WO2010024652A2 - 무기 발광 소자 - Google Patents

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WO2010024652A2
WO2010024652A2 PCT/KR2009/004922 KR2009004922W WO2010024652A2 WO 2010024652 A2 WO2010024652 A2 WO 2010024652A2 KR 2009004922 W KR2009004922 W KR 2009004922W WO 2010024652 A2 WO2010024652 A2 WO 2010024652A2
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light emitting
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inorganic light
fluorescent layer
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주상현
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경기대학교 산학협력단
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    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/14—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of the electroluminescent material, or by the simultaneous addition of the electroluminescent material in or onto the light source
    • H05B33/145—Arrangements of the electroluminescent material

Definitions

  • the present invention relates to an inorganic light emitting device that can be used as a light emitting device or a backlight of a flat panel display device.
  • the light emitting device includes a fluorescent layer formed between the first electrode and the second electrode, and the fluorescent layer is made of a fluorescent material including an organic fluorescent material or an inorganic fluorescent material.
  • a fluorescent material is excited by a voltage applied between the first electrode and the second electrode to emit visible light.
  • the light emitting element is used as a light emitting element of a flat panel display such as a PDP or an OLED or as a backlight of a liquid crystal display device.
  • the light emitting device in which the fluorescent layer includes an inorganic fluorescent material is formed in a form in which the inorganic fluorescent material is mainly dispersed in powder form on a matrix such as a resin.
  • the light emitting device has high mechanical strength, thermal stability, and long life, but requires a high driving voltage, has low light emission luminance, and is difficult to realize blue.
  • a light emitting device in which the fluorescent layer includes an organic fluorescent material requires high driving efficiency and low driving voltage, but has low thermal stability and a low lifespan.
  • An object of the present invention is to provide an inorganic light emitting device having high mechanical strength and long lifespan, which is capable of maintaining a uniform and high luminous efficiency as a whole, and having transparent and bendable characteristics.
  • An inorganic light emitting device for achieving the above object is formed on the first electrode, a fluorescent layer comprising a plurality of nanowires formed on the first electrode, and formed of an inorganic light emitting material and on the fluorescent layer And a second electrode, wherein the fluorescent layer is formed by coating a plurality of nanowires.
  • the fluorescent layer may be formed by dropping a polar solvent in which the plurality of nanowires are dispersed, and then coated by dispersion, random dispersion, or in-line array method by an electric field applying an electric field.
  • the fluorescent layer of the present invention may be formed by coating a nano mixture of the plurality of nanowires and the organic material.
  • the nano-mixture may be coated by any one method selected from spin coating method, inkjet method, laser transfer method, nano-implantation method or silk screen printing method.
  • the organic material may be removed in the heating process after coating.
  • the organic material may include any one selected from the group consisting of a conductive polymer resin, a silicone resin, a polyimide resin, a urea resin, an acrylic resin, a light transmitting epoxy resin, and a light transmitting silicone resin.
  • the organic material may further include a light emitting activator or a nanowire dispersant.
  • the plurality of nanowires of the present invention may be formed in a horizontal direction or a vertical direction on an upper surface of the first electrode or in an irregular direction between the first electrode and the second electrode.
  • the plurality of nanowires may have a length shorter than a distance between the first electrode and the second electrode, and may be randomly arranged in the fluorescent layer to be connected to each other to form a random network.
  • the inorganic light emitting device of the present invention further comprises at least one layer of the first insulating layer formed between the first electrode and the fluorescent layer and the second insulating layer formed between the second electrode and the fluorescent layer.
  • the first insulating layer and the second insulating layer may be formed of an organic material, an inorganic material, or a composite material of an organic material and an inorganic material.
  • the inorganic light emitting device of the present invention comprises an insulating substrate, a first electrode formed in a bar shape on one side of the upper portion of the insulating substrate, and a first electrode formed in a bar shape spaced apart from the first electrode on the other side of the insulating substrate.
  • a second electrode and a fluorescent layer formed between the first electrode and the second electrode and including a plurality of nanowires formed of an inorganic light emitting material, wherein the fluorescent layer is formed by coating a plurality of nanowires. It is done.
  • the fluorescent layer may be formed by dropping a polar solvent in which the nanowires are dispersed, and then coated by a dispersion, random dispersion, or one-line array method by an electric field applying an electric field.
  • the fluorescent layer of the present invention may be formed by coating a nano mixture of the nanowires and the organic material.
  • the nano-mixture may be coated by any one method selected from spin coating method, inkjet method, laser transfer method, nano-implantation method or silk screen printing method.
  • the organic material may be removed in the heating process after coating.
  • the organic material may include any one selected from the group consisting of a conductive polymer resin, a silicone resin, a polyimide resin, a urea resin, an acrylic resin, a light transmitting epoxy resin, and a light transmitting silicone resin.
  • the organic material may further include a light emitting activator or a nanowire dispersant.
  • the plurality of nanowires may be formed in a horizontal direction on the upper surface of the insulating substrate or in an irregular direction between the first electrode and the second electrode.
  • the plurality of nanowires may have a length shorter than a distance between the first electrode and the second electrode, and may be randomly arranged in the fluorescent layer to be connected to each other to form a random network.
  • the inorganic light emitting device of the present invention further comprises at least one layer of the first insulating layer formed between the first electrode and the fluorescent layer and the second insulating layer formed between the second electrode and the fluorescent layer.
  • the first insulating layer and the second insulating layer may be formed of an organic material, an inorganic material, or a composite material of an organic material and an inorganic material.
  • the inorganic light emitting material of the present invention is a red phosphor, CaS: Eu (Host: dopant), ZnS: Sm, ZnS: Mn, Y 2 O 2 S: Eu, Y 2 O 2 S: Eu, Bi, Gd 2 O 3 : Eu, (Sr, Ca, Ba, Mg) P 2 O 7 : Eu, Mn, CaLa 2 S 4 : Ce; SrY 2 S 4 : Eu, (Ca, Sr) S: Eu, SrS: Eu, Y 2 O 3 : Eu, YVO 4 : It is formed of any one or a mixture thereof selected from the group consisting of: Eu, Bi,
  • ZnS Tb (Host: dopant), ZnS: Ce, Cl, ZnS: Cu, Al, ZnS: Eu, Gd 2 O 2 S: Tb, Gd 2 O 3 : Tb, Zn, Y 2 O 3 : Tb, Zn, SrGa 2 S 4 : Eu, Y 2 SiO 5 : Tb, Y 2 Si 2 O 7 : Tb, Y 2 O 2 S: Tb, ZnO: Ag, ZnO: Cu, Ga, CdS: Mn, BaMgAl 10 O 17 : Eu, Mn, (Sr, Ca, Ba) (Al, Ga) 2 S 4 : Eu, Ca 8 Mg (SiO 4 ) 4 Cl 2 : Eu, Mn, YBO 3 : Ce, Tb, Ba 2 SiO 4 : Eu, (Ba, Sr) 2 SiO 4 : Eu, Ba 2 (Mg, Zn) Si 2 O 7 : Eu, (Ba, Sr) 2 Si
  • GaN Mg, Si (Host: dopant), GaN: Zn, Si, SrS: Ce, SrS: Cu, ZnS: Tm, ZnS: Ag, Cl, ZnS: Te, Zn 2 SiO 4 : Mn, YSiO 5 : Ce, (Sr, Mg, Ca) 10 (PO 4 ) 6Cl 2 : Eu, BaMgAl 10 O 17 : Eu, BaMg 2 Al 16 O 27 : formed from any one selected from the group consisting of Eu or mixtures thereof Can be.
  • the inorganic light emitting device since the nanowires in which the fluorescent layer is made of an inorganic light emitting material are coated alone or together with an organic material, the inorganic light emitting device is uniformly formed.
  • the inorganic light emitting device has a high mechanical strength and long life, since the fluorescent layer is formed of a nanowire made of an inorganic light emitting material, there is an effect that can maintain a uniform and high luminous efficiency as a whole.
  • the inorganic light emitting device since the phosphor layer is formed of nanowires, the inorganic light emitting device according to the present invention has an effect that electrons are uniformly excited in the phosphor as a whole even when driven at a low voltage, thereby obtaining high emission luminance.
  • the inorganic light emitting device unlike the fluorescent layer formed of a thin plate-like thin film has a characteristic that can be transparent and physically bent in the future as the fluorescent layer is formed of nanowires, the number of transparent and wheelable in the future It can be used for a light emitting element or a backlight of a flat panel display device.
  • FIG. 1 is a schematic vertical cross-sectional view of an inorganic light emitting device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 shows a schematic plan view of A-A of FIG. 1.
  • FIG. 3 is a plan view corresponding to FIG. 2 of an inorganic light emitting device according to another exemplary embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a plan view corresponding to FIG. 2 of an inorganic light emitting device according to still another embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a schematic vertical cross-sectional view of an inorganic light emitting device according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 shows a schematic plan view of B-B of FIG. 5.
  • FIG. 7 is a schematic vertical cross-sectional view corresponding to FIG. 5 of an inorganic light emitting device according to still another embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is a schematic plan view of an inorganic light emitting device according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 9 is a schematic vertical cross-sectional view taken along line C-C of FIG. 8.
  • FIG. 10 is a schematic plan view corresponding to FIG. 8 of an inorganic light emitting device according to still another embodiment of the present invention.
  • FIG. 10 is a schematic plan view corresponding to FIG. 8 of an inorganic light emitting device according to still another embodiment of the present invention.
  • FIG. 11 is a schematic plan view corresponding to FIG. 8 of an inorganic light emitting device according to still another embodiment of the present invention.
  • FIG. 11 is a schematic plan view corresponding to FIG. 8 of an inorganic light emitting device according to still another embodiment of the present invention.
  • FIG. 12 shows a scanning electron micrograph of a fluorescent layer of an inorganic light emitting device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 13 shows a PL pattern for the fluorescent layer of FIG. 12.
  • FIG. 14 shows a CL image of the fluorescent layer of FIG. 12.
  • 15 shows a scanning electron micrograph of a fluorescent layer of an inorganic light emitting device according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 16 shows a PL pattern for the fluorescent layer of FIG. 15.
  • FIG. 17 shows a CL image of the fluorescent layer of FIG. 15.
  • FIG. 18 is a structural diagram of a unit pixel of a flat panel display device using an inorganic light emitting device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic vertical cross-sectional view of an inorganic light emitting device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 shows a schematic plan view of A-A of FIG. 1.
  • the inorganic light emitting device 100 includes a first electrode 120, a fluorescent layer 130, and a second electrode 140.
  • the inorganic light emitting device 100 may further include a substrate 110 formed under the first electrode 120.
  • the inorganic light emitting device 100 is formed between the first insulating layer 150 and the second electrode 140 and the fluorescent layer 130 formed between the first electrode 120 and the fluorescent layer 130.
  • the second insulating layer 160 may be further included. Meanwhile, only one layer of the first insulating layer 150 and the second insulating layer 160 may be formed, and both layers may be formed.
  • the fluorescent layer 130 is formed by coating nanowires made of an inorganic light emitting material alone or with an organic material, an overall uniform fluorescent layer may be more easily formed.
  • the inorganic light emitting device 100 forms one pixel which is a basic unit for representing an image in the flat panel display device.
  • the inorganic light emitting device 100 may be formed of a red pixel, a green pixel, and a blue pixel according to the type of phosphor to be coated. Therefore, the inorganic light emitting device 100 may be used as a light emitting device that constitutes a unit pixel of a flat panel display device.
  • the fluorescent layer 130 of the inorganic light emitting device is formed with nanowires to be flexible, the inorganic light emitting device 100 may be used in a flexible flat panel display device.
  • the inorganic light emitting device 100 may be used in a transparent flat panel display device.
  • the inorganic light emitting device 100 may be used as a backlight of a flat panel display device, particularly a liquid crystal display device.
  • the substrate 110 is illustrated as a size corresponding to one inorganic light emitting device 100, the substrate 110 may be formed to a size corresponding to the overall size of the flat panel display device.
  • the first electrode 120 and the second electrode 140 may be formed in a number corresponding to the number of inorganic light emitting elements constituting the flat panel display device so that the first electrode 120 and the second electrode 140 are electrically insulated from each other on the upper portion of the substrate.
  • the first electrode and the second electrode formed on both sides of the substrate may be formed to form a stripe shape or a grid shape facing each other on the basis of each fluorescent layer as a whole on the entire substrate of the flat panel display apparatus.
  • the substrate 110 is preferably made of a ceramic substrate, silicon wafer substrate, glass substrate or polymer substrate.
  • the substrate 110 is made of a glass substrate or a transparent plastic.
  • the glass substrate may be made of silicon oxide.
  • the polymer substrate may be formed of a polymer material such as polyethylene terephthalate (PET), polyerylene naphthalate (PEN), and polyimide.
  • the inorganic light emitting device 100 may have a thin film transistor, a semiconductor layer, and an insulating layer formed on the substrate, depending on the structure of the flat panel display device used.
  • the first electrode 120 is formed as a thin film on the upper surface of the substrate 110 and is formed as a cathode or an anode.
  • the first electrode 120 includes aluminum (Al), aluminum: neodium (Al: Nd), silver (Ag) tin (Sn), tungsten (W), gold (Au), chromium (Cr), and molybdenum (Mo). ), Palladium (Pd), platinum (Pt), nickel (Ni), titanium (Ti) may be formed of a metal layer.
  • the first electrode 120 may be formed of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), fluorine-doped tin oxide (FTO), or zinc oxide (Zinc).
  • ITO ITO can be formed of a transparent layer made of a transparent conductive oxide.
  • the first electrode 120 is formed on a surface representing an image of the inorganic light emitting device, the first electrode 120 is formed of a transparent layer.
  • the first electrode 120 when the first electrode 120 is formed of a transparent conductive layer, the first electrode 120 is formed of a metal layer and is formed in parallel while being in contact with the transparent conductive layer while having a relatively smaller width than the transparent conductive layer.
  • Bus electrodes (not shown in the figure) may be further included. The bus electrode compensates for the relatively low electrical conductivity of the transparent conductive layer, thereby increasing the driving efficiency of the inorganic light emitting device.
  • the first electrode 120 may further include a conductive layer (not shown) formed of a conductive polymer on a surface facing the fluorescent layer 130.
  • the conductive layer is polypyrrole, polyaniline, poly (3,4-ethylenedioxythiophene), polyacetylene, poly (p-phenylene), polythiophene, poly (p-phenylene vinylene) and poly (thienylene vinyl Ren). The conductive layer increases the electrical coupling between the first electrode 120 and the fluorescent layer 130.
  • the fluorescent layer 130 is formed by coating a plurality of nanowires 130a made of an inorganic light emitting material on an upper surface of the first electrode 120.
  • the fluorescent layer 130 is coated on the upper surface of the first electrode 120 to be directly formed to form a first It is electrically connected to the electrode 120.
