WO2006100830A1 - 光学フィルムの製造方法、およびそのような製造方法により得られる光学フィルムを用いた画像表示装置 - Google Patents

光学フィルムの製造方法、およびそのような製造方法により得られる光学フィルムを用いた画像表示装置 Download PDF

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compensation layer
liquid crystal
layer
film
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Seiji Umemoto
Ikuo Kawamoto
Kentarou Takeda
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Nitto Denko Corp
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    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
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Definitions

  • the present invention relates to an optical film manufacturing method and an image display device using the optical film. More specifically, the present invention is a simple and inexpensive production of an optical film that has excellent durability, contributes to thinning, prevents heat unevenness, and well prevents light leakage in black display. The present invention relates to a method and an image display apparatus using an optical film obtained by such a manufacturing method.
  • a transflective liquid crystal display device As a VA mode liquid crystal display device, a transflective liquid crystal display device has been proposed in addition to a transmissive liquid crystal display device and a reflective liquid crystal display device (see, for example, Patent Documents 1 and 2). .
  • the transflective liquid crystal display device uses external light in a bright place as in the case of the reflective liquid crystal display device, and the display is approved by an internal light source such as a backlight in a dark place.
  • the transflective liquid crystal display device employs a display system that has both a reflective type and a transmissive type, and switches between the reflective mode and the transmissive mode depending on the ambient brightness.
  • the transflective liquid crystal display device can be clearly used even when the surroundings are dark while reducing power consumption, and thus is preferably used for a display portion of a portable device.
  • a transflective liquid crystal display device for example, a reflective film in which a light transmission window is formed on a metal film such as aluminum is provided on the inner side of the lower substrate, and this reflective film is semi-finished.
  • a liquid crystal display device that functions as a transmission / reflection plate can be given. In such a liquid crystal display device, in the reflection mode, external light incident from the upper substrate side passes through the liquid crystal layer, is reflected by the reflective film inside the lower substrate, and passes through the liquid crystal layer again. It is emitted from the upper substrate side and contributes to display.
  • the transmissive mode the light from the backlight incident from the lower substrate side passes through the liquid crystal layer through the window of the reflective film and is then emitted from the upper substrate side to contribute to display. Therefore, the window portion was formed in the reflective film formation region. The region becomes a transmissive display region, and the other region becomes a reflective display region.
  • Patent Document 1 JP-A-11 242226
  • Patent Document 2 JP 2001-209065
  • the present invention has been made to solve the above-described conventional problems, and the purpose thereof is to have excellent durability, contribute to thinning, prevent heat unevenness, and
  • An object of the present invention is to provide a simple and inexpensive manufacturing method of an optical film that can satisfactorily prevent light leakage in black display, and an image display device using the optical film obtained by such a manufacturing method.
  • the method for producing an optical film of the present invention includes a step of applying a coating liquid containing a liquid crystal material to an alignment-treated substrate; and the liquid crystal material exhibits a liquid crystal phase.
  • the first optical compensation layer are disposed on opposite sides of each other through the transparent protective film (T), and the first optical compensation layer is connected to the slow axis of the first optical compensation layer.
  • An angle formed with the absorption axis of the polarizer is + 17 ° to + 27 ° or 17 ° to 27 °
  • the second optical compensation layer includes the second optical compensation It is formed such that the angle formed between the slow axis of the layer and the absorption axis of the polarizer is + 85 ° to + 95 °.
  • the liquid crystal material includes a polymerizable monomer and Z or a bridging monomer
  • the alignment step of the liquid crystal material further includes performing a polymerization process and a Z or crosslinking process.
  • the polymerization treatment And Z or the crosslinking treatment is performed by heating or light irradiation.
  • the second optical compensation layer is formed so that its Nz coefficient is 1.2 ⁇ N z ⁇ 2.
  • the step of forming the second optical compensation layer on the surface of the first optical compensation layer includes selecting a group force of polyimide, polyamide, polyetherketone, polyamideimide, and polyesterimide Coating the coating liquid containing at least one polymer on the surface of the base sheet, drying the coating liquid to form a polymer layer on the surface of the base sheet, and The step of heating and stretching the whole base sheet to form the second optical compensation layer on the base sheet, and the second optical compensation layer formed on the base sheet to the first base A step of attaching to the surface of the optical compensation layer, and a step of peeling the substrate sheet from the second optical compensation layer.
  • the polymer layer in the step of forming the second optical compensation layer on the base sheet, is stretched at a stretch ratio of 1.2 to 3 times together with the base sheet. . In a more preferred embodiment, during the step of forming the second optical compensation layer on the base sheet, the polymer layer is stretched in the width direction together with the base sheet.
  • the thickness of the second optical compensation layer is 1 ⁇ to 10 / ⁇ m.
  • the first optical compensation layer is a ⁇ 2 plate.
  • the second optical compensation layer is a ⁇ 4 plate.
  • an optical film is provided. This optical film is obtained by the production method described above.
  • an image display device includes the optical film.
  • a second optical compensation layer ⁇ ⁇ 4 plate
  • the absorption axis of the polarizer and the respective slow phases of the first optical compensation layer and the second optical compensation layer are used.
  • the angle formed with the axis is within a predetermined range And preferably by setting the Nz coefficient of the second optical compensation layer to a predetermined range (1.2 ⁇ Nz ⁇ 2), particularly reflective and transflective VA mode liquid crystal displays In the apparatus, the light leakage of black display can be remarkably improved. Further, according to the present invention, the viewing angle can be remarkably improved in a wide wavelength band, particularly in the reflective and transflective VA mode liquid crystal display devices. Further, in the present invention, it is preferable that the first optical compensation layer and the second optical compensation layer be obtained by employing the specific first optical compensation layer and the second optical compensation layer obtained by a specific method. Therefore, it is possible to significantly reduce the thickness of the image display device and to prevent heat unevenness significantly.
  • the first optical compensation layer is adhered to the transparent protective film by transferring the first optical compensation layer to the substrate cover, compared to the case where the first optical compensation layer is directly applied. Sexually improves. As a result, an optical film having very excellent durability can be obtained.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an optical film according to a preferred embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is an exploded perspective view of an optical film according to a preferred embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a perspective view showing an outline of one process in an example of the method for producing an optical film of the present invention.
  • FIG. 4 is a perspective view showing an outline of another process in an example of the method for producing an optical film of the present invention.
  • FIG. 5 is a schematic diagram showing an outline of still another process in an example of the method for producing an optical film of the present invention.
  • FIG. 6 is a schematic view showing an outline of still another process in an example of the method for producing an optical film of the present invention.
  • FIG. 7 is a schematic view showing an outline of still another process in an example of the method for producing an optical film of the present invention.
  • FIG. 8 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal panel used in a liquid crystal display device according to a preferred embodiment of the present invention.
  • nx is the refractive index in the direction that maximizes the in-plane refractive index (ie, slow axis direction), and “ny” is the direction that is perpendicular to the slow axis in the plane (ie, fast phase). (Axial direction), and “nz” is the refractive index in the thickness direction.
  • the term “substantially equal” is intended to include the case where V and range nx and ny differ from each other without practically affecting the overall optical characteristics of the optical film.
  • In-plane retardation Re means the in-plane retardation value measured at 23 ° C with light at a wavelength of 590 nm.
  • Re is the formula when the refractive index in the slow axis direction and the fast axis direction of the film (layer) at a wavelength of 590 nm is nx and ny, respectively, and d (nm) is the thickness of the film (layer):
  • Re (nx—ny) X d
  • Thickness direction retardation Rth is a thickness direction retardation value measured with light having a wavelength of 590 nm at 23 ° C.
  • Rth is the refractive index in the slow axis direction and thickness direction of the film (layer) at a wavelength of 590 nm, respectively, nx and nz, and d (nm) is the thickness of the film (layer).
  • Nz (nx ⁇ nz) / (nx ⁇ ny).
  • ⁇ 2 plate refers to converting linearly polarized light having a specific vibration direction into linearly polarized light having a vibration direction orthogonal to the vibration direction of the linearly polarized light, or converting right circularly polarized light to left circularly polarized light. It has a function to convert light (or left circularly polarized light into right circularly polarized light).
  • the ⁇ / 2 plate has a retardation value in the film (layer) plane of about 1Z2 with respect to the wavelength of light (usually in the visible light region).
  • ⁇ 4 plate means a material having a function of converting linearly polarized light of a specific wavelength into circularly polarized light (or circularly polarized light into linearly polarized light).
  • the ⁇ 4 plate has a retardation value in the film (layer) plane of about 1Z4 with respect to the wavelength of light (usually in the visible light region).
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an optical film according to a preferred embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is an exploded perspective view for explaining the optical axis of each layer constituting the optical film of FIG.
  • the optical film 10 includes a polarizer 11, a first optical compensation layer 13, and a second optical compensation layer 14 in this order.
  • Each layer of the optical film is laminated via any appropriate pressure-sensitive adhesive layer or adhesive layer (not shown).
  • any appropriate protective layer (transparent protective film) 15 is laminated on the side of the polarizer 11 where the optical compensation layer is not formed.
  • any appropriate protective layer (transparent protective film) 12 may be provided between the polarizer 11 and the first optical compensation layer 13 as necessary.
  • the second optical compensation layer 14 has a refractive index characteristic of nx> ny> nz and an Nz coefficient of 1.2 ⁇ Nz ⁇ 2. The details of the first optical compensation layer and the second optical compensation layer will be described in the following sections A-2 and A-3, respectively.
  • the first optical compensation layer 13 has a slow axis B that defines a predetermined angle oc with respect to the absorption axis A of the polarizer 11.
  • the angle ⁇ is + 17 ° to + 27 ° or 17 ° to 27 ° with respect to the absorption axis A of the polarizer 11, preferably + 19 ° to + 25 ° or 19 ° to 25 °, More preferably, it is + 21 ° to + 24 ° or 21 ° to 1-24 °, and most preferably + 22 ° to + 23 ° or ⁇ 22 ° to ⁇ 23 °.
  • the slow axis C is deviated.
  • the photons 11 are stacked so as to define a predetermined angle
  • the angle j8 is + 85 ° to + 95 ° with respect to the absorption axis ⁇ of the polarizer 11, preferably + 87 ° to + 93 °, more preferably + 88 ° to + 92 °. Most preferably, it is + 89 ° to + 91 °.
  • the total thickness of the optical film of the present invention is preferably 40 to 150 ⁇ m, more preferably 40 to 130 111, and most preferably 40 to L 00 m. According to the present invention, light leakage in the image display device can be satisfactorily prevented with only two optical compensation layers. Furthermore, according to the present invention, by forming the first optical compensation layer from a liquid crystal material (described later), the thickness for allowing the first optical compensation layer to function as a ⁇ 2 plate is remarkably compared with the conventional one.
  • the second optical compensation layer can be made thin and formed by using a specific polymer material and a specific manufacturing method (to be described later) so that the second optical compensation layer can function as an 1 ⁇ 4 plate. The thickness can be made much thinner than before. As a result, the overall thickness of the optical film of the present invention can be remarkably reduced as compared with a conventional equivalent optical film, which can greatly contribute to the reduction in thickness of the image display device.
  • the first optical compensation layer 13 can function as a ⁇ / 2 plate.
  • the wavelength dispersion characteristics of the second optical compensation layer functioning as a ⁇ ⁇ 4 plate (especially in the wavelength range where the phase difference deviates from ⁇ ⁇ 4) can be adjusted appropriately.
  • the in-plane retardation Re of the first optical compensation layer is preferably 200 to 300 nm, more preferably 220 to 280 nm, and most preferably 230 to 270 nm.
  • the thickness of the first optical compensation layer can be set so as to function most appropriately as a ⁇ 2 plate.
  • the thickness can be set so as to obtain a desired in-plane retardation.
  • the thickness is preferably 0.5 to 5 ⁇ m, more preferably 1 to 4 ⁇ m, and most preferably 1.5 to 3 m.
  • any suitable material may be employed.
  • a liquid crystal material (nematic liquid crystal) in which the liquid crystal phase preferred by the liquid crystal material is a nematic phase is more preferred.
  • the difference between nx and ny of the obtained optical compensation layer can be made much larger than that of a non-liquid crystal material.
  • the thickness of the optical compensation layer for obtaining a desired in-plane retardation can be remarkably reduced.
  • a liquid crystal material for example, a liquid crystal polymer or a liquid crystal monomer can be used.
  • a liquid crystal polymer and a liquid crystal monomer may be used in combination.
  • the liquid crystal material may have a liquid crystalline expression mechanism that may be either lyotropic or thermotropic pick.
  • the alignment state of the liquid crystal is preferably homogenous alignment.
  • the liquid crystal material is a liquid crystal monomer
  • a polymerizable monomer or a crosslinkable monomer is preferable. This is because the alignment state of the liquid crystal material can be fixed by polymerizing or crosslinking a polymerizable monomer or a crosslinkable monomer, as will be described later. After aligning the liquid crystal monomer, for example, if the liquid crystal monomers (polymerizable monomer or crosslinkable monomer) are polymerized or cross-linked, the alignment state can be fixed accordingly.
  • a polymer is formed by polymerization and a three-dimensional network structure is formed by crosslinking, but these are non-liquid crystalline.
  • the first optical compensation layer for example, a transition to a liquid crystal phase, a glass phase, or a crystal phase due to a temperature change specific to the liquid crystal compound does not occur.
  • the first optical compensation layer is an optical compensation layer that is not affected by temperature changes and has excellent stability.
  • Polymerizable monomers and crosslinkable monomers may be used in combination.
  • liquid crystal monomer any appropriate liquid crystal monomer can be adopted.
  • liquid crystal monomer any appropriate liquid crystal monomer can be adopted.
  • 3 ⁇ 42002-533742 (WO00 / 37585), EP358208 (US5211877), EP6613 7 (US4388453), W093 / 22397, EP0261712, DE19504224, DE4408171, GB2280445, and the like can be used.
  • Specific examples of such polymerizable mesogenic compounds include, for example, trade name LC242 from BASF, trade name E7 from Merck, and trade name LC-Sillicon-CC3767 from Wacker-Chem.
  • liquid crystal monomer that are preferably nematic liquid crystal monomers include monomers represented by the following formula (L1). These liquid crystal monomers are single Or in combination of two or more.
  • a 1 and A 2 each represent a polymerizable group, and may be the same or different.
  • One of A 1 and A 2 may be hydrogen.
  • -C represents an alkyl
  • M represents a mesogenic group
  • X may be the same or different, but is preferably the same.
  • a 2 is preferably located in the ortho position with respect to A 1 .
  • Sarako, A 1 and A 2 are each independently represented by the following formula:
  • a 1 and A 2 are preferably the same group.
  • Z represents a crosslinkable group
  • X is as defined in the above formula (L1)
  • Sp is a straight chain having 1 to 30 carbon atoms. Or a branched chain substituted or unsubstituted alkyl group, and n represents 0 or 1.
  • the carbon chain in Sp may be interrupted by, for example, oxygen in the ether functional group, sulfur in the thioether functional group, a non-adjacent imino group, or a C to C alkylimino group.
  • Z is an atomic group represented by the following formula.
  • examples of R include groups such as methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, i-butyl, and t-butyl.
  • Sp is a force that is a deviation of an atomic group represented by the following formula.
  • m is 1 to 3
  • p is preferably 1-12.
  • M is preferably represented by the following formula (L3)! /.
  • X is the same as defined in the above formula (L1).
  • Q represents, for example, a substituted or unsubstituted linear or branched alkylene or aromatic hydrocarbon group.
  • Q is, for example, a substituted or unsubstituted linear or branched C to C anolylene.
  • Examples of the substituted analog of the aromatic hydrocarbon group represented by the above formula may include 1 to 4 substituents per aromatic ring, and the aromatic ring or You may have 1 or 2 substituents per group.
  • the above substituents may be the same or different.
  • Examples of the substituent include C to C alkyl, nitro, F, Cl, Br, and I.
  • halogen such as, c-c alkoxy and the like.
  • liquid crystal monomer examples include monomers represented by the following formulas (L4) to (L19).
  • the temperature range in which the liquid crystal monomer exhibits liquid crystal properties varies depending on the type. Specifically, the temperature range is preferably 40 to 120 ° C, more preferably 50 to 100 ° C, and most preferably 60 to 90 ° C.
  • the second optical compensation layer 14 has a refractive index characteristic of nx>ny> nz. That is, the second optical compensation layer 14 is a biaxial optical compensation layer. Preferably, the second optical compensation layer 14 is Can function as a ⁇ Z4 plate. In order to achieve sufficient visual compensation at all wavelengths, it is preferable that the wavelength dispersion of the second optical compensation layer exhibits the same wavelength dispersion as that of the liquid crystal in the liquid crystal cell. According to the present invention, the wavelength dispersion characteristic of the second optical compensation layer functioning as the ⁇ 4 plate is corrected by the optical characteristics of the first optical compensation layer functioning as the ⁇ 2 plate, thereby providing a wide wavelength range. The circular polarization function can be demonstrated.
  • the in-plane retardation Re of the second optical compensation layer is preferably 90 to 160 nm.
  • the thickness direction retardation Rth of the second optical compensation layer is preferably 80 to 150 nm.
  • it is 90-140 nm, Most preferably, it is 100-130 nm.
  • the Nz coefficient of the second optical compensation layer is 1.2 ⁇ Nz ⁇ 2, preferably 1.3 ⁇ Nz ⁇ 1.8, and more preferably 1.4 ⁇ Nz ⁇ l. 7.
  • the second optical compensation layer functions as a ⁇ 4 plate, while performing optical compensation and axial compensation for the VA mode liquid crystal cell. The function can be exhibited and the contrast of the liquid crystal display device can be improved.
  • the thickness of the second optical compensation layer can be set so as to function most appropriately as a ⁇ 4 plate.
  • the thickness can be set so as to obtain a desired in-plane retardation.
  • the thickness is preferably 1 to: LO / z m, more preferably 1.2 to 6, and most preferably 1.4 to 3 / ⁇ ⁇ . This thickness is much thinner than the thickness that can be achieved with a conventional biaxial ⁇ 4 plate. This can be realized by subjecting a specific polymer to a specific heating and stretching treatment by the production method of the present invention (details of the production method will be described in the section below).
  • any appropriate material can be adopted as long as the above optical characteristics can be obtained.
  • such materials include non-liquid crystalline materials.
  • Particularly preferred are non-liquid crystalline polymers.
  • Such a non-liquid crystalline material unlike the liquid crystalline material, can form a film exhibiting optical uniaxiality of nx> nz and ny> nz due to its own property that is related to the orientation of the substrate.
  • not only oriented substrates but also unoriented substrates can be used.
  • the step of applying an alignment film on the surface or the step of laminating the alignment film can be omitted.
  • non-liquid crystalline polymer examples include polyamide, polyimide, polyester, polyetherketone, polyamideimide, polyesterimide, and the like because of excellent heat resistance, chemical resistance, transparency, and rigidity.
  • Polymers are preferred. These polymers may be used either alone or as a mixture of two or more having different functional groups such as a mixture of polyaryletherketone and polyamide. Also good.
  • polyimide is particularly preferable because of its high transparency, high orientation, and high stretchability. Since polyimide has high heat resistance and low thermal expansion, the second optical compensation layer formed from polyimide has little heat unevenness.
  • the molecular weight of the polymer is not particularly limited.
  • the weight average molecular weight (Mw) force i is in the range of 1,000 to 1,000,000 force S, more preferably 2,000 to 500, The range is 000.
  • the polyimide for example, a polyimide soluble in an organic solvent having high in-plane orientation is preferable. Specifically, for example, it includes a condensation polymerization product of 9,9-bis (aminoaryl) fluorene and an aromatic tetracarboxylic dianhydride disclosed in JP 2000-511296 A, and has the following formula: A polymer containing one or more repeating units shown in (1) can be used.
  • R 3 to R 6 are each independently hydrogen, halogen, phenyl group, a phenyl group substituted with 1 to 4 halogen atoms or a C alkyl group, and C
  • Alkyl group power is at least one substituent selected.
  • R 3 to R 6 are each independently a halogen, a phenyl group, 1 to 4 halogen atoms, or C A group substituted with an alkyl group, and a group power of c alkyl group selection 1 10 1-10
  • At least one kind of substituent At least one kind of substituent.
  • Z is, for example, a C 4 tetravalent aromatic group, preferably pyromellitic
  • Z ′ represents, for example, a covalent bond, a C (R 7 ) group, a CO group, an O atom, an S atom, SO
  • W is an integer from 1 to 10.
  • Each R 7 is independently hydrogen or C (R 9 ).
  • R 8 is hydrogen, an alkyl group having 1 to about 20 carbon atoms, or
  • a C aryl group and in some cases, they may be the same or different.
  • Each R 9 is independently hydrogen, fluorine, or chlorine.
  • Examples of the polycyclic aromatic group include naphthalene, fluorene, benzofluorene, and an anthracene-induced tetravalent group.
  • Examples of substituted derivatives of the polycyclic aromatic group include C alkyl group, fluorinated derivatives thereof, and F
  • group power of halogen power such as C1 and the like, and the above polycyclic aromatic group substituted with at least one selected group.
  • the polyimide etc. which are shown are mentioned.
  • the polyimide of the following formula (5) is a preferred form of the homopolymer of the following formula (3).
  • G and G ' each independently represent, for example, a covalent bond, a CH group, a C (CH) group, a C (CF) group, C (CX) A group (where X is a halogen), C
  • L is a substituent
  • d and e represent the number of substitutions.
  • L is, for example, halogen, C alkyl group, C halogenated alkyl group, phenyl group,
  • substituted phenol group is a substituted phenol group, and in the case of multiple groups, they may be the same or different! /.
  • substituted phenyl group include halogen, C alkyl group, and
  • C has at least one kind of substituent which can also be selected as a group force that is also a halogenoalkyl group.
  • halogen examples include fluorine, chlorine, bromine and iodine.
  • d is an integer from 0 to 2 and e is from 0 to 3 Is an integer.
  • Q is a substituent, and f represents the number of substitutions.
  • Q include hydrogen, halogen, alkyl group, substituted alkyl group, nitro group, cyano group, thioalkyl group, alkoxy group, aryl group, substituted aryl group, alkyl ester group, and substituted alkyl ester group.
  • the halogen include fluorine, chlorine, bromine and iodine.
  • the substituted alkyl group include a halogenated alkyl group.
  • the substituted aryl group include a halogenated aryl group.
  • f is an integer from 0 to 4
  • g is an integer from 0 to 3
  • h is an integer from 1 to 3. In addition, g and h are greater than 1 and force S is preferable.
  • R 1G and R 11 are each independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, a phenol group, a substituted phenyl group, an alkyl group, and a substituted alkyl group. It is a group. Among them, R 1G and R 11 are preferably each independently a halogenated alkyl group.
  • M 1 and M 2 are each independently, for example, halogen, C alkyl
  • halogen examples include fluorine, chlorine, bromine and iodine.
  • substituted phenol group examples include halogen, C alkyl group, and C halogen.
  • Examples thereof include a substituted phenyl group having at least one type of substituent selected from the group consisting of a 1-3-1 alkylated group.
  • polyimide represented by the above formula (3) include those represented by the following formula (6).
  • examples of the polyimide include a copolymer obtained by appropriately copolymerizing acid dianhydride diamin other than the skeleton (repeating unit) as described above.
  • Examples of the acid dianhydride include aromatic tetracarboxylic dianhydrides.
  • Examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include pyromellitic dianhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, naphthalene tetracarboxylic dianhydride, and bicyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride. And 2, 2'-substituted biphenyltetracarboxylic dianhydrides.
  • Examples of the pyromellitic dianhydride include pyromellitic dianhydride, 3, 6-diphenyl-pyromellitic dianhydride, 3,6-bis (trifluoromethyl) pyromellitic acid dianhydride.
  • benzophenone tetracarboxylic dianhydride examples include 3, 3 ′, 4, 4 ′ monobenzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2, 3, 3 ′, 4 ′ monobenzo Examples include enonetetracarboxylic dianhydride and 2,2 ', 3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride.
  • naphthalenetetracarboxylic dianhydride examples include 2, 3, 6, 7 naphthalene-tetracarboxylic dianhydride, 1, 2, 5, 6 naphthalene-tetracarboxylic dianhydride, 2, 6 dichloro- And naphthalene 1, 4, 5, 8-tetracarboxylic dianhydride.
  • heterocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include thiophene 2, 3, 4, 5-tetracarboxylic dianhydride, pyrazine 2, 3, 5, 6-tetracarboxylic dianhydride, pyridine. 2, 3, 5, 6-tetracarboxylic dianhydride and the like.
  • Examples of the 2,2′-substituted biphenyltetracarboxylic dianhydride include, for example, 2,2, 1-dib-mouthed 4,4,5,5, -biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2, -Dichloromethane-4, 4 ,, 5, 5,-Biphenyl tetracarboxylic dianhydride, 2, 2,-Bis (trifluoromethyl)-4, 4 ', 5, 5'-Biphenyl tetracarboxylic acid A dianhydride etc. are mentioned.
  • aromatic tetracarboxylic dianhydride examples include 3, 3 ', 4, 4, -biphenyltetracarboxylic dianhydride, bis (2, 3 dicarboxyphenol) ) Methane dianhydride, bis (2, 5, 6 trifluoro-3,4 dicarboxyphenyl) Methane dianhydride, 2, 2 bis (3,4 dicarboxyphenyl) — 1, 1, 1, 3, 3, 3 Hexafluoropropyl Mouth Panni Anhydride, 4, 4'-Bis (3,4 Dicarboxyphenol)-2, 2 Diphenol Mouth panni anhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, 4,4, oxydiphthalic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenol) sulfonic dianhydride 3, 4, 3, 4-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 4, 4, 1 [4, 4, 1-isopropylidene
  • aromatic tetracarboxylic dianhydride 2,2'-substituted biphenyltetracarboxylic dianhydride is preferable, and 2,2'-bis (trihalomethyl) is more preferable.
  • diamine examples include aromatic diamines, and specific examples include benzendiamine, diaminobenzophenone, naphthalenediamine, heterocyclic aromatic diamine, and other aromatic diamines. It is done.
  • Examples of the benzene diamine include o-, m-, and p-phenylenediamine, 2,4 diaminotoluene, 1,4 diamine-2-methoxybenzene, 1,4 diamine-2-phenol benzene and 1, 3 Diamino 4 A group force consisting of benzene diamines such as black benzene.
  • Examples of the above-mentioned diaminobenzophenone include 2,2, -diaminobenzofenone and 3,3-diaminobenzophenone.
  • Examples of the naphthalenediamine include 1,8 diaminonaphthalene and 1,5-diaminonaphthalene.
  • Examples of the heterocyclic aromatic diamine include 2,6 diaminopyridine, 2,4-diaminopyridine, 2,4 diamino-S triazine and the like.
  • aromatic diamines include 4, 4, diaminobiphenyl, 4, 4, diaminodimethane, 4, 4,-(9 fluoroureidene) monodiyne, 2 , 2, 1 bis (trifluoromethyl) 4, 4'-diaminobiphenyl, 3, 3, 1 dichloro 1, 4, 4'- diaminodiphenyl methane, 2, 2'-dichloro-4, 4'-diaminobiphenyl, 2 , 2 ', 5, 5'-tetrachlorobenzidine, 2, 2 bis (4 aminophenoxyphenol) propane, 2, 2 bis (4 —Aminophenol) pronone, 2, 2 h, s (4 aminophenyl) 1, 1, 1, 3, 3, 3 hexafluoropropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 1,3 bis (3 aminophenoxy) benzene, 1,3 bis (4 aminophenoxy
  • polyether ketone examples include polyaryl ether ketones represented by the following general formula (7) described in JP-A-2001-49110.
  • X represents a substituent, and q represents the number of substitutions.
  • X is, for example, a halogen atom, a lower alkyl group, a halogenated alkyl group, a lower alkoxy group, or a halogeno-alkoxy group. When there are a plurality of Xs, they may be the same or different.
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a bromine atom, a chlorine atom, and an iodine atom, and among these, a fluorine atom is preferable.
  • a fluorine atom is preferable.
  • the lower alkyl group for example, a C linear or branched alkyl group is more preferable.
  • the group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec butyl group and tert butyl group are preferred, and methyl group and ethyl group are particularly preferred.
  • the halogenated alkyl group include halogenated compounds of the lower alkyl group such as a trifluoromethyl group.
  • the lower alkoxy group include a C straight chain. Or a branched alkoxy group is preferred, more preferably a C straight or branched chain.
  • An alkoxy group Specifically, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, and a tert-butoxy group are more preferable, particularly preferably a methoxy group and an ethoxy group.
  • the halogenated alkoxy group include a halogenated product of the lower alkoxy group such as a trifluoromethoxy group.
  • the carbocycle group bonded to both ends of the benzene ring and the oxygen atom of the ether exist in the para position with respect to each other.
  • R 1 is a group represented by the following formula (8), and m is an integer of 0 or 1.
  • X ′ represents a substituent, and is the same as X in the above formula (7), for example.
  • R 2 represents a divalent aromatic group.
  • the divalent aromatic group include o-, m- or p-phenylene diene group, or naphthalene, biphenyl, anthracene, o mono, m- or p-terphenyl, phenanthrene, dibenzofuran, biphenol.
  • -Diethyl or bivalent sulfone force induced divalent groups may be substituted with a hydrogen-powered halogen atom, lower alkyl group or lower alkoxy group directly bonded to the aromatic group.
  • the following formulas (9) to (15) are preferable aromatic groups in which the group force is selected.
  • R 1 is preferably a group represented by the following formula (16).
  • R 2 and p are as defined in the above formula (8). It is.
  • n represents the degree of polymerization and is, for example, in the range of 2 to 5000, and preferably in the range of 5 to 500.
  • the polymerization may be a repeating unit force having the same structure or a repeating unit force having a different structure. In the latter case, the polymerization mode of the repeating unit may be block polymerization or random polymerization.
  • the terminal of the polyaryletherketone represented by the formula (7) is fluorine on the p-tetrafluorobenzobenzene group side and a hydrogen atom on the oxyalkylene group side.
  • Such polyaryletherketone can be represented, for example, by the following general formula (17). In the formula below, n represents the same degree of polymerization as in formula (7) above. [0092] [Chemical 17]
  • polyaryletherketone represented by the above formula (7) include those represented by the following formulas (18) to (21). In each of the following formulas, n represents the above formula. Degree of polymerization similar to (7).
  • polyamide or polyester examples include polyamides and polyesters described in JP-T-10-508048, and the repeating unit thereof is, for example, the following general unit It can be represented by formula (22).
  • Y is O or NH.
  • E is, for example, a covalent bond, C al
  • R represents a C alkyl group and a C halogenated alkyl.
  • A represents, for example, hydrogen, halogen, C alkyl group, C halogenated alkyl group
  • a ′ is, for example, a halogen, a C alkyl group, a C halogenated alkyl group, a phenol group, and a substituted phenol.
  • the t is an integer from 0 to 4, and the z is an integer from 0 to 3.
  • repeating units of polyamide or polyester represented by the above formula (22) those represented by the following general formula (23) are preferred.
  • a A ′ and Y are as defined in the above formula (22), and v is an integer of 0 to 3, preferably an integer of 0 to 2.
  • X and y are 0 or 1, respectively.
  • any appropriate polarizer may be adopted as the polarizer 11 depending on the purpose.
  • a hydrophilic polymer film such as a polybulal alcohol film, a partially formalized polybulal alcohol film, or an ethylene / acetic acid copolymer copolymer ken-yi film is used for two colors such as iodine or a dichroic dye.
  • examples include polyaxially oriented films such as those obtained by adsorbing volatile substances and uniaxially stretched, polyvinyl alcohol dehydrated products and polyvinyl chloride dehydrochlorinated products.
  • a uniaxially stretched polarizer obtained by adsorbing a dichroic substance such as iodine on a polybulualcohol-based film is particularly preferred because of its high polarization dichroic ratio.
  • the thickness of these polarizers is not particularly limited, but is generally about 180 / ⁇ ⁇ .
  • a polarizer uniaxially stretched by adsorbing iodine to a polybulualcohol-based film is dyed by, for example, immersing polyvinyl alcohol in an aqueous solution of iodine. It can be produced by stretching 3 to 7 times. If necessary, it may contain boric acid, zinc sulfate, zinc chloride or the like, or may be immersed in an aqueous solution of potassium iodide or the like. Furthermore, if necessary, the polybulal alcohol film may be immersed in water and washed before dyeing.
  • washing the polybulualcohol film with water not only cleans the surface of the polybulcoalcohol film and the anti-blocking agent, but also swells the polybulualcohol film, causing unevenness in the staining. There is also an effect to prevent.
  • the stretching may be performed after dyeing with iodine, may be performed while dyeing, or may be stretched and dyed with strong iodine. It can be stretched in an aqueous solution of boric acid or potassium iodide or in a water bath.
  • any appropriate film that can be used as a protective layer of a polarizing plate can be adopted.
  • a transparent protective film is preferred.
  • materials that are the main components of such films include cellulose-based resins such as triacetyl cellulose (TAC), polyester-based, polybutyl alcohol-based, polycarbonate-based, polyamide-based, polyimide-based, polyethersulfone.
  • TAC triacetyl cellulose
  • polyester-based such as triacetyl cellulose (TAC)
  • polybutyl alcohol-based such as polycarbonate-based, polyamide-based, polyimide-based, polyethersulfone.
  • transparent resins such as polysulfone, polysulfone, polystyrene, polynorbornene, polyolefin, acrylic, and acetate.
  • acrylic, urethane, acrylic urethane, epoxy and silicone thermosetting resins or ultraviolet curable resins are also included.
  • a glassy polymer such as a siloxane polymer may be used.
  • the polymer film described in JP 2001-343529 A (WO01Z37007) can also be used.
  • the material of the film include thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted imide group in the side chain, and a thermoplastic resin having a substituted or unsubstituted phenyl group and -tolyl group in the side chain.
  • the resin composition can be used, for example, a resin composition having an alternating copolymer of isobutene and N-methylmaleimide and an acrylonitrile / styrene copolymer.
  • the polymer film can be, for example, an extrusion-molded product of the resin composition.
  • TAC which is preferable to TAC, polyimide-based resin, polybutyl alcohol-based resin, and glassy polymer, is more preferable.
  • the protective layer is preferably transparent and has no color.
  • the retardation value Rth force in the thickness direction is preferably 1 to 90 nm, more preferably 1 to 80 nm, and most preferably 70 to +70 nm.
  • the thickness of the protective layer any appropriate thickness can be adopted as long as the above preferred thickness direction retardation is obtained.
  • the thickness of the protective layer is preferably 5 mm or less, more preferably 1 mm or less, particularly preferably 1 to 500 / z m, and most preferably 5 to 150 ⁇ m.
  • the protective layers 12 and 15 may be the same or different.
  • the protective layer 15 can be subjected to a hard coat treatment, an antireflection treatment, an anti-sticking treatment, an antiglare treatment, or the like as necessary.
  • the optical film of the present invention may further include another optical layer.
  • another optical layer any appropriate optical layer can be adopted depending on the purpose and the type of the image display device. Specific examples include a liquid crystal film, a light scattering film, a diffraction film, and another optical compensation layer (retardation film).
  • the optical film of the present invention may further have a pressure-sensitive adhesive layer or an adhesive layer as an outermost layer on at least one side.
  • a pressure-sensitive adhesive layer or an adhesive layer as an outermost layer in this manner, for example, lamination with other members (for example, liquid crystal cells) is facilitated, and the optical film of the present invention has other member forces. It can prevent peeling.
  • Any appropriate material can be adopted as a material for forming the pressure-sensitive adhesive layer and the adhesive layer.
  • a material excellent in hygroscopicity and heat resistance is used. This is because it is possible to prevent foaming and peeling due to moisture absorption, deterioration of optical characteristics due to thermal expansion differences, and warpage of the liquid crystal cell.
  • the surface of the pressure-sensitive adhesive layer or the adhesive layer can be covered with any appropriate separator until the optical film of the present invention is actually used to prevent contamination.
  • the separator can be formed by, for example, a method of providing a release coat with a release agent such as a silicone-based, long-chain alkyl-based, fluorine-based, molybdenum sulfide, or the like on any appropriate film.
  • Each layer in the optical film of the present invention includes, for example, a salicylic acid ester compound, UV-absorbing ability may be imparted by treatment with an ultraviolet absorber such as a nzophenone compound, a benzotriazole compound, a cyanoacrylate compound, or a nickel complex compound.
  • an ultraviolet absorber such as a nzophenone compound, a benzotriazole compound, a cyanoacrylate compound, or a nickel complex compound.
  • the method for producing an optical film of the present invention includes a step of applying a coating liquid containing a liquid crystal material to an alignment-treated base material; and treating the coated liquid crystal material at a temperature at which the liquid crystal material exhibits a liquid crystal phase. Forming a first optical compensation layer on the surface of the base material; and transferring the first optical compensation layer formed on the surface of the base material to the surface of the transparent protective film (T). And a step of laminating a polarizer on the surface of the transparent protective film (T); and a step of forming a second optical compensation layer on the surface of the first optical compensation layer.
  • the polarizer and the first optical compensation layer are disposed on opposite sides of each other via the transparent protective film (T).
  • the first optical compensation layer 13 has an angle between the slow axis of the first optical compensation layer and the absorption axis of the polarizer of + 17 ° to + 27 ° or — 17
  • the second optical compensation layer 14 is formed so that the angle between the slow axis of the second optical compensation layer and the absorption axis of the polarizer is + 85 ° to +95. It is formed to be °.
  • an optical film as shown in FIGS. 1 and 2 can be obtained.
  • the order of the above steps and the film to be subjected to Z or orientation treatment can be appropriately changed according to the purpose.
  • the polarizer laminating step may be performed after any optical compensation layer forming step or laminating step. The details of each process are described below.
  • any appropriate substrate is used as the substrate as long as the appropriate first optical compensation layer in the present invention is obtained.
  • the substrate include a glass substrate, a metal foil, a plastic sheet, or a plastic film.
  • An alignment film may be provided on the substrate as necessary.
  • Any appropriate film can be adopted as the plastic film.
  • Specific examples include polyester polymers such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, cellulose polymers such as dicetyl cellulose and triacetyl cellulose, polycarbonate polymers, and acrylates such as polymethylol methacrylate. Examples thereof include films in which a transparent polymer force such as a polymer is formed.
  • polystyrene, styrene-based polymers such as acrylonitrile styrene copolymer, polyethylene, polypropylene, polyolefins having a cyclic or norbornene structure, olefin-based polymers such as ethylene propylene copolymer, salt bubule polymers, Examples thereof include films in which a transparent polymer strength such as amide polymers such as nylon and aromatic polyamide is also formed.
  • imide-based polymers snolephone-based polymers, polyetherolene-nolephone-based polymers, polyetherol-tenoleketone-based polymers, polyphenylenesulfide-based polymers, vinylenoleololol-based polymers, vinylidene chloride-based polymers, burupuchi Examples thereof include films formed from transparent polymers such as lar-based polymers, arylate-based polymers, polyoxymethylene-based polymers, epoxy-based polymers, and blends thereof. A polyethylene terephthalate (PET) film is preferable.
  • PET polyethylene terephthalate
  • the thickness of the substrate is preferably 20 to: LOO ⁇ m, more preferably 30 to 90 ⁇ m, and most preferably 30 to 80 / ⁇ ⁇ .
  • any appropriate alignment treatment can be adopted as the alignment treatment on the substrate.
  • mechanical alignment treatment include rubbing treatment and stretching treatment.
  • physical alignment treatment include magnetic field alignment treatment and electric field alignment treatment.
  • chemical alignment treatment include oblique vapor deposition and photo-alignment treatment. A rubbing process is preferred.
  • Any appropriate conditions may be adopted as the processing conditions for the various alignment processes depending on the purpose.
  • the alignment treatment may be performed on the alignment layer by forming any appropriate alignment layer (typically, a polyimide layer or a polyvinyl alcohol layer) that may be directly applied to the substrate surface.
  • the orientation direction of the orientation treatment is a direction that forms a predetermined angle with the absorption axis of the polarizer when the substrate and the polarizer are laminated.
  • the orientation direction is substantially the same as the direction of the slow axis of the first optical compensation layer 13 to be formed. Therefore, the predetermined angle is + 17 ° to + 27 ° or —17 ° to 127 °, preferably + 19 ° to + 27 °. 25 ° or 19 ° to 1 ° 25 °, more preferably + 21 ° to + 24 ° or 21 ° to 1 ° 24 °, most preferably + 22 ° to + 23 ° or 22 ° to 1 °. is there
  • B-2 Liquid crystal material coating process to form the first optical compensation layer
  • a coating liquid containing the liquid crystal material as described in the above section A-2 is applied to the surface of the substrate subjected to the alignment treatment, and then the liquid crystal material is aligned to form the first optical compensation layer.
  • a coating liquid in which a liquid crystal material is dissolved or dispersed in an appropriate solvent is prepared, and this coating liquid may be applied to the substrate surface that has been subjected to the above-described alignment treatment.
  • the alignment process of the liquid crystal material will be explained in Section B-3 below.
  • any suitable solvent capable of dissolving or dispersing the liquid crystal material can be employed.
  • the type of solvent used can be appropriately selected according to the type of liquid crystal material.
  • Specific examples of the solvent include halogenated hydrocarbons such as chloroform, formaldehyde, dichloromethane, carbon tetrachloride, dichloroethane, tetrachloroethane, methylene chloride, trichloroethylene, tetrachloroethylene, chloroform, benzene, orthodichlorobenzene, phenol, p Phenolics such as chlorophenol, o black mouth phenol, m-cresol, o cresol, p cresol monole, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, methoxybenzene, 1,2-dimethoxybenzene, acetone , Ketone solvents such as methyl ethyl ketone (MEK), me
  • Ester solvents such as butyl alcohol, glycerin, ethylene glycol, triethylene glycolone, ethylene glycol monomethino ethenore, diethylene glyconoresin methinoate, propylene glycol, dipropylene glycol, 2-methanole 2, 4-pentanediol Amide solvents such as dimethylformamide and dimethylacetamide, acetonitrile solvents, tolyl solvents such as butyl-tolyl, ether solvents such as jetyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, or carbon disulfide , Cetyl solvate, butyl cetyl sorb, and ethyl cetyl solvate.
  • Alcohol solvents such as butyl alcohol, glycerin, ethylene glycol, triethylene glycolone, ethylene glycol monomethino ethenore, diethylene glyconoresin methinoate, propylene glycol,
  • solvents can be used alone or
  • Two or more types can be used in combination.
  • the content of the liquid crystal material in the coating liquid can be appropriately set according to the type of the liquid crystal material, the thickness of the target layer, and the like. Specifically, the content of the liquid crystal material is preferably 5 to 50% by weight, more preferably 10 to 40% by weight, and most preferably 15 to 30% by weight.
  • the coating solution may further contain any appropriate additive as required.
  • the additive include a polymerization initiator and a crosslinking agent. These are particularly preferably used when a liquid crystal monomer (polymerizable monomer or crosslinkable monomer) is used as the liquid crystal material.
  • the polymerization agent include benzoyl peroxide (BPO) and azobisisobutyl-tolyl (AIBN).
  • the crosslinking agent include isocyanate crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, metal chelate crosslinking agents and the like. These can be used alone or in combination of two or more.
  • additives include anti-aging agents, modifiers, surfactants, dyes, pigments, anti-discoloring agents, and ultraviolet absorbers. These can also be used alone or in combination of two or more.
  • antiaging agent include phenolic compounds, amine compounds, organic sulfur compounds, and phosphine compounds.
  • the modifier include glycols, silicones, and alcohols.
  • the surfactant is used, for example, to smooth the surface of an optical film.
  • the coating amount of the coating liquid can be appropriately set according to the concentration of the coating liquid, the thickness of the target layer, and the like.
  • the coating amount is preferably 0.03 to 0.17 ml per area (100 cm 2 ) of the transparent protective film, and more preferably. It is preferably 0.05 to 0.15 ml, most preferably 0.08 to 0.12 ml.
  • any appropriate method may be adopted as the coating method.
  • Specific examples include a roll coat method, a spin coat method, a wire bar coat method, a dip coat method, an etching method, a curtain coat method, and a spray coat method.
  • the liquid crystal material for forming the first optical compensation layer is oriented according to the orientation direction of the substrate surface.
  • the alignment of the liquid crystal material is performed by processing at a temperature showing a liquid crystal phase according to the type of the liquid crystal material used. By performing such a temperature treatment, the liquid crystal material takes a liquid crystal state, and the liquid crystal material is aligned according to the alignment direction of the substrate surface. As a result, birefringence occurs in the layer formed by coating, and the first optical compensation layer is formed on the surface of the substrate.
  • the treatment temperature can be appropriately determined according to the type of the liquid crystal material.
  • the treatment temperature is preferably 40 to 120 ° C, more preferably 50 to 100 ° C, and most preferably 60 to 90 ° C.
  • the treatment time is preferably 30 seconds or longer, more preferably 1 minute or longer, particularly preferably 2 minutes or longer, and most preferably 4 minutes or longer. If the treatment time is less than 30 seconds, the liquid crystal material may not take a sufficient liquid crystal state.
  • the treatment time is preferably 10 minutes or less, more preferably 8 minutes or less, and most preferably 7 minutes or less. If the treatment time exceeds 10 minutes, the additive may sublime.
  • the layer formed by the coating is further polymerized. It is preferable to perform a treatment or a crosslinking treatment. By performing the polymerization treatment, the liquid crystal monomer is polymerized, and the liquid crystal monomer is fixed as a repeating unit of the polymer molecule. Further, by performing the crosslinking treatment, the liquid crystal monomer forms a three-dimensional network structure, and the liquid crystal monomer is fixed as a part of the crosslinked structure. As a result, the alignment state of the liquid crystal material is fixed.
  • the polymer or three-dimensional network structure formed by polymerizing or crosslinking the liquid crystal monomer is “non-liquid crystalline”. Therefore, in the formed first optical compensation layer, for example, a transition to a liquid crystal phase, a glass phase, or a crystal phase due to a temperature change peculiar to liquid crystal molecules does not occur. As a result, it is possible to obtain the first optical compensation layer having very excellent stability that is not affected by temperature.
  • the specific procedure for the polymerization treatment or the crosslinking treatment can be appropriately selected depending on the kind of the polymerization initiator and the crosslinking agent to be used.
  • a photopolymerization initiator or photocrosslinking agent use an ultraviolet polymerization initiator or UV crosslinking agent that only needs to be irradiated with light.
  • heating may be performed when a polymerization initiator or a crosslinking agent by heat which is sufficient to irradiate ultraviolet rays is used.
