WO2007119023A2 - Utilisation d'un materiau nanostructure, comme revetement protecteur de surfaces metalliques - Google Patents

Utilisation d'un materiau nanostructure, comme revetement protecteur de surfaces metalliques Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to the use of a material comprising at least one elementary nanoblock and a matrix of polymer or organic / inorganic hybrid type as constituting a protective coating of metal surfaces, in particular for aeronautical and aerospace applications, and a particular nanostructured material.
  • protection against corrosion is generally provided by chromium VI surface treatments, for example, by means of a chromic anodic oxidation process, or a conversion layer.
  • US 2003/024432 discloses a coating having anti-corrosion properties, prepared sol-gel from an organometallic salt such as an alkoxyzirconium, an organosilane, and one or more compounds carrying a borate, zinc or phosphate function, in the presence of an organic catalyst such as acetic acid.
  • organometallic salt such as an alkoxyzirconium, an organosilane, and one or more compounds carrying a borate, zinc or phosphate function
  • US Pat. Nos. 6,261,638 and 1,097,259 disclose methods for preventing the corrosion of metals, comprising the application of a treatment solution based on polyfunctional silanes and difunctional silanes comprising in their chain several atoms. sulfur, respectively.
  • these materials have the disadvantage of not being micro- or nanostructured, that is, the distribution of organic and inorganic domains in the material can not be controlled at the micrometer or nanometer scale. This random distribution can lead to non-reproducible properties from one material to another.
  • An advantage of the sol-gel process consists in constructing a three-dimensional network from starting precursors under so-called mild conditions, that is to say at a temperature below 200 ° C., and in a water or water / solvent medium. less harmful to the environment than those used for conventional surface treatments.
  • the starting precursors generally used in said sol-gel process are metal alkoxides comprising one or more hydrolyzable groups.
  • metal alkoxides there may be mentioned alkoxides of silicon or zirconium, alone or in mixture.
  • SNAP nanophase particle
  • US 6,929,826 discloses a method of treating metal surfaces from an aqueous composition comprising an alkoxysilane, an epoxyalkoxysilane and water. This process comprises in particular the steps of mixing the ingredients of the composition, the aging of said composition, the addition of a crosslinking agent, a surfactant and optionally water, and then the application of the final composition to a composition. metal substrate and drying said substrate.
  • a nanoscale structure control allows to obtain new macroscopic properties that are not only the sum of the properties of each of the components such as mechanical strength, thickness and quality of the film, density, color and hydrophobic character can be modulated at will, but actually new properties. They result from the synergy of these components at the nanoscale. In addition, this control of the nanoscale structure leads to a reproducibility of the properties.
  • Nanostructured materials are materials whose structure is controlled at the nanoscale. This structure can be verified in particular by X-ray diffraction and small-angle X-ray scattering, transmission microscopy (or TEM) or atomic force microscopy (AFM).
  • Some of these materials such as the matrix obtained by the sol / gel route, are amorphous, while the other part consists of crystalline domains of nanometric size.
  • These materials may comprise various functionalities that make it possible to confer on a substrate (or surface), in particular an alloy of aluminum or titanium, for example, a protection against corrosion, a scratch resistance, a good mechanical strength and / or a staining while ensuring good adhesion to the metal substrate.
  • these materials can allow the coexistence of several different functionalities that do not coexist in normal times, and can be applied by any conventional technique such as, for example, by dipping in a bath, deposit on rotating substrate (or spin -coating), sprinkling, laminar coating and brush deposit.
  • the individual components may be designed to have a life time compatible with industrial cycles, for example, greater than or equal to 12 months, and to be mixed just prior to their application. Their formulation has the additional advantage of using components compatible with environmental regulations, and in particular to be predominantly in an aqueous medium.
  • the subject of the present invention is therefore the use of such a material as a constituent of a multifunctional protective coating for metal surfaces, in particular in aeronautics and aerospace, such as for example on structural elements of aircraft.
  • This material consists of elementary nanoblocks and a polymer or hybrid organic / inorganic matrix, that is to say a matrix comprising both organic and inorganic groups.
  • These elementary nanoblocks may be in the form of clusters or nanoparticles, preferably nanoparticles of size ranging from 2 to 100 nm, better still from 2 to 50 nm, more preferably from 2 to 20 nm, more preferably from 2 to 10 nm, and more preferably from 2 to 5 nm, the diameter of these nanoparticles being able to be measured by X-ray diffraction and small-angle X-ray scattering, transmission (or TEM) microscopy or light scattering.
  • the nanoparticles have a size having a low dispersion.
  • These elementary nanoblocks are essentially based on at least one metal oxide, the metal oxide being chosen, for example, from oxides of aluminum, cerium III and IV, silicon, zirconium, titanium and tin, more preferably among the oxides of zirconium and cerium IV.
  • the metal oxide being chosen, for example, from oxides of aluminum, cerium III and IV, silicon, zirconium, titanium and tin, more preferably among the oxides of zirconium and cerium IV.
  • a first method consists of synthesizing them from metal salts by precipitation.
  • Complexing agents may be introduced into the reaction medium to control the size of the elementary nanoblocks formed and ensure their dispersion in the solvent by functionalization of 80 to 100% of the surface of the nanoblocks with monodentate or polydentate complexing agents, such as, for example, carboxylic acid, ⁇ -diketone, ⁇ -ketoester, ⁇ - or ⁇ -hydroxyacid, phosphonate, polyamine and amino acid .
  • monodentate or polydentate complexing agents such as, for example, carboxylic acid, ⁇ -diketone, ⁇ -ketoester, ⁇ - or ⁇ -hydroxyacid, phosphonate, polyamine and amino acid .
  • the weight ratio between the mineral and organic components is in particular between 20 and 95%.
  • the elemental nanoblocks can also be obtained from at least one metal alkoxide or metal halide via hydrolytic or non-hydrolytic processes.
  • a hydrolytic process the controlled hydrolysis of at least one metal alkoxide precursor or metal halide of general formula is carried out:
  • M represents Al (III), Ce (III), Ce (IV), Si (IV), Zr (IV), Ti (IV) or Sn (IV), preferably Zr (IV) or Ce (IV), number in parenthesis being the valence of the metal atom, n is the valence of the atom M, x is an integer from 1 to n - 1,
  • Z represents a halogen atom such as F, Cl, Br and I, preferably
  • R represents an alkyl group preferably comprising 1 to 4 carbon atoms, such as a methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl or butyl group, preferably methyl or ethyl;
  • R ' represents a non-hydrolyzable group chosen from alkyl groups, especially Ci- 4 , for example, methyl, ethyl, propyl or butyl; alkenyl groups, in particular C 2 -4 alkenyl, such as vinyl, 1-propenyl, 2-propenyl and butenyl; alkynyl groups, especially C 2 -4 , such as acetylenyl and propargyl; aryl groups, in particular C 6-10 , such as phenyl and naphthyl; methacryl or methacryloxy (C 1 -C 10 ) alkyl groups such as methacryloxypropyl; and the epoxyalkyl groups or epoxyalkoxyalkyl wherein the alkyl group is linear, branched or cyclic, C 1 -C 10 , and the alkoxy group has 1 to 10 carbon atoms, such as glycidyl and glycidyloxy (C 1 -C 10 alkyl
  • L is a polydentate ligand.
  • controlled hydrolysis is meant a limitation of the growth of the species formed by controlling the amount of water introduced into the medium and possibly by introducing a complexing agent of the metallic central atom, in order to reduce the reactivity of the precursors .
  • the elementary nanoblocks, preferably in the form of amorphous or crystallized nanoparticles, used in the present invention are functionalized on the surface. Functionalization of said elementary nanoblocks is in the presence of a functionalizing agent which is a difunctional molecule, one of whose functions has an affinity for the surface of the elementary nanoblock and the other function interacts with the matrix.
  • the post-functionalization can be carried out chemically, by choosing a difunctional molecule as functionalization agent, one of whose functions has an affinity for the surface of the elementary nanoblock and the other function will interact with the matrix but will have no affinity for the surface of the elementary nanoblock.
  • Chemical functionalization thus makes it possible to modify the surface of the nanoblocks, in particular by simply mixing a solution containing the elementary nanoblocks with a solution containing the functionalization agent.
  • Examples of functional groups having an affinity for the surface of the nanoblock include, for example, a carboxylic acid function, a diketone function, a phosphate or phosphonate function, an ⁇ - or ⁇ -hydroxyacid function or a transition metal polydentate complex. .
  • functions that can interact with the matrix include primary, secondary or tertiary amine groups such as C 1 -C 5 alkylamino, and polymerizable functions such as vinyl, acrylate or methacrylate.
  • di-functional molecules used as functionalizing agent there may be mentioned 6-aminocaproic acid and 2-aminoethylphosphonic acid.
  • the degree of functionalization is preferably greater than 50%, better still greater than 80%.
  • the elementary nanoblocks are introduced into an inorganic / organic polymer or hybrid matrix, preferably a hybrid of the sol / gel type, better still based on silica, and even more preferably consisting of silica or silica / oxide. of zirconium.
  • This matrix will serve as a connector through which the elementary blocks will form a three-dimensional network.
  • Inorganic / organic hybrid matrices are typically obtained by polycondensation of at least two metal alkoxides or metal halides in the presence of a solvent, and optionally a catalyst.
  • the metal alkoxides or metal halides employed are chosen from those having the general formulas:
  • n ' represents the valence of the metal atom M', preferably 3, 4 or 5;
  • x ' is an integer from 1 to no;
  • M ' represents a metal atom of valence III such that Al; a metal atom of valence IV such as Si, Ce, Zr and Ti; or a metal atom of valence V such as Nb.
