WO2006087881A1 - 浮上分離装置および浮上分離方法 - Google Patents

浮上分離装置および浮上分離方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2006087881A1
WO2006087881A1 PCT/JP2006/300582 JP2006300582W WO2006087881A1 WO 2006087881 A1 WO2006087881 A1 WO 2006087881A1 JP 2006300582 W JP2006300582 W JP 2006300582W WO 2006087881 A1 WO2006087881 A1 WO 2006087881A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
skimmer
foreign matter
processing liquid
liquid
scum box
Prior art date
Application number
PCT/JP2006/300582
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Saburou Tanaka
Original Assignee
Honda Motor Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Honda Motor Co., Ltd. filed Critical Honda Motor Co., Ltd.
Priority to JP2007503595A priority Critical patent/JP4928438B2/ja
Priority to CN2006800055968A priority patent/CN101128396B/zh
Publication of WO2006087881A1 publication Critical patent/WO2006087881A1/ja

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/40Devices for separating or removing fatty or oily substances or similar floating material

Definitions

  • the present invention relates to a levitation separation apparatus and a levitation separation method for separating foreign matter from a processing liquid in which floating foreign matter is mixed.
  • production lines such as automobiles have a coating process for coating a workpiece such as a car body.
  • paint is applied to the workpiece by spraying paint from a painting gun at the painting booth.
  • surplus paint that has not been applied to the workpiece is lowered to the floor by air flowing down in the painting booth.
  • the floor surface of the painting booth is provided with a surplus paint collecting section having an industrial water supply channel, a drain channel, and an inclined surface for collecting the industrial water and surplus paint in the drain channel.
  • the surplus paint is washed away with industrial water (hereinafter referred to as “treatment liquid”), collected, and discharged to the floating separation tank of the floating separation apparatus arranged outside the painting booth.
  • treatment liquid industrial water
  • a flotation separation device that separates surplus paint from the treatment liquid as paint sludge (hereinafter referred to as "foreign matter")
  • foreign matter one that has two separation tanks, a first flotation separation tank and a second flotation separation tank. It has been.
  • the processing liquid containing the foreign matter is supplied to the first floating separation tank to which the flocculant has been added in advance, and the foreign matter is floated and separated.
  • the processing solution containing foreign substances in the first levitation separation tank is introduced into the second levitation separation tank, and the aggregation of foreign substances, that is, the separation of foreign substances from the processing liquid is further promoted.
  • FIG. 6 is an enlarged view of a main part showing a skimmer installation state in a conventional levitation separator.
  • a scum box 200 is arranged in the second levitation separation tank so that an opening for discharging foreign matter to the outside is located near the liquid surface, and the scum box 200 is swung toward the opening of the scum box 200.
  • a skimmer 100 is provided to attract foreign substances that have floated on the liquid surface. However, the foreign matter easily adheres to the weir of the scum box 200 having high adhesiveness. In order to maintain the normal operation of the device, a great deal of labor is required to periodically remove foreign matter adhering to the skimmer 100 or the like.
  • the liquid level in the levitation separation tank is preferably set higher than the weir, but in that case, the treatment liquid containing foreign matter is always present. Will flow into the scum box 200.
  • the processing liquid containing foreign matter is supplied to the foreign matter filtration tank provided on the downstream side of the scum box 200, and the processing liquid overflows beyond the processing capacity of the mesh wire mesh in the tank.
  • the foreign matter is crushed by the skimmer 100 and the scum box 200, and the skimmer 100 and the scum box 20 There is a problem that it adheres to 0 and accumulates and enlarges, deteriorating the foreign substance removal performance
  • the present inventors have intensively studied to solve the above problems. As a result, a floating separation apparatus and a floating separation method that prevent excessive treatment liquid from flowing out and prevent foreign matter from adhering to the scum box weir have been realized, and the present invention has been completed.
  • a floating separation tank in which processing liquid containing floating foreign substances is stored, and swirls along the liquid level of the processing liquid in the floating separation tank, and floats to the liquid level.
  • the swirling skimmer moves away from the scum box in the swiveling direction, the water level of the processing liquid is lowered, and when the skimmer approaches the scum box in the swirling direction, the processing liquid is separated.
  • a flotation separator characterized by comprising a water level switching adjustment means for raising the water level.
  • the water level switching adjusting means is provided on the discharge path, a discharge path for discharging the processing liquid from the floating separation tank to the outside, and at least one skimmer detection switch for detecting the position of the skimmer.
  • the floating separation apparatus according to [1] or [2], further comprising: an electromagnetic valve that opens and closes the discharge path using a detection signal from the skimmer detection switch.
  • the lowered water level is set below the weir, and the raised water level is set above the weir and below the upper end of the scum box [2] or The floating separation apparatus according to [3].
  • the water level of the processing liquid is lowered when the turning skimmer is separated from the scumbotter in the turning direction, and the water level of the processing liquid is raised when the skimmer approaches the scum box in the turning direction.
  • a floatation separation method characterized by removing the surface.
  • the water level switching adjusting means sends the processing liquid to the outside of the floating separation tank to lower the water level. For this reason, when the skimmer does not drop the foreign matter into the scum box, it is possible to prevent the processing liquid from being discarded from the scumbot and to prevent the excessive processing liquid from flowing out of the floating separation tank.
  • the skimmer When the skimmer approaches the scum box in the swiveling direction, it is sent to the outside of the levitation separation tank, and the control of the water level switching adjustment means to raise the water level of the processing liquid by stopping the outflow of the processing liquid. To do.
  • the water level switching adjustment means By adjusting the water level of the treatment liquid in this way by the water level switching adjustment means, when the turning skimmer squeezes the foreign matter into the scum box opening and drops it, the foreign matter becomes higher than the scum box weir. Floating on the liquid surface. For this reason, the skimmer can not crush the foreign matter and attach it to the scum box, and can efficiently drop the collected foreign matter into the opening for disposal.
  • the foreign matter that is attracted by the skimmer and floats on the liquid surface is Since the opening on the side where one approaches is made up of a weir formed lower than the other parts, it smoothly flows from the weir into the scum box.
  • the water level switching adjusting means detects when the skimmer is at a predetermined position by the skimmer detection switch, and the electromagnetic valve opens and closes the discharge path by a detection signal from the skimmer detection switch.
  • the processing liquid in the levitation separation tank can be discharged from the discharge path to the outside, or the discharge can be stopped.
  • the water level switching adjustment means opens the electromagnetic valve, discharges the processing liquid from the discharge path to the outside, lowers the water level, and the skimmer approaches the scum box in the swiveling direction.
  • the solenoid valve is closed to control to raise the water level of the processing liquid. Then, as the swimmering skimmer approaches the scumbotter weir, the water level rises, and the foreign matter that floats on the liquid surface can be drawn and the opening force of the scum box can be dropped. Since only the foreign matter is discarded, the time for discarding the processing solution containing a large amount of foreign matter can be reduced and the amount of the processing solution discarded can be reduced.
  • the width of the skimmer is set longer than the width of the weir. For this reason, when the skimmer passes over the weir, the skimmer slides on the front end of the side wall of the scum box located on the left and right of the weir, and the foreign matter that prevents the skimmer from contacting the upper surface of the weir is crushed by the weir. There is nothing.
  • the levitation separation apparatus and the levitation separation method of the present invention it is possible to prevent the treatment liquid from flowing out excessively when separating foreign matter from the treatment liquid containing foreign matter, and to prevent the scum box weir from flowing out. It is possible to prevent foreign matter from adhering.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing the overall configuration of a painting facility provided with a levitation separator according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is an enlarged schematic view of a main part of a flotation separation apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is an enlarged view of a main part showing a skimmer installation state of the levitation separator according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line XX in FIG.
  • FIG. 5 is a perspective view of a main part showing a floating separation apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is an enlarged view of a main part showing a skimmer installation state in a conventional levitation separator.
  • treatment liquid Industrial water is treated as a treatment liquid, and paint sludge, which is a surplus paint mixed in the treatment liquid, is described as a foreign material.
  • "foreign matter floating (floating) on the liquid level” and the equivalent expression are not only foreign matter floating on the surface of the liquid (above the liquid level), but also in the liquid (liquid level) (Below) can contain foreign substances.
  • a treatment liquid containing foreign substances that is floated and separated for reuse may be referred to as a “treatment liquid mixture”.
  • the painting facility 1 paints the vehicle body W with the painting robot 22 while conveying the vehicle body W with the transfer device 21, and lowers the surplus paint not applied to the vehicle body W onto the floor 23a of the painting booth 23.
  • the equipment is collected while being washed away with the processing liquid, and the paint mixed in the processing liquid is separated as foreign matter, and the processing liquid mixture is purified and circulated for reuse.
  • the painting equipment 1 consists of a painting device 2 that paints the vehicle body W and a levitating separation system A that separates foreign material from the processing liquid that contains excess paint (foreign material) that has not been applied to the vehicle body W. And a flow passage 8 for sending the processing liquid or the processing liquid mixture to desired places.
  • the coating device 2 sprays paint onto the painting booth 23 that can accommodate the vehicle body W, the conveyance device 21 that conveys the vehicle body W into the painting booth 23, and the vehicle body W that is conveyed by the conveyance device 21. And a painting robot 22 for performing painting work.
  • the transfer device 21 includes, for example, a rail 21a laid in the painting booth 23, a transfer carriage 21b on which a drive motor is mounted, and a sensor (not shown) that detects the amount of movement of the transfer carriage 21b. And a control device (not shown) for controlling the operation of the painting robot 22 and the conveyance of the conveyance carriage 21b.
  • the painting robot 22 is controlled by the data stored in the control device (not shown) based on the position of the transfer device 21, and paints the vehicle body w .
  • the paint spraying device has an arm provided with 22a.
  • the painting gun 22a sprays the paint stored in a tank (not shown) from the tip of the arm of the painting robot 22 through the paint supply pipe.
  • the coating booth 23 is for collecting the processing liquid containing the excess paint (foreign matter) discharged from the coating apparatus 2 while preventing the dispersion of the excess paint (foreign matter).
  • This painting booth 23 has an inclined floor 23a formed so that the lowered processing liquid is automatically collected at the drain 23b, and a drain 23b disposed at the lowest position of the floor 23a.
  • a ceiling surface 23c provided with an air ejection device 24 for lowering excess paint that has not been fixed to the vehicle body W by jetting air downward to the floor surface 23a.
  • the floor surface 23a is provided with a plurality of nozzles 81a that are installed at the opening end of the processing liquid supply path 81 for supplying the processing liquid for washing away the paint that has fallen on the floor surface 23a and that spray the processing liquid. .
  • the levitation separation system A separates the treatment liquid mixture containing foreign matter (excess paint) discharged from the coating device 2 into treatment liquid and foreign matter, and reprocesses the treatment liquid.