  • the fluorescent layer 130 may be driven by a low voltage DC power supply when the fluorescent layer 130 is electrically connected to the first electrode 120.
  • the fluorescent layer 130 may be formed by coating the upper surface of the first insulating layer 150 when the first insulating layer 150 is formed on the upper surface of the substrate 110. According to the driving method of the inorganic light emitting device 100, the fluorescent layer 130 may be formed on the upper surface of the first insulating layer 150 to be electrically insulated from the first electrode 120. For example, when the inorganic light emitting device 100 is driven in a manner different from that of the organic light emitting device, the fluorescent layer 130 may be formed to be electrically insulated from the first electrode 120. have.
  • the fluorescent layer 130 may be formed with a planarization layer 135 formed on the fluorescent layer 130 including a space formed between the nanowires (130a).
  • the fluorescent layer 130 may be formed by dispersing the nanowires 130a itself.
  • the fluorescent layer 130 may be preferably formed in a thickness of 1nm to 500nm. If the thickness of the fluorescent layer 130 is too thin, it is difficult to implement the color. In addition, if the thickness of the fluorescent layer 130 is too thick, a large number of nanowires may be used unnecessarily. In addition, the thickness of the fluorescent layer 130 may be adjusted according to the density of the nanowires (130a).
  • the fluorescent layer 130 is a dropping method of an electric field, a random dispersion method of dispersing the polar solvent, or a serial arrangement method or the bottom of the polar solvent in which a plurality of nanowires (130a) is dispersed after dropping the polar solvent It can be formed by the same method as the dispersion method by bonding with the layer formed on the.
  • the fluorescent layer 130 may be formed by directly depositing the nanowires 130a on the first electrode 120 as a whole in a random or in a row, and then removing only the necessary portions and removing the remaining portions. have.
  • the fluorescent layer 130 may be formed by a method of depositing the nanowires 130a on the first electrode 120 only in a required or randomly arranged manner.
  • the nanowire dispersion solution is dispersed on the first electrode 120. It is added dropwise to the fluorescent layer 130 is applied.
  • the electric field is applied to the applied fluorescent layer 130 to form an electric field so that the nanowires 130a are arranged in the polar solvent in the polar field. Therefore, in the dispersion method by the electric field, the fluorescent layer may be formed such that the nanowires 130a are arranged in a predetermined direction.
  • the polar solvent is volatilized after the nanowires 130a are dispersed, and the fluorescent layer 130 is formed by arranging the nanowires 130a in a predetermined direction as a whole.
  • the nanowires 130a are mixed with the polar solvent, dropped on the first electrode 120, and the polar solvent is evaporated to form the fluorescent layer 130.
  • the random dispersion method may control the density of the nanowires 130a of the fluorescent layer 130 by repeating the above process.
  • the random dispersion method is inclined the substrate in a predetermined direction in order to arrange the nanowire (130a) in the fluorescent layer 130 in a constant direction, and continues to drop and dry the nanowire dispersion polar solvent in the longitudinal direction Repeat.
  • the fluorescent layer 130 may be formed by arranging nanowires on a separate substrate and transferring the arranged nanowires onto a desired first electrode 120.
  • the fluorescent layer 130 may be formed by mixing a plurality of nanowires (130a) and the organic material as a dispersant is coated with a nano-mixture in the form of an ink having a viscosity.
  • the organic material may be a conductive polymer resin or silicone resin, polyimide resin, urea resin, acrylic resin, and the like, and in particular, a light transmissive epoxy resin or a light transmissive silicone resin may be used.
  • the organic material may be added with additives such as surfactants, leveling agents and cosolvent or liquid liquid carrier vehicles to meet the required physical properties of the ink.
  • the organic material may include a light emitting activator or a nanowire dispersant.
  • the light emitting activator refers to an organic material that may play a role in helping to control light emission characteristics, that is, light emission wavelength and light emission intensity of nanowires exhibiting fluorescence properties.
  • the fluorescent layer 130 may be heat-dried or naturally dried after the nanomixture is coated to remove some or all of the organic material. Therefore, the fluorescent layer 130 may be made of only nanowires 130a or may be formed of a composite material layer of an organic material.
  • the fluorescent layer 130 is formed by coating a nano-mixed mixture of nanowires and organic materials by spin coating, inkjet, laser transfer (LITI), nano-implantation or silkscreen printing. Can be formed.
  • the spin coating method, the inkjet method, the laser transfer method (LITI), the nano-implantation method, or the silk screen printing method may be a general method, which will be omitted herein.
  • the nanowires 130a may be formed to have a length corresponding to the length or width of the inorganic light emitting device 100. That is, the nanowires 130a may be formed to have a length corresponding to the length or width of the first electrode 120 constituting the inorganic light emitting device 100.
  • the nanowires 130a are disposed to cross the length direction or the width direction of the first electrode 120.
  • the nanowires 130a are disposed in a direction parallel to the top surface of the first electrode 120. That is, the nanowires 130a are formed to cross from one side of the first electrode 120 to the other side of the upper surface of the first electrode 120.
  • the nanowires 130a may be formed in parallel with each other on the upper portion of the substrate 110.
  • the nanowires 130a may be formed of a single layer or a plurality of layers. When the nanowires 130a are formed of a plurality of layers, the fluorescent layers may be coated several times.
  • the fluorescent layer 130 may be formed more uniformly as a whole as the nanowires 130a are formed by a coating method.
  • the fluorescent layer 130 since the fluorescent layer 130 is formed of nanowires, the fluorescent layer 130 has high mechanical strength and long lifespan.
  • the fluorescent layer 130 is driven at a low driving voltage while maintaining a uniform and high luminous efficiency. That is, since the fluorescent layer 130 is formed of the nanowires 130a, the inorganic light emitting device 100 may emit light even at a low driving voltage. Therefore, the inorganic light emitting device 100 can be driven at a lower driving voltage than the conventional inorganic light emitting device and has a high luminous efficiency. In addition, since the inorganic light emitting device 100 has high luminous efficiency, it is easy to implement blue.
  • the nanowires 130a may be formed in a wire shape having a length greater than a diameter, and may be formed such that the diameter thereof is 1 nm to 300 nm. If the diameter of the nanowire 130a is too small, the strength thereof is weak and can be easily crushed to reduce the luminous efficiency. In addition, when the diameter of the nanowires 130a is too large, it is difficult to uniformly form the fluorescent layer 130.
  • the nanowires 130a are made of an inorganic light emitting material.
  • Various inorganic phosphors may be used as the inorganic light emitting material.
  • the inorganic light emitting material is a red phosphor, CaS: Eu (Host: dopant), ZnS: Sm, ZnS: Mn, Y 2 O 2 S: Eu, Y 2 O 2 S: Eu, Bi, Gd 2 O 3 : Eu, (Sr, Ca, Ba, Mg) P 2 O 7 : Eu, Mn, CaLa 2 S 4 : Ce, SrY 2 S 4 : Eu, (Ca, Sr) S: Eu, SrS: Eu, Y Phosphors such as 2 O 3 : Eu, YVO 4 : Eu, Bi may be used.
  • the inorganic light emitting material is a green phosphor, ZnS: Tb (Host: dopant), ZnS: Ce, Cl, ZnS: Eu, ZnS: Cu, Al, Gd 2 O 2 S: Tb, Gd 2 O 3 : Tb, Zn, Y 2 O 3 : Tb, Zn, SrGa 2 S 4 : Eu, Y 2 SiO 5 : Tb, Y 2 Si 2 O 7 : Tb, Y 2 O 2 S: Tb, ZnO: Ag, ZnO: Cu, Ga, CdS: Mn, BaMgAl 10 O 17 : Eu, Mn, (Sr, Ca, Ba) (Al, Ga) 2 S 4 : Eu, Ca 8 Mg (SiO 4 ) 4 Cl 2 : Eu, Mn, YBO 3 : Ce, Tb, Ba 2 SiO 4 : Eu, (Ba, Sr) 2 SiO 4 : Eu, Ba 2 (Mg, Z
  • the inorganic light emitting material is a blue phosphor, GaN: Mg, Si (Host: dopant), GaN: Zn, Si, SrS: Ce, SrS: Cu, ZnS: Tm, ZnS: Ag, Cl, ZnS: Te, Zn Phosphors such as 2 SiO 4 : Mn, YSiO 5 : Ce, (Sr, Mg, Ca) 10 (PO 4 ) 6Cl 2 : Eu, BaMgAl 10 O 17 : Eu, BaMg 2 Al 16 O 27 : Eu may be used .
  • a white phosphor such as YAG (Yttrium, Aluminum Garnet) may be used as the inorganic light emitting material.
  • the inorganic light emitting material may be a compound inorganic light emitting material using Ca x Sr x-1 Al 2 O 3 : Eu +2 synthesized with CaAl 2 O 3 and SrAl 2 O 3 .
  • the planarization layer 135 fills the space between the nanowires 130a so that the fluorescent layer 130 is generally flat.
  • the planarization layer 135 is formed of a transparent layer in order not to reduce the luminous efficiency of the nanowires 130a.
  • the planarization layer 135 is formed of an insulating layer by an electrical insulator.
  • the planarization layer 135 may be an oxide such as silicon oxide or a silicone resin, a polyimide resin, a urea resin, an acrylic resin, or the like. In particular, a light transmitting epoxy resin or a light transmitting silicone resin may be used. Meanwhile, the planarization layer 135 may not be formed when the fluorescent layer 130 is formed by the nanowires 130a and the organic material and the organic material is present in the fluorescent layer 130.
  • the second electrode 140 is formed of a thin film and formed of an anode or a cathode.
  • the second electrode 140 is formed to face the first electrode 120 with respect to the fluorescent layer 130. That is, when the fluorescent layer 130 is formed on the upper surface of the first electrode 120, the second electrode 140 is formed on the upper surface of the fluorescent layer 130.
  • the second electrode 140 may be formed on the top surface of the second insulating layer 160. Meanwhile, even when the first insulating layer 150 is formed, the second electrode 140 may be directly formed on the upper surface of the fluorescent layer 130 according to the driving method of the inorganic light emitting device.
  • the second electrode 140 is formed to have a polarity opposite to that of the first electrode 120.
  • the second electrode 140 includes aluminum (Al), aluminum: neodium (Al: Nd), silver (Ag), tin (Sn), tungsten (W), gold (Au), chromium (Cr), It may be formed of a metal layer such as molybdenum (Mo), palladium (Pd), platinum (Pt), nickel (Ni), titanium (Ti).
  • the second electrode 140 may be formed of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), fluorine-doped tin oxide (FTO), and zinc oxide (Zinc).
  • ITO ITO can be formed of a transparent layer made of a transparent conductive oxide.
  • the second electrode 140 is formed of a transparent layer.
  • the second electrode 140 may be formed of a metal layer and a reflective layer that reflects light.
  • the second electrode 140 may further include a conductive layer (not shown) formed of a conductive polymer on a surface facing the fluorescent layer 130.
  • the conductive layer is polypyrrole, polyaniline, poly (3,4-ethylenedioxythiophene), polyacetylene, poly (p-phenylene), polythiophene, poly (p-phenylene vinylene) and poly (thienylene vinyl Ren). The conductive layer increases the electrical coupling between the second electrode 140 and the fluorescent layer 130.
  • the first insulating layer 150 may be formed as a thin film between the first electrode 120 and the fluorescent layer 130.
  • the first insulating layer 150 is selectively formed according to the driving method of the inorganic light emitting device 100.
  • the first insulating layer 150 may be formed of an inorganic material, an organic material, or a composite material of an inorganic material and an organic material. More specifically, the first insulating layer 150 may be formed of an inorganic material, such as a silicon nitride film such as silicon nitride, a silicon oxide, an oxide-based insulator, or an organic insulator.
  • the first insulating layer 150 may be formed of a polymer material such as polyethylene terephthalate (PET), polyylene naphthalate (PEN), or polyimide as an organic material.
  • PET polyethylene terephthalate
  • PEN polyylene naphthalate
  • polyimide as an organic material.
  • the first insulating layer 150 is formed of a transparent material when the direction of the first electrode 120 is formed in the pixel display direction.
  • the second insulating layer 160 may be formed as a thin film between the second electrode 140 and the fluorescent layer 130.
  • the second insulating layer 160 is selectively formed according to the driving method of the inorganic light emitting device 100.
  • the second insulating layer 160 electrically insulates the second electrode 140 from the fluorescent layer 130.
  • the second insulating layer 160 may be formed of the same material as the first insulating layer 150.
  • the second insulating layer 160 may be formed of a transparent material when the direction of the second electrode 140 is formed in the pixel display direction.
  • FIG. 3 is a plan view corresponding to FIG. 2 of an inorganic light emitting device according to another exemplary embodiment of the present invention.
  • the inorganic light emitting device 200 includes a first electrode 120, a fluorescent layer 230, and a second electrode 140.
  • the inorganic light emitting device 200 may include a substrate 110 formed under the first electrode 120, a first insulating layer 150 formed between the first electrode 120 and the fluorescent layer 230.
  • the second insulating layer 160 may be further formed between the second electrode 140 and the fluorescent layer 230. Meanwhile, only one layer of the first insulating layer 150 and the second insulating layer 160 may be formed, and both layers may be formed.
  • the structure of the fluorescent layer 230 is different from that of the inorganic light emitting device 100 according to the embodiments of FIGS. 1 and 2, and the other components are the same. Or similarly formed. Therefore, the inorganic light emitting device 200 according to another embodiment of the present invention will be described below with reference to the fluorescent layer 230.
  • the inorganic light emitting device 200 is the same as or similar to the inorganic light emitting device 100 according to FIGS. 1 and 2 and the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
  • the fluorescent layer 230 is a plurality of nanowires (230a) is coated by a coating method to form a thin film layer.
  • the nanowires 230a are formed of an inorganic light emitting material. Since the inorganic light emitting material has been described above, a detailed description thereof will be omitted.
  • the nanowires 230a may be formed to have a length corresponding to the length or width of the inorganic light emitting device 200. That is, the nanowires 230a may be formed to have a length corresponding to the length or width of the first electrode 120 constituting the inorganic light emitting device 200. In addition, the nanowires 230a are disposed in a direction parallel to the top surface of the first electrode 120. That is, the nanowires 230a are formed to cross from one side to the other side of the first electrode 120 along the upper surface of the first electrode 120. In this case, the nanowires 230a may be formed to be alternately arranged while being arranged from one side of the first electrode 120 to the other side.