  • Z ' represents a hydrolyzable group chosen from halogen atoms, for example F, Cl, Br and I, preferably Cl and Br; preferably C 1-4 alkoxy groups, such as methoxy, ethoxy, n-propoxy, i-propoxy and butoxy; aryloxy groups, in particular C 6-10 , such as phenoxy; especially C 1-4 acyloxy groups, such as acetoxy and propionyloxy; and C 1-10 alkylcarbonyl groups such as acetyl.
  • Z ' represents an alkoxy group, and more particularly an ethoxy or methoxy group;
  • R represents a monovalent non-hydrolyzable group selected from alkyl preferably Ci-4, for example, methyl, ethyl, propyl and butyl, alkenyl groups, especially C 2-4, such as vinyl, 1-propenyl, 2-propenyl and butenyl, especially C 2 -C 4 alkynyl groups such as acetylenyl and propargyl, particularly C 6 -C 10 aryl groups, such as phenyl and naphthyl, methacryl and methacryloxy (C 1 -C 10) alkyl groups; such as methacryloxypropyl, and epoxyalkyl or epoxyalkoxyalkyl groups in which the alkyl group is linear, branched or cyclic, C1-10, and the alkoxy group has from 1 to 10 carbon atoms, such as glycidyl and glycidyloxy (C1-10 alkyl).
  • alkyl preferably Ci-4, for example, methyl,
  • R " is preferably methyl or glycidyloxy (C1-10) alkyl such as glycidyloxypropyl;
  • R '" represents a divalent non-hydrolyzable group selected from alkylene groups preferably C 1-4 , for example, methylene, ethylene, propylene and butylene, alkenylene groups in particular C 2-4 , such as vinylene, 1-propenylene , 2-propenylene and butenylene, especially C 2 -C 4 alkynylene groups such as acetylenylene and propargylene, especially C 6-10 arylene groups, such as phenylene and naphthylene, methacryl and methacryloxy C 1 -C 4 alkyl groups; 10 ) such as methacryloxypropyl; and epoxyalkyl or epoxyalkoxyalkyl groups in which the alkyl group is linear, branched or cyclic, C 1 -C 10 , and the alkoxy group has from 1
  • the matrix is obtained from a mixture of at least three silicon alkoxides:
  • R 1 represents a methyl or ethyl group
  • R 2 and R 3 each represent a (meth) acrylate, vinyl, epoxyalkyl or epoxyalkoxyalkyl group in which the alkyl group is linear, branched and / or cyclic, C 1 -C 10 , and the alkoxy group comprises from 1 to 10 atoms, for example, the 3, 4-epoxycyclohexylethyl or glycidyloxy (C 1 -C 10 ) alkyl group such as glycidyloxypropyl, and
  • R 4 represents a C 1 -C 10 alkyl group such as methyl.
  • the proportion of the precursor R 2 Si (OR 1 ) 3 is the majority, whereas that of the precursor R 3 R 4 Si (OR 2) is a minority, for example from 5 to 30% by weight, more preferably of the order of 20% by weight relative to the total weight of the precursor mixture.
  • the solvent consists mainly of water. Preferably, it comprises 80 to 100% by weight of water relative to the total weight of the solvent, and optionally an alcohol Ci-4, preferably the ethano l or P isopropanol.
  • the catalyst is preferably an acid, more preferably acetic acid, or CO 2 .
  • the solution to be deposited is mainly composed of a mixture of silanes, for example from 5 to 30% by weight, preferably of the order of 20% by weight relative to the total weight of the solution.
  • the molar ratio of acid to silicon is preferably around 1%.
  • the molar ratios of the functionalized elemental nanoblocks added with respect to silicon are less than 20%. For example, they are preferably 5% and 10% for cerium oxide and zirconium oxide respectively.
  • a nanostructured material is prepared according to the invention on the one hand: - by preparing the elementary nanoblocks, in particular by a hydrolytic process or not as described above, by functionalizing the elementary nanoblocks, on the other hand by preparing the matrix, then by mixing the functionalized elementary nanoblocks and the matrix.
  • At least one additive may optionally be added, either during the preparation of the elementary nanoblocks, or during the mixing of the functionalized elementary nanoblocks and the matrix, or during these two steps.
  • a final material of the type may be formed.
  • core / envelope the core being constituted by the additive and the envelope being constituted by an elementary nanoblock.
  • the additives that can be used in the invention include surfactants for improving the wettability of the soil on the metal substrate, such as the fluorinated nonionic polymers sold under the trademarks FC 4432 and FC4430 by the company 3M; colorants, for example rhodamine, fluorescein, methylene blue and ethyl-violet; crosslinking agents such as (3-trimethoxysilylpropyl) diethylenetriamine; coupling agents such as aminopropyltriethoxysilane (APTS); nanopigments; corrosion inhibitors such as benzotriazole, or mixtures thereof
  • metal surfaces used to be coated by the nanostructured material described above are titanium, aluminum and their respective alloys, such as, for example, titanium.
  • the aluminum of the 2000 family more particularly the plated or uncoated Ai 2024
  • the aluminum of the 7000 family more particularly the Ai 7075 or 7175 and the aluminum of the 6000 or 5000 family.
  • metal surfaces obtained from the nanostructured materials as described above, make it possible in particular to obtain protection against corrosion, scratch resistance, coloration and hydrophobicity which can be modulated as desired, while adhering well to the surface of the substrate metallic.
  • these coatings are deposited using simple techniques to be implemented on metal surfaces, for example by dipping in a bath, deposit on spinning substrate (or spin-coating), spraying, laminar coating or brush deposition. In addition, these techniques use products that are compatible with the environment.
  • Another object of the present invention is a particular nanostructured material comprising functionalized elementary nanoblocks as described above and a hybrid matrix organic / inorganic compound prepared from at least three particular metal alkoxides having the following formulas:
  • the particular nanostructured material according to the invention may be prepared according to a process comprising especially the steps of: firstly a) preparing the elementary nanoblocks by a hydrolytic process or not, from at least one metal alkoxide as described above, and b) functionalize the elementary nanoblocks by means of a functionalizing agent as described above, on the other hand c) prepare the hybrid organic / inorganic matrix by sol-gel, from the three alkoxides of silicon as defined above, the sol-gel preparation being carried out in the presence of a solvent, and optionally a catalyst as described above, then d) mixing the functionalized elemental nanoblocks obtained at step b) and the matrix obtained in step c). and
  • At least one additive as described above may optionally be added during step a) or during step d) or during both steps a) and d).
  • step d) In the case where an additive is added during step a), it is possible to form a final material of step d) of core / shell type, the core being constituted by the additive and the envelope being constituted by an elementary nanoblock.
  • the object of the invention is also an article comprising a metal substrate, for example titanium, aluminum or one of their alloys, and a particular nanostructured material as defined above.
  • This article according to the invention can be prepared by a conventional coating method which comprises a step of dipping in a bath, deposition on rotating substrate, spraying, laminar coating or brush deposition of at least one particular nanostructured material as defined above.
  • FT-IR Fourier Transform Infra Red
  • Example 3 Preparation of a solution of NBB-3 by functionalization of cerium oxide with 2-aminoethylphosphonic acid
  • the hydrodynamic diameter of the functionalized particles obtained was estimated by light scattering as being between 2 and 10 nm.
  • TMOS tetramethoxysilane
  • GTMS 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane
  • GMDES 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane
  • the solution was stirred at room temperature in a closed flask for 6 days.
  • the 6th day was introduced into the mixture, NBB-2 solution prepared in Example 2 in an amount such that the molar ratio Ce / Si is 0.05 to t.
  • a few minutes before the deposition of a film was added to the solution (A) a specific amount of the wetting agent solution of Example 6, so as to obtain in the final mixture a mass proportion of 0, 04% wetting agent, based on the total weight of the mixture.
  • the non-clad Al 2024 T3 alloy substrate of size 125 ⁇ 80 ⁇ 1.6 mm, was prepared for a total surface area of 2 dm 2 , just prior to deposition, according to a methodology known to those skilled in the art such as the alkaline degreasing followed by acidic etching, formulation compatible with environmental regulations. A film was deposited on the substrate by immersion of the latter in the final mixture for 90 seconds and then removal and drying at room temperature.
  • a solution (A) was prepared in the same manner as in Example 7. A quantity of rhodamine B corresponding to a dye concentration in the solution (A) was dissolved in the solution (A). solution of 10 ⁇ 3 M. Instantly, the solution took a pronounced pink hue.
  • the substrate was prepared just prior to deposition in the same manner as in Example 7.
  • a film was deposited on the substrate by immersion of the substrate in the final mixture for 90 seconds followed by removal and drying at room temperature.
  • TMOS tetramethoxysilane
  • GPSTMS 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane
  • DMDES dimethyldiethoxysilane
  • the solution was stirred at room temperature in a closed flask for 1 day. After one day of soil aging, the NBB-2 solution was added in such a quantity that the Ce / Si to t molar ratio was 0.05. Stirring was continued for 30 minutes to obtain a solution (B).
  • the solution containing the wetting agent of Example 6 was then added so as to obtain a wetting agent concentration of 0.04% by weight in the final mixture.
  • the substrate was prepared just prior to deposition in the same manner as in Example 7.
  • a solution (B) was prepared in the same manner as in Example 9, and then 7 ml of NBB-4 solution was added. It was allowed to stir a few minutes to obtain the solution (C).
