WO2008017208A1 - Dispositif de purge automatique destiné à purger le pipeline d'un revêtement de résine photorésistante et appareil de développement - Google Patents

Description

一种光阻涂布和显影装置中的管路自动清洗装置 技术领域 本发明涉及管路清洗技术，特别是一种光阻涂布和显影装置中的管路 自动清洗装置。 说 背景技术

书

光阻涂布和显影装置是半导体制造工艺中的重要装置之一。由于其不 具备自动清洗（purge) 的功能，该装置的管路不能进行自动清洗。在使用 一段时间之后，就会在管壁上形成六甲基二硅氮垸（Hexamethyldisilazane, 以下简称 HMDS) 和其他的有害微粒， 造成上述装置缺陷 （defect) 的产 生。

为对管路进行清洁，需要定时进行预防保养 (Preventive Maintenance, 以下简称 PM)。如图 la和 lb所示的已有的光阻涂布和显影装置，在每次 PM 时均需拆开上述装置的盖子 （cover)和管子接头，例如，需要将鼓泡罐 15

(Bubble tank) 前的管路拆开， 接入清洁剂丙乙醇 （IPA) 或者氮 （N₂) 源。然后拆开 HMDS—空气分配管路的气动开关阀 21前的管路， 接入废液 或废气回收瓶，运用外接压力源， 管路压入清洁剂，来达到清洁管路的 目的。 因此很容易造成管路没有接好而产生己二胺 （HMDA)泄漏， 或者 盖子没有安装正确造成的真空异常或者晶片 （wafer) 的刮伤。

另外， 在进行 PM的时候， 需要使用清洁剂丙乙醇， 如最后没有将清 洁剂丙乙醇全部清洁干净，清洁剂丙乙醇和 HMDS混合后会生成有害微粒 而增加上述装置缺陷产生的机率。 因此， 为了提高效率， 保障安全生产， 半导体生产厂家需要有一种能 克服上述现有装置的缺陷， 进行管路自动清洗的光阻涂布和显影装置。 发明内容 本发明是为了克服目前的光阻涂布和显影装置在 PM方面的缺陷而 开发完成的， 其目的在于提供一种在做 PM时不需要拆开盖子与管子接 头便能进行管路自动清洗的装置。

本发明提供一种光阻涂布和显影装置中的管路自动清洗装置，该光阻 涂布和显影装置包括鼓泡罐、 鼓泡罐输出管路、 压力表、 流量计、 HMDS -空气供应、 排放的气动开关阀和 HMDS―空气分配管路的气动幵关阀； 本发明的管路自动清洗装置包括两位三通气动换向阀， 同上述 HMDS -空 气供应、 排放的气动开关阀连接， 设置在压力表与流量计之间的氮管路， 设置在鼓泡罐的出口处的氮管路，通过上述两位三通气动换向阀与鼓泡罐 输出管路连接， 实现两种工作状态， 即通氮或者 HMDS。

在上述 HMDS—空气分配管路的气动开关阀处可以并联一个或多个 HMDS一空气分配管路的气动开关闽，则在上述 MDS -空气分配管路的气 动开关阀关闭时，管路仍然能够导通，使得上述管路中的氮可以到达反应 室。

上述 HMDS—空气分配管路的气动开关阀和上述两位三通气动换向 阀可以分别同 HMDS—空气排出管路气动开关电磁阀连接， 上述并联后的 一个或多个 HMDS -空气分配管路的气动开关阀可以同 HMDS -空气开启 开关电磁闽连接。

在另一个 HMDS—空气分配管路的气动开关阀处还可以并联一个或 多个 HMDS -空气分配管路的气动开关阀。 上述光阻涂布和显影装置最好是东京电子公司生产的用于半导体生 产中的光阻涂布和显影的机器 CLEAN TRACK, 型号为 MK8 ADH的一个 单元 ₀ 釆用本发明提供的一种光阻涂布和显影装置中的管路自动清洗装置， 由于在管路中增加了两条氮管路， 可以直接从氮源接入作为清洁剂的氮， 另外， 由于在 HMDS—空气分配管路的气动开关阀处并联一个与该阀同样 的阅， 这样， 在气动开关阀关闭时， 管路仍然能够导通， 使得管路中的氮 可以到达反应室， 因此在进行定时 PM时不再需要拆开上述装置的盖子和 管子接头， 免去了接入废液或废气回收瓶， 运用外接压力源， Χ管路压入 清洁剂的麻烦， 同时可以防止因管路没有接好而产生己二胺（HMDA)泄 漏， 或者盖子没有安装正确造成的真空异常或者晶片刮伤。釆用本发明的 管路自动清洗装置，可以在不改变软件设定的状态下，实现管路的自动清 洗。

本发明的另一显著特点是使用氮气代替丙乙醇，原因是氮气是惰性气 体，可以由机台 （CLEAN TRACK)提供，而且使用丙乙醇清洁管路后，必 须要排除干净，如有残留会增加上述装置故障的机率，而使用氮气则不会 对由于残留而产生上述装置缺陷。