  • the nanowires 230a may be formed in parallel with the plane of the first electrode 120 and arranged in an irregular direction on the first electrode 120. Therefore, the fluorescent layer 230 may be formed relatively easily as compared with the case where the nanowires are formed in parallel with each other. In particular, when the nanowires 230a are formed in a plurality of layers, it is not necessary to form the nanowires 230a of different layers in parallel with each other. In addition, since the nanowires 230a are alternately arranged to increase the intensity of the fluorescent layer 230, the nanowires 230a are perpendicular to the plane of the nanowires 230a and the first electrode 120 in the fluorescent layer 230. Even when pressure is applied in the direction, the inorganic light emitting device 200 is prevented from bending.
  • the fluorescent layer 230 may have a planarization layer 235 formed on the fluorescent layer 230 including a space formed between the nanowires 230a.
  • FIG. 4 is a plan view corresponding to FIG. 2 of an inorganic light emitting device according to still another embodiment of the present invention.
  • an inorganic light emitting device 300 is formed including a first electrode 120, a fluorescent layer 330, and a second electrode 140.
  • the inorganic light emitting device 300 may include a substrate 110 formed under the first electrode 120, a first insulating layer 150 formed between the first electrode 120 and the fluorescent layer 330.
  • the second insulating layer 160 may be further formed between the second electrode 140 and the fluorescent layer 330. Meanwhile, only one layer of the first insulating layer 150 and the second insulating layer 160 may be formed, and both layers may be formed.
  • the inorganic light emitting device 300 In the inorganic light emitting device 300 according to another embodiment of the present invention, only the structure of the fluorescent layer 330 is formed differently from the inorganic light emitting device 100 according to the embodiments of FIGS. 1 and 2, and other components are Is formed identically. Therefore, the inorganic light emitting device 200 according to another embodiment of the present invention will be described below with reference to the fluorescent layer 330. In addition, in the inorganic light emitting device 300, the same or similar parts as those of the inorganic light emitting device 100 of FIGS. 1 and 2 use the same reference numerals, and a detailed description thereof will be omitted.
  • the fluorescent layer 330 is coated with a plurality of nanowires (330a) by a coating method to form a thin film layer.
  • the nanowires 330a are formed of an inorganic light emitting material.
  • the nanowires 330a may be formed to have a length shorter than the length or width of the inorganic light emitting device 300. That is, the nanowires 330a may be formed to have a length shorter than the length or width of the first electrode 120 constituting the inorganic light emitting device 300.
  • the nanowires 330a are formed to be arranged in a random direction while being connected to each other inside the fluorescent layer 330. That is, the nanowires 330a form a random network inside the fluorescent layer 330. Accordingly, the fluorescent layer 330 may be formed relatively easily as compared with the case where the nanowires 330a are formed to have a length corresponding to the length or width of the unit cell.
  • the fluorescent layer 330 may be formed by a random dispersion method because the length of the nanowires 330a is short so that the nanowires 330a do not need to be arranged in one direction.
  • the nanowires 330a may be relatively short in length, such as spin coating, inkjet, or silkscreen. Application of the method is facilitated.
  • the nanowires 330a are alternately arranged to increase the intensity of the fluorescent layer 330, pressure is applied to the fluorescent layer 330 in a direction perpendicular to the plane of the first electrode 120. In this case, the inorganic light emitting device 300 is prevented from bending.
  • the fluorescent layer 330 may have a planarization layer 335 formed on the fluorescent layer 330 including a space formed between the nanowires 330a.
  • FIG. 5 is a schematic vertical cross-sectional view of an inorganic light emitting device according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 shows a schematic plan view of B-B of FIG. 5.
  • an inorganic light emitting device 400 is formed including a first electrode 120, a fluorescent layer 430, and a second electrode 140. .
  • the inorganic light emitting device 400 may further include a substrate 110 formed under the first electrode 120.
  • the inorganic light emitting device 400 is formed between the first insulating layer 150 and the second electrode 140 and the fluorescent layer 430 formed between the first electrode 120 and the fluorescent layer 430.
  • the second insulating layer 160 may be further included. Meanwhile, only one layer of the first insulating layer 150 and the second insulating layer 160 may be formed, and both layers may be formed.
  • the fluorescent layer 430 may be formed on the upper surface of the first electrode 120 in contrast to the inorganic light emitting device 100 according to the embodiments of FIGS. 1 and 2. It is formed in a structure similar to the structure rotated 90 degrees in the vertical direction with respect to. That is, in the inorganic light emitting device 400, the fluorescent layer 430 and the second electrode 140 by the nanowires 430a arranged in the upper direction of the first electrode 120 formed in a plate shape are sequentially stacked. It is a structure to be formed.
  • the inorganic light emitting device 400 according to another embodiment of the present invention is formed differently only the structure of the inorganic light emitting device 100 and the fluorescent layer 430 according to the embodiment of Figs. Is formed identically. Therefore, the inorganic light emitting device 400 according to another embodiment of the present invention will be described below with reference to the fluorescent layer 430.
  • the inorganic light emitting device 400 is the same as or similar to the inorganic light emitting device 100 according to FIGS. 1 and 2 and the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
  • the fluorescent layer 430 is formed by coating a plurality of nanowires (430a) by a coating method.
  • the nanowires 430a are formed of an inorganic light emitting material.
  • the fluorescent layer 430 may be preferably formed to a thickness of 1nm to 10um. In addition, the thickness of the fluorescent layer 430 may be adjusted according to the density of the nanowires 430a.
  • the nanowires 430a may be formed to have a length corresponding to the separation distance between the first electrode 120 and the second electrode 140. Meanwhile, when the inorganic light emitting device 400 includes the first insulating layer 150 and the second insulating layer 160, the nanowires 430a may include the first insulating layer 150 and the second insulating layer ( 160 may be formed to have a length corresponding to the separation distance therebetween.
  • the nanowires 430a are disposed in a direction perpendicular to the top surface of the first electrode 120. That is, the nanowires 130a may be vertically arranged in a direction from the first electrode 120 to the second electrode 140. In addition, the nanowires 430a may be formed in parallel with each other in the unit cell. In addition, the nanowires 430a may be alternately formed while being arranged in an upper direction of the first electrode 120.
  • the fluorescent layer 430 may be formed with a planarization layer 435 filling a space formed between the nanowires (430a).
  • FIG. 7 is a schematic vertical cross-sectional view corresponding to FIG. 5 of an inorganic light emitting device according to still another embodiment of the present invention.
  • an inorganic light emitting device 500 includes a first electrode 120, a fluorescent layer 530, and a second electrode 140.
  • the inorganic light emitting device 500 may include a substrate 110 formed under the first electrode 120, a first insulating layer 150 formed between the first electrode 120 and the fluorescent layer 530.
  • the second insulating layer 160 may be further formed between the second electrode 140 and the fluorescent layer 530. Meanwhile, only one layer of the first insulating layer 150 and the second insulating layer 160 may be formed, and both layers may be formed.
  • the inorganic light emitting device 500 uses the same reference numerals as or similar to those of the inorganic light emitting device 400 according to FIGS. 5 and 6, and a detailed description thereof will be omitted.
  • the fluorescent layer 530 is formed by coating a plurality of nanowires (530a) by a coating method.
  • the nanowires 530a are formed of an inorganic light emitting material.
  • the nanowires 530a may be formed to have a length shorter than a separation distance between the first electrode 120 and the second electrode 140. Therefore, the nanowires 530a are formed to be arranged in a random direction while being connected to each other inside the fluorescent layer 530. That is, the nanowires 530a form a random network in the fluorescent layer 530. Accordingly, the fluorescent layer 530 may be formed relatively easily as compared with the case where the nanowires have a length corresponding to the separation distance between the first electrode 120 and the second electrode 140. In addition, the fluorescent layer 530 may be formed by a random dispersion method because the length of the nanowires 530a does not need to be arranged in one direction.
  • the fluorescent layer 530 is formed by coating a nano mixture, which is a mixture of nanowires and an organic material, the nanowires 530a have a relatively short length, such as spin coating, inkjet, or silk screen. Application of the method is facilitated.
  • the fluorescent layer 530 may be formed with a planarization layer 535 filling the space formed between the nanowires (530a).
  • FIG. 8 is a schematic plan view of an inorganic light emitting device according to another embodiment of the present invention. 9 is a schematic vertical cross-sectional view taken along line C-C of FIG. 8.
  • the inorganic light emitting device 600 may include an insulating substrate 610, a first electrode 620, a fluorescent layer 630, and a second electrode 640. It is formed, including.
  • the inorganic light emitting device 600 may include a first insulating layer 650 and a second electrode formed between the first electrode 620 and the fluorescent layer 630 on the upper surface of the insulating substrate 610 according to the driving method. And a second insulating layer 660 formed between the 640 and the fluorescent layer 630. Meanwhile, only one layer of the first insulating layer 650 and the second insulating layer 660 may be formed, and both layers may be formed.
  • the first electrode 620 and the second electrode 640 are spaced apart from each other on the upper surface of the insulating substrate 610 to form a partition structure, and the fluorescent light therebetween. Layer 630 is formed. Therefore, the inorganic light emitting device 600 is formed similarly to the discharge cell structure of the conventional PDP.
  • the inorganic light emitting device 600 does not need to form the first electrode 620 and the second electrode 640 as a transparent conductive layer, the light emission efficiency can be increased.
  • the inorganic light emitting device 600 has a structure in which the fluorescent layer 630 emits light directly to the outside, thereby increasing the overall luminance.
  • the insulating substrate 610 is formed to be the same as or similar to the substrate 110 of the embodiment of FIGS. 1 and 2, a detailed description thereof will be omitted.
  • the first electrode 620 is formed in a bar shape, and is formed to be arranged on one side of the insulating substrate 610 on the upper portion of the insulating substrate 610. In this case, the first electrode 620 has a width smaller than the length in order to increase the area of the fluorescent layer 630.
  • the first electrode 620 is not formed in a region where an image is displayed, aluminum (Al), aluminum: neodium (Al: Nd), silver (Ag) tin (Sn), tungsten (W), It may be formed of a metal layer such as gold (Au), chromium (Cr), molybdenum (Mo), palladium (Pd), platinum (Pt), nickel (Ni), or titanium (Ti).
  • the first electrode 620 may be formed of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), fluorine-doped tin oxide (FTO), and zinc oxide (Zinc).
  • Oxide Ca: ITO
  • Ag ITO can be formed of a transparent layer made of a transparent conductive oxide.
  • the fluorescent layer 630 is formed by coating a nanowire 630a by a coating method between the first electrode 620 and the second electrode 640 on the insulating substrate 610. That is, the nanowires 630a are formed to have a length corresponding to the separation distance between the first electrode 640 and the second electrode 630. Therefore, the nanowires 630a are formed to be electrically connected to the first electrode 640 and the second electrode 630.
  • the fluorescent layer 630 is formed the same as or similar to the fluorescent layer 130 of the embodiment according to Figures 1 to 2, the detailed description thereof will be omitted.
  • the fluorescent layer 630 may be formed with a planarization layer 635 formed in the region of the fluorescent layer 630 including a space formed between the nanowires 630a.
  • the second electrode 640 is formed in a bar shape, and is formed to be spaced apart from the first electrode 620 on the other side of the insulating substrate 610 on the insulating substrate 610.
  • the second electrode 640 is formed to be spaced apart from the first electrode to form a partition for forming the fluorescent layer 630.
  • the second electrode 640 is formed to have a width smaller than the length in order to increase the area of the fluorescent layer 630 like the first electrode 620.
  • the second electrode 640 is formed of the same or similar material as the first electrode 620, and a detailed description thereof will be omitted.
  • the first insulating layer 650 is formed between the first electrode 620 and the fluorescent layer 630 on the insulating substrate 610.
  • the first insulating layer 650 is formed of the same or similar material as the first insulating layer 150 of the embodiment according to FIGS. 1 and 2, and a detailed description thereof will be omitted.
  • the first insulating layer 650 does not necessarily need to be formed of a transparent material, unlike the first insulating layer 150 of the embodiment of FIGS. 1 and 2.
  • the second insulating layer 660 is formed between the second electrode 620 and the fluorescent layer 630 on the insulating substrate 610.
  • the second insulating layer 660 is formed of the same or similar material as the first insulating layer 650.
  • the second insulating layer 660 may not be formed of a transparent material.
  • FIG. 10 is a schematic plan view corresponding to FIG. 8 of an inorganic light emitting device according to still another embodiment of the present invention.
  • FIG. 10 is a schematic plan view corresponding to FIG. 8 of an inorganic light emitting device according to still another embodiment of the present invention.
  • an inorganic light emitting device 700 includes an insulating substrate 610, a first electrode 620, a fluorescent layer 730, and a second electrode 640. Is formed.
  • the inorganic light emitting device 700 includes a first insulating layer 650 and a second electrode 640 formed on the upper surface of the insulating substrate 610 and the fluorescent layer 730 and the fluorescent light.
  • the second insulating layer 660 may be further formed between the layers 730. Meanwhile, only one layer of the first insulating layer 650 and the second insulating layer 660 may be formed, and both layers may be formed.
  • the inorganic light emitting device 700 uses the same reference numerals as or similar to those of the inorganic light emitting device 600 according to FIGS. 8 and 9, and a detailed description thereof will be omitted.
  • the fluorescent layer 730 is a plurality of nanowires (730a) is coated by a coating method to form a thin film layer.
  • the nanowires 730a are formed of an inorganic light emitting material.
  • the fluorescent layer 730 is formed in the same or similar to the fluorescent layer 230 of the embodiment shown in FIG. That is, the nanowires 730a are formed to have a length corresponding to the separation distance between the first electrode 620 and the second electrode 640 and are alternately arranged in a direction parallel to the top surface of the insulating substrate 610. Can be formed. Detailed description of the material of the fluorescent layer 730 will be omitted here.
  • the fluorescent layer 730 may be formed with a planarization layer 735 filling the space formed between the nanowires (730a).
  • FIG. 11 is a schematic plan view corresponding to FIG. 8 of an inorganic light emitting device according to still another embodiment of the present invention.
  • FIG. 11 is a schematic plan view corresponding to FIG. 8 of an inorganic light emitting device according to still another embodiment of the present invention.
  • an inorganic light emitting device 800 includes an insulating substrate 610, a first electrode 620, a fluorescent layer 830, and a second electrode 640. Is formed.
  • the inorganic light emitting device 800 includes a first insulating layer 650 and a second electrode 640 formed on the upper surface of the insulating substrate 610 between the first electrode 620 and the fluorescent layer 830.
  • the second insulating layer 660 may be further formed between the layers 830. Meanwhile, only one layer of the first insulating layer 650 and the second insulating layer 660 may be formed, and both layers may be formed.
  • the inorganic light emitting device 800 uses the same reference numerals as or similar to those of the inorganic light emitting device 600 of FIGS. 8 and 9, and a detailed description thereof will be omitted.
  • the fluorescent layer 830 is coated with a plurality of nanowires 830a by a coating method to form a thin film layer.
  • the nanowires 830a are formed of an inorganic light emitting material.
