WO2009146683A2 - Wärmeübertragungsvorrichtung mit wenigstens einem halbleiterbauelement, insbesondere einem laser- oder leuchtdiodenelement, und verfahren zu seiner montage - Google Patents

Wärmeübertragungsvorrichtung mit wenigstens einem halbleiterbauelement, insbesondere einem laser- oder leuchtdiodenelement, und verfahren zu seiner montage Download PDF

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Definitions

  • Heat transfer device with at least one semiconductor component, in particular a laser or light-emitting diode element, and method for its assembly
  • the invention relates to a heat transfer device having at least one semiconductor component, in particular a laser or light-emitting diode element, according to the preamble of claim 1 and a method for its assembly.
  • the highly thermally conductive intermediate member disposed between the heat transfer portions of the heat conduction bodies Preferably should have the same thickness as the laser diode bar between its two for heat dissipation of heat receiving portions of the heat conducting contacted sides, so that the thickness of the joining zones between the laser bar and the heat receiving portions of the heat conducting on the one hand and between the intermediate member and the heat transfer sections of the heat conducting on the other hand on the one hand the same and on the other Extension of each joining zone can be kept constant.
  • a constant, consistent and in particular small joining zone thickness is essential, in particular, for contacting the laser diode bar, in order to ensure consistent quality and reliability of the diode laser, which is thermally and electrically and optically highly loaded.
  • the thickness of laser diode bars is different both within one lot and between several lots. The same applies to the intermediate elements.
  • a reproducible alignment of the thicknesses of laser diode bars and intermediate elements to less than 2 ⁇ m difference is either complicated in terms of production engineering or accompanied by a time-consuming selection and assignment process.
  • the object of the invention is therefore to describe a heat transfer device with a semiconductor device, which excludes the mentioned disadvantages.
  • the object of the invention in the continuous production process of diode lasers is to ensure a constant and substantially constant thickness of the joining zones between the laser diode bars and the heat-absorbing heat-conducting bodies. At the same time it is an object of the invention to allow a good heat transfer from one heat-conducting body to the other.
  • the object is achieved by a heat transfer device with at least one
  • Semiconductor component in particular a laser or light-emitting diode element, with the characterizing features of claim 1 and a method for its assembly according to claim 15.
  • the arranged between the support portions spacer is inventively seen from the semiconductor element beyond the heat transfer sections. It takes on a compound of the heat conducting body with each other and / or the connection of at least one heat conducting body with the semiconductor device on a portion of the compressive force exerted by one on the other heat conducting during assembly, and are between the support sections, the distance of the heat conducting body from each other. Due to its preferably large distance from the semiconductor component, this distance does not have to correspond exactly to the thickness of the semiconductor component plus the first and second joining zones, and the angular error caused by a corresponding deviation remains so small that a variation in the thickness of the first and second joining zones caused by angular errors lies in the negligible range.
  • the thickness of the spacer, or the distance of the support points, the layers of opposing support surfaces of the support sections with respect to the heat input surfaces and the thickness of the semiconductor device adapted such that a thickness variation of any of the first and second joining zones can be more than +/- 50% , Specified on support and heat entry surfaces which are arranged coplanar on each of the two heat conduction bodies on a common axis oriented in a preferred direction, on a parallelepiped semiconductor component and on two equally thick first and second joining zones of the average thickness d, the distance of the support points ( the thickness of the spacer) at a distance in the preferred direction from the center of the semiconductor device, which corresponds to p times the expansion of the semiconductor device in the preferred direction, preferably by not more than +/- 2d - (p-1) from the thickness of the semiconductor device.
  • the thickness of the third joining zone between the heat transfer sections is greater than the thicknesses of the first or second joining zone makes the supporting effect of the spacer only possible, otherwise the supporting effect in the area between the heat transfer sections, which is known to be one of the aforementioned Problems and on the other hand undesirably leads to the thickness of the third joining zone determines the thickness of at least one of the first and the second joining zone.
  • the thickness of the first and second joining zones determine those of little importance - namely, the third - as a result of the supporting effect of the spacer during assembly with respect to the first and second joining zones increased thickness of the third joint zone is effected.
  • a joining zone is understood to mean the layer of a solidified joining agent.
  • Joining zone and joint gap differ in that the joining zone contains only joining agent, the joint gap at least one joining zone and optionally further components and joining zones, which together completely bridged the joint gap cohesively.
  • the third joining zone may extend completely over the joint gap, wherein the joint gap is completely and exclusively filled with joining agent.
  • the thickness of the third joining zone can also extend only over a part of the distance between the heat transfer sections, which is predetermined by the joint gap.
  • a fourth joining zone as well as an intermediate body positioned between the third and fourth joining zone may be arranged in the joining gap.
  • joining agents generally have inferior thermal conductivities than solids which can not be used as joining agents, it is advantageous for joining gaps whose thicknesses correspond more than approximately half the thickness of the semiconductor component to such an intermediate body of metal (for example copper), ceramic (for example aluminum nitride) or Crystal (for example, diamond) to use.
  • metal for example copper
  • ceramic for example aluminum nitride
  • Crystal for example, diamond
  • the material bond between the heat transfer sections can be a) after the establishment of the material bond between the semiconductor component and the first and the second heat-conducting body.
  • the material bond between the heat transfer sections can also b) at least temporarily take place together with the establishment of the material bond between the semiconductor device and the second heat conducting body, after the material bond between the semiconductor device and the first heat conducting body has been established - or vice versa.
  • the formation of the material bond between the heat transfer sections at least temporarily take place together with the formation of the cohesive connections of the semiconductor component with two politiciansleit stresses.
  • the spacer ensures at least the joining process in which bothenfinleit emotions are materially interconnected - either by means of the semiconductor device on the first and second joining zone or in the heat transfer sections over the third joining zone - by its supporting effect for a balanced joining zone thickness of those joining zones , in whose production it is involved according to the invention.
  • the thickness of the third joining zone is greater than the thickness of that of the first or second joining zone, which is at least temporarily formed together with the third.
  • the thicknesses of the first and second joining zones are similar and small, for example in the range from 1 micron to about 10 microns with a maximum thickness ratio of two, it is advantageous if the thickness of the third joining zone is greater than the thicknesses of the first and second joining zones the second joint zone - which is greater than the greater thickness of those of the first and the second joint zone.
  • the third joining zone at least in sections, has a greater thickness than the sum of the thicknesses of the first and second joining zones.
  • the invention causes the establishment of an efficient heat dissipation by cohesive bonding of leitschreib sculpture sculpture away from the semiconductor device, which is soldered there with high-quality joining precision for efficient heat dissipation between the heat-conducting body.
  • a spacer during assembly does not necessarily mean that the spacer must remain in place after installation.
  • the heat conduction bodies are metallic at least in the support sections and their respective metallic region is in electrical connection with the corresponding contact surfaces of the semiconductor component, then an electrically conductive, preferably metallic, spacer can be used as a shorting bridge between the metallic support sections which prevent the semiconductor component from electrostatic discharges. ESD) protects.
  • ESD electrostatic discharges.
  • the heat-conducting bodies preferably each have at least one metallic region or consist predominantly or completely of metal or of an electrically conductive carbon-metal composite material, for example diamond-silver.
  • the electrically conductive regions each extend from the support section into the heat receiving section of the heat conducting body and are in electrical connection with the corresponding contact surfaces of the semiconductor device. If mutually facing heat transfer surfaces of the heat transfer section, each part of these electrically conductive areas, so must the connection of the two heat transfer sections an electrical Have insulation - either in the form of an electrically insulating intermediate body or in the form of a joint zone with an electrically insulating compound.
  • the mounting technique according to the invention requires a thickness of the third joint zone of at least the smaller of the thicknesses of the first and the second joint zone.
  • a thickness is required for electrical reasons, which is large enough to reliably ensure the electrical insulation in the production process.
  • the thickness of the third joining zones is greater than the larger ones of the thicknesses of the first and second joining zones; preferably it is even larger than its sum.
  • the spacer should remain in its position after completion of the assembly - for example, because it was fixed in the course or prior to assembly or cohesively to at least one heat-conducting, - when using varnishleitmaschinen whose opposite support surfaces belong to metallic areas that in electrical Connection to the semiconductor device are to use an electrically insulating spacer. In this sense, it is also clear that the spacer must not necessarily be present as a separate component at any time.
  • the spacer is an integral part of at least one of the two heat conducting body and is in shape a survey before, which projects beyond the heat transfer portion out of the support portion in the direction of the semiconductor device.
  • this would at least reduce the number of components used for mounting by one from five to four or from four to three.
  • the electrical contacting of the semiconductor device takes place without the addition of further bodies or components in the heat transfer device by means of the heat conducting body, for which purpose heat entry surfaces lie on metallic areas of the heat receiving sections.
  • both heat conduction bodies are metallic.
  • the connection of the heat conducting body with the contact surfaces is preferably carried out with a metallic solder - for example, gold-tin, indium, etc.
  • the heat conducting body are formed plate-shaped.
  • the thickness of the plates in the direction perpendicular to at least one of the contact surfaces is preferably greater than at least one lateral dimension of the semiconductor component parallel to one or both contact surfaces.
  • the plate thickness is greater than the width of the laser diode directed perpendicular to the light emission direction / cavity length and parallel to the plane of one or both contact surfaces; transferred to laser diode bars, this means that the plate thickness is greater than the resonator length of the laser diode bar.
  • the areal extent of the joining zone is greater than the parallel areal extent of the laser diode element.
  • Fig. 1a is a side view of the components of a first embodiment of the heat transfer device according to the invention
  • 1b is a side view of the first embodiment of the heat transfer device according to the invention
  • FIG. 1a is a side view of the components of a second embodiment of the heat transfer device according to the invention
  • Fig. 1b shows a side view of the second embodiment of the heat transfer device according to the invention.
  • All embodiments represent diode laser devices with a laser diode bar. Nonetheless, they may also represent radiation sources with one or more juxtaposed single or multiple emitter laser diodes or single or multiple emitter diodes or light emitting diode bars.