  • Light or ultraviolet irradiation time, irradiation intensity, total irradiation amount, etc. are appropriately determined according to the type of liquid crystal material, the type of transparent protective film, the type of alignment treatment, the characteristics desired for the first optical compensation layer, etc. Can be set.
  • the heating temperature, heating time, and the like can be set as appropriate.
  • the liquid crystal material is aligned in accordance with the alignment direction of the base material. Therefore, the slow axis B of the formed first optical compensation layer is It is substantially the same as the orientation direction. Accordingly, the direction of the slow axis B of the first optical compensation layer is + 17 ° to + 27 ° or 17 ° to 27 °, preferably + 19 ° to +25, with respect to the longitudinal direction of the substrate. ° or 19 ° to 25 °, more preferably + 21 ° to + 24 ° or 21 ° to 24 °, most preferably + 22 ° to + 23 ° or 22 ° to 23 °.
  • the first optical compensation layer formed on the substrate is transferred to the surface of the transparent protective film (T).
  • the transfer method is not particularly limited.
  • the transfer is performed by bonding the first optical compensation layer supported on the substrate to the transparent protective film (T) through an adhesive.
  • the adhesion between the layers is improved compared to when the liquid crystal material is applied directly to the transparent protective film (T). A very good optical film is obtained (resulting in very good durability).
  • a typical example of the adhesive is a curable adhesive.
  • the curable adhesive include a photocurable adhesive such as an ultraviolet curable adhesive, a moisture curable adhesive, and a thermosetting adhesive.
  • thermosetting adhesives include thermosetting resin-based adhesives such as epoxy resin, isocyanate resin, and polyimide resin.
  • Specific examples of the moisture-curing adhesive include isocyanate-based moisture-curing adhesives.
  • a moisture-curing adhesive (especially an isocyanate-based moisture-curing adhesive) is preferred.
  • Moisture curable adhesives cure by reacting with moisture in the air, adsorbed water on the adherend surface, active hydrogen groups such as hydroxyl groups and carboxyl groups, etc. It can be cured naturally and has excellent operability.
  • the first optical compensation layer and the transparent protective film (T) are not heated during bonding (adhesion).
  • the said isocyanate resin adhesive is a general term for a polyisocyanate adhesive and a polyurethane resin adhesive.
  • the curable adhesive is, for example, a curable resin adhesive solution (or dispersion) obtained by dissolving or dispersing the above-mentioned various curable resins in a solvent using a commercially available adhesive. It may be prepared as When preparing a solution (or dispersion), the content of the curable resin in the solution is preferably from 10 to 80% by weight, more preferably from 20 to 65% by weight of solid content, Preferably it is 25 to 65% by weight, most preferably 30 to 50% by weight.
  • a solvent to be used any appropriate solvent can be adopted depending on the type of curable resin. Specific examples include ethyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, toluene, xylene and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the coating amount of the adhesive may be appropriately set according to the purpose.
  • the coating amount is preferably 0.3 to 3 ml, more preferably 0.5 to 2 ml, most preferably 1 to 2 ml per area (cm 2 ) of the first optical compensation layer or the transparent protective film ( ⁇ ). It is.
  • the solvent contained in the adhesive is volatilized by natural drying or heat drying.
  • the thickness of the adhesive layer thus obtained is preferably 0.1 ⁇ to 20 / ⁇ m, more preferably 0.5 m to 15 m, and most preferably 1 m to 10 m.
  • the indentation hardness (microhardness) of the adhesive layer is preferably 0.1 to 0.5 GPa, more preferably 0.2 to 0.5 GPa, and most preferably 0.3 to 0.4 GPa. .
  • the indentation hardness can be converted to the Vickers hardness because its correlation with the Vickers hardness is known.
  • the indentation hardness can be calculated from the indentation depth and the indentation load using, for example, a thin film hardness tester (NEC) (for example, trade name MH4000, trade name MHA-400) manufactured by NEC Corporation.
  • NEC thin film hardness tester
  • a polarizer is laminated on the surface of the transparent protective film (T).
  • the lamination of the polarizer can be performed at any appropriate point in the production method of the present invention.
  • a polarizer may be laminated on the transparent protective film (T) in advance, and after the formation of the first optical compensation layer, the second optical compensation layer may be laminated. May be.
  • the polarizer and the first optical compensation layer are disposed on opposite sides of each other with the transparent protective film (T) interposed therebetween.
  • any suitable laminating method may be used.
  • Adhesion can be performed using any suitable adhesive or adhesive.
  • the type of adhesive or pressure-sensitive adhesive can be appropriately selected depending on the type of adherend (that is, the transparent protective film and the polarizer).
  • Specific examples of adhesives include polymer adhesives such as talyl, vinyl alcohol, silicone, polyester, polyurethane, and polyether, isocyanate adhesives, rubber adhesives, and the like.
  • Specific examples of the pressure-sensitive adhesive include acrylic-based, butyl alcohol-based, silicone-based, polyester-based, polyurethane-based, polyether-based, isocyanate-based, and rubber-based pressure-sensitive adhesives.
  • the thickness of the adhesive or pressure-sensitive adhesive is not particularly limited, but is preferably 10 to 200 nm, more preferably 30 to 180 nm, and most preferably 50 to 150 nm.
  • the slow axis of the first optical compensation layer can be set in any appropriate direction, so that it is stretched in the longitudinal direction. That is, a long polarizing film (polarizer) having an absorption axis in the longitudinal direction can be used. That is, a long transparent protective film and a long polarizing film (polarizer) can be continuously bonded with their respective longitudinal directions aligned (so-called roll-to-roll). Therefore, an optical film can be obtained with very excellent production efficiency. Furthermore, according to this method, it is not necessary to cut and laminate the film obliquely with respect to the longitudinal direction (stretching direction).
  • the absorption axis direction of the polarizer is substantially parallel to the longitudinal direction of the long film.
  • substantially parallel means that the angle between the longitudinal direction and the absorption axis direction includes 0 °, 10 °, preferably 0 ° ⁇ 5 °, more preferably 0 °. ⁇ 3 °.
  • a second optical compensation layer is formed on the surface of the first optical compensation layer.
  • the detailed procedure of the formation process of the second optical compensation layer is as follows. First, a coating liquid containing a material for forming the second optical compensation layer (specifically, a non-liquid crystal material as described in the above section A-3; hereinafter also referred to as an optical compensation layer forming material) is used. Apply to material sheet. Any appropriate method can be adopted as the coating method. Specific examples of the coating method include spin coating method, roll coating method, flow coating method, printing method, dip coating method, cast film forming method, bar coating method, and gravure printing method.
  • the concentration of the optical compensation layer forming material in the coating solution of the optical compensation layer forming material is A
  • the coating liquid preferably contains 5 to 50 parts by weight, more preferably 10 to 40 parts by weight of the optical compensation layer forming material with respect to 100 parts by weight of the solvent.
  • a coating solution having such a concentration range has a viscosity that allows easy coating.
  • the solvent used in the coating liquid for the optical compensation layer forming material can be appropriately selected according to the type of the optical compensation layer forming material. Specific examples of solvents that can be used include the solvents described in Section B-2 above.
  • the coating solution may further contain various additives such as stabilizers, plasticizers, metals and the like as necessary.
  • the coating amount of the coating liquid is adjusted so that the second optical compensation layer can function properly as a ⁇ 4 plate (that is, the thickness described in the above item 3-3). It is adjusted.
  • the coating liquid for the optical compensation layer forming material may further contain a resin different from the optical compensation layer forming material as long as the optical properties of the obtained optical compensation layer are appropriate.
  • a resin include various general-purpose resins, engineering plastics, thermoplastic resins, and thermosetting resins. By using such a resin together, it is possible to form an optical compensation layer having appropriate mechanical strength and durability depending on the purpose.
  • any appropriate base material sheet is used as long as the appropriate second optical compensation layer in the present invention is obtained.
  • a base material (described in the above B-4) used for transfer of the first optical compensation layer may be used. If necessary, the base sheet can be subjected to stretching treatment, recrystallization treatment, and the like.
  • the thickness of the base sheet the thickness as described in the above section B-4 can be adopted.
  • the coating film of the solution of the optical compensation layer forming material formed on the base sheet is dried to form a polymer layer (the polymer layer is finally the second optical compensation layer).
  • Any appropriate method for example, natural drying, heat drying, air drying may be employed as the drying method.
  • the drying temperature may vary depending on the type of optical compensation layer forming material, the type of solvent, the optical characteristics of the desired optical compensation layer, and the like.
  • the drying temperature is preferably 20 to 400 ° C, more preferably 60 to 300 ° C, and most preferably 65 to 250 ° C.
  • the drying time is preferably 0.5 to 200 minutes, more preferably 1 to 120 minutes, and most preferably 5 to: LOO minutes. Drying may be performed at a constant temperature or by changing the temperature continuously or stepwise.
  • the obtained polymer layer is heated and stretched together with the base sheet (that is, the polymer layer and the base sheet together) to form a second optical compensation layer on the base sheet.
  • Any appropriate method for example, fixed end stretching or free end stretching
  • the draw ratio is preferably 1.2 to 3.0 times, more preferably 1.3 to 2.9 times, and most preferably 1. to the total length of the polymer layer and the base sheet before stretching. 3 to 2.8 times.
  • the stretching temperature is preferably 120 to 200 ° C, more preferably 130 to 190 ° C, and most preferably 135 to 180 ° C.
  • the stretching direction can be set according to the direction of the slow axis desired for the second optical compensation layer.
  • the slow axis of the first optical compensation layer can be set to an arbitrary oblique direction with respect to the absorption axis of the polarizer (the longitudinal direction of the long film).
  • the delay of the first optical compensation layer When the phase axis is set to + 22 ° to + 23 ° or 22 ° to 23 ° with respect to the absorption axis of the polarizer, the slow axis of the second optical compensation layer is substantially aligned with the absorption axis of the polarizer. I found it necessary to make them orthogonal.
  • the stretching of the polymer layer and the base sheet is performed in the lateral direction (width direction: direction orthogonal to the longitudinal direction: direction orthogonal to the absorption axis of the polarizer).
  • the second optical compensation layer formed on the substrate sheet is transferred to the surface of the first optical compensation layer.
  • the transfer method is not particularly limited.
  • the transfer is performed by bonding the second optical compensation layer supported on the base sheet to the first optical compensation layer via an adhesive.
  • the adhesive an adhesive similar to that used for the transfer of the first optical compensation layer (described in the above section B-4) can be used.
  • FIG. 3 to FIG. 7 [Koo! Take the signs 111, 111 ′, 112, 112 ′, 115, 116, 117, 118, 118 ′, 119, 119 ′ are the film forming each layer and Z or A roll for winding a laminate.
  • a long polymer film as a polarizer raw material is prepared, and dyeing, stretching, and the like are performed as described in the above section A-4. Stretching is performed continuously in the longitudinal direction of a long polymer film. Thereby, as shown in the perspective view of FIG. 3, a long polarizer 11 having an absorption axis in the longitudinal direction (stretching direction: arrow A direction) is obtained.
  • a long base material 16 is prepared, and a rubbing process is performed on one surface of the base material 16 using a labinda roll 120. At this time, the rubbing direction is different from the longitudinal direction of the substrate 16, for example, ⁇ 22.5 °.
  • the above items B-2 and B-3 are applied.
  • the first optical compensation layer 13 is formed as described. In the first optical compensation layer 13, the liquid crystal material is aligned along the rubbing direction, so that the slow axis direction is substantially the same as the rubbing direction of the substrate 16 (arrow B direction).
  • the transparent protective film (to be a protective layer) 12 and the laminated body 121 of the first optical compensation layer 13 and the base material 16 are sent out in the direction of the arrows, and the adhesives and the like in the state where the respective longitudinal directions are aligned.
  • the laminated body 1 23 ′ is formed by bonding together (not shown).
  • the laminated body 123 ′ peels off the base material 16, and the laminated body 123 (second protective layer 15, polarizer 11, protective layer 12 and first optical compensation).
  • Layer 13) is formed.
  • reference numeral 122 denotes a guide roll for bonding the films together (the same applies to FIGS. 6 and 7).
  • a long laminate 125 (with the second optical compensation layer 14 supported on the base sheet 26) is prepared and laminated with this.
  • the body 123 (second protective layer 15, polarizer 11, protective layer 12 and first optical compensation layer 13) is sent out in the direction of the arrow, and the adhesive and the like (Fig. (Not shown).
  • the base sheet 26 is peeled off to obtain the optical film 10 of the present invention.
  • a long polarizer 11 is manufactured.
  • a long base material 16 is prepared, and a rubbing process is performed on one surface of the base material 16 using a labinda roll 120.
  • the rubbing direction is a direction having a predetermined angle with respect to the longitudinal direction of the substrate 16, for example, a direction of ⁇ 22.5 °.
  • the first optical compensation layer is formed on the base material 16 subjected to the rubbing treatment as described in the above items B-2 and B-3. 13 is formed.
  • the slow axis direction is substantially the same direction (arrow B direction) as the rubbing direction of the substrate 16.
  • a long second transparent protective film (to be a second protective layer) 15, a polarizer 11, and a long transparent protective film A film (which serves as a protective layer) 12 is sent out in the direction of the arrow, and bonded together with an adhesive or the like (not shown) in a state where the respective longitudinal directions are aligned, thereby forming a laminate 124.
  • the laminated body 124, the laminated body 121 of the first optical compensation layer 13 and the base material 16 are sent out in the direction of the arrows, and the respective longitudinal directions are aligned.
  • the laminated body 123 ′ is formed by bonding with an adhesive or the like (not shown). Further, as shown in FIG. 5 (b), the substrate 16 is peeled from the laminate 123 ′, and the laminate 123 (second protective layer 15, polarizer 11, protective layer 12 and first optical compensation is removed). Layer 13) is formed.
  • a long laminate 125 (with the second optical compensation layer 14 supported on the base sheet 26) was prepared and laminated with this.
  • the body 123 (second protective layer 15, polarizer 11, protective layer 12, and first optical compensation layer 13) is sent out in the direction of the arrow, and adhesives etc. (Not shown).
  • the substrate sheet 26 is peeled off to obtain the optical film 10 of the present invention.
  • the optical film of the present invention can be suitably used for various image display devices (for example, liquid crystal display devices, self-luminous display devices). Specific examples of applicable image display devices include a liquid crystal display device, an EL display, a plasma display (PD), and a field emission display (FED).
  • image display devices for example, liquid crystal display devices, self-luminous display devices.
  • image display devices include a liquid crystal display device, an EL display, a plasma display (PD), and a field emission display (FED).
  • a liquid crystal display device it is useful, for example, for preventing light leakage and viewing angle compensation in black display.
  • the optical film of the present invention is suitably used for a VA mode liquid crystal display device, and particularly suitably for a reflective and transflective VA mode liquid crystal display device.
  • the optical film of the present invention is used for an EL display, it is useful for preventing electrode reflection, for example.
  • FIG. 8 is a schematic cross-sectional view of a liquid crystal panel according to a preferred embodiment of the present invention.
  • the liquid crystal panel 100 includes a liquid crystal cell 20, a retardation plate 30 disposed above the liquid crystal cell 20, and a polarizing plate 10 disposed above the retardation plate 30.
  • the optical film of the present invention described in the above sections A and B is preferably used.
  • the retardation plate 30 any appropriate retardation plate can be employed depending on the purpose and the alignment mode of the liquid crystal cell. Depending on the purpose and the alignment mode of the liquid crystal cell, the phase difference plate 30 may be omitted.
  • the optical retardation can be omitted only by the polarizing plate 10, so that the retardation plate 30 can be omitted.
  • the liquid crystal cell 20 has a pair of glass substrates 21 and 21 ′ and a liquid crystal layer 22 as a display medium disposed between the substrates.
  • a reflective electrode 23 is provided on the liquid crystal layer 22 side of the lower substrate 21 ′.
  • the upper substrate 21 is provided with a color filter (not shown).
  • the space (cell gap) between the substrates 21 and 21 ′ is controlled by a spacer 24.
  • liquid crystal molecules are aligned perpendicular to the substrates 21 and 21 ′ when no voltage is applied.
  • Such vertical alignment can be realized by arranging a nematic liquid crystal having negative dielectric anisotropy between substrates on which a vertical alignment film (not shown) is formed. In this state, when linearly polarized light that has passed through the polarizing plate 10 is also incident on the liquid crystal layer 22 by the surface force of the upper substrate 21, the incident light travels along the direction of the major axis of the vertically aligned liquid crystal molecules. .
  • the incident light travels without changing the polarization direction, is reflected by the reflective electrode 23, passes through the liquid crystal layer 22 again, and is emitted from the upper substrate 21. Since the polarization state of the emitted light is not different from that at the time of incidence, the emitted light is transmitted through the polarizing plate 10 and a bright display is obtained.
  • the electrodes When a voltage is applied between the electrodes, the long axes of the liquid crystal molecules are aligned parallel to the substrate surface. Liquid crystal molecules exhibit birefringence with respect to linearly polarized light incident on the liquid crystal layer 22 in this state, and the polarization state of incident light changes according to the inclination of the liquid crystal molecules.
  • the light reflected from the reflective electrode 23 and emitted from the upper substrate is rotated, for example, by 90 ° in the polarization direction. Since it is linearly polarized light, it is absorbed by the polarizing plate 10 and a dark state display is obtained. When no voltage is applied again, the display can be returned to the bright state by the orientation regulating force. Further, gradation display is possible by changing the intensity of light transmitted from the polarizing plate 10 by changing the applied voltage to control the tilt of the liquid crystal molecules.
  • the refractive indices nx , ny and nz of the sample film were measured with an automatic birefringence measuring device (manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd., automatic birefringence meter KOBRA31PR), and the in-plane phase difference Re and the thickness direction phase difference Rth were calculated. .
  • the measurement temperature was 23 ° C and the measurement wavelength was 590 nm.
  • the thickness of the first optical compensation layer was measured by an interference film thickness measurement method using MCPD2000 manufactured by Otsuka Electronics. The thicknesses of other various films were measured using a dial gauge.
  • a polymerizable liquid crystal exhibiting a nematic liquid crystal phase (manufactured by BASF: trade name Paliocolor LC242) and a photopolymerization initiator for the polymerizable liquid crystal compound (manufactured by Ciba Specialty Chemicals: trade name Irgacure 907) 5 g was dissolved in 40 g of toluene to prepare a liquid crystal composition (coating solution). Then, on the alignment substrate (A-1) produced as described above, the coating liquid was applied by a bar coater, and then the liquid crystal was aligned by heating and drying at 90 ° C. for 2 minutes. .
  • a first optical compensation layer (B-1) which is a uniaxial film, was formed. The thickness and retardation of the first optical compensation layer (B-1) were adjusted by changing the coating amount of the coating solution, and the thickness was 2.2 m and the retardation was 250 nm.
  • c First optical compensation layer (B—D ZTACZ polarizer Production of ZTAC laminate (Y1) After dyeing a polybulualcohol film in an aqueous solution containing iodine, in an aqueous solution containing boric acid A polarizer was obtained by uniaxially stretching 6 times between rolls with different speed ratios, using the manufacturing procedure shown in Fig. 5 (a), TAC film (thickness 40 ⁇ m), polarizer, TAC film (thickness).
  • laminate (XI) consisting of alignment substrate (A-1) and first optical compensation layer (B-1), adhesive (TAC film and first optical compensation layer (B-1) ) Is laminated with isocyanate adhesive (thickness 5 ⁇ m)), and the absorption axis direction of the polarizer is the longitudinal direction, the absorption axis of the polarizer and the first optical compensation layer (B-1). ), And the slow axis is 22.5 ° and 22.5 °), and finally the orientation substrate (A-1) is peeled off as shown in Fig.
  • Optical compensation layer (B-1) ZTACZ polarizer A laminated body (Y1) was obtained, where the laminated body (Y1) had an angle between the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the first optical compensation layer (B-1) of 22
  • Optical compensation layer (B-1) ZTACZ polarizer An optical film (1) made of ZTAC was obtained. Further, an adhesive layer having a thickness of 20 / zm was laminated on the second optical compensation layer to form an adhesive layer, thereby producing an optical film (1A).
  • An alignment substrate (A-2) was prepared in the same manner as in "a. Preparation of alignment substrate (A-1)".
  • the first optical compensation layer (B-2) was prepared in the same manner as "b. Preparation of laminate (XI) consisting of the first optical compensation layer (B-1) Z-oriented substrate (A-1)".
  • a laminate (X2) comprising a Z-oriented substrate (A-2) was produced.
  • a stack (Y2) was produced.
  • phase difference of the polyimide layer (second optical compensation layer (C 2)) alone was measured using KOBRA2 1—ADH manufactured by Oji Scientific.
  • Example 2 the laminate (Y2) and the laminate (Z2) are laminated, and the “Zenoah” is peeled off to obtain the second optical compensation layer (C 2) Z the first optical compensation layer (B — 2) ZTACZ polarizer An optical film (2) having ZTA C force was obtained. Furthermore, an adhesive layer having a thickness of 20 / zm was bonded onto the second optical compensation layer to form an adhesive layer, thereby producing an optical film (2A).
  • An alignment substrate (A-3) was prepared in the same manner as "a. Preparation of alignment substrate (A-1)".
  • the first optical compensation layer (B-3) was prepared in the same manner as “b. Preparation of laminate (XI) composed of the first optical compensation layer (B-1) Z-oriented substrate (A-1)”.
  • a laminate (X3) composed of a Z-oriented substrate (A-3) was produced.
  • a stack (Y3) was produced.
  • Example 2 Similarly to Example 1, the laminate (Y3) and the laminate (Z3) are laminated, and the “Zenoah” is peeled off to remove the second optical compensation layer (C 3) Z the first optical compensation layer (B — 3) ZTACZ polarizer ZTA An optical film (3) having C force was obtained. Further, an adhesive layer having a thickness of 20 / zm was bonded onto the second optical compensation layer to form an adhesive layer, thereby producing an optical film (3A).
  • An alignment substrate (A-4) was prepared in the same manner as "a. Preparation of alignment substrate (A-1)".
  • the first optical compensation layer (B-4) was prepared in the same manner as “b. Preparation of laminate (XI) comprising the first optical compensation layer (B-1) Z-oriented substrate (A-1)”.
  • a laminate (X4) consisting of a Z-oriented substrate (A-4) was prepared.
  • the first optical compensation layer (B—4) ZTACZ polarizer ZTAC is obtained in the same manner as “1st optical compensation layer (B—D Preparation of ZTACZ polarizer ZTAC (Y1)”).
  • a stack (Y4) was produced.
  • phase difference of the polyimide layer (second optical compensation layer (C 4)) alone was measured using KOBRA2 1—ADH manufactured by Oji Scientific.
  • Example 2 Similarly to Example 1, the laminate (Y4) and the laminate (Z4) were laminated, and the “Zenoah” was peeled off to obtain the second optical compensation layer (C 4) Z the first optical compensation layer (B — 4) ZTACZ polarizer An optical film (4) with ZTA C force was obtained. Further, an adhesive layer having a thickness of 20 / zm was laminated on the second optical compensation layer to form an adhesive layer, thereby producing an optical film (4A).
  • Example 5 An alignment substrate (A-5) was prepared in the same manner as "a. Preparation of alignment substrate (A-1)”.
  • the first optical compensation layer (B-5) was prepared in the same manner as “b. Preparation of laminate (XI) consisting of the first optical compensation layer (B-1) Z-oriented substrate (A-1)”.