  • the fluorescent layer 830 is formed the same as or similar to the fluorescent layer 330 of the embodiment of FIG. 4. That is, the nanowire 830a may be formed to have a length shorter than the length or width of the unit cell constituting the inorganic light emitting device 800. That is, the nanowire 830a may be formed to have a length shorter than the separation distance between the first electrode 620 and the second electrode 640. Therefore, the nanowires 830a form a random network in the fluorescent layer 830. Detailed description of the fluorescent layer 830 will be omitted here.
  • the fluorescent layer 830 may be formed with a planarization layer 835 filling a space formed between the nanowires 830a.
  • FIG. 12 shows a scanning electron micrograph of a fluorescent layer of an inorganic light emitting device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 13 shows a PL pattern for the fluorescent layer of FIG. 12.
  • FIG. 14 shows a CL image of the fluorescent layer of FIG. 12.
  • the fluorescent layer of the inorganic light emitting device according to the embodiment of the present invention was formed by coating a surface of a substrate by mixing a nanowire made of a phosphor of ZnS: Te with an organic material. At this time, the fluorescent layer was formed to have a fluorescent layer structure of the inorganic light emitting device according to the embodiment of FIG.
  • the fluorescent layer can be seen that a plurality of nanowires are randomly arranged to form a network.
  • the fluorescent layer referring to the PL (PhotoLuminescence) pattern of FIG. 13, a peak is observed in the blue wavelength region of 450 nm region.
  • the fluorescent layer may form a blue image. Therefore, it can be seen that the fluorescent layer is formed of a blue fluorescent layer.
  • FIG. 15 shows a scanning electron micrograph of a fluorescent layer of an inorganic light emitting device according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 16 shows a PL pattern for the fluorescent layer of FIG. 15.
  • FIG. 17 shows a CL image of the fluorescent layer of FIG. 15.
  • the fluorescent layer of the inorganic light emitting device was formed by coating a surface of the substrate by mixing a nanowire made of a phosphor of ZnS: Eu with an organic material. At this time, the fluorescent layer was formed to have a fluorescent layer structure of the inorganic light emitting device according to the embodiment of FIG.
  • the fluorescent layer may be seen that a plurality of nanowires are randomly arranged to form a network.
  • the fluorescent layer referring to the PL (PhotoLuminescence) pattern of FIG. 16, a peak is observed in the green wavelength region of the 500 nm region.
  • the fluorescent layer may show that a green image is formed. Therefore, it can be seen that the fluorescent layer is formed of a green fluorescent layer.
  • FIG. 18 is a structural diagram of a unit pixel of a flat panel display device using an inorganic light emitting device according to an embodiment of the present invention.
  • the flat panel display apparatus using the inorganic light emitting device according to an embodiment of the present invention, referring to FIG. 18, three inorganic light emitting devices emitting red, blue, and green, respectively, are formed to form a unit pixel.
  • a cathode electrode as a first electrode and an anode electrode as a second electrode are formed on an upper surface of a substrate, and a fluorescent layer made of nanowires is formed between the cathode electrode and the anode electrode.
  • the flat panel display includes scan lines, data lines, and VDD lines formed under the cathode and anode electrodes.
  • the flat panel display device includes a switching TFT and a driving TFT electrically connected to a scan line, a data line, and a VDD line.
  • the flat panel display apparatus may include various lines and TFTs as described above, and an electrical connection relationship may be established by a driving scheme.
  • the flat panel display device may be driven by forming lines and TFTs in a manner similar to OLEDs.
  • the cathode electrode and the anode electrode are formed extending in one direction of the substrate, and are spaced apart from each other in a separation direction that is perpendicular to the extending direction.
  • the fluorescent layer may be formed by arranging a plurality of nanowires in a direction parallel to a separation direction between a cathode electrode and an anode electrode. Therefore, when a voltage is applied to the cathode electrode and the anode electrode, the fluorescent layer realizes red, blue or green depending on the material of the phosphor forming the nanowire.
  • the flat panel display device although not shown separately,
  • the unit pixel may be formed by the various types of inorganic light emitting devices described above.

Landscapes

  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)

Abstract

본 발명은 무기 발광 소자에 관한 것으로, 보다 상세하게는 높은 기계적 강도와 긴 수명을 가지며 전체적으로 균일하면서 높은 발광 효율을 유지할 수 있으며 투명하고 휠 수 있는 특성을 갖는 무기 발광 소자에 관한 것이다. 본 발명은 제1전극과, 제1전극의 상부에 형성되며, 무기 발광 재료로 형성되는 복수의 나노와이어를 포함하는 형광층 및 형광층의 상부에 형성되는 제2전극을 포함하며, 형광층은 복수의 나노와이어가 코팅되어 형성되는 무기 발광 소자를 개시한다.

Description

무기 발광 소자
본 발명은 평판 디스플레이 장치의 발광 소자 또는 백라이트로 사용될 수 있는 무기 발광 소자에 관한 것이다.
발광 소자는 제1전극과 제2전극 사이에 형성되는 형광층을 구비하며, 형광층은 유기 형광 재료 또는 무기 형광 재료를 포함하는 형광물질로 이루어진다. 상기 발광 소자는 제1전극과 제2전극 사이에 인가되는 전압에 의하여 형광 재료가 여기되어 가시광선을 방출하게 된다. 상기 발광 소자는 PDP 또는 OLED와 같은 평판 디스플레이의 발광 소자로서 사용되거나 액정 디스플레이 장치의 백라이트로 사용되고 있다.
상기 형광층이 무기 형광 재료를 포함하는 발광 소자는 무기 형광 재료가 주로 수지와 같은 기지상에 분말상으로 분산되는 형태로 형성된다. 상기 발광 소자는 높은 기계적 강도와 열적 안정성과 긴 수명을 가지나, 높은 구동 전압을 필요로 하며, 발광 휘도가 낮으며 청색의 구현에 어려운 점이 있다. 반면, 상기 형광층이 유기 형광 재료를 포함하는 발광 소자는 높은 발광 효율을 가지면서 낮은 구동 전압을 필요로 하나 열적 안정성이 낮으며, 낮은 수명이 문제가 된다.
본 발명은 높은 기계적 강도와 긴 수명을 가지며, 전체적으로 균일하면서 높은 발광 효율을 유지할 수 있으며, 투명하고 휠 수 있는 특성을 갖는 무기 발광 소자를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기와 같은 과제를 달성하기 위한 무기 발광 소자는 제1전극과, 상기 제1전극의 상부에 형성되며, 무기 발광 재료로 형성되는 복수의 나노와이어를 포함하는 형광층 및 상기 형광층의 상부에 형성되는 제2전극을 포함하며, 상기 형광층은 복수의 나노와이어가 코팅되어 형성되는 것을 특징으로 한다. 이때, 상기 형광층은 상기 복수의 나노와이어가 분산된 극성 용매를 적하시킨 후 전기장을 인가하는 전계에 의한 분산, 랜덤 분산 또는 일렬 배열 방법에 의하여 코팅되어 형성될 수 있다.
또한, 본 발명의 형광층은 상기 복수의 나노와이어와 유기물의 나노 혼합물이 코팅되어 형성될 수 있다. 이때, 상기 나노 혼합물은 스핀코팅법, 잉크젯 방법, 레이저 전사법, 나노 임플렌테이션법 또는 실크스크린 프린팅법 중에서 선택되는 어느 하나의 방법으로 코팅될 수 있다. 또한, 상기 유기물은 코팅 후에 가열 과정에서 제거될 수 있다. 또한, 상기 유기물은 전도성 고분자 수지, 실리콘 수지, 폴리이미드 수지, 요소수지, 아크릴 수지, 광투과 에폭시 수지 및 광투과 실리콘 수지로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 포함할 수 있다. 또한, 상기 유기물은 발광 활성제 또는 나노와이어 분산제를 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 복수의 나노와이어는 상기 제1전극의 상면에 수평한 방향 또는 수직한 방향 또는 상기 제1전극과 제2전극 사이에서 불규칙한 방향으로 배열되어 형성될 수 있다. 또한, 상기 복수의 나노와이어는 상기 제1전극과 제2전극 사이의 거리보다 짧은 길이로 형성되며, 상기 형광층의 내부에서 랜덤하게 배열되어 서로 연결되어 랜덤 네트워크를 형성할 수 있다.
또한, 본 발명의 무기 발광 소자는 상기 제1전극과 상기 형광층 사이에 형성되는 제1절연층과 상기 제2전극과 상기 형광층 사이에 형성되는 제2절연층 중 적어도 어느 하나의 층을 더 포함하며, 상기 제1절연층과 제2절연층은 유기재료, 무기재료 또는 유기재료와 무기재료의 복합재료로 형성될 수 있다.
또한, 본 발명의 무기 발광 소자는 절연기판과, 상기 절연기판의 상부 일측에 바 형상으로 형성되는 제1전극과, 상기 절연기판의 상부 타측에 상기 제1전극과 이격되어 바 형상으로 형성되는 제2전극 및 상기 제1전극과 제2전극 사이에 형성되며, 무기 발광 재료로 형성되는 복수의 나노와이어를 포함하는 형광층을 포함하며, 상기 형광층은 복수의 나노와이어가 코팅되어 형성되는 것을 특징으로 한다. 이때, 상기 형광층은 상기 나노와이어가 분산된 극성 용매를 적하시킨 후 전기장을 인가하는 전계에 의한 분산, 랜덤 분산 또는 일렬 배열 방법에 의하여 코팅되어 형성될 수 있다.
또한, 본 발명의 형광층은 상기 나노와이어와 유기물의 나노 혼합물이 코팅되어 형성될 수 있다. 이때, 상기 나노 혼합물은 스핀코팅법, 잉크젯 방법, 레이저 전사법, 나노 임플렌테이션법 또는 실크스크린 프린팅법 중에서 선택되는 어느 하나의 방법으로 코팅될 수 있다. 또한, 상기 유기물은 코팅 후에 가열 과정에서 제거될 수 있다. 또한, 상기 유기물은 전도성 고분자 수지, 실리콘 수지, 폴리이미드 수지, 요소수지, 아크릴 수지, 광투과 에폭시 수지 및 광투과 실리콘 수지로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 포함할 수 있다. 또한, 상기 유기물은 발광 활성제 또는 나노와이어 분산제를 더 포함할 수 있다. 또한, 상기 복수의 나노와이어는 상기 절연기판의 상면에 수평한 방향 또는 상기 제1전극과 제2전극 사이에서 불규칙한 방향으로 배열되어 형성될 수 있다. 또한, 상기 복수의 나노와이어는 상기 제1전극과 제2전극 사이의 거리보다 짧은 길이로 형성되며, 상기 형광층의 내부에서 랜덤하게 배열되어 서로 연결되어 랜덤 네트워크를 형성할 수 있다.
또한, 본 발명의 무기 발광 소자는 상기 제1전극과 상기 형광층 사이에 형성되는 제1절연층과 상기 제2전극과 상기 형광층 사이에 형성되는 제2절연층 중 적어도 어느 하나의 층을 더 포함하며, 상기 제1절연층과 제2절연층은 유기재료, 무기재료 또는 유기재료와 무기재료의 복합재료로 형성될 수 있다.
또한, 본 발명의 무기 발광 재료는 적색 형광체로서 CaS:Eu(Host:dopant), ZnS:Sm, ZnS:Mn, Y2O2S:Eu, Y2O2S:Eu,Bi, Gd2O3:Eu, (Sr,Ca,Ba,Mg)P2O7:Eu,Mn, CaLa2S4:Ce; SrY2S4: Eu, (Ca,Sr)S:Eu, SrS:Eu, Y2O3:Eu, YVO4:Eu,Bi로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 혼합물로 형성되며,
녹색 형광체로서 ZnS:Tb(Host:dopant), ZnS:Ce,Cl, ZnS:Cu,Al, ZnS:Eu, Gd2O2S:Tb, Gd2O3:Tb,Zn, Y2O3: Tb,Zn, SrGa2S4:Eu, Y2SiO5:Tb, Y2Si2O7:Tb, Y2O2S:Tb, ZnO:Ag, ZnO:Cu,Ga, CdS:Mn, BaMgAl10O17:Eu,Mn, (Sr,Ca,Ba)(Al,Ga)2S4:Eu, Ca8Mg(SiO4)4Cl2:Eu,Mn, YBO3:Ce,Tb, Ba2SiO4:Eu, (Ba,Sr)2SiO4:Eu, Ba2(Mg,Zn)Si2O7:Eu, (Ba,Sr)Al2O4:Eu, Sr2Si3O8.2SrCl2:Eu로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 혼합물로 형성되며,
청색 형광체로서 GaN:Mg,Si(Host:dopant), GaN:Zn,Si, SrS:Ce, SrS:Cu, ZnS:Tm, ZnS:Ag,Cl, ZnS:Te, Zn2SiO4:Mn, YSiO5:Ce, (Sr,Mg,Ca)10(PO4)6Cl2:Eu, BaMgAl10O17:Eu, BaMg2Al16O27:Eu로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 혼합물로 형성될 수 있다.
본 발명에 따른 무기 발광 소자는 형광층이 무기 발광 재료로 이루어지는 나노와이어가 단독으로 또는 유기물과 함께 코팅되어 균일하게 형성되므로, 전체적으로 균일한 발광 효율을 유지할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따른 무기 발광 소자는 형광층이 무기 발광 재료로 이루어지는 나노와이어로 형성되므로, 높은 기계적 강도와 긴 수명을 가지며 전체적으로 균일하면서 높은 발광 효율을 유지할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따른 무기 발광 소자는 형광층이 나노와이어로 형성되므로 저전압으로 구동되는 경우에도 형광체에서 전체적으로 전자가 균일하게 여기되어 높은 발광 휘도를 얻을 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따른 무기 발광 소자는 기존의 평판 형상의 박막으로 형성되는 형광층과 달리 형광층이 나노와이어로 형성됨에 따라 투명하면서 물리적으로 휠 수 있는 특성을 가짐에 따라 향후에 투명하고 휠 수 있는 평판 디스플레이 장치의 발광 소자 또는 백라이트에 사용될 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 무기 발광 소자의 개략적인 수직 단면도를 나타낸다.
도 2는 도 1의 A-A에 대한 개략적인 평면도를 나타낸다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자의 도 2에 대응되는 평면도를 나타낸다.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자의 도 2에 대응되는 평면도를 나타낸다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자의 개략적인 수직 단면도를 나타낸다.
도 6은 도 5의 B-B에 대한 개략적인 평면도를 나타낸다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자의 도 5에 대응되는 개략적인 수직 단면도를 나타낸다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자의 개략적인 평면도를 나타낸다.
도 9는 도 8의 C-C에 대한 개략적인 수직 단면도를 나타낸다.
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자의 도 8에 대응되는 개략적인 평면도를 나타낸다.
