WO2007111083A1 - 光制御素子及びその製造方法 - Google Patents

光制御素子及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2007111083A1
WO2007111083A1 PCT/JP2007/054221 JP2007054221W WO2007111083A1 WO 2007111083 A1 WO2007111083 A1 WO 2007111083A1 JP 2007054221 W JP2007054221 W JP 2007054221W WO 2007111083 A1 WO2007111083 A1 WO 2007111083A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
waveguide
control element
light control
light
substrate
Prior art date
Application number
PCT/JP2007/054221
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Katsutoshi Kondou
Yuhki Kinpara
Futoshi Yamamoto
Junichiro Ichikawa
Original Assignee
Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. filed Critical Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.
Priority to EP07737796.8A priority Critical patent/EP2006732B1/en
Priority to US12/225,781 priority patent/US7831122B2/en
Priority to CN200780011057XA priority patent/CN101410750B/zh
Publication of WO2007111083A1 publication Critical patent/WO2007111083A1/ja

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/1228—Tapered waveguides, e.g. integrated spot-size transformers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
    • G02B6/136—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by etching
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/03—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on ceramics or electro-optical crystals, e.g. exhibiting Pockels effect or Kerr effect
    • G02F1/035—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on ceramics or electro-optical crystals, e.g. exhibiting Pockels effect or Kerr effect in an optical waveguide structure
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B2006/12035—Materials
    • G02B2006/1204—Lithium niobate (LiNbO3)
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B2006/12035—Materials
    • G02B2006/12042—Potassium niobate (KNbO3)
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B2006/12083—Constructional arrangements
    • G02B2006/12097—Ridge, rib or the like
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/35—Non-linear optics
    • G02F1/37—Non-linear optics for second-harmonic generation
    • G02F1/377—Non-linear optics for second-harmonic generation in an optical waveguide structure

