WO2010106072A3 - Électrolyte et additifs tensio-actifs pour le dépôt galvanique de couches d'aluminium lisses et compactes à partir de liquides ioniques - Google Patents

Électrolyte et additifs tensio-actifs pour le dépôt galvanique de couches d'aluminium lisses et compactes à partir de liquides ioniques Download PDF

Info

Publication number
WO2010106072A3
WO2010106072A3 PCT/EP2010/053397 EP2010053397W WO2010106072A3 WO 2010106072 A3 WO2010106072 A3 WO 2010106072A3 EP 2010053397 W EP2010053397 W EP 2010053397W WO 2010106072 A3 WO2010106072 A3 WO 2010106072A3
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
electrolyte
smooth
ionic liquids
aluminum layers
active additives
Prior art date
Application number
PCT/EP2010/053397
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
WO2010106072A2 (fr
Inventor
Aurelie Alemany
Itamar Michael Malkowsky
Roland Kalb
Original Assignee
Basf Se
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Basf Se filed Critical Basf Se
Priority to US13/257,092 priority Critical patent/US20120006688A1/en
Priority to EP10708571A priority patent/EP2419551A2/fr
Publication of WO2010106072A2 publication Critical patent/WO2010106072A2/fr
Publication of WO2010106072A3 publication Critical patent/WO2010106072A3/fr

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/66Electroplating: Baths therefor from melts
    • C25D3/665Electroplating: Baths therefor from melts from ionic liquids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/34Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
    • C25D5/42Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated of light metals
    • C25D5/44Aluminium

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

L'invention concerne un procédé de dépôt électrochimique d'aluminium, permettant d'obtenir des couches d'aluminium compactes mates ou brillantes. Le procédé comprend les étapes suivantes: (a) fourniture d'un dispositif électrolytique comportant au moins une anode et au moins une cathode dans une chambre électrolytique, (b) dépôt électrochimique de l'aluminium sur la ou les cathodes de ce dispositif à partir d'un liquide ionique contenant des anions et des cations, ainsi que d'un ou plusieurs sels métalliques, et d'un ou plusieurs additifs; une densité de courant d'au moins 50 A/m2 est appliquée à la cathode ou aux cathodes.
PCT/EP2010/053397 2009-03-18 2010-03-16 Électrolyte et additifs tensio-actifs pour le dépôt galvanique de couches d'aluminium lisses et compactes à partir de liquides ioniques WO2010106072A2 (fr)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13/257,092 US20120006688A1 (en) 2009-03-18 2010-03-16 Electrolyte and surface-active additives for the electrochemical deposition of smooth, dense aluminum layers from ionic liquids
EP10708571A EP2419551A2 (fr) 2009-03-18 2010-03-16 Électrolyte et additifs tensio-actifs pour le dépôt galvanique de couches d'aluminium lisses et compactes à partir de liquides ioniques

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP09155495.6 2009-03-18
EP09155495 2009-03-18

Publications (2)

Publication Number Publication Date
WO2010106072A2 WO2010106072A2 (fr) 2010-09-23
WO2010106072A3 true WO2010106072A3 (fr) 2011-09-01

Family

ID=42200026

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2010/053397 WO2010106072A2 (fr) 2009-03-18 2010-03-16 Électrolyte et additifs tensio-actifs pour le dépôt galvanique de couches d'aluminium lisses et compactes à partir de liquides ioniques