도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자의 도 8에 대응되는 개략적인 평면도를 나타낸다.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 무기 발광 소자의 형광층에 대한 주사 전자 현미경 사진을 나타낸다.
도 13은 도 12의 형광층에 대한 PL 패턴을 나타낸다.
도 14는 도 12의 형광층에 대한 CL 이미지를 나타낸다.
도 15는 본 발명의 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자의 형광층에 대한 주사 전자 현미경 사진을 나타낸다.
도 16은 도 15의 형광층에 대한 PL 패턴을 나타낸다.
도 17은 도 15의 형광층에 대한 CL 이미지를 나타낸다.
도 18은 본 발명의 실시예에 따른 무기 발광 소자가 사용된 평판 디스플레이 장치의 단위 픽셀에 대한 구조도이다.
이하에서 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 무기 발광 소자를 보다 상세하게 설명하고자 한다.
먼저, 본 발명의 실시예에 따른 무기 발광 소자에 대하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 무기 발광 소자의 개략적인 수직 단면도를 나타낸다. 도 2는 도 1의 A-A에 대한 개략적인 평면도를 나타낸다.
본 발명의 실시예에 따른 무기 발광 소자(100)는, 도 1과 도 2를 참조하면, 제1전극(120)과 형광층(130) 및 제2전극(140)을 포함하여 형성된다. 또한, 상기 무기 발광 소자(100)는 제1전극(120)의 하부에 형성되는 기판(110)을 더 포함하여 형성될 수 있다. 또한, 상기 무기 발광 소자(100)는 제1전극(120)과 형광층(130) 사이에 형성되는 제1절연층(150)과 제2전극(140)과 형광층(130) 사이에 형성되는 제2절연층(160)을 더 포함하여 형성될 수 있다. 한편, 상기 제1절연층(150)과 제2절연층(160)은 어느 한 층만이 형성될 수 있으며, 두 층 모두 형성될 수 있다.
상기 무기 발광 소자(100)는 형광층(130)이 무기 발광 재료로 이루어지는 나노와이어가 단독으로 또는 유기물과 함께 코팅되어 형성되므로, 전체적으로 균일한 형광층이 보다 용이하게 형성될 수 있다.
상기 무기 발광 소자(100)는 평판 디스플레이 장치에서 영상을 표현하는 기본 단위인 하나의 화소를 형성하게 된다. 또한, 상기 무기 발광 소자(100)는 도포되는 형광체의 종류에 따라 적색 화소, 녹색 화소, 청색 화소로 형성될 수 있다. 따라서, 상기 무기 발광 소자(100)는 복수 개가 평판 디스플레이 장치의 단위 픽셀(pixel)을 구성하는 발광소자로 사용될 수 있다. 또한, 상기 무기 발광 소자의 형광층(130))이 나노와이어로 형성되어 유연하게 되므로, 무기 발광 소자(100)는 플렉시블한 평판 디스플레이 장치에도 사용될 수 있다. 또한, 상기 무기 발광 소자의 형광층(130)이 나노와이어로 형성되어 상대적으로 투명하게 되므로, 무기 발광 소자(100)는 투명한 평판 디스플레이 장치에도 사용될 수 있다. 또한, 상기 무기 발광 소자(100)는 평판 디스플레이 장치 특히, 액정 디스플레이 장치의 백라이트로 사용될 수 있다.
한편, 이하에서는, 하나의 무기 발광 소자를 중심으로 설명하며, 무기 발광 소자에 대한 설명은 다수의 무기 발광 소자로 이루어지는 평판 디스플레이 장치로 확대되어 적용될 수 있다. 예를 들면, 상기 기판(110)은 하나의 무기 발광 소자(100)에 대응되는 크기로 도시되지만, 평판 디스플레이 장치의 전체 크기에 대응되는 크기로 형성될 수 있다. 또한, 상기 제1전극(120)과 제2전극(140)은 평판 디스플레이 장치를 구성하는 무기 발광 소자의 수에 대응되는 수로 형성되어 기판의 상부에서 서로 전기적으로 절연되면서 전체적으로 배열되도록 형성될 수 있다. 또한, 기판의 양측에 형성되는 제1전극과 제2전극은 평판 디스플레이 장치의 전체 기판에서 전체적으로 각각의 형광층을 기준으로 서로 대향하는 스트라이프 형상 또는 격자 형상을 이루도록 형성될 수 있다.
상기 기판(110)은 바람직하게는 세라믹 기판, 실리콘 웨이퍼 기판, 유리 기판 또는 폴리머 기판으로 이루어진다. 특히, 상기 무기 발광 소자(100)가 투명 디스플레이장치에 사용되는 경우에, 기판(110)은 유리기판 또는 투명 플라스틱으로 이루어진다. 상기 유리 기판은 실리콘 산화물로 이루어질 수 있다. 또한, 상기 폴리머 기판은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에릴렌나프탈레이트(PEN), 폴리이미드와 같은 폴리머 재질로 형성될 수 있다. 또한, 상기 무기 발광 소자(100)는 사용되는 평판 디스플레이 장치의 구조에 따라 기판의 상부에 박막 트랜지스터, 반도체층, 절연층이 형성될 수 있다.
상기 제1전극(120)은 기판(110)의 상면에 박막으로 형성되며 음극 또는 양극으로 형성된다. 상기 제1전극(120)은 알루미늄(Al), 알루미늄:네오듐(Al:Nd), 은(Ag)주석(Sn), 텅스텐(W), 금(Au), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 니켈(Ni), 티타늄(Ti)과 같은 금속층으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 제1전극(120)은 인듐주석 산화물(Indium Tin Oxide:ITO), 인듐아연산화물(Indium Zinc Oxide:IZO), 불소도핑 주석산화물(F-doped Tin Oxide:FTO), 산화아연(Zinc Oxide), Ca:ITO, Ag:ITO와 같은 투명 도전성 산화물에 의한 투명층으로 형성될 수 있다. 특히, 제1전극(120)이 무기 발광 소자의 영상을 표현하는 면에 형성되는 경우에, 제1전극(120)은 투명층으로 형성된다.
한편, 상기 제1전극(120)이 투명 전도층으로 형성되는 경우에, 제1전극(120)은 금속층으로 형성되면서 투명 전도층보다 상대적으로 폭이 작으면서 투명 전도층과 접촉되면서 평행하게 형성되는 버스 전극(도면에 도시하지 않음)을 추가로 포함할 수 있다. 상기 버스 전극은 투명 전도층의 상대적으로 낮은 전기전도도를 보완하게 되어 무기 발광 소자의 구동 효율을 증가시키게 된다.
또한, 상기 제1전극(120)은 형광층(130)과 대향하는 면에 전도성 폴리머로 형성되는 전도층(도면에 도시하지 않음)을 더 포함할 수 있다. 상기 전도층은 폴리피롤, 폴리아닐린, 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜), 폴리아세틸렌, 폴리(p-페닐렌), 폴리티오펜, 폴리(p-페닐렌 비닐렌) 및 폴리(티에닐렌 비닐렌)로 구성된 그룹으로부터 선택된 폴리머로 형성될 수 있다. 상기 전도층은 제1전극(120)과 형광층(130)의 전기적 결합을 증가시키게 된다.
상기 형광층(130)은 무기 발광 재료로 이루어지는 복수의 나노와이어(130a)가 제1전극(120) 상면에 코팅되어 형성된다. 상기 무기 발광 소자(100)가 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Device)와 같은 구동 방식으로 구동되는 경우에, 상기 형광층(130)은 제1전극(120)의 상면에 코팅되어 직접 형성되어 제1전극(120)과 전기적으로 연결된다. 특히, 상기 형광층(130)은 제1전극(120)과 전기적으로 연결되어 구동되는 경우에 저전압의 직류 전원에 구동될 수 있다.
한편, 상기 형광층(130)은 기판(110)의 상면에 제1절연층(150)이 형성되는 경우에는 제1절연층(150)의 상면에 코팅되어 형성될 수 있다. 상기 무기 발광 소자(100)의 구동 방식에 따라, 형광층(130)은 제1절연층(150)의 상면에 형성되어 제1전극(120)과 전기적으로 절연되도록 형성될 수 있다. 예를 들면, 상기 무기 발광 소자(100)가 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Device)와 다른 방식으로 구동되는 경우에, 형광층(130)은 제1전극(120)과 전기적으로 절연되어 형성될 수 있다.
한편, 상기 형광층(130)은 나노와이어(130a)의 사이에 형성되는 공간을 포함하는 형광층(130)의 상부에 형성되는 평탄화층(135)이 형성될 수 있다.
상기 형광층(130)은 나노와이어(130a) 자체가 분산되어 형성될 수 있다. 상기 형광층(130)은 바람직하게는 1nm 내지 500nm의 두께로 형성될 수 있다. 상기 형광층(130)의 두께가 너무 얇으면 색상 구현에 어려움이 있다. 또한, 상기 형광층(130)의 두께가 너무 두꺼우면 불필요하게 나노와이어가 많이 사용될 수 있다. 또한, 상기 형광층(130)의 두께는 나노와이어(130a)의 밀도에 따라 조절될 수 있다.
이때, 상기 형광층(130)은 복수의 나노와이어(130a)가 분산된 극성 용매를 적하시킨 후에 전기장을 인가하는 전계에 의한 분산 방법, 극성 용매를 분산시키는 랜덤 분산 방법, 또는 일렬 배열 방법 또는 하부에 형성되는 층과의 접합에 의한 분산 방법과 같은 방법에 의하여 형성될 수 있다. 한편, 상기 형광층(130)은 나노와이어(130a)를 직접 제1전극(120)상에 전체적으로 랜덤하게 또는 일렬 배열 모양으로 증착한 뒤 필요한 부분만 남기고 나머지 부분을 제거하는 방법에 의하여 형성될 수 있다. 또한, 상기 형광층(130)은 나노와이어(130a)를 제1전극(120) 상에서 필요한 부분만 랜덤하게 또는 일렬 배열 모양으로 증착하는 방법에 의하여 형성될 수 있다.
상기 전계에 의한 분산 방법은 물, 이소프로필알코올, 에탄올, 메탄올, 아세톤 또는 나노와이어 전용 분산 용액과 같은 극성 용매에 나노와이어(130a)를 분산시킨 후에 나노와이어 분산 용액을 제1전극(120) 상에 적하시켜 형광층(130)을 도포하게 된다. 그리고 상기 전계에 의한 분산 방법은 도포된 형광층(130)에 전계를 가하여 전기장을 형성함으로써 나노와이어(130a)가 극성 용매 내부에서 전기장의 방향에 따라 배열되도록 한다. 따라서, 상기 전계에 의한 분산 방법은 나노와이어(130a)가 일정한 방향으로 배열되도록 형광층을 형성할 수 있게 된다. 상기 극성 용매는 나노와이어(130a)가 분산된 후에는 휘발되며, 형광층(130)은 나노와이어(130a)가 전체적으로 일정한 방향으로 배열되어 이루어지게 된다.
상기 랜덤 분산방법은 나노와이어(130a)를 상기 극성 용매와 섞은 후 제1전극(120) 상에 떨어뜨린 후 극성 용매를 증발시켜 형광층(130)을 형성하게 된다. 상기 랜덤 분산방법은 상기와 같은 과정을 반복하여 형광층(130)의 나노와이어(130a)의 밀도를 조절할 수 있다. 또한, 상기 랜덤 분산방법은 형광층 (130)내부에서 나노와이어(130a)를 일정한 방향으로 배열하기 위해서 기판을 일정한 방향으로 기울이고 길이방향으로 계속해서 나노와이어 분산 극성 용매를 떨어뜨리고 말리는 순서를 계속해서 반복한다.
또한, 상기 형광층(130)은 별도의 기판 위에 나노와이어를 배열시키고, 배열된 나노와이어를 원하는 제1전극(120)상으로 이전시키는 방법에 의하여 형성될 수 있다.
또한, 상기 형광층(130)은 복수의 나노와이어(130a)와 분산제로서의 유기물이 혼합되어 점도를 가지는 잉크 형태의 나노 혼합물로 코팅되어 형성될 수 있다. 상기 유기물은 전도성 고분자 수지 또는 실리콘 수지, 폴리이미드 수지, 요소수지, 아크릴 수지 등이 사용될 수 있으며, 특히 광투과 에폭시 수지 또는 광투과 실리콘 수지 등이 사용될 수 있다. 또한, 상기 유기물은 요구되는 잉크의 물성치를 충족시키기 위해 계면활성제, 레벨링 에이젼트 등의 첨가제와 cosolvent 혹은 액상 liquid carrier vehicle 등이 첨가될 수 있다. 또한, 상기 유기물은 발광 활성제 또는 나노와이어 분산제를 포함하여 이루어질 수 있다. 여기서 말한 발광 활성제란 형광특성을 보이는 나노와이어의 발광특성들, 즉 발광 파장 조절 및 발광 세기 조절을 도와주는 역할을 할수 있는 유기물을 의미한다.
상기 형광층(130)은 나노 혼합물이 코팅된 후에 가열 건조 또는 자연 건조되어 유기물의 일부 또는 전부가 제거될 수 있다. 따라서, 상기 형광층(130)은 나노와이어(130a)만으로 이루어지거나 또는 유기물의 복합 재료층으로 형성될 수 있다.
상기 형광층(130)은 나노와이어와 유기물이 혼합된 나노 혼합물이 코팅되어 형성되는 경우에 스핀코팅법, 잉크젯 방법, 레이저 전사법(LITI), 나노 임플렌테이션법 또는 실크스크린 프린팅법 등과 같은 방법으로 형성될 수 있다. 상기 스핀코팅법, 잉크젯 방법, 레이저 전사법(LITI), 나노 임플렌테이션법 또는 실크스크린 프린팅법은 일반적인 방법이 사용될 수 있으며 여기서 상세한 설명에 대하여 생략한다.
상기 나노와이어(130a)는 무기 발광 소자(100)의 길이 또는 폭에 상응되는 길이로 형성될 수 있다. 즉, 상기 나노와이어(130a)는 무기 발광 소자(100)를 구성하는 제1전극(120)의 길이 또는 폭에 대응되는 길이로 형성될 수 있다. 상기 나노와이어(130a)는 제1전극(120)의 길이 방향 또는 폭 방향을 가로지르도록 배치된다. 또한, 상기 나노와이어(130a)는 제1전극(120)의 상면과 평행한 방향으로 배치된다. 즉, 상기 나노와이어(130a)는 제1전극(120)의 상면에서 제1전극(120)의 일측에서 타측으로 가로지르도록 형성된다. 또한, 상기 나노와이어(130a)는 기판(110)의 상부에서 서로 평행하게 배치되어 형성될 수 있다. 또한, 상기 나노와이어(130a)는 단일층 또는 복수층으로 형성될 수 있다. 상기 나노와이어(130a)가 복수층으로 형성되는 경우에는 형광층이 여러 번 코팅되어 형성될 수 있다.
