WO2006057119A1 - 無機塗料組成物、低屈折率性塗膜及び低屈折率性塗膜の形成方法 - Google Patents

無機塗料組成物、低屈折率性塗膜及び低屈折率性塗膜の形成方法 Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to an inorganic coating composition that can form a highly transparent low refractive index coating film, a low refractive index coating film, and a method for forming a low refractive index coating film.
  • Patent Literature a coating liquid containing porous silica fine particles and a binder is applied to form a low refractive index coating film.
  • a binder since a binder is essential, a coating film obtained by the influence of the binder that has a low reflectivity cannot be obtained.
  • a primer layer or a hard coat layer may be required as an intermediate layer in order to improve the adhesion between the organic substrate and the inorganic particles. There is a problem that becomes higher.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 7-48527
  • Patent Document 2 US Patent No. 4413088 Disclosure of the invention
  • the present invention provides an inorganic coating composition, a low refractive index coating film and a low refractive index property which can form a low refractive index coating film having high transparency and excellent adhesion to an organic substrate. It aims at providing the method of forming a coating film.
  • the present invention has the following features.
  • the organic solvent A is a group consisting of diglyme, N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide, acetoacetate, N methyl 2-pyrrolidinone, 2 pyrrolidinone, 1,3 dimethylenoyl 2-imidazolidinone and dimethyl sulfoxide.
  • Organic solvent power that is miscible with water and does not substantially swell or dissolve the organic base material, and has a boiling point of 50 to 120 ° C in the state of atmospheric pressure 0.
  • IMPa methanol, ethanol, n-propanol
  • a method for forming a low refractive index coating film comprising: a step of forming a low refractive index coating film by coating and drying on an organic substrate.
  • the present invention it is possible to obtain an inorganic coating composition and a low refractive index coating film that can form a low refractive index coating film having high transparency and excellent adhesion to an organic substrate.
  • the present invention can also provide a simple and inexpensive method for forming a low refractive index coating film.
  • the inorganic coating composition of the present invention contains (a) hollow silica particles, (b) an organic solvent A, and (c) an organic solvent B and Z or (d) water.
  • the hollow silica particles are required to have an average particle diameter of 5 to 3000 nm. If the average particle size is less than 5 nm, the hollow silica particles become unstable in the inorganic coating composition, and the particles may be aggregated and become too large. When a coating film is formed, it is difficult to embed it in an organic base material, and the adhesion may be lowered.
  • the hollow silica particles preferably have an average particle size of 5 to 200 nm, particularly preferably an average particle size of 5 to 200 nm, because the resulting coating film is excellent in transparency. In the present specification, the average particle diameter of the hollow silica particles is based on mass.
  • the hollow silica particles preferably have a refractive index of 1.2 to 1.5. This is preferable because a low refractive index coating film can be obtained.
  • the refractive index of the hollow silica particles is preferably measured, for example, by the method described in JP-A-2001-233611. Specifically, various standard solutions with known refractive indexes were dropped on a glass plate with a few drops, and a hollow sheet was added to the solution. An example is a method in which liquid particles are mixed so that the refractive index of the standard solution when the mixed solution becomes transparent is the refractive index of the hollow silica particles.
  • the hollow silica particles are contained in the dispersion, it is preferable to use the powder after drying the dispersion medium after evaporating the dispersion medium in the dispersion. It is particularly preferable that the hollow silica particles have a refractive index of 1.3 to 1.4.
  • the hollow silica particles are silica particles having pores inside the particles, and the outer shell portion other than the pores may be porous or non-porous. Can be used as needed.
  • a method for producing hollow silica particles for example, porous inorganic particles are used as the core particles, and the core particles are coated with silica using caustic acid around the core particles, and then the core particles are coated with an acid. There is a method for obtaining hollow particles by dissolution. Hollow silica particles with a pore size of 1/3 to 2/3 of the particle size are preferred.
  • an organic solvent A is contained in the inorganic coating composition.
  • the adhesiveness of the obtained coating film can be improved.