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20120006688A1 (fr)
EP (1) EP2419551A2 (fr)
WO (1) WO2010106072A2 (fr)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2514021B1 (fr) * 2009-12-15 2015-02-25 Basf Se Composes thiazole comme additifs dans des solutions electrolytiques pour cellules electrochimiques et batteries
DE102011007566A1 (de) 2010-04-19 2012-01-19 Basf Se Verfahren zur Herstellung von Zusammensetzungen, welche Aluminiumtrihalogenide enthalten
US20130196990A1 (en) 2010-10-06 2013-08-01 Junya Qu Benzimidazole Derivatives As PI3 Kinase Inhibitors
US9340884B2 (en) 2010-12-15 2016-05-17 Basf Se Process for the electrochemical fluorination of organic compounds
CN102888630B (zh) * 2011-07-20 2015-11-18 中国科学院过程工程研究所 一种离子液体/添加剂体系低温电沉积制备纳米铝或纳米铝镀层的方法
CN102888631B (zh) * 2011-07-20 2016-04-27 中国科学院过程工程研究所 一种离子液体低温电沉积制备Al-Bi合金或电镀Al-Bi合金的方法
DE102011055911B3 (de) 2011-12-01 2012-11-29 Volkmar, Prof. Dr. Neubert Verfahren zur galvanischen Abscheidung wenigstens eines Metalls oder Halbleiters
US20130299355A1 (en) * 2012-05-14 2013-11-14 United Technologies Corporation Surface cleaning and activation for electrodeposition in ionic liquids
US10190227B2 (en) * 2013-03-14 2019-01-29 Xtalic Corporation Articles comprising an electrodeposited aluminum alloys
US20160040312A1 (en) 2013-03-15 2016-02-11 United Technologies Corporation Sacrificial coating and procedure for electroplating aluminum on aluminum alloys
WO2015003948A1 (fr) * 2013-07-09 2015-01-15 Basf Se Dépôt électrochimique d'aluminium à partir de compositions de liquide ionique
US9368284B2 (en) 2013-09-02 2016-06-14 Litronik Entwicklungs Gmbh Anode electrode for aluminum electrolytic capacitor and respective production method
US9903034B2 (en) 2013-11-22 2018-02-27 Sikorsky Aircraft Corporation Methods and materials for electroplating aluminum in ionic liquids
WO2015157441A1 (fr) * 2014-04-09 2015-10-15 Nulwala Hunaid B Solvant liquide ionique pour procédé de placage électrolytique
US9758888B2 (en) 2014-05-06 2017-09-12 Apple Inc. Preparation of metal substrate surfaces for electroplating in ionic liquids
WO2016004189A1 (fr) 2014-07-03 2016-01-07 Nulwala Hunaid B Compositions sélectionnées pour procédés et dispositifs à base d'aluminium
US9752242B2 (en) * 2014-09-17 2017-09-05 Xtalic Corporation Leveling additives for electrodeposition
CN104694984B (zh) * 2015-02-13 2017-02-01 浙江大学 一种不锈钢管内壁室温熔盐镀铝装置及镀铝方法
EP3088571B1 (fr) * 2015-04-28 2021-06-02 The Boeing Company Revêtements d'aluminium écologique sacrificiels pour des revêtements sacrificiels pour alliages d'acier à résistance élevée
CN106086959B (zh) * 2016-08-03 2018-06-12 南京理工大学 一种电化学还原沉积铝制备铝热剂的方法
US10530864B2 (en) * 2017-02-15 2020-01-07 Dell Products, L.P. Load balancing internet-of-things (IOT) gateways
US20180320282A1 (en) 2017-05-05 2018-11-08 Hamilton Sundstrand Corporation Method of making aluminum-coated metal
US11661665B2 (en) 2020-04-30 2023-05-30 The Boeing Company Aluminum and aluminum alloy electroplated coatings

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0404188A1 (fr) * 1989-06-23 1990-12-27 Nisshin Steel Co., Ltd. Bain non aqueux pour dépôt électrolytique de l'aluminium
US20040249177A1 (en) * 2003-06-04 2004-12-09 Shipley Company, L.L.C. Leveler compounds
US20050189231A1 (en) * 2004-02-26 2005-09-01 Capper Lee D. Articles with electroplated zinc-nickel ternary and higher alloys, electroplating baths, processes and systems for electroplating such alloys
WO2006108476A2 (fr) * 2005-04-12 2006-10-19 Dr.-Ing. Max Schlötter Gmbh & Co. Kg Électrolyte et procédé de dépôt de couches d'alliage étain- bismuth
DE102005017733A1 (de) * 2005-04-15 2006-10-19 Basf Ag Löslichkeit von Cellulose in ionischen Flüssigkeiten unter Zugabe von Aminbase
WO2008096855A1 (fr) * 2007-02-09 2008-08-14 Dipsol Chemicals Co., Ltd. BAIN DE PLAQUAGE D'ALLIAGE Al-Zr ÉLECTRIQUE UTILISANT UN BAIN DE SEL FONDU À TEMPÉRATURE AMBIANTE ET PROCÉDÉ DE PLAQUAGE L'UTILISANT
EP1983592A1 (fr) * 2007-04-17 2008-10-22 Nederlandse Organisatie voor Toegepast-Natuuurwetenschappelijk Onderzoek TNO Procédé de fabrication d'une électrode

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3202265A1 (de) 1982-01-25 1983-07-28 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Elektrolyt zur galvanischen abscheidung von aluminium
US4981564A (en) * 1988-07-06 1991-01-01 Technic Inc. Additives for electroplating compositions and methods for their use
US5433797A (en) * 1992-11-30 1995-07-18 Queen's University Nanocrystalline metals
DE10108893C5 (de) 2001-02-23 2011-01-13 Rolf Prof. Dr. Hempelmann Verfahren zur Herstellung von Metallen und deren Legierungen
US7371467B2 (en) * 2002-01-08 2008-05-13 Applied Materials, Inc. Process chamber component having electroplated yttrium containing coating
US20030234181A1 (en) * 2002-06-25 2003-12-25 Gino Palumbo Process for in-situ electroforming a structural layer of metallic material to an outside wall of a metal tube
JP5080097B2 (ja) * 2007-02-09 2012-11-21 ディップソール株式会社 溶融塩電気アルミニウムめっき浴及びそれを用いためっき方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0404188A1 (fr) * 1989-06-23 1990-12-27 Nisshin Steel Co., Ltd. Bain non aqueux pour dépôt électrolytique de l'aluminium
US20040249177A1 (en) * 2003-06-04 2004-12-09 Shipley Company, L.L.C. Leveler compounds
US20050189231A1 (en) * 2004-02-26 2005-09-01 Capper Lee D. Articles with electroplated zinc-nickel ternary and higher alloys, electroplating baths, processes and systems for electroplating such alloys
WO2006108476A2 (fr) * 2005-04-12 2006-10-19 Dr.-Ing. Max Schlötter Gmbh & Co. Kg Électrolyte et procédé de dépôt de couches d'alliage étain- bismuth
DE102005017733A1 (de) * 2005-04-15 2006-10-19 Basf Ag Löslichkeit von Cellulose in ionischen Flüssigkeiten unter Zugabe von Aminbase
WO2008096855A1 (fr) * 2007-02-09 2008-08-14 Dipsol Chemicals Co., Ltd. BAIN DE PLAQUAGE D'ALLIAGE Al-Zr ÉLECTRIQUE UTILISANT UN BAIN DE SEL FONDU À TEMPÉRATURE AMBIANTE ET PROCÉDÉ DE PLAQUAGE L'UTILISANT
US20100285322A1 (en) * 2007-02-09 2010-11-11 Dipsol Chemicals Co., Ltd. Electric Al-Zr Alloy Plating Bath Using Room Temperature Molten Salt Bath and Plating Method Using the Same
EP1983592A1 (fr) * 2007-04-17 2008-10-22 Nederlandse Organisatie voor Toegepast-Natuuurwetenschappelijk Onderzoek TNO Procédé de fabrication d'une électrode