  • a laminate (X5) composed of a Z-oriented substrate (A-5) was produced.
  • the first optical compensation layer (B—5) ZTACZ polarizer ZTAC is obtained in the same manner as “1st optical compensation layer (B—D Preparation of laminate (Y1) consisting of ZTACZ polarizer ZTAC)”
  • a stack (Y5) was produced.
  • Second optical compensation layer (C-5) Fabrication of laminate (Z5) consisting of Z Zeonaka
  • phase difference of the polyimide layer (second optical compensation layer (C 5)) alone was measured using KOBRA2 1—ADH manufactured by Oji Scientific.
  • the force was 22 nm
  • the thickness direction retardation Rth was 142 nm
  • the Nz coefficient (Nz (nx—nz) Z (nx—ny)) was 1.16.
  • Example 2 Similarly to Example 1, the laminate (Y5) and the laminate (Z5) were laminated, and the “Zenoah” was peeled off to obtain the second optical compensation layer (C 5) Z the first optical compensation layer (B — 5) ZTACZ polarizer An optical film (5) having ZTA C force was obtained. Further, an adhesive layer having a thickness of 20 / zm was bonded onto the second optical compensation layer to form an adhesive layer, thereby producing an optical film (5A).
  • An alignment substrate (A-6) was prepared in the same manner as "a. Preparation of alignment substrate (A-1)".
  • the first optical compensation layer (B-6) was prepared in the same manner as “b. Preparation of laminate (XI) consisting of Z-oriented substrate (A-1)”.
  • a laminate (X6) composed of a Z-oriented substrate (A-6) was produced. “In the first optical compensation layer (B—D ZTACZ polarizer ZTAC laminate (Y1) In the same manner as in “Production”, a first optical compensation layer (B-6) ZTACZ polarizer layered body (Y6) made of ZTAC was produced.
  • Second optical compensation layer (C—6) Fabrication of laminate (Z6) made of Z Zeonaka
  • phase difference of the polyimide layer (second optical compensation layer (C 6)) alone was measured using KOBRA2 1—ADH manufactured by Oji Scientific Co., Ltd.
  • the force was 24 nm
  • the thickness direction retardation Rth was 261 nm
  • the Nz coefficient (Nz (nx—nz) Z (nx—ny)) was 2.1.
  • Example 2 Similarly to Example 1, the laminate (Y6) and the laminate (Z6) were laminated, and the “Zenoah” was peeled off to obtain the second optical compensation layer (C 6) Z the first optical compensation layer (B — 6) ZTACZ polarizer An optical film (6) having ZTA C force was obtained. Furthermore, an adhesive layer having a thickness of 20 / zm was laminated on the second optical compensation layer to form an adhesive layer, thereby producing an optical film (6A).
  • Example 1 instead of the first optical compensation layer (B-1), a uniaxially stretched film of "Zeonor” was used as the first optical compensation layer (B-7), and the second optical compensation layer was used. Instead of the layer (C-1), a Zeonor biaxially stretched film was used as the second optical compensation layer (C-7), and the first optical compensation layer, the second optical compensation layer, and the polarizing plate ( An optical film (7) and an optical film with an adhesive layer (7A) were prepared in the same manner as in Example 1 except that a 12 / zm thick adhesive was used for bonding with the TACZ polarizer (ZTAC). .
  • ZTAC TACZ polarizer
  • Example 1 instead of the second optical compensation layer (C-1), a "Zeonor" biaxially stretched film was used as the second optical compensation layer (C-8), and the first optical compensation layer (C-8) was used.
  • the optical film (8) and the optical film (8) and the second optical compensation layer were bonded to the polarizing plate (TACZ polarizer ZTAC) in the same manner as in Example 1 except that a 12-m thick adhesive was used.
  • An optical film (8A) with an adhesive layer was prepared.
  • Example 1 a polycarbonate biaxially stretched film was used as the second optical compensation layer (C-9) instead of the second optical compensation layer (C-1), and the first optical compensation layer was used.
  • the optical film (9) and the pressure-sensitive adhesive layer were the same as in Example 1 except that a 12-m thick pressure-sensitive adhesive was used to bond the second optical compensation layer and the polarizing plate (TACZ polarizer ZTAC).
  • the attached optical film (9A) was produced.
  • the thickness of the optical film obtained in the example was measured.
  • the results are shown in Table 1.
  • Example 9 (9) 161 From Table 1, it can be seen that the optical films of Examples 1-6 can be made thinner than the optical films of Examples 7-9.
  • the optical film obtained in the example was mounted on a VA-LCD, and the contrast ratio was measured. Specifically, an optical film having an angle of + 22.5 ° between the slow axis of the first optical compensation layer and the absorption axis of the polarizer is used as an upper plate, and a commercially available VA— Affixed to the LCD. Next, an optical film of ⁇ 22.5 ° formed between the slow axis of the first optical compensation layer and the absorption axis of the polarizer is used as the lower plate, and the absorption axis of the polarizer and the lower plate in the upper optical film are used. The optical film was bonded to a commercially available VA-LCD through an adhesive so that the angle formed with the absorption axis of the polarizer was 90 °.
  • the luminance and chromaticity of the obtained LCD panel were measured by driving a liquid crystal using a luminance meter BM-5A manufactured by Topcon Corporation.
  • the LCD panel was displayed in black and white, and the luminance at the center was measured from the front direction to calculate the front contrast ratio.
  • the contrast ratio from the top / bottom / left / right 60 ° direction of the LCD panel was also calculated.
  • Example 1 Front Up 60 ° Down 60. Right 60 ⁇ Left 60 ° Example 1 355 163 152 161 157 Difficult example 2 367 172 174 180 181 Male example 3 347 168 162 169 171 Example 4 358 163 157 162 154 Example 5 351 99 102 106 102 Example 6 345 121 126 130 125 Male example 7 441 194 181 198 192 Example 8 245 97 95 102 96 Difficult example 9 375 175 177 182 188 From Table 2, the front contrast ratio is inferior to Example 8 in Example 8. (The front contrast ratio other than Example 8 is 300 or more). In Example 8, a blue color was seen with black display (except for Example 8, no color was seen with black display).
  • Examples 1-6 are less than Examples 7-9 in the decrease in contrast ratio in the oblique direction (up / down / left / right 60 °) with respect to the front contrast ratio.
  • Example 9 shows that the high-temperature transmittance in black display is about three times that of the other, and light at high temperature You can see that there are many omissions. That is, in Example 9, it can be seen that the thermal unevenness is large.
  • the optical film of the present invention can be suitably used for various image display devices (for example, liquid crystal display devices, self-luminous display devices).
  • image display devices for example, liquid crystal display devices, self-luminous display devices.

Landscapes

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Abstract

　優れた耐久性を有し、薄型化に寄与し、熱ムラを防止し、かつ、黒表示における光漏れを良好に防止し得る光学フィルムの製造方法を提供する。 　配向基材に液晶材料含有塗工液を塗工する工程と；液晶材料を配向させて基材表面に第１の光学補償層を形成する工程と；第１の光学補償層を透明保護フィルムの表面に転写する工程と；透明保護フィルムの表面に偏光子を積層する工程と；第１の光学補償層の表面に第２の光学補償層を形成する工程とを含む。該偏光子と該第１の光学補償層は、互いに透明保護フィルムの反対側に配置される。第１の光学補償層と第２の光学補償層は、それぞれの遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度が特定範囲内となるように形成される。

Description

明 細 書
光学フィルムの製造方法、およびそのような製造方法により得られる光学 フィルムを用いた画像表示装置
技術分野
[0001] 本発明は、光学フィルムの製造方法、および光学フィルムを用いた画像表示装置 に関する。より詳細には、本発明は、優れた耐久性を有し、薄型化に寄与し、熱ムラ を防止し、かつ、黒表示における光漏れを良好に防止し得る光学フィルムの簡便安 価な製造方法、およびそのような製造方法により得られた光学フィルムを用いた画像 表示装置に関する。
背景技術
[0002] VAモードの液晶表示装置として、透過型液晶表示装置および反射型液晶表示装 置に加えて、半透過反射型液晶表示装置が提案されている（例えば、特許文献 1お よび 2参照)。半透過反射型液晶表示装置は、明るい場所では反射型液晶表示装置 と同様に外光を利用し、暗い場所ではバックライト等の内部光源により表示を視認可 能としている。言い換えれば、半透過反射型液晶表示装置は、反射型および透過型 を兼ね備えた表示方式を採用しており、周囲の明るさに応じて反射モード、透過モー ドのいずれかの表示モードに切り替える。その結果、半透過反射型液晶表示装置は 、消費電力を低減しつつ周囲が暗い場合でも明瞭な表示を行うことができるので、携 帯機器の表示部に好適に利用されて 、る。
[0003] このような半透過反射型液晶表示装置の具体例としては、例えばアルミニウム等の 金属膜に光透過用の窓部を形成した反射膜を下基板の内側に備え、この反射膜を 半透過反射板として機能させる液晶表示装置が挙げられる。このような液晶表示装 置においては、反射モードの場合には、上基板側から入射した外光が、液晶層を通 過した後に下基板内側の反射膜で反射され、再び液晶層を透過して上基板側から 出射されて表示に寄与する。一方、透過モードの場合には、下基板側から入射した バックライトからの光が、反射膜の窓部を通って液晶層を通過した後、上基板側から 出射されて表示に寄与する。したがって、反射膜形成領域のうち、窓部が形成された 領域が透過表示領域となり、その他の領域が反射表示領域となる。
[0004] しかし、従来の反射型または半透過反射型の VAモードの液晶表示装置において は、黒表示における光漏れが生じ、コントラストが低下するという問題が長く解決され ていない。
特許文献 1：特開平 11 242226号
特許文献 2：特開 2001— 209065号
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0005] 本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とすると ころは、優れた耐久性を有し、薄型化に寄与し、熱ムラを防止し、かつ、黒表示にお ける光漏れを良好に防止し得る光学フィルムの簡便安価な製造方法、およびそのよ うな製造方法により得られた光学フィルムを用いた画像表示装置を提供することにあ る。
課題を解決するための手段
[0006] 本発明の光学フィルムの製造方法は、配向処理した基材に液晶材料を含有する塗 工液を塗工する工程と;該塗工された液晶材料を該液晶材料が液晶相を示す温度 で処理して配向させて、該基材の表面に第 1の光学補償層を形成する工程と;該基 材表面に形成された該第 1の光学補償層を透明保護フィルム (T)の表面に転写する 工程と;透明保護フィルム (T)の表面に偏光子を積層する工程と;該第 1の光学補償 層の表面に第 2の光学補償層を形成する工程とを含み、該偏光子と該第 1の光学補 償層が、互いに透明保護フィルム (T)を介して反対側に配置され、該第 1の光学補 償層が、該第 1の光学補償層の遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度が + 17° 〜+ 27° または 17° 〜一 27° となるように形成され、該第 2の光学補償層が、該 第 2の光学補償層の遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度が + 85° 〜+ 95° と なるように形成される。
[0007] 好ましい実施形態においては、上記液晶材料は重合性モノマーおよび Zまたは架 橋性モノマーを含み、上記液晶材料の配向工程は、重合処理および Zまたは架橋 処理を行うことをさらに含む。さらに好ましい実施形態においては、上記重合処理お よび Zまたは架橋処理は、加熱または光照射により行われる。
[0008] 好ましい実施形態においては、上記第 2の光学補償層は、その Nz係数が 1. 2≤N z≤ 2となるようにして形成される。
[0009] 好ましい実施形態においては、上記第 1の光学補償層の表面に第 2の光学補償層 を形成する工程は、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポ リエステルイミドカ なる群力 選択される少なくとも 1つのポリマーを含む塗工液を基 材シートの表面に塗工する工程と、該塗工液を乾燥して該基材シート表面にポリマ 一層を形成する工程と、該ポリマー層を該基材シートごと加熱および延伸して、該基 材シート上に該第 2の光学補償層を形成する工程と、該基材シート上に形成された 第 2の光学補償層を該第 1の光学補償層の表面に貼り付ける工程と、該基材シートを 該第 2の光学補償層から剥離する工程とを含む。さらに好ましい実施形態において は、上記基材シート上に上記第 2の光学補償層を形成する工程において、上記ポリ マー層は該基材シートごと 1. 2倍〜 3倍の延伸倍率で延伸される。さらに好ましい実 施形態においては、上記基材シート上に上記第 2の光学補償層を形成する工程に ぉ 、て、上記ポリマー層は該基材シートごと幅方向に延伸される。
[0010] 好ましい実施形態においては、上記第 2の光学補償層の厚みは 1 μ πι〜10 /ζ mで ある。
[0011] 好ましい実施形態においては、上記第 1の光学補償層は λ Ζ2板である。好ましい 実施形態においては、上記第 2の光学補償層は λ Ζ4板である。
[0012] 本発明の別の局面によれば、光学フィルムが提供される。この光学フィルムは、上 記の製造方法により得られる。
[0013] 本発明のさらに別の局面によれば、画像表示装置が提供される。この画像表示装 置は、上記光学フィルムを含む。
発明の効果
[0014] 以上のように、本発明によれば、積層光学フィルムにおいて、 nx>ny=nzの屈折 率特性を有する第 1の光学補償層 ( λ Ζ2板)と、 nX>ny>nzの屈折率特性を有す る第 2の光学補償層 ( λ Ζ4板)とを組み合わせて用い、偏光子の吸収軸と第 1の光 学補償層および第 2の光学補償層のそれぞれの遅相軸とのなす角度を所定の範囲 に設定し、かつ、好ましくは、第 2の光学補償層の Nz係数を所定の範囲（1. 2≤Nz ≤2)に設定することにより、特に反射型および半透過型の VAモードの液晶表示装 置において、黒表示の光漏れが顕著に改善され得る。また、本発明によれば、特に 反射型および半透過型の VAモードの液晶表示装置において、広い波長帯域にお いて視野角が顕著に改善され得る。さらに、本発明においては、好ましくは、特定の 方法で得られる特定の第 1の光学補償層および第 2の光学補償層を採用することで 、第 1の光学補償層および第 2の光学補償層をいずれも非常に薄く形成することがで きるので、画像表示装置の薄型化に大きく貢献し、かつ、熱ムラが顕著に防止され得 る。カロえて、本発明によれば、第 1の光学補償層を基材カゝら透明保護フィルムに転写 して形成することにより、直接塗工する場合に比べて、第 1の光学補償層の密着性が 格段に向上する。その結果、非常に優れた耐久性を有する光学フィルムが得られる。 図面の簡単な説明
[0015] [図 1]本発明の好ましい実施形態による光学フィルムの概略断面図である。
[図 2]本発明の好ましい実施形態による光学フィルムの分解斜視図である。
[図 3]本発明の光学フィルムの製造方法の一例における一つの工程の概略を示す斜 視図である。
[図 4]本発明の光学フィルムの製造方法の一例における別の工程の概略を示す斜視 図である。
[図 5]本発明の光学フィルムの製造方法の一例におけるさらに別の工程の概略を示 す模式図である。
[図 6]本発明の光学フィルムの製造方法の一例におけるさらに別の工程の概略を示 す模式図である。
[図 7]本発明の光学フィルムの製造方法の一例におけるさらに別の工程の概略を示 す模式図である。
[図 8]本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置に用いられる液晶パネルの概 略断面図である。
符号の説明
[0016] 10 光学フィルム 11 偏光子
12 保護層
13 第 1の光学補償層
14 第 2の光学補償層
15 第 2の保護層
20 液晶セル
100 液晶パネル
発明を実施するための最良の形態
(用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである：
(1)「nx」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率で あり、「ny」は面内で遅相軸に垂直な方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、 「nz」は厚み方向の屈折率である。また、例えば「nx=ny」は、 nxと nyが厳密に等し い場合のみならず、 nxと nyが実質的に等しい場合も包含する。本明細書において「 実質的に等しい」とは、光学フィルムの全体的な光学特性に実用上の影響を与えな V、範囲で nxと nyが異なる場合も包含する趣旨である。
(2)「面内位相差 Re」は、 23°Cにおける波長 590nmの光で測定したフィルム (層） 面内の位相差値をいう。 Reは、波長 590nmにおけるフィルム (層）の遅相軸方向、進 相軸方向の屈折率をそれぞれ、 nx、 nyとし、 d (nm)をフィルム (層）の厚みとしたとき 、式： Re= (nx— ny) X dによって求められる。
(3)厚み方向の位相差 Rthは、 23°Cにおける波長 590nmの光で測定した厚み方 向の位相差値をいう。 Rthは、波長 590nmにおけるフィルム（層）の遅相軸方向、厚 み方向の屈折率をそれぞれ、 nx、 nzとし、 d (nm)をフィルム（層）の厚みとしたとき、 式： Rth= (nx— nz) X dによって求められる。
(4) Nz係数は、面内位相差 Reと厚み方向位相差 Rthとの比であり、式: Nz= (nx -nz) / (nx-ny)によって求められる。
(5)本明細書に記載される用語や記号に付される添え字の「1」は第 1の光学補償 層を表し、添え字の「2」は第 2の光学補償層を表す。 (6)「λ Ζ2板」とは、ある特定の振動方向を有する直線偏光を、当該直線偏光の 振動方向とは直交する振動方向を有する直線偏光に変換したり、右円偏光を左円偏 光に (または、左円偏光を右円偏光に)変換したりする機能を有するものをいう。 λ / 2板は、光の波長（通常、可視光領域）に対して、フィルム (層）面内の位相差値が約 1Z2である。
(7)「λ Ζ4板」とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に (または、円偏光を直 線偏光に)変換する機能を有するものをいう。 λ Ζ4板は、光の波長 (通常、可視光 領域）に対して、フィルム (層）面内の位相差値が約 1Z4である。
[0018] Α.光学フィルム
A- 1.光学補償フィルムの全体構成
図 1は、本発明の好ましい実施形態による光学フィルムの概略断面図である。図 2 は、図 1の光学フィルムを構成する各層の光軸を説明する分解斜視図である。図 1に 示すように、この光学フィルム 10は、偏光子 11と第 1の光学補償層 13と第 2の光学 補償層 14とをこの順に有する。光学フィルムの各層は、任意の適切な粘着剤層また は接着剤層（図示せず)を介して積層されている。実用的には、偏光子 11の光学補 償層が形成されない側には、任意の適切な保護層 (透明保護フィルム） 15が積層さ れている。さらに、必要に応じて、偏光子 11と第 1の光学補償層 13との間にも、任意 の適切な保護層 (透明保護フィルム） 12が設けられ得る。
[0019] 上記第 1の光学補償層 13は、 nx>ny=nzの屈折率特性を有する。上記第 2の光 学補償層 14は、 nx >ny>nzの屈折率特性を有し、かつ、 Nz係数が 1. 2≤Nz≤2 である。第 1の光学補償層および第 2の光学補償層の詳細については、それぞれ、 後述の A— 2項および A— 3項で説明する。
[0020] 本発明においては、図 2に示すように、上記第 1の光学補償層 13は、その遅相軸 B が偏光子 11の吸収軸 Aに対して所定の角度 ocを規定するようにして積層されて!、る 。角度 αは、偏光子 11の吸収軸 Aに対して + 17° 〜+ 27° または 17° 〜一 27 ° であり、好ましくは + 19° 〜+ 25° または 19° 〜一 25° であり、さらに好ましく は + 21° 〜+ 24° または 21° 〜一 24° であり、最も好ましくは + 22° 〜+ 23 ° または— 22° 〜― 23° である。上記第 2の光学補償層 14は、その遅相軸 Cが偏 光子 11の吸収軸 Aに対して所定の角度 |8を規定するようにして積層されている。角 度 j8は、偏光子 11の吸収軸 Αに対して + 85° 〜+ 95° であり、好ましくは + 87° 〜+ 93° であり、さらに好ましくは + 88° 〜+ 92° であり、最も好ましくは + 89° 〜 + 91° である。このような特定の位置関係で特定の 2つの光学補償層を積層するこ とにより、 VAモード (特に、反射型または半透過型の VAモード)の液晶表示装置の 黒表示における光漏れが顕著に防止され得る。
[0021] 本発明の光学フィルムの全体厚みは、好ましくは 40〜150 μ mであり、さらに好まし く【ま40〜130 111でぁり、最も好ましく ίま 40〜： L 00 mである。本発明によれ ίま、、 2つ の光学補償層のみで画像表示装置における光漏れを良好に防止できる。さらに、本 発明によれば、第 1の光学補償層を液晶材料 (後述)で形成することにより、第 1の光 学補償層を λ Ζ2板として機能させるための厚みを従来に比べて格段に薄くすること ができ、かつ、第 2の光学補償層を特定のポリマー材料および特定の製造方法 (後 述)で形成することにより、第 2の光学補償層をえ /4板として機能させるための厚み を従来に比べて格段に薄くすることができる。その結果、本発明の光学フィルムは、 従来の同等の光学フィルムに比べて、全体厚みを格段にまで薄くすることができ、画 像表示装置の薄型化に大きく貢献し得る。
[0022] Α— 2.第 1の光学補償層
第 1の光学補償層 13は、上記のように、 nx>ny=nzの屈折率特性を有する。好ま しくは、第 1の光学補償層 13は、 λ /2板として機能し得る。第 1の光学補償層が λ Ζ2板として機能することにより、 λ Ζ4板として機能する第 2の光学補償層の波長分 散特性 (特に、位相差が λ Ζ4を外れる波長範囲）について、位相差が適切に調節さ れ得る。このような第 1の光学補償層の面内位相差 Reは、好ましくは 200〜300nm であり、さらに好ましくは 220〜280nmであり、最も好ましくは 230〜270nmである。
[0023] 上記第 1の光学補償層の厚みは、 λ Ζ2板として最も適切に機能し得るように設定 され得る。言い換えれば、厚みは、所望の面内位相差が得られるように設定され得る 。具体的には、厚みは、好ましくは 0. 5〜5 μ mであり、さらに好ましくは 1〜4 μ mで あり、最も好ましくは 1. 5〜3 mである。
[0024] 上記第 1の光学補償層を形成する材料としては、上記のような特性が得られる限り において任意の適切な材料が採用され得る。液晶材料が好ましぐ液晶相がネマチ ック相である液晶材料 (ネマチック液晶）がさらに好ましい。液晶材料を用いることによ り、得られる光学補償層の nxと nyとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすること ができる。その結果、所望の面内位相差を得るための光学補償層の厚みを格段に小 さくすることができる。このような液晶材料としては、例えば、液晶ポリマーや液晶モノ マーが使用可能である。液晶ポリマーおよび液晶モノマーを組み合わせて用いても よい。液晶材料の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモト口ピックでもどちら でもよい。また、液晶の配向状態は、ホモジ-ァス配向であることが好ましい。
[0025] 上記液晶材料が液晶モノマーである場合、例えば、重合性モノマーまたは架橋性 モノマーであることが好ましい。これは、後述するように、重合性モノマーまたは架橋 性モノマーを重合または架橋させることによって、液晶材料の配向状態を固定できる ためである。液晶モノマーを配向させた後に、例えば、液晶モノマー（重合性モノマ 一または架橋性モノマー）同士を重合または架橋させれば、それによつて上記配向 状態を固定することができる。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋により 3次 元網目構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。したがって、形成さ れた第 1の光学補償層は、例えば、液晶性化合物に特有の温度変化による液晶相、 ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、第 1の光学補償層は、温 度変化に影響されない、極めて安定性に優れた光学補償層となる。重合性モノマー および架橋性モノマーは、組み合わせて用いてもょ 、。
[0026] 上記液晶モノマーとしては、任意の適切な液晶モノマーが採用され得る。例えば、
¾2002- 533742 (WO00/37585) , EP358208 (US5211877) , EP6613 7 (US4388453)、 W093/22397, EP0261712, DE19504224, DE440817 1、および GB2280445等に記載の重合性メソゲンィ匕合物等が使用できる。このよう な重合性メソゲンィ匕合物の具体例としては、例えば、 BASF社の商品名 LC242、 M erck社の商品名 E7、 Wacker— Chem社の商品名 LC— Sillicon— CC3767が挙 げられる。
[0027] 上記液晶モノマーとしては、例えば、ネマチック性液晶モノマーが好ましぐ具体的 には、下記式 (L1)で表されるモノマーが挙げられる。これらの液晶モノマーは、単独 で、または 2つ以上を組み合わせて用いられ得る。
[化 1]
Figure imgf000011_0001
[0029] 上記式 (L1)にお 、て、 A1および A2は、それぞれ重合性基を表し、同一でも異なつ ていてもよい。また、 A1および A2はいずれか一方が水素であってもよい。 Xは、それ ぞれ独立して、単結合、 O 、 一 S―、 一 C=N―、 一 O— CO 、 一 CO— O—、 一 O— CO— O 、 一 CO— NR—、 一 NR— CO 、 一 NR 、 一 O— CO— NR—、 NR— CO— O—、 -CH O または NR— CO— NRを表し、 Rは、 Hまたは C
2
〜Cアルキルを表し、 Mはメソゲン基を表す。
1 4
[0030] 上記式 (L1)において、 Xは同一であっても異なっていてもよいが、同一であること が好ましい。
[0031] 上記式 (L1)のモノマーの中でも、 A2は、それぞれ、 A1に対してオルト位に配置され ていることが好ましい。
[0032] さら〖こ、上記 A1および A2は、それぞれ独立して、下記式
Z-X- (Sp) - - - (L2)
で表されることが好ましぐ A1および A2は同じ基であることが好ましい。
[0033] 上記式 (L2)にお 、て、 Zは架橋性基を表し、 Xは上記式 (L1)で定義した通りであ り、 Spは、 1〜30個の炭素原子を有する直鎖または分枝鎖の置換または非置換のァ ルキル基力 なるスぺーサーを表し、 nは、 0または 1を表す。上記 Spにおける炭素鎖 は、例えば、エーテル官能基中の酸素、チォエーテル官能基中の硫黄、非隣接イミ ノ基または C〜Cのアルキルイミノ基等により割り込まれていてもよい。
1 4
[0034] 上記式 (L2)にお!/、て、 Zは、下記式で表される原子団の 、ずれかであることが好ま しい。下記式において、 Rとしては、例えば、メチル、ェチル、 n—プロピル、 i—プロピ ル、 n—ブチル、 iーブチル、 t ブチル等の基が挙げられる。
[0035] [化 2]
Figure imgf000012_0001
— N=C=0, — N=C=S, — O— C≡N,
[0036] また、上記式（L2)にお!/、て、 Spは、下記式で表される原子団の 、ずれかである と力 子ましく、下記式において、 mは 1〜3、 pは 1〜12であることが好ましい。
[0037] [化 3]
-(CH2)p- -(CH2CH20)mCH2CH2- -CH2CH2SCH2CH2-,
CH2CH2NHCH2CH2-，
CH3 CH3 CH3
-CH2CH2N-CH2CH2-r -(CH2CHO)mCH2CH-
CH3 C!