  • the heat transfer device is also suitable for cooling of semiconductor switching elements, such as high-power transistors, high-power thyristors, etc.
  • the laser diode bar 10 has a first, epitaxial-side contact surface 11 for electrical contacting and a second, substrate-side contact surface 12 opposite the epitaxial-side contact surface.
  • the laser diode bar has a resonator length of 2mm.
  • the operational light emission is indicated by the arrow 15 arranged on an optical axis.
  • an aluminum nitride ceramic plate 40 of 100 ⁇ m thickness is arranged behind the 120 ⁇ m thick laser diode bar. It has mutually opposite epitaxial and substrate side oriented, metallized heat transfer surfaces 41 and 42.
  • a first, epitaxial-side, plate-shaped heat-conducting body 20 consists predominantly of a diamond-silver composite material and has a the epitaxial-side contact surface 11 opposite the heat input surface 21 and a heat transfer surface 22, which faces the epitaxial heat transfer surface 41 of the Aluminiumnitridkeramikplatte 40. Its thickness is 4mm.
  • a second, substrate-side, plate-shaped heat-conducting body 30 also consists predominantly of a diamond-silver composite material and has one of the substrate-side contact surface 12 opposite the heat input surface 31 and a heat transfer surface 32, the Substrate-side heat transfer surface 42 of the aluminum nitride ceramic plate 40 is opposite. Its thickness is also 4mm.
  • the aluminum nitride ceramic plate 40 has a length - that is, an extension in a preferred direction corresponding to the extending direction of the heat conduction bodies 20/30 from the heat receiving portion 25/35 to the support portion 27/37 (in the drawing plane from left to right) - 10mm.
  • the epitaxial-side heat-conducting body 20 is coated in the region of the epitaxial heat input surface 21 and in the region of the epitaxial heat transfer surface 22 with 5 microns gold-tin solder
  • the substrate-side heat-conducting body 30 is coated in the region of the substrate-side heat input surface 31 and in the region of the substrate-side heat transfer surface 32 with 5 microns gold-tin solder.
  • a foil of a gold-tin-solder preform of 25 ⁇ m thickness is introduced between the solder layer on the substrate-side heat transfer surface 32 of the epitaxial heat conduction body 20 and the substrate-side heat transfer surface 42 of the aluminum nitride ceramic plate 40.
  • a stainless steel foil 60 is arranged with a thickness of 125 microns as a spacer between two opposing support surfaces 23 and 33 of the epitaxial heat conduction body 20 and the substrate side heat conducting body 30.
  • Various, functionally differently acting, sections of the heat conducting body are highlighted in Fig. 1 b by dashed separating lines.
  • the laser diode bar 10 is epitaxially soldered onto the epitaxial heat receiving section of the epitaxial heat conductor 20 and the aluminum nitride ceramic plate 40 onto the epitaxial heat transfer section 26 of the epitaxial heat conducting body 20.
  • the stack of aluminum nitride ceramic plate 40 and solder preform together with the solder coatings that compared to the plane of the surfaces 31, 32 and 33 with 135 ⁇ m has the largest elevation from the plane of the surfaces 21, 22 and 23.
  • the laser diode bar together with the solder layers only has a height of 130 ⁇ m while the spacer counts 125 ⁇ m.
  • the substrate-side heat-conducting body is located only in the region of the heat transfer section.
  • the solder preform melts and yields under a pressure applied via the substrate side to the epitaxial-side heat conducting body.
  • the substrate-side heat receiving portion 31 come into contact with the substrate-side contact surface 12 of the laser diode bar and the substrate-side support portion in contact with the spacer, which rests on the epitaxial-side support portion.
  • All components have undergone temperature profiles at the end of the assembly process which are suitable, both a high-quality solder joint 13 between the laser diode bar 10 and an epitaxial heat receiving portion 25 of the epitaxial heat conduction body 20, as well as a high quality solder joint 14 between the laser diode bar 10 and a substrate side heat receiving portion 35 of the substrate side heat conducting body 30, as well as a high quality solder joint 51 between the aluminum nitride ceramic plate 40 and an opposite light emission direction 15 over the laser diode bar 10 also extending epitaxial heat transfer section 26 of the epitaxial heat conduction body 20, as well as a high-quality solder 50 between the aluminum nitride ceramic plate 40 and an opposite light emission direction 15 on the Laser diode bar 10 also extending substrate-side heat transfer section 36 of the substrate side bathleitkörpe rs 30 set up.
  • the solder joint 50 has a greater thickness than the other three solder joints 13, 14 and 51. It bridges the safe tolerance of the manufactured in too thin a thickness aluminum nitride ceramic plate 40 at a distance from the substrate heat conducting body.
  • the spacer 60 prevents a tilting of the components to each other in the solder layer 50 and ensures that the thicknesses of the joining zones 13 and 14 are also substantially constant as the thicknesses of the joint zones 50 and 51.
  • solder layer thicknesses of all the solder layers in the joining process do not change, while the thickness of the solder layer of the solder preform adapts to the distances which are created by the soldering preform
  • Laser diode bar 10 together with its solder layers (total 130 ⁇ m) and the spacer 60 (125 microns) can be specified. This reduces the thickness of the solder of the solder preform by 20% to 40% to 15 to 20 ⁇ m. With the joining process, joining zones emerge from the solder layers whose thickness, with the exception of that of the first solder connection 50, corresponds to that of the solder layers. The thickness of the joining zone 50 between the aluminum nitride ceramic plate 40 and the substrate side
  • Heat transfer section 36 of the substrate-side is wedge-shaped from 25 microns on the side facing the laser diode bar 10 side to 20 microns on the support member side facing. Overall, the joint gap runs between the epitaxial side Heat transfer section 26 and the substrate-side heat transfer section 36 also wedge-shaped, because its thickness corresponding to the distance between the two heat transfer sections 26 and 36, by the spacers between the heat input sections 25 and 35 (laser diode bar 10 with solder joints 13 and 14) and between the support portions 27 and 37 (spacer 60) is specified. On the laser diode bar 10 end facing its thickness is 130 microns, on the spacer 60 facing the end 125 microns.
  • a heat sink is attached to a heat transfer surface which is disposed on a side 29 of the epitaxial-side heat conducting body 20 facing away from the laser diode bar 10 and the aluminum nitride ceramic plate 40; a first electrical connection is fastened to the epitaxial heat conduction body 20 and a second electrical connection to the substrate side heat conduction body 30.
  • the epitaxial side and the substrate side contact of the laser diode bar 10 via the heat conducting body 20 and 30 short-circuiting spacer is removed from its position.
  • the heat generated in the active zone to a first part on the epitaxial side contact surface 11, the epitaxial side Lotfuge 13 and the epitaxial heat input surface 21 is received by the epitaxial heat receiving portion 25 of the epitaxial heat conduction body 20 and spread at least partially into the epitaxial heat transfer section 26 inside ,
  • the heat is taken up by the substrate-side contact surface 12, the substrate-side solder joint 14 and the substrate-side heat inlet surface 31 from the substrate-side heat receiving portion 35 of the substrate-side heat-conducting body 30 and at least almost completely into the substrate-side heat transfer section 36 into it.
  • the second heat part via the substrate-side heat transfer surface 32, the solder connection 50, the substrate side heat transfer surface 42, the aluminum nitride ceramic plate 40, the epitaxial heat transfer surface 41, the solder joint 51 and the epitaxial heat transfer surface 22 in the epitaxial heat transfer section 26 of the epitaxial heat conduction 20th transferred and united there with the first heating part.
  • the heat is then released to a heat sink body via the heat delivery surface 29 for heat removal.
  • the aluminum nitride ceramic plate 40 provides electrical insulation between the heat conducting bodies 20 and 30, between which a corresponding one for the operation of the laser diode bar
  • the thickness of the aluminum nitride ceramic plate 40 is only slightly smaller than that of the laser diode bar, the thicknesses of the solder joints 50 and 51 are also relatively small, namely 25 ⁇ m and 5 ⁇ m. Despite a moderate thermal conductivity of the gold-tin solder remains therefore considering the high thermal conductivity of the aluminum nitride ceramic plate 40, the thermal resistance of the heat transfer from the substrate-side heat transfer section 36 to the epitaxial-side heat transfer section 26 is small.
  • the substrate-side heat-conducting body can be used efficiently for double-sided cooling of the laser diode bar.
  • the second embodiment does not require the use of a placed between the heat conducting body plate 40 for electrical insulation. Instead, a joining zone with an electrically insulating joining means for electrically insulating connection of the heat-conducting body is used.
  • a joining zone with an electrically insulating joining means for electrically insulating connection of the heat-conducting body is used.
  • Heat transfer device into the backward alignment of the laser diode bar 10, that is, extends between the two contact surface planes.
  • the heat entry surfaces 21, 31 of the heat receiving portions 25, 35 are in each case together with the support surfaces 23, 33 of the support portions 27, 37 in a common plane, which in turn is offset parallel to the planes of the heat transfer surfaces 22, 32 in the heat transfer sections 26, 36 ,
  • the second embodiment is in contrast to the first embodiment with a minimum of components.
  • the components of the second embodiment are shown in FIG. 2a.
  • the heat-conducting body 20 and 30 consist predominantly of copper.
  • the heat entry surfaces 21 and 31 are offset at the bottom of recesses in the heat receiving portions 25 and 35 opposite to the heat transfer surfaces 22 and 32 in the heat transfer sections 26 and 36 by 50 ⁇ m in parallel direction away from the laser diode bar.
  • the pair of recesses offers, as illustrated in FIG. 2b, space for receiving the laser diode bar 10, which is soldered with indium solder 13 and 14 in a single soldering process on both sides to the heat receiving portions 25 and 35 of the heat conducting body 20 and 30.
  • this pair of recesses provides space for receiving a polyimide film 40 of 125 ⁇ m thickness, which is fastened to the support surface 23, 33 of one of the heat-conducting bodies 20, 30 by means of an adhesive before carrying out the abovementioned soldering process.
