WO2008117607A1 - Mandrin électrostatique et équipement de traitement au plasma équipé dudit mandrin électrostatique - Google Patents

Mandrin électrostatique et équipement de traitement au plasma équipé dudit mandrin électrostatique Download PDF

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Toshihiro Hayami
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Sumitomo Precision Products Co., Ltd.
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Abstract

L'invention concerne un mandrin électrostatique qui peut augmenter la force d'attraction pour tout substrat. Ledit mandrin électrostatique (21) comprend une embase (22) constituée d'un corps (23) et d'un film isolant (24), une électrode (25) et une couche isolante (26) stratifiée sur la surface supérieure du corps (23), et une alimentation CC (29) qui permet d'appliquer une tension CC aux bornes de l'électrode (25); le film isolant (24) étant formé sur la surface supérieure du corps (23), l'électrode (25) étant formée sur la surface supérieure du film isolant (24) et la couche isolante (26) étant formée sur la surface supérieure de l'électrode (25). La couche isolante (26) comprend une structure bicouche composée d'une couche polyimide (27) et d'une couche céramique (28), la couche de polyimide (27) étant formée sur la surface supérieure de l'électrode (25), et la couche céramique (28) étant formée sur la surface supérieure de la couche de polyimide (27). Un substrat K est monté sur la surface de la couche céramique (28).
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