  • This is a system that can be used.
  • the levitation separation system A is separated by the first levitation separation device 3 that performs the first separation in which the foreign matter in the processing liquid mixture is levitated and separated into the foreign matter and the processing liquid, and the first levitation separation device 3.
  • the second flotation separation device 4 that performs the second separation to further separate the treatment liquid mixture (treatment liquid containing a large amount of foreign substances) into foreign substances and the treatment liquid, and this second flotation separation
  • a filtration tank 9 that performs a third separation in which the foreign matter separated by the apparatus 4 is dehydrated and filtered is configured.
  • the first levitation separator 3 floats and separates the foreign matter in the processing liquid mixture on the liquid surface, and clears the clear processing liquid in the lower layer of the first levitation separation tank 31 to the nozzle 81a via the processing liquid supply path 81.
  • This is a device that feeds and feeds the liquid processing solution mixture containing a large amount of foreign substances to the second floating separation tank 41 via the supply path 83 by the float pump P2.
  • the first levitation separation device 3 includes a discharge path 82, a first levitation separation tank 31, a float pump P2, a supply path 83, a return path 84, a processing liquid supply path 81, and a pumping pump P1. It is mainly composed.
  • the discharge path 82 is a pipe that is connected to the drain outlet 23b and draws the processing liquid mixture discharged from the drain outlet 23b into the first floating separation tank 31.
  • the first levitation separation tank 31 is a storage tank that stores the processing liquid mixture sent from the discharge path 82 and the return path 84 and floats foreign substances contained in the processing liquid mixture. It is configured to store about 300 tons of processing liquid mixture during operation.
  • the capacity of the first levitation separation tank 31 depends on the size of the painting booth 23, the amount of the treatment liquid flowing so as to cover the floor surface 23a of the painting booth 23, the amount of surplus paint, the paint and the treatment liquid. The amount is determined according to the time required for separation.
  • the discharge path 82, a return path 84, which will be described later, a float pump P 2, and a supply path 83 are arranged.
  • the first floating separation tank 31 is disposed at a position lower than the second floating separation tank 41 and the overflow tank 6.
  • One end of the processing liquid supply path 81 is connected to the lower layer of the first floating separation tank 31, and the other end is connected to the nozzle 81a via the pumping pump P1.
  • the pumping pump P1 is connected to the processing liquid supply path 81 to pump up the clear processing liquid near the bottom surface of the first floating separation tank 31 and supply it to the nozzle 81a.
  • the float type pump P2 has a suction port arranged on the liquid level of the processing liquid mixture in the first levitation separation tank 31, and sucks foreign matter and the processing liquid mixture floating on the liquid level while containing air.
  • the float type pump P2 is disposed in the first levitation separation tank 31 by a gantry (not shown). It is installed on the surface of the liquid mixture.
  • the float pump P2 has a function of removing foreign substances from the processing liquid in the first levitation separation tank 31 because the suction port is arranged on the liquid level of the processing liquid mixture.
  • the second levitation separator 4 stores the treatment liquid mixture sucked by the float pump P2 and sent from the supply path 83 in the second levitation separation tank 41, and cuts the water level. It is a device that removes foreign matter to the filtration tank 9 by the foreign matter removal means 5 while sending the treatment liquid to the overflow tank 6 by the exchange adjustment means 7 and adjusting the water level.
  • the second levitation separation device 4 includes a supply path 83, a second levitation separation tank 41, a foreign matter removal means 5, an overflow tank 6, and a water level switching adjustment means 7.
  • the second levitating / separating device 4 is provided with at least a skimmer 52 and a scum box 53 that constitute a part of the foreign matter removing means 5.
  • the second levitation separator 4 corresponds to the “levitation separator” recited in the claims.
  • the supply path 83 is a pipe for sending the treatment liquid mixture containing a large amount of foreign matter sucked by the float pump P2 into the feed dwell 43 and discharging it.
  • One end of the supply path 83 is connected to the float pump P2, the other end passes through the side surfaces of the second levitation separation tank 41 and the feed dwell 43, and the other end is in the center of the lower layer in the feed dwell 43. It is arranged with the open end facing upward.
  • an air-containing treatment liquid supply path 86 connected to the overflow tank 6 via a pressure pump P3.
  • the pressurizing pump P3 is for mixing and bubbling air taken from the atmosphere with the processing liquid supplied from the overflow tank 6.
  • the processing liquid containing air is sent to the supply path 83 by the pressurizing pump P3, and is stirred with the processing liquid mixture to promote the aggregation and growth of the foreign substances, and the foreign substances are sent to the second floating separation tank 41. When it is, it floats on the liquid surface, flows toward the inner peripheral side of the foreign matter processing cylinder 44, and flows so as to be efficiently attracted by the skimmer 52.
  • the second floating separation tank 41 is stored in the first floating separation tank 31 (see FIG. 1) and supplied with a processing liquid mixture containing a large amount of floating foreign substances. It is provided to separate foreign substances from the processing liquid.
  • the second levitation separation tank 41 is a two-tank type storage tank in which a foreign matter treatment cylinder 44 is installed in a tank body 42 in a state of air fishing.
  • the second levitation separation tank 41 includes a tank body 42, a feed dwell 43, a foreign matter treatment cylinder 44, a treatment cylinder support member 45, an overflow weir 42a, a foreign matter removal means 5, a discharge path 85, an overflow A flow tank 6 is installed, and a filtration tank 9 is provided in the vicinity.
  • the second floating separation tank 41 corresponds to the “floating separation tank” recited in the claims.
  • the tank body 42 is made of, for example, a rectangular metal container in plan view, and has an upper surface opened (see FIG. 5).
  • the tank body 42 is adjacent to the overflow tank 6 on one side through an overflow weir 42a for maintaining a predetermined amount of the processing liquid mixture in the tank body 42, and a scum box 53 is provided on the opposite side. It is installed.
  • the feed reel 43 has a treatment liquid mixture force that contains a large amount of foreign matter in the first floating separation tank 31 discharged from the supply path 83.
  • This is a tube for providing directivity so that it flows upward.
  • the feed well 43 is a cylindrical member whose upper opening end is widened, and is welded so that its lower end closes to the center of the inner bottom of the second floating separation tank 41 and is provided vertically.
  • the feed well 43 is installed in the second floating separation tank 41 in a state where it is submerged in the treatment liquid mixture, and the upper half of the feed well is arranged in the foreign matter treatment tube 44.
  • the expanded upper end of the feeder 43 has a foreign material that floats inside the feeder 43 and is directed toward the inner peripheral surface of the foreign material processing cylinder 44, and flows in the direction indicated by the arrow ⁇ . It is formed to improve.
  • the discharge port of the supply path 83 is arranged upward, and the treatment liquid mixture sucked up from the first floating separation tank 31 is It is discharged toward the liquid surface in the foreign substance processing cylinder 44.
  • the foreign substance processing cylinder 44 is a cylindrical member suspended in the second floating separation tank 41, and is fixed to the inner wall of the tank main body 42 by a processing cylinder support member 45 provided on the outer periphery. .
  • the foreign substance processing cylinder 44 is disposed in a state where the lower end portion is spaced from the inner bottom of the tank body 42 and is disposed around the feed dwell 43, and the upper end portion protrudes from the liquid level of the processing liquid mixture.
  • the lower end of the foreign matter processing tube 44 is designed to prevent the foreign matter inside the foreign matter processing tube 44 from flowing out of the foreign matter processing tube 44 and by rotating the inside of the foreign matter processing tube 44 as shown by an arrow C. In order to allow time for the foreign matter in the treatment liquid mixture to agglomerate and float and to separate more in the foreign matter treatment tube 44, the diameter is reduced.
  • the processing tube support member 45 is a member for installing the foreign material processing tube 44 in the tank main body 42 in a state of air fishing, and includes a plurality of metal rod-shaped members. One end of the processing cylinder support member 45 is welded to the outer peripheral surface of the foreign substance processing cylinder 44, and the other end is welded to the inner wall of the tank body 42.
  • the foreign matter removing means 5 is a device that removes the foreign matter that has floated on the liquid level of the processing liquid mixture in the foreign matter processing cylinder 44 by using a skimmer 52 and flows it into the scum box 53.
  • the foreign matter removing means 5 mainly includes a motor M, a skimmer arm 51, a skimmer 52, and a scum box 53.
  • the motor M is a drive source for rotating the skimmer arm 51 at a low speed, and is installed on the motor support member 10 disposed at the upper center of the tank body 42 so as to straddle the tank body 42. (See Figure 5).
  • the motor shaft Ma of the motor M is loosely inserted into a bracket 42b installed at the upper center of the tank body 42, and the tip is connected to the central part of the skimmer arm 51 by a bolt.
  • the skimmer arm 51 is composed of a plate member that is installed so as to be rotatable with respect to the upper peripheral edge in the foreign matter processing cylinder 44.
  • the skimmer arm 51 is horizontally installed by the motor M so as to turn above the liquid level of the processing liquid mixture. Yes.
  • a pair of skimmers 52 (52a, 52b) are installed side by side.
  • operating rods 73 and 74 for operating the skimmer detection switches 71 and 72 described later are installed.
  • the skimmer 52 is a member for swirling the foreign matter floating on the treatment liquid mixture in the foreign matter treatment cylinder 44 along the liquid surface and is bolted to the skimmer arm 51 via the connecting member 54. ing.
  • the length of the skimmer 52 is longer than the length in the radial direction of the foreign matter processing cylinder 44 in the opening 53a of the scum box 53. That is, the skimmer 52 is formed longer than the length of the foreign matter removal weir 53b, and when passing over the foreign matter removal weir 53b, the skimmer 52 is in sliding contact with the front end portion of the side wall of the scum box 53 positioned on the left and right of the foreign matter removal weir 53b. Therefore, the foreign matter removal weir 53b should not be in contact with the upper surface.
  • the skimmer 52 is made of a rectangular rubber plate having flexibility, and the lower end 52c is slightly lower than the foreign matter removal weir 53b of the scum box 53. It is a position that is slightly immersed in the liquid level F2 at the time, and is positioned at a position lower than the upper end 53c of the opening 53a.
  • the scum box 53 is a rectangular tube-shaped member for discharging the foreign matter attracted by the skimmer 52 from the liquid surface, and is provided for discarding the foreign matter.
  • the scum box 53 has an opening 53a and a foreign matter removal weir 53b at the upper end, and a foreign matter discharge port 53d having a reduced diameter at the lower end.
  • the scum box 53 is a shouter for sending foreign matter flowing into the scum box 53 to the filtration tank 9. It has a function.
  • the scum box 53 is fixed to the second levitating separation tank 41 in a state of penetrating the side wall of the foreign substance treatment cylinder 44 and the tank body 42, and the upper end opening 53a is the liquid level of the treatment liquid mixture in the foreign substance treatment cylinder 44.
  • the foreign matter discharge port 53 d at the lower end is arranged near the filtration tank 9 and is disposed in the vicinity.
  • the opening 53a has a rectangular shape that is long in the radial direction of the foreign substance processing tube 44 in plan view. For example, one of the long sides to which the skimmer 52 that rotates in the right direction (clockwise) approaches.
  • the foreign matter removing weir 53b is formed on the surface.
  • the foreign matter removal weir 53b is formed lower than the upper end 53c (the other part of the opening 53a) (see FIG. 3).
  • the filtration tank 9 is a tank for filtering and storing the foreign matter discharged from the scum box 53.
  • the foreign matter is separated from the treatment liquid mixture. It is also a device that performs the third separation.