Definitions

  • the present invention relates to a light control element and a method for manufacturing the same, and more particularly to a light control element having a ridge-type waveguide and a method for manufacturing the same.
  • the optical waveguide formed in the light control element includes a ridge-type waveguide in which convex ridges are formed on the surface of the substrate, in addition to those obtained by thermally diffusing impurities such as Ti.
  • the substrate constituting the light control element is made thinner and the optical circuit in the light control element is downsized. Yes.
  • the miniaturization of the optical circuit has led to a reduction in the cross-sectional area of the optical waveguide that constitutes the optical circuit, resulting in the following problems.
  • the manufacturing tolerance of the optical waveguide structure may be reduced, resulting in a multimode waveguide.
  • FIG. 1 is a schematic view of a cross section of a light control element having a ridge-type waveguide in which convex ridges and concave portions (hereinafter referred to as “trench”) are formed on both sides of the surface of the substrate.
  • the reinforcing plate 3 is bonded to the substrate via the adhesive layer 2.
  • 4 shows a ridge type optical waveguide.
  • the propagation mode of the optical waveguide changes depending on the shape of the ridge-type waveguide in Fig. 1. Specifically, the propagation mode of the optical waveguide is divided into a single mode region and a multimode region, as shown in FIG. 2, depending on the conditions of the width W and height D of the optical waveguide 4 and the thickness H of the substrate.
  • the refractive index of the substrate 2.1 the refractive index on the top side of the substrate is the same as air 1.0
  • the refractive index on the bottom side is the same as SiO 1. 45 Assumed.
  • the allowable value of the single mode waveguide is increased by using the method of forming the slab waveguide on the side of the optical waveguide.
  • the multimode mode of propagation mode that accompanies miniaturization of the optical circuit as shown in FIG. 2 is the same for the light control element having the ridge-type waveguide having the trench, and the substrate is thin.
  • the trench width (T in Fig. 1) for realizing the single mode must be set to about 1 m or less.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-219751
  • the refractive index difference ⁇ between the substrate and air or an adhesive layer (buffer layer) is large. It is necessary to make itself small. If the cross-sectional area of the optical waveguide is reduced, the production errors related to the width of the optical waveguide and the depth of the trench, which could be ignored in the past, cannot be ignored. If a multimode optical waveguide is formed, the SZN ratio and optical insertion loss will deteriorate. In addition, when the ridge-type waveguide has a bifurcated portion, if the shape reproducibility is not satisfied, the SZN ratio and the optical insertion loss are similarly deteriorated. Furthermore, even if the input / output part of the optical waveguide satisfies the single mode condition, the optical insertion loss may be greatly changed if the shape is slightly different.
  • a mask corresponding to the pattern of the optical waveguide is applied to a substrate having an electro-optic effect, and a part of the substrate is removed by wet etching or dry etching. Or grooves are formed by machining such as dicing saw.
  • the trench of the ridge-type waveguide is formed by conventional wet or dry etching, the lower portion of the mask 10 disposed on the substrate 1 is undercut 11 as shown in FIG. As shown in b), a local abnormal shape 12 is generated.
  • leaky mode a mode in which light does not propagate.
  • the width of the groove is limited to about 2 m. In particular, performing mechanical calorie on a thin plate of 10 m or less causes damage to the substrate.
  • the processing accuracy of the ridge-type waveguide trench needs to be as high as 0.1 m or less.
  • the problem to be solved by the present invention is to solve the above-described problems and provide a light control element having a single-mode waveguide in addition to a light control element having a ridge-type waveguide.
  • the substrate in the light control element having the substrate on which the optical waveguide is formed, is a thin plate having a thickness of 10 m or less, and at least a part of the optical waveguide is a ridge type.
  • the “tapered waveguide” of the present invention means that the width of the waveguide in the ridge portion is continuously increased or decreased by continuously increasing or decreasing the width of the trench forming the ridge waveguide. Even if the width of the ridge portion does not change, it includes those in which the depth of the trench becomes continuously deeper or shallower.
  • the tapered waveguide section is arranged in at least one of the incident section and the emitting section, and the guided light is transmitted in the arrangement section. Is a single mode light.
  • Per-waveguide part force It is characterized by having a substantially symmetrical shape with respect to a longitudinal section passing through the center of the optical waveguide.
  • the “substantially symmetric shape” in the present invention is a symmetric shape that does not convert a single-mode light wave propagating through a tapered waveguide into higher-order mode light or increase coupling loss with a symmetric optical element.
  • the taper waveguide portion has an asymmetric shape with respect to a longitudinal section passing through the center of the optical waveguide. It is characterized by.
  • the substrate has a nonlinear optical effect, an electro-optical effect, a pyroelectric effect, or a piezoelectric effect.
  • the invention according to claim 6 is characterized in that in the light control element according to claim 5, the substrate force is LiNb 2 O, LiTaO or KTiOPO.
  • At least a part of the rib-type waveguide is at least a deviation of a focused ion beam or laser beam processing. It is characterized by being formed using
  • the rib-type waveguide is first processed by etching or machining, and then a focused ion beam or laser. The finishing process is performed by at least one of beam processing.
  • finishing is performed by introducing light into the light control element and measuring the introduced light. It is characterized by performing a curving process.
  • the substrate constituting the light control element is a thin plate having a thickness of 10 m or less, a trench having a width of 10 m or less on both sides of at least a part of the ridge-type waveguide.
  • a taper that continuously changes the light propagation mode of the waveguide between a single mode and a multimode by continuously changing the width or depth of the trench.
  • the tapered waveguide section is disposed in at least one of the incident section and the exit section, and the guided light is single-mode light in the disposed section.
  • the coupling loss between the waveguide and the optical fiber that is optically coupled can be reduced, and even if the inside of the optical waveguide (the portion excluding the entrance and exit) is a multimode waveguide, there is no single loss within the optical waveguide. Since the mode does not propagate the light wave force, it is possible to provide a light control element that suppresses degradation of the SZN ratio and optical insertion loss.
  • the tapered waveguide section has a substantially symmetrical shape with respect to the longitudinal section passing through the center of the optical waveguide, the optical fiber of the contrast type such as an optical fiber or a lens and the light It is possible to increase the coupling efficiency when coupling the control element.
  • the tapered waveguide section has an asymmetric shape with respect to the longitudinal section passing through the center of the optical waveguide, a specific higher-order mode can be excited, and mode dispersion is achieved.
  • a waveguide with high conversion efficiency can be formed over a phase-matching wavelength conversion element.
  • parametric down-conversion it is possible to excite the higher-order mode of the fundamental wave, improve the overlap with the fundamental mode of down-converted light, and increase the conversion efficiency.
  • Various second-order nonlinear optical control elements such as devices, sum (difference) frequency generation devices, and optical parametric amplifier oscillators can be provided.
  • the substrate has a nonlinear optical effect, an electro-optical effect, a pyroelectric effect, or a piezoelectric effect
  • light control for various uses such as a wavelength conversion element, an EO device, and an electric field sensor is provided.
  • An element can be provided.
  • the substrate is LiNbO 2 O or KTiOPO.
  • the ridge-type waveguide is first processed by etching or machining, and then finished by at least one of focused ion beam (FIB) and laser beam (LB) processing.
  • FIB focused ion beam
  • LB laser beam