  • an electrically insulating adhesive layer 50 which has previously been placed between the two heat transfer sections 26 and 36 of the heat conducting bodies 20 and 30, cures in a material-closing manner.
  • the polyimide film as a spacer in the exertion of a compressive force from the substrate side heat conducting body 20 on the epitaxial heat conducting body 30 ensures that a thickness of the electrically insulating adhesive layer 50 in the range of 25 to 30 microns forms, which is the electrical insulation of the metallic heat conducting body Ensured from each other in a reliable manner. At the same time, an indium solder layer of sufficient thickness homogeneity is guaranteed. After completion of the assembly, the polyimide film remains in the heat transfer device.
  • substrate-side support section 40 electrically insulating plate 41 epitaxial-side transition surface 42 substrate-side transition surface

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Abstract

Die Erfindung betrifft unter anderem ein Verfahren zur Montage eines Halbleiterbauelementes, bei der das Halbleiterbauelement auf einander gegenüberliegenden Seiten in eine erste und eine zweite stoffschlüssige Verbindung mit jeweils einem Wärmeleitkörper gebracht wird. Die Wärmeleitkörper werden dazu in einer dritten stoffschlüssigen Verbindung im Bereich ihrer sich abseits des Halbleiterbauelementes erstreckenden Abschnitte verbunden, wobei ein Distanzstück, welches bezüglich der dritten Verbindung jenseits des Halbleiterbauelementes zwischen den Wärmeleitkörpern angeordnet ist, in Verbindung mit der Forderung, dass die Fügezonendicke der dritten Verbindung größer sei als die der ersten oder der zweiten Fügezone, für die Aufrechterhaltung definierter Fügezonendicken in den stoffschlüssigen Verbindungen während des Fügeprozesses sorgt. Über die dritte Verbindung erfolgt zumindest teilweise eine Wärmeübertragung der Abwärme des Halbleiterbauelementes insbesondere an eine an die erfindungsgemäß herstellte Wärmeübertragungsvorrichtung angeschlossene Wärmesenke.

Description

Wärmeübertragungsvorrichtung mit wenigstens einem Halbleiterbauelement, insbesondere einem Laseroder Leuchtdiodenelement, und Verfahren zu seiner Montage
Diese Patentanmeldung beansprucht die Priorität der deutschen Patentanmeldung 102008026801.1 deren Offenbarungsgehalt hiermit durch Rückbezug aufgenommen wird.
Die Erfindung betrifft eine Wärmeübertragungsvorrichtung mit wenigstens einem Halbleiterbauelement, insbesondere einem Laser- oder Leuchtdiodenelement, nach dem Oberbegriff des Anspruches 1 und ein Verfahren zu seiner Montage.
Stand der Technik
Zur Verringerung des thermischen Widerstandes von Wärmeübertragungsvorrichtungen, die die Kühlung von Laserdiodenbarren unterstützen, ist es beispielsweise aus den Patent- und Offenlegungsschriften US 5,325,384, WO 2006098897 A1 und WO 2007082508 A1 bekannt, Wärmeleitkörper auf einander gegenüberliegenden Seiten des Laserbarrens anzubringen. Ist das Wärmeabfuhrvermögen der Wärmeleitkörper unterschiedlich - beispielsweise, weil die an die Wärmeleitkörper angeschlossenen Wärmesenken einen deutlich voneinander abweichenden thermischen Widerstand aufweisen, so kann der thermische Widerstand der Wärmeübertragungsvorrichtung dadurch verringert werden, dass beide Wärmeleitkörper in Wärmetransferabschnitten abseits des Laserdiodenbarrens miteinander in thermische Verbindung gebracht werden, so dass ein Teil der Wärme des schlechter gekühlten Wärmeleitkörpers vom besser gekühlten aufgenommen werden kann. Im Extremfall ist nur einer der Wärmeleitkörper an eine Wärmesenke angeschlossen und muss die vom anderen Wärmeleitkörper aufgenommene Wärme des Laserdiodenbarrens im wesentlichen vollständig aufnehmen. Eine derartige Anordnung ist aus der Veröffentlichung Nr. 68760Q der Proc. SPIE Vol. 6876 des Jahres 2008 bekannt, in der zur Erzielung einer guten thermischen Verbindung zwischen den Wärmeleitkörpern eine thermisch hoch leitfähige elektrisch isolierende Aluminiumnitrid-Keramikplatte mit Hilfe zweier metallischer Lotschichten, auf der dem Lichtaustritt abgewandten Seite des Laserdiodenbarrens zwischen den epitaxieseitigen metallischen Wärmeabfuhrkörper und den substratseitigen metallischen Wärmeleitkörper gelötet wurde.
Bei dieser und ähnlichen Anordnungen besteht das Problem, dass das hoch wärmeleitfähige Zwischenelement, dass zwischen den Wärmetransferabschnitten der Wärmeleitkörper angeordnet ist vorzugsweise dieselbe Dicke aufweisen sollte wie der Laserdiodenbarren zwischen seinen beiden zur Wärmeableitung von Wärmeaufnahmeabschnitten der Wärmeleitkörper kontaktierten Seiten, damit die Dicke der Fügezonen zwischen dem Laserbarren und den Wärmeaufnahmeabschnitten der Wärmeleitkörper einerseits und zwischen dem Zwischenelement und den Wärmetransferabschnitten der Wärmeleitkörper andererseits einerseits gleich und andererseits über die Ausdehnung jeder Fügezone konstant gehalten werden kann.
Eine konstante, gleichbleibende und insbesondere geringe Fügezonendicke ist insbesondere für die Kontaktierung des Laserdiodenbarrens unerlässlich, um eine gleichbleibende Qualität und Zuverlässigkeit des sowohl thermisch als auch elektrisch und optisch hoch belasteten Diodenlasers zu sichern. Nun ist die Dicke von Laserdiodenbarren sowohl innerhalb eines Loses verschieden als auch zwischen mehreren Losen. Dasselbe gilt für die Zwischenelemente. Eine reproduzierbare Angleichung der Dicken von Laserdiodenbarren und Zwischenelementen bis auf weniger als 2 μm Differenz ist entweder fertigungstechnisch aufwändig oder von einem zeitraubenden Selektier- und Zuordnungsprozess begleitet.
Aufgabe der Erfindung ist es daher eine Wärmeübertragungsvorrichtung mit einem Halbleiterbauelement zu beschreiben, die die erwähnten Nachteile ausschließt.
Insbesondere ist es Aufgabe der Erfindung im kontinuierlichen Fertigungsprozess von Diodenlasern eine gleichbleibende und im wesentlichen konstante Dicke der Fügezonen zwischen den Laserdiodenbarren und den wärmeaufnehmenden Wärmeleitkörpern zu gewährleisten. Gleichzeitig ist es Aufgabe der Erfindung einen guten Wärmetransfer von einem Wärmeleitkörper zum anderen zu ermöglichen.
Erfindungsbeschreibung
Die Aufgabe wird gelöst durch eine Wärmeübertragungsvorrichtung mit wenigstens einem
Halbleiterbauelement, insbesondere einem Laser- oder Leuchtdiodenelement, mit den kennzeichnenden Merkmalen des Anspruches 1 und einem Verfahren zu seiner Montage nach Anspruch 15.
Das zwischen den Stützabschnitten angeordnete Distanzstück befindet sich erfindungsgemäß vom Halbleiterelement aus gesehen jenseits der Wärmetransferabschnitte. Es nimmt bei einer Verbindung der Wärmeleitkörper untereinander und / oder der Verbindung wenigstens einer Wärmeleitkörper mit dem Halbleiterbauelement einen Teil der Druckkraft auf, die vom einen auf den anderen Wärmeleitkörper bei der Montage ausgeübt wird, und gibt zwischen den Stützabschnitten die Distanz der Wärmeleitkörper voneinander vor. Bedingt durch seine bevorzugt große Entfernung vom Halbleiterbauelement, muss diese Distanz nicht genau der Dicke des Halbleiterbauelementes zuzüglich der ersten und zweiten Fügezone entsprechen, und der Winkelfehler, der durch eine entsprechende Abweichung hervorgerufen wird bleibt so klein, dass eine winkelfehlerbedingte Dickenvariation der ersten und zweiten Fügezone im vernachlässigbaren Bereich liegt.
Vorzugsweise ist die Dicke des Distanzstückes, beziehungsweise der Abstand der Stützpunkte, den Lagen einander gegenüberliegenden Stützflächen der Stützabschnitte hinsichtlich der Wärmeeintrittsflächen und der Dicke des Halbleiterbauelementes derart angepasst, dass eine Dickenvariation von keiner der ersten und zweiten Fügezonen mehr als +/- 50% betragen kann. Präzisiert auf Stütz- und Wärmeeintrittsflächen, die auf jedem der beiden Wärmeleitkörper zueinander koplanar auf einer gemeinsamen in einer Vorzugsrichtung orientierten Achse angeordnet sind, auf ein quaderförmiges Halbleiterbauelement und auf zwei gleich dicke ersten und zweiten Fügezonen der mittleren Dicke d, weicht der Abstand der Stützpunkte (die Dicke des Distanzstückes) in einem Abstand in Vorzugsrichtung vom Zentrum des Halbleiterbauelement, der dem p-fachen der Ausdehnung des Halbleiterbauelementes in Vorzugsrichtung entspricht, vorzugsweise um nicht mehr als +/- 2d -(p-1) von der Dicke des Halbleiterbauelementes ab.
Sind die Stütz- und Wärmeeintrittsflächen zwar parallel zueinander, jedoch nicht koplanar, sondern zu einander versetzt, so erhöht beziehungsweise erniedrigt sich die vorgenannte zulässige Abweichung für jeden derartigen Wärmeleitkörper um eben diesen Versatz.