-(CH2)6CH-， -CH2CH2CH-
[0038] 上記式（LI)にお!/、て、 Mは、下記式（L3)で表されることが好まし!/、。下記式（L3) において、 Xは、上記式 (L1)において定義したのと同様である。 Qは、例えば、置換 または非置換の直鎖もしくは分枝鎖アルキレンもしくは芳香族炭化水素原子団を表 す。 Qは、例えば、置換または非置換の直鎖もしくは分枝鎖 C〜C ァノレキレン等で
1 12
あり得る。
[0039] [化 4]
Figure imgf000012_0002
[0040] 上記 Qが芳香族炭化水素原子団である場合、例えば、下記式に表されるような原 子団や、それらの置換類似体が好ましい。
[0041] [化 5]
Figure imgf000013_0001
[0042] 上記式で表される芳香族炭化水素原子団の置換類似体としては、例えば、芳香族 環 1個につき 1〜4個の置換基を有してもよぐまた、芳香族環または基 1個につき、 1 または 2個の置換基を有してもよい。上記置換基は、それぞれ同一であっても異なつ ていてもよい。上記置換基としては、例えば、 C〜Cアルキル、ニトロ、 F、 Cl、 Br、 I
1 4
等のハロゲン、フエ-ル、 c〜cアルコキシ等が挙げられる。
1 4
[0043] 上記液晶モノマーの具体例としては、例えば、下記式 (L4)〜 (L19)で表されるモ ノマーが挙げられる。
[0044] [化 6]
Figure imgf000014_0001
■■ (L8)
0 0 0 o o
… (L9)
Figure imgf000014_0002
[0045] 上記液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なる。具体的 には、当該温度範囲は、好ましくは 40〜： 120°Cであり、さらに好ましくは 50〜： 100°C であり、最も好ましくは 60〜90°Cである。
[0046] A-3.第 2の光学補償層
第 2の光学補償層 14は、 nx>ny>nzの屈折率特性を有する。すなわち、第 2の光 学補償層 14は、二軸性の光学補償層である。好ましくは、第 2の光学補償層 14は、 λ Z4板として機能し得る。全ての波長において十分な視覚補償を達成させるため には、第 2の光学補償層の波長分散は、液晶セル中の液晶の波長分散と同様の波 長分散を示すことが好ましい。本発明によれば、 λ Ζ4板として機能する第 2の光学 補償層の波長分散特性を、上記 λ Ζ2板として機能する第 1の光学補償層の光学特 性によって補正することによって、広い波長範囲での円偏光機能を発揮することがで きる。このような第 2の光学補償層の面内位相差 Reは、好ましくは 90〜160nmであ
2
り、さらに好ましくは 100〜150nmであり、最も好ましくは 110〜140nmである。また 、第 2の光学補償層の厚み方向の位相差 Rthは、好ましくは 80〜150nmであり、さ
2
らに好ましくは 90〜 140nmであり、最も好ましくは 100〜 130nmである。
[0047] 上記第 2の光学補償層の Nz係数は、 1. 2≤Nz≤2であり、好ましくは 1. 3≤Nz≤ 1. 8であり、さらに好ましくは 1. 4≤Nz≤l . 7である。上記第 2の光学補償層の Nz 係数をこのような範囲内に調整することによって、上記第 2の光学補償層を λ Ζ4板 として機能させながら、 VAモードの液晶セルに対する光学補償と軸補償の機能をも 発揮させることが可能となり、液晶表示装置のコントラストを向上させることができる。
[0048] 上記第 2の光学補償層の厚みは、 λ Ζ4板として最も適切に機能し得るように設定 され得る。言い換えれば、厚みは、所望の面内位相差が得られるように設定され得る 。具体的には、厚みは、好ましくは 1〜： LO /z mであり、さらに好ましくは 1. 2-6 であり、最も好ましくは 1. 4〜3 /ζ πιである。この厚みは、従来の二軸性の λ Ζ4板で 実現できる厚みに比べて格段に薄い。これは、本発明の製造方法により、特定のポリ マーを特定の加熱および延伸処理に供することにより実現され得る (製造方法の詳 細は後述の Β項で説明する）。
[0049] 第 2の光学補償層を構成する材料としては、上記のような光学特性が得られる限り において任意の適切な材料が採用され得る。例えば、このような材料としては、非液 晶性材料が挙げられる。特に好ましくは、非液晶性ポリマーである。このような非液晶 性材料は、液晶性材料とは異なり、基板の配向性に関係なぐそれ自身の性質により nx>nz、 ny>nzという光学的一軸性を示す膜を形成し得る。その結果、配向基板の みならず未配向基板も使用され得る。さらに、未配向基板を用いる場合であっても、 その表面に配向膜を塗工する工程や配向膜を積層する工程等を省略することができ [0050] 上記非液晶性ポリマーとしては、例えば、耐熱性、耐薬品性、透明性に優れ、剛性 にも富むことから、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドィ ミド、ポリエステルイミド等のポリマーが好ましい。これらのポリマーは、いずれか一種 類を単独で使用してもよいし、例えば、ポリアリールエーテルケトンとポリアミドとの混 合物のように、異なる官能基を持つ 2種以上の混合物として使用してもよい。このよう なポリマーの中でも、高透明性、高配向性、高延伸性であることから、ポリイミドが特 に好ましい。ポリイミドは耐熱性が高ぐ熱膨張が小さいので、ポリイミドから形成され る第 2の光学補償層は熱ムラの発生が小さい。
[0051] 上記ポリマーの分子量は、特に制限されないが、例えば、重量平均分子量 (Mw) 力 i, 000〜1, 000, 000の範囲であること力 S好ましく、より好ましくは 2, 000〜500 , 000の範囲である。
[0052] 上記ポリイミドとしては、例えば、面内配向性が高ぐ有機溶剤に可溶なポリイミドが 好ましい。具体的には、例えば、特表 2000— 511296号公報に開示された、 9, 9— ビス (アミノアリール)フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生 成物を含み、下記式（1)に示す繰り返し単位を 1つ以上含むポリマーが使用できる。
[0053] [化 7]
Figure imgf000016_0001
上記式（1)中、 R3〜R6は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、フエニル基、 1〜4 個のハロゲン原子または C アルキル基で置換されたフエ-ル基、および C ァ
1 - 10 1 - 10 ルキル基力 なる群力 選択される少なくとも一種類の置換基である。好ましくは、 R3 〜R6は、それぞれ独立して、ハロゲン、フエニル基、 1〜4個のハロゲン原子または C アルキル基で置換されたフヱ-ル基、および c アルキル基力 なる群力 選択 一 10 1-10
される少なくとも一種類の置換基である。
[0055] 上記式（1)中、 Zは、例えば、 C の 4価芳香族基であり、好ましくは、ピロメリット
6-20
基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、または、下記式 (2)で表される基 である。
[0056] [化 8]
Figure imgf000017_0001
[0057] 上記式（2)中、 Z'は、例えば、共有結合、 C (R7)基、 CO基、 O原子、 S原子、 SO
2 2 基、 Si (C H )基、または、 NR8基であり、複数の場合、それぞれ同一であってもよく
2 5 2
異なっていてもよい。また、 wは、 1から 10までの整数を表す。 R7は、それぞれ独立し て、水素または C (R9)である。 R8は、水素、炭素原子数 1〜約 20のアルキル基、ま
3
たは C ァリール基であり、複数の場合、それぞれ同一であってもよく異なっていて
6-20
もよい。 R9は、それぞれ独立して、水素、フッ素、または塩素である。
[0058] 上記多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレン またはアントラセン力 誘導される 4価の基が挙げられる。また、上記多環式芳香族基 の置換誘導体としては、例えば、 C のアルキル基、そのフッ素化誘導体、および F
1-10
や C1等のハロゲン力 なる群力 選択される少なくとも一つの基で置換された上記多 環式芳香族基が挙げられる。
[0059] この他にも、例えば、特表平 8— 511812号公報に記載された、繰り返し単位が下 記一般式（3)または (4)で示されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記一般式（5) で示されるポリイミド等が挙げられる。なお、下記式（5)のポリイミドは、下記式（3)の ホモポリマーの好まし 、形態である。
[0060] [化 9]
Figure imgf000018_0001
[0061] [化 10]
Figure imgf000018_0002
[0062] [化 11]
Figure imgf000018_0003
[0063] 上記一般式（3)〜（5)中、 Gおよび G'は、それぞれ独立して、例えば、共有結合、 CH基、 C (CH ) 基、 C (CF ) 基、 C (CX ) 基 (ここで、 Xは、ハロゲンである。）、 C
2 3 2 3 2 3 2
O基、 O原子、 S原子、 SO基、 Si (CH CH ) 基、および、 N (CH )基からなる群か
2 2 3 2 3
ら選択される基であり、それぞれ同一であってもよく異なって 、てもよ 1、。
[0064] 上記式（3)および式（5)中、 Lは、置換基であり、 dおよび eは、その置換数を表す。
Lは、例えば、ハロゲン、 C アルキル基、 C ハロゲン化アルキル基、フエニル基、
1-3 1 -3
または、置換フエ-ル基であり、複数の場合、それぞれ同一であってもよく異なってい てもよ！/、。上記置換フエニル基としては、例えば、ハロゲン、 C アルキル基、および
1-3
C ハロゲンィ匕アルキル基力もなる群力も選択される少なくとも一種類の置換基を有
1 -3
する置換フエニル基が挙げられる。また、上記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩 素、臭素またはヨウ素が挙げられる。 dは、 0から 2までの整数であり、 eは、 0から 3まで の整数である。
[0065] 上記式（3)〜（5)中、 Qは置換基であり、 fはその置換数を表す。 Qとしては、例え ば、水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シァノ基、チオアルキ ル基、アルコキシ基、ァリール基、置換ァリール基、アルキルエステル基、および置換 アルキルエステル基力 なる群力 選択される原子または基であって、 Qが複数の場 合、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。上記ハロゲンとしては、例えば 、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が挙げられる。上記置換アルキル基としては、例え ば、ハロゲン化アルキル基が挙げられる。また上記置換ァリール基としては、例えば、 ハロゲン化ァリール基が挙げられる。 fは、 0から 4までの整数であり、 gは、 0から 3まで の整数であり、 hは、 1から 3までの整数である。また、 gおよび hは、 1より大きいこと力 S 好ましい。
[0066] 上記式 (4)中、 R1Gおよび R11は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、フエ-ル基、 置換フ ニル基、アルキル基、および置換アルキル基からなる群から選択される基で ある。その中でも、 R1Gおよび R11は、それぞれ独立に、ハロゲンィ匕アルキル基である ことが好ましい。
[0067] 上記式（5)中、 M1および M2は、それぞれ独立して、例えば、ハロゲン、 C アルキ
1 -3 ル基、 C ハロゲン化アルキル基、フヱ -ル基、または、置換フヱ-ル基である。上 1 -3
記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が挙げられる。また、上 記置換フエ-ル基としては、例えば、ハロゲン、 C アルキル基、および C ハロゲ
1 -3 1 -3 ン化アルキル基カゝらなる群カゝら選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フ ェニル基が挙げられる。
[0068] 上記式（3)に示すポリイミドの具体例としては、例えば、下記式 (6)で表されるもの 等が挙げられる。
[0069] [化 12]
Figure imgf000019_0001
[0070] さらに、上記ポリイミドとしては、例えば、前述のような骨格 (繰り返し単位)以外の酸 二無水物ゃジァミンを、適宜共重合させたコポリマーが挙げられる。
[0071] 上記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる 。上記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、 ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複 素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、 2, 2'—置換ビフエ-ルテトラカルボン酸 二無水物等が挙げられる。
[0072] 上記ピロメリット酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、 3, 6 ジフエ -ルピロメリット酸二無水物、 3, 6—ビス（トリフルォロメチル）ピロメリット酸二無水物、 3, 6—ジブロモピロメリット酸二無水物、 3, 6—ジクロ口ピロメリット酸二無水物等が挙 げられる。上記べンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、 3, 3' , 4, 4'一べンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物、 2, 3, 3' , 4'一べンゾフエノンテトラ カルボン酸二無水物、 2, 2' , 3, 3'—べンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物等が 挙げられる。上記ナフタレンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、 2, 3, 6, 7 ナフタレンーテトラカルボン酸二無水物、 1, 2, 5, 6 ナフタレンーテトラカルボン 酸二無水物、 2, 6 ジクロローナフタレン 1, 4, 5, 8—テトラカルボン酸二無水物 等が挙げられる。上記複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、 チォフェン 2, 3, 4, 5—テトラカルボン酸二無水物、ピラジン 2, 3, 5, 6—テトラ カルボン酸二無水物、ピリジン 2, 3, 5, 6—テトラカルボン酸二無水物等が挙げら れる。上記 2, 2' 置換ビフエニルテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、 2, 2 ，一ジブ口モー 4, 4，， 5, 5，ービフエ-ルテトラカルボン酸二無水物、 2, 2，ージクロ 口— 4, 4，， 5, 5，—ビフエ-ルテトラカルボン酸二無水物、 2, 2，—ビス（トリフルォロ メチル）ー4, 4' , 5, 5'—ビフエ-ルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
[0073] また、上記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例としては、 3, 3' , 4, 4， ービフエ-ルテトラカルボン酸二無水物、ビス（2, 3 ジカルボキシフエ-ル)メタン二 無水物、ビス（2, 5, 6 トリフルオロー 3, 4 ジカルボキシフエ-ル)メタン二無水物 、 2, 2 ビス（3, 4 ジカルボキシフエ-ル）— 1, 1, 1, 3, 3, 3 へキサフルォロプ 口パンニ無水物、 4, 4 '—ビス（3, 4 ジカルボキシフエ-ル）ー 2, 2 ジフエ-ルプ 口パンニ無水物、ビス（3, 4—ジカルボキシフエ-ル）エーテル二無水物、 4, 4，ーォ キシジフタル酸ニ無水物、ビス（3, 4—ジカルボキシフエ-ル）スルホン酸二無水物、 3, 3，， 4, 4，ージフエ-ルスルホンテトラカルボン酸二無水物、 4, 4，一 [4, 4，一イソ プロピリデン—ジ（p フエ-レンォキシ）]ビス（フタル酸無水物）、 N, N— (3, 4—ジ カルボキシフエ-ル）—N—メチルァミン二無水物、ビス（3, 4—ジカルボキシフエ- ル)ジェチルシラン二無水物等が挙げられる。
[0074] これらの中でも、上記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、 2, 2' 置換ビフ ェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましぐより好ましくは、 2, 2'—ビス（トリハロメチ ル） 4, 4' , 5, 5'—ビフエ-ルテトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、 2, 2，一ビス（トリフルォロメチル） 4, 4，， 5, 5，一ビフエ-ルテトラカルボン酸二無 水物である。
[0075] 上記ジァミンとしては、例えば、芳香族ジァミンが挙げられ、具体例としては、ベンゼ ンジァミン、ジァミノべンゾフエノン、ナフタレンジァミン、複素環式芳香族ジァミン、お よびその他の芳香族ジァミンが挙げられる。
[0076] 上記ベンゼンジァミンとしては、例えば、 o—、 m—および p—フエ-レンジァミン、 2 , 4 ジァミノトルエン、 1, 4 ジァミノ一 2—メトキシベンゼン、 1, 4 ジァミノ一 2 フ ェ-ルベンゼンおよび 1 , 3 ジァミノ 4 クロ口ベンゼンのようなベンゼンジァミンか らなる群力 選択されるジァミン等が挙げられる。上記ジァミノべンゾフエノンの例とし ては、 2, 2，ージァミノべンゾフエノン、および 3, 3，ージァミノべンゾフエノン等が挙げ られる。上記ナフタレンジァミンとしては、例えば、 1, 8 ジァミノナフタレン、および 1 , 5—ジァミノナフタレン等が挙げられる。上記複素環式芳香族ジァミンの例としては 、 2, 6 ジァミノピリジン、 2, 4ージァミノピリジン、および 2, 4 ジアミノー S トリアジ ン等が挙げられる。
[0077] また、芳香族ジァミンとしては、上記の他に、 4, 4，ージアミノビフエ-ル、 4, 4，ージ アミノジフエ-ルメタン、 4, 4， - (9 フルォレユリデン）一ジァ二リン、 2, 2，一ビス（ト リフルォロメチル） 4, 4'—ジアミノビフエニル、 3, 3，一ジクロ口一 4, 4'—ジアミノジ フエニルメタン、 2, 2'—ジクロロー 4, 4'ージアミノビフエニル、 2, 2' , 5, 5'—テトラ クロ口べンジジン、 2, 2 ビス（4 ァミノフエノキシフエ-ル）プロパン、 2, 2 ビス（4 —ァミノフエ二ノレ）プロノ ン、 2, 2 ヒ、、ス（4 ァミノフエ二ノレ）一 1, 1, 1, 3, 3, 3 へ キサフルォロプロパン、 4, 4'ージアミノジフエニルエーテル、 3, 4'ージアミノジフエ -ルエーテル、 1, 3 ビス（3 アミノフエノキシ）ベンゼン、 1, 3 ビス（4 ァミノフエ ノキシ）ベンゼン、 1, 4 ビス（4 アミノフエノキシ）ベンゼン、 4, 4，一ビス（4 ァミノ フエノキシ）ビフエ-ル、 4, 4，一ビス（3 アミノフエノキシ）ビフエ-ル、 2, 2 ビス [4 — (4 アミノフエノキシ）フエ-ル]プロパン、 2, 2 ビス [4— (4 アミノフエノキシ）フ ェニル] 1, 1, 1, 3, 3, 3 へキサフルォロプロパン、 4, 4，ージアミノジフエニルチ ォエーテル、 4, 4，ージアミノジフエ-ルスルホン等が挙げられる。
[0078] 上記ポリエーテルケトンとしては、例えば、特開 2001— 49110号公報に記載され た、下記一般式（7)で表されるポリアリールエーテルケトンが挙げられる。
[0079] [化 13]
Figure imgf000022_0001
[0080] 上記式（7)中、 Xは、置換基を表し、 qは、その置換数を表す。 Xは、例えば、ハロゲ ン原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシ基、または、ハロ ゲンィ匕アルコキシ基であり、 Xが複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていて ちょい。
[0081] 上記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、臭素原子、塩素原子およびヨウ 素原子が挙げられ、これらの中でも、フッ素原子が好ましい。上記低級アルキル基と しては、例えば、 C の直鎖または分岐鎖を有するアルキル基が好ましぐより好まし
1-6
くはじ の直鎖または分岐鎖のアルキル基である。具体的には、メチル基、ェチル
1-4
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、 sec ブチル基、および、 tert ブチル基が好ましぐ特に好ましくは、メチル基およびェチル基である。上記ハ ロゲン化アルキル基としては、例えば、トリフルォロメチル基等の上記低級アルキル基 のハロゲンィ匕物が挙げられる。上記低級アルコキシ基としては、例えば、 C の直鎖 または分岐鎖のアルコキシ基が好ましぐより好ましくは C の直鎖または分岐鎖の
1-4
アルコキシ基である。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロボ キシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、 sec—ブトキシ基、および、 tert—ブトキシ基が、 さらに好ましぐ特に好ましくはメトキシ基およびエトキシ基である。上記ハロゲン化ァ ルコキシ基としては、例えば、トリフルォロメトキシ基等の上記低級アルコキシ基のハ ロゲン化物が挙げられる。
[0082] 上記式（7)中、 qは、 0から 4までの整数である。上記式（7)においては、 q = 0であり
、かつ、ベンゼン環の両端に結合したカルボ-ル基とエーテルの酸素原子とが互い にパラ位に存在することが好ま 、。
[0083] また、上記式（7)中、 R1は、下記式（8)で表される基であり、 mは、 0または 1の整数 である。
[0084] [化 14]
Figure imgf000023_0001
[0085] 上記式 (8)中、 X'は置換基を表し、例えば、上記式（7)における Xと同様である。
上記式 (8)において、 X'が複数の場合、それぞれ同一であっても異なっていてもよ い。 q，は、上記 X，の置換数を表し、 0力も 4までの整数であって、 q， =0が好ましい。 また、 pは、 0または 1の整数である。
[0086] 上記式 (8)中、 R2は、 2価の芳香族基を表す。この 2価の芳香族基としては、例えば 、 o—、 m—もしくは p—フエ二レン基、または、ナフタレン、ビフエニル、アントラセン、 o 一、 m—もしくは p—テルフエ-ル、フエナントレン、ジベンゾフラン、ビフエ-ルエーテ ル、もしくは、ビフ -ルスルホン力 誘導される 2価の基等が挙げられる。これらの 2 価の芳香族基において、芳香族に直接結合している水素力 ハロゲン原子、低級ァ ルキル基または低級アルコキシ基で置換されてもよい。これらの中でも、上記 R2とし ては、下記式 (9)〜（15)力もなる群力も選択される芳香族基が好ま 、。
[0087] [化 15]
Figure imgf000024_0001
[0088] 上記式（7)中、 R1としては、下記式（16)で表される基が好ましぐ下記式（16)にお いて、 R2および pは上記式（8)と同義である。