  • the filtration tank 9 has a bowl-shaped mesh wire net 91 for dehydrating and storing foreign substances, and has a discharge port 9a (see FIG. 2) for discharging the filtered processing liquid to the outside on the bottom surface.
  • the water level switching adjusting means 7 lowers the water level of the processing liquid mixture to the liquid level F2 (see FIG. 3), and the skimmer 52 is connected to the scum box 53.
  • This is a device for adjusting the liquid level by raising the water level of the processing liquid mixture to the liquid level F1 (see Fig. 3) when it is close to the swirl direction.
  • the water level switching adjusting means 7 includes a discharge path 85 for discharging the processing liquid from the second floating separation tank 41 to the overflow tank 6 (external), skimmer detection switches 71 and 72 for detecting the position of the skimmer 52, and a discharge path 85. And an electromagnetic valve V that is opened and closed by a detection signal from the skimmer detection switches 71 and 72.
  • the liquid level F1 shown in FIG. 3 is a position above the position of the foreign matter removal weir 53b and lower than the upper end portion 53c of the scum box 53.
  • the foreign matter floats on the liquid surface that is higher than the foreign matter removal weir 53b.
  • the flow rate increases toward the inside of the scum box 53 with increasing momentum, and the foreign matter removal weir It comes to flow into the opening 53a without touching and adhering to 53b.
  • the lower part of the skimmer 52 which is slightly higher than the lower end 52c of the skimmer 52, is immersed in the processing liquid mixture. It is a height that can be scraped, and is below the position of the foreign matter removal weir 53b.
  • the difference between the liquid level F1 when the water level of the treatment liquid mixture rises and the liquid level F2 when it falls is, for example, about 2 cm.
  • the skimmer detection switches 71, 72 are actuating rods 73, 74 that rotate when the skimmer 52 is positioned at an angle range of 30 to 45 degrees with respect to the scum box 53. Is a switch that opens and closes.
  • the skimmer detection switches 71 and 72 are installed on the upper part of the outer wall surface of the foreign matter processing cylinder 44 and are electrically connected to the electromagnetic valve V, respectively.
  • the skimmer detection switch 71 is activated when the skimmer 52 comes close to the scum box 53 in the swiveling direction, closes the valve of the electromagnetic valve V, and the processing liquid in the second levitation separation tank 41 flows from the discharge path 85 to the overflow tank 6 It is a switch that prevents the water from flowing into the water and raises the water level.
  • the skimmer detection switch 71 is 45 degrees on the outer periphery of the foreign matter treatment cylinder 44 on the side where the skimmer 52 rotating in the right direction approaches the scumbox 53 extending in the radial direction of the foreign matter treatment cylinder 44. It is arrange
  • the skimmer detection switch 72 is activated when the skimmer 52 moves away from the scum box 53 in the swiveling direction, and opens the valve of the electromagnetic valve V.
  • the processing liquid in the second levitation separation tank 41 is discharged from the discharge path 85 to the overflow tank 6 It is a switch that lowers the water level in such a way that it flows.
  • the skimmer detection switch 72 has 45 degrees on the outer periphery of the foreign matter processing cylinder 44 on the side where the skimmer 52 rotating in the right direction moves away from the radial scum box 53 of the foreign matter processing cylinder 44. It is arrange
  • the discharge path 85 is a pipe for sending the purified treatment liquid between the foreign matter treatment cylinder 44 and the tank body 42 to the overflow soda 6.
  • the discharge path 85 is disposed through the overflow weir 42a, and one end is disposed at the position of the liquid surface F2 in the processing liquid between the foreign substance processing cylinder 44 and the tank body 42, and the other end is electromagnetic. It is placed above the overflow tank 6 via valve V (see Fig. 2). That is, the discharge path 85 is disposed at a position where the processing liquid naturally flows when the processing liquid rises above the liquid level F2. As shown in FIG. 4, the discharge path 85 is disposed in the second floating separation tank 41 at a position facing the scum box 53. The electromagnetic valve V opens and closes the discharge path 85. Thus, the flow of the processing liquid is controlled.
  • the overflow tank 6 temporarily stores the processing liquid flowing from the discharge passage 85 and the processing liquid flowing out of the overflow weir 42a when the processing liquid in the tank main body 42 increases. It is a tank to do. Below the overflow tank 6, a return path 84 for returning the processing liquid to the first floating separation tank 31 (see FIG. 1) and an air-containing processing liquid supply path 86 are installed. The overflow tank 6 is at a level lower than the water level of the treatment liquid in the second levitation separation tank 41 and higher than the water level of the treatment liquid in the first levitation separation tank 31. It is installed to become.
  • One end (first end) side of the return path 84 is disposed in the processing liquid of the overflow tank 6, the other end (second end) side is disposed on the first floating separation tank 31, and the second end is disposed on the first end. Arranged at a position lower than one end, the treatment liquid naturally flows to the first levitation separation tank 31.
  • the overflow weir 42a is for allowing the processing liquid to flow into the overflow tank 6 when the liquid level of the processing liquid in the tank body 42 exceeds the upper limit (that is, the liquid level F1).
  • the overflow weir 42a is formed by opening a part of the side wall of the tank body 42 and fixing a plate member with a bolt to the opening.
  • the plate material constituting the overflow weir 42a serves as both a part of the side wall of the tank body 42 and a part of the side wall of the overflow tank 6, and the upper end is substantially the same as the upper limit height of the liquid level of the processing liquid. Located at position (F1).
  • a predetermined amount of the processing liquid mixture is put into the first flotation separation tank 31 shown in FIG. Is made.
  • the air jetting device 24, the pumping pump Pl, the float pump P2, the pressure pump P3 and the motor M are operated, and the treatment liquid is applied to the painting booth 23 and the first floating separation tank. Circulate between 31 and the second levitation separation tank 41.
  • the vehicle body W is transported into the coating booth 23 by the transport device 21.
  • the vehicle body W is transported to the reference point of the painting booth 23, its position is detected by a sensor (not shown), and the painting robot 22 is painted by injecting paint from the painting gun 22a.
  • the treatment liquid near the bottom of the first levitation separation tank 31 contains almost no foreign matter due to separation.
  • This processing liquid is supplied again to the coating apparatus 2 through the processing liquid supply path 81 by the pumping pump P1, and is reused for washing away the paint that has fallen to the floor surface 23a.
  • the treatment liquid mixture containing a large amount of foreign matter near the liquid surface sucked by the float pump P2 is mixed with bubbles made of air sent into the supply path 83 by the pressurization pump P3. It is discharged into the dwell 43.
  • the discharged processing liquid mixture flows from the inside of the field dwell 43 toward the liquid surface on the inner peripheral surface of the foreign substance processing cylinder 44 in the direction of arrow B.
  • the foreign matter that has been agglomerated while being agitated by the bubbles in the supply channel 83 further grows in the foreign matter processing cylinder 44, and near the liquid surface, it floats as a foreign matter with a large particle size. Collect on the inner peripheral surface of the foreign matter processing cylinder 44.
  • the buoyant foreign matter floats on the liquid surface, Separated from foreign material.
  • the tank main body 42 the foreign matter concentrates on the liquid surface in the foreign matter processing cylinder 44, and is hardly contained in other processing liquids. That is, the treatment liquid having a very low concentration of foreign matter descends between the foreign matter treatment tube 44 and the feed barrel 43 as shown by an arrow C, and the foreign matter treatment tube 44 and the tank are opened from the lower end opening of the foreign matter treatment tube 44. It flows between the main body 42.
  • the skimmer arm 51 On the liquid level in the foreign matter processing cylinder 44, the skimmer arm 51 is rotated by the motor M, and the pair of skimmers 52 (52a, 52b) is swiveled.
  • the skimmer detection switch 72 is turned on to operate the electromagnetic valve V, and the valve open.
  • the purified processing liquid flows into the discharge path 85 having an opening at a position lower than the liquid level F1, and is sent into the overflow tank 6. Further, the processing liquid in the overflow tank 6 is returned to the first floating separation tank 31 from the return path 84.
  • the water level of the treatment liquid mixture is adjusted so that the foreign matter is smoothly discharged into the scum box 53 as shown in FIG. It is adjusted so that it rises above and rises to the level of liquid level F1.
  • foreign matters will be present in the processing liquid mixture above the lower end 52c of the skimmer 52 by floating up to the liquid level F1 of the processing liquid mixture located above the foreign matter removal weir 53b. .
  • the skimmer 52 and the opening 53a of the scum box 53 having the above-described configuration can prevent the foreign matter removal performance from being deteriorated, and the work for removing the foreign matter attached to the skimmer 52 is unnecessary. be able to.
  • the foreign matter dropped into the scum box 53 is dropped into the mesh wire mesh 91 in the filtration tank 9 and dehydrated, and the treatment liquid mixture is filtered.
  • the filtered treatment liquid can be circulated from the discharge port 9a at the inner bottom of the filtration tank 9 to the first floating separation tank 31 and reused. Note that the foreign matter in the mesh wire mesh 91 is discarded to the outside.
  • the water level of the processing liquid mixture is reduced to prevent the processing liquid mixture from flowing into the scum box 53. It is adjusted to descend below 53b and descends to level F2. As a result, when the skimmer 52 is not working to drop the foreign matter into the scum box 53, the processing liquid mixture does not flow from the foreign matter removal weir 53b into the scum box 53. For this reason, the amount of the processing liquid mixture flowing in the scum box 53 can be reduced.
  • the electromagnetic valve V is opened to prevent the processing liquid mixture from being discharged from the scum box 53, and the tank main body 42 is overloaded.
  • the electromagnetic valve V When flowing the treatment liquid from the discharge path 85 to the bar flow tank 6 and lowering the water level to the liquid level F2, and discharging foreign matter to the scumbot 53, close the electromagnetic valve V and treat the tank body 42 to the overflow tank 6. The water flow is stopped and the water level is raised to the liquid level F1, and the water level is adjusted so that foreign matter can be smoothly dropped into the scum box 53.
  • the second levitation separator 4 is configured to discharge the foreign matter to the filtration tank 9 and remove it during one cycle when the skimmer arm 51 makes one rotation, and to send the purified processing liquid to the overflow tank 6. And the two skimmers 52a, 52b and the water level switching adjusting means 7 are performed twice. For this reason, foreign substances can be discharged (discarded) efficiently, and the amount of processing liquid discarded as wastewater can be greatly reduced.
  • the width of the skimmer 52 is longer than the width of the foreign matter removal weir 53b. This When the skimmer 52 passes over the foreign matter removal weir 53b, both sides of the skimmer 52 come into sliding contact with the front ends of the side walls of the scum box 53 located on the left and right sides of the foreign matter removal weir 53b. Because it does not contact the upper surface of 53b, foreign matter should not be crushed and adhered to foreign matter removal weir 53b.
  • the treatment liquid is not particularly limited as long as it is a liquid in which foreign matter floats.
  • the foreign matter may be liquid or solid, and is not particularly limited as long as it can float by air or the like without buoyancy.
  • the levitation separation apparatus and the levitation separation method of the present invention float on the liquid surface. It can be used for any device that removes foreign matter.
  • the skimmer detection switches 71 and 72 which are the water level switching adjusting means 7 are not limited to the switches such as the limit switch and the proximity switch, and may be any one that detects the position of the skimmer 52.
  • the skimmer detection switches 71 and 72 may detect the skimmer 52 using an encoder, a rotary switch, or the like that detects the rotation angle of the skimmer arm 51, or a light emitting element and a light receiving element.
  • skimmers 52a and 52b is not limited to two, and may be appropriately changed depending on the size, processing capability, processing liquid, etc. of the floating separation system A.
  • the number of skimmers 52a and 52b may be one, for example.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Removal Of Floating Material (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)