Der Umstand, dass die Dicke der dritten Fügezone zwischen den Wärmetransferabschnitten größer ist als die Dicken der ersten oder zweiten Fügezone macht die stützende Wirkung des Distanzstückes erst möglich, da andernfalls die stützende Wirkung im Bereich zwischen den Wärmetransferabschnitten liegt, was einerseits bekanntermaßen zu den eingangs genannten Problemen führt und andererseits unerwünschterweise dazu führt, dass die Dicke der dritten Fügezone die Dicke zumindest einer der ersten und der zweiten Fügezone bestimmt.
Für eine zuverlässige Kontaktierung eines Laserdiodenbarrens ist es aber gerade wünschenswert, dass die Dicke der ersten und zweiten Fügezonen die der von geringer Bedeutung - nämlich der dritten - bestimmen, was durch die abstützende Wirkung des Distanzstückes bei der Montage mit einer gegenüber der ersten und zweiten Fügezone erhöhten Dicke der dritten Fügezone bewirkt wird. - A -
Unter einer Fügezone wird dabei die Schicht eines verfestigten Fügemittels verstanden. Fügezone und Fügespalt unterscheiden sich dadurch, dass die Fügezone nur Fügemittel enthält, der Fügespalt wenigstens eine Fügezone und optional weitere Bauelemente und Fügezonen, die gemeinsam den Fügespalt stoffschlüssig vollständig überbrücken. So kann sich die dritte Fügezone kann sich vollständig über den Fügespalt erstrecken, wobei der Fügespalt vollständig und ausschließlich mit Fügemittel gefüllt ist. Andererseits kann sich die dritte Fügezone hinsichtlich ihrer Dicke auch nur über einen Teil des Abstandes zwischen den Wärmetransferabschnitten, der durch den Fügespalt vorgegeben ist, erstrecken. In diesem Fall können im Fügespalt zusätzlich zur dritten Fügezone eine vierte Fügezone sowie ein zwischen der dritten und vierten Fügezone positionierter Zwischenkörper angeordnet sein. Da Fügemittel in der Regel schlechtere Wärmeleiteigenschaften aufweisen als nicht als Fügemittel verwendbare Festkörper ist es vorteilhaft, bei Fügespalten, deren Dicken mehr als etwa der Hälfte der Dicke des Halbleiterbauelementes entsprechen, einen solchen Zwischenkörper aus Metall (beispielsweise Kupfer), Keramik (beispielsweise Aluminiumnitrid) oder Kristall (beispielsweise Diamant) zu verwenden.
Es ist unerheblich, in welcher Reihenfolge der Stoffschluss der Fügepartner erfolgt, ob und welche Fügemittel und/ oder Fügehilfsmittel zur Verbindung eingesetzt werden. Der Stoffschluss zwischen den Wärmetransferabschnitten kann a) nach Einrichtung des Stoffschlusses zwischen dem Halbleiterbauelement und dem ersten und dem zweiten Wärmeleitkörper erfolgen. Der Stoffschluss zwischen den Wärmetransferabschnitten kann darüber hinaus b) zumindest zeitweise gemeinsam mit der Einrichtung des Stoffschlusses zwischen dem Halbleiterbauelement und dem zweiten Wärmeleitkörper erfolgen, nachdem der Stoffschluss zwischen dem Halbleiterbauelement und dem ersten Wärmeleitkörper etabliert wurde - oder umgekehrt. Schließlich kann c) die Ausbildung des Stoffschlusses zwischen den Wärmetransferabschnitten zumindest zeitweise gemeinsam mit der Ausbildung der stoffschlüssigen Verbindungen des Halbleiterbauelementes mit beiden Wärmeleitkörpern erfolgen.
In allen Fällen sorgt das Distanzelement bei zumindest dem Fügeprozess, in dem beide Wärmeleitkörper miteinander stoffschlüssig werden - sei es vermittels des Halbleiterbauelementes über die erste und zweite Fügezone oder im Bereich der Wärmetransferabschnitte über die dritte Fügezone - durch seine stützende Wirkung für eine ausgeglichene Fügezonendicke derjenigen Fügezonen, an dessen Herstellung es erfindungsgemäß beteiligt ist. Erfindungsgemäß ist es vorteilhaft, wenn die Dicke der dritten Fügezone größer ist als die Dicke derjenigen der ersten oder zweiten Fügezone, die zumindest zeitweise gemeinsam mit der dritten gebildet wird.
Sind die Dicken der ersten und der zweiten Fügezonen einander ähnlich und klein - beispielsweise im Bereich von 1 Mikrometer bis etwa 10 Mikrometern mit einem maximalen Dickenverhältnis von zwei - so ist es vorteilhaft, wenn die Dicke der dritten Fügezone größer ist als die Dicken der ersten und der zweiten Fügezone - womit sie größer ist als die größere Dicke von denjenigen der ersten und der zweiten Fügezone.
Im Interesse einer weiteren Entlastung der montagetechnischen Anforderungen weist die dritte Fügezone zumindest abschnittsweise eine größere Dicke auf als die Summe der Dicken der ersten und zweiten Fügezonen.
Die Erfindung bewirkt die Einrichtung einer effizienten Wärmeumleitung durch stoffschlüssiges Verbinden von Wärmeleitkörperteilen abseits des Halbleiterbauelementes, welches daselbst mit qualitätsgerechter Fügepräzision zur effizienten Wärmeabgabe zwischen die Wärmeleitkörper gelötet wird.
Die Verwendung eines Distanzstückes während der Montage bedeutet nicht unbedingt, dass das Distanzstück nach der Montage in seiner Position verbleiben muss. Sind die Wärmeleitkörper zumindest in den Stützabschnitten metallisch und steht ihr jeweiliger metallischer Bereich mit den entsprechenden Kontaktflächen des Halbleiterbauelementes in elektrischer Verbindung, so kann ein elektrisch leitfähiges, vorzugsweise metallisches, Distanzstück als Kurzschlussbrücke zwischen den metallischen Stützabschnitten verwendet werden, die das Halbleiterbauelement vor elektrostatischen Entladungen (ESD) schützt. Bei der Inbetriebnahme des montierten Halbleiterbauelementes, beispielsweise eines Diodenlasers, wird diese Kurzschlussbrücke entfernt und kann nach erfolgtem Betrieb wieder - das Halbleiterbauelement kurzschließend - zwischen die Stützabschnitte eingefügt werden.
Vorzugsweise weisen dazu die Wärmeleitkörper jeweils wenigstens einen metallischen Bereich auf oder bestehen überwiegend oder vollständig aus Metall oder einem elektrisch leitfähigen Kohlenstoff-Metall- Verbundwerkstoff- beispielsweise Diamant-Silber. Die elektrisch leitfähigen Bereiche erstrecken sich jeweils vom Stützabschnitt in den Wärmeaufnahmeabschnitt des Wärmeleitkörpers und stehen mit den entsprechenden Kontaktflächen des Halbleiterbauelements in elektrischer Verbindung. Sind einander zugewandte Wärmetransferflächen der Wärmetransferabschnitt, jeweils Bestandteil dieser elektrisch leitfähigen Bereiche, so muss die die Verbindung der beiden Wärmetransferabschnitte eine elektrische Isolierung aufweisen - entweder in Form eines elektrisch isolierenden Zwischen körpers oder in Form einer Fügezone mit einem elektrisch isolierenden Fügemittel.
Ist andererseits nur eine der einander zugewandten Wärmetransferflächen der Wärmetransferabschnitte oder keine von ihnen Bestandteil dieser elektrisch leitfähigen Bereiche, so kann auch ein elektrisch leitfähiges Fügemittel - beispielsweise ein metallisches Lot - zur Verbindung der beiden
Wärmetransferabschnitte zum Einsatz kommen, ohne dass ein elektrisch isolierender Zwischenkörper eingesetzt werden müsste. In diesem Fall können beide Wärmeleitkörper mit einer einzigen metallischen Lotschicht direkt miteinander verbunden werden. Dies ist unter anderem möglich mit Wärmeleitkörpern, die überwiegend aus hoch wärmeleitfähigen elektrisch isolierenden Materialien, beispielsweise Aluminiumnitrid, Berylliumoxid, Diamant usw., bestehen und elektrische Leiter tragen, die sich von einander gegenüberliegenden Stützflächen der Stützabschnitte zu einander gegenüberliegenden Wärmeeintrittsflächen der Wärmeaufnahmeabschnitte erstrecken. Weitere metallische Leiter können auf einander gegenüberliegenden Flächen der Wärmetransferabschnitte aufgebracht sein, ohne in elektrischer Verbindung mit dem Halbleiterbauelemente zu stehen, um die direkte Verbindung der Wärmeleitkörper mit Hilfe eines metallischen Lotes zu erleichtern. Nichtsdestoweniger kann selbstverständlich auch ein Aktivlot, das nichtmetallische Bereiche der Wärmetransferabschnitte benetzt, zur Verbindungsbildung eingesetzt werden.
Bei der Verwendung von metallischen Wärmeleitkörpern ist aus produktionstechnischen und finanziellen Gründen der Verzicht auf ein elektrisch isolierendes Zwischenelement zugunsten eines elektrisch isolieren Fügemittels vorteilhaft. Während aus thermischen Gründen die Dicke der elektrisch isolierenden Fügezone möglichst klein sein sollte, fordert die erfindungsgemäße Montagetechnik eine Dicke der dritten Fügezone von wenigstens der kleineren der Dicken der ersten und der zweiten Fügezone. Darüber hinaus ist aus elektrischen Gründen eine Dicke erforderlich, die groß genug ist, die elektrische Isolierung im Produktionsprozess zuverlässig zu gewährleisten. Im Falle kleiner und ähnlicher Dicken der ersten und zweiten Fügezone, ist es vorteilhaft, wenn die Dicke der dritten Fügezonen größer ist als die größerer der Dicken der ersten und zweiten Fügezone; vorzugsweise ist sie sogar größer als ihre Summe.