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
NATTER H ET AL: "Nanocrystalline metals prepared by electrodeposition", ZEITSCHRIFT FUER PHYSIKALISCHE CHEMIE, OLDENBOURG, MUENCHEN, DE, vol. 222, 1 January 2008 (2008-01-01), pages 319 - 354, XP008133912, ISSN: 0044-3336, DOI: DOI:10.1524/ZPCH.2008.222.2-3.319 *
PAUNOVIC, M AND SCHLESINGER, M: "Fundamentals of electrochemical deposition", 1 January 2006, WILEY-INTERSCIENCE, pages: 177 - 198, XP002632133 *

Also Published As

Publication number Publication date
WO2010106072A2 (fr) 2010-09-23
US20120006688A1 (en) 2012-01-12
EP2419551A2 (fr) 2012-02-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2010106072A3 (fr) Électrolyte et additifs tensio-actifs pour le dépôt galvanique de couches d'aluminium lisses et compactes à partir de liquides ioniques
Sheela et al. Zinc–nickel alloy electrodeposits for water electrolysis
MY161119A (en) Steel sheet for container and method of manufacturing the same
WO2007112971A3 (fr) Procédé électrolytique permettant de remplir des trous et des creux avec des métaux
WO2006053062A3 (fr) Systeme d'electrodeposition d'un alliage d'etain
WO2007118875A3 (fr) Dispositif et procédé de revêtement galvanique
WO2009142848A3 (fr) Pile électrochimique, et en particulier pile à combustible déposé électrolytiquement
EP3157084A3 (fr) Cathode composite, ensemble cathode-membrane, cellule électrochimique contenant l'ensemble cathode-membrane et procédé de préparation de l'ensemble cathode-membrane
SG173718A1 (en) Electrolytic cell and method of use thereof
Ramezani-Varzaneh et al. Effects of phosphorus content on corrosion behavior of trivalent chromium coatings in 3.5 wt.% NaCl solution
NZ596312A (en) Apparatus and method for reduction of a solid feedstock
US20180323438A1 (en) Electrolytic copper foil, electrode comprising the same, secondary battery comprising the same, and method for manufacturing the same
WO2011043608A3 (fr) Procédé de fabrication d'une batterie lithium-ion polymère, pile de batterie et pile lithium-ion polymère comprenant celle-ci
EP4243145A3 (fr) Feuille de cuivre électrolytique capable d'empêcher des défauts de déchirure ou de froissement, électrode la contenant, batterie secondaire la contenant et son procédé de fabrication
Comisso et al. Oxygen bubble–templated anodic deposition of porous PbO2
WO2011130135A3 (fr) Procédé pour peler des revêtements à base de nitrures
DE502007002680D1 (de) Vorrichtung und verfahren zur galvanischen beschichtung
WO2016124921A3 (fr) Électrolyte pour placage électrolytique
MX348141B (es) Dispositivo y metodo para recubrimiento electrolitico de objeto.
WO2007132081A3 (fr) Procede de fabrication d'anodes pour la production d'aluminium par electrolyse ignee, lesdites anodes et leur utilisation
WO2009077146A3 (fr) Bain galvanique, procédé de dépôt galvanique et utilisation d'une membrane bipolaire pour la séparation dans un bain galvanique
WO2013160160A3 (fr) Procédé et dispositif de dépôt électrolytique de métal sur une pièce
MX2015013955A (es) Celda electrolitica para la extraccion por via electrolitica de metales.
MY155420A (en) Method for producing tinned steel sheet, tinned steel sheet, and chemical conversion solution
WO2006012112A3 (fr) Chambre de placage electrochimique avec electrode auxiliaire dans un compartiment d'anolyte isole

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 10708571

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A2

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 13257092

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

REEP Request for entry into the european phase

Ref document number: 2010708571

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2010708571

Country of ref document: EP