따라서, 상기 형광층(130)은 나노와이어(130a)가 코팅 방식에 의하여 형성됨에 따라 보다 용이하게 전체적으로 균일하게 형성되는 것이 가능하게 된다. 또한, 상기 형광층(130)은 나노와이어에 의하여 형성되므로 높은 기계적 강도와 긴 수명을 가지게 된다. 또한, 상기 형광층(130)은 전체적으로 균일하면서 높은 발광 효율을 유지하면서 낮은 구동 전압으로 구동된다. 즉, 상기 무기 발광 소자(100)는 형광층(130)이 나노와이어(130a)로 형성되므로 낮은 구동 전압에서도 발광이 가능하게 된다. 따라서, 상기 무기 발광 소자(100)는 기존의 무기 발광 소자에 비하여 낮은 구동 전압으로 구동되는 것이 가능하며 높은 발광 효율을 갖게 된다. 또한, 상기 무기 발광 소자(100)는 높은 발광 효율을 가지게 됨에 따라 청색의 구현이 용이하게 된다.
상기 나노와이어(130a)는 길이가 직경보다 큰 와이어 형상으로 형성되며, 그 직경이 1㎚ - 300㎚이 되도록 형성될 수 있다. 상기 나노와이어(130a)의 직경이 너무 작으면 그 강도가 약하여 쉽게 분쇄되어 발광 효율이 감소될 수 있다. 또한, 상기 나노와이어(130a)의 직경이 너무 크면 형광층(130)을 균일하게 형성하기 어렵게 된다.
상기 나노와이어(130a)는 무기 발광 재료로 이루어진다. 상기 무기 발광 재료는 색상에 따라 다양한 무기 형광체가 사용될 수 있다. 예를 들면, 상기 무기 발광 재료는 적색 형광체로서 CaS:Eu(Host:dopant), ZnS:Sm, ZnS:Mn, Y2O2S:Eu, Y2O2S:Eu,Bi, Gd2O3:Eu, (Sr,Ca,Ba,Mg)P2O7:Eu,Mn, CaLa2S4:Ce, SrY2S4: Eu, (Ca,Sr)S:Eu, SrS:Eu, Y2O3:Eu, YVO4:Eu,Bi와 같은 형광체가 사용될 수 있다. 또한, 상기 무기 발광 재료는 녹색 형광체로서 ZnS:Tb(Host:dopant), ZnS:Ce,Cl, ZnS:Eu, ZnS:Cu,Al, Gd2O2S:Tb, Gd2O3:Tb,Zn, Y2O3: Tb,Zn, SrGa2S4:Eu, Y2SiO5:Tb, Y2Si2O7:Tb, Y2O2S:Tb, ZnO:Ag, ZnO:Cu,Ga, CdS:Mn, BaMgAl10O17:Eu,Mn, (Sr,Ca,Ba)(Al,Ga)2S4:Eu, Ca8Mg(SiO4)4Cl2:Eu,Mn, YBO3:Ce,Tb, Ba2SiO4:Eu, (Ba,Sr)2SiO4:Eu, Ba2(Mg,Zn)Si2O7:Eu, (Ba,Sr)Al2O4:Eu, Sr2Si3O8.2SrCl2:Eu와 같은 형광체가 사용될 수 있다. 또한, 상기 무기 발광 재료는 청색 형광체로서 GaN:Mg,Si(Host:dopant), GaN:Zn,Si, SrS:Ce, SrS:Cu, ZnS:Tm, ZnS:Ag,Cl, ZnS:Te, Zn2SiO4:Mn, YSiO5:Ce, (Sr,Mg,Ca)10(PO4)6Cl2:Eu, BaMgAl10O17:Eu, BaMg2Al16O27:Eu 와 같은 형광체가 사용될 수 있다. 또한, 상기 무기 발광 재료는 YAG(Yttrium, Aluminum Garnet)와 같은 백색형광체가 사용될 수 있다. 또한, 상기 무기 발광 재료는 CaAl2O3와 SrAl2O3를 합성한 CaxSrx-1Al2O3:Eu+2를 이용한 화합물 무기 발광 재료가 사용될 수 있다.
상기 평탄화층(135)은 나노와이어(130a) 사이의 공간을 충진하여 형광층(130)이 전체적으로 평탄하게 되도록 한다. 상기 평탄화층(135)은 나노와이어(130a)의 발광 효율을 감소시키지 않기 위하여 투명층으로 형성된다. 상기 평탄화층(135)은 전기적 절연체에 의한 절연층으로 형성된다. 상기 평탄화층(135)은 실리콘 산화물과 같은 산화물 또는 실리콘 수지, 폴리이미드 수지, 요소수지, 아크릴 수지 등이 사용될 수 있으며, 특히 광투과 에폭시 수지 또는 광투과 실리콘 수지 등이 사용될 수 있다. 한편, 상기 평탄화층(135)은 형광층(130)이 나노와이어(130a)와 유기물에 의하여 형성되면서 유기물이 형광층(130)에 존재하는 경우에는 형성되지 않을 수 있다.
상기 제2전극(140)은 박막으로 형성되며, 양극 또는 음극으로 형성된다. 상기 제2전극(140)은 형광층(130)을 중심으로 제1전극(120)과 서로 대향되도록 형성된다. 즉, 상기 형광층(130)이 제1전극(120)의 상면에 형성되는 경우에 제2전극(140)은 형광층(130)의 상면에 형성된다. 또한, 상기 형광층(130)이 제1절연층(150)의 상면에 형성되는 경우에, 제2전극(140)은 제2절연층(160)의 상면에 형성될 수 있다. 한편, 상기 제2전극(140)은 제1절연층(150)이 형성되는 경우에도, 무기 발광 소자의 구동 방식에 따라 형광층(130)의 상면에 직접 형성될 수 있다. 또한, 상기 제2전극(140)은 제1전극(120)과 반대의 극성을 가지도록 형성된다. 또한, 상기 제2전극(140)은 알루미늄(Al), 알루미늄:네오듐(Al:Nd), 은(Ag), 주석(Sn), 텅스텐(W), 금(Au), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 니켈(Ni), 티타늄(Ti)과 같은 금속층으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 제2전극(140)은 인듐주석 산화물(Indium Tin Oxide:ITO), 인듐아연산화물(Indium Zinc Oxide:IZO), 불소도핑 주석산화물(F-doped Tin Oxide:FTO), 산화아연(Zinc Oxide), Ca:ITO, Ag:ITO와 같은 투명 도전성 산화물에 의한 투명층으로 형성될 수 있다. 한편, 상기 제1전극(120)이 금속층으로 형성되는 경우에, 제2전극(140)은 투명층으로 형성된다. 상기 제1전극(120)이 투명층으로 형성되는 경우에, 제2전극(140)은 금속층으로 형성되며 빛을 반사하는 반사층으로 형성될 수 있다.
또한, 상기 제2전극(140)은 형광층(130)과 대향하는 면에 전도성 폴리머로 형성되는 전도층(도면에 도시하지 않음)을 더 포함할 수 있다. 상기 전도층은 폴리피롤, 폴리아닐린, 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜), 폴리아세틸렌, 폴리(p-페닐렌), 폴리티오펜, 폴리(p-페닐렌 비닐렌) 및 폴리(티에닐렌 비닐렌)로 구성된 그룹으로부터 선택된 폴리머로 형성될 수 있다. 상기 전도층은 제2전극(140)과 형광층(130)의 전기적 결합을 증가시키게 된다.
상기 제1절연층(150)은 제1전극(120)과 형광층(130) 사이에 박막으로 형성될 수 있다. 상기 제1절연층(150)은 무기 발광 소자(100)의 구동 방식에 따라 선택적으로 형성된다. 상기 제1절연층(150)은 무기 재료, 유기 재료 또는 무기 재료와 유기 재료의 복합재료로 형성될 수 있다. 보다 구체적으로는 상기 제1절연층(150)은 무기 재료로 실리콘 나이트라이드와 같은 실리콘 질화막, 실리콘 산화물, 산화물계열의 절연체 또는 유기 절연체등으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 제1절연층(150)은 유기 재료로 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에릴렌나프탈레이트(PEN), 폴리이미드와 같은 폴리머 재질로 형성될 수 있다. 상기 제1절연층(150)은 제1전극(120) 방향이 화소 표시 방향으로 형성되는 경우에는 투명한 재질로 형성된다.
상기 제2절연층(160)은 제2전극(140)과 형광층(130) 사이에 박막으로 형성될 수 있다. 상기 제2절연층(160)은 무기 발광 소자(100)의 구동 방식에 따라 선택적으로 형성된다. 상기 제2절연층(160)은 제2전극(140)과 형광층(130)을 전기적으로 절연시키게 된다. 상기 제2절연층(160)은 제1절연층(150)과 동일한 재료로 형성될 수 있다. 또한, 상기 제2절연층(160)은 제2전극(140) 방향이 화소 표시 방향으로 형성되는 경우에 투명한 재질로 형성될 수 있다.
다음은 본 발명의 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자에 대하여 설명한다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자의 도 2에 대응되는 평면도를 나타낸다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자(200)는, 도 3을 참조하면, 제1전극(120)과 형광층(230) 및 제2전극(140)을 포함하여 형성된다. 또한, 상기 무기 발광 소자(200)는 제1전극(120)의 하부에 형성되는 기판(110), 제1전극(120)과 형광층(230) 사이에 형성되는 제1절연층(150) 및 제2전극(140)과 형광층(230) 사이에 형성되는 제2절연층(160)을 더 포함하여 형성될 수 있다. 한편, 상기 제1절연층(150)과 제2절연층(160)은 어느 한 층만이 형성될 수 있으며, 두 층 모두 형성될 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자(200)는 도 1과 도 2의 실시예에 따른 무기 발광 소자(100)에 대비하여 형광층(230)의 구조만 다르게 형성되며 다른 구성요소는 동일 또는 유사하게 형성된다. 따라서, 이하에서 본 발명의 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자(200)는 형광층(230)을 중심으로 설명한다. 또한, 상기 무기 발광 소자(200)는 도 1과 도 2에 따른 무기 발광 소자(100)와 동일 또는 유사한 부분은 동일한 도면부호를 사용하며, 여기서 상세한 설명을 생략한다.
상기 형광층(230)은 복수의 나노와이어(230a)가 코팅방식에 의하여 코팅되어 박막층으로 형성된다. 또한, 상기 나노와이어(230a)는 무기 발광 재료로 형성된다. 상기 무기 발광 재료는 상기에서 설명한 바 있으므로 여기서 상세한 설명은 생략한다.
상기 나노와이어(230a)는 무기 발광 소자(200)의 길이 또는 폭에 상응되는 길이로 형성될 수 있다. 즉, 상기 나노와이어(230a)는 무기 발광 소자(200)를 구성하는 제1전극(120)의 길이 또는 폭에 대응되는 길이로 형성될 수 있다. 또한, 상기 나노와이어(230a)는 제1전극(120)의 상면에 평행한 방향으로 배치된다. 즉, 상기 나노와이어(230a)는 제1전극(120)의 상면에서 따라 제1전극(120)의 일측으로부터 타측으로 가로지르도록 형성된다. 이때, 상기 나노와이어(230a)는 제1전극(120)의 일측에서 타측으로 배열되면서 서로 엇갈리게 배치되도록 형성될 수 있다. 더 나아가, 상기 나노와이어(230a)은 제1전극(120)의 상부에서 제1전극(120)의 평면과 평행하면서 불규칙한 방향으로 배열되어 형성될 수 있다. 따라서, 상기 형광층(230)은 나노와이어가 서로 평행하게 형성되는 경우에 비하여 상대적으로 용이하게 형성될 수 있다. 특히, 상기 나노와이어(230a)가 복수층으로 형성되는 경우에, 서로 다른 층의 나노와이어(230a)를 서로 평행하게 형성할 필요가 없게 된다. 또한, 상기 나노와이어(230a)가 서로 엇갈리게 배치되어 형광층(230)의 강도를 증가시키게 되므로, 상기 형광층(230)에 나노와이어(230a) 및 제1전극(120)의 평면과 수직 방향인 방향으로 압력이 인가되는 경우에도 무기 발광 소자(200)가 굴곡되는 것을 방지하게 된다.
또한, 상기 형광층(230)은 나노와이어(230a)의 사이에 형성되는 공간을 포함하는 형광층(230)의 상부에 형성되는 평탄화층(235)이 형성될 수 있다.
다음은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자에 대하여 설명한다.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자의 도 2에 대응되는 평면도를 나타낸다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자(300)는, 도 4를 참조하면, 제1전극(120)과 형광층(330) 및 제2전극(140)을 포함하여 형성된다. 또한, 상기 무기 발광 소자(300)는 제1전극(120)의 하부에 형성되는 기판(110), 제1전극(120)과 형광층(330) 사이에 형성되는 제1절연층(150) 및 제2전극(140)과 형광층(330) 사이에 형성되는 제2절연층(160)을 더 포함하여 형성될 수 있다. 한편, 상기 제1절연층(150)과 제2절연층(160)은 어느 한 층만이 형성될 수 있으며, 두 층 모두 형성될 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자(300)는 도 1과 도 2의 실시예에 따른 무기 발광 소자(100)에 대비하여 형광층(330)의 구조만 다르게 형성되며 다른 구성요소는 동일하게 형성된다. 따라서, 이하에서 본 발명의 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자(200)는 형광층(330)을 중심으로 설명한다. 또한, 상기 무기 발광 소자(300)는 도 1과 도 2에 따른 무기 발광 소자(100)와 동일 또는 유사한 부분은 동일한 도면부호를 사용하며, 여기서 상세한 설명을 생략한다.
상기 형광층(330)은 복수의 나노와이어(330a)가 코팅방식에 의하여 코팅되어 박막층으로 형성된다. 또한, 상기 나노와이어(330a)는 무기 발광 재료로 형성된다.
상기 나노와이어(330a)는 무기 발광 소자(300)의 길이 또는 폭보다 짧은 길이로 형성될 수 있다. 즉, 상기 나노와이어(330a)는 무기 발광 소자(300)를 구성하는 제1전극(120)의 길이 또는 폭보다 짧은 길이로 형성될 수 있다. 따라서, 상기 나노와이어(330a)는 형광층(330)의 내부에서 서로 연결되면서 랜덤한 방향으로 배열되도록 형성된다. 즉, 상기 나노와이어(330a)는 형광층(330)의 내부에서 랜덤 네트워크를 형성하게 된다. 따라서, 상기 형광층(330)은 나노와이어(330a)가 단위 셀의 길이 또는 폭에 상응하는 길이로 형성되는 경우에 비하여 상대적으로 용이하게 형성될 수 있다. 또한, 상기 형광층(330)은 나노와이어(330a)의 길이가 짧아 나노와이어(330a)가 일방향으로 배열될 필요가 없으므로 랜덤 분산 방법에 의하여 형성될 수 있다. 또한, 상기 형광층(330)이 나노와이어와 유기물의 혼합물인 나노 혼합물의 코팅에 의하여 형성되는 경우에도, 나노와이어(330a)는 길이가 상대적으로 짧게 되므로 스핀코팅, 잉크젯 방법 또는 실크스크린 방법과 같은 방법의 적용이 용이하게 된다. 또한, 상기 나노와이어(330a)가 서로 엇갈리게 배치되어 형광층(330)의 강도를 증가시키게 되므로, 상기 형광층(330)에 제1전극(120)의 평면과 수직 방향인 방향으로 압력이 인가되는 경우에 무기 발광 소자(300)가 굴곡되는 것을 방지하게 된다.