  • the wetting agent solution of Example 6 was then introduced so as to obtain a wetting agent concentration of 0.04% by weight in the final mixture.
  • the substrate was prepared just prior to deposition in the same manner as in Example 7.
  • a film was deposited on the substrate by immersion of the latter in the final mixture for 90 seconds and then removal and drying at room temperature.
  • test pieces Two test pieces were prepared. After drying one of them for 24 hours at room temperature, it was treated at 110 ° C. for 30 minutes.
  • a solution (C) was prepared in the same manner as in Example 10.
  • the substrate was prepared just prior to deposition in the same manner as in Example 7.
  • a film was deposited on the substrate by immersion of the latter in the final mixture for 90 seconds and then removal and drying at room temperature.
  • Example 12 NBB-2 + NBB-4 + Matrix GPTMS / TMOS / DMDES
  • Example 10 aminopropyltriethoxysilane coupling agent (APTS)
  • a solution (C) was prepared in the same manner as in Example 10. Then 3.2 g were introduced. of APTS, then a few minutes later, the wetting agent solution of Example 6 was introduced so as to obtain a wetting agent concentration of 0.04% by weight in the final mixture.
  • the substrate was prepared just prior to deposition in the same manner as in Example 7.
  • a film was deposited on the substrate by immersion of the latter in the final mixture for 90 seconds and then removal and drying at room temperature. Two test pieces were prepared. After drying one of them for 24 hours at room temperature, it was treated at 110 ° C. for 30 minutes.
  • TMOS tetramethoxysilane
  • GTMS 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane
  • DMDES dimethyldiethoxysilane
  • NBB-3 solution 1 ml of NBB-3 solution. It was allowed to stir at room temperature for 24 hours. Deposition was performed on the rotating substrate (or spin-coating) rotating at 1500 rpm, and allowed to dry at room temperature.
  • TMOS tetramethoxysilane
  • GTMS 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane
  • DMDES dimethyldiethoxysilane
  • TMOS tetramethoxysilane
  • GTMS 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane
  • DMDES dimethyldiethoxysilane
  • These films have a good stability of the interfaces, namely between the deposited layer and the metal substrate, and between the deposited layer and the primary paint deposit, as well as good resistance to mechanical deformations such as shock and bending.
  • the corrosion resistance with or without paint is comparable to that of the chromated layers.

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Abstract

La présente invention concerne l'utilisation d'un matériau nanostructuré, comme revêtement protecteur de surfaces métalliques, ledit matériau nanostructuré comprenant des nanoblocs élémentaires fonctionnalisés et une matrice polymère ou hybride organique/inorganique. Elle concerne aussi un matériau nanostructuré particulier dans lequel la matrice est préparée à partir d'au moins trois alcoxydes de silicium.

Description

Utilisation d'un matériau nanostructuré, comme revêtement protecteur de surfaces métalliques
La présente invention concerne l'utilisation d'un matériau comprenant au moins un nanobloc élémentaire et une matrice de type polymère ou hybride organique/inorganique, comme constituant d'un revêtement protecteur de surfaces métalliques, en particulier pour des applications aéronautiques et aérospatiales, et un matériau nanostructuré particulier.
Dans le domaine aéronautique, la protection contre la corrosion est généralement assurée par des traitements de surface à base de chrome VI, par exemple, au moyen d'un procédé d'oxydation anodique chromique, ou d'une couche de conversion.
Cependant, on a trouvé que le chrome VI était toxique, cancérigène et dangereux pour l' environnement. A terme son utilisation va être interdite.
Il existe donc un besoin de trouver un autre système assurant une protection, par exemple, contre la corrosion mais aussi contre les rayures ou autres, qui soit au moins aussi performant que ceux existant.
Des matériaux hybrides organiques/inorganiques préparés par voie sol-gel ont déjà été envisagés dans la technique.
Par exemple, le document US 2003/024432 décrit un revêtement ayant des propriétés anti-corrosion, préparé par voie sol- gel à partir d'un sel organométallique tel qu'un alcoxyzirconium, d'un organosilane, et d'un ou de plusieurs composés portant une fonction borate, zinc ou phosphate, en présence d'un catalyseur organique tel que l'acide acétique.
Les documents US 6 261 638 et EP 1 097 259 décrivent quant à eux des procédés pour empêcher la corrosion de métaux, comprenant l' application d'une solution de traitement à base de silanes polyfonctionnels et de silanes difonctionnels comportant dans leur chaîne, plusieurs atomes de soufre, respectivement. Cependant, ces matériaux présentent l' inconvénient de ne pas être micro- ou nanostructurés, c' est-à-dire que la répartition des domaines organiques et inorganiques dans le matériau ne peut pas être maîtrisée à l' échelle micrométrique ou nanométrique. Cette répartition aléatoire peut conduire à des propriétés non reproductibles d'un matériau à un autre.
Un avantage du procédé sol-gel consiste à construire un réseau tridimensionnel à partir de précurseurs de départ dans des conditions dites douces, c' est-à-dire à une température inférieure à 200 0C, et dans un milieu eau ou eau/solvant moins nocif pour l' environnement que ceux utilisés pour les traitements de surface classiques.
Les précurseurs de départ généralement utilisés dans ledit procédé sol-gel sont des alcoxydes métalliques comprenant un ou plusieurs groupes hydrolysables. A titre d'exemples d'alcoxydes métalliques, on peut notamment citer les alcoxydes de silicium ou de zirconium, seuls ou en mélange.
L 'article « The self-assembled nanophase particle (SNAP) process : a nanoscience approach to coatings », M. S . Donley et al, Progress in Organic Coatings, 47, 401 -415 , 2003 , décrit des revêtements en un matériau amorphe, obtenus dans des conditions douces, à partir d'une solution aqueuse comprenant du tétraméthoxysilane et du glycidopropyltriméthoxysilane. Un inhibiteur de corrosion est ensuite introduit dans le matériau.
Le brevet US 6 929 826 décrit un procédé de traitement de surfaces métalliques à partir d'une composition aqueuse comprenant un alcoxysilane, un époxyalcoxysilane et de l' eau. Ce procédé comprend notamment les étapes de mélange des ingrédients de la composition, le vieillissement de ladite composition, l'addition d'un agent de réticulation, d'un tensioactif et éventuellement d' eau, puis l' application de la composition finale sur un substrat métallique et séchage dudit substrat.
Le demandeur a découvert de manière surprenante qu'un contrôle de structure à l'échelle nanométrique permet d'obtenir de nouvelles propriétés macroscopiques qui ne sont pas seulement la somme des propriétés de chacune des composantes telles que tenue mécanique, épaisseur et qualité du film, densité, coloration et caractère hydrophobe modulable à souhait, mais réellement des propriétés nouvelles. Elles résultent de la synergie de ces composantes à l'échelle nanométrique. En outre, cette maîtrise de la structure à l'échelle nanométrique conduit à une reproductibilité des propriétés.
Ce contrôle est atteint grâce à des matériaux composites nanostructurés.
Par matériaux nanostructurés, on entend des matériaux dont la structure est contrôlée à l' échelle nanométrique. Cette structure peut être vérifiée notamment par diffraction des rayons X et diffusion des rayons X aux petits angles, microscopie à transmission (ou TEM) ou microscopie à force atomique (ou AFM).
Ces matériaux sont connus de l'article "Designed hybrid organic-inorganic nanocomposites from functional nanobuilding blocks" de C . Sanchez et al, Chem. Mater., 2001 , 13 , 3061 -3083 , et sont synthétisés à partir de blocs élémentaires de taille nanométrique (ou nanoblocs élémentaires ou NBB (Nano-Building Blocks)) bien définis, de préférence pré- ou post-fonctionnalisés, et d'une résine polymère ou hybride organique/inorganique.
Une partie de ces matériaux, telle que la matrice obtenue par voie sol/gel, est amorphe, tandis que l' autre partie est constituée de domaines cristallins de taille nanométrique.
Ces matériaux peuvent comporter des fonctionnalités diverses qui permettent de conférer à un substrat (ou surface) notamment un alliage d' aluminium ou de titane, par exemple, une protection contre la corrosion, une résistance aux rayures, une bonne tenue mécanique et/ou une coloration tout en assurant une bonne adhérence sur le substrat métallique. En outre, ces matériaux peuvent permettre la coexistence de plusieurs fonctionnalités différentes qui ne coexistent pas en temps normal, et peuvent être appliqués par une quelconque technique classique telle que, par exemple, par trempage dans un bain, dépôt sur substrat en rotation (ou spin-coating), aspersion, enduction laminaire et dépôt au pinceau. Les composants individuels peuvent être conçus de manière à avoir une durée de vie compatible avec les cycles industriels, par exemple, supérieure ou égale à 12 mois, et être mélangés juste avant leur application. Leur formulation présente l' avantage supplémentaire d'utiliser des composants compatibles avec la réglementation environnementale, et notamment d' être en majoritairement en milieu aqueux.
La présente invention a donc pour objet l'utilisation d'un tel matériau comme constituant d'un revêtement protecteur multifonctionnel de surfaces métalliques, notamment dans l' aéronautique et dans l' aérospatiale, comme par exemple sur des éléments structurels d' avion.
Ce matériau est constitué de nanoblocs élémentaires et d'une matrice polymère ou hybride organique/inorganique, c'est-à-dire une matrice comprenant à la fois des groupements organiques et minéraux.