Soll das Distanzstück nach Abschluss der Montage in seiner Position verbleiben - beispielsweise, weil es im Zuge oder vor der Montage oder stoffschlüssig an wenigstens einem Wärmeleitkörper befestigt wurde, - so ist bei Verwendung von Wärmeleitkörpern, deren gegenüberliegende Stützflächen zu metallischen Bereichen gehören, die in elektrischer Verbindung mit dem Halbleiterbauelement stehen, ein elektrisch isolierendes Distanzstück zu verwenden. In diesem Sinne wird darüber hinaus klar, dass das Distanzstück zu keinem Zeitpunkt notwendigerweise als separates Bauelement vorliegen muss. Während aus Gründen der Symmetrie zu dem Halbleiterbauelement und der damit verbundenen Vereinfachung der Erzielung der notwendigen Fügetoleranzen der körperlichen Individualität des Distanzstückes prinzipiell der Vorzug gegeben wird, ist in einer weniger bevorzugten Weiterbildung der Erfindung das Distanzstück integraler Bestandteil wenigstens eines der beiden Wärmeleitkörper und liegt in Form einer Erhebung vor, die in Richtung des Halbleiterbauelementes über den Wärmetransferabschnitt hinaus aus dem Stützabschnitt ragt. Vorteilhafterweise ließe sich damit immerhin die Anzahl der zur Montage verwendeten Bauelemente um eines von fünf auf vier oder von vier auf drei reduzieren.
Vorzugsweise erfolgt die elektrische Kontaktierung des Halbleiterbauelementes ohne Hinzunahme weiterer Körper oder Bauelemente in der Wärmeübertragungsvorrichtung vermittels der Wärmeleitkörper, wozu Wärmeeintrittsflächen auf metallischen Bereichen der Wärmeaufnahmeabschnitte liegen. Vorzugsweise ist sind beide Wärmeleitkörper metallisch. Die Verbindung der Wärmeleitkörper mit den Kontaktflächen erfolgt vorzugsweise mit einem metallischen Lot - beispielsweise Gold-Zinn, Indium usw..
Vorzugsweise sind die Wärmeleitkörper plattenfömig ausgebildet.
Zur Gewährleistung eines hohen thermischen Leitwertes der Wärmeleitplatten ist die Dicke der Platten in senkrechter Richtung zu wenigstens einer der Kontaktflächen vorzugsweise größer ist als wenigstens eine laterale Abmessung des Halbleiterbauelementes parallel zu einer oder beiden Kontaktflächen. Übertragen auf Einzellaserdioden bedeutet dies, dass Plattendicke größer ist als die senkrecht zur Lichtemissionsrichtung/ Resonatorlänge und parallel zur Ebene einer oder beider Kontaktflächen gerichtete Breite der Laserdiode; übertragen auf Laserdiodenbarren bedeutet dies, dass Plattendicke größer ist als die Resonatorlänge des Laserdiodenbarrens. Zur Gewährleistung eines hohen thermischen Leitwertes der Fügezone ist die flächenmäßige Ausdehnung der Fügezone größer als die parallele flächenmäßige Ausdehnung des Laserdiodenelementes.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen näher erläutert. Dazu zeigen
Fig. 1a eine Seitenansicht auf die Bauteile eines ersten Ausführungsbeispieles der erfindungsgemäßen Wärmeübertragungsvorrichtung Fig. 1b eine Seitenansicht auf das erste Ausführungsbeispieles der erfindungsgemäßen Wärmeübertragungsvorrichtung,
Fig. 1a eine Seitenansicht auf die Bauteile eines zweiten Ausführungsbeispieles der erfindungsgemäßen Wärmeübertragungsvorrichtung, Fig. 1 b eine Seitenansicht auf das zweite Ausführungsbeispieles der erfindungsgemäßen Wärmeübertragungsvorrichtung.
Alle Ausführungsbeispiele repräsentieren Diodenlaserbauelemente mit einem Laserdiodenbarren. Nichtsdestoweniger können sie auch Strahlungsquellen mit einem oder mehreren nebeneinander angeordneten Einzel- oder Mehrfachemitterlaserdioden oder Einzel- oder Mehrfachemitterleuchtdioden oder Leuchtdiodenbarren repräsentieren. Darüber hinaus ist die Wärmeübertragungsvorrichtung auch zur Kühlung von Halbleiterschaltelementen, beispielsweise Hochleistungstransistoren, Hochleistungsthyristoren usw. geeignet.
Ausführungsbeispiel 1
Die für die Herstellung einer ersten Variante des ersten Ausführungsbeispieles der erfindungsgemäßen Wärmeübertragungsvorrichtung verwendeten Bauelemente sind in Fig. 1a dargestellt: Der Laserdiodenbarren 10 weist eine erste, epitaxieseitige Kontaktfläche 11 zur elektrischen Kontaktierung auf sowie eine zweite, substratseitige Kontaktfläche 12, die der epitaxieseitigen Kontaktfläche gegenüberliegt. Der Laserdiodenbarren besitzt eine Resonatorlänge von 2mm. Die im Betrieb erfolgende Lichtemission ist durch den Pfeil 15 gekennzeichnet, der auf einer optischen Achse angeordnet ist. In der Lichtemission entgegengesetzter Richtung ist eine Aluminiumnitridkeramikplatte 40 von 100μm Dicke hinter dem 120μm dicken Laserdiodenbarren angeordnet. Sie besitzt einander gegenüberliegende epitaxie- und substratseitig orientierte, metallisierte Wärmeübergangsflächen 41 und 42.
Ein erster, epitaxieseitiger, plattenförmiger Wärmeleitkörper 20 besteht überwiegend aus einem Diamant- Silber-Verbundwerkstoff und weist eine der epitaxieseitigen Kontaktfläche 11 gegenüberliegenden Wärmeeintrittsfläche 21 auf sowie eine Wärmetransferfläche 22, die der epitaxieseitigen Wärmeübergangsfläche 41 der Aluminiumnitridkeramikplatte 40 gegenüberliegt. Seine Dicke beträgt 4mm.
Ein zweiter, substratseitiger, plattenförmiger Wärmeleitkörper 30 besteht ebenfalls überwiegend aus einem Diamant-Silber-Verbundwerkstoff und weist eine der substratseitigen Kontaktfläche 12 gegenüberliegenden Wärmeeintrittsfläche 31 auf sowie eine Wärmetransferfläche 32, die der substratseitigen Wärmeübergangsfläche 42 der Aluminiumnitridkeramikplatte 40 gegenüberliegt. Seine Dicke beträgt ebenfalls 4mm.
Die Aluminiumnitridkeramikplatte 40 besitzt eine Länge - das heißt eine Erstreckung in einer Vorzugsrichtung, die der Erstreckungsrichtung der Wärmeleitkörper 20/ 30 vom Wärmeaufnahmeabschnitt 25/ 35 zum Stützabschnitt 27/ 37 (in der Zeichnungsebene von links nach rechts) entspricht - von 10mm.
In Vorbereitung der Einrichtung eines Stoffschlusses dieser Komponenten 10, 20, 30, 40 zur Ausbildung der ersten Variante der ersten Ausführungsbeispieles wird der epitaxieseitige Wärmeleitkörper 20 im Bereich der epitaxieseitigen Wärmeeintrittsfläche 21 und im Bereich der epitaxieseitigen Wärmetransferfläche 22 mit 5 μm Gold-Zinn-Lot beschichtet. Analog wird der substratseitige Wärmeleitkörper 30 im Bereich der substratseitigen Wärmeeintrittsfläche 31 und im Bereich der substratseitigen Wärmetransferfläche 32 mit 5 μm Gold-Zinn-Lot beschichtet. Ferner wird zwischen die Lotschicht auf substratseitigen Wärmetransferfläche 32 des epitaxieseitigen Wärmeleitkörpers 20 und der substratseitigen Wärmeübergangsfläche 42 der Aluminiumnitridkeramikplatte 40 eine Folie einer Gold-Zinn-Lot- Vorform von 25 μm Dicke eingebracht. Auf der von dem Laserdiodenbarren 10 abgewandten Seite der Aluminiumnitridkeramikplatte 40 ist ein Edelstahlfolie 60 mit einer Dicke von 125 μm als Distanzstück zwischen zwei einander gegenüberliegende Stützflächen 23 und 33 des epitaxieseitigen Wärmeleitkörpers 20 und des substratseitigen Wärmeleitkörpers 30 angeordnet. Verschiedene, funktional unterschiedlich wirkende, Abschnitte der Wärmeleitkörper sind in Fig. 1 b durch gestrichelte Trennlinien hervorgehoben.
Zur Einrichtung des Stoffschlusses der zu fügenden Komponenten 10, 20, 30, 40, wird in einem ersten Fügeprozess der Laserdiodenbarren 10 epitaxieseitig auf den epitaxieseitigen Wärmeaufnahmeabschnitt des epitaxieseitigen Wärmeleitkörpers 20 gelötet und die Aluminiumnitridkeramikplatte 40 auf den epitaxieseitigen Wärmetransferabschnitt 26 des epitaxieseitigen Wärmeleitkörpers 20.
Zur Vorbereitung des zweiten Fügeprozess, der den substratseitigen Wärmeleitkörper 30 mit dem Laserdiodenbarren 10 und der Aluminiumnitridkeramikplatte 40 verbinden soll, ist zu berücksichtigen, dass der Stapel aus Aluminiumnitridkeramikplatte 40 und Lot-Vorform zusammen mit den Lotbeschichtungen die gegenüber der Ebene der Flächen 31, 32 und 33 mit 135μm die größte Erhebung ab der Ebene der Flächen 21 , 22 und 23 aufweist. Demgegenüber weist der Laserdiodenbarren zusammen mit den Lotschichten nur eine Höhe von 130μm auf während das Distanzstück 125μm zählt. Damit liegt der substratseitige Wärmeleitkörper nur im Bereich des Wärmetransferabschnittes auf. Während des zweiten Fügeprozesses schmilzt die Lot-Vorform auf und gibt unter einem über den substratseitigen auf den epitaxieseitigen Wärmeleitkörper aufgebrachten Druck nach. Dabei kommen der substratseitige Wärmeaufnahmeabschnitt 31 in Kontakt mit der substratseitigen Kontaktfläche 12 des Laserdiodenbarrens und der substratseitige Stützabschnitt in Kontakt mit dem Distanzstück, das auf dem epitaxieseitigen Stützabschnitt aufliegt.