또한, 상기 형광층(330)은 나노와이어(330a)의 사이에 형성되는 공간을 포함하는 형광층(330)의 상부에 형성되는 평탄화층(335)이 형성될 수 있다.
다음은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자에 대하여 설명한다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자의 개략적인 수직 단면도를 나타낸다. 도 6은 도 5의 B-B에 대한 개략적인 평면도를 나타낸다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자(400)는, 도 5와 도 6을 참조하면, 제1전극(120)과 형광층(430) 및 제2전극(140)을 포함하여 형성된다. 또한, 상기 무기 발광 소자(400)는 제1전극(120)의 하부에 형성되는 기판(110)을 더 포함하여 형성될 수 있다. 또한, 상기 무기 발광 소자(400)는 제1전극(120)과 형광층(430) 사이에 형성되는 제1절연층(150)과 제2전극(140)과 형광층(430) 사이에 형성되는 제2절연층(160)을 더 포함하여 형성될 수 있다. 한편, 상기 제1절연층(150)과 제2절연층(160)은 어느 한 층만이 형성될 수 있으며, 두 층 모두 형성될 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자(400)는 도 1과 도 2의 실시예에 따른 무기 발광 소자(100)와 대비하여 형광층(430)이 제1전극(120)의 상면을 기준으로 수직 방향으로 90도 회전된 구조와 유사한 구조로 형성된다. 즉, 상기 무기 발광 소자(400)는 판상으로 형성되는 제1전극(120)의 상부 방향으로 배열되는 나노와이어(430a)에 의한 형광층(430) 및 제2전극(140)이 순차적으로 적층되어 형성되는 구조이다.
또한, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자(400)는 도 1과 도 2의 실시예에 따른 무기 발광 소자(100)와 형광층(430)의 구조만 다르게 형성되며 다른 구성요소는 동일하게 형성된다. 따라서, 이하에서 본 발명의 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자(400)는 형광층(430)을 중심으로 설명한다. 또한, 상기 무기 발광 소자(400)는 도 1과 도 2에 따른 무기 발광 소자(100)와 동일 또는 유사한 부분은 동일한 도면부호를 사용하며, 여기서 상세한 설명을 생략한다.
상기 형광층(430)은 복수의 나노와이어(430a)가 코팅방식에 의하여 코팅되어 형성된다. 또한, 상기 나노와이어(430a)는 무기 발광 재료로 형성된다. 상기 형광층(430)은 바람직하게는 1nm 내지 10um의 두께로 형성될 수 있다. 또한, 상기 형광층(430)의 두께는 나노와이어(430a)의 밀도에 따라 조절될 수 있다.
상기 나노와이어(430a)는 제1전극(120)과 제2전극(140)의 이격 거리에 상응하는 길이로 형성될 수 있다. 한편, 상기 무기 발광 소자(400)가 제1절연층(150)과 제2절연층(160)을 포함하는 경우에 상기 나노와이어(430a)는 제1절연층(150)과 제2절연층(160) 사이의 이격 거리에 상응하는 길이로 형성될 수 있다. 상기 나노와이어(430a)는 제1전극(120)의 상면과 수직한 방향으로 배치된다. 즉, 상기 나노와이어(130a)는 제1전극(120)에서 제2전극(140) 방향으로 수직하게 배열되어 형성될 수 있다. 또한, 상기 나노와이어(430a)는 단위 셀의 내부에서 서로 평행하게 배치되어 형성될 수 있다. 또한, 상기 나노와이어(430a)는 제1전극(120)의 상부 방향으로 배열되면서 서로 엇갈리게 형성될 수 있다.
또한, 상기 형광층(430)은 나노와이어(430a)의 사이에 형성되는 공간을 충진하는 평탄화층(435)이 형성될 수 있다.
다음은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자에 대하여 설명한다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자의 도 5에 대응되는 개략적인 수직 단면도를 나타낸다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자(500)는, 도 7을 참조하면, 제1전극(120)과 형광층(530) 및 제2전극(140)을 포함하여 형성된다. 또한, 상기 무기 발광 소자(500)는 제1전극(120)의 하부에 형성되는 기판(110), 제1전극(120)과 형광층(530) 사이에 형성되는 제1절연층(150) 및 제2전극(140)과 형광층(530) 사이에 형성되는 제2절연층(160)을 더 포함하여 형성될 수 있다. 한편, 상기 제1절연층(150)과 제2절연층(160)은 어느 한 층만이 형성될 수 있으며, 두 층 모두 형성될 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자(500)는 도 5와 도 6의 실시예에 따른 무기 발광 소자(400)에 대비하여 형광층(530)의 구조만 다르게 형성되며 다른 구성요소는 동일하게 형성된다. 따라서, 이하에서 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자(500)는 형광층(530)을 중심으로 설명한다. 또한, 상기 무기 발광 소자(500)는 5와 도 6에 따른 무기 발광 소자(400)와 동일 또는 유사한 부분은 동일한 도면부호를 사용하며, 여기서 상세한 설명을 생략한다.
상기 형광층(530)은 복수의 나노와이어(530a)가 코팅방식에 의하여 코팅되어 형성된다. 또한, 상기 나노와이어(530a)는 무기 발광 재료로 형성된다.
상기 나노와이어(530a)는 제1전극(120)과 제2전극(140) 사이의 이격 거리보다 짧은 길이로 형성될 수 있다. 따라서, 상기 나노와이어(530a)는 형광층(530)의 내부에서 서로 연결되면서 랜덤한 방향으로 배열되도록 형성된다. 즉, 상기 나노와이어(530a)는 형광층(530)의 내부에서 랜덤 네트워크를 형성하게 된다. 따라서, 상기 형광층(530)은 나노와이어가 제1전극(120)과 제2전극(140) 사이의 이격 거리에 상응하는 길이로 형성되는 경우에 비하여 상대적으로 용이하게 형성될 수 있다. 또한, 상기 형광층(530)은 나노와이어(530a)의 길이가 짧아 나노와이어(530a)가 일방향으로 배열될 필요가 없으므로 랜덤 분산 방법에 의하여 형성될 수 있다. 또한, 상기 형광층(530)이 나노와이어와 유기물의 혼합물인 나노 혼합물의 코팅에 의하여 형성되는 경우에도, 나노와이어(530a)는 길이가 상대적으로 짧게 되므로 스핀 코팅, 잉크젯 방법 또는 실크 스크린 방법과 같은 방법의 적용이 용이하게 된다.
또한, 상기 형광층(530)은 나노와이어(530a)의 사이에 형성되는 공간을 충진하는 평탄화층(535)이 형성될 수 있다.
다음은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자에 대하여 설명한다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자의 개략적인 평면도를 나타낸다. 도 9는 도 8의 C-C에 대한 개략적인 수직 단면도를 나타낸다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자(600)는, 도 8과 도 9를 참조하면, 절연기판(610)과 제1전극(620)과 형광층(630) 및 제2전극(640)을 포함하여 형성된다. 또한, 상기 무기 발광 소자(600)는 그 구동 방식에 따라 절연기판(610)의 상면에서 제1전극(620)과 형광층(630) 사이에 형성되는 제1절연층(650)과 제2전극(640)과 형광층(630) 사이에 형성되는 제2절연층(660)을 더 포함하여 형성될 수 있다. 한편, 상기 제1절연층(650)과 제2절연층(660)은 어느 한 층만이 형성될 수 있으며, 두 층 모두 형성될 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자(600)는 절연기판(610)의 상면에서 제1전극(620)과 제2전극(640)이 서로 이격되어 격벽구조로 형성되며 그 사이에 형광층(630)이 형성된다. 따라서, 상기 무기 발광 소자(600)는 기존의 PDP의 방전셀 구조와 유사하게 형성된다.
상기 무기 발광 소자(600)는 제1전극(620)과 제2전극(640)을 투명 도전층으로 형성할 필요가 없게 되므로 발광 효율을 증가시킬 수 있게 된다. 또한, 상기 무기 발광 소자(600)는 형광층(630)이 외부로 직접 발광을 하는 구조이므로 전체적으로 발광 휘도가 증가하게 된다.
상기 절연기판(610)은 도 1과 도 2에 따른 실시예의 기판(110)과 동일 또는 유사하게 형성되므로 여기서 상세한 설명은 생략한다.
상기 제1전극(620)은 바 형상으로 형성되며, 절연기판(610)의 상부에서 절연기판(610)의 일측에 배열되도록 형성된다. 이때, 상기 제1전극(620)은 형광층(630)의 면적을 증가시키기 위하여 폭이 길이보다 작게 형성된다.
상기 제1전극(620)은 영상이 표시되는 영역에 형성되지 않으므로 전기 전도도가 높은 알루미늄(Al), 알루미늄:네오듐(Al:Nd), 은(Ag)주석(Sn), 텅스텐(W), 금(Au), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 니켈(Ni), 티타늄(Ti)과 같은 금속층으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 제1전극(620)은 인듐주석 산화물(Indium Tin Oxide:ITO), 인듐아연산화물(Indium Zinc Oxide:IZO), 불소도핑 주석산화물(F-doped Tin Oxide:FTO), 산화아연(Zinc Oxide), Ca:ITO, Ag:ITO와 같은 투명 도전성 산화물에 의한 투명층으로 형성될 수 있다.
상기 형광층(630)은 절연기판(610)의 상부에서 제1전극(620)과 제2전극(640) 사이에 나노와이어(630a)가 코팅방식에 의하여 코팅되어 형성된다. 즉, 상기 나노와이어(630a)는 제1전극(640)과 제2전극(630) 사이의 이격 거리에 상응하는 길이로 형성된다. 따라서, 상기 나노와이어(630a)는 제1전극(640) 및 제2전극(630)과 전기적으로 연결되도록 형성된다. 상기 형광층(630)은 도 1 내지 도 2에 따른 실시예의 형광층(130)과 동일 또는 유사하게 형성되며, 여기서 상세한 설명은 생략한다.
또한, 상기 형광층(630)은 나노와이어(630a)의 사이에 형성되는 공간을 포함하는 형광층(630)의 영역에 형성되는 평탄화층(635)이 형성될 수 있다.
상기 제2전극(640)은 바 형상으로 형성되며, 절연기판(610)의 상부에서 절연기판(610)의 타측에 제1전극(620)과 이격되어 배열되도록 형성된다. 상기 제2전극(640)은 제1전극과 서로 이격되어 형성되면서 형광층(630)을 형성하기 위한 격벽을 형성하게 된다. 또한, 상기 제2전극(640)은 제1전극(620)과 마찬가지로 형광층(630)의 면적을 증가시키기 위하여 폭이 길이보다 작게 형성된다. 상기 제2전극(640)은 제1전극(620)과 동일 또는 유사한 재질로 형성되며, 여기서 상세한 설명은 생략한다.
상기 제1절연층(650)은 절연기판(610)의 상부에서 제1전극(620)과 형광층(630) 사이에 형성된다. 상기 제1절연층(650)은 도 1 내지 도 2에 따른 실시예의 제1절연층(150)과 동일 또는 유사한 재질로 형성되며 여기서 상세한 설명은 생략한다. 다만, 상기 제1절연층(650)은 도 1 내지 도 2에 따른 실시예의 제1절연층(150)과 달리 반드시 투명 재질로 형성될 필요가 없게 된다.
상기 제2절연층(660)은 절연기판(610)의 상부에서 제2전극(620)과 형광층(630) 사이에 형성된다. 상기 제2절연층(660)은 제1절연층(650)과 동일 또는 유사한 재질로 형성된다. 또한, 상기 제2절연층(660)도 제1절연층(650)과 마찬가지로 투명한 재질로 형성될 필요가 없게 된다.
다음은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자에 대하여 설명한다.
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자의 도 8에 대응되는 개략적인 평면도를 나타낸다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자(700)는, 도 10을 참조하면, 절연기판(610)과 제1전극(620)과 형광층(730) 및 제2전극(640)을 포함하여 형성된다. 또한, 상기 무기 발광 소자(700)는 절연기판(610)의 상면에서 제1전극(620)과 형광층(730) 사이에 형성되는 제1절연층(650)과 제2전극(640)과 형광층(730) 사이에 형성되는 제2절연층(660)을 더 포함하여 형성될 수 있다. 한편, 상기 제1절연층(650)과 제2절연층(660)은 어느 한 층만이 형성될 수 있으며, 두 층 모두 형성될 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자(700)는 도 8과 도 9의 실시예에 따른 무기 발광 소자(600)에 대비하여 형광층(730)의 구조만 다르게 형성되며 다른 구성요소는 동일 또는 유사하게 형성된다. 따라서, 이하에서 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자(700)는 형광층(730)을 중심으로 설명한다. 또한, 상기 무기 발광 소자(700)는 도 8과 도 9에 따른 무기 발광 소자(600)와 동일 또는 유사한 부분은 동일한 도면부호를 사용하며, 여기서 상세한 설명을 생략한다.
상기 형광층(730)은 복수의 나노와이어(730a)가 코팅 방식에 의하여 코팅되어 박막층으로 형성된다. 또한, 상기 나노와이어(730a)는 무기 발광 재료로 형성된다.
상기 형광층(730)은 도 3에 의한 실시예의 형광층(230)과 동일 또는 유사하게 형성된다. 즉, 상기 나노와이어(730a)는 제1전극(620)과 제2전극(640) 사이의 이격 거리에 상응하는 길이로 형성되며, 절연기판(610)의 상면과 평행한 방향으로 배열되면서 서로 엇갈리게 형성될 수 있다. 상기 형광층(730)의 재질에 대한 상세한 설명은 여기서 생략한다.
또한, 상기 형광층(730)은 나노와이어(730a)의 사이에 형성되는 공간을 충진하는 평탄화층(735)이 형성될 수 있다.
다음은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자에 대하여 설명한다.