Ces nanoblocs élémentaires peuvent être sous forme de clusters ou de nanoparticules, de préférence de nanoparticules de taille allant de 2 à 100 nm, mieux encore de 2 à 50 nm, encore mieux de 2 à 20 nm, plus préférentiellement de 2 à 10 nm et encore plus préférentiellement de 2 à 5 nm, le diamètre de ces nanoparticules pouvant être mesuré par diffraction des rayons X et diffusion des rayons X aux petits angles, microscopie à transmission (ou TEM) ou diffusion de la lumière.
De préférence, les nanoparticules ont une taille présentant une faible dispersion. Ces nanoblocs élémentaires sont essentiellement à base d'au moins un oxyde métallique, l'oxyde métallique étant choisi par exemple, parmi les oxydes d' aluminium, de cérium III et IV, de silicium, de zirconium, de titane et d'étain, mieux encore parmi les oxydes de zirconium et de cérium IV. Plusieurs procédés de synthèse peuvent être utilisés pour les préparer.
Un premier procédé consiste à les synthétiser à partir de sels métalliques, par précipitation. Des agents complexants peuvent être introduits dans le milieu réactionnel pour contrôler la taille des nanoblocs élémentaires formés et assurer leur dispersion dans le solvant par fonctionnalisation de 80 à 100 % de la surface des nanoblocs avec des agents complexants monodentates ou polydentates, tels que par exemple, acide carboxylique, β-dicétone, β-cétoester, α- ou β-hydroxyacide, phosphonate, polyamine et acide aminé. Le rapport pondéral entre les composantes minérale et organique est compris notamment entre 20 et 95 %.
Les nanoblocs élémentaires peuvent également être obtenus à partir d'au moins un alcoxyde métallique ou halogénure métallique via des processus hydrolytiques ou non hydrolytiques. Dans le cas d'un processus hydrolytique, on réalise l'hydrolyse contrôlée d'au moins un précurseur alcoxyde métallique ou halogénure métallique de formule générale :
MZn ( 1 ),
R'xMZn-x (2) ou Lm xMZn-mx (3), formules ( 1 ), (2) et (3) dans lesquelles :
M représente Al(III), Ce(III), Ce(IV), Si(IV), Zr(IV), Ti(IV) ou Sn(IV), de préférence Zr(IV) ou Ce(IV), le chiffre entre parenthèse étant la valence de l' atome métallique, n représente la valence de l' atome M, x est un nombre entier allant de 1 à n- 1 ,
Z représente un atome d'halogène tel que F, Cl, Br et I, de préférence
Cl et Br, ou -OR ;
R représente un groupe alkyle comprenant de préférence 1 à 4 atomes de carbone, tel qu'un groupe méthyle, éthyle, n-propyle, i-propyle ou butyle, de préférence méthyle ou éthyle ;
R' représente un groupe non hydrolysable choisi parmi les groupes alkyle notamment en Ci -4, par exemple, méthyle, éthyle, propyle ou butyle ; les groupes alcényle en particulier en C2 -4, tels que vinyle, 1 - propényle, 2-propényle et butényle ; les groupes alcynyle en particulier en C2 -4, tels que acétylényle et propargyle ; les groupes aryle en particulier en C6 - 10, tels que phényle et naphthyle ; les groupes méthacryle ou méthacryloxy(alkyle en C1 - 10) tel que méthacryloxypropyle ; et les groupes époxyalkyle ou époxyalcoxyalkyle dans lesquels le groupe alkyle est linéaire, ramifié ou cyclique, en C1 -10, et le groupe alcoxy comporte de 1 à 10 atomes de carbone, tels que glycidyle et glycidyloxy(alkyle en C1 -10) ; L est un ligand complexant monodentate ou polydentate, de préférence polydentate, par exemple, un acide carboxylique comme l'acide acétique, une β-dicétone comme P acétylacétone, un β-cétoester comme l' acétoacétate de méthyle, un α- ou β-hydroxyacide comme l'acide lactique, un acide aminé comme l' alanine, une polyamine comme la (3- triméthoxysilylpropyl)diéthylènetriamine (ou DETA), ou un phosphonate comme l' acide phosphonique ; et m représente l' indice d'hydroxylation du ligand L, avec m= l lorsque L est un ligand monodentate, et m > 2 lorsque L est un ligand polydentate. De préférence 3 > m > 2 lorsque L est un ligand polydentate. Par hydrolyse contrôlée, on entend une limitation de la croissance des espèces formées par contrôle de la quantité d' eau introduite dans le milieu et éventuellement par introduction d'un agent complexant de l' atome central métallique, ceci afin de réduire la réactivité des précurseurs. Les nanoblocs élémentaires, de préférence sous forme de nanoparticules amorphes ou cristallisées, utilisés dans la présente invention sont fonctionnalisés en surface. La fonctionnalisation desdits nanoblocs élémentaires se fait en présence d'un agent de fonctionnalisation qui est une molécule difonctionnelle dont une des fonctions présente une affinité pour la surface du nanobloc élémentaire et l' autre fonction interagit avec la matrice.
Leur fonctionnalisation est réalisée soit directement au cours de leur synthèse, soit au cours d'une deuxième étape suivant leur synthèse, en présence d'un agent de fonctionnalisation, et de préférence au cours d'une deuxième étape. On parle respectivement de pré- ou post-fonctionnalisation.
On peut réaliser la post-fonctionnalisation par voie chimique, en choisissant une molécule difonctionnelle comme agent de fonctionnalisation, dont une des fonctions présente une affinité pour la surface du nanobloc élémentaire et l'autre fonction pourra interagir avec la matrice mais ne présentera aucune affinité pour la surface du nanobloc élémentaire. La fonctionnalisation par voie chimique permet ainsi une modification de la surface des nanoblocs, notamment par simple mélange d'une solution contenant les nanoblocs élémentaires avec une solution contenant l' agent de fonctionnalisation.
Comme exemples de fonction présentant une affinité pour la surface du nanobloc, on peut notamment citer une fonction acide carboxylique, une fonction di-cétone, une fonction phosphate ou phosphonate, une fonction α- ou β-hydroxyacide ou un complexe polydentate de métaux de transition.
Comme exemples de fonction pouvant interagir avec la matrice, on peut notamment citer les groupes aminés primaires, secondaires ou tertiaires tels qu' alkylamino en Ci -S, et les fonctions polymérisables telles que vinyle, acrylate ou méthacrylate.
A titre d' exemples de molécules di-fonctionnelles utilisées comme agent de fonctionnalisation, on peut notamment citer l' acide 6- aminocaproïque et l'acide 2-aminoéthylphosphonique.
Selon l'invention, le taux de fonctionnalisation est de préférence supérieur à 50 %, mieux encore supérieur à 80 %.
Une fois les nanoblocs élémentaires synthétisés et fonctionnalisés, ils sont introduits dans une matrice polymère ou hybride inorganique/organique, de préférence hybride de type sol/gel, mieux encore à base de silice, et encore plus préférentiellement constituée de silice ou de silice/oxyde de zirconium. Cette matrice va servir de connecteur grâce auquel les blocs élémentaires vont former un réseau tridimensionnel.
Les matrices hybrides inorganiques/organiques sont typiquement obtenues par polycondensation d'au moins deux alcoxydes métalliques ou halogénures métalliques en présence d'un solvant, et éventuellement d'un catalyseur. Les alcoxydes métalliques ou halogénures métalliques employés sont choisis parmi ceux ayant pour formules générales :
M'ZV (IV)
Figure imgf000009_0001
ZV-iM'-R'"-MZV-i (VII)
dans lesquelles : n' représente la valence de l 'atome métallique M ' , de préférence 3 , 4 ou 5 ; x' est un nombre entier allant de 1 à n'- l ;
M' représente un atome métallique de valence III tel que Al ; un atome métallique de valence IV tel que Si, Ce, Zr et Ti ; ou un atome métallique de valence V tel que Nb. De préférence M' est le silicium (n'=4), le cérium (n'=4) ou le zirconium (n'=4), et encore plus préférentiellement le silicium ;
Z' représente un groupe hydrolysable choisi parmi les atomes d'halogène, par exemple, F, Cl, Br et I, de préférence Cl et Br ; les groupes alcoxy de préférence en Ci -4, tels que méthoxy, éthoxy, n- propoxy, i-propoxy et butoxy ; les groupes aryloxy en particulier en C6-Io, tels que phénoxy ; les groupes acyloxy en particulier en Ci -4, tels que acétoxy et propionyloxy ; et les groupes alkylcarbonyle en Ci -io comme acétyle. De préférence, Z' représente un groupe alcoxy, et plus particulièrement un groupe éthoxy ou méthoxy ;
R" représente un groupement non hydrolysable monovalent choisi parmi les groupes alkyle de préférence en Ci -4, par exemple, méthyle, éthyle, propyle et butyle ; les groupes alcényle en particulier en C2-4, tels que vinyle, 1 -propényle, 2-propényle et butényle ; les groupes alcynyle en particulier en C2-4 tels que acétylényle et propargyle ; les groupes aryle en particulier en C6-Io, tels que phényle et naphthyle ; les groupes méthacryle et méthacryloxy(alkyle en Ci _io) tel que méthacryloxypropyle ; et les groupes époxyalkyle ou époxyalcoxyalkyle dans lesquels le groupe alkyle est linéaire, ramifié ou cyclique, en Ci _io, et le groupe alcoxy comporte de 1 à 10 atomes de carbone, tels que glycidyle et glycidyloxy(alkyle en Ci _io). R" représente de préférence un groupe méthyle ou glycidyloxy(alkyle en Ci -io) comme glycidyloxypropyle ; R'" représente un groupement non hydrolysable divalent choisi parmi les groupes alkylène de préférence en Ci -4, par exemple, méthylène, éthylène, propylène et butylène ; les groupes alcénylène en particulier en C2-4, tels que vinylène, 1 -propénylène, 2-propénylène et buténylène ; les groupes alcynylène en particulier en C2-4 tels que acétylénylène et propargylène ; les groupes arylène en particulier en C6-10, tels que phénylène et naphthylène ; les groupes méthacryle et méthacryloxy(alkyle en C1 -10) tel que méthacryloxypropyle : et les groupes époxyalkyle ou époxyalcoxyalkyle dans lesquels le groupe alkyle est linéaire, ramifié ou cyclique, en C1 -10, et le groupe alcoxy comporte de 1 à 10 atomes de carbone, tels que glycidyle et glycidyloxy(alkyle en C1 -10). R'" représente de préférence un groupe méthylène ou glycidyloxy(alkyle en C1 -10) comme glycidyloxypropyle ; et L ' représente un ligand complexant tel que celui décrit pour L ci-dessus, et m' représente l' indice d'hydroxylation du ligand L' , avec m' = l lorsque L' est un ligand monodentate, et m' > 2 lorsque L ' est un ligand polydentate. Dans un mode de réalisation préféré, la matrice est obtenue à partir d'un mélange d'au moins trois alcoxydes de silicium :
Si(OR^4
R2Si(OR')3 et
R3R4Si(OR^2 dans lesquels :
R1 représente un groupe méthyle ou éthyle,
R2 et R3 représentent chacun un groupe (méth)acrylate, vinyle, époxyalkyle ou époxyalcoxyalkyle dans lesquels le groupe alkyle est linéaire, ramifié et/ou cyclique, en C1 -10, et le groupe alcoxy comporte de 1 à 10 atomes, par exemple le groupe 3 ,4-époxycyclohexyléthyle ou glycidyloxy(alkyle en C1 -10) tel que glycidyloxypropyle, et
R4 représente un groupe alkyle en C1 -10 tel que méthyle.