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of a light control element having a ridge-type waveguide.
  • FIG. 2 is a graph showing the relationship between the shape of a ridge-type waveguide and the propagation mode.
  • FIG. 3 is a diagram showing a cross section of a substrate when grooves are formed by conventional etching.
  • FIG. 4 is a diagram showing an example of a light control element according to the present invention.
  • FIG. 5 is a view showing another embodiment of the light control element according to the present invention (the tapered waveguide is symmetrical).
  • FIG. 6 is a view showing another embodiment of the light control element according to the present invention (the tapered waveguide is asymmetric).
  • the light control element according to the present invention is a light control element comprising a substrate on which an optical waveguide is formed.
  • the substrate is a thin plate having a thickness of 10 m or less, and at least a part of the optical waveguide is a lid.
  • FIG. 4 shows an example of the light control element according to the present invention, in which a ridge-type waveguide is formed on the substrate 1.
  • the rib-type waveguide is formed by two grooves (trench) 20.
  • Fig. 4 (b) shows a cross-sectional view taken along arrow X--X in Fig. 4 (a).
  • the groove The depth is different.
  • the propagation mode is a single mode, and in the region where the groove is deep and the region C is a multimode.
  • the propagation mode can be easily converted by adjusting the shape of the ridge-type waveguide, similar to the one shown in Fig. 2, so that it can be changed to the required waveguide shape according to the application of the light control element. Conversion can be easily realized using FIB or LB.
  • the optical fiber connected to the light control element is a single mode optical element. It can be utilized, and it becomes possible to suppress the deterioration of the optical insertion loss.
  • region C it becomes a multimode waveguide, but the light is confined well, and the single mode in region A is Since single mode light that has passed through the waveguide is modulated and the like, SZN ratio deterioration can be suppressed, and it is possible to provide a light control element with high modulation efficiency and signal reproducibility.
  • by providing single mode waveguides at the entrance and exit of the light control element it is possible to use a conventional self-aligning device when coupling the light control element and the optical fiber. , Have extremely excellent effects.
  • Region B indicates a portion that forms a “tapered waveguide”, and the depth of the groove continuously changes between region A and the region. For this reason, single-mode waveguide force can be converted to multi-mode waveguides and converted to multi-mode waveguide force single-mode waveguides smoothly, and light propagation loss can be minimized. Become.
  • the tapered waveguide portion has a substantially symmetric shape with respect to the longitudinal section passing through the center of the optical waveguide, it is possible to suppress the excitation of the higher-order mode light wave to become multi-mode light, and the cinder mode light wave. Can be stably propagated.
  • the depth of the two trenches in the tapered waveguide is changed so as to be different from each other, and is set to be asymmetric with respect to the longitudinal section passing through the center of the optical waveguide. It is possible to excite the next mode, and it becomes possible to form a waveguide with high conversion efficiency in the mode dispersion phase matching type wavelength conversion element.
  • a substrate used for the light control element a substrate having a nonlinear optical effect, an electro-optical effect, a pyroelectric effect, or a piezoelectric effect is preferably used, so that a wavelength conversion element, an EO device, It is possible to provide light control elements for various applications such as electric field sensors. Also, by using LiNbO, LiTaO or KTiOPO as the substrate material,
  • a processing method having submicron order processing accuracy in order to form the above-described single-mode ridge waveguide using a substrate of 10 ⁇ m or less, it is necessary to use a processing method having submicron order processing accuracy. Therefore, in the present invention, at least a part of the ridge-type waveguide is subjected to force using at least one of a concentrated ion beam (FIB) and a laser beam.
  • FIB concentrated ion beam
  • FIB irradiates a target with an ion beam of gallium or other finely focused material,
  • the surface of the object is covered by sputtering of atoms and molecules.
  • SIM Sccanning Ion Microscope
  • the processing location can be determined while looking at the SIM image, enabling extremely high precision processing. It will be.
  • Submicron-order processing is also possible using a laser beam (LB), and FIB and LB can be used properly according to the type of substrate to be processed and the shape of the processing location. Can do. It is also possible to use both.
  • LB laser beam
  • a groove may be formed by wet etching, dry etching, dicing saw, or the like in a place where the propagation mode may be multimode, and then the film is cleaned using FIB or LB. Manufacturing time and manufacturing cost can be suppressed.
  • FIB and LB are not only used for forming grooves, but are used for adjusting the angle of the side surface of a ridge-type waveguide, for example, or a substrate that is primarily covered by etching or dicing saw.
  • Various applications are possible, such as trimming the surface (local anomalous shape, etc.) smoothly with FIB or the like.
  • the light waveguide of the light control element formed by the primary force is used, light is incident on the light guide, and is emitted from the light control element. It is also possible to perform secondary processing while monitoring light waves. This makes it possible to manufacture a light control element having more optimal characteristics. If necessary, secondary processing can be performed while operating the optical circuit incorporated in the light control element, and processing can be performed in a state closer to the operating environment of the light control element. Furthermore, by making the wavelength of the light wave incident on the light control element different from the LB used for secondary processing, even if the processing LB is incident on the monitor light, the wavelength can be easily separated and measured. It is also possible to maintain higher processing accuracy.
  • FIG. 5 shows another embodiment showing a part of the light control element according to the present invention.
  • a ridge-type waveguide is formed on a substrate 1 having a scientific effect.
  • the ridge waveguide is formed by two grooves 30.
  • the width of the groove is different between the end portion side (region A) of the substrate 1 and the inner side (region B) of the substrate, and as a result, the width of the optical waveguide in the ridge portion is changed.
  • the width of the groove 30 or 32 must be set to 1 ⁇ m or less in order to make the optical waveguide 31 in the region A a single mode waveguide. There is. For this reason, the region A or B is processed using FIB or LB, and the region C is processed using conventional etching or dicing saw as necessary. In addition, when the propagation mode changes between the region A and the region B, it is preferable to continuously change the width of the groove 30 or 32 in order to continuously change the shape between the two.
  • the shape of the region B serving as the tapered waveguide portion is substantially symmetrical with respect to a longitudinal section passing through the center of the optical waveguide (a plane passing through the alternate long and short dash line Y and perpendicular to the substrate 1). For this reason, it is possible to increase the coupling efficiency when coupling the light control element with a contrast type optical element such as an optical fiber or a lens. In addition, generation of higher-order mode light in the tapered waveguide section can be suppressed.
  • the shape of the region B serving as the tapered waveguide portion is asymmetric with respect to the longitudinal section passing through the center of the optical waveguide (plane passing through the alternate long and short dash line Y and perpendicular to the substrate 1). Therefore, it becomes possible to excite multimode light and to form a waveguide with high conversion efficiency in the mode dispersion phase matching type wavelength conversion element.
  • Reference numeral 41 denotes an optical waveguide in the ridge portion, and 40 or 42 denotes a groove.
  • a light control element having a single mode waveguide can be provided in a light control element having a ridge-type waveguide. Even with a thin plate of m or less, it becomes possible to manufacture and provide a light control element having a single mode waveguide with high accuracy and stability.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)
  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)

