 발생장치
RU2222121C2 (ru) Электродуговой плазмотрон
KR100604961B1 (ko) 공기 플라즈마 토오치
RU2575202C1 (ru) Электродуговой плазмотрон постоянного тока для установок плазменной переработки отходов
CN113286409A (zh) 热等离子体喷枪

Legal Events

Date Code Title Description
MM1K Utility model has become invalid (non-payment of fees)

Effective date: 20140518

NF1K Reinstatement of utility model

Effective date: 20150720

MM9K Utility model has become invalid (non-payment of fees)

Effective date: 20170518

NF9K Utility model reinstated

Effective date: 20180911

MM9K Utility model has become invalid (non-payment of fees)

Effective date: 20200518