Abstract

浮上分離装置は、浮遊する異物が混入している処理液混合物が貯留される浮上分離槽と、浮上分離槽内の液面に浮上している異物を旋回して掻き寄せるスキマーと、液面近傍に開口を有し、スキマーにより掻き寄せられた異物を液面から排出ためのスカムボックスとを備えている。浮上分離装置は、旋回するスキマーがスカムボックスから旋回方向に離間すると処理液混合物の水位を下げ、スキマーがスカムボックスに旋回方向に近接すると処理液混合物の水位を上げる水位切換調整手段を更に備えている。これにより、過剰な処理液混合物の流出を防止するとともに、スカムボックスの堰に異物が付着することを防止する。

Description

明 細 書
浮上分離装置および浮上分離方法
技術分野
[0001] 本発明は、浮遊する異物が混入している処理液から異物を分離する浮上分離装置 および浮上分離方法に関する。
背景技術
[0002] 従来、例えば、 自動車などの生産ラインにおいては、車体などのワークに塗装を施 す塗装工程を有している。この塗装工程では、塗装ブースにおいて、塗装ガンから塗 料を噴き付けることにより、ワークに塗料を塗着させている。このとき、ワークに塗着し なかった余剰塗料は、塗装ブース内を流下するエアによって床面に降下させられる。 塗装ブースの床面には、工業用水の供給路と、排水路と、工業用水および余剰塗料 を排水路に収集させるための傾斜面と、を有する余剰塗料捕集部が設けられている 。余剰塗料は、工業用水(以下、「処理液」という)により洗い流されて捕集され、塗装 ブース外に配設された浮上分離装置の浮上分離槽に排出される。その処理液は、浮 上分離槽内において、塗料が分離され、ポンプにより再び塗装ブースの床面に供給 されて循環されている。
[0003] 処理液から余剰塗料を塗料スラッジ (以下、「異物」という)として分離させる浮上分 離装置としては、第 1浮上分離槽と第 2浮上分離槽の 2つの分離槽を備えるものが知 られている。この装置では、異物を含む処理液は、予め凝集剤が添加された第 1浮 上分離槽に供給され、異物を浮上分離させる。その第 1浮上分離槽の異物含有の処 理液は、第 2浮上分離槽に導入されて、異物の凝集、すなわち処理液からの異物の 分離がさらに促進される。
[0004] 図 6は、従来の浮上分離装置におけるスキマーの設置状態を示す要部拡大図であ る。
第 2浮上分離槽には、図 6に示すように、異物を外部に排出する開口が液面近傍に 位置するようにスカムボックス 200が配置され、このスカムボックス 200の開口に向け て旋回して液面に浮上した異物を搔き寄せるスキマー 100が設けられている。 ところがその異物は、粘着性が高ぐスカムボックス 200の堰に付着し易い。装置の 正常な作動を維持するために、堰ゃスキマー 100などに付着した異物を定期的に除 去するという多大な労力が必要となる。
[0005] また、異物をスカムボックス 200内に流れ易くするためには、浮上分離槽内の液面 の高さを堰より高く設定すると良いが、その場合には、常時、異物含有の処理液がス カムボックス 200内に流入されるようになる。そうすると、スカムボックス 200の下流側 に設けられた異物濾過槽に大量の異物含有の処理液が供給され、処理液が槽内の メッシュ金網の処理能力を超えオーバーフローするという問題がある。
さらに、大量の異物含有の処理液がスカムボックス 200から排出されると、第 2浮上 分離槽に供給する処理液の量が増加し、それに伴レ、凝集剤の量も増加することにな るので、設備費が嵩むという問題点がある。
[0006] このように、必要以上の処理液が排出されることを防止する装置としては、例えば、 曰本国特開 2002— 166271号公幸 (特に段落 0020〜0024、図 1〜図 4)に開示さ れたものが知られている。この文献には、スキマーアームが異物を搔き寄せて、スカ ムボックスに接近すると、第 1センサがそれを検出し、異物排出管の電磁弁を開いて 異物を排出して、スカムボックス上をスキマーアームが通過してスカムボックスへの異 物の流入が終了すると第 2センサがそれを検出して前記異物排出管の電磁弁を閉じ て、必要以上の処理液が排出されることを防止している。
[0007] し力 ながら、上記文献のような浮上分離装置では、異物の排出時に、排水により 沈殿槽内の水位が低下するため、旋回するスキマーアームがスカムボックス上を通 過して異物を排出する際、スキマーアームで搔き寄せた異物がスカムボックスの開口 部のテーパー状の堰に擦り付けられる。このとき、処理液が塗装排水や廃油などであ る場合には、スキマーとスカムボックスの縁とで押し潰されて粘度の高レ、ダマとなって 堰の側壁や上面ゃスキマーに付着して固化する。この付着した異物は、スカムボック スの堰などに蓄積されて肥大化し、異物含有の処理液の排出が困難になるという問 題点がある。
また、図 6に示す従来の浮上分離装置のスキマー 100においても、異物は、スキマ 一 100とスカムボックス 200とによって押し潰されて、スキマー 100とスカムボックス 20 0とに付着して蓄積されて肥大化し、異物除去性能を低下させるという問題点がある
[0008] 従って、前記従来技術の問題点を解決する装置を提供することが望まれている。
発明の開示
[0009] 本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意研究を行った。その結果、過剰な 処理液の流出を防止するとともに、スカムボックスの堰に異物が付着することを防止 する浮上分離装置および浮上分離方法を実現し、本発明を完成するに至った。
[0010] すなわち、本発明の諸側面として、次のような浮上分離装置及び方法を提供する。
[1]浮遊する異物が混入している処理液が貯留される浮上分離槽と、前記浮上分 離槽内の処理液の液面に沿って旋回して、液面に浮上してレ、る異物を搔き寄せる少 なくとも一つのスキマーと、前記処理液の液面近傍に開口を有し、前記スキマーによ り搔き寄せられた前記異物を液面から除去するためのスカムボックスと、を備えた浮 上分離装置であって、旋回する前記スキマーが前記スカムボックスから旋回方向に 離間すると前記処理液の水位を下げ、前記スキマーが前記スカムボックスに旋回方 向に近接すると前記処理液の水位を上げる水位切換調整手段を備えたことを特徴と する浮上分離装置。
[2]前記スカムボックスの前記開口には、前記スキマーが近付いて来る側に他の部 分より低レ、堰が形成されてレ、ることを特徴とする [ 1 ]に記載の浮上分離装置。
[3]前記水位切換調整手段は、前記処理液を前記浮上分離槽から外部へ排出す る排出路と、前記スキマーの位置を検出する少なくとも 1つのスキマー検出スィッチと 、前記排出路上に設けられ、前記スキマー検出スィッチからの検出信号で前記排出 路を開閉する電磁バルブと、を備えてレ、ることを特徴とする [1]または [2]に記載の浮 上分離装置。
[4]前記下げられる水位が、前記堰より下に設定され、前記上げられる水位が、前 記堰より上かつ前記スカムボックスの上端より下に設定されていることを特徴とする [2 ]または [3]に記載の浮上分離装置。
[5]前記スキマーの長手方向の幅は前記堰の長手方向の幅よりも長いことを特徴と する [2]から [4]のうちいずれか 1項に記載の浮上分離装置。 [6]浮遊する異物が混入している処理液が貯留される浮上分離槽と、前記処理液 の液面に浮上した前記異物を旋回させて搔き寄せる少なくとも 1つのスキマーと、前 記スキマーによって搔き寄せられた前記異物を前記浮上分離槽の外部に排出するス カムボックスと、を備え、前記浮上分離槽内の処理液に浮上した前記異物を取り除く 浮上分離装置による浮上分離方法であって、旋回する前記スキマーが前記スカムボ ッタスから旋回方向に離間したときに前記処理液の水位を下げ、前記スキマーが前 記スカムボックスに旋回方向に近接したときに前記処理液の水位を上げて前記異物 を取り除くことを特徴とする浮上分離方法。
[0011] [1]および [6]によれば、浮遊する異物が混入している処理液は、浮上分離槽に送 られて貯留されると、異物が処理液の液面に浮上して、処理液から分離する。浮上分 離槽内の処理液混合物の液面近傍には、液面に沿って旋回するスキマーによって 搔き寄せられた浮遊する異物を液面から排出するための開口を有するスカムボックス が設置されている。
そして、旋回しているスキマーがスカムボックスから旋回方向に離間した位置になる と、水位切換調整手段が処理液を浮上分離槽の外部に送ってその水位を下げる。こ のため、スキマーが異物をスカムボックスに落し込まないときは、処理液がスカムボッ タスから外部に廃棄されることを阻止して、過剰な処理液が浮上分離槽から流出する ことを防止できる。
スキマーがスカムボックスに旋回方向に近接したときには、浮上分離槽の外部に送 つてレ、た処理液の流出を停止させるなどして、前記水位切換調整手段が処理液の水 位を上げるように制御する。このように水位切換調整手段によって処理液の水位を調 整することにより、旋回しているスキマーが異物をスカムボックスの開口に搔き寄せて 落し込むときに、異物がスカムボックスの堰より高くなつた液面に浮上している。このた め、スキマーは、異物を押し潰してスカムボックスに付着させることがなぐかつ、搔き 寄せた異物を効率的に開口に落し込ませて廃棄させることができる。
したがって、スカムボックスから過剰に処理液が流出されて廃棄される量を削減でき 、再利用される処理液の量を増加させることができる。
[0012] [2]によれば、スキマーによって搔き寄せられて液面に浮上している異物は、スキマ 一が近付いて来る側の開口が、他の部分より低く形成された堰からなるため、スムー ズに堰からスカムボックス内に流れ込むようになる。
[0013] [3]によれば、水位切換調整手段は、スキマーが所定の位置にあるときをスキマー 検出スィッチで検出して、このスキマー検出スィッチからの検出信号で電磁バルブが 排出路を開閉し、浮上分離槽内の処理液を排出路から外部へ排出させ、あるいは排 出を止めることができる。水位切換調整手段は、例えば、スキマーがスカムボックスか ら旋回方向に離間するときに電磁バルブが開き、処理液を排出路から外部に排出し て水位を下げ、スキマーがスカムボックスに旋回方向に近接すると電磁バルブを閉め て処理液の水位を上げるように制御する。そうすると、旋回するスキマーは、スカムボ ッタスの堰に近付くにしたがって水位が上昇して、液面に浮上する異物を搔き寄せて スカムボックスの開口力 異物を落し込むことができるようになり、そのときのみ異物を 廃棄するため、異物を多く含有した処理液を開口力 廃棄する時間を削減して、廃 棄される処理液の量を減少させることができる。
[0014] [4]によれば、水位が下げられる場合は水位が堰より下に保たれるため、スキマーが 異物を集める際に過剰な処理液が浮上分離槽から流出することがない。また水位が 上げられる場合は水位が堰より上に保たれるため、スキマーが異物を開口に流し込 む際に堰に付着することがなレ、。
[0015] [5]によれば、スキマーの幅が堰の幅よりも長く設定されている。このため、スキマー が堰上を通過するときにスキマーが堰の左右に位置するスカムボックスの側壁の前 端部に摺接してスキマーが堰の上面に当接することがなぐ異物が堰に押しつぶされ ることがない。
[0016] 本発明に係る浮上分離装置および浮上分離方法によれば、異物含有の処理液か ら異物を分離するときに、過剰に処理液が流出することを防止できるとともに、スカム ボックスの堰に異物が付着することを防止できる。