Alle Komponenten haben am Ende des Montageprozesses Temperaturprofile durchlaufen die geeignet sind, sowohl eine hochwertige Lötverbindung 13 zwischen dem Laserdiodenbarren 10 und einem epitaxieseitigen Wärmeaufnahmeabschnitt 25 des epitaxieseitigen Wärmeleitkörpers 20, als auch eine hochwertige Lötverbindung 14 zwischen dem Laserdiodenbarren 10 und einem substratseitigen Wärmeaufnahmeabschnitt 35 des substratseitigen Wärmeleitkörpers 30, als auch eine hochwertige Lotverbindung 51 zwischen der Aluminiumnitridkeramikplatte 40 und einem sich entgegen Lichtemissionsrichtung 15 über den Laserdiodenbarren 10 hinaus erstreckenden epitaxieseitigen Wärmetransferabschnitt 26 des epitaxieseitigen Wärmeleitkörpers 20, als auch eine hochwertige Lotverbindung 50 zwischen der Aluminiumnitridkeramikplatte 40 und einem sich entgegen Lichtemissionsrichtung 15 über den Laserdiodenbarren 10 hinaus erstreckenden substratseitigen Wärmetransferabschnitt 36 des substratseitigen Wärmeleitkörpers 30 einzurichten. Dabei weist die Lotverbindung 50 eine größere Dicke auf als die übrigen drei Lotverbindungen 13, 14 und 51. Sie überbrückt die sichere Toleranz von der in zu niedriger Dicke gefertigten Aluminiumnitridkeramikplatte 40 im Abstand zum substratseitigen Wärmeleitkörper. Das Distanzstück 60 beugt einer Verkippung der Bauelemente zueinander in die Lotschicht 50 vor und sorgt dafür, dass die Dicken der Fügezonen 13 und 14 ebenso im wesentlichen konstant sind wie die Dicken der Fügezonen 50 und 51.
Man kann in einer vereinfachten Beschreibung des Fügeprozesses annehmen, dass sich die Lotschichtdicken aller Lotschichten im Fügeprozess mit Ausnahme der der Lot-Vorform nicht verändern, während sich die Dicke der Lotschicht der Lot-Vorform den Abständen anpasst, die durch den
Laserdiodenbarren 10 zusammen mit seinen Lotschichten (insgesamt 130μm) und das Distanzstück 60 (125 μm) vorgegeben werden. Damit verringert sich die Dicke des Lotes der Lot- Vorform um 20% bis 40% auf 15 bis 20 μm. Mit dem Fügeprozess gehen aus den Lotschichten Fügezonen hervor, deren Dicke mit Ausnahme der der ersten Lotverbindung 50 denen der Lotschichten entspricht. Die Dicke der Fügezone 50 zwischen der Aluminiumnitridkeramikplatte 40 und dem substratseitigen
Wärmetransferabschnitt 36 des substratseitigen Wärmeleitkörpers 30 variiert dabei keilförmig von 25 μm auf der dem Laserdiodenbarren 10 zugewandten Seite bis auf 20 μm auf der dem Stützelement zugewandten Seite. Insgesamt verläuft der Fügespalt zwischen dem epitaxieseitigen Wärmetransferabschnitt 26 und dem substratseitigen Wärmetransferabschnitt 36 ebenso keilförmig, weil seine Dicke, die dem Abstand der beiden Wärmetransferabschnitte 26 und 36 voneinander entspricht, durch die Abstandshalter zwischen den Wärmeeintragsabschnitten 25 und 35 (Laserdiodenbarren 10 mit Lotfugen 13 und 14) und zwischen den Stützabschnitten 27 und 37 (Distanzstück 60) vorgegeben ist. Auf der dem Laserdiodenbarren 10 zugewandten Ende beträgt seine Dicke 130 μm, auf der dem Distanzstück 60 zugewandten Ende 125 μm.
Zum Betrieb des Laserdiodenbarrens in der Wärmeübertragungsvorrichtung wird eine Wärmesenke an einer Wärmeabgabefläche befestigt, die auf einer vom Laserdiodenbarren 10 und der Aluminiumnitridkeramikplatte 40 abgewandten Seite 29 des epitaxieseitigen Wärmeleitkörpers 20 angeordnet ist; ein erster elektrischer Anschluss wird am epitaxieseitigen Wärmeleitkörper 20 befestigt und ein zweiter elektrischer Anschluss am substratseitigen Wärmeleitkörper 30. Das den epitaxieseitigen und den substratseitige Kontakt des Laserdiodenbarrens 10 über die Wärmeleitkörper 20 und 30 kurzschließende Distanzstück wird aus seiner Position entfernt. Beim Betrieb des Laserdiodenbarrens wird die in der aktiven Zone erzeugte Wärme zu einem ersten Teil über die epitaxieseitige Kontaktfläche 11 , die epitaxieseitige Lotfuge 13 und die epitaxieseitige Wärmeeintrittsfläche 21 vom epitaxieseitigen Wärmeaufnahmeabschnitt 25 des epitaxieseitigen Wärmeleitkörpers 20 aufgenommen und zumindest teilweise in den epitaxieseitigen Wärmetransferabschnitt 26 hinein gespreizt. Zu einem zweiten Teil wird die Wärme über die substratseitige Kontaktfläche 12, die substratseitige Lotfuge 14 und die substratseitige Wärmeeintrittsfläche 31 vom substratseitigen Wärmeaufnahmeabschnitt 35 des substratseitigen Wärmeleitkörpers 30 aufgenommen und zumindest nahezu vollständig in den substratseitigen Wärmetransferabschnitt 36 hinein geleitet. Aus dem substratseitigen Wärmetransferabschnitt 36 wird der zweite Wärmeteil über die substratseitige Wärmetransferfläche 32, die Lotverbindung 50, die substratseitige Wärmeübergangsfläche 42, die Aluminiumnitridkeramikplatte 40, die epitaxieseitige Wärmeübergangsfläche 41 , die Lotverbindung 51 und die epitaxieseitige Wärmetransferfläche 22 in den epitaxieseitigen Wärmetransferabschnitt 26 des epitaxieseitigen Wärmeleitkörpers 20 überführt und dort mit dem ersten Wärmeteil vereinigt. Die Wärme wird dann über die Wärmeabgabefläche 29 zur Wärmeabfuhr an einen Wärmesenkenkörper abgegeben. Die Aluminiumnitridkeramikplatte 40 sorgt für eine elektrische Isolierung zwischen den Wärmeleitkörpern 20 und 30, zwischen denen für den Betrieb des Laserdiodenbarrens eine entsprechende
Potentialdifferenz bestehen muss. Da die Dicke der Aluminiumnitridkeramikplatte 40 nur geringfügig kleiner ist als die des Laserdiodenbarrens, sind auch die Dicken der Lotfugen 50 und 51 relativ klein, nämlich 25μm und 5μm. Trotz einer moderaten Wärmeleitfähigkeit des Gold-Zinn-Lotes bleibt daher unter Berücksichtigung der hohen thermischen Leitfähigkeit der Aluminiumnitridkeramikplatte 40 der thermische Widerstand des Wärmeübergangs vom substratseitigen Wärmetransferabschnitt 36 zum epitaxieseitigen Wärmetransferabschnitt 26 gering.
Damit kann tatsächlich der substratseitige Wärmeleitkörper zur doppelseitigen Kühlung des Laserdiodenbarrens effizient genutzt werden.
Ausführungsbeispiel 2
Im Gegensatz zum ersten Ausführungsbeispiel kommt das zweite Ausführungsbeispiele ohne die Verwendung einer zwischen die Wärmeleitkörper gebrachten Platte 40 zur elektrischen Isolierung aus. Statt dessen wird eine Fügezone mit einem elektrisch isolierenden Fügemittel zur elektrisch isolierenden Verbindung der Wärmeleitkörper verwendet. Dazu ist wenigstens einer der Wärmeleitkörper 20, 30 - im vorliegenden Ausführungsbeispiel beide Wärmeleitkörper 20 und 20 - mit einer Erhebung im Bereich des Wärmetransferabschnittes 26, 36 versehen, der sich in der stoffschlüssigen
Wärmeübertragungsvorrichtung bis in die rückwärtige Flucht des Laserdiodenbarrens 10, das heißt bis zwischen die beiden Kontaktflächenebenen, erstreckt. Damit liegen die Wärmeeintrittsflächen 21, 31 der Wärmeaufnahmeabschnitte 25, 35 jeweils zusammen mit den Stützflächen 23, 33 der Stützabschnitte 27, 37 in einer gemeinsamen Ebene, die ihrerseits bezüglich der Ebenen der der Wärmetransferflächen 22, 32 in den Wärmetransferabschnitten 26, 36 parallel versetzt liegt.
Das zweite Ausführungsbeispiel kommt im Gegensatz zum ersten Ausführungsbeispiel mit einem Minimum an Komponenten aus.
Die Komponenten des zweiten Ausführungsbeispieles sind in Figur 2a dargestellt. Die Wärmeleitkörper 20 und 30 bestehen überwiegend aus Kupfer. Die Wärmeeintrittsflächen 21 und 31 sind am Boden von Ausnehmungen in den Wärmeaufnahmeabschnitten 25 und 35 gegenüber den Wärmetransferflächen 22 und 32 in den Wärmetransferabschnitten 26 und 36 um 50μm parallel in vom Laserdiodenbarren fortweisender Richtung versetzt. Das Paar von Ausnehmungen bietet, wie in Fig. 2b veranschaulicht, Raum zur Aufnahme des Laserdiodenbarrens 10, welcher mit Indiumlot 13 und 14 stoffschlüssig in einem einzigen Lötprozess beidseitig an die Wärmeaufnahmeabschnitte 25 und 35 der Wärmeleitkörper 20 und 30 gelötet wird.