  • the organic solvent A swells or dissolves the organic substrate so that the surface of the organic substrate becomes microscopic. After creating a defect site and hollow silica particles infiltrating into the micro-defect site, the organic solvent A volatilizes, causing resin shrinkage at the surface of the organic substrate, and the hollow silica particles are supported in the organic substrate. It is thought that it is fixed in the locked state.
  • the organic solvent A can swell or dissolve the organic base material and has a boiling point of 130 ° C or higher at a pressure of 0. IMPa.
  • the organic solvent A When preparing the inorganic coating composition, the organic solvent A must be mixed with water in the inorganic coating composition so that the inorganic coating composition does not cause phase separation. For this reason, organic solvent A preferably has a water solubility of 2 or higher.
  • the solubility in water means the amount (g) of the organic solvent A dissolved in water lOOg at a temperature of 20 ° C.
  • the organic solvent A when the organic solvent A has a boiling point of 130 ° C or higher in a state where the atmospheric pressure is 0.1 IMPa, it can remain in the inorganic coating composition to the end as compared with the organic solvent B and water. The following effects can be shown.
  • the organic solvent A particularly preferably has a boiling point of 160 to 300 ° C. under a pressure of 0.1 IMPa.
  • “atmospheric pressure” means absolute pressure. To do.
  • Organic solvent A consists of diglyme, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, acetoacetate, N-methyl-2-pyrrolidinone, 2-pyrrolidinone, 1,3-dimethyl_2 _imidazolidinone and dimethyl Any one selected from the group consisting of sulfoxide power and the like is preferable.
  • the inorganic coating composition of the present invention contains an organic solvent B and Z or water. Similarly to the organic solvent A, the organic solvent B must be mixed with water in the inorganic coating composition so that the inorganic coating composition does not cause phase separation. is there. For this reason, the organic solvent B preferably has a water solubility of 2 or more.
  • the organic solvent B and water can be used in any proportion, and each may be used alone as described below.
  • Organic solvent B and water serve to stably disperse the hollow silica particles in the inorganic coating composition. Further, the organic solvent B is particularly preferable because it also serves to improve the coating property of the inorganic coating composition.
  • the organic solvent B and water By containing the organic solvent B and water, when the inorganic coating composition is applied and dried, the organic substrate A evaporates faster than the organic solvent A.
  • the organic base material can be uniformly swelled or dissolved, which is preferable.
  • the organic solvent B needs to have a boiling point of 50 to 120 ° C. without substantially swelling or dissolving the organic base material and at a pressure of 0. IMPa.
  • the boiling point of the organic solvent B is less than 50 ° C, it will volatilize at room temperature and it will be difficult to handle the inorganic coating composition.Therefore, if the boiling point is over 120 ° C, it will not volatilize. This is not preferable because the adhesion between the organic base material and the hollow silica particles may be hindered. It is preferable to use an organic solvent B having an atmospheric pressure of 0. IMPa and a boiling point of about 50 to 80 ° C. lower than the boiling point of the organic solvent A.
  • organic solvent B for example, methanol selected from the group consisting of methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, sec-butanol and t-butanol is preferable. .
  • the inorganic coating composition of the present invention can contain a surfactant as necessary.
  • Surfactants include anionic surfactants, cationic surfactants, and nonionic surfactants. Any of the surfactants can be used. It is preferable to contain a surfactant because it has excellent wettability with respect to an organic substrate.
  • surfactant -CH
  • Nonionic surfactants having a structural unit of _COOY (Y is a hydrogen atom, a sodium atom, a potassium atom or an ammonium ion) are preferred. Among them, there is no risk of impairing the storage stability of the inorganic coating composition.
  • surfactants are particularly preferred.
  • Nonionic surfactants include, for example, alkyl polyoxyethylene ethers, alkyl polyoxyethylene monopolypropylene ethers, fatty acid polyoxyethylene esters, fatty acid polyoxyethylene sorbitan esters, fatty acid polyoxyethylene sonolebitole esterol, Examples thereof include alkyl polyoxyethylene amine, alkyl polyoxyethylene amide, and polyether-modified silicone surfactants.
  • the inorganic coating composition of the present invention can contain additives such as coloring dyes, pigments, ultraviolet absorbers and antioxidants as necessary.
  • the content of the organic solvent A is required to be 1 to 20% by mass of the inorganic coating composition.