[0089] [化 16]
Figure imgf000024_0002
[0090] さらに、上記式（7)中、 nは重合度を表し、例えば、 2〜5000の範囲であり、好ましく は、 5〜500の範囲である。また、その重合は、同じ構造の繰り返し単位力もなるもの であってもよぐ異なる構造の繰り返し単位力もなるものであってもよい。後者の場合 には、繰り返し単位の重合形態は、ブロック重合であってもよいし、ランダム重合であ つてもよい。
[0091] さらに、上記式（7)で示されるポリアリールエーテルケトンの末端は、 p—テトラフル ォ口べンゾィレン基側がフッ素であり、ォキシアルキレン基側が水素原子であることが 好ましぐこのようなポリアリールエーテルケトンは、例えば、下記一般式（17)で表す ことができる。なお、下記式において、 nは上記式（7)と同様の重合度を表す。 [0092] [化 17]
Figure imgf000025_0001
[0093] 上記式（7)で示されるポリアリールエーテルケトンの具体例としては、下記式（18) 〜（21)で表されるもの等が挙げられ、下記各式において、 nは、上記式（7)と同様の 重合度を表す。
[0094] [化 18]
[0095] [化 19]
[0096] [化 20]
Figure imgf000025_0002
[0097] [化 21]
Figure imgf000026_0001
[0098] また、これらの他に、上記ポリアミドまたはポリエステルとしては、例えば、特表平 10 — 508048号公報に記載されるポリアミドやポリエステルが挙げられ、それらの繰り返 し単位は、例えば、下記一般式（22)で表すことができる。
[0099] [化 22]
Figure imgf000026_0002
[0100] 上記式（22)中、 Yは、 Oまたは NHである。また、 Eは、例えば、共有結合、 Cアル
2 キレン基、ハロゲン化 Cアルキレン基、 CH基、 C (CX ) 基（ここで、 Xはハロゲンま
2 2 3 2
たは水素である。）、 CO基、 O原子、 S原子、 SO基、 Si (R) 基、および、 N (R)基か
2 2
らなる群力 選ばれる少なくとも一種類の基であり、それぞれ同一であってもよく異な つていてもよい。上記 Eにおいて、 Rは、 C アルキル基および C ハロゲン化アル
1-3 1-3
キル基の少なくとも一種類であり、カルボ-ル官能基または Y基に対してメタ位または ノ ラ こめる。
[0101] また、上記式（22)中、 Aおよび A'は、置換基であり、 tおよび zは、それぞれの置換 数を表す。また、 ρは、 0から 3までの整数であり、 qは、 1から 3までの整数であり、 rは、 0から 3までの整数である。
[0102] 上記 Aは、例えば、水素、ハロゲン、 C アルキル基、 C ハロゲン化アルキル基
1-3 1-3
、 OR (ここで、 Rは、上記で定義したとおりである。）で表されるアルコキシ基、ァリー ル基、ハロゲン化等による置換ァリール基、 C アルコキシカルボ-ル基、 C アル
1-9 1-9 キルカルボ-ルォキシ基、 C ァリールォキシカルボ-ル基、 C ァリールカルボ
1— 12 1— 12
-ルォキシ基およびその置換誘導体、 C ァリール力ルバモイル基、ならびに、 C ァリールカルボニルァミノ基およびその置換誘導体力 なる群力 選択され、複数
- 12
の場合、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。上記 A'は、例えば、ハロ ゲン、 C アルキル基、 C ハロゲン化アルキル基、フエ-ル基および置換フエ-ル
1 -3 1 -3
基からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であってもよく異なっていて もよい。上記置換フエ-ル基のフエ-ル環上の置換基としては、例えば、ハロゲン、 C アルキル基、 c ハロゲン化アルキル基およびこれらの組み合わせが挙げられる
1 -3 1 -3
。上記 tは、 0から 4までの整数であり、上記 zは、 0から 3までの整数である。
[0103] 上記式（22)で表されるポリアミドまたはポリエステルの繰り返し単位の中でも、下記 一般式（23)で表されるものが好まし 、。
[0104] [化 23]
Figure imgf000027_0001
[0105] 上記式（23)中、 A A'および Yは、上記式（22)で定義したとおりであり、 vは 0から 3の整数、好ましくは、 0から 2の整数である。 Xおよび yは、それぞれ 0または 1である 力 共に 0であることはない。
[0106] A— 4.偏光子
上記偏光子 11としては、 目的に応じて任意の適切な偏光子が採用され得る。例え ば、ポリビュルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビュルアルコール系フィ ルム、エチレン ·酢酸ビュル共重合体系部分ケンィ匕フィルム等の親水性高分子フィル ムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニ ルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリェン系配向フィ ルム等が挙げられる。これらのなかでも、ポリビュルアルコール系フィルムにヨウ素な どの二色性物質を吸着させて一軸延伸した偏光子が、偏光二色比が高く特に好まし い。これら偏光子の厚さは特に制限されないが、一般的に、 1 80 /ζ πι程度である。
[0107] ポリビュルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて一軸延伸した偏光子は、例 えば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の 3〜7倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸や硫酸亜鉛、塩 化亜鉛等を含んでいても良いし、ヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる 。さらに必要に応じて染色の前にポリビュルアルコール系フィルムを水に浸漬して水 洗しても良い。
[0108] ポリビュルアルコール系フィルムを水洗することでポリビュルアルコール系フィルム 表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ポリビュルアル コール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。 延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸しても良いし、また延 伸して力 ヨウ素で染色しても良い。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中 でち延伸することがでさる。
[0109] A— 5.保護層
上記保護層 12および 15としては、偏光板の保護層として使用できる任意の適切な フィルムが採用され得る。好ましくは透明保護フィルムである。このようなフィルムの主 成分となる材料の具体例としては、トリァセチルセルロース (TAC)等のセルロース系 榭脂や、ポリエステル系、ポリビュルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系 、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボ ルネン系、ポリオレフイン系、アクリル系、アセテート系等の透明榭脂等が挙げられる 。また、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱 硬化型榭脂または紫外線硬化型榭脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサ ン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開 2001— 343529号公 報（WO01Z37007)に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料と しては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性榭脂と、側鎖 に置換または非置換のフエニル基ならびに-トリル基を有する熱可塑性榭脂を含有 する榭脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンと N—メチルマレイミドからなる交互 共重合体と、アクリロニトリル 'スチレン共重合体とを有する榭脂組成物が挙げられる。 上記ポリマーフィルムは、例えば、前記榭脂組成物の押出成形物であり得る。 TAC、 ポリイミド系榭脂、ポリビュルアルコール系榭脂、ガラス質系ポリマーが好ましぐ TA Cがさらに好ましい。 [0110] 上記保護層は、透明で、色付きが無いことが好ましい。具体的には、厚み方向の位 相差値 Rth力 好ましくは一 90nm〜 + 90nmであり、さらに好ましくは一 80nm〜 + 80nmであり、最も好ましくは 70nm〜 + 70nmである。
[0111] 上記保護層の厚みとしては、上記の好ましい厚み方向の位相差が得られる限りに おいて、任意の適切な厚みが採用され得る。具体的には、保護層の厚みは、好ましく は 5mm以下であり、さらに好ましくは lmm以下であり、特に好ましくは l〜500 /z m であり、最も好ましくは 5〜 150 μ mである。
[0112] 保護層 12および 15は、同一であってもよぐ異なっていてもよい。保護層 15には、 必要に応じて、ハードコート処理、反射防止処理、ステイツキング防止処理、アンチグ レア処理等が施され得る。
[0113] A— 6.偏光板のその他の構成要素
本発明の光学フィルムは、さらに他の光学層を備えていてもよい。このような他の光 学層としては、目的や画像表示装置の種類に応じて任意の適切な光学層が採用さ れ得る。具体例としては、液晶フィルム、光散乱フィルム、回折フィルム、さらに別の光 学補償層 (位相差フィルム)等が挙げられる。
[0114] 本発明の光学フィルムは、少なくとも一方に最外層として粘着剤層または接着剤層 をさらに有し得る。このように最外層として粘着剤層または接着剤層を有することによ り、例えば、他の部材 (例えば、液晶セル）との積層が容易になり、本発明の光学フィ ルムが他の部材力 剥離するのを防止できる。上記粘着剤層および接着剤層を形成 する材料としては、任意の適切な材料が採用され得る。好ましくは、吸湿性や耐熱性 に優れる材料が用いられる。吸湿による発泡や剥離、熱膨張差等による光学特性の 低下、液晶セルの反り等を防止できるからである。
[0115] 実用的には、上記粘着剤層または接着剤層の表面は、本発明の光学フィルムが実 際に使用されるまでの間、任意の適切なセパレータによってカバーされ、汚染が防止 され得る。セパレータは、例えば、任意の適切なフィルムに、必要に応じて、シリコー ン系、長鎖アルキル系、フッ素系、硫ィ匕モリブデン等の剥離剤による剥離コートを設 ける方法等によって形成され得る。
[0116] 本発明の光学フィルムにおける各層は、例えば、サリチル酸エステル系化合物、ベ ンゾフエノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シァノアクリレート系化合物、二 ッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤による処理等によって、紫外線吸収能を付 与したものであってもよ 、。
[0117] B.光学フィルムの製造方法
本発明の光学フィルムの製造方法は、配向処理した基材に液晶材料を含有する塗 工液を塗工する工程と;該塗工された液晶材料を該液晶材料が液晶相を示す温度 で処理して配向させて、該基材の表面に第 1の光学補償層を形成する工程と;該基 材表面に形成された該第 1の光学補償層を透明保護フィルム (T)の表面に転写する 工程と;透明保護フィルム (T)の表面に偏光子を積層する工程と;該第 1の光学補償 層の表面に第 2の光学補償層を形成する工程とを含む。本発明の製造方法におい ては、該偏光子と該第 1の光学補償層が、互いに透明保護フィルム (T)を介して反対 側に配置される。本発明の製造方法においては、第 1の光学補償層 13は、該第 1の 光学補償層の遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度が + 17° 〜+ 27° または — 17° 〜― 27° となるように形成され、第 2の光学補償層 14は、該第 2の光学補償 層の遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度が + 85° 〜+ 95° となるように形成 される。このような製造方法によれば、例えば、図 1および図 2に示すような光学フィル ムが得られる。上記の各工程の順序および Zまたは配向処理が施されるフィルムは、 目的に応じて適宜変更され得る。例えば、偏光子の積層工程は、いずれの光学補償 層の形成工程または積層工程の後に行ってもよい。以下、各工程の詳細について説 明する。
[0118] B— 1.基材の配向処理
基材としては、本発明における適切な第 1の光学補償層が得られる限りにおいて、 任意の適切な基材が用いられる。基材の具体例としては、ガラス基板、金属箔、ブラ スチックシートまたはプラスチックフィルムが挙げられる。基材上には、必要に応じて 配向膜が設けられ得る。上記プラスチックフィルムとしては、任意の適切なフィルムが 採用され得る。具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート 等のポリエステル系ポリマー、ジァセチルセルロース、トリァセチルセルロース等のセ ルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリメチノレメタタリレート等のアタリ ル系ポリマー等の透明ポリマー力も形成されるフィルムが挙げられる。また、ポリスチ レン、アクリロニトリル 'スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリ プロピレン、環状またはノルボルネン構造を有するポリオレフイン、エチレン 'プロピレ ン共重合体等のォレフィン系ポリマー、塩ィ匕ビュル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリ アミド等のアミド系ポリマー等の透明ポリマー力も形成されるフィルムも挙げられる。さ らに、イミド系ポリマー、スノレホン系ポリマー、ポリエーテノレスノレホン系ポリマー、ポリエ ーテノレエーテノレケトン系ポリマー、ポリフエ二レンスルフイド系ポリマー、ビニノレアノレコ ール系ポリマー、塩化ビ-リデン系ポリマー、ビュルプチラール系ポリマー、ァリレート 系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマーおよびそれらのブレ ンド物等の透明ポリマーから形成されるフィルムなども挙げられる。好ましくは、ポリエ チレンテレフタレート（PET)フィルムである。
[0119] 基材の厚みは、好ましくは 20〜： LOO μ mであり、さらに好ましくは 30〜90 μ mであ り、最も好ましくは 30〜80 /ζ πιである。このような範囲の厚みを有することにより、非 常に薄い第 1の光学補償層を積層工程において良好に支持する強度が付与され、 かつ、すべり性やロール走行性のような操作性も適切に維持される。
[0120] 上記基材への配向処理としては、任意の適切な配向処理が採用され得る。具体的 には、機械的な配向処理、物理的な配向処理、化学的な配向処理が挙げられる。機 械的な配向処理の具体例としては、ラビング処理、延伸処理が挙げられる。物理的な 配向処理の具体例としては、磁場配向処理、電場配向処理が挙げられる。化学的な 配向処理の具体例としては、斜方蒸着法、光配向処理が挙げられる。好ましくはラビ ング処理である。なお、各種配向処理の処理条件は、 目的に応じて任意の適切な条 件が採用され得る。なお、配向処理は、基材表面に直接施してもよぐ任意の適切な 配向層（代表的には、ポリイミド層またはポリビニルアルコール層）を形成し、当該配 向層に施してもよい。
[0121] 上記配向処理の配向方向は、基材と偏光子を積層した場合に偏光子の吸収軸と 所定の角度をなすような方向である。この配向方向は、後述するように、形成される第 1の光学補償層 13の遅相軸 Βの方向と実質的に同一である。したがって、上記所定 の角度は、 + 17° 〜+ 27° または— 17° 〜一 27° であり、好ましくは + 19° 〜+ 25° または 19° 〜一 25° であり、さらに好ましくは + 21° 〜+ 24° または 21 ° 〜一 24° であり、最も好ましくは + 22° 〜+ 23° または 22° 〜一 23° である
[0122] B- 2.第 1の光学補償層を形成する液晶材料の塗工工程
次に、上記配向処理を施した基材表面に上記 A— 2項で説明したような液晶材料 を含有する塗工液を塗工し、次いで当該液晶材料を配向させて第 1の光学補償層を 形成する。具体的には、液晶材料を適切な溶媒に溶解または分散した塗工液を調 製し、この塗工液を、上記配向処理を施した基材表面に塗工すればよい。液晶材料 の配向工程は後述の B— 3項で説明する。
[0123] 上記溶媒としては、上記液晶材料を溶解または分散し得る任意の適切な溶媒が採 用され得る。使用される溶媒の種類は、液晶材料の種類等に応じて適宜選択され得 る。溶媒の具体例としては、クロ口ホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン 、テトラクロロェタン、塩化メチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロ口べ ンゼン、オルソジクロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、フエノール、 p クロロフ エノーノレ、 o クロ口フエノーノレ、 m—クレゾール、 o クレゾール、 p クレゾ一ノレなど のフエノール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、メトキシベンゼン、 1, 2— ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、メチルェチルケトン (MEK)、メ チノレイソブチノレケトン、シクロへキサノン、シクロペンタノン、 2—ピロリドン、 N—メチノレ 2—ピロリドン等のケトン系溶媒、酢酸ェチル、酢酸ブチル、酢酸プロピルなどのェ ステル系溶媒、 t—ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレング リコーノレ、エチレングリコーノレモノメチノレエーテノレ、ジエチレングリコーノレジメチノレエー テル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、 2—メチノレー 2, 4 ペンタンジ オールのようなアルコール系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルァセトアミドのよう なアミド系溶媒、ァセトニトリル、ブチ口-トリルのような-トリル系溶媒、ジェチルエー テル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジォキサンのようなエーテル系溶媒、あ るいは二硫化炭素、ェチルセ口ソルブ、ブチルセ口ソルブ、酢酸ェチルセ口ソルブ等 が挙げられる。好ましくは、トルエン、キシレン、メシチレン、 MEK、メチルイソブチル ケトン、シクロへキサノン、ェチルセ口ソルブ、ブチルセ口ソルブ、酢酸ェチル、酢酸ブ チル、酢酸プロピル、酢酸ェチルセ口ソルブである。これらの溶媒は、単独で、または
2種類以上を組み合わせて用いられ得る。
[0124] 上記塗工液における液晶材料の含有量は、液晶材料の種類や目的とする層の厚 み等に応じて適宜設定され得る。具体的には、液晶材料の含有量は、好ましくは 5〜 50重量％であり、さらに好ましくは 10〜40重量％であり、最も好ましくは 15〜30重 量％である。
[0125] 上記塗工液は、必要に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。添加剤の 具体例としては、重合開始剤や架橋剤が挙げられる。これらは、液晶材料として液晶 モノマー（重合性モノマーまたは架橋性モノマー）を用いる場合に特に好適に用いら れる。上記重合剤の具体例としては、ベンゾィルパーオキサイド（BPO)、ァゾビスイソ プチ口-トリル (AIBN)等が挙げられる。上記架橋剤の具体例としては、イソシァネー ト系架橋剤、エポキシ系架橋剤、金属キレート架橋剤等が挙げられる。これらは、単 独で、または 2種類以上を組み合わせて用いられ得る。他の添加剤の具体例として は、老化防止剤、変性剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤、紫外線吸収剤等 が挙げられる。これらもまた、単独で、または 2種類以上を組み合わせて用いられ得る 。上記老化防止剤としては、例えば、フ ノール系化合物、アミン系化合物、有機硫 黄系化合物、ホスフィン系化合物が挙げられる。上記前記変性剤としては、例えば、 グリコール類、シリコーン類やアルコール類が挙げられる。上記界面活性剤は、例え ば、光学フィルムの表面を平滑にするために用いられ、具体例としては、シリコーン系
、アクリル系、フッ素系等の界面活性剤が挙げられる。
[0126] 上記塗工液の塗工量は、塗工液の濃度や目的とする層の厚み等に応じて適宜設 定され得る。例えば、塗工液の液晶材料濃度が 20重量％である場合、塗工量は、透 明保護フィルムの面積（100cm2)あたり好ましくは 0. 03〜0. 17mlであり、さらに好 ましく ίま 0. 05〜0. 15mlであり、最も好ましく ίま 0. 08〜0. 12mlである。
[0127] 塗工方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。具体例としては、ロールコ ート法、スピンコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、エタストルージョン 法、カーテンコート法、スプレコート法等が挙げられる。
[0128] B— 3.第 1の光学補償層を形成する液晶材料の配向工程 次いで、上記基材表面の配向方向に応じて、第 1の光学補償層を形成する液晶材 料を配向させる。当該液晶材料の配向は、使用した液晶材料の種類に応じて、液晶 相を示す温度で処理することにより行われる。このような温度処理を行うことにより、液 晶材料が液晶状態をとり、上記基材表面の配向方向に応じて当該液晶材料が配向 する。これによつて、塗工により形成された層に複屈折が生じ、基材表面に第 1の光 学補償層が形成される。
[0129] 上記のように処理温度は、液晶材料の種類に応じて適宜決定され得る。具体的に は、処理温度は、好ましくは 40〜120°Cであり、さらに好ましくは 50〜100°Cであり、 最も好ましくは 60〜90°Cである。また、処理時間は、好ましくは 30秒以上であり、さら に好ましくは 1分以上であり、特に好ましくは 2分以上、最も好ましくは 4分以上である 。処理時間が 30秒未満である場合には、液晶材料が十分に液晶状態をとらない場 合がある。一方、処理時間は、好ましくは 10分以下であり、さらに好ましくは 8分以下 であり、最も好ましくは 7分以下である。処理時間が 10分を超えると、添加剤が昇華 するおそれがある。