Abstract

　リッジ型導波路を有する光制御素子において、シングルモード導波路を有する光制御素子を提供することであり、特に、基板の厚みが１０μｍ以下の薄板であっても、シングルモード導波路を有する光制御素子を精度良く安定的に製造し提供可能とすることを目的とする。 　光導波路が形成された基板１を有する光制御素子において、該基板が厚さは１０μｍ以下の薄板であり、少なくとも該光導波路の一部はリッジ型導波路２１であって、該リッジ型導波路の少なくとも一部の両側に幅１０μｍ以下のトレンチ２０を有し、該トレンチの幅又は深さを連続的に変化させることによって該導波路の光伝播モードをシングルモードとマルチモードとの間で連続的に変化させるテーパー導波部（領域Ｂ）を有することを特徴とする。 　また、好ましくは、該テーパー導波部が入射部または／かつ出射部に配置されており、該配置部において導波光がシングルモード光になっていることを特徴とする。

Description

明 細 書
光制御素子及びその製造方法
技術分野
[0001] 本発明は、光制御素子及びその製造方法に関し、特に、リッジ型導波路を有する 光制御素子及びその製造方法に関する。
背景技術
[0002] 従来、光通信分野や光計測分野にお!、て、光変調器や光スィッチ、偏波器など種 々の光制御素子が実用化されている。光制御素子に形成される光導波路には、 Tiな どの不純物を熱拡散したものの他に、基板の表面に凸状の畝を形成したリッジ型導 波路などがある。
[0003] 近年においては、光制御素子の駆動電圧の低減や、高周波応答性の改善のため 、光制御素子を構成する基板の薄板化や光制御素子内の光回路の小型化などが進 んでいる。光回路の小型化は、光回路を構成する光導波路の断面積の減少をもたら し、以下のような問題を生じている。
(1)光導波路構造の製造上の許容値が小さくなり、マルチモード導波路になる場合 がある。
(2)上記（1)の影響で、従来のシングルモード光ファイバと光制御素子 (光回路）との 結合損失が増加し、光信号の再現性が劣化する原因となる。
[0004] 図 1は、基板の表面に凸状の畝とその両側に凹部（以下「トレンチ」という。）を形成 しリッジ型導波路を有する光制御素子の断面の概略図であり、基板 1に接着層 2を介 して補強板 3を接着した構成を有して 、る。 4はリッジ型の光導波路を示して 、る。 図 1のリッジ型導波路の形状により、光導波路の伝播モードが変化する。具体的に は、光導波路 4の幅 W及び高さ D、さらに基板の厚み Hの条件により、図 2に示すよう に、光導波路の伝播モードがシングルモード領域とマルチモード領域に分かれる。 なお、図 2は、トレンチがないリッジ型導波路をモデルとし、導波路 4の側面の傾斜 角 0 = 70° 、伝播光波は波長 λ = 1. 55 mで ΤΜモード波とし、基板の屈折率を 2. 1、基板上面側の屈折率を空気と同じ 1. 0、下面側の屈折率を SiOと同じ 1. 45 と仮定した。
[0005] 図 2によれば、基板の厚み Hが薄くなると、横軸 (r= (H = D) ZH)の値が減少し、 縦軸 (WZH)の値が増加することとなるため、全体的にシングルモードからマルチモ ードに伝播モードが遷移することが容易に理解される。
他方、特許文献 1に開示されているように、光導波路の脇にスラブ導波路を形成す る方法を用いることにより、シングルモード導波路の許容値は大きくなる。しかしなが ら、図 2に示したような、光回路の小型化に伴う伝播モードのマルチモードィ匕は、トレ ンチを有するリッジ型導波路を有する光制御素子でも同様であり、基板が薄板化、特 に 10 μ m以下の場合には、シングルモードを実現するためのトレンチの幅（図 1の T) は、 1 m程度以下に設定する必要がある。
特許文献 1：特開 2004— 219751号公報
[0006] また、薄板を用いたリッジ型導波路の場合には、基板と空気又は接着層（バッファ 層）との屈折率差 Δηが大きいため、シングルモードを維持するためには光導波路断 面積自体を小さくする必要がある。光導波路断面積を小さくすると、従来無視するこ とができた光導波路の幅やトレンチの深さに係る作成誤差が無視できなくなる。仮に 、マルチモードの光導波路となった場合には、 SZN比や光挿入損失が劣化すること となる。また、リッジ型導波路が Υ分岐部を有する場合には、形状の再現性が満足さ れないと、同様に、 SZN比や光挿入損失が劣化することとなる。さらに、光導波路の 入出射部でシングルモードの条件を満足していても、形状が少し異なるだけで、光挿 入損失が大きく変化する原因となる。
[0007] 一方、リッジ型導波路の製造に際しては、電気光学効果を有する基板に、光導波 路のパターンに対応したマスクを施し、ウエット ·エッチングやドライ ·エッチングなどで 、基板の一部を除去したり、ダイシングソ一などの機械加工により溝などを形成するこ とが行われている。しかしながら、リッジ型導波路のトレンチを従来のウエット又はドラ エッチングで形成すると、図 3 (a)に示すように、基板 1上に配置されたマスク 10の 下部がアンダーカット 11されたり、図 3 (b)に示すように、局所的な異常形状 12を発 生する。これらの形状の光導波路では、リーキーモード (光が伝播しないモード。その 他に、導波路の形状に凹凸があるため光が散乱する状態を意味する。）、マルチモ ード導波路となり、シングルモード導波路の作成は困難となる。また、機械的加工で は溝の幅が約 2 m程度が限界であり、特に、 10 m以下の薄板に対して機械カロェ を行うことは基板の破損の原因となる。
したがって、薄板を利用した光制御素子においては、 SZN比や光挿入損失の劣 化を抑制するには、リッジ型導波路のトレンチの加工精度は 0. 1 m以下の高精度 が必要となるが、従来のエッチングや機械的加工では十分な精度を得ることが困難 である。
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0008] 本発明が解決しょうとする課題は、上述したような問題を解決し、リッジ型導波路を 有する光制御素子にぉ 、て、シングルモード導波路を有する光制御素子を提供する ことであり、特に、基板の厚みが 10 m以下の薄板であっても、シングルモード導波 路を有する光制御素子を精度良く安定的に製造し提供可能とすることである。
課題を解決するための手段
[0009] 請求項 1に係る発明では、光導波路が形成された基板を有する光制御素子におい て、該基板が厚さは 10 m以下の薄板であり、少なくとも該光導波路の一部はリッジ 型導波路であって、該リッジ型導波路の少なくとも一部の両側に幅 10 m以下のトレ ンチを有し、該トレンチの幅又は深さを連続的に変化させることによって該導波路の 光伝播モードをシングルモードとマルチモードとの間で連続的に変化させるテーパ 一導波部を有することを特徴とする。
なお、本発明の「テーパー導波路」とは、リッジ型導波路を形成するトレンチの幅が 連続的に増加又は減少することによりリッジ部分の導波路の幅が連続的に増加又は 減少するものや、リッジ部分の幅は変化しなくても、トレンチの深さが連続的に深く又 は浅くなるものを含むものである。
[0010] 請求項 2に係る発明では、請求項 1に記載の光制御素子において、該テーパー導 波部が入射部又は出射部の少なくともいずれかに配置されており、該配置部におい て導波光がシングルモード光になっていることを特徴とする。
[0011] 請求項 3に係る発明では、請求項 1又は 2に記載の光制御素子において、該テー パー導波部力 該光導波路の中心を通る縦断面に対し略対称形状になっていること を特徴とする。