도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자의 도 8에 대응되는 개략적인 평면도를 나타낸다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자(800)는, 도 11을 참조하면, 절연기판(610)과 제1전극(620)과 형광층(830) 및 제2전극(640)을 포함하여 형성된다. 또한, 상기 무기 발광 소자(800)는 절연기판(610)의 상면에서 제1전극(620)과 형광층(830) 사이에 형성되는 제1절연층(650)과 제2전극(640)과 형광층(830) 사이에 형성되는 제2절연층(660)을 더 포함하여 형성될 수 있다. 한편, 상기 제1절연층(650)과 제2절연층(660)은 어느 한 층만이 형성될 수 있으며, 두 층 모두 형성될 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자(800)는 도 8과 도 9의 실시예에 따른 무기 발광 소자(600)에 대비하여 형광층(830)의 구조만 다르게 형성되며 다른 구성요소는 동일 또는 유사하게 형성된다. 따라서, 이하에서 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자(800)는 형광층(830)을 중심으로 설명한다. 또한, 상기 무기 발광 소자(800)는 도 8과 도 9에 따른 무기 발광 소자(600)와 동일 또는 유사한 부분은 동일한 도면부호를 사용하며, 여기서 상세한 설명을 생략한다.
상기 형광층(830)은 복수의 나노와이어(830a)가 코팅방식에 의하여 코팅되어 박막층으로 형성된다. 또한, 상기 나노와이어(830a)는 무기 발광 재료로 형성된다.
상기 형광층(830)은 도 4에 의한 실시예의 형광층(330)과 동일 또는 유사하게 형성된다. 즉, 상기 나노와이어(830a)는 무기 발광 소자(800)를 구성하는 단위 셀의 길이 또는 폭보다 짧은 길이로 형성될 수 있다. 즉, 상기 나노와이어(830a)는 제1전극(620)과 제2전극(640) 사이의 이격 거리보다 짧은 길이로 형성될 수 있다. 따라서, 상기 나노와이어(830a)는 형광층(830)의 내부에서 랜덤 네트워크를 형성하게 된다. 상기 형광층(830)에 대한 상세한 설명은 여기서 생략한다.
또한, 상기 형광층(830)은 나노와이어(830a)의 사이에 형성되는 공간을 충진하는 평탄화층(835)이 형성될 수 있다.
다음은 본 발명에 따른 무기 발광 소자에 대하여 보다 구체적인 실시예를 통하여 보다 구체적으로 설명한다.
먼저 본 발명의 일 실시예에 따른 무기 발광 소자의 형광층에 대하여 설명한다.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 무기 발광 소자의 형광층에 대한 주사 전자 현미경 사진을 나타낸다. 도 13은 도 12의 형광층에 대한 PL 패턴을 나타낸다. 도 14는 도 12의 형광층에 대한 CL 이미지를 나타낸다.
본 발명의 실시예에 따른 무기 발광 소자의 형광층은 ZnS:Te의 형광체로 이루어진 나노와이어를 유기물과 혼합하여 기판의 표면에 코팅하여 형성하였다. 이때, 상기 형광층은 도 4의 실시예에 따른 무기 발광 소자의 형광층 구조를 갖도록 형성하였다. 또한, 상기 형광층은, 도 12를 참조하면, 다수의 나노와이어가 랜덤하게 배열되면서 네트워크를 형성하고 있는 것을 볼 수 있다. 또한, 상기 형광층은, 도 13의 PL(PhotoLuminescence) 패턴을 참조하면, 450nm 영역의 청색 파장 영역에서 피크가 관찰되고 있다. 또한, 상기 형광층은, 도 14의 CL(CathodeLuminescence) 이미지를 참조하면, 청색 이미지가 형성되고 있음을 알 수 있다. 따라서, 상기 형광층은 청색 형광층으로 형성되고 있음을 알 수 있다.
다음은 본 발명의 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자의 형광층에 대하여 설명한다.
도 15는 본 발명의 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자의 형광층에 대한 주사 전자 현미경 사진을 나타낸다. 도 16은 도 15의 형광층에 대한 PL 패턴을 나타낸다. 도 17은 도 15의 형광층에 대한 CL 이미지를 나타낸다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 무기 발광 소자의 형광층은 ZnS:Eu의 형광체로 이루어진 나노와이어를 유기물과 혼합하여 기판의 표면에 코팅하여 형성하였다. 이때, 상기 형광층은 도 4의 실시예에 따른 무기 발광 소자의 형광층 구조를 갖도록 형성하였다. 또한, 상기 형광층은, 도 15를 참조하면, 다수의 나노와이어가 랜덤하게 배열되면서 네트워크를 형성하고 있는 것을 볼 수 있다. 또한, 상기 형광층은, 도 16의 PL(PhotoLuminescence) 패턴을 참조하면, 500nm 영역의 녹색 파장 영역에서 피크가 관찰되고 있다. 또한, 상기 형광층은, 도 14의 CL(CathodeLuminescence) 이미지를 참조하면, 녹색 이미지가 형성되고 있음을 알 수 있다. 따라서, 상기 형광층은 녹색 형광층으로 형성되고 있음을 알 수 있다.
다음은 본 발명의 실시예에 따른 무기 발광 소자가 사용되는 평판 디스플레이 장치에 대하여 간략하게 설명한다.
도 18은 본 발명의 실시예에 따른 무기 발광 소자가 사용된 평판 디스플레이 장치의 단위 픽셀에 대한 구조도이다.
본 발명의 실시예에 따른 무기 발광 소자가 사용되는 평판 디스플레이 장치는, 도 18을 참조하면, 적색과 청색 및 녹색을 각각 발광하는 3개의 무기 발광 소자가 단위 픽셀을 이루도록 형성된다. 또한, 상기 평판 디스플레이 장치는 기판의 상면에 제1전극인 캐소드 전극과 제2전극인 애노드 전극이 형성되며, 캐소드 전극과 애노드 전극 사이에 나노와이어에 의한 형광층이 형성된다. 또한, 상기 평판 디스플레이 장치는 캐소드 전극과 애노드 전극의 하부에 형성되는 scan 라인과 data 라인 및 VDD라인이 형성된다. 또한, 상기 평판 디스플레이 장치는 scan 라인, data 라인 및 VDD 라인과 전기적으로 연결되는 switching TFT와 driving TFT를 포함하여 형성된다. 상기 평판 디스플레이 장치는 상기와 같은 다양한 라인과 TFT를 포함하며, 구동 방식에 의하여 전기적인 연결관계가 설정될 될 수 있다. 또한, 상기 평판 디스플레이 장치는 OLED와 유사한 방식으로 라인과 TFT가 형성되어 구동될 수 있다.
상기 캐소드 전극과 애노드 전극은 기판의 일 방향으로 연장되어 형성되며, 연장 방향과 수직한 방향인 이격 방향으로 서로 이격되어 형성된다. 상기 형광층은 다수의 나노와이어가 캐소드 전극과 애노드 전극 사이에서 이격 방향과 평행한 방향으로 배열되어 형성될 수 있다. 따라서, 상기 캐소드 전극과 애노드 전극에 전압이 인가되는 경우에, 형광층은 나노와이어를 이루는 형광체의 물질에 따라 적색, 청색 또는 녹색을 구현하게 된다.
한편, 상기 평판 디스플레이 장치는, 별도로 도시하지 않았지만, 상기에서
설명한 다양한 형태의 무기 발광 소자에 의하여 단위 픽셀이 형성될 수 있다.

Claims (21)

  1. 제1전극과
    상기 제1전극의 상부에 형성되며, 무기 발광 재료로 형성되는 복수의 나노와이어를 포함하는 형광층 및
    상기 형광층의 상부에 형성되는 제2전극을 포함하며,
    상기 형광층은 복수의 나노와이어가 코팅되어 형성되는 것을 특징으로 하는 무기 발광 소자.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 형광층은 상기 복수의 나노와이어가 분산된 극성 용매를 적하시킨 후 전기장을 인가하는 전계에 의한 분산, 랜덤 분산 또는 일렬 배열 방법에 의하여 코팅되어 형성되는 것을 특징으로 하는 무기 발광 소자.
  3. 제 1항에 있어서
    상기 형광층은 상기 복수의 나노와이어와 유기물의 나노 혼합물이 코팅되어 형성되는 것을 특징으로 하는 무기 발광 소자.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 나노 혼합물은 스핀코팅법, 잉크젯 방법, 레이저 전사법, 나노 임플렌테이션법 또는 실크스크린 프린팅법 중에서 선택되는 어느 하나의 방법으로 코팅되는 것을 특징으로 하는 무기 발광 소자.
  5. 제 3항에 있어서,
    상기 유기물은 코팅 후에 가열 과정에서 제거되는 것을 특징으로 하는 무기 발광 소자.
  6. 제 3항에 있어서,
    상기 유기물은 전도성 고분자 수지, 실리콘 수지, 폴리이미드 수지, 요소수지, 아크릴 수지, 광투과 에폭시 수지 및 광투과 실리콘 수지로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 무기 발광 소자.
  7. 제 3항에 있어서,
    상기 유기물은 발광 활성제 또는 나노와이어 분산제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 무기 발광 소자.
  8. 제 1항에 있어서,
    상기 복수의 나노와이어는 상기 제1전극의 상면에 수평한 방향 또는 수직한 방향 또는 상기 제1전극과 제2전극 사이에서 불규칙한 방향으로 배열되어 형성되는 것을 특징으로 하는 무기 발광 소자.
  9. 제 1항에 있어서,
    상기 복수의 나노와이어는 상기 제1전극과 제2전극 사이의 거리보다 짧은 길이로 형성되며, 상기 형광층의 내부에서 랜덤하게 배열되어 서로 연결되어 랜덤 네트워크를 형성하는 것을 무기 발광 소자.
  10. 제 1항에 있어서,
    상기 제1전극과 상기 형광층 사이에 형성되는 제1절연층과
    상기 제2전극과 상기 형광층 사이에 형성되는 제2절연층 중 적어도 어느 하나의 층을 더 포함하며,
    상기 제1절연층과 제2절연층은 유기재료, 무기재료 또는 유기재료와 무기재료의 복합재료로 형성되는 것을 특징으로 하는 무기 발광 소자.
  11. 절연기판과
    상기 절연기판의 상부 일측에 바 형상으로 형성되는 제1전극과
    상기 절연기판의 상부 타측에 상기 제1전극과 이격되어 바 형상으로 형성되는 제2전극 및
    상기 제1전극과 제2전극 사이에 형성되며, 무기 발광 재료로 형성되는 복수의 나노와이어를 포함하는 형광층을 포함하며,
    상기 형광층은 복수의 나노와이어가 코팅되어 형성되는 것을 특징으로 하는 무기 발광 소자.
  12. 제 11항에 있어서,
    상기 형광층은 상기 나노와이어가 분산된 극성 용매를 적하시킨 후 전기장을 인가하는 전계에 의한 분산, 랜덤 분산 또는 일렬 배열 방법에 의하여 코팅되어 형성되는 것을 특징으로 하는 무기 발광 소자.
  13. 제 11항에 있어서
    상기 형광층은 상기 나노와이어와 유기물의 나노 혼합물이 코팅되어 형성되는 것을 특징으로 하는 무기 발광 소자.
  14. 제 11항에 있어서,
    상기 나노 혼합물은 스핀코팅법, 잉크젯 방법, 레이저 전사법, 나노 임플렌테이션법 또는 실크스크린 프린팅법 중에서 선택되는 어느 하나의 방법으로 코팅되는 것을 특징으로 하는 무기 발광 소자.
  15. 제 11항에 있어서,
    상기 유기물은 코팅 후에 가열 과정에서 제거되는 것을 특징으로 하는 무기 발광 소자.
  16. 제 13항에 있어서,
    상기 유기물은 전도성 고분자 수지, 실리콘 수지, 폴리이미드 수지, 요소수지, 아크릴 수지, 광투과 에폭시 수지 및 광투과 실리콘 수지로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 무기 발광 소자.
  17. 제 13항에 있어서,
    상기 유기물은 발광 활성제 또는 나노와이어 분산제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 무기 발광 소자.
  18. 제 11항에 있어서,
    상기 복수의 나노와이어는 상기 절연기판의 상면에 수평한 방향 또는 상기 제1전극과 제2전극 사이에서 불규칙한 방향으로 배열되어 형성되는 것을 특징으로 하는 무기 발광 소자.
  19. 제 11항에 있어서,
    상기 복수의 나노와이어는 상기 제1전극과 제2전극 사이의 거리보다 짧은 길이로 형성되며, 상기 형광층의 내부에서 랜덤하게 배열되어 서로 연결되어 랜덤 네트워크를 형성하는 것을 무기 발광 소자.
  20. 제 11항에 있어서,
    상기 제1전극과 상기 형광층 사이에 형성되는 제1절연층과
    상기 제2전극과 상기 형광층 사이에 형성되는 제2절연층 중 적어도 어느 하나의 층을 더 포함하며,
    상기 제1절연층과 제2절연층은 유기재료, 무기재료 또는 유기재료와 무기재료의 복합재료로 형성되는 것을 특징으로 하는 무기 발광 소자.
  21. 제 1항 또는 제 11항에 있어서,
    상기 무기 발광 재료는 적색 형광체로서 CaS:Eu(Host:dopant), ZnS:Sm, ZnS:Mn, Y2O2S:Eu, Y2O2S:Eu,Bi, Gd2O3:Eu, (Sr,Ca,Ba,Mg)P2O7:Eu,Mn, CaLa2S4:Ce; SrY2S4: Eu, (Ca,Sr)S:Eu, SrS:Eu, Y2O3:Eu, YVO4:Eu,Bi로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 혼합물로 형성되며,
    녹색 형광체로서 ZnS:Tb(Host:dopant), ZnS:Ce,Cl, ZnS:Cu,Al, ZnS:Eu, Gd2O2S:Tb, Gd2O3:Tb,Zn, Y2O3: Tb,Zn, SrGa2S4:Eu, Y2SiO5:Tb, Y2Si2O7:Tb, Y2O2S:Tb, ZnO:Ag, ZnO:Cu,Ga, CdS:Mn, BaMgAl10O17:Eu,Mn, (Sr,Ca,Ba)(Al,Ga)2S4:Eu, Ca8Mg(SiO4)4Cl2:Eu,Mn, YBO3:Ce,Tb, Ba2SiO4:Eu, (Ba,Sr)2SiO4:Eu, Ba2(Mg,Zn)Si2O7:Eu, (Ba,Sr)Al2O4:Eu, Sr2Si3O8.2SrCl2:Eu로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 혼합물로 형성되며,
    청색 형광체로서 GaN:Mg,Si(Host:dopant), GaN:Zn,Si, SrS:Ce, SrS:Cu, ZnS:Tm, ZnS:Ag,Cl, ZnS:Te, Zn2SiO4:Mn, YSiO5:Ce, (Sr,Mg,Ca)10(PO4)6Cl2:Eu, BaMgAl10O17:Eu, BaMg2Al16O27:Eu로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 또는 이들의 혼합물로 형성되는 것을 특징으로 하는 무기 발광 소자.
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