[0130] また、液晶材料として上記 A— 2項に記載のような液晶モノマー（重合性モノマーお よび Zまたは架橋性モノマー）を用いる場合には、上記塗工により形成された層に、 さらに重合処理または架橋処理を施すことが好ましい。重合処理を行うことにより、上 記液晶モノマーが重合し、液晶モノマーがポリマー分子の繰り返し単位として固定さ れる。また、架橋処理を行うことにより、上記液晶モノマーが 3次元の網目構造を形成 し、液晶モノマーが架橋構造の一部として固定される。結果として、液晶材料の配向 状態が固定される。なお、液晶モノマーが重合または架橋して形成されるポリマーま たは 3次元網目構造は「非液晶性」である。したがって、形成された第 1の光学補償 層は、例えば、液晶分子に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転 移が起きることはない。その結果、温度に影響されない、非常に優れた安定性を有す る第 1の光学補償層が得られ得る。
[0131] 上記重合処理または架橋処理の具体的手順は、使用する重合開始剤や架橋剤の 種類によって適宜選択され得る。例えば、光重合開始剤または光架橋剤を使用する 場合には光照射を行えばよぐ紫外線重合開始剤または紫外線架橋剤を使用する 場合には紫外線照射を行えばよぐ熱による重合開始剤または架橋剤を使用する場 合には加熱を行えばよい。光または紫外線の照射時間、照射強度、合計の照射量 等は、液晶材料の種類、透明保護フィルムの種類および配向処理の種類、第 1の光 学補償層に所望される特性等に応じて適宜設定され得る。同様に、加熱温度、加熱 時間等も適宜設定され得る。
[0132] 上記のような配向処理を行うことにより、上記基材の配向方向に応じて液晶材料が 配向するので、形成された第 1の光学補償層の遅相軸 Bは、上記基材の配向方向と 実質的に同一となる。したがって、第 1の光学補償層の遅相軸 Bの方向は、基材の長 手方向に対して、 + 17° 〜+ 27° または 17° 〜一 27° 、好ましくは + 19° 〜 + 25° または 19° 〜一 25° 、さらに好ましくは + 21° 〜+ 24° または 21° 〜一 24° 、最も好ましくは + 22° 〜+ 23° または 22° 〜一 23° となる。
[0133] B-4.第 1の光学補償層の転写工程
次に、上記基材上に形成された上記第 1の光学補償層を、上記透明保護フィルム ( T)の表面に転写する。転写方法は特に限定されず、例えば、基材に支持された第 1 の光学補償層を接着剤を介して透明保護フィルム (T)と貼り合わせることにより行わ れる。第 1の光学補償層を転写により透明保護フィルム (T)の表面に形成することに より、液晶材料を透明保護フィルム (T)に直接塗工する場合に比べて、層同士の密 着性に非常に優れた (結果として、非常に優れた耐久性を有する)光学フィルムが得 られる。
[0134] 上記接着剤としては、代表的には、硬化型接着剤が挙げられる。硬化型接着剤の 代表例としては、紫外線硬化型等の光硬化型接着剤、湿気硬化型接着剤、熱硬化 型接着剤が挙げられる。熱硬化型接着剤の具体例としては、エポキシ榭脂、イソシァ ネート榭脂およびポリイミド榭脂等の熱硬化性榭脂系接着剤が挙げられる。湿気硬 化型接着剤の具体例としては、イソシァネート榭脂系の湿気硬化型接着剤が挙げら れる。湿気硬化型接着剤 (特に、イソシァネート榭脂系の湿気硬化型接着剤）が好ま しい。湿気硬化型接着剤は、空気中の水分や被着体表面の吸着水、水酸基やカル ボキシル基等の活性水素基等と反応して硬化するので、接着剤を塗工後、放置する ことによって自然に硬化させることができ、操作性に優れる。さらに、硬化のためにカロ 熱する必要がないので、第 1の光学補償層および透明保護フィルム (T)が貼り合わ せ (接着）時に加熱されない。その結果、加熱収縮の心配がないので、本発明のよう に第 1の光学補償層および透明保護フィルム (Τ)がきわめて薄い場合であっても、積 層時の割れ等が顕著に防止され得る。なお、上記イソシァネート榭脂系接着剤とは、 ポリイソシァネート系接着剤、ポリウレタン榭脂接着剤の総称である。
[0135] 上記硬化型接着剤は、例えば、市販の接着剤を使用してもよぐ上記の各種硬化 型榭脂を溶媒に溶解または分散し、硬化型榭脂接着剤溶液 (または分散液)として 調製してもよい。溶液 (または分散液)を調製する場合、当該溶液における硬化型榭 脂の含有割合は、固形分重量が好ましくは 10〜80重量％であり、さらに好ましくは 2 0〜65重量％であり、とりわけ好ましくは 25〜65重量％であり、最も好ましくは 30〜5 0重量％である。用いられる溶媒としては、硬化型榭脂の種類に応じて任意の適切な 溶媒が採用され得る。具体例としては、酢酸ェチル、メチルェチルケトン、メチルイソ ブチルケトン、トルエン、キシレン等が挙げられる。これらは、単独で、または 2種以上 を組み合わせて用いられ得る。
[0136] 上記接着剤の塗工量は、目的に応じて適宜設定され得る。例えば、塗工量は、第 1 の光学補償層または透明保護フィルム (Τ)の面積 (cm2)あたり好ましくは 0.3〜3ml であり、さらに好ましくは 0.5〜2mlであり、最も好ましくは l〜2mlである。塗工後、必 要に応じて、接着剤に含まれる溶媒は、自然乾燥や加熱乾燥によって揮発させられ る。このようにして得られる接着剤層の厚みは、好ましくは 0. 1 μ πι〜20 /ζ m、さらに 好ましくは 0. 5 m〜15 m、最も好ましくは 1 m〜10 mである。また、接着剤 層の押し込み硬度（Microhardness)は、好ましくは 0. 1〜0. 5GPaであり、さらに 好ましくは 0. 2〜0. 5GPaであり、最も好ましくは 0. 3〜0. 4GPaである。なお、押し 込み硬度は、ビッカース硬度との相関性が公知であるので、ビッカース硬度にも換算 できる。押し込み硬度は、例えば、 日本電気株式会社 (NEC)製の薄膜硬度計 (例え ば、商品名 MH4000、商品名 MHA— 400)を用いて、押し込み深さと押し込み荷 重とから算出することができる。
[0137] 最後に、上記基材を上記第 1の光学補償層から剥離すれば、上記第 1の光学補償 層と上記透明保護フィルム (T)との積層が完了する。 [0138] B- 5.偏光子の積層工程
偏光子を、透明保護フィルム (T)の表面に積層する。偏光子の積層は、本発明の 製造方法における任意の適切な時点で行われ得る。例えば、偏光子を予め透明保 護フィルム (T)に積層しておいてもよぐ第 1の光学補償層を形成した後に積層しても よぐ第 2の光学補償層を形成した後に積層してもよい。偏光子と第 1の光学補償層 は、互いに透明保護フィルム (T)を介して反対側に配置される。
[0139] 上記透明保護フィルム (T)と偏光子との積層方法としては、任意の適切な積層方法
(例えば、接着)が採用され得る。接着は、任意の適切な接着剤または粘着剤を用い て行われ得る。接着剤または粘着剤の種類は、被着体 (すなわち、透明保護フィルム および偏光子）の種類に応じて適宜選択され得る。接着剤の具体例としては、アタリ ル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエー テル系等のポリマー製接着剤、イソシァネート系接着剤、ゴム系接着剤等が挙げられ る。粘着剤の具体例としては、アクリル系、ビュルアルコール系、シリコーン系、ポリエ ステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、イソシァネート系、ゴム系等の粘着剤が 挙げられる。
[0140] 上記接着剤または粘着剤の厚みは、特に制限されないが、好ましくは 10〜200nm であり、さらに好ましくは 30〜180nmであり、最も好ましくは 50〜150nmである。
[0141] 本発明の製造方法によれば、第 1の光学補償層の形成時に、第 1の光学補償層の 遅相軸を任意の適切な方向に設定できるので、長手方向に延伸された (すなわち、 長手方向に吸収軸を有する)長尺の偏光フィルム (偏光子)を使用することができる。 つまり、長尺の透明保護フィルムと、長尺の偏光フィルム (偏光子）とを、それぞれの 長手方向を揃えて（いわゆるロール toロールで)連続的に貼りあわせることができる。 したがって、非常に優れた製造効率で光学フィルムが得られる。さらに、この方法によ れば、フィルムを長手方向（延伸方向）に対して斜めに切り出して積層する必要がな い。その結果、切り出した各フィルムにおいて光軸の角度にばらつきが生じることがな ぐ結果として製品間で品質のばらつきがない光学フィルムが得られる。さらに、切り 抜きによる廃棄物も生じないので、低コストで光学フィルムが得られる。加えて、大型 偏光板の製造も容易になる。 [0142] なお、偏光子の吸収軸の方向は、長尺フィルムの長手方向と実質的に平行である 。本明細書において「実質的に平行」とは、長手方向と吸収軸方向との角度が 0° 士 10° を包含する趣旨であり、好ましくは 0° ± 5° であり、さらに好ましくは 0° ± 3° である。
[0143] B-6.第 2の光学補償層の形成工程
さらに、第 2の光学補償層を上記第 1の光学補償層の表面上に形成する。第 2の光 学補償層の形成工程の詳細な手順は以下の通りである。まず、第 2の光学補償層を 形成する材料 (具体的には、上記 A— 3項に記載したような非液晶材料;以下、光学 補償層形成材料ともいう）を含有する塗工液を基材シートに塗工する。塗工方法とし ては、任意の適切な方法が採用され得る。塗工方法の具体例としては、スピンコート 法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バー コート法、グラビア印刷法が挙げられる。
[0144] 上記光学補償層形成材料の塗工液における光学補償層形成材料濃度は、上記 A
3項に記載のような光学補償層が得られ、かつ塗工可能であれば、任意の適切な 濃度が採用され得る。例えば、当該塗工液は、溶媒 100重量部に対して、光学補償 層形成材料を好ましくは 5〜50重量部、さらに好ましくは 10〜40重量部含む。このよ うな濃度範囲の塗工液は、塗工容易な粘度を有する。上記光学補償層形成材料の 塗工液に用いられる溶媒は、上記光学補償層形成材料の種類に応じて適宜選択さ れ得る。使用可能な溶媒の具体例としては、上記 B— 2項に記載したような溶媒が挙 げられる。当該塗工液は、必要に応じて、安定剤、可塑剤、金属類等の種々の添カロ 剤をさらに含有し得る。塗工液の塗工量は、第 2の光学補償層が λ Ζ4板として適切 に機能し得るような厚さ（すなわち、上記 Α— 3項に記載したような厚さ）となるように調 整される。
[0145] また、上記光学補償層形成材料の塗工液は、得られる光学補償層の光学特性が 適切である限りにお ヽて、光学補償層形成材料とは異なる榭脂をさらに含有し得る。 このような榭脂としては、例えば、各種汎用榭脂、エンジニアリングプラスチック、熱可 塑性榭脂、熱硬化性榭脂等が挙げられる。このような榭脂を併用することにより、目的 に応じて適切な機械的強度や耐久性を有する光学補償層を形成することが可能とな る。
[0146] 上記基材シートとしては、本発明における適切な第 2の光学補償層が得られる限り において、任意の適切な基材シートが用いられる。具体的には、第 1の光学補償層 の転写に用いられるような基材 (上記の B— 4項に記載）が用いられ得る。必要に応じ て、延伸処理、再結晶処理等が基材シートに施され得る。基材シートの厚みもまた、 上記 B— 4項に記載のような厚みが採用され得る。
[0147] 次いで、上記基材シートに形成された上記光学補償層形成材料の溶液の塗工膜 を乾燥させて、ポリマー層を形成する（当該ポリマー層が、最終的に第 2の光学補償 層となる)。乾燥の方法としては任意の適切な方法 (例えば、自然乾燥、加熱乾燥、 風乾)が採用され得る。乾燥温度は、光学補償層形成材料の種類、溶媒の種類、目 的とする光学補償層の光学特性等に応じて変化し得る。乾燥温度は、好ましくは 20 〜400°C、さらに好ましくは 60〜300°C、最も好ましくは 65〜250°Cである。乾燥時 間は、好ましくは 0. 5〜200分、さらに好ましくは 1〜120分、最も好ましくは 5〜： LOO 分である。乾燥は、一定温度で行ってもよぐ温度を連続的または段階的に変化させ ながら行ってもよい。
[0148] 次いで、得られたポリマー層を基材シートごと (すなわち、ポリマー層と基材シートと を一体として)加熱および延伸して、基材シート上に第 2の光学補償層を形成する。 延伸方法としては、任意の適切な方法 (例えば、固定端延伸、自由端延伸）が採用さ れ得る。延伸倍率は、延伸前のポリマー層および基材シートの一体の長さに対して、 好ましくは 1. 2〜3. 0倍、さらに好ましくは 1. 3〜2. 9倍、最も好ましくは 1. 3〜2. 8 倍である。このような範囲の延伸倍率であれば、第 2の光学補償層において所望の N z係数が得られる。延伸温度は、好ましくは 120〜200°C、さらに好ましくは 130〜19 0°C、最も好ましくは 135〜180°Cである。このような範囲に延伸温度を設定すること により、非常に大きい延伸倍率で延伸処理を行っても、得られる光学補償層の光学 特性を安定して制御できる。
[0149] 延伸方向は、第 2の光学補償層に所望される遅相軸の方向に応じて設定され得る 。本発明においては、第 1の光学補償層の遅相軸を偏光子の吸収軸 (長尺フィルム の長手方向）に対して任意の斜め方向に設定できる。ここで、第 1の光学補償層の遅 相軸を偏光子の吸収軸に対して + 22° 〜+ 23° または 22° 〜一 23° 方向に 設定すると、第 2の光学補償層の遅相軸を偏光子の吸収軸と実質的に直交させれば よいことがわ力つた。当該遅相軸の方向は延伸方向に対応するので、上記ポリマー 層および基材シートの延伸は、横方向（幅方向：長手方向に対して直交する方向：偏 光子の吸収軸に直交する方向）に行えばよい。その結果、第 2の光学補償層の遅相 軸の方向を合わせるために打ち抜く必要がなぐロール toロールによる貼り合わせが 可能となり、製造効率がさらに改善される。
[0150] 次に、上記基材シート上に形成された上記第 2の光学補償層を上記第 1の光学補 償層の表面に転写する。転写方法は特に限定されず、例えば、基材シートに支持さ れた第 2の光学補償層を接着剤を介して第 1の光学補償層と貼り合わせることにより 行われる。接着剤としては、上記第 1の光学補償層の転写に用いられるものと同様の 接着剤（上記の B— 4項に記載）が用いられ得る。
[0151] 最後に、上記基材シートを上記第 2の光学補償層力 剥離すれば、上記第 1の光 学補償層と上記第 2の光学補償層との積層が完了する。このようにして、本発明の光 学フィルムが得られる。
[0152] B- 7.具体的な製造手順
図 3〜図 7を参照して、本発明の製造方法の具体的手順の一例について説明する 。なお、図 3〜図 7【こお!ヽて、符号 111、 111 '、 112、 112'、 115、 116、 117、 118 、 118'、 119、 119 'は、各層を形成するフィルムおよび Zまたは積層体を捲回する ロールである。
[0153] まず、偏光子の原料となる長尺のポリマーフィルムを準備し、上記 A— 4項に記載の ようにして染色、延伸等を行う。延伸は、長尺のポリマーフィルムについて、その長手 方向に連続的に行う。これによつて、図 3の斜視図に示すように、長手方向（延伸方 向：矢印 A方向）に吸収軸を有する長尺の偏光子 11が得られる。
[0154] 一方、図 4 (a)の斜視図に示すように、長尺の基材 16を準備し、その一方の表面に ラビンダロール 120によりラビング処理を行う。この際ラビングの方向は、基材 16の長 手方向とは異なる方向、例えば、 ± 22. 5° の方向とする。次いで、図 4 (b)の斜視図 に示すように、上記ラビング処理を施した基材 16上に、上記 B— 2および B— 3項に 記載のようにして第 1の光学補償層 13を形成する。この第 1の光学補償層 13は、ラビ ング方向に沿って液晶材料が配向するため、その遅相軸方向は、基材 16のラビング 方向と実質的に同一方向（矢印 B方向）となる。
[0155] 次いで、図 5 (a)の模式図に示すように、長尺の第 2の透明保護フィルム (第 2の保 護層となる） 15と、長尺の偏光子 11と、長尺の透明保護フィルム (保護層となる） 12と 、第 1の光学補償層 13および基材 16の積層体 121とを、矢印方向に送り出し、それ ぞれの長手方向を揃えた状態で接着剤等 (図示せず)によって貼り合わせ、積層体 1 23 'を形成する。さらに、図 5 (b)に示すように、積層体 123 '力ら基材 16を剥離して、 積層体 123 (第 2の保護層 15、偏光子 11、保護層 12および第 1の光学補償層 13)を 形成する。なお、図 5 (a)において、符号 122は、フィルム同士を貼り合わせるための ガイドロールを示す（図 6、図 7においても同様)。
[0156] さらに、図 6 (a)の模式図に示すように、長尺の積層体 125 (基材シート 26に第 2の 光学補償層 14が支持されたもの)を準備し、これと積層体 123 (第 2の保護層 15、偏 光子 11、保護層 12および第 1の光学補償層 13)とを、矢印方向に送り出し、それぞ れの長手方向を揃えた状態で接着剤等（図示せず）によって貼り合わせる。このよう に、本発明によれば、非常に薄い第 1および第 2の光学補償層をいわゆるロール to口 ールで貼り合わせることが可能となり、製造効率が格段に向上し得る。
[0157] 最後に、図 6 (b)に示すように基材シート 26を剥離して、本発明の光学フィルム 10 が得られる。
[0158] 本発明の製造方法の具体的手順の別の一例について説明する。
[0159] 上記と同様、図 3の斜視図に示すように、長尺の偏光子 11を製造する。
[0160] 一方、図 4 (a)の斜視図に示すように、長尺の基材 16を準備し、その一方の表面に ラビンダロール 120によりラビング処理を行う。この際ラビングの方向は、基材 16の長 手方向に対して所定の角度を有する方向、例えば、 ± 22. 5° の方向とする。次い で、図 4 (b)の斜視図に示すように、上記ラビング処理を施した基材 16上に、上記 B —2および B— 3項に記載のようにして第 1の光学補償層 13を形成する。この第 1の 光学補償層 13は、ラビング方向に沿って液晶材料が配向するため、その遅相軸方 向は、基材 16のラビング方向と実質的に同一方向（矢印 B方向）となる。 [0161] 次いで、図 7 (a)の模式図に示すように、長尺の第 2の透明保護フィルム (第 2の保 護層となる） 15と、偏光子 11と、長尺の透明保護フィルム (保護層となる） 12とを、矢 印方向に送り出し、それぞれの長手方向を揃えた状態で接着剤等（図示せず）によ つて貼り合わせ、積層体 124を形成する。次いで、図 7 (b)の模式図に示すように積 層体 124と第 1の光学補償層 13および基材 16の積層体 121とを、矢印方向に送り 出し、それぞれの長手方向を揃えた状態で接着剤等（図示せず）によって貼り合わせ 、積層体 123'を形成する。さらに、図 5 (b)に示すように、積層体 123'から基材 16を 剥離して、積層体 123 (第 2の保護層 15、偏光子 11、保護層 12および第 1の光学補 償層 13)を形成する。
[0162] 次いで、図 6 (a)の模式図に示すように、長尺の積層体 125 (基材シート 26に第 2の 光学補償層 14が支持されたもの)を準備し、これと積層体 123 (第 2の保護層 15、偏 光子 11、保護層 12および第 1の光学補償層 13)とを、矢印方向に送り出し、それぞ れの長手方向を揃えた状態で接着剤等 (図示せず)によって貼り合わせる。最後に、 図 6 (b)に示すように基材シート 26を剥離して、本発明の光学フィルム 10が得られる
[0163] C.光学フィルムの用途
本発明の光学フィルムは、各種画像表示装置 (例えば、液晶表示装置、自発光型 表示装置）に好適に使用され得る。適用可能な画像表示装置の具体例としては、液 晶表示装置、 ELディスプレイ、プラズマディスプレイ (PD)、電界放出ディスプレイ (F ED : Field Emission Display)が挙げられる。本発明の光学フィルムを液晶表示 装置に用いる場合には、例えば、黒表示における光漏れ防止および視野角補償に 有用である。本発明の光学フィルムは、 VAモードの液晶表示装置に好適に用いら れ、反射型および半透過型の VAモードの液晶表示装置に特に好適に用いられる。 また、本発明の光学フィルムを ELディスプレイに用いる場合には、例えば、電極反射 防止に有用である。
[0164] D.画像表示装置
本発明の画像表示装置の一例として、液晶表示装置について説明する。ここでは、 液晶表示装置に用いられる液晶パネルについて説明する。液晶表示装置のその他 の構成については、目的に応じて任意の適切な構成が採用され得る。本発明におい ては、 VAモードの液晶表示装置が好ましぐ反射型および半透過型の VAモードの 液晶表示装置が特に好ましい。図 8は、本発明の好ましい実施形態による液晶パネ ルの概略断面図である。ここでは、反射型の液晶表示装置用液晶パネルを説明する 。液晶パネル 100は、液晶セル 20と、液晶セル 20の上側に配置された位相差板 30 と、位相差板 30の上側に配置された偏光板 10とを備える。上記偏光板 10として、上 記 A項および B項で説明した本発明の光学フィルムが好適に用いられる。位相差板 3 0としては、目的および液晶セルの配向モードに応じて任意の適切な位相差板が採 用され得る。目的および液晶セルの配向モードによっては、位相差板 30は省略され 得る。また、本発明の光学フィルムを偏光板 10として用いる場合には、偏光板 10の みで良好な光学補償が行われるので、位相差板 30は省略され得る。液晶セル 20は 、一対のガラス基板 21、 21 'と、該基板間に配された表示媒体としての液晶層 22とを 有する。下基板 21 'の液晶層 22側には、反射電極 23が設けられている。上基板 21 には、カラーフィルター（図示せず）が設けられている。基板 21、 21 'の間隔 (セルギ ヤップ）は、スぺーサー 24によって制御されている。
例えば、反射型 VAモードの場合には、このような液晶表示装置 100は、電圧無印 加時には、液晶分子は基板 21、 21 '面に垂直に配向する。このような垂直配向は、 垂直配向膜 (図示せず)を形成した基板間に負の誘電率異方性を有するネマテイツ ク液晶を配することにより実現され得る。このような状態で、偏光板 10を通過した直線 偏光の光を上基板 21の面力も液晶層 22に入射させると、入射光は垂直配向してい る液晶分子の長軸の方向に沿って進む。液晶分子の長軸方向には複屈折が生じな いため入射光は偏光方位を変えずに進み、反射電極 23で反射されて再び液晶層 2 2を通過し、上基板 21から出射される。出射光の偏光状態は入射時と変わらないの で、当該出射光は偏光板 10を透過し、明状態の表示が得られる。電極間に電圧が 印加されると、液晶分子の長軸が基板面に平行に配向する。この状態の液晶層 22 に入射した直線偏光の光に対して液晶分子は複屈折性を示し、入射光の偏光状態 は液晶分子の傾きに応じて変化する。所定の最大電圧印加時において、反射電極 2 3で反射し上基板から出射された光は、例えばその偏光方位が 90° 回転させられた 直線偏光となるので、偏光板 10で吸収されて暗状態の表示が得られる。再び電圧無 印加状態にすると配向規制力により明状態の表示に戻すことができる。また、印加電 圧を変化させて液晶分子の傾きを制御して偏光板 10からの透過光強度を変化させ ることにより階調表示が可能となる。
[0166] 以下、実施例によって本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施 例によって限定されるものではない。実施例における各特性の測定方法は以下の通 りである。
[0167] (1)位相差の測定
試料フィルムの屈折率 nx、 nyおよび nzを、自動複屈折測定装置 (王子計測機器株 式会社製， 自動複屈折計 KOBRA31PR)により計測し、面内位相差 Reおよび厚み 方向位相差 Rthを算出した。測定温度は 23°C、測定波長は 590nmであった。 (2)厚みの測定
第 1の光学補償層の厚みは大塚電子製 MCPD2000を用いて、干渉膜厚測定法 によって測定した。その他の各種フィルムの厚みは、ダイヤルゲージを用いて測定し た。
実施例 1
[0168] a.配向基材 (A— 1)の作製
PETフィルム（厚み 40 μ m)を、ラビング布を用いて、ラビング角度 = 22. 5° でラビ ングし、配向基材 (A- 1)を作製した。