为让本发明之上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举 较佳实施例， 并配合附图， 作详细说明如下。 附图说明 图 la与图 lb是已有的光阻涂布和显影装置的管路设备示意图。 图 2a与图 2b是本发明的一较佳实施例的光阻涂布和显影装置的管路 设备示意图。

图 3是本发明的一较佳实施例的光阻涂布和显影装置中鼓泡罐与电磁 阀连接的示意图。 具体实施方式 请参照图 2a与 2b, 图 2a与图 2b是本发明的一较佳实施例的一种光阻涂 布和显影装置中的管路自动清洗装置的示意图。上述光阻涂布和显影装置 最好是东京电子 （TEL) 公司所生产的用于半导体生产中的光阻涂布和显 影的机器 CLEAN TRACK, 型号为 MK8 ADH的一个单元， 其主要用途是 晶片的表面涂布一层表面附着剂以增加晶片的表面张力。图 2a和图 2b是表 示光阻涂布和显影装置， 图中所示的管路 191， 192, 193 , 194, 195分别 表示连接两图所示装置的管路。如图所示，本发明的一较佳实施例的一种 光阻涂布和显影装置中的管路自动清洗装置在已有的管路中增加两条氮 (N₂)管路， 即分别在已有的管路的压力表 13与流量计 11、 12之间增加一 条氮管路 16, 同时在鼓泡罐 15的出口增加一条氮管路 17，并通过一个两位 三通气动换向阁 52与鼓泡罐 15的输出管路连接起来，通过两位三通气动换 向阀 52实现同一条管路的两种工作状态， 即通氮或者 HMDS。 下面请参照图 3，图 3是本发明的一较佳实施例的一种光阻涂布和显影 装置中的管路自动清洗装置中鼓泡罐 15与电磁阀连接的示意图。 本发明的一较佳实施例管路自动清洗装置在已有的光阻涂布和显影 装置的管路装置中的 HMDS -空气分配管路的气动开关阀 21处再并联一 个同样的电磁阀 51，其目的是在 HMDS—空气分配管路的气动开关阀 21关 闭时， 管路仍然能够导通， 使得管路中的氮可以到达反应室。

图 3中各装置的连接如下： 在鼓泡罐 15的出口通过两位三通气动换向 阀 52接入氮管， 两位三通气动换向阀 52连接 HMDS—空气供应、 排放的气 动开关阀 14， 之后连接于 HMDS -空气分配管路的气动开关阀 21， 该阀 21 与一个同样的气动开关阀 51并联。气动开关阀 21和气动开关阀 51的出口到 达反应室。上述气动幵关阀 51和上述两位三通气动换向阀 52同时与 HMDS 一空气排出管路气动开关电磁阀 23连接，上述气动开关阀 21同时与图 2b中 HMDS一空气开启开关电磁阀 22连接。

在 HMDS -空气分配管路的气动开关阀 25处并联一个 HMDS -空气分 配管路的气动开关阀 26。 当然，本发明还可有其他实施例，在不背离本发明思想及其实质的情 况下，所属技术领域的技术人员当可根据本发明作出各种相应的变更和改 形， 但这些相应的变更和改形都应属于本发明的权利要求的保护范围。

Claims

1.一种光阻涂布和显影装置中的管路自动清洗装置，该光阻涂布和显 影装置包含鼓泡罐 （15)， 鼓泡罐输出管路， 压力表 （13) 、 流量计 （11)

( 12) 、 六甲基二硅氮垸—空气供应、 排放的气动开关阀 （14) 和六甲基 二硅氮烷-空气分配管路的气动开关阀 （21) ， 其特征是包括

两位三通气动换向阀 （权52) ， 同上述六甲基二硅氮烷—空气供应、 排 放的气动开关阀 （ ) 连接，

设置在压力表 （13) 与流量计 （11) 、 流量计 （12) 之间的氮管路， 设置在鼓泡罐 （15) 的出口处的氮管路，通过上述两位三通气动换向 书

阀 （52) 与鼓泡罐输出管路连接。

2.根据权利要求 1所述的装置， 其特征是在六甲基二硅氮垸—空气分 配管路的气动开关阀 （21)处并联一个六甲基二硅氮烷一空气分配管路的 气动开关阀 (51) 。

3.根据权利要求 2所述的装置， 其特征是上述六甲基二硅氮烷-空气 分配管路的气动开关阀 （51 ) 和上述两位三通气动换向阀 （52) 分别同六 甲基二硅氮垸一空气排出管路气动开关电磁阀 （23)连接， 上述六甲基二 硅氮烷一空气分配管路的气动开关阀（21) 同六甲基二硅氮烷—空气开启 开关电磁阀 （22) 连接。

4.根据权利要求 3所述的装置， 其特征是在六甲基二硅氮烷一空气分 配管路的气动开关阀（25)处并联一个六甲基二硅氮垸―空气分配管路的 气动开关阀 (26) 。

5.根据权利要求 1所述的装置， 其特征是上述光阻涂布和显影装置是 东京电子公司生产的用于半导体生产中的光阻涂布和显影的机器 CLEAN TRACK, 型号为 MK8 ADH的一个单元。