本発明における「略対称形状」とは、テーパー導波路を伝播したシングルモードの 光波が高次モード光に変換したり、対称型光素子との結合損失が増大したりしない 程度に対称な形状となっていることを意味する。
[0012] 請求項 4に係る発明では、請求項 1又は 2に記載の光制御素子において、該テー パー導波部が、該光導波路の中心を通る縦断面に対し非対称形状になっていること を特徴とする。
[0013] 請求項 5に係る発明では、請求項 1乃至 4のいずれかに記載の光制御素子におい て、該基板が非線形光学効果、電気光学効果、焦電効果または圧電効果を有するこ とを特徴とする。
[0014] 請求項 6に係る発明では、請求項 5に記載の光制御素子において、該基板力LiNb O、 LiTaOまたは KTiOPOであることを特徴とする。
3 3 4
[0015] 請求項 7に係る発明では、請求項 1乃至 6のいずれかに記載の光制御素子におい て、該リブ型導波路の少なくとも一部は、集束イオンビーム又はレーザビーム加工の 少なくとも ヽずれかを用いて形成されて ヽることを特徴とする。
[0016] 請求項 8に係る発明では、請求項 1乃至 6のいずれかに記載の光制御素子におい て、該リブ型導波路は、エッチング又は機械加工により一次加工した後、集束イオン ビーム又はレーザビーム加工の少なくともいずれかにより仕上げ加工が行われている ことを特徴とする。
[0017] 請求項 9に係る発明では、請求項 8に記載の光制御素子を製造する光制御素子の 製造方法において、該光制御素子に光を導入し、該導入した光を計測しながら仕上 げ加工を行うことを特徴とする。
発明の効果
[0018] 請求項 1に係る発明により、光制御素子を構成する基板が厚さは 10 m以下の薄 板であっても、リッジ型導波路の少なくとも一部の両側に幅 10 m以下のトレンチを 形成し、しかも、該トレンチの幅又は深さを連続的に変化させることによって該導波路 の光伝播モードをシングルモードとマルチモードとの間で連続的に変化させるテーパ 一導波部を形成することで、光制御素子内部で仮に伝播モードがマルチモードとな つた場合でも、シングルモード光のみを取出すことができ、 SZN比や光挿入損失の 劣化などを抑制した光制御素子を提供することが可能となる。
[0019] 請求項 2に係る発明により、テーパー導波部が入射部又は出射部の少なくともいず れかに配置されており、該配置部において導波光がシングルモード光になっている ため、光導波路と光学的に結合される光ファイバとの結合損失を低減できると共に、 仮に光導波路の内部 (入射部及び出射部を除く部分)がマルチモード導波路であつ ても、光導波路内にはシングルモードの光波し力伝播していないため、 SZN比や光 挿入損失の劣化などを抑制した光制御素子を提供することが可能となる。
[0020] 請求項 3に係る発明により、テーパー導波部が、光導波路の中心を通る縦断面に 対し略対称形状になっているため、光ファイバやレンズなどの対照型の光素子と当該 光制御素子とを結合する際に、結合効率を上げることが可能となる。
[0021] 請求項 4に係る発明により、テーパー導波部が、光導波路の中心を通る縦断面に 対し非対称形状になっているため、特定の高次モードを励振させることができ、モー ド分散位相整合型波長変換素子にぉ ヽて変換効率の高 ヽ導波路を形成することが 可能となる。例えば、パラメトリックダウンコンバージョンにおいて、基本波の高次モー ドを励振し、ダウンコンバート光の基本モードとのオーバーラップを改善し、変換効率 を高めることが可能であるなど、光第二次高調波発生デバイス、和 (差)周波数発生 デバイス、光パラメトリック増幅器'発振器などの多様な二次非線形型の光制御素子 を提供することができる。
[0022] 請求項 5に係る発明により、基板が非線形光学効果、電気光学効果、焦電効果ま たは圧電効果を有するため、波長変換素子、 EOデバイス、電界センサなど多様な用 途の光制御素子を提供することが可能となる。
[0023] 請求項 6に係る発明により、基板が LiNbO Oまたは KTiOPOであるため
3、 LiTa
3 4
、光導波特性又は電界等による変調特性の優れた多様な光制御素子を提供するこ とが可能となる。
[0024] 請求項 7に係る発明により、リッジ型導波路の少なくとも一部は、集束イオンビーム 又はレーザビーム力卩ェの少なくとも ヽずれかを用いて形成されて ヽるため、サブミク ロンオーダーの精度で、リブ型導波路の溝を形成することが可能となる。これにより、 薄板を用いた光制御素子にぉ 、て、シングルモード導波路を有する光制御素子を精 度良くかつ安定的に製造することが可能となる。
[0025] 請求項 8に係る発明により、リッジ型導波路は、エッチング又は機械加工により一次 加工した後、集束イオンビーム (FIB)又はレーザビーム（LB)加工の少なくともいず れかにより仕上げ加工が行われているため、光制御素子に必要な全ての溝などを FI Bや LBで製造する場合と比較し、製造コストを低減できると共に、製造時間を短縮す ることち可會となる。
[0026] 請求項 9に係る発明により、光制御素子の製造方法において、 FIB又は LBを用い た仕上げ加工に際しては、該光制御素子に光を導入し、該導入した光を計測しなが ら仕上げ加工を行うため、各光制御素子に要求される特性に応じたリッジ型導波路を 形成することができ、極めて優れた光制御素子を提供することが可能となる。特に、 F IBや LBの出力を調整することで、計測時間に合わせたカ卩ェができ、しかも加工精度 がサブミクロンの精度であるため、トレンチ深さや幅、リッジ部分の側面の傾斜角など を意図した状態に仕上げることも可能となる。
図面の簡単な説明
[0027] [図 1]リッジ型導波路を有する光制御素子の断面図である。
[図 2]リッジ型導波路の形状と伝播モードとの関係を示すグラフである。
[図 3]従来のエッチング加工で溝を形成した場合の基板の断面の様子を示す図であ る。
[図 4]本発明に係る光制御素子の実施例を示す図である。
[図 5]本発明に係る光制御素子の他の実施例 (テーパー導波路が対称形状)を示す 図である。
[図 6]本発明に係る光制御素子の他の実施例 (テーパー導波路が非対称形状)を示 す図である。
符号の説明
[0028] 1 基板
2 接着層 3 補強板
4, 21, 31, 41 導波路
5, 20, 30, 32, 40, 42 溝
6 スラブ導波路
10 マスク
11 アンダーカット
12 局所異常形状
発明を実施するための最良の形態
[0029] 以下、本発明を好適例を用いて詳細に説明する。
本発明に係る光制御素子は、光導波路が形成された基板からなる光制御素子に おいて、該基板が厚さは 10 m以下の薄板であり、少なくとも該光導波路の一部はリ ッジ型導波路であって、該リッジ型導波路の少なくとも一部の両側に幅 10 m以下 のトレンチを有し、該トレンチの幅又は深さを連続的に変化させることによって該導波 路の光伝播モードをシングルモードとマルチモードとの間で連続的に変化させるテー パー導波部を有することを特徴とする。
[0030] 図 4は、本発明に係る光制御素子の一例を示したものであり、基板 1にリッジ型導波 路を形成したものである。リブ型導波路は、 2つの溝（トレンチ） 20により形成されてい る。
図 4 (b)は、図 4 (a)の矢印 X—Xにおける断面図を示すものであり、基板 1の端部 側 (領域 A)と基板の内部側 (領域 C)とでは、溝の深さが異なって ヽる。