[0169] b.第 1の光学補償層 (B—1)Z配向基材 (A— 1)力もなる積層体 (XI)の作製
まず、ネマチック液晶相を示す重合性液晶（BASF社製：商品名 PaliocolorLC24 2) 10gと、当該重合性液晶化合物に対する光重合開始剤（チバスぺシャリティーケミ カルズ社製：商品名ィルガキュア 907) 0. 5gとを、トルエン 40gに溶解して、液晶組 成物 (塗工液)を調製した。そして、上記のように作製した配向基材 (A—1)上に、当 該塗工液をバーコ一ターにより塗工した後、 90°Cで 2分間加熱乾燥することによって 液晶を配向させた。このようにして形成された液晶層に、メタルノ、ライドランプを用い て 20mi/cm2の光を照射し、当該液晶層を硬化させることによって、 nx>ny=nzの 屈折率特性を有する正の一軸フィルムである第 1の光学補償層 (B- 1)を形成した。 第 1の光学補償層 (B- 1)の厚みおよび位相差は、塗工液の塗工量を変化させるこ とにより調整し、厚みは 2. 2 m、位相差は 250nmであった。
[0170] c第 1の光学補償層 (B—D ZTACZ偏光子 ZTACからなる積層体 (Y1)の作製 ポリビュルアルコールフィルムを、ヨウ素を含む水溶液中で染色した後、ホウ酸を含 む水溶液中で速比の異なるロール間にて 6倍に一軸延伸して偏光子を得た。図 5 (a )に示す製造手順によって、 TACフィルム（厚み 40 μ m)、偏光子、 TACフィルム（厚 み 40 μ m)、配向基材 (A- 1)と第 1の光学補償層 (B- 1)からなる積層体 (XI)を、 接着剤 (TACフィルムと第 1の光学補償層 (B- 1)との間はイソシァネート系接着剤 ( 厚み 5 μ m) )を用いて、積層（偏光子の吸収軸方向が長手方向となり、偏光子の吸 収軸と第 1の光学補償層（B— 1)の遅相軸とのなす角度が 22. 5° および 22. 5° となる）し、最後に図 5 (b)に示すように配向基材 (A—1)を剥離して、第 1の光学補 償層 (B- 1) ZTACZ偏光子 ZTACからなる積層体 (Y1)を得た。なお、ここで 、う 積層体 (Y1)は、偏光子の吸収軸と第 1の光学補償層 (B- 1)の遅相軸とのなす角 度が 22. 5° となっている積層体と、偏光子の吸収軸と第 1の光学補償層（B— 1)の 遅相軸とのなす角度が— 22. 5° となっている積層体との両方を含めた総称である。
[0171] d.第 2の光学補償層 (C—1) Zゼォノア力 なる積層体 (Z1)の作製
溶媒としてシクロへキサノンを用いて 2, 2，一ビス（3, 4 ジカルボキシフエ-ル）へ キサフルォロプロパン）および 2, 2' ビス（トリフルォロメチル） 4, 4'ージアミノビフ ェ -ル)力ら合成されたポリイミドを 15重量％で調製した溶液を、 25 μ mの厚みで日 本ゼオン製の商品名「ゼォノア」（延伸前の厚みは 100 μ m)に塗工し、 120°Cで 5mi n乾燥処理した後、得られたフィルムを幅方向に自由端一軸延伸で 140°Cで 1. 4倍 に延伸した。このようにして、第 2の光学補償層（C— 1)Zゼォノア力もなる積層体 (Z 1)を作製した。
ポリイミド層（第 2の光学補償層（C 1) )単体の位相差を王子計測製の KOBRA2 1— ADHを使用して測定したところ、 nx>ny>nzの関係を満たし、面内位相差 Re 力 30nm、厚み方向位相差 Rthが 182nm、 Nz係数（Nz= (nx— nz)Z(nx— ny) )は 1. 4であった。
[0172] e.光学フィルムの作製 第 1の光学補償層 (B- 1) ZTACZ偏光子 ZTACからなる積層体 (Y1)、第 2の 光学補償層 (C— 1) Zゼォノアからなる積層体 (Z1)を、ウレタン系接着剤 (厚み 5 μ m)を介して、図 6 (a)に示す製造手順によって積層 (偏光子の吸収軸方向が長手方 向となり、偏光子の吸収軸と第 2の光学補償層 (C- 1)の遅相軸とのなす角度が 90 ° となる）し、最後に図 6 (b)に示す製造手順によって「ゼォノア」を剥離することで、 第 2の光学補償層 (C 1) Z第 1の光学補償層 (B— 1) ZTACZ偏光子 ZTACか らなる光学フィルム（1)を得た。さらに、第 2の光学補償層の上に厚み 20 /z mの粘着 剤を貼り合わせて粘着層を形成し、光学フィルム（1A)を作製した。
実施例 2
[0173] 「a.配向基材 (A— 1)の作製」と同様にして、配向基材 (A— 2)を作製した。「b.第 1の光学補償層 (B- 1) Z配向基材 (A— 1)からなる積層体 (XI)の作製」と同様に して、第 1の光学補償層 (B― 2) Z配向基材 (A— 2)からなる積層体 (X2)を作製し た。「に第 1の光学補償層（B— D ZTACZ偏光子 ZTACからなる積層体 (Y1)の 作製」と同様にして、第 1の光学補償層 (B— 2) ZTACZ偏光子 ZTACカゝらなる積 層体 (Y2)を作製した。
[0174] d.第 2の光学補償層 (C— 2) Zゼォノアカゝらなる積層体 (Z2)の作製
溶媒としてシクロへキサノンを用いて 2, 2，一ビス（3, 4 ジカルボキシフエ-ル）へ キサフルォロプロパン）および 2, 2' ビス（トリフルォロメチル） 4, 4'ージアミノビフ ェ -ル)力ら合成されたポリイミドを 10重量％で調製した溶液を、 30 μ mの厚みで日 本ゼオン製の商品名「ゼォノア」（延伸前の厚みは 100 μ m)に塗工し、 120°Cで 5mi n乾燥処理した。このポリイミド薄膜の厚みを光干渉法によって測定したところ、 2. 9 mであった。得られたフィルムを幅方向に固定端一軸延伸で 150°Cで 1. 73倍に 延伸した。このようにして、第 2の光学補償層（C— 2) Zゼォノア力 なる積層体 (Z2) を作製した。
ポリイミド層（第 2の光学補償層（C 2) )単体の位相差を王子計測製の KOBRA2 1— ADHを使用して測定したところ、 nx>ny>nzの関係を満たし、面内位相差 Re 力 l21nm、厚み方向位相差 Rthが 197nm、 Nz係数（Nz= (nx— nz)Z(nx— ny) )は 1. 63であった。 [0175] e.光学フィルムの作製
実施例 1と同様に、積層体 (Y2)と積層体 (Z2)を積層し、「ゼォノア」を剥離すること で、第 2の光学補償層 (C 2) Z第 1の光学補償層 (B— 2) ZTACZ偏光子 ZTA C力もなる光学フィルム（2)を得た。さらに、第 2の光学補償層の上に厚み 20 /z mの 粘着剤を貼り合わせて粘着層を形成し、光学フィルム (2A)を作製した。
実施例 3
[0176] 「a.配向基材 (A— 1)の作製」と同様にして、配向基材 (A— 3)を作製した。「b.第 1の光学補償層 (B- 1) Z配向基材 (A— 1)からなる積層体 (XI)の作製」と同様に して、第 1の光学補償層 (B― 3) Z配向基材 (A— 3)からなる積層体 (X3)を作製し た。「に第 1の光学補償層（B— D ZTACZ偏光子 ZTACからなる積層体 (Y1)の 作製」と同様にして、第 1の光学補償層 (B— 3) ZTACZ偏光子 ZTACカゝらなる積 層体 (Y3)を作製した。
[0177] d.第 2の光学補償層 (C— 3) Zゼォノアカゝらなる積層体 (Z3)の作製
溶媒としてシクロへキサノンを用いて 2, 2，一ビス（3, 4 ジカルボキシフエ-ル）へ キサフルォロプロパン）および 2, 2' ビス（トリフルォロメチル） 4, 4'ージアミノビフ ェ -ル)力ら合成されたポリイミドを 15重量％で調製した溶液を、 31 mの厚みで日 本ゼオン製の商品名「ゼォノア」（延伸前の厚みは 100 μ m)に塗工し、 120°Cで 5mi n乾燥処理した。このポリイミド薄膜の厚みを光干渉法によって測定したところ、 3. 1 mであった。得られたフィルムを幅方向に固定端一軸延伸で 150°Cで 1. 55倍に 延伸した。このようにして、第 2の光学補償層（C— 3) Zゼォノア力 なる積層体 (Z3) を作製した。
ポリイミド層（第 2の光学補償層（C 3) )単体の位相差を王子計測製の KOBRA2 1— ADHを使用して測定したところ、 nx>ny>nzの関係を満たし、面内位相差 Re 力 22nm、厚み方向位相差 Rthが 205nm、 Nz係数（Nz= (nx— nz)Z(nx— ny) )は 1. 68であった。
[0178] e.光学フィルムの作製
実施例 1と同様に、積層体 (Y3)と積層体 (Z3)を積層し、「ゼォノア」を剥離すること で、第 2の光学補償層 (C 3) Z第 1の光学補償層 (B— 3) ZTACZ偏光子 ZTA C力もなる光学フィルム（3)を得た。さらに、第 2の光学補償層の上に厚み 20 /z mの 粘着剤を貼り合わせて粘着層を形成し、光学フィルム (3A)を作製した。
実施例 4
[0179] 「a.配向基材 (A— 1)の作製」と同様にして、配向基材 (A— 4)を作製した。「b.第 1の光学補償層 (B- 1) Z配向基材 (A— 1)からなる積層体 (XI)の作製」と同様に して、第 1の光学補償層 (B— 4) Z配向基材 (A— 4)カゝらなる積層体 (X4)を作製し た。「に第 1の光学補償層（B— D ZTACZ偏光子 ZTACからなる積層体 (Y1)の 作製」と同様にして、第 1の光学補償層 (B— 4) ZTACZ偏光子 ZTACカゝらなる積 層体 (Y4)を作製した。
[0180] d.第 2の光学補償層（C—4) Zゼォノアカゝらなる積層体 (Z4)の作製
溶媒としてシクロへキサノンを用いて 2, 2，一ビス（3, 4 ジカルボキシフエ-ル）へ キサフルォロプロパン）および 2, 2' ビス（トリフルォロメチル） 4, 4'ージアミノビフ ェ -ル)力ら合成されたポリイミドを 15重量％で調製した溶液を、 33 μ mの厚みで日 本ゼオン製の商品名「ゼォノア」（延伸前の厚みは 100 μ m)に塗工し、 120°Cで 5mi n乾燥処理した。このポリイミド薄膜の厚みを光干渉法によって測定したところ、 3. 3 mであった。得られたフィルムを幅方向に固定端一軸延伸で 150°Cで 1. 46倍に 延伸した。このようにして、第 2の光学補償層（C— 4) Zゼォノア力もなる積層体 (Z4) を作製した。
ポリイミド層（第 2の光学補償層（C 4) )単体の位相差を王子計測製の KOBRA2 1— ADHを使用して測定したところ、 nx>ny>nzの関係を満たし、面内位相差 Re 力 l9nm、厚み方向位相差 Rthが 376nm、 Nz係数（Nz= (nx— nz)Z(nx— ny) )は 1. 89であった。
[0181] e.光学フィルムの作製
実施例 1と同様に、積層体 (Y4)と積層体 (Z4)を積層し、「ゼォノア」を剥離すること で、第 2の光学補償層 (C 4) Z第 1の光学補償層 (B— 4) ZTACZ偏光子 ZTA C力もなる光学フィルム (4)を得た。さらに、第 2の光学補償層の上に厚み 20 /z mの 粘着剤を貼り合わせて粘着層を形成し、光学フィルム (4A)を作製した。
実施例 5 [0182] 「a.配向基材 (A— 1)の作製」と同様にして、配向基材 (A— 5)を作製した。「b.第 1の光学補償層 (B- 1) Z配向基材 (A— 1)からなる積層体 (XI)の作製」と同様に して、第 1の光学補償層 (B― 5) Z配向基材 (A— 5)からなる積層体 (X5)を作製し た。「に第 1の光学補償層（B— D ZTACZ偏光子 ZTACからなる積層体 (Y1)の 作製」と同様にして、第 1の光学補償層 (B— 5) ZTACZ偏光子 ZTACカゝらなる積 層体 (Y5)を作製した。
[0183] d.第 2の光学補償層（C— 5) Zゼォノアカゝらなる積層体 (Z5)の作製
溶媒としてシクロへキサノンを用いて 2, 2，一ビス（3, 4 ジカルボキシフエ-ル）へ キサフルォロプロパン）および 2, 2' ビス（トリフルォロメチル） 4, 4 'ージアミノビフ ェ -ル)力ら合成されたポリイミドを 15重量％で調製した溶液を、 19 μ mの厚みで日 本ゼオン製の商品名「ゼォノア」（延伸前の厚みは 100 μ m)に塗工し、 120°Cで 5mi n乾燥処理した。得られたフィルムを幅方向に自由端一軸延伸で 150°Cで 1. 85倍 に延伸した。このようにして、第 2の光学補償層（C— 5) Zゼォノア力もなる積層体 (Z 5)を作製した。
ポリイミド層（第 2の光学補償層（C 5) )単体の位相差を王子計測製の KOBRA2 1— ADHを使用して測定したところ、 nx>ny>nzの関係を満たし、面内位相差 Re 力 22nm、厚み方向位相差 Rthが 142nm、 Nz係数（Nz= (nx— nz)Z(nx— ny) )は 1. 16であった。
[0184] e.光学フィルムの作製
実施例 1と同様に、積層体 (Y5)と積層体 (Z5)を積層し、「ゼォノア」を剥離すること で、第 2の光学補償層 (C 5) Z第 1の光学補償層 (B— 5) ZTACZ偏光子 ZTA C力もなる光学フィルム（5)を得た。さらに、第 2の光学補償層の上に厚み 20 /z mの 粘着剤を貼り合わせて粘着層を形成し、光学フィルム (5A)を作製した。
実施例 6
[0185] 「a.配向基材 (A— 1)の作製」と同様にして、配向基材 (A— 6)を作製した。「b.第 1の光学補償層 (B— 1) Z配向基材 (A— 1)からなる積層体 (XI)の作製」と同様に して、第 1の光学補償層 (B― 6) Z配向基材 (A— 6)からなる積層体 (X6)を作製し た。「に第 1の光学補償層（B— D ZTACZ偏光子 ZTACからなる積層体 (Y1)の 作製」と同様にして、第 1の光学補償層 (B— 6) ZTACZ偏光子 ZTACカゝらなる積 層体 (Y6)を作製した。
[0186] d.第 2の光学補償層（C— 6) Zゼォノアカゝらなる積層体 (Z6)の作製
溶媒としてシクロへキサノンを用いて 2, 2，一ビス（3, 4 ジカルボキシフエ-ル）へ キサフルォロプロパン）および 2, 2' ビス（トリフルォロメチル） 4, 4'ージアミノビフ ェ -ル)力ら合成されたポリイミドを 15重量％で調製した溶液を、 36 μ mの厚みで日 本ゼオン製の商品名「ゼォノア」（延伸前の厚みは 100 μ m)に塗工し、 120°Cで 5mi n乾燥処理した。得られたフィルムを幅方向に固定端一軸延伸で 150°Cで 1. 38倍 に延伸した。このようにして、第 2の光学補償層（C— 6) Zゼォノア力もなる積層体 (Z 6)を作製した。
ポリイミド層（第 2の光学補償層（C 6) )単体の位相差を王子計測製の KOBRA2 1— ADHを使用して測定したところ、 nx>ny>nzの関係を満たし、面内位相差 Re 力 l24nm、厚み方向位相差 Rthが 261nm、 Nz係数（Nz= (nx— nz)Z(nx— ny) )は 2. 1であった。
[0187] e.光学フィルムの作製
実施例 1と同様に、積層体 (Y6)と積層体 (Z6)を積層し、「ゼォノア」を剥離すること で、第 2の光学補償層 (C 6) Z第 1の光学補償層 (B— 6) ZTACZ偏光子 ZTA C力もなる光学フィルム（6)を得た。さらに、第 2の光学補償層の上に厚み 20 /z mの 粘着剤を貼り合わせて粘着層を形成し、光学フィルム (6A)を作製した。
実施例 7
[0188] 実施例 1において、第 1の光学補償層（B— 1)に代えて「ゼォノア」の一軸延伸フィ ルムを第 1の光学補償層 (B— 7)として用い、第 2の光学補償層 (C— 1)に代えて「ゼ ォノア」の二軸延伸フィルムを第 2の光学補償層 (C— 7)として用い、第 1の光学補償 層および第 2の光学補償層と偏光板 (TACZ偏光子 ZTAC)との貼り合わせに厚み 12 /z mの粘着剤を用いた以外は、実施例 1と同様に行い、光学フィルム（7)および 粘着剤層付きの光学フィルム (7A)を作製した。
第 1の光学補償層（B— 7)の面内位相差 Reは 232nm、 Nz係数 (Nz= (nx— nz) Z(nx—ny) )は 1. 01であった。 第 2の光学補償層（C— 7)の面内位相差 Reは 119nm、 Nz係数 (Nz= (nx— nz) Z(nx—ny) )は 1. 6であった。
実施例 8
[0189] 実施例 1において、第 2の光学補償層 (C- 1)に代えて「ゼォノア」の二軸延伸フィ ルムを第 2の光学補償層 (C-8)として用い、第 1の光学補償層および第 2の光学補 償層と偏光板 (TACZ偏光子 ZTAC)との貼り合わせに厚み 12 mの粘着剤を用 いた以外は、実施例 1と同様に行い、光学フィルム（8)および粘着剤層付きの光学フ イルム（8A)を作製した。
第 2の光学補償層（C— 8)の面内位相差 Reは 119nm、 Nz係数 (Nz= (nx— nz) Z(nx—ny) )は 1. 6であった。
実施例 9
[0190] 実施例 1において、第 2の光学補償層 (C- 1)に代えてポリカーボネートのニ軸延 伸フィルムを第 2の光学補償層 (C-9)として用い、第 1の光学補償層および第 2の 光学補償層と偏光板 (TACZ偏光子 ZTAC)との貼り合わせに厚み 12 mの粘着 剤を用いた以外は、実施例 1と同様に行い、光学フィルム（9)および粘着剤層付きの 光学フィルム（9A)を作製した。
第 2の光学補償層（C— 9)の面内位相差 Reは 122nm、 Nz係数 (Nz= (nx— nz) Z(nx—ny) )は 1. 6であった。
[0191] 〔評価試験 1〕
実施例で得られた光学フィルムの厚みを測定した。測定は、デジタルマイクロメータ 一を用い、 n= 5の平均を測定値とした。結果を表 1に示す。
[表 1] 光学フィルム フィルムの)^ ( πΐ)
魏例 1 (1) 1 10
纖例 2 (2) 109
難例 3 (3) 1 12
鵷例 4 (4) 107
鵷例 5 (5) 108
麵例 6 (6) 1 14
難例 7 (7) 212
戴例 8 (8) 168
鐵例 9 (9) 161 表 1より、実施例 1〜6の光学フィルムは、実施例 7〜9の光学フィルムに比べて一層 の薄型化が達成できて 、ることが判る。
〔評価試験 2〕
実施例で得られた光学フィルムを VA— LCDに実装し、コントラスト比を測定した。 具体的には、第 1の光学補償層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度が + 22. 5° の光学フィルムを上板に用い、粘着剤を介して、市販の VA— LCDに貼り合わせ た。次に、第 1の光学補償層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度が— 22.5° の光学フィルムを下板に用い、上板の光学フィルムにおける偏光子の吸収軸と下板 の光学フィルムにおける偏光子の吸収軸とのなす角度が 90° となるように、粘着剤を 介して、市販の VA— LCDに貼り合わせた。
得られた LCDパネルの輝度および色度を、トプコン社製輝度計 BM— 5 Aを用いて 、液晶を駆動させて測定した。 LCDパネルの黒と白を表示させ、正面方向から中央 部の輝度を測定し、正面コントラスト比を算出した。また、 LCDパネルの上下左右 60 ° 方向からのコントラスト比も算出した。
結果を表 2に示す。
[表 2] コントラス卜比
正面 上 60° 下 60。 右 60β 左 60° 魏例 1 355 163 152 161 157 難例 2 367 172 174 180 181 雄例 3 347 168 162 169 171 麵例 4 358 163 157 162 154 魏例 5 351 99 102 106 102 魏例 6 345 121 126 130 125 雄例 7 441 194 181 198 192 趣例 8 245 97 95 102 96 難例 9 375 175 177 182 188 表 2より、正面コントラスト比は、実施例 8が他の実施例に比べて劣っていることが判 る（実施例 8以外における正面コントラスト比は 300以上が実現できている)。また、実 施例 8では黒表示で青く色付きが見られた (実施例 8以外では黒表示で色付きは見 られなかった）。
また、正面コントラスト比に対する斜め方向（上下左右 60° )コントラスト比の低下は 、実施例 1〜6が実施例 7〜9よりも少ないことが判る。
〔評価試験 3〕
評価試験 2で作製した LCDパネルを 70°Cのオーブンに 15分間投入し、電圧無印 加の状態 =黒状態で取り出し後、ただちにライトボックス上に置いて輝度を測定した 。結果を表 3に示す。
[表 3]
Figure imgf000053_0001
表 3より、実施例 9は黒表示での高温透過率が他の約 3倍となっており、高温での光 抜けが多いことが判る。すなわち、実施例 9では熱ムラが大きいことが判る。
産業上の利用可能性
本発明の光学フィルムは、各種画像表示装置 (例えば、液晶表示装置、自発光型 表示装置）に好適に使用され得る。

Claims

請求の範囲
[1] 配向処理した基材に液晶材料を含有する塗工液を塗工する工程と；
該塗工された液晶材料を該液晶材料が液晶相を示す温度で処理して配向させて、 該基材の表面に第 1の光学補償層を形成する工程と；
該基材表面に形成された該第 1の光学補償層を透明保護フィルム (T)の表面に転 写する工程と；
透明保護フィルム (T)の表面に偏光子を積層する工程と；
該第 1の光学補償層の表面に第 2の光学補償層を形成する工程とを含み、 該偏光子と該第 1の光学補償層が、互いに透明保護フィルム (T)を介して反対側 に配置され、
該第 1の光学補償層が、該第 1の光学補償層の遅相軸と該偏光子の吸収軸とのな す角度が + 17° 〜+ 27° または 17° 〜一 27° となるように形成され、
該第 2の光学補償層が、該第 2の光学補償層の遅相軸と該偏光子の吸収軸とのな す角度が + 85° 〜+ 95° となるように形成される、
光学フィルムの製造方法。
[2] 前記液晶材料が重合性モノマーおよび Zまたは架橋性モノマーを含み、前記液晶 材料の配向工程が、重合処理および Zまたは架橋処理を行うことをさらに含む、請求 項 1に記載の製造方法。
[3] 前記重合処理および Zまたは架橋処理が、加熱または光照射により行われる、請 求項 2に記載の製造方法。
[4] 前記第 2の光学補償層が、その Nz係数が 1. 2≤Nz≤ 2となるようにして形成される
、請求項 1から 3までの 、ずれかに記載の製造方法。
[5] 前記第 1の光学補償層の表面に第 2の光学補償層を形成する工程が、
ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテノレケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドか らなる群力 選択される少なくとも 1つのポリマーを含む塗工液を基材シートの表面に 塗工する工程と、
該塗工液を乾燥して該基材シート表面にポリマー層を形成する工程と、 該ポリマー層を該基材シートごと加熱および延伸して、該基材シート上に該第 2の 光学補償層を形成する工程と、
該基材シート上に形成された第 2の光学補償層を該第 1の光学補償層の表面に貼 り付ける工程と、
該基材シートを該第 2の光学補償層から剥離する工程と
を含む、請求項 1から 4までの 、ずれかに記載の製造方法。
[6] 前記基材シート上に前記第 2の光学補償層を形成する工程において、前記ポリマ 一層が該基材シートごと 1. 2倍〜 3倍の延伸倍率で延伸される、請求項 5に記載の 製造方法。
[7] 前記基材シート上に前記第 2の光学補償層を形成する工程において、前記ポリマ 一層が該基材シートごと幅方向に延伸される、請求項 5または 6に記載の製造方法。
[8] 前記第 2の光学補償層の厚みが 1 μ m〜10 mである、請求項 1から 7までのいず れかに記載の製造方法。
[9] 前記第 1の光学補償層が λ Ζ2板である、請求項 1から 8までのいずれかに記載の 製造方法。
[10] 前記第 2の光学補償層が λ Ζ4板である、請求項 1から 9までのいずれかに記載の 製造方法。
[11] 請求項 1から 10までのいずれかに記載の製造方法により得られる、光学フィルム。
[12] 請求項 11に記載の光学フィルムを含む、画像表示装置。
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