WO2008111184A1 - Appareil de fabrication de semi-conducteur, procédé de nettoyage associé, et tranche destinée à être nettoyée - Google Patents

Appareil de fabrication de semi-conducteur, procédé de nettoyage associé, et tranche destinée à être nettoyée Download PDF

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Osamu Takahashi
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Fujitsu Microelectronics Limited
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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
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    • C23C16/4401—Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber
    • C23C16/4405—Cleaning of reactor or parts inside the reactor by using reactive gases

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Abstract

L'invention concerne un dispositif de fabrication de semi-conducteur qui peut être efficacement nettoyé, un procédé de nettoyage de l'appareil, et une tranche destinée à être nettoyée. L'appareil de fabrication de semi-conducteur (1) proposé comprend une chambre de transfert (2), une chambre de traitement (5) raccordée à la chambre de transfert (2), une chambre auxiliaire (4) qui est raccordée à la chambre de transfert (2) et qui réalise le chargement ou déchargement de la tranche (CW) destinée à être nettoyée, et un robot de transport (6) destiné à transporter la tranche (CW) jusqu'à la chambre de transfert (2), la chambre de traitement (5)et la chambre auxiliaire (4).
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