[0031] 溝が浅 、領域 Aでは、伝播モードがシングルモードであり、溝が深 、領域 Cではマ ルチモードとなっている。伝播モードは図 2に示すものと同様に、リッジ型導波路の形 状を調整することで、容易に変換が可能であるため、光制御素子の用途に応じて必 要な導波路形状への変換を、 FIBや LBを用いて容易に実現することができる。
[0032] 例えば、図 4が光制御素子への光の入射部、又は光制御素子からの光の出射部で ある場合には、光制御素子に接続される光ファイバはシングルモードの光学素子が 利用でき、光挿入損失の劣化を抑制することが可能となる。また、領域 Cではマルチ モードの導波路となるが光の閉じ込めが良好に行われ、領域 Aのシングルモードの 導波路を通過したシングルモードの光に対し変調等を行うため、 SZN比の劣化が抑 制でき、変調効率や信号の再現性の高 、光制御素子を提供することが可能となる。 し力も、シングルモード導波路を光制御素子の入射部や出射部に設けることで、光 制御素子と光ファイバとの結合の際に、従来の自動調芯装置を用いることが可能とな るなど、極めて優れた効果を奏するものである。
[0033] また、領域 Bは、「テーパー導波路」を形成する部分を示し、領域 Aから領域じとの 間で、溝の深さが連続的に変化している。このため、シングルモード導波路力もマル チモード導波路への変換や、マルチモード導波路力 シングルモード導波路への変 換を円滑に行うことができ、光の伝播損失を極力抑制することも可能となる。
テーパー導波部が、光導波路の中心を通る縦断面に対し略対称形状となって 、る 場合には、高次モードの光波が励振されマルチモード光となることを抑制でき、シン ダルモードの光波を安定して伝播することが可能となる。
[0034] 他方、テーパー導波路における 2つのトレンチの深さを、互いに差異が生ずるように 変化させ、光導波路の中心を通る縦断面に対し非対称形状となるように設定すること で、特定の高次モードを励振させることができ、モード分散位相整合型波長変換素 子にお 、て変換効率の高 、導波路を形成することが可能となる。
[0035] 光制御素子に使用される基板としては、非線形光学効果、電気光学効果、焦電効 果または圧電効果を有するものが好ましぐこれらを利用することで、波長変換素子、 EOデバイス、電界センサなど多様な用途の光制御素子を提供することが可能となる また、基板材料として、 LiNbO、 LiTaOまたは KTiOPOを用いることにより、光
3 3 4
導波特性又は電界等による変調特性の優れた多様な光制御素子を提供することも 可能となる。
[0036] ところで、 10 μ m以下の基板を用いて上述したシングルモードのリッジ型導波路を 形成するためには、サブミクロンオーダーの加工精度を有する加工方法を使用する 必要がある。このため、本発明では、リッジ型導波路の少なくとも一部については、集 束イオンビーム (FIB)またはレーザビームの少なくとも一方を用いて力卩ェを行う。
FIBは、細く絞ったガリウムなどのイオンビームを、対象物に照射し、対象物表面の 原子'分子をスパッタリングすることによって、対象物表面をカ卩ェするものである。しか も、市販されている FIB加工装置には、 SIM (走査型イオン顕微鏡： Scanning Ion Mic roscopy)が付加されており、 SIM像を見ながら加工個所を決定できるため、極めて高 精度な加工が可能となるものである。
[0037] また、レーザビーム (LB)を用いても同様にサブミクロンオーダーの加工が可能であ り、加工する基板の種類や加工する場所の形状に応じて、 FIBと LBとを使い分けるこ とができる。また、両者を共に使用することも可能である。
[0038] さらに、光制御素子に設ける溝を、全て FIB又は LBを用いて形成することも可能で あるが、溝の形成部分が多い場合には、製造時間が長時間となり、製造コストの増加 の原因となる。このため、伝播モードがマルチモードとなっても良い箇所には、ウエット •エッチング又はドライ 'エッチング、あるいはダイシングソ一などで溝を形成し、その 後、 FIB又は LBを用いてカ卩ェすることにより、製造時間や製造コストを抑制すること ができる。
[0039] また、 FIBや LBは、溝の形成のみに使用するだけで無ぐ例えば、リッジ型導波路 の側面の角度を調整するために用いたり、エッチングやダイシングソ一などで一次カロ ェした基板表面 (局所異常形状など)を、 FIB等によりトリミングして滑らかに形成する など、種々の応用が可能である。これにより、リッジ部分の側面や溝の内面の荒れを 少なくし、光波の散乱などを防止でき伝播損失の少ない光制御素子を実現すること が可能となる。
[0040] 特に、 FIBや LBによる二次カ卩ェ時には、一次力卩ェで形成された光制御素子の光 導波路を利用し、該光導波路に光を入射させ、光制御素子から出射する光波をモニ タ計測しながら、二次加工を行うことも可能である。これにより、より最適な特性を有す る光制御素子を製造することが可能となる。なお、必要に応じて、光制御素子に組み 込まれた光回路を動作させながら二次加工を施し、より光制御素子の動作環境に近 い状態で加工することもできる。さらには、二次加工に使用する LBと光制御素子に 入射する光波の波長を異ならせ、モニタ光に加工用の LBが入射しても容易に波長 分離して計測できるようにすることで、より高い加工精度を維持することも可能である。
[0041] 次に、図 5は、本発明に係る光制御素子の一部を示す他の実施例であり、電気光 学効果を有する基板 1にリッジ型導波路を形成したものである。リッジ型導波路は、 2 つの溝 30により形成されている。
図 5では、基板 1の端部側 (領域 A)と基板の内部側 (領域 B)とでは、溝の幅が異な つており、結果としてリッジ部分の光導波路の幅が変化している。
[0042] 基板 1の厚みが 10 m以下の薄板を用いる場合には、領域 Aの光導波路 31をシ ングルモード導波路とするために、溝 30又は 32の幅を 1 μ m以下に設定する必要が ある。このため、領域 A又は Bについては FIB又は LBを用いて加工し、領域 Cについ ては、必要に応じて従来のエッチングやダイシングソ一などを用いて加工する。また、 領域 Aと領域 Bとの間で伝播モードが変化する場合には、両者間の形状を連続的に 変化させるため、溝 30又は 32の幅も連続的に変化させることが好ましい。
[0043] 図 5では、テーパー導波部となる領域 Bの形状が、光導波路の中心を通る縦断面（ 一点鎖線 Yを通り基板 1に垂直な面）に対し略対称形状になっている。このため、光 ファイバやレンズなどの対照型の光素子と当該光制御素子とを結合する際に、結合 効率を上げることが可能となる。また、テーパー導波部における高次モード光の発生 を抑制することが可能となる。
[0044] 他方、図 6では、テーパー導波部となる領域 Bの形状が、光導波路の中心を通る縦 断面 (一点鎖線 Yを通り基板 1に垂直な面）に対し非対称形状になっているため、マ ルチモード光を励振させたり、モード分散位相整合型波長変換素子において変換効 率の高い導波路を形成することなどが可能となる。なお、 41はリッジ部分の光導波路 であり、 40又は 42は溝を示している。
産業上の利用可能性
[0045] 以上説明したように、本発明によれば、リッジ型導波路を有する光制御素子におい て、シングルモード導波路を有する光制御素子を提供することができ、特に、基板の 厚みが 10 m以下の薄板であっても、シングルモード導波路を有する光制御素子を 精度良く安定的に製造し提供することが可能となる。