[0017] 前記した本発明の諸側面及び効果、並びに、他の効果及び更なる特徴は、添付の 図面を参照して後述する本発明の例示的かつ非制限的な実施の形態の詳細な説明 により、一層明らかとなるであろう。
図面の簡単な説明 [0018] [図 1]本発明の実施形態に係る浮上分離装置を備えた塗装設備の全体構成を示す 概略図である。
[図 2]本発明の実施形態に係る浮上分離装置の要部拡大概略図である。
[図 3]本発明の実施形態に係る浮上分離装置のスキマーの設置状態を示す要部拡 大図である。
[図 4]図 2の X— X断面図である。
[図 5]本発明の実施形態に係る浮上分離装置を示す要部斜視図である。
[図 6]従来の浮上分離装置におけるスキマーの設置状態を示す要部拡大図である。 発明を実施するための最良の形態
[0019] 次に、図 1〜図 5を参照して、発明を実施するための最良の形態(以下「実施形態」 という)を説明する。
以下、本発明の実施形態の一例として、 自動車の車体を塗装したときに、塗装ブー スの床面に降下した未固着の余剰塗料を工業用水(処理液)で洗い流し、その余剰 塗料 (異物)が混入した処理液から異物を浮上分離する場合を例に挙げて説明する
。なお、工業用水は処理液、処理液に混入された余剰塗料である塗料スラッジは異 物として説明する。また、「液面に浮遊 (浮上)する異物」及びそれに相当する表現は 、液体の表面(液面レベルより上)に浮遊している異物のみならず、液面に近い液体 内(液面レベルより下)に存在する異物を含みうるものである。再利用のために浮上 分離が行われる、異物を含む処理液を「処理液混合物」と称することもある。
[0020] < <塗装設備 > >
図 1に示すように、塗装設備 1は、車体 Wを搬送装置 21で搬送しながら塗装ロボット 22で塗装し、車体 Wに塗着しなかった余剰塗料を塗装ブース 23の床面 23aに降下 させて、処理液で洗い流しながら収集し、処理液に混入した塗料を異物として分離し て、処理液混合物を浄化し循環させて再利用する設備である。塗装設備 1は、 自動 車の塗装ラインにおいて、車体 Wを塗装する塗装装置 2と、車体 Wに塗着しなかった 余剰塗料 (異物)を含む処理液から異物を分離するための浮上分離システム Aと、処 理液又は処理液混合物を所望の各所に送るための流通路 8と、を主として備えて構 成されている。 [0021] 塗装装置 2は、車体 Wを収容可能な塗装ブース 23と、この塗装ブース 23内に車体 Wを搬送する搬送装置 21と、この搬送装置 21により搬送される車体 Wに対し塗料を 噴霧して塗装作業を行う塗装ロボット 22と、を備えてなる。
[0022] 前記搬送装置 21は、例えば、塗装ブース 23内に敷設されたレール 21aと、駆動モ ータを搭載した搬送台車 21bと、搬送台車 21bの移動量を検出するセンサ(図示せ ず)と、塗装ロボット 22の動作および搬送台車 21bの搬送を制御する制御装置(図示 せず)と、から構成されている。
[0023] 塗装ロボット 22は、搬送装置 21の位置に基づき、制御装置(図示せず)にメモリさ れたデータによって制御されて車体 wを塗装するものであり、塗料を噴射する塗装ガ ン (塗料噴射装置) 22aを備えたアームを有する。
塗装ガン 22aは、図示しないタンクに貯蔵された塗料を、塗料供給管を介して塗装 ロボット 22のアームの先端から噴射するものである。
[0024] 塗装ブース 23は、余剰塗料 (異物)の分散を防止するとともに、塗装装置 2から排 出される余剰塗料 (異物)を含む処理液を収集するためのものである。この塗装ブー ス 23は、降下した処理液が排水口 23bに自動的に収集するように形成された傾斜を 有する床面 23aと、この床面 23aの最も低い場所に配設された排水口 23bと、エアを 下向きに噴射して車体 Wに定着しなかった余剰塗料を床面 23aに降下させるための エア噴出装置 24が設置された天井面 23cとを備えている。
床面 23aには、この床面 23aに降下した塗料を洗い流す処理液を供給するための 処理液供給路 81の開口端に設置されて処理液を噴射するノズル 81 aが複数設置さ れている。
[0025] < <浮上分離システム > >
図 1に示すように、浮上分離システム Aは、塗装装置 2から排出される異物 (余剰塗 料)が混入している処理液混合物を、処理液と異物とに分離して、処理液を再利用さ せるシステムである。この浮上分離システム Aは、処理液混合物中の異物を浮上させ て異物と処理液とに分離する第 1回目の分離を行う第 1浮上分離装置 3と、この第 1 浮上分離装置 3で分離した処理液混合物(異物を多く含有した処理液)をさらに異物 と処理液に分離する第 2回目の分離を行う第 2浮上分離装置 4と、この第 2浮上分離 装置 4で分離した異物を脱水処理して濾過する第 3の分離を行う濾過槽 9と、力 構 成されている。
[0026] <第 1浮上分離装置 >
第 1浮上分離装置 3は、処理液混合物中の異物を液面に浮上させて分離し、第 1 浮上分離槽 31の下層の澄んだ処理液を処理液供給路 81を介してノズル 81 aに供 給し、異物を多く含有した液面の処理液混合物をフロート式ポンプ P2によって供給 路 83を介して第 2浮上分離槽 41に送る装置である。この第 1浮上分離装置 3は、排 出路 82と、第 1浮上分離槽 31と、フロート式ポンプ P2と、供給路 83と、帰還路 84と、 処理液供給路 81と、汲み上げポンプ P1とから主に構成されている。
[0027] 排出路 82は、前記排水口 23bに接続されて、この排水口 23bから排出された処理 液混合物を第 1浮上分離槽 31に引き込むための管である。
第 1浮上分離槽 31は、排出路 82および帰還路 84から送られて来た処理液混合物 を貯留して、この処理液混合物中に含まれる異物を浮上させる貯留槽であり、塗装 設備 1の稼動時に、約 300トンの処理液混合物を貯留可能に構成されている。なお、 この第 1浮上分離槽 31の容量は、塗装ブース 23の大きさや、塗装ブース 23の床面 2 3aを覆うように流れる処理液の量や、余剰塗料の量や、塗料と処理液との分離に要 する時間などによって適宜な量に決定される。この第 1浮上分離槽 31の上方には、 前記排出路 82と、後記する帰還路 84と、フロート式ポンプ P2と、供給路 83と、が配 設されている。なお、第 1浮上分離槽 31は、第 2浮上分離槽 41およびオーバーフロ ー槽 6より低い位置に配置されている。
[0028] 処理液供給路 81は、一端が第 1浮上分離槽 31の下層に接続され、他端が汲み上 げポンプ P 1を介して前記ノズノレ 81 aに接続されている。
汲み上げポンプ P1は、この処理液供給路 81に接続されて第 1浮上分離槽 31の底 面近傍の澄んだ処理液を汲み上げてノズル 81aに供給するためのものである。
[0029] フロート式ポンプ P2は、第 1浮上分離槽 31内の処理液混合物の液面に吸引口を 配置して、その液面に浮上した異物や処理液混合物を、エアを含みながら吸引し、 気泡を形成しながら供給路 83を介して第 2浮上分離槽 41に送るためのポンプである 。フロート式ポンプ P2は、例えば、図示しない架台によって第 1浮上分離槽 31の処 理液混合物の液面上に設置されている。なお、フロート式ポンプ P2は、処理液混合 物の液面に吸引口が配置されているため、第 1浮上分離槽 31内の処理液から異物 を取り除く機能も備えている。また、フロート式ポンプ P2で生成された気泡は、第 2浮 上分離槽 41に送られたときに、供給路 83内での異物の凝集の促進、および、供給 路 83内の内壁への異物の固着を防止している。
[0030] ぐ第 2浮上分離装置 >
図 1に示すように、第 2浮上分離装置 4は、前記フロート式ポンプ P2で吸引して供 給路 83から送られてきた処理液混合物を第 2浮上分離槽 41に貯留させて、水位切 換調整手段 7で処理液をオーバーフロー槽 6に送って水位を調整しながら異物除去 手段 5で異物を濾過槽 9に排出して除去させる装置である。この第 2浮上分離装置 4 は、供給路 83と、第 2浮上分離槽 41と、異物除去手段 5と、オーバーフロー槽 6と、 水位切換調整手段 7とを備えてなる。この第 2浮上分離装置 4には、異物除去手段 5 の一部を構成するスキマー 52およびスカムボックス 53が少なくとも備えられている。 なお、第 2浮上分離装置 4は、特許請求の範囲に記載の「浮上分離装置」に相当す る。
[0031] < <供給路 > >
前記供給路 83は、フロート式ポンプ P2で吸引した異物を多く含む処理液混合物を 、フィードゥエル 43内に送って吐出するための管である。この供給路 83は、一端がフ ロート式ポンプ P2に接続され、他端部が第 2浮上分離槽 41およびフィードゥエル 43 の側面を貫通して、他端がフィードゥエル 43内の下層中央部に、開口端を上向きに して配置されている。供給路 83の中間部には、加圧ポンプ P3を介してオーバーフロ ー槽 6に接続されているエア含有処理液供給路 86が接続されている。
その加圧ポンプ P3は、オーバーフロー槽 6から供給された処理液に、大気から取り 込んだエアを混合してバブリングするためのものである。加圧ポンプ P3によってエア を含んだ処理液は、供給路 83に送り込まれて、処理液混合物と攪拌させ、異物の凝 集-成長を促進して、その異物が第 2浮上分離槽 41に送られたときに液面に浮上し、 異物処理筒 44の内周側に向かって流れ、スキマー 52によって効率よく搔き寄せられ るように流れる。 [0032] < <第 2浮上分離槽> >
図 2に示すように、第 2浮上分離槽 41は、第 1浮上分離槽 31 (図 1参照)に貯留され 浮遊する異物を多く混入している処理液混合物が供給されて貯留される貯留槽であ り、処理液から異物を分離するために設けられている。第 2浮上分離槽 41は、槽本体 42内に宙釣り状態に異物処理筒 44が設置された 2槽形式の貯留槽である。第 2浮 上分離槽 41には、槽本体 42と、フィードゥエル 43と、異物処理筒 44と、処理筒支持 部材 45と、オーバーフロー堰 42aと、異物除去手段 5と、排出路 85と、オーバーフロ ー槽 6とが設置されるとともに、濾過槽 9が近傍に設けられている。
なお、第 2浮上分離槽 41は、特許請求の範囲に記載の「浮上分離槽」に相当する
[0033] 槽本体 42は、例えば、平面視して四角形の金属製容器からなり、上面が開口して いる(図 5参照)。槽本体 42には、一側面に、槽本体 42内の処理液混合物を所定量 に維持するためのオーバーフロー堰 42aを介してオーバーフロー槽 6が隣設され、そ の対向部に、スカムボックス 53が装着されている。
なお、前記図 1において、第 2浮上分離装置 4および第 2浮上分離曹 41の大きさは 、誇張して図示してあり、槽本体 42の容量は、第 1浮上分離槽 31の容量と比較して 小さく、 1/10力 1/100程度になっている。