De préférence, la proportion du précurseur R2Si(OR1)3 est majoritaire, tandis que celle du précurseur R3R4Si(OR^2 est minoritaire, par exemple de 5 à 30 % en poids, mieux encore de l' ordre de 20 % en poids par rapport au poids total du mélange de précurseurs. Le solvant est constitué majoritairement d' eau. De préférence, il comprend 80 à 100 % en poids d' eau par rapport au poids total du solvant, et éventuellement un alcool en Ci -4, de préférence l' éthano l ou P isopropanol.
Le catalyseur est de préférence un acide, mieux encore l' acide acétique, ou du CO2.
La solution à déposer est composée majoritairement d'un mélange de silanes, par exemple de 5 à 30 % en poids, de préférence de l' ordre de 20 % en poids par rapport au poids total de la solution.
Le rapport molaire d' acide par rapport au silicium est préférentiellement autour de 1 %. Les rapports molaires des nanoblocs élémentaires fonctionnalisés ajoutés par rapport au silicium sont inférieurs à 20 %. Par exemple, ils sont préférentiellement de 5 % et de 10 % pour l' oxyde de cérium et l'oxyde de zirconium respectivement.
On prépare un matériau nanostructuré selon l' invention d'une part : - en préparant les nanoblocs élémentaires, notamment par un processus hydrolytique ou non comme décrit ci-dessus, en fonctionnalisant les nanoblocs élémentaires, d' autre part en préparant la matrice, puis en mélangeant les nanoblocs élémentaires fonctionnalisés et la matrice.
Au moins un additif peut être éventuellement ajouté, soit lors de la préparation des nanoblocs élémentaires, soit lors du mélange des nanoblocs élémentaires fonctionnalisés et la matrice, soit lors de ces deux étapes.
Dans le cas où un additif est ajouté lors de la préparation des nanoblocs élémentaires, il peut se former un matériau final de type noyau/enveloppe, le noyau étant constitué par l'additif et l'enveloppe étant constituée par un nanobloc élémentaire.
Les additifs pouvant être utilisés dans l' invention sont notamment des agents tensioactifs pour améliorer la mouillabilité du sol sur le substrat métallique, tels que les polymères non ioniques fluorés vendus sous les marques commerciales FC 4432 et FC4430 par la société 3M ; des colorants, par exemple la rhodamine, la fluorescéine, le bleu de méthylène et l'éthyl-violet ; des agents de réticulation comme la (3-triméthoxysilylpropyl)diethylènetriamine ; des agents de couplage tels que l' aminopropyltriéthoxysilane (APTS) ; des nanopigments ; des inhibiteurs de corrosion tels que le benzotriazole, ou leurs mélanges
Des exemples de surfaces métalliques utilisées pour être revêtues par le matériau nanostructuré décrit ci-dessus, sont le titane, l' aluminium et leurs alliages respectifs, comme par exemple le titane
TA6V, l' aluminium de la famille 2000, plus particulièrement l'Ai 2024 plaqué ou non plaqué, l' aluminium de la famille 7000, plus particulièrement l'Ai 7075 ou 7175 et l'aluminium de la famille 6000 ou 5000. Les revêtements de telles surfaces métalliques, obtenus à partir des matériaux nanostructurés tels que décrits ci-dessus permettent notamment d' obtenir une protection contre la corrosion, une résistance aux rayures, coloration et caractère hydrophobe modulable à souhait, tout en adhérant bien à la surface du substrat métallique. En outre, ces revêtements sont déposés au moyen de techniques simples à mettre en œuvre sur les surfaces métalliques, par exemple par trempage dans un bain, dépôt sur substrat en rotation (ou spin- coating), aspersion, enduction laminaire ou dépôt au pinceau. En outre, ces techniques utilisent des produits compatibles avec l' environnement.
Un autre objet de la présente invention est un matériau nanostructuré particulier comprenant des nanoblocs élémentaires fonctionnalisés tels que décrits ci-dessus et une matrice hybride organique/inorganique préparée à partir d'au moins trois alcoxydes métalliques particuliers répondant aux formules suivantes :
Si(OR1)4
Figure imgf000013_0001
R3R4Si(OR1)2 dans lesquelles R1 , R2, R3 et R4 sont tels que définis ci-dessus.
Le matériau nanostructuré particulier selon l' invention peut être préparé selon un procédé comprenant notamment les étapes consistant à : d'une part a) préparer les nanoblocs élémentaires par un processus hydrolytique ou non, à partir d'au moins un alcoxyde métallique tel que décrit ci-dessus, et b) fonctionnaliser les nanoblocs élémentaires au moyen d'un agent de fonctionnalisation tel que décrit ci-dessus, d' autre part c) préparer la matrice hybride organique/inorganique par voie sol-gel, à partir des trois alcoxydes de silicium tels que définis ci-dessus, la préparation par voie sol-gel se faisant en présence d'un solvant, et éventuellement d'un catalyseur tels que décrits ci-dessus, puis d) mélanger les nanoblocs élémentaires fonctionnalisés obtenus à l' étape b) et la matrice obtenue à l' étape c). et
Au moins un additif tel que décrit ci-dessus peut être éventuellement ajouté lors de l' étape a) ou lors de l' étape d) ou lors des deux étapes a) et d).
Dans le cas où un additif est ajouté lors de l'étape a), il peut se former un matériau final de l' étape d) de type noyau/enveloppe, le noyau étant constitué par l'additif et l'enveloppe étant constituée par un nanobloc élémentaire.
Ce procédé s ' effectue dans des conditions dites douces, c' est-à- dire à température ambiante de l' ordre de 20 à 25 0C, et sous pression atmosphérique. L 'invention a encore pour obj et un article comprenant un substrat métallique, par exemple en titane, en aluminium ou en un de leurs alliages, et un matériau nanostructuré particulier tel que défini ci-dessus. Cet article selon l' invention peut être préparé par un procédé de revêtement classique qui comprend une étape de trempage dans un bain, de dépôt sur substrat en rotation, d'aspersion, d' enduction laminaire ou de dépôt au pinceau d' au moins un matériau nanostructuré particulier tel que défini ci-dessus. L'invention et les avantages qu'elle apporte seront mieux compris grâce aux exemples de réalisation donnés ci-après à titre indicatif.
EXEMPLES
Exemple 1 : préparation d'une solution de NBB- I par fonctionnalisation de nanoparticules d' oxyde de cérium par l' acide 6- aminocaproïque. On a dissous 81 mg d' acide 6-aminocaproïque dans 1 ml de solution colloïdale de nanoparticules de CeO2 dans H2O, vendue sous la marque commerciale Rhodigard W200 par la société Rhodia. On a obtenu un taux de fonctionnalisation r=nacide/nceθ2= 0,5 mesuré par analyse thermogravimétrique et confirmée par analyse Infra-Rouge à Transformée de Fourier (FT-IR) sur poudre.
Exemple 2 : préparation d'une solution de NBB-2 par fonctionnalisation de nanoparticules d' oxyde de cérium par l' acide 6- aminocaproïque. On a dissous 162 mg d'acide 6-aminocaproïque dans 1 ml de suspension colloïdale de nanoparticules de CeO2 dans H2O, vendue sous la marque commerciale Rhodigard W200 par la société Rhodia. On a obtenu un taux de fonctionnalisation r=nacide/nceθ2= 1. Exemple 3 : préparation d'une solution de NBB-3 par fonctionnalisation de d' oxyde de cérium par l' acide 2- aminoéthylphosphonique
On a ajouté 48,75mg d' acide 2-aminoéthylphosphonique à 1 ml de la solution vendue sous la marque commerciale Rhodigard W200 par la société Rhodia. On a obtenu un taux de fonctionnalisation r= nacide/nceO2 = 0 , 3 .