Claims

請求の範囲
[1] 光導波路が形成された基板を有する光制御素子において、
該基板が厚さは 10 m以下の薄板であり、
少なくとも該光導波路の一部はリッジ型導波路であって、
該リッジ型導波路の少なくとも一部の両側に幅 10 μ m以下のトレンチを有し、 該トレンチの幅又は深さを連続的に変化させることによって該導波路の光伝播モー ドをシングルモードとマルチモードとの間で連続的に変化させるテーパー導波部を有 することを特徴とする光制御素子。
[2] 請求項 1に記載の光制御素子において、該テーパー導波部が入射部又は出射部 の少なくともいずれかに配置されており、該配置部において導波光がシングルモード 光になっていることを特徴とする光制御素子。
[3] 請求項 1又は 2に記載の光制御素子において、該テーパー導波部が、該光導波路 の中心を通る縦断面に対し略対称形状になっていることを特徴とする光制御素子。
[4] 請求項 1又は 2に記載の光制御素子において、該テーパー導波部が、該光導波路 の中心を通る縦断面に対し非対称形状になっていることを特徴とする光制御素子。
[5] 請求項 1乃至 4のいずれかに記載の光制御素子において、該基板が非線形光学 効果、電気光学効果、焦電効果または圧電効果を有することを特徴とする光制御素 子。
[6] 請求項 5に記載の光制御素子において、該基板が LiNbO、 LiTaOまたは KTiO
3 3
POであることを特徴とする光制御素子。
4
[7] 請求項 1乃至 6のいずれかに記載の光制御素子において、該リッジ型導波路の少 なくとも一部は、集束イオンビーム又はレーザビーム力卩ェの少なくともいずれかを用 V、て形成されて!、ることを特徴とする光制御素子。
[8] 請求項 1乃至 6のいずれかに記載の光制御素子において、該リッジ型導波路は、ェ ツチング又は機械カ卩ェにより一次カ卩ェした後、集束イオンビーム又はレーザビームカロ ェの少なくともいずれかにより仕上げ加工が行われていることを特徴とする光制御素 子。
[9] 請求項 8に記載の光制御素子を製造する光制御素子の製造方法において、 該光制御素子に光を導入し、
該導入した光を計測しながら仕上げ加工を行うことを特徴とする光制御素子の製造 方法。
PCT/JP2007/054221 2006-03-29 2007-03-05 光制御素子及びその製造方法 WO2007111083A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP07737796.8A EP2006732B1 (en) 2006-03-29 2007-03-05 Photoregulation element and production method thereof
US12/225,781 US7831122B2 (en) 2006-03-29 2007-03-05 Optical control device and manufacturing method thereof
CN200780011057XA CN101410750B (zh) 2006-03-29 2007-03-05 光控制元件及其制造方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006092292A JP4847176B2 (ja) 2006-03-29 2006-03-29 光制御素子及びその製造方法
JP2006-092292 2006-03-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2007111083A1 true WO2007111083A1 (ja) 2007-10-04

Family

ID=38541010

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2007/054221 WO2007111083A1 (ja) 2006-03-29 2007-03-05 光制御素子及びその製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7831122B2 (ja)
EP (1) EP2006732B1 (ja)
JP (1) JP4847176B2 (ja)
CN (1) CN101410750B (ja)
TW (1) TWI431348B (ja)
WO (1) WO2007111083A1 (ja)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5071542B2 (ja) * 2010-09-30 2012-11-14 住友大阪セメント株式会社 光導波路素子
KR101618189B1 (ko) * 2011-09-22 2016-05-04 인텔 코포레이션 슬롯형 도파관 변조기 디바이스를 위한 슬롯형 y-커플링 도파관
CN103858035A (zh) 2011-10-28 2014-06-11 Hoya美国公司 波导衬底上用于衰减光源的光波导分路器
TWI565985B (zh) * 2012-12-14 2017-01-11 鴻海精密工業股份有限公司 脊型光波導的製造方法
US9164238B2 (en) * 2013-09-16 2015-10-20 Electronics And Telecommunications Research Institute Optical coupler having self-focusing region and arryed-waveguide grating structure including the same
CN105765803B (zh) 2013-11-27 2020-01-07 日本碍子株式会社 光栅元件以及外部谐振器型发光装置
FR3017216B1 (fr) * 2014-01-31 2017-05-26 Univ De Franche-Comte Methode de fabrication d'un guide d'onde optique a structure "ridge" a faibles pertes de couplage entre le guide d'onde optique a structure "ridge" et une fibre optique, et guide d'onde optique a structure "ridge" fabrique par cette methode
EP3117252B1 (en) * 2014-04-11 2023-01-04 Huawei Technologies Co., Ltd. Suspended ridge oxide waveguide
FR3030784B1 (fr) * 2014-12-19 2016-12-30 Univ De Franche-Comte Methode de fabrication d'un guide photonique et guide photonique fabrique par cette methode
US10985532B2 (en) * 2016-10-27 2021-04-20 Mitsubishi Electric Corporation Semiconductor optical waveguide and optical integrated element
CA3005568A1 (en) * 2017-05-22 2018-11-22 Steven E. Kaplan Fiber optical terminal cross connect closure
FR3069070A1 (fr) * 2017-07-17 2019-01-18 Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives Dispositif de focalisation optique a pseudo-gradient d'indice
JP2019215488A (ja) * 2018-06-14 2019-12-19 日本電気株式会社 電気光学変調器
RU187990U1 (ru) * 2018-11-14 2019-03-26 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук Оптический модулятор
US20230069468A1 (en) * 2020-02-14 2023-03-02 Tdk Corporation Optical waveguide element and optical modulation element
JP7371556B2 (ja) 2020-03-31 2023-10-31 住友大阪セメント株式会社 光導波路素子
CN112965166A (zh) * 2021-03-08 2021-06-15 天津大学 一种z切铌酸锂锥形波导及其制备方法
CN115032741A (zh) * 2022-05-22 2022-09-09 上海图灵智算量子科技有限公司 波导及包含其的光芯片