[0034] 図 2に示すように、フィードゥヱル 43は、前記供給路 83から吐出された第 1浮上分 離槽 31にあった異物を多く含む処理液混合物力 異物処理筒 44内の下層部中央 力 上方向に向かって流れるように指向性を持たせるための管である。フィードウエノレ 43は、上側の開口端が拡開した円筒状の部材であり、下端部が第 2浮上分離槽 41 の内底中央に閉塞するように溶接されて、垂直に設けられている。フィードウエノレ 43 は、第 2浮上分離槽 41内において、処理液混合物内に沈んだ状態で設置されて、 上側の略半分が異物処理筒 44内に配置されている。なお、フィードゥエル 43の拡開 した上端部は、フィードゥヱル 43内力 浮上した異物が異物処理筒 44の内周面に向 力、つて矢印 Β方向に流れて、スキマー 52の異物の搔き取り効率を向上させるために 形成されている。このフィードゥヱル 43の下層において、前記供給路 83の吐出口が 上向きに配置されて、前記第 1浮上分離槽 31内から吸い上げた処理液混合物が、 異物処理筒 44内の液面方向に向けて吐出されるようになっている。
[0035] 異物処理筒 44は、第 2浮上分離槽 41内に吊り下げられた円筒状の部材であり、外 周部に設けた処理筒支持部材 45によって槽本体 42の内壁に固定されている。異物 処理筒 44は、下端部が槽本体 42の内底から離間されてフィードゥエル 43の周囲に 配置され、上端部が処理液混合物の液面から突出した状態に配設されている。異物 処理筒 44の下端部は、この異物処理筒 44内の異物が異物処理筒 44の外側に流れ 出るのを防止するためと、異物処理筒 44内を矢印 Cに示すように大回りさせることで 、処理液混合物中の異物が凝集して浮上する時間を稼ぎ、異物処理筒 44内でより 多く分離させるために、縮径している。
[0036] 処理筒支持部材 45は、異物処理筒 44を槽本体 42内に宙釣り状態に設置するた めの部材であり、複数の金属製棒状部材からなる。この処理筒支持部材 45は、一端 が異物処理筒 44の外周面に溶接され、他端が槽本体 42の内壁に溶接されている。
[0037] < <異物除去手段 > >
図 2に示すように、異物除去手段 5は、異物処理筒 44内の処理液混合物の液面に 浮上した異物をスキマー 52で搔き寄せてスカムボックス 53内に流し込んで除去する 装置である。この異物除去手段 5は、モータ Mと、スキマーアーム 51と、スキマー 52と 、スカムボックス 53とから主に構成されている。
[0038] モータ Mは、スキマーアーム 51を低速で回転させるための駆動源であり、槽本体 4 2を跨ぐようにして槽本体 42の中央上部に配置されたモータ支持部材 10に設置され ている(図 5参照)。このモータ Mのモータ軸 Maは、槽本体 42の中央上部に架設さ れたブラケット 42bに遊挿して、先端がスキマーアーム 51の中央部にボルトによって 連結されている。
[0039] <スキマーアーム >
スキマーアーム 51は、異物処理筒 44内の上部周縁に対して回動自在に設置され た板部材からなり、モータ Mによって処理液混合物の液面の上方を旋回するように水 平に設置されている。スキマーアーム 51の長手方向には、一対のスキマー 52 (52a, 52b)が横並びになるように設置されている。スキマーアーム 51の両端部には、後記 するスキマー検出スィッチ 71 , 72を作動させるための作動杆 73, 74が設置されてい る。
[0040] くスキマー >
スキマー 52は、異物処理筒 44内の処理液混合物に浮上する異物を、液面に沿つ て旋回して搔き寄せるための部材であり、連結部材 54を介してスキマーアーム 51に ボルト締めされている。スキマー 52の長さは、スカムボックス 53の開口 53aにおける 異物処理筒 44の半径方向の長さより長く形成されている。すなわち、スキマー 52は、 異物除去堰 53bの長さより長く形成されており、異物除去堰 53b上を通過するときに 、異物除去堰 53bの左右に位置するスカムボックス 53の側壁の前端部に摺接して異 物除去堰 53bの上面に接触しなレ、ように形成されてレ、る。
図 3に示すように、前記スキマー 52は、可撓性を有する長方形のゴム製板材からな り、下端部 52cがスカムボックス 53の異物除去堰 53bより僅かに低ぐ処理液混合物 の水位が下降時の液面 F2に僅かに浸る位置であり、かつ、開口 53aの上端部 53cよ り低レ、位置に配置されてレ、る。
[0041] くスカムボックス〉
図 4に示すように、スカムボックス 53は、スキマー 52によって搔き寄せられた異物を 液面から排出するための角筒状の部材であり、異物を廃棄するために設けられてい る。スカムボックス 53は、上端に開口 53aおよび異物除去堰 53bを有し、下端に縮径 された異物排出口 53dを有して、このスカムボックス 53内に流れ込んだ異物を濾過 槽 9に送るシユーターの機能を有する。このスカムボックス 53は、異物処理筒 44およ び槽本体 42の側壁を貫通した状態で第 2浮上分離槽 41に固定されて、上端の開口 53aが異物処理筒 44の処理液混合物の液面近傍に配置され、下端の異物排出口 5 3dが濾過槽 9の上方に配置されてレ、る。
[0042] 開口 53aは、平面視して、異物処理筒 44の半径方向に長い長方形をしており、例 えば、右方向(時計方向)に回転するスキマー 52が近付いて来る長辺の一つに前記 異物除去堰 53bが形成されている。異物除去堰 53bは、上端部 53c (開口 53aの他 の部分)より低く形成されてレ、る(図 3参照)。
[0043] 濾過槽 9は、前記スカムボックス 53から排出された異物を濾過して収容するための 槽であり、浮上分離システム A (図 1参照)において、処理液混合物から異物を分離 する第 3回目の分離を行う装置でもある。この濾過槽 9は、異物を脱水処理して溜め 置きする籠状のメッシュ金網 91を内設し、底面に濾過された処理液を外部に排出す る排出口 9a (図 2参照)を有する。
[0044] くく水位切換調整手段 > >
図 4に示すように、水位切換調整手段 7は、スキマー 52がスカムボックス 53から旋 回方向に離間すると処理液混合物の水位を液面 F2 (図 3参照)まで下げ、スキマー 5 2がスカムボックス 53に旋回方向に近接すると処理液混合物の水位を液面 F1 (図 3 参照)まで上げて、液面を調整するための装置である。この水位切換調整手段 7は、 処理液を第 2浮上分離槽 41からオーバーフロー槽 6 (外部)へ排出する排出路 85と 、スキマー 52の位置を検出するスキマー検出スィッチ 71, 72と、排出路 85上に設け られ、スキマー検出スィッチ 71 , 72からの検出信号で開閉する電磁バルブ Vと、を備 えている。
[0045] 図 3に示す液面 F1は、異物除去堰 53bの位置より上で、スカムボックス 53の上端部 53cより低い位置である。水位が F1に上昇したとき、異物は異物除去堰 53bより高く なった液面に浮上しており、この状態で、スカムボックス 53内に向かって流速を上げ ながら勢いを増して流れ、異物除去堰 53bに接触して付着することなぐ開口 53a内 に流れ込むようになってレ、る。
一方、液面 F2は、水位が下がった処理液に浮上した異物を搔き寄せるため、スキ マー 52の下端部 52cより僅かに高ぐスキマー 52の下部が浸って処理液混合物に 浮上する異物をかき寄せることができる高さで、異物除去堰 53bの位置より下の位置 である。
なお、処理液混合物の水位が上昇したときの液面 F1と、下降したときの液面 F2と の差は、例えば、約 2cmである。
[0046] 図 4に示すように、スキマー検出スィッチ 71 , 72は、スキマー 52がスカムボックス 53 に対して前後 30〜45度の角度範囲の位置になったときに、旋回する作動扞 73, 74 が近接して開閉するスィッチである。このスキマー検出スィッチ 71 , 72は、異物処理 筒 44の外壁面の上部に設置され、電磁バルブ Vと電気的にそれぞれ接続されてい る。 スキマー検出スィッチ 71は、スキマー 52がスカムボックス 53に旋回方向に近接した ときに作動して、電磁バルブ Vの弁を閉め、第 2浮上分離槽 41内の処理液が排出路 85からオーバーフロー槽 6に流れることを阻止して、水位を上昇させるためのスイツ チである。スキマー検出スィッチ 71は、異物処理筒 44の半径方向に伸びるスカムボ ックス 53に対して、右方向に回転するスキマー 52が近付いて来る側で異物処理筒 4 4の外周上のスカムボックス 53と 45度をなす位置に配設されている。
スキマー検出スィッチ 72は、スキマー 52がスカムボックス 53に旋回方向に離間した ときに作動して、電磁バルブ Vの弁を開き、第 2浮上分離槽 41内の処理液が排出路 85からオーバーフロー槽 6に流れようにして水位を下降させるスィッチである。スキマ 一検出スィッチ 72は、異物処理筒 44の半径方向に伸びるスカムボックス 53に対して 、右方向に回転するスキマー 52が離れていく側で異物処理筒 44の外周上のスカム ボックス 53と 45度をなす位置に配設されている。
[0047] 排出路 85は、異物処理筒 44と槽本体 42との間にある浄化された処理液を、ォー バーフローネ曹 6に送るための管である。排出路 85は、オーバーフロー堰 42aを貫通し て配設されるとともに、一端が異物処理筒 44と槽本体 42との間の処理液内の液面 F 2の位置に配置され、他端が電磁バルブ Vを介してオーバーフロー槽 6の上方に配 置されている(図 2参照)。すなわち、排出路 85は、処理液が液面 F2より上昇すれば 自然に流れ込むような位置に配置されている。排出路 85は、図 4に示すように、第 2 浮上分離槽 41におレ、て、スカムボックス 53に対して対向した位置に配置されてレ、る 電磁バルブ Vは、排出路 85を開閉して処理液の流動を制御するものである。
[0048] オーバーフロー槽 6は、排出路 85から流れて来た処理液と、槽本体 42内の処理液 が増加したときにオーバーフロー堰 42aを超えて流れ出た処理液と、を一時的に貯 留する槽である。オーバーフロー槽 6の下層には、処理液を前記第 1浮上分離槽 31 (図 1参照)に戻すための帰還路 84と、エア含有処理液供給路 86とが設置されてい る。オーバーフロー槽 6は、このオーバーフロー槽 6内の処理液の水位力 第 2浮上 分離槽 41内の処理液の水位より低レ、位置で、第 1浮上分離槽 31内の処理液の水位 より高い位置になるように設置されている。 帰還路 84は、一端 (第一端)側がオーバーフロー槽 6の処理液内に配置されて、他 端 (第二端)側が第 1浮上分離槽 31上に配置されるとともに、第二端が第一端より低 い位置に配置されて、処理液が自然に第 1浮上分離槽 31に流れるようになつている
[0049] オーバーフロー堰 42aは、槽本体 42内の処理液の液面が上限(すなわち液面 F1) を超えたときに、処理液をオーバーフロー槽 6に流出させるためのものである。ォー バーフロー堰 42aは、槽本体 42の側壁の一部を開口して、その開口に板材をボルト で固定してなる。このオーバーフロー堰 42aを構成する板材は、槽本体 42の側壁の 一部と、オーバーフロー槽 6の側壁の一部とを兼ねるとともに、上端部が処理液の液 面の上限高さと略同じ高さの位置 (F1)に配置されている。
[0050] < <作用 > >
次に、各図を参照しながら塗装設備 1の動作を説明する。
まず、準備段階として、所定量の処理液混合物を図 1に示す第 1浮上分離槽 31に 入れて、処理液混合物に異物(塗料)の分離剤を混ぜて、異物を浮上分離するため の液体を作製する。
塗装設備 1を稼動させる際には、エア噴出装置 24、汲み上げポンプ Pl、フロート式 ポンプ P2、加圧ポンプ P3およびモータ Mを稼動させて、前記処理液を塗装ブース 2 3と第 1浮上分離槽 31と第 2浮上分離槽 41との間で循環させる。