Exemple 4 : préparation d'une solution de NBB-4
A une solution contenant 4,55 g d' acétylacétone et 13 ,75 g de propanol- 1 , on a aj outé 18,67 g de tétraisopropoxyde de zirconium en solution à 70% en poids dans le propanol- 1. On a ajouté au mélange précédent agité à température ambiante, une solution contenant 6,01 g d' acide para-toluènesulfonique et 7,895 g d' eau. On a agité la solution
5 minutes à température ambiante puis fermé le flacon dans lequel se trouvait la solution et on l'a laissé 24 h dans une étuve à 600C.
Exemple 5 : préparation d'une solution de NBB-5 par fonctionnalisation de nanoparticules d'oxyde de zirconium par l' acide
6-aminocaproïque.
A 5 ml de la solution de NBB-4 décrite ci-dessus, on a aj outé
524 mg d' acide 6-aminocaproïque. On a laissé la solution sous agitation jusqu'à la dissolution totale de l'acide aminé, ce qui a nécessité environ 12 heures.
Pour les exemples 1 à 5 ci-dessus, le diamètre hydrodynamique des particules fonctionnalisées obtenues a été estimé par diffusion à la lumière, comme étant compris entre 2 et 10 nm.
Exemple 6 : préparation d'une solution contenant l' agent de mouillage vendu sous la marque commerciale FC-4432 par la société 3M
On a préparé une solution à 10 % en poids de l' agent de mouillage dans l' isopropanol. Exemple 7 : NBB-2 + matrice GPTMS/TMOS/GMDES (rapport molaire = 2,5/1/0,5)
A 6,4 ml d'une solution d'acide acétique (0,05 mol./l (ou M)), on a ajouté goutte à goutte, sous agitation, à température ambiante, le mélange de 0,93g de tétraméthoxysilane (TMOS), de 3 ,734 g de 3- glycidoxypropyltriméthoxysilane (GPTMS) et de 0,77 g de 3- glycidoxypropylméthyldiethoxysilane (GMDES).
On a conservé la solution sous agitation à température ambiante dans un flacon fermé pendant 6 jours. Le 6eme jour, on a introduit dans le mélange, la solution de NBB-2 préparée dans l' exemple 2, en une quantité telle que le rapport molaire Ce/Sitot est de 0,05. On a ainsi obtenu une solution (A) limpide de couleur jaune qui a été maintenue sous agitation. Quelques minutes avant le dépôt d'un film, on a ajouté à la solution (A) une quantité déterminée de la solution d' agent de mouillage de l' exemple 6, de manière à obtenir dans le mélange final une proportion massique de 0,04% d'agent de mouillage, par rapport au poids total du mélange. On a préparé le substrat en alliage Al 2024 T3 non plaqué, de dimension 125 x 80 x 1 ,6 mm, pour une surface totale de 2 dm2, juste avant le dépôt, selon une méthodologie connue de l'homme du métier comme le dégraissage alcalin suivi d'un décapage chimique acide, de formulation compatible avec la réglementation environnementale. On a déposé un film sur le substrat par immersion de ce dernier dans le mélange final pendant 90 secondes puis retrait et séchage à température ambiante.
Exemple 8 : NBB-2 + matrice GPTMS/TMOS/GMDES (rapport molaire = 2,5/1/0,5) + colorant
On a préparé une solution (A) de la même manière que dans l' exemple 7. On a dissous dans la solution (A) une quantité donnée de rhodamine B correspondant à une concentration de colorant dans la solution de 10~3 M. Instantanément, la solution a pris une teinte rosé prononcée.
Quelques minutes avant le dépôt du film, on a ajouté à la solution précédente la solution d' agent de mouillage de l' exemple 6 de manière à obtenir un mélange final comprenant une proportion de
0,04% en poids de ce dernier par rapport au poids total du mélange final.
On a préparé le substrat juste avant le dépôt de la même manière que dans l'exemple 7. On a déposé un film sur le substrat par immersion de ce dernier dans le mélange final pendant 90 secondes puis retrait et séchage à température ambiante.
Exemple 9 : NBB-2 + matrice GPTMS/TMOS/DMDES (rapport molaire = 2,5/1/0,5)
A 6,4 ml d'une solution d' acide acétique (0,05M), on a ajouté goutte à goutte, sous agitation, à température ambiante, le mélange de
0,93g de tétraméthoxysilane (TMOS), de 3 ,734 g de 3- glycidoxypropyltriméthoxysilane (GPTMS) et de 0,49 g de diméthyldiéthoxysilane (DMDES).
On a conservé la solution sous agitation à température ambiante dans un flacon fermé pendant 1 jour. Après un jour de vieillissement du sol, on a ajouté la solution de NBB-2 en une quantité telle que le rapport molaire Ce/Sitot est de 0,05. On a laissé sous agitation 30 minutes pour obtenir une solution (B).
On y a ajouté ensuite la solution contenant l' agent de mouillage de l' exemple 6, de manière à obtenir une concentration d'agent de mouillage de 0,04% en poids dans le mélange final.
On a préparé le substrat juste avant le dépôt de la même manière que dans l'exemple 7.
On a déposé un film sur le substrat par immersion de ce dernier dans le mélange final pendant 90 secondes puis retrait et séchage à température ambiante. Exemple 10 : NBB-2 + NBB-4 + matrice GPTMS/TMOS/DMDES (rapport molaire = 2,5/1/0,5)
On a préparé une solution (B) de la même manière que dans l' exemple 9, puis on y a ajouté 7 ml de solution de NBB-4. On a laissé agiter quelques minutes pour obtenir la solution (C).
On y a introduit ensuite la solution d' agent de mouillage de l' exemple 6 de manière à obtenir une concentration d'agent de mouillage de 0,04% en poids dans le mélange final.
On a préparé le substrat juste avant le dépôt de la même manière que dans l'exemple 7.
On a déposé un film sur le substrat par immersion de ce dernier dans le mélange final pendant 90 secondes puis retrait et séchage à température ambiante.
On a préparé deux éprouvettes. Après séchage de l'une d' entre elles 24 h à température ambiante, on l' a traitée à 1 10 0C pendant 30 minutes.
Exemple 1 1 : NBB-2 + NBB-4 + matrice GPTMS/TMOS/DMDES (rapport molaire = 2,5/1 /0,5) + agent de réticulation diéthylènetriamine (DETA)
On a préparé une solution (C) de la même manière que dans l' exemple 10.
On a ajouté ensuite 576 mg de DETA à la solution (C), puis quelques minutes après, la solution d' agent de mouillage de l'exemple 6 de manière à obtenir une concentration d'agent de mouillage de
0,04% en poids dans le mélange final.
On a préparé le substrat juste avant le dépôt de la même manière que dans l'exemple 7.
On a déposé un film sur le substrat par immersion de ce dernier dans le mélange final pendant 90 secondes puis retrait et séchage à température ambiante.
On a préparé deux éprouvettes. Après séchage de l'une d' entre elles 24 h à température ambiante, on l' a traitée à 1 10 0C pendant 30 minutes. Exemple 12 : NBB-2 + NBB-4 + matrice GPTMS/TMOS/DMDES
(rapport molaire = 2,5/1/0,5) + agent de couplage aminopropyltriéthoxysilane (APTS) On a préparé une solution (C) de la même manière que dans l' exemple 10. On y a introduit ensuite 3 ,2 g d'APTS, puis quelques minutes après, on a introduit la solution d' agent de mouillage de l' exemple 6 de manière à obtenir une concentration d'agent de mouillage de 0,04% en poids dans le mélange final. On a préparé le substrat juste avant le dépôt de la même manière que dans l'exemple 7.
On a déposé un film sur le substrat par immersion de ce dernier dans le mélange final pendant 90 secondes puis retrait et séchage à température ambiante. On a préparé deux éprouvettes. Après séchage de l'une d' entre elles 24 h à température ambiante, on l' a traitée à 1 10 0C pendant 30 minutes.
Exemple 13 : NBB-3 + matrice GPTMS/TMOS/DMDES (rapport molaire = 2,5/1/0,5)
A 6,4 ml d'une solution d' acide acétique (0,05M), on a ajouté goutte à goutte, sous agitation, à température ambiante, le mélange de 0,93 g de tétraméthoxysilane (TMOS), de 3 ,734 g de 3- glycidoxypropyltriméthoxysilane (GPTMS) et de 0,49 g de diméthyldiéthoxysilane (DMDES). 30 minutes plus tard, on a introduit
1 ml de solution de NBB-3. On a laissé agiter à température ambiante pendant 24 h. On a réalisé un dépôt sur le substrat en rotation (ou spin-coating) tournant à 1500 tours par minute, et on l' a laissé sécher à température ambiante.
Exemple 14 : NBB-5 + matrice GPTMS/TMOS/DMDES (rapport molaire = 2,5/1/0,5)
A 6,4 ml d'une solution d' acide acétique (0,05M), on a ajouté goutte à goutte, sous agitation, à température ambiante, le mélange de 0,93 g de tétraméthoxysilane (TMOS), de 3 ,734 g de 3- glycidoxypropyltriméthoxysilane (GPTMS) et de 0,49 g de diméthyldiéthoxysilane (DMDES). Dès que la solution a été limpide et homogène, c' est-à-dire au bout de quelques minutes, on a introduit 3 ,5 ml de solution de NBB-5. On a laissé agiter à température ambiante.