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1073792A (ja) * 1996-07-03 1998-03-17 Northern Telecom Ltd 光導波路およびマッハ・ツェンダー変調器
JP2002110405A (ja) * 2000-09-28 2002-04-12 Kaho Kagi Kofun Yugenkoshi 過電圧保護素子の材料及び製造方法
JP2002341393A (ja) * 2002-03-08 2002-11-27 Ngk Insulators Ltd 光導波路デバイスの製造方法
JP2004219751A (ja) * 2003-01-15 2004-08-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光導波路デバイスならびにそれを用いた光導波路レーザおよびそれを備えた光学装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2633401B1 (fr) 1988-06-24 1990-10-05 Labo Electronique Physique Dispositif semiconducteur comprenant un guide de lumiere integre qui presente au moins une partie rectiligne et une partie courbe
US5585957A (en) * 1993-03-25 1996-12-17 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Method for producing various semiconductor optical devices of differing optical characteristics
JP3104789B2 (ja) * 1997-05-02 2000-10-30 日本電気株式会社 半導体光素子およびその製造方法
US6375364B1 (en) * 2000-01-06 2002-04-23 Corning Lasertron, Inc. Back facet flared ridge for pump laser
GB2369453B (en) * 2000-11-24 2002-07-31 Bookham Technology Plc Fabrication of integrated circuit
GB2374155A (en) * 2001-03-16 2002-10-09 Bookham Technology Plc A tapered optical waveguide formed with two substrates
KR100450935B1 (ko) * 2002-07-03 2004-10-02 삼성전자주식회사 테이퍼형 광도파로 제조방법
US6853793B1 (en) * 2003-02-21 2005-02-08 Kotura, Inc. Attenuator having reduced optical loss in the pass mode
CN1284988C (zh) * 2004-03-19 2006-11-15 中国科学院半导体研究所 基于脊形光波导的强限制多模干涉耦合器的制作方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1073792A (ja) * 1996-07-03 1998-03-17 Northern Telecom Ltd 光導波路およびマッハ・ツェンダー変調器
JP2002110405A (ja) * 2000-09-28 2002-04-12 Kaho Kagi Kofun Yugenkoshi 過電圧保護素子の材料及び製造方法
JP2002341393A (ja) * 2002-03-08 2002-11-27 Ngk Insulators Ltd 光導波路デバイスの製造方法
JP2004219751A (ja) * 2003-01-15 2004-08-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光導波路デバイスならびにそれを用いた光導波路レーザおよびそれを備えた光学装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
WENGER G. ET AL.: "Design and Fabrication of Monolithic Optical Spot Size Transformers (MOST's) for High Efficient Fiber-Chip Coupling", JOURNAL OF LIGHTWAVE TECHNOLOGY, vol. 12, no. 10, October 1994 (1994-10-01), pages 1782 - 1790, XP000469536 *

Also Published As

Publication number Publication date
TWI431348B (zh) 2014-03-21
EP2006732B1 (en) 2020-04-29
CN101410750B (zh) 2010-09-15
EP2006732A2 (en) 2008-12-24
US20090116802A1 (en) 2009-05-07
JP2007264487A (ja) 2007-10-11
TW200741269A (en) 2007-11-01
US7831122B2 (en) 2010-11-09
JP4847176B2 (ja) 2011-12-28
CN101410750A (zh) 2009-04-15
EP2006732A4 (en) 2010-01-20
EP2006732A9 (en) 2009-07-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4847176B2 (ja) 光制御素子及びその製造方法
EP1584975B1 (en) Optical waveguide device, optical waveguide laser using same and optical apparatus having same
JP5359750B2 (ja) 光導波路素子
JP4691481B2 (ja) 光導波路素子
JP4847177B2 (ja) 光変調素子
JP2007114253A (ja) 導波路型光分岐素子
US20070297732A1 (en) Efficient nonlinear optical waveguide using single-mode, high v-number structure
JP2007264488A (ja) 光導波路素子
US20210382232A1 (en) Low loss fiber-to-chip interfaces for lithium niobate photonic integrated circuits
CN116009294A (zh) 一种与氮化硅异质集成的铌酸锂薄膜相位调制器
US11442225B2 (en) Wavelength conversion element and method for manufacturing wavelength conversion element
JP2005091925A (ja) 光制御素子
JP2011064895A (ja) 波長変換デバイス及び波長変換装置
US7646531B1 (en) Wavelength conversion devices having multi-component output faces and systems incorporating the same
WO2020105473A1 (ja) 光接続構造
WO2022210853A1 (ja) 光導波路素子及びそれを用いた光変調デバイス並びに光送信装置
US20240134117A1 (en) Optical waveguide element, and optical transmission apparatus and optical modulation device using same
WO2023053404A1 (ja) 光導波路素子及びそれを用いた光変調デバイス並びに光送信装置
JP2004020588A (ja) 波長変換装置
WO2022210854A1 (ja) 光導波路素子及びそれを用いた光変調デバイス並びに光送信装置
JP2005321485A (ja) 光波長変換モジュール
CN115698793A (zh) 光波导元件及使用了该光波导元件的光调制器件以及光发送装置
JPH03213809A (ja) 回折格子光結合器
JP2006208452A (ja) 波長変換素子
JPH07114049A (ja) 埋込型光導波路

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 07737796

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200780011057.X

Country of ref document: CN

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2007737796

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 12225781

Country of ref document: US