WO2009063789A1 - Procédé permettant de former un film par pulvérisation cathodique sur une pièce tridimensionnelle, et appareil utilisé dans ce procédé - Google Patents

Procédé permettant de former un film par pulvérisation cathodique sur une pièce tridimensionnelle, et appareil utilisé dans ce procédé Download PDF

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Abstract

L'invention concerne une technologie de pulvérisation cathodique permettant de former un film, de manière uniforme, au moyen de particules de pulvérisation, même sur une pièce présentant une forme tridimensionnelle compliquée. Ce film est formé par pulvérisation de la cible sur la pièce tridimensionnelle qui est fixée sur un support de pièce de type carrousel rotatif, lequel support étant agencé pour faire face à la cible. La pièce tridimensionnelle est mise en rotation au moyen d'un arbre monté à l'intérieur d'une surface verticale par rapport à une surface qui relie la cible et l'arbre rotatif du support de pièce de type carrousel. Au moins pendant une partie de la période de pulvérisation totale, la direction de pulvérisation principale des particules de pulvérisation pulvérisées depuis la cible peut être une direction décentrée par rapport à la direction centrale de l'arbre rotatif dudit support.
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KR1020107010731A KR101246131B1 (ko) 2007-11-13 2008-11-06 삼차원 형상의 워크에의 스퍼터링 성막 방법 및 그에 이용되는 장치
JP2009541108A JP5307723B2 (ja) 2007-11-13 2008-11-06 三次元形状のワークへのスパッタリング成膜方法およびそれに用いる装置

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102018115516A1 (de) 2017-06-28 2019-01-03 Solayer Gmbh Sputtervorrichtung und Sputterverfahren zur Beschichtung von dreidimensional geformten Substratoberflächen
EP3508611A1 (fr) * 2018-01-04 2019-07-10 United Technologies Corporation Revêtement métallique pour panneaux de chambre de combustion utilisant une configuration en barillet

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102399748B1 (ko) * 2018-10-01 2022-05-19 주식회사 테토스 입체형 대상물 표면의 금속막 증착 장치
CN117178340A (zh) * 2021-04-16 2023-12-05 瑞士艾发科技 用于涂覆3d物体的溅射装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0768614B2 (ja) * 1990-03-05 1995-07-26 宇部興産株式会社 カルーセル形スパツタリング装置およびそのスパツタリング方法
JP2005133110A (ja) * 2003-10-28 2005-05-26 Konica Minolta Opto Inc スパッタリング装置
JP2007162049A (ja) * 2005-12-12 2007-06-28 Asahi Techno Glass Corp カルーセル型スパッタリング装置
JP2007170215A (ja) * 2005-12-20 2007-07-05 Yamaha Motor Co Ltd 内燃機関用部品およびその製造方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN86205741U (zh) * 1986-08-16 1987-07-15 北京市有色金属研究总院 物理气相沉积用的涂层装置
JP2004300465A (ja) * 2003-03-28 2004-10-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd スパッタ装置
JP2005163151A (ja) * 2003-12-04 2005-06-23 Seinan Kogyo Kk 三次元スパッタ成膜装置並びに方法
CN1308484C (zh) * 2004-05-20 2007-04-04 中国科学院上海光学精密机械研究所 夹具三维运动的控制装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0768614B2 (ja) * 1990-03-05 1995-07-26 宇部興産株式会社 カルーセル形スパツタリング装置およびそのスパツタリング方法
JP2005133110A (ja) * 2003-10-28 2005-05-26 Konica Minolta Opto Inc スパッタリング装置
JP2007162049A (ja) * 2005-12-12 2007-06-28 Asahi Techno Glass Corp カルーセル型スパッタリング装置
JP2007170215A (ja) * 2005-12-20 2007-07-05 Yamaha Motor Co Ltd 内燃機関用部品およびその製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102018115516A1 (de) 2017-06-28 2019-01-03 Solayer Gmbh Sputtervorrichtung und Sputterverfahren zur Beschichtung von dreidimensional geformten Substratoberflächen
EP3508611A1 (fr) * 2018-01-04 2019-07-10 United Technologies Corporation Revêtement métallique pour panneaux de chambre de combustion utilisant une configuration en barillet
US11299803B2 (en) 2018-01-04 2022-04-12 Raytheon Technologies Corporation Metallic coating process for combustor panels using a barrel configuration

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