Deux heures après, on a réalisé un dépôt sur le substrat en rotation (ou spin-coating) tournant à 1500 tours par minute, et on l' a laissé sécher à température ambiante.
Exemple 15 : NBB-4 + NBB-5 + matrice GPTMS/TMOS/DMDES
(rapport molaire = 2,5/1/0,5)
A 6,4 ml d'une solution d' acide acétique (0,05M), on a ajouté goutte à goutte, sous agitation, à température ambiante, le mélange de 0,93 g de tétraméthoxysilane (TMOS), de 3 ,734 g de 3- glycidoxypropyltriméthoxysilane (GPTMS) et de 0,49 g de diméthyldiéthoxysilane (DMDES). 30 minutes plus tard, on a introduit 3 ,5 ml de solution de NBB-4. On a laissé agiter à température ambiante pendant 24 h. On a alors ajouté au mélange précédent 1 ml de solution de NBB-5. On a maintenu l' agitation pendant 2 h. On a réalisé ensuite un dépôt sur le substrat en rotation (ou spin-coating) tournant à 1500 tours par minute, et on l'a laissé sécher à température ambiante.
Dans les exemples 7 à 15 , on a obtenu des films présentant des épaisseurs allant de 500 nm à plusieurs μm, plus particulièrement entre 2 et 6 μm, et préférentiellement entre 1 ,5 et 3 μm.
Ces films présentent une bonne stabilité des interfaces, à savoir entre la couche déposée et le substrat métallique, et entre la couche déposée et le dépôt primaire de peinture, ainsi qu'une bonne résistance aux déformations mécaniques telles que choc et pliage. La résistance à la corrosion, avec ou sans peinture est comparable à celle des couches chromatées.

Claims

REVENDICATIONS
1. Utilisation d'un matériau nanostructuré, comme revêtement protecteur de surfaces métalliques, ledit matériau nanostructuré comprenant des nanoblocs élémentaires fonctionnalisés en surface et une matrice polymère ou hybride organique/inorganique, la fonctionnalisation desdits nanoblocs élémentaires se faisant en présence d'un agent de fonctionnalisation qui est une molécule difonctionnelle dont une des fonctions présente une affinité pour la surface du nanobloc élémentaire et l' autre fonction interagit avec la matrice.
2. Utilisation selon la revendication 1 , caractérisée en ce que les nanoblocs sont sous forme de cluster ou de nanoparticules.
3. Utilisation selon la revendication 2, caractérisée en ce que les nanoparticules présentent une taille allant de 2 à 100 nm.
4. Utilisation selon la revendication 3 , caractérisée en ce que les nanoparticules présentent une taille allant de 2 à 50 nm.
5. Utilisation selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que les nanoblocs élémentaires sont essentiellement à base d' au moins un oxyde métallique.
6. Utilisation selon la revendication 5 , caractérisée en ce que l'oxyde métallique est choisi parmi les oxydes d' aluminium, de cérium III et IV, de silicium, de zirconium, de titane et d' étain.
7. Utilisation selon la revendication 6, caractérisée en ce que l'oxyde métallique est choisi parmi les oxydes de zirconium et de cérium IV.
8. Utilisation selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que les nanoblocs élémentaires sont synthétisés à partir de sels métalliques, par précipitation.
9. Utilisation l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisée en ce que les nanoblocs élémentaires sont obtenus à partir d'au moins un alcoxyde métallique ou halogénure métallique via un processus hydrolytique ou non hydrolytique.
10. Utilisation selon la revendication 9, caractérisée en ce que l'alcoxyde de métal ou halogénure métallique utilisé dans un processus hydrolytique répond à l'une des formules suivantes :
MZn ( 1 ), R'xMZn-x (2) ou
Lm xMZn-mx (3), formules ( 1 ), (2) et (3) dans lesquelles :
M représente Al(III), Ce(III), Ce(IV), Si(IV), Zr(IV), Ti(IV) ou Sn(IV), le chiffre entre parenthèse étant la valence de l'atome M, n représente la valence de l' atome M, x est un nombre entier allant de 1 à n- 1 ,
Z représente un atome d'halogène ou -OR,
R représente un groupe alkyle, de préférence comprenant 1 à 4 atomes de carbone ; R' représente un groupe non hydrolysable choisi parmi les groupes alkyle, notamment en Ci -4, ; les groupes alcényle en particulier en C2-4 ; les groupes alcynyle en particulier en C2-4 ; les groupes aryle en particulier en C6 - 10 ; les groupes méthacryle et méthacryloxy(alkyle en C1 - 10) ; et les groupes époxyalkyle ou époxyalcoxyalkyle dans lesquels le groupe alkyle est linéaire, ramifié ou cyclique, en C1 - 10, et le groupe alcoxy comporte de 1 à 10 atomes de carbone ;
L est un ligand complexant monodentate ou polydentate, de préférence polydentate ; et m représente l' indice d'hydroxylation du ligand L.
1 1 . Utilisation selon la revendication 10, caractérisée en ce que
M représente Zr(IV) ou Ce(IV).
12. Utilisation selon la revendication 10 ou 1 1 , caractérisée en ce que R représente un groupe méthyle ou éthyle ; R' représente un groupe non hydrolysable choisi parmi les groupes méthyle, éthyle, propyle, butyle, vinyle, 1 -propényle, 2-propényle, butényle, acétylényle, propargyle, phényle, naphthyle, méthacryle, méthacryloxypropyle, glycidyle et glycidyloxy(alkyle en C1 - 10) ; et L est un ligand complexant choisi parmi les acides carboxyliques, les β- dicétones, les β-cétoesters, les α et β-hydroxyacides, les acides aminés et les phosphonates.
13. Utilisation selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que la fonctionnalisation des nanoblocs élémentaires se fait simultanément lors de leur synthèse, en présence d'un agent de fonctionnalisation.
14. Utilisation selon l'une quelconque des revendications 1 à 12, caractérisée en ce que la fonctionnalisation se fait lors d'une seconde étape suivant leur synthèse, en présence d'un agent de fonctionnalisation.
15. Utilisation selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que la fonction présentant une affinité pour la surface du nanobloc est choisie parmi les fonctions acide carboxylique, di-cétone, phosphate, phosphonate, α- ou β- hydroxyacide et agent complexant polydentate de métaux de transition.
16. Utilisation selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que la fonction pouvant interagir avec la matrice est choisie parmi les groupes aminés primaires, secondaires et tertiaires, et les fonctions polymérisables telles que vinyle, acrylate ou méthacrylate.
17. Utilisation selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que l' agent de fonctionnalisation est choisi parmi l' acide 6-aminocaproïque et l'acide 2- aminoéthylphosphonique.
18. Utilisation selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que la matrice est une matrice hybride organique/inorganique obtenue par polycondensation d' au moins deux alcoxydes métalliques en présence d'un solvant, et éventuellement d'un catalyseur.
19. Utilisation selon la revendication 18, caractérisée en ce que les alcoxydes métalliques ou sels métalliques ont pour formules générales :
M'ZV (IV)
R1VM ' ZV-x' (V)
Figure imgf000024_0001
ZV-i M'-R"'-M ZV-I (VII) dans lesquelles : n' représente la valence de l 'atome métallique M ' , de préférence 3 , 4 ou 5 ; x' est un nombre entier allant de 1 à n'- l ;
M' représente un atome métallique de valence III tel que Al ; de valence IV tel que Si, Ce, Zr et Ti ; ou de valence V tel que Nb ;
Z' représente un groupe hydrolysable choisi parmi les atomes d'halogène, les groupes alcoxy de préférence en Ci -4, les groupes aryloxy en particulier en C6-10, les groupes acyloxy en particulier en C1 -4, et les groupes alkylcarbonyle en C1 -10 ;
R" représente un groupement non hydrolysable monovalent choisi parmi les groupes alkyle de préférence en Ci -4, les groupes alcényle en particulier en C2-4, les groupes alcynyle en particulier en
C2-4, les groupes aryle en particulier en C6-Io, les groupes
(méth)acryle, méthacryloxy(alkyle en C1 -10), et les groupes époxyalkyle ou époxyalcoxyalkyle dans lesquels le groupe alkyle est linéaire, ramifié ou cyclique, en C1 -10, et le groupe alcoxy comporte de 1 à 10 atomes de carbone ;
R'" représente un groupement non hydrolysable divalent choisi parmi les groupes alkylène de préférence en Ci -4, les groupes alcénylène en particulier en C2-4, les groupes alcynylène en particulier en C2-4 les groupes arylène en particulier en C6-Io, les groupes méthacryle et méthacryloxy(alkyle en C1 -10), et les groupes époxyalkyle ou époxyalcoxyalkyle dans lesquels le groupe alkyle est linéaire, ramifié ou cyclique, en C1 -10, et le groupe alcoxy comporte de 1 à 10 atomes de carbone ; et
L ' représente un ligand complexant de préférence polydentate, m' représente l'indice d'hydroxylation du ligand L' .