Ebenso sind die Stützflächen 23 und 33 am Boden von Ausnehmungen in den Stützabschnitten 27 und 37 gegenüber den Wärmetransferflächen 22 und 32 in den Wärmetransferabschnitten 26 und 36 um 50μm parallel in vom Laserdiodenbarren fortweisender Richtung versetzt. Dieses Paar von Ausnehmungen bietet, wie in Fig. 2b veranschaulicht, Raum zur Aufnahme einer Polyimidfolie 40 von 125μm Dicke, welche mittels eines Klebstoffes vor Durchführung des vorgenannten Lötprozesses auf der Stützfläche 23, 33 eines der Wärmeleitkörper 20, 30 befestigt wird. Zusammen mit dem erwähnten Lötprozess härtet ein zuvor zwischen die beiden Wärmetransferabschnitte 26 und 36 der Wärmeleitkörper 20 und 30 gebrachte, elektrisch isolierende Klebstoffschicht 50 stoffschließend aus. Bei Initiierung des Lötprozesses sorgt die Polyimidfolie als Distanzstück bei der Ausübung einer Druckkraft vom substratseitigen Wärmeleitkörper 20 auf den epitaxieseitigen Wärmeleitkörper 30 dafür, dass sich eine Dicke der elektrisch isolierenden Klebstoffschicht 50 im Bereich von 25 bis 30 μm ausbildet, die die elektrische Isolierung der metallischen Wärmeleitkörper voneinander in zuverlässiger Weise gewährleistet. Gleichzeitig wird eine Indiumlotschicht von ausreichender Dickenhomogenität garantiert. Nach Beendigung der Montage verbleibt die Polyimidfolie in der Wärmeübertragungsvorrichtung.
Bezugszeichenliste
10 Laserdiodenelement
11 epitaxieseitige Kontaktfläche 12 substratseitige Kontaktfläche
13 epitaxieseitige Lotfuge
14 substratseitige Lotfuge
15 Strahlungsemissionsrichtungspfeil 20 epitaxieseitiger Wärmeleitkörper 21 epitaxieseitige Wärmeeintrittsfläche
22 epitaxieseitige Wärmetransferfläche
23 epitaxieseitige Stützfläche
25 epitaxieseitiger Wärmeaufnahmeabschnitt
26 epitaxieseitiger Wärmetransferabschnitt 27 epitaxieseitiger Stützabschnitt
29 Wärmeabgabefläche
30 substratseitiger Wärmeleitkörper
31 substratseitige Wärmeeintrittsfläche
32 substratseitige Wärmetransferfläche 33 substratseitige Stützfläche
35 substratseitiger Wärmeaufnahmeabschnitt
36 substratseitiger Wärmetransferabschnitt
37 substratseitiger Stützabschnitt 40 elektrisch isolierende Platte 41 epitaxieseitige Übergangsfläche 42 substratseitige Übergangsfläche
50 erste Fügezone zwischen Wärmetransferabschnitten
51 zweite Fügezone zwischen Wärmetransferabschnitten 60 Distanzstück

Claims

Patentansprüche
1. Wärmeübertragungsvorrichtung mit - wenigstens einem Halbleiterbauelement 10, insbesondere einem Laser- oder Leuchtdiodenelement,
- einem ersten Wärmeleitkörper 20,
- wenigstens einem zweiten Wärmeleitkörper 30 wobei das Halbleiterbauelement 10 - auf einer ersten Seite wenigstens eine erste, zumindest abschnittsweise im wesentlichen ebene, Kontaktfläche 11 und
- auf wenigstens einer, der ersten Seite abgewandten, zweiten Seite wenigstens eine zweite, zumindest abschnittsweise im wesentlichen ebene, Kontaktfläche 12 aufweist, und
- zumindest zur abschnittsweise zwischen dem ersten und dem zweiten Wärmeleitkörper 20 und 30 angeordnet ist, der erste Wärmeleitkörper 20
- wenigstens einen ersten Wärmeaufnahmeabschnitt 25 mit wenigstens einer ersten Wärmeeintrittsfläche 21 aufweist, die der ersten Kontaktfläche 11 in einer dem Halbleiterbauelement 10 abgewandten Richtung zumindest abschnittsweise gegenüberliegt, und durch wenigstens einen sich in der senkrecht zur ersten Kontaktfläche 11 orientierten Flucht des Halbleiterbauelementes 10 von der ersten Kontaktfläche 11 zur ersten Wärmeeintrittsfläche 21 erstreckenden Stoffschluss, der wenigstens eine erste Fügezone 13 aufweist, mit dem Halbleiterbauelement 10 verbunden ist, sowie
- wenigstens einen ersten Wärmetransferabschnitt 26, der sich in wenigstens einer ersten Wärmetransferrichtung zumindest abschnittsweise parallel zur ersten Kontaktfläche 11 über das Halbleiterbauelement 10 hinaus erstreckt, der zweite Wärmeleitkörper 30
- wenigstens einen zweiten Wärmeaufnahmeabschnitt 35 mit wenigstens einer zweiten Wärmeeintrittsfläche 31 aufweist, die der zweiten Kontaktfläche 12 in einer dem Halbleiterbauelement 10 abgewandten Richtung zumindest abschnittsweise gegenüberliegt, und durch wenigstens einen sich in der senkrecht zur zweiten Kontaktfläche 12 orientierten Flucht des Halbleiterbauelementes 10 von der zweiten Kontaktfläche 12 zur zweiten Wärmeeintrittsfläche 31 erstreckenden Stoffschluss, der wenigstens eine zweite Fügezone 14 aufweist, mit dem Halbleiterbauelement 10 verbunden ist, sowie
- wenigstens einen zweiten Wärmetransferabschnitt 36, der sich in wenigstens einer, der ersten Wärmetransferrichtung parallelen, zweiten Wärmetransferrichtung zumindest abschnittsweise parallel zur zweiten Kontaktfläche 12 über das Halbleiterbauelement 10 hinaus erstreckt und dem ersten Wärmetransferabschnitt 26 des ersten Wärmeleitkörpers 20 zumindest bereichsweise gegenüberliegt, wobei
- die Wärmetransferabschnitte 26 und 36 des ersten und der zweiten Wärmeleitkörpers 20 und 30 über einen zumindest abschnittsweise zwischen einander gegenüberliegenden Bereichen der Wärmetransferabschnitte angeordneten Fügespalt, der wenigstens eine dritte Fügezone 50 aufweist, miteinander stoffschlüssig verbunden sind
dadurch gekennzeichnet, dass
der erste Wärmeleitkörper 20 - wenigstens einen, sich an den ersten Wärmetransferabschnitt 26 anschließenden, ersten Stützabschnitt 27 aufweist, der zweite Wärmeleitkörper 30
- wenigstens einen, sich an den zweiten Wärmetransferabschnitt 36 anschließenden, Stützabschnitt 37 aufweist, der dem ersten Stützabschnitt 27 zumindest bereichsweise gegenüberliegt, - zwischen einander gegenüberliegenden Bereichen der beiden Stützabschnitte 27 und 37 wenigstens ein Distanzstück 60 angeordnet ist,
- und die dritte Fügezone 50 zumindest abschnittsweise eine größere Dicke aufweist als die erste oder die zweite Fügezone 13 und 14.
2. Wärmeübertragungsvorrichtung nach Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, dass das Distanzstück 60 von körperlicher Individualität und damit als von den Wärmeleitkörpern separates Bauelement identifizierbar ist.
3. Wärmeübertragungsvorrichtung nach Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, dass das Distanzstück 60 integrierter oder integraler Bestandteil wenigstens eines der Wärmeleitkörper 20, 30 ist.
4. Wärmeübertragungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass das Distanzstück 60 zumindest teilweise zwischen den Ebenen angeordnet ist, in denen die erste und zweite Kontaktfläche 11 und 12 des Halbleiterbauelementes 10 liegen.
5. Wärmeübertragungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass das Distanzstück 60 elektrisch isolierend ist.
6. Wärmeübertragungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass die Dicke des Distanzstückes 60 in einer zu wenigstens einer der Kontaktflächen 11, 12 senkrechten Richtung weniger als 50% von dem gegenseitigen Abstand der ersten und zweiten Kontaktfäche 11 und 12 abweicht.
7. Wärmeübertragungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass die Dicke des Distanzstückes 60 in einer zu wenigstens einer der Kontaktflächen 11, 12 senkrechten Richtung größer ist als der gegenseitige Abstand der ersten und zweiten Kontaktfläche 11 und 12.
8. Wärmeübertragungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass das Halbleiterbauelement 10 ein Laserdiodenbarren ist, der wenigstens eine optische Achse der Strahlungsemission aufweist, und die Ausdehnung wenigstens einer der Wärmeleitkörper 20, 30 auf zumindest einer Geraden, die senkrecht zu wenigstens einer der Kontaktflächen 11 , 12 des Laserdiodenbarrens in wenigstens einer Ebene liegt, die sich senkrecht zu wenigstens einer der Kontaktflächen 11 , 12 des Laserdiodenbarrens 10 und parallel zu der optischen Achse der Strahlungsemission durch den besagten Wärmeleitkörper 20, 30 und den Laserdiodenbarren 10 erstreckt, größer ist als wenigstens eine in der besagten Ebene liegende Erstreckung des Laserdiodenbarrens 10 , die parallel zu wenigstens einer der Kontaktflächen 11, 12 ausgerichtet ist.
9. Wärmeübertragungsvorrichtung nach Anspruch 8 dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens eine Erstreckung der Fügezone 50 in der besagten Ebene wenigstens doppelt so groß ist wie die wenigstens eine in der besagten Ebene liegende Erstreckung des Laserdiodenbarrens 10, die parallel zu wenigstens einer der Kontaktflächen 11, 12 ausgerichtet ist.
10. Wärmeübertragungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass dass die Stützabschnitte 27, 37 Stützflächen 23, 33 zur Auflage des Distanzstückes 60 und zur Auflage auf das Distanzstück 60 vorsehen.
11. Wärmeübertragungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass die Stützfläche 23, 33 wenigstens eines der Wärmeleitkörper 20, 30 mit der Wärmeeintrittsfläche 21 , 31 desselben Wärmeleitkörpers 20, 30 bis auf einen Parallelversatz, der durch Fügezone 13, 14 bedingt ist, in einer gemeinsamen Ebene liegt.
12. Wärmeübertragungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 11 dadurch gekennzeichnet, dass der erste und der zweite Wärmeleitkörper 20 und 30 jeweils wenigstens eine zumindest abschnittsweise im Wärmeeintrittsabschnitt 25, 35 angeordnete oberflächliche Ausnehmung aufweist, deren Bodenfläche zumindest abschnittsweise die Wärmeeintrittsfläche 21 , 31 bildet und welche das Halbleiterbauelement 10 zumindest abschnittsweise aufnimmt, sowie jeweils wenigstens eine zumindest abschnittsweise im Stützabschnitt 27, 37 angeordnete oberflächliche Ausnehmung aufweist, deren Bodenfläche zumindest abschnittsweise die Stützfläche 23, 33 bildet, wobei der erste und der zweite Wärmetransferabschnitt 26 und 36 zumindest teilweise zwischen den Ebenen angeordnet ist, in denen die erste und zweite Kontaktfläche 11 und 12 des Halbleiterbauelementes 10 liegen.
13. Wärmeübertragungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass der erste Wärmetransferabschnitt 26 wenigstens einen ersten metallischen Bereich aufweist, der in elektrischer Verbindung mit der ersten Kontaktfläche 11 des Halbleiterbauelementes 10 steht, der zweite Wärmetransferabschnitt 26 wenigstens einen zweiten metallischen Bereich aufweist, der in elektrischer Verbindung mit der zweiten Kontaktfläche 11 des Halbleiterbauelementes 10 steht, und die dritte Fügezone 50 zumindest abschnittsweise ein elektrisch isolierendes Fügemittel aufweist, das in wenigstens einem Teilbereich des Fügespalts den dortigen Abstand zwischen dem ersten und zweiten metallischen Bereich wenigstens zur Hälfte stoffschlüssig überbrückt.
14. Wärmeübertragungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass der erste und der zweite Wärmeleitkörper 20 und 30 überwiegend aus Kupfer und/ oder einem Kohlenstoff-Metall-Verbundwerkstoff bestehen.
15.
Verfahren zur Montage eines Halbleiterbauelementes 10, insbesondere eines Laser- oder Leuchtdiodenelementes, gekennzeichnet durch folgende Verfahrenschritte: a) zumindest abschnittsweises Einbringen des Halbleiterbauelementes 10, das
- auf einer ersten Seite wenigstens eine erste, zumindest abschnittsweise im wesentlichen ebene, Kontaktfläche 11 und
- auf wenigstens einer, der ersten Seite abgewandten, zweiten Seite wenigstens zweite, zumindest abschnittsweise im wesentlichen ebene, Kontaktfläche 12 aufweist, zwischen einen ersten und einen zweiten Wärmeleitkörper 20 und 30, in der Weise, dass - die erste Kontaktfläche 11 zumindest abschnittsweise einer ersten Wärmeeintrittsfläche 21 eines ersten Wärmeaufnahmeabschnittes 25 des ersten Wärmeleitkörpers 20 in einer dem Halbleiterbauelement 10 abgewandten Richtung gegenüberliegt, und
- die zweite Kontaktfläche 12 zumindest abschnittsweise einer zweiten Wärmeeintrittsfläche 31 eines zweiten Wärmeaufnahmeabschnittes 35 des zweiten Wärmeleitkörpers 30 in einer dem Halbleiterbauelement 10 abgewandten Richtung gegenüberliegt, b) stoffschlüssiges Verbinden des ersten Wärmeaufnahmeabschnittes 25 mit dem Halbleiterbauelement 10 unter Ausbildung einer ersten Fügezone 13 innerhalb eines Stoffschlusses, der sich in der senkrecht zur ersten Kontaktfläche orientierten Flucht des Halbleiterbauelementes 10 von der ersten Kontaktfläche 11 zur ersten Wärmeeintrittsfläche 21 erstreckt, c) stoffschlüssiges Verbinden des zweiten Wärmeaufnahmeabschnittes 35 mit dem Halbleiterbauelement 10 unter Ausbildung einer zweiten Fügezone 14 innerhalb eines Stoffschlusses, der sich in der senkrecht zur zweiten Kontaktfläche 12 orientierten Flucht des Halbleiterbauelementes von der zweiten Kontaktfläche 12 zur zweiten Wärmeeintrittsfläche 31 erstreckt, d) stoffschlüssiges Verbinden einander gegenüberliegender Bereiche eines ersten Wärmetransferabschnittes 26 des ersten Wärmeleitkörpers 20, der sich in wenigstens einer ersten
Wärmetransferrichtung zumindest abschnittsweise parallel zur ersten Kontaktfläche 11 über das
Halbleiterbauelement 10 hinaus erstreckt und eines zweiten Wärmetransferabschnittes 36 des zweiten Wärmeleitkörpers 30, der sich in wenigstens einer zweiten Wärmetransferrichtung zumindest abschnittsweise parallel zur zweiten Kontaktfläche 12 über das Halbleiterbauelement 10 hinaus erstreckt, unter Ausbildung einer dritten Fügezone 50 die zumindest abschnittsweise eine größere Dicke aufweist als die erste oder die zweite Fügezone. und e)
Ausüben wenigstens einer Druckkraft während wenigstens einem der Verfahrensschritte b), c) und d) von einem Stützabschnitt 27, 37 auf einen anderen Stützabschnitt 37, 27 der Wärmeleitkörper 20 und 30 über ein Distanzstück 60, das zumindest abschnittsweise in einer Stützposition zwischen einander gegenüberliegenden Bereichen eines ersten Stützabschnittes 27 des ersten Wärmeleitkörpers 20, der sich an den ersten
Wärmetransferabschnitt 26 anschließt, und eines zweiten Stützabschnittes 37 des zweiten Wärmeleitkörpers 30, der sich an den zweiten
Wärmetransferabschnitt 36 anschließt, angeordnet ist.
16. Verfahren zur Montage eines Halbleiterbauelementes nach Anspruch 15 dadurch gekennzeichnet, dass die Verfahrensschritte b) und d) oder die Verfahrensschritte c) und d) zumindest zeitweise in einem gemeinsamen Verbindungsprozeß erfolgen, wobei die Dicke der dritten Fügezone 50 zumindest abschnittsweise größer ist als die Dicke derjenigen der ersten oder zweiten Fügezone 13 oder 14, die zumindest zeitweise gemeinsam mit der dritten Fügezone 50 gebildet wird.
17. Verfahren zur Montage eines Halbleiterbauelementes nach Anspruch 15 oder 16 dadurch gekennzeichnet, dass die Verfahrensschritte b), c) und d) zumindest zeitweise in einem gemeinsamen Verbindungsprozeß erfolgen, wobei die Dicke der dritten Fügezone 50 zumindest abschnittsweise größer ist als die Summe der Dicken der ersten und der zweiten Fügezone 13 und 14.
18. Verfahren zur Montage eines Halbleiterbauelementes nach einem der Ansprüche 15 bis 17 dadurch gekennzeichnet, dass in Vorbereitung des Verfahrensschrittes d) ein elektrisch isolierendes Fügemittel zwischen die Wärmetransferabschnitte 26 und 36 der beiden Wärmeleitkörper 20 und 30 eingebracht wird.
19. Verfahren zur Montage eines Halbleiterbauelementes nach einem der Ansprüche 15 bis 18 dadurch gekennzeichnet, dass dass in Vorbereitung des Verfahrensschrittes e) das Distanzstück 60 zwischen die Stützabschnitte 27, 37 der Wärmeleitkörper 20, 30 eingebracht wird und während des Verfahrensschrittes e) in der Stützposition auf einer druckaufnehmenden Stützfläche 23, 33 des Stützabschnittes 27, 37 aufliegt und eine druckgebende Stützfläche 33, 23 des anderen Stützabschnittes 37, 27 auf dem Distanzstück 60 aufliegt.
20. Verfahren zur Montage eines Halbleiterbauelementes nach einem der Ansprüche 15 bis 19 dadurch gekennzeichnet, dass das Distanzstück 60 elektrisch leitfähig ist und in seiner Stützposition einen ersten metallischen Bereich, der mit der ersten Kontaktfläche 11 des Halbleiterbauelementes 10 in elektrischer Verbindung steht, mit einem zweiten metallischen Bereich, der mit der zweiten Kontaktfläche des Halbleiterbauelementes in elektrischer Verbindung steht, elektrisch verbindet.
21. Verfahren zur Montage eines Halbleiterbauelementes nach Anspruch 20 dadurch gekennzeichnet, dass der erste Wärmeleitkörper 20 den ersten metallische Bereich aufweist und der zweite Wärmeleitkörper 30 den zweiten metallischen Bereich.
22. Verfahren zur Montage eines Halbleiterbauelementes nach einem der Ansprüche 19 bis 21 dadurch gekennzeichnet, dass das Distanzstück 60 zum Betrieb des Halbleiterbauelementes 10 aus seiner Stützposition entfernt wird.
23. Verfahren zur Montage eines Halbleiterbauelementes nach einem der Ansprüche 15 bis 22 dadurch gekennzeichnet, dass zum Betrieb des Halbleiterbauelementes 10 wenigstens einer der Wärmeleitkörper 20 oder 30 auf einer dem Halbleiterbauelement 10 abgewandten Seite an wenigstens eine Wärmesenke angeschlossen wird.
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