[0051] そして、車体 Wを、搬送装置 21によって塗装ブース 23内に搬送する。車体 Wは、 塗装ブース 23の基準地点に搬送されると、センサ(図示せず)によってその位置が検 出されて、塗装ロボット 22が塗装ガン 22aから塗料を噴射することによって塗装される
[0052] この塗装が行われている際に、余剰塗料がエア噴出装置 24によって床面 23aに降 下させられる。床面 23aに降下した余剰塗料は、床面 23aに固着する前に、汲み上 げポンプ P1によってノズル 81aから噴射された処理液によって洗い流されて、排水口 23bから排出路 82を通って第 1浮上分離槽 31に送られる。
[0053] 第 1浮上分離槽 31では、処理液中の余剰塗料が分離剤の作用により異物として凝 集して殆どが液面に浮上する。フロート式ポンプ P2が液面の処理液混合物を吸引す ることで、液面に浮上した異物が排出路 82の下方側からフロート式ポンプ P2側に向 力 て流動して集まり、供給路 83に入り、フィードゥエル 43に送られる。
[0054] なお、第 1浮上分離槽 31の底部付近の処理液は、異物が分離してほとんど含まれ ていない。この処理液は、汲み上げポンプ P1によって、処理液供給路 81を経て、再 び、塗装装置 2に供給されて、床面 23aに降下した塗料の洗い流しに再利用される。
[0055] 前記フロート式ポンプ P2によって吸引された液面付近の異物を多く含む処理液混 合物は、加圧ポンプ P3によって供給路 83内に送り込まれたエアからなる気泡と混合 されながら、フィードゥエル 43内に吐出される。この吐出された処理液混合物は、フィ 一ドゥエル 43内から矢印 B方向の異物処理筒 44の内周面の液面に向かって流れる 。供給路 83内で前記気泡に攪拌されながら凝集が促進させられた異物は、異物処 理筒 44内でさらに成長し、液面付近では、粒径の大きいダマ状の異物となって浮上 して、異物処理筒 44の内周面に集まる。
[0056] このように、異物が混入している処理液混合物は、第 2浮上分離槽 41内に貯留され ると、浮力のある異物が液面に浮上することにより、澄んだ処理液と、異物とに分離す る。槽本体 42内において、異物は、異物処理筒 44内の液面に集中し、それ以外の 処理液内では殆ど含まれない状態となる。すなわち、異物の含有濃度が極めて低い 処理液が、異物処理筒 44とフィードゥヱル 43との間を矢印 Cに示すように降下して、 異物処理筒 44の下端開口部からこの異物処理筒 44と槽本体 42との間に流れる。
[0057] 異物処理筒 44内の液面では、モータ Mによってスキマーアーム 51が回転されて、 一対のスキマー 52 (52a, 52b)が旋回している。例えば、スキマー 52bが図 4に示す スカムボックス 53から旋回方向に離間して、作動杆 74がスキマー検出スィッチ 72に 近接すると、このスキマー検出スィッチ 72が ONして電磁バルブ Vを作動させて弁が 開く。すると、浄化された処理液は、液面 F1より低い位置に開口部がある排出路 85 内に流れ込んでオーバーフロー槽 6に送り込まれる。さらに、オーバーフロー槽 6内 の処理液は、帰還路 84から前記第 1浮上分離槽 31に戻される。
[0058] 図 4に実線で示すスキマー 52aがさらに旋回して作動杆 73がスキマー検出スィッチ 71に近接すると、このスキマー検出スィッチ 71が〇Nして電磁バルブ Vを作動させて 弁が閉まる。すると、槽本体 42の処理液混合物は、供給路 83 (図 2参照)から連続的 に送り込まれているため、スキマー 52aがスカムボックス 53に旋回方向に近接するに したがって処理液混合物の水位が上昇する。異物は、前記したように、異物処理筒 4 4の内周面に集中して集まっている。スキマー 52aは、処理液混合物の液面に浮上し ているその異物を搔き寄せながら旋回して異物除去堰 53bから異物をスカムボックス 53内に落し込ませる。
[0059] スキマー 52aが異物除去堰 53bの近傍を通過するとき、処理液混合物の水位は、 図 3に示すように、スカムボックス 53内へ異物をスムーズに排出するために、異物除 去堰 53bの上まで上昇するように調整されており、液面 F1の位置まで上昇する。そ の結果、異物は、異物除去堰 53bより上に位置する処理液混合物の液面 F1まで浮 上することによって、スキマー 52の下端部 52cより上方の処理液混合物中に存在す ることになる。このため、異物のダマ(塗料の塊)は、スキマー 52の下端部 52cによつ て、異物除去堰 53bの外壁や上面に押し潰して付着させることが回避され、スムーズ にスカムボックス 53内に落し込まれて排出されるようになる。さらに、異物除去堰 53b (スキマー 52が近付いて来る側)は、開口 53aの上端部 53c (開口 53aの他の部分) より低く形成されているため、スキマー 52が圧接することがなぐ異物除去堰 53bへ の異物の付着を防止できる。
したがって、上記の構成を有するスキマー 52およびスカムボックス 53の開口 53aは 、異物除去の性能が低下することを防止できるとともに、異物除去堰 53bゃスキマー 52に付着した異物を除去する作業を不要にすることができる。
[0060] 前記スカムボックス 53内に落し込まれた異物は、図 2に示すように、濾過槽 9内でメ ッシュ金網 91内に落し込まれて脱水処理され、処理液混合物が濾過される。濾過さ れた処理液は、濾過槽 9の内底の排出口 9aから第 1浮上分離槽 31に循環して再度 使用することが可能である。なお、メッシュ金網 91内の異物は、外部に廃棄される。
[0061] スキマー 52aがスカムボックス 53を乗り越えてスキマー検出スィッチ 72がある地点ま で移動するときは、電磁バルブ Vが閉まっていて、水位が液面 F1の位置に上昇して いる(図 3参照)。なお、水位が液面 F1よりさらに上昇したときには、浄化された処理 液がオーバーフロー堰 42aからオーバーフロー槽 6に流れ落ちて、水位が液面 F1に 保たれる。 [0062] そして、図 4に示すように、スキマー 52aが旋回してさらにスカムボックス 53から旋回 方向に離間して、作動杆 73がスキマー検出スィッチ 72に近接すると、スキマー検出 スィッチ 72が ONして、電磁バルブ Vの弁を開き、処理液が排出路 85からオーバー フロー槽 6に流れて水位を下降させる。
スキマー 52aがスキマー検出スィッチ 72を ONした後、スカムボックス 53から旋回方 向に離間するとき、処理液混合物の水位は、スカムボックス 53内へ処理液混合物の 流出を防止するために、異物除去堰 53bの下まで下降するように調整されており、液 面 F2の位置まで下降する。その結果、スキマー 52が異物をスカムボックス 53内に落 し込む作業をしていないときには、処理液混合物が異物除去堰 53bからスカムボック ス 53内に流れることがなレ、。このため、スカムボックス 53内に流れる処理液混合物の 量を少なくすることができる。
[0063] このように、スキマー 52が異物を搔き寄せるときは、スカムボックス 53から処理液混 合物が排出されることを防止するために、電磁バルブ Vを開いて槽本体 42からォー バーフロー槽 6に排出路 85から処理液を流して水位を液面 F2まで下げ、スカムボッ タス 53に異物を排出するときは、電磁バルブ Vを閉じて槽本体 42からオーバーフロ ー槽 6に処理液が流出するのを停止して水位を液面 F1まで上昇させ、スカムボックス 53内に異物がスムーズに落し込まれるように水位を調整している。
[0064] 第 2浮上分離装置 4は、スキマーアーム 51が 1回転する 1サイクルの間に、異物を 濾過槽 9に排出して除去する動作と、浄化された処理液をオーバーフロー槽 6に送る 動作と、を 2つのスキマー 52a, 52bと水位切換調整手段 7とによって 2回行っている 。このため、異物を効率よく排出(廃棄)することができるため、排水として廃棄する処 理液の量の大幅な削減が実現できる。
[0065] 本実施形態の第 2浮上分離装置 4によれば、次のような効果を奏する。
(1) 異物除去堰 53bは、スカムボックス 53の開口 53aの上端部 53cより低く形成さ れているので、処理液混合物の液面 F1に浮上した異物が異物除去堰 53bの上面よ り上の位置力 スカムボックス 53内に落ち込むように流れるため、処理液混合物の流 速が上がり、スムーズに排出できる。
(2)スキマー 52の横幅は、異物除去堰 53bの横幅より長く形成されている。これによ り、スキマー 52は、異物除去堰 53b上を通過するときに、スキマー 52の両側が異物 除去堰 53bの左右に位置するスカムボックス 53の側壁の前端部に摺接することによ り、異物除去堰 53bの上面に当接することがないため、異物を異物除去堰 53bに押 し潰して付着させることがなレ、。
(3) スキマー 52で異物をスカムボックス 53に落し込むとき、スキマー検出スィッチ 7 1で電磁バルブ Vの弁を閉じて、処理液混合物の水位を異物除去堰 53bより高い液 面 F1まで上昇させ異物が異物除去堰 53bに接触して付着することが無いので、スカ ムボックス 53内にスムーズに落ち込むようになる。
(4) スキマー 52が異物除去堰 53b上を通過するとき、処理液混合物の水位は、異 物除去堰 53bの上の液面 F1まで上昇するように調整され、異物が処理液混合物に 浮かんだ状態で、スカムボックス 53内に向かって流速を上げながら勢いを増して流 れ、異物除去堰 53bに接触して付着することなぐ開口 53a内に流れ込む。そのため 、スキマー 52の下端部 52cによって異物のダマが異物除去堰 53bの上面に押し潰 すようにして付着されることが回避される。
(5) スキマー 52が異物を搔き寄せているときは、スキマー検出スィッチ 72で電磁バ ルブ Vの弁を開き、処理液をオーバーフロー槽 6に送って水位を下降させ、スカムボ ックス 53から処理液混合物が排出されることを防止する。このため、スカムボックス 53 を介して廃棄される処理液の量を削減しつつ、異物を確実に排出して、処理液を有 効に再利用することができる。
[0066] なお、本発明は、前記実施形態に限定されるものではなく、その技術的思想の範 囲内で種々の改造および変更が可能であり、本発明はこれら改造および変更された 発明にも及ぶことは勿論である。
[0067] < <変形例 > >
例えば、前記実施形態では、工業用水を処理液として説明したが、その処理液は、 異物が浮遊する液体であればよぐ特に限定されない。一方、異物は、液体でも固体 でもよく、浮力がなくてもエアなどによって浮遊するようになるものであればよぐ特に 限定されない。
すなわち、本発明の浮上分離装置および浮上分離方法は、液体の液面に浮遊す る異物を取り除く装置としてあらゆるものに使用できる。
[0068] また、水位切換調整手段 7であるスキマー検出スィッチ 71 , 72は、リミットスィッチや 近接スィッチなどのスィッチに限定されるものではなぐスキマー 52の位置を検出す るものであればよい。例えば、スキマー検出スィッチ 71 , 72は、スキマーアーム 51の 回転角度を検出するエンコーダや回転スィッチなどや、発光素子と受光素子とによつ てスキマー 52を検出するものであってもよい。
[0069] さらに、スキマー 52a, 52bの数は、 2個に限定されるものではなぐ浮上分離システ ム Aの大きさや処理能力や処理液などによって適宜に変更してもよレ、。スキマー 52a , 52bの数は、例えば、 1個であってもよい。