20. Utilisation selon la revendication 19, caractérisée en ce que : n' est égal à 4 ; x' est un nombre entier allant de 1 à 3 ; M' représente un atome de silicium, de cérium ou de zirconium ;
Z ' représente un groupe hydrolysable choisi parmi Cl et Br, les groupes méthoxy, éthoxy, n-propoxy, i-propoxy, butoxy, phénoxy, acétoxy, propionyloxy et acétyle ;
R" représente un groupement non hydrolysable monovalent choisi parmi les groupes méthyle, éthyle, propyle, butyle, vinyle, 1 - propényle, 2-propényle, butényle, acétylényle, propargyle, phényle, naphthyle, méthacryle, méthacryloxypropyle, glycidyle et glycidyloxy(alkyle en C1 -10) ;
R'" représente un groupement non hydrolysable divalent choisi parmi les groupes méthylène, éthylène, propylène, butylène, vinylène,
1 -propénylène, 2-propénylène, buténylène, acétylénylène, propargylène, phénylène, naphthylène, méthacryle, méthacryloxypropyle, glycidyle et glycidyloxy(alkyle en C1 -10) ; et
L ' représente un acide carboxylique, une β-dicétone, un β- cétoester, un α ou β-hydroxyacide, un acide aminé ou un phosphonate.
21. Utilisation selon l'une quelconque des revendications 18 à 20, caractérisée en ce que le solvant est constitué majoritairement d' eau.
22. Utilisation selon la revendication 21 , caractérisée en ce que le solvant comprend 80 à 100 % en poids d' eau par rapport au poids total du solvant, et éventuellement un alcool en Ci -4.
23. Utilisation selon l'une quelconque des revendications 18 à 22, caractérisée en ce que le catalyseur est un acide, de préférence l' acide acétique, ou du CO2.
24. Utilisation selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans l'aéronautique et l' aérospatiale.
25. Matériau nanostructuré caractérisé en ce qu' il comprend des nanoblocs élémentaires fonctionnalisés et une matrice hybride organique/inorganique préparée à partir d'au moins trois alcoxydes métalliques répondant aux formules suivantes :
Si(OR^4
R2Si(OR^3 et R3R4Si(OR1)2 dans lesquelles :
R1 représente un groupe méthyle ou éthyle,
R2 et R3 représentent chacun un groupe (méth)acrylate, vinyle, époxyalkyle ou époxyalcoxyalkyle dans lesquels le groupe alkyle est linéaire, ramifié et/ou cyclique, en C1 -10, et le groupe alcoxy comporte de 1 à 10 atomes, tels que 3 ,4-époxycyclohexyléthyle ou glycidyloxy(alkyle en C1 -10), et
R4 représente un groupe alkyle en C1 -10 tel que méthyle.
26. Matériau nanostructuré selon la revendication 25 , caractérisé en ce que les nanoblocs sont sous forme de cluster ou de nanoparticules.
27. Matériau nanostructuré selon la revendication 26, caractérisé en ce que les nanoparticules présentent une taille allant de 2 à 100 nm.
28. Matériau nanostructuré selon la revendication 27, caractérisé en ce que les nanoparticules présentent une taille allant de 2 à 50 nm.
29. Matériau nanostructuré selon l'une quelconque des revendications 25 à 28, caractérisé en ce que les nanoblocs élémentaires sont essentiellement à base d'au moins un oxyde métallique.
30. Matériau nanostructuré selon la revendication 29, caractérisé en ce que l' oxyde métallique est choisi parmi les oxydes d'aluminium, de cérium III et IV, de silicium, de zirconium, de titane, et d' étain.
31. Matériau nanostructuré selon la revendication 30, caractérisé en ce que l' oxyde métallique est choisi parmi les oxydes de zirconium et de cérium IV.
32. Matériau nanostructuré l'une quelconque des revendications
25 à 31 , caractérisé en ce que les nanoblocs élémentaires sont synthétisés à partir de sels métalliques par précipitation, ou d' au moins un alcoxyde métallique ou halogénure métallique par un processus hydrolytique ou non-hydrolytique.
33. Matériau nanostructuré l'une quelconque des revendications 25 à 32, caractérisé en ce que les nanoblocs élémentaires sont obtenus à partir d'au moins un alcoxyde métallique ou halogénure métallique via un processus hydrolytique, l' alcoxyde de métal répondant à l'une des formules suivantes :
MZn ( 1 ),
R'xMZn-x (2) ou
Lm xMZn-mx (3), formules ( 1 ), (2) et (3) dans lesquelles : M représente Al(III), Ce(III), Ce(IV), Si(IV), Zr(IV), Ti(IV), Sn(IV), le chiffre entre parenthèse étant la valence de l'atome métallique, n représente la valence de l' atome M, x est un nombre entier allant de 1 à n- 1 ,
Z représente un atome d'halogène ou -OR ; R représente un groupe alkyle, de préférence comprenant 1 à 4 atomes de carbone ;
R' représente un groupe non hydrolysable choisi parmi les groupes alkyle, notamment en Ci -4, ; les groupes alcényle en particulier en
C2-4 ; les groupes alcynyle en particulier en C2-4 ; les groupes aryle en particulier en C6 - 10 ; les groupes méthacryle et méthacryloxy(alkyle en
C1 - 10) ; et les groupes époxyalkyle ou époxyalcoxyalkyle dans lesquels le groupe alkyle est linéaire, ramifié ou cyclique, en C1 - 10, et le groupe alcoxy comporte de 1 à 10 atomes de carbone ;
L est un ligand complexant monodentate ou polydentate, de préférence polydentate ; et m représente l' indice d'hydroxylation du ligand L.
34. Matériau nanostructuré selon la revendication 33 , caractérisé en ce que l' atome M représente Zr(IV) ou Ce(IV).
35. Matériau nanostructuré selon la revendication 33 ou 34, caractérisé en ce que R représente un groupe méthyle ou éthyle ; R' représente un groupe non hydrolysable choisi parmi les groupes méthyle, éthyle, propyle, butyle, vinyle, 1 -propényle, 2-propényle, butényle, acétylényle, propargyle, phényle, naphthyle, méthacryle, méthacryloxypropyle, glycidyle et glycidyloxy(alkyle en C1 - 10) ; et L est un ligand complexant choisi parmi les acides carboxyliques, les β- dicétones, les β-cétoesters, les α et β-hydroxyacides, les amino- alcools et les phosphonates.
36. Matériau nanostructuré selon l'une quelconque des revendications 25 à 35 , caractérisé en ce que les nanoblocs élémentaires sont fonctionnalisés en surface au moyen d'un agent de fonctionnalisât ion.
37. Matériau nanostructuré selon la revendication 36, caractérisé en ce que l'agent de fonctionnalisation est une molécule difonctionnelle dont une des fonctions présente une affinité pour la surface du nanobloc élémentaire et l' autre fonction interagit avec la matrice.
38. Matériau nanostructuré selon la revendication 37, caractérisé en ce que la fonction présentant une affinité pour la surface du nanobloc est choisie parmi les fonctions acide carboxylique, di- cétone, phosphate, phosphonate, α- ou β-hydroxyacide et agent complexant polydentate de métaux de transition.
39. Matériau nanostructuré selon la revendication 37 ou 38, caractérisé en ce que la fonction pouvant interagir avec la matrice est choisie parmi les groupes aminés primaires, secondaires et tertiaires, et les fonctions polymérisables telles que vinyle, acrylate ou méthacrylate.
40. Matériau nanostructuré selon l'une quelconque des revendications 36 à 39, caractérisé en ce que l' agent de fonctionnalisation est choisi parmi l' acide 6-aminocaproïque et l'acide
2-aminoéthylphosphonique.
41. Procédé de préparation d'un matériau nanostructuré selon l'une quelconque des revendications 25 à 40, comprenant les étapes consistant à : d'une part a) préparer les nanoblocs élémentaires par un processus hydrolytique ou non-hydrolytique à partir d' au moins un alcoxyde métallique ou halogénure métallique tel que défini dans les revendications 33 à 35 , et b) fonctionnaliser les nanoblocs élémentaires au moyen d'un agent de fonctionnalisât ion, d' autre part c) préparer la matrice hybride organique/inorganique par voie sol-gel, à partir des trois alcoxydes de silicium tels que définis dans la revendication 25 , la préparation par voie sol-gel se faisant en présence d'un solvant, et éventuellement d'un catalyseur, puis d) mélanger les nanoblocs élémentaires fonctionnalisés obtenus à l' étape b) et la matrice obtenue à l' étape c).
42. Procédé de préparation selon la revendication 41 , caractérisé en ce qu'au moins un additif est ajouté lors de l' étape a) ou lors de l' étape d) ou lors des deux étapes a) et d).
43. Procédé de préparation selon la revendication 42, caractérisé en ce qu'un additif est ajouté lors de l' étape a) et que le matériau final de l' étape d) est de type noyau/enveloppe, le noyau étant constitué par l'additif et l'enveloppe étant constituée par un nanobloc élémentaire.
44. Procédé de préparation selon la revendication 42 ou 43 , caractérisé en ce que l'additif est choisi parmi des agents tensioactifs pour améliorer la mouillabilité du sol sur le substrat métallique, des colorants, des agents de réticulation, des agents de couplage et des inhibiteurs de corrosion.
45. Article caractérisé en ce qu' il comprend un substrat métallique et un matériau nanostructuré selon l'une quelconque des revendications 25 à 40.
46. Article selon la revendication 45 , caractérisé en ce que le substrat métallique est en titane, en aluminium ou en un de leurs alliages.
47. Procédé de préparation d'un article selon la revendication
45 ou 46, caractérisé en qu' il comprend une étape de trempage dans un bain, de dépôt sur substrat en rotation, d'aspersion, d' enduction laminaire ou de dépôt au pinceau d' au moins un matériau nanostructuré selon l'une quelconque des revendications 25 à 40.
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