Claims

請求の範囲
[1] 浮遊する異物が混入している処理液が貯留される浮上分離槽と、
前記浮上分離槽内の処理液の液面に沿って旋回して、液面に浮上してレ、る異物を 搔き寄せる少なくとも一つのスキマーと、
前記処理液の液面近傍に開口を有し、前記スキマーにより搔き寄せられた前記異 物を液面から除去するためのスカムボックスと、を備えた浮上分離装置であって、 旋回する前記スキマーが前記スカムボックスから旋回方向に離間すると前記処理 液の水位を下げ、前記スキマーが前記スカムボックスに旋回方向に近接すると前記 処理液の水位を上げる水位切換調整手段を備えたことを特徴とする浮上分離装置。
[2] 前記スカムボックスの前記開口には、前記スキマーが近付いて来る側に他の部分よ り低レヽ堰が形成されてレ、ること
を特徴とする請求の範囲第 1項に記載の浮上分離装置。
[3] 前記水位切換調整手段は、前記処理液を前記浮上分離槽から外部へ排出する排 出路と、
前記スキマーの位置を検出する少なくとも 1つのスキマー検出スィッチと、 前記排出路上に設けられ、前記スキマー検出スィッチからの検出信号で前記排出 路を開閉する電磁バルブと、を備えていること
を特徴とする請求の範囲第 1項または第 2項に記載の浮上分離装置。
[4] 前記下げられる水位が、前記堰より下に設定され、
前記上げられる水位が、前記堰より上かつ前記スカムボックスの上端より下に設定 されてレ、ること
を特徴とする請求の範囲第 2項または第 3項に記載の浮上分離装置。
[5] 前記スキマーの長手方向の幅は前記堰の長手方向の幅よりも長いこと
を特徴とする請求の範囲第 2項から第 4項のうちいずれ力、 1項に記載の浮上分離装 置。
[6] 浮遊する異物が混入している処理液が貯留される浮上分離槽と、
前記処理液の液面に浮上した前記異物を旋回させて搔き寄せる少なくとも 1つのス キマーと、 前記スキマーによって搔き寄せられた前記異物を前記浮上分離槽の外部に排出 するスカムボックスと、を備え、前記浮上分離槽内の処理液に浮上した前記異物を取 り除く浮上分離装置による浮上分離方法であって、
旋回する前記スキマーが前記スカムボックスから旋回方向に離間したときに前記処 理液の水位を下げ、前記スキマーが前記スカムボックスに旋回方向に近接したときに 前記処理液の水位を上げて前記異物を取り除くこと
を特徴とする浮上分離方法。
PCT/JP2006/300582 2005-02-21 2006-01-18 浮上分離装置および浮上分離方法 WO2006087881A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007503595A JP4928438B2 (ja) 2005-02-21 2006-01-18 浮上分離装置および浮上分離方法
CN2006800055968A CN101128396B (zh) 2005-02-21 2006-01-18 漂浮分离装置和漂浮分离方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005043635 2005-02-21
JP2005-043635 2005-02-21

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2006087881A1 true WO2006087881A1 (ja) 2006-08-24

Family

ID=36916292

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2006/300582 WO2006087881A1 (ja) 2005-02-21 2006-01-18 浮上分離装置および浮上分離方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP4928438B2 (ja)
CN (1) CN101128396B (ja)
WO (1) WO2006087881A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012127033A (ja) * 2010-12-17 2012-07-05 Duplo Seiko Corp 古紙再生処理装置
WO2014162050A1 (en) * 2013-04-05 2014-10-09 Finnchain Oy Method and apparatus for removal of surface scum

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6912630B1 (ja) * 2020-06-25 2021-08-04 株式会社スギノマシン 液処理装置および液処理方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63143996A (ja) * 1986-12-09 1988-06-16 Taikisha Ltd 塗料滓分離捕集装置
JPH06269774A (ja) * 1993-03-17 1994-09-27 Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd 浮上スカム回収装置
JPH09276860A (ja) * 1996-04-11 1997-10-28 Maezawa Ind Inc 水位変動用スカム除去装置
JP2001079546A (ja) * 1999-09-10 2001-03-27 Asahi Tec Corp スカム除去装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN2122860U (zh) * 1992-05-07 1992-11-25 邓景福 浮油收集器
JP4016312B2 (ja) * 2000-03-24 2007-12-05 株式会社石垣 固形物回収装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63143996A (ja) * 1986-12-09 1988-06-16 Taikisha Ltd 塗料滓分離捕集装置
JPH06269774A (ja) * 1993-03-17 1994-09-27 Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd 浮上スカム回収装置
JPH09276860A (ja) * 1996-04-11 1997-10-28 Maezawa Ind Inc 水位変動用スカム除去装置
JP2001079546A (ja) * 1999-09-10 2001-03-27 Asahi Tec Corp スカム除去装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012127033A (ja) * 2010-12-17 2012-07-05 Duplo Seiko Corp 古紙再生処理装置
WO2014162050A1 (en) * 2013-04-05 2014-10-09 Finnchain Oy Method and apparatus for removal of surface scum

Also Published As

Publication number Publication date
CN101128396B (zh) 2010-05-19
CN101128396A (zh) 2008-02-20
JP4928438B2 (ja) 2012-05-09
JPWO2006087881A1 (ja) 2008-07-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10370262B2 (en) Water reclamation system and method
US9149746B2 (en) High speed filtration device using porous media, and backwash method thereof
EP3539669B1 (en) Apparatus and method for cleaning contaminated materials
KR101758594B1 (ko) 복합 및 선택 운전이 가능한 부상침전통합형 오폐수 처리 시스템
JPH0615262A (ja) 内部に取り込んだ浮遊する微粒子を有する液体から微粒子を分離する装置及びその方法
NL8102894A (nl) Inrichting voor het flotatie-afscheiden van een suspen- sie of emulsie uit vloeistoffen.
US4585557A (en) Apparatus for concentrating, separating and removing floating solid material
CN111821723A (zh) 一种对喷漆废水处理系统及其处理方法
US20030183582A1 (en) Apparatus for removing grit and grease from water
JP4928438B2 (ja) 浮上分離装置および浮上分離方法
KR20040066002A (ko) 여과장치 및 그것을 이용한 여과방법
JP2002018210A (ja) 微細固体分離装置
CN102153263B (zh) 一种污泥浓缩脱水系统及其脱水方法
US5833868A (en) Portable water recycler
CN107174844B (zh) 一种洗扫车污水循环利用装置、工作方法及洗扫车
JP5916271B2 (ja) 固液分離装置及び固液分離方法
JP2010094568A (ja) 沈砂洗浄装置
KR100811013B1 (ko) 달팽이관 노즐을 이용한 침사세정장치
KR100944719B1 (ko) 침사분리장치
CN113501555A (zh) 一种洗车污水循环利用系统
JP4197186B2 (ja) スラッジ除去装置
WO1997017123A1 (en) A launder arrangement, settling tank and a process for removing surface froth
JP4303487B2 (ja) 塗料の分離装置
CN220467775U (zh) 一种水浮洗渣石分离装置
JP2005211820A (ja) 未着塗料回収装置

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 5632/DELNP/2007

Country of ref document: IN

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200680005596.8

Country of ref document: CN

Ref document number: 1200701668

Country of ref document: VN

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2007503595

Country of ref document: JP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: JP

WWW Wipo information: withdrawn in national office

Ref document number: JP

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 06711851

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWW Wipo information: withdrawn in national office

Ref document number: 6711851

Country of ref document: EP