  • the organic solvent A is considered to function to swell or dissolve the organic base material so that the hollow silica particles are carried in the base material. Accordingly, the organic solvent A depends on the total concentration, not the solid content, in the inorganic coating composition which only needs to be present in an amount covering the surface of the organic substrate. If the content of the organic solvent A is less than 1% by mass, the adhesion of the resulting coating film to the organic substrate may be reduced, such being undesirable.
  • the content of the organic solvent A exceeds 20% by mass, the influence of erosion on the organic base material is increased, the smoothness of the surface is impaired, and the transparency of the coating film may be reduced. Furthermore, this is preferable because the appearance of the coating film may be deteriorated.
  • the content of the organic solvent A is particularly preferably 3 to 10% by mass.
  • the contents of the organic solvent B and water are required to be 60 to 98.9% by mass of the inorganic coating composition. If the content of the organic solvent B and water is less than 60% by mass, the hollow silica particles or the organic solvent A exceeds the predetermined range, which is not preferable. If it exceeds 99.9% by mass, the amount of the organic solvent A is small. As a result, the adhesion of the low refractive index coating film to the organic substrate is reduced. This is not preferable. It should be noted that the total amount of the organic solvent B and water may be 60 to 98.9% by mass regardless of whether they are blended in an arbitrary ratio or used alone. That is, the inorganic coating composition of the present invention may not contain any of the organic solvent B or water. The content of the organic solvent B and water is particularly preferably 80 to 97% by mass.
  • the solid content of the inorganic coating composition of the present invention is required to be 0.:! To 20% by mass.
  • the solid content of the inorganic coating composition is particularly preferably 0.1 to 10% by mass.
  • the surfactant is preferably 1 to 500 ppm. Surfactant power If it is less than Slppm, the wettability of the inorganic coating composition will decrease, and the workability during application may be impaired. This is not preferable because the quality of the appearance of the film may be deteriorated.
  • the surfactant is particularly preferably 10 to 400 ppm.
  • the inorganic coating composition of the present invention preferably contains 1 to 50 parts by mass of a kaic acid oligomer in terms of solid content with respect to 100 parts by mass of the hollow silica particles as necessary. This is preferable because the strength of the obtained coating film can be improved. If the content of the carboxylic acid oligomer is less than 1 part by mass, there is almost no effect of improving the strength of the coating film. This is preferable because there is a risk of increasing.
  • the content of the carboxylic acid oligomer is particularly preferably 1 to 30 parts by mass.
  • Examples of the carboxylic acid oligomer include a method in which an alkoxide of carboxylic acid such as ketyl ketate is decomposed in water, a method in which an alkali metal silicate is decomposed with an acid and then dialyzed, and an alkali metal silicate is peptized.
  • a method obtained by a method, a method of contacting an alkali metal silicate with an acid-type cation exchange resin, or the like is preferable.
  • the caylic acid oligomer obtained by contacting the alkali metal silicate with an acid type cation exchange resin has a high purity, and when the coating film is formed, the binder is strong. preferable.
  • alkali metal silicate sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and the like are preferable.
  • ion exchange resin conventionally known ones can be used.
  • a cation exchange resin having an SOH group, a COOH group or the like it is preferable to use
  • the amount of alkali metal ions to be removed can be adjusted by controlling the amount of cation exchange resin to be used, contact time, contact method, and the like.
  • the carboxylic acid oligomer means a polymer in which about 2 to 20 SiO molecules are polymerized in a dispersion medium. In the carboxylic acid oligomer,
  • the carboxylic acid oligomer is preferably used as a dispersion by appropriately dispersing it in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, isopropanol and the like as necessary.
  • the content of Kei acid oligomer in the dispersion 1: is preferably 10 mass 0/0.
  • the inorganic coating composition of the present invention can form a low refractive index coating film by applying it to an organic substrate.
  • the obtained coating film preferably has a refractive index of 1.:! To 1.4.
  • the organic base material it is preferable to use a substrate made of force polycarbonate or acrylic resin, which can be used in various ways as needed.
  • the shape of the substrate is not limited to a flat plate, and the entire surface or a part thereof has a curvature.
  • the coating film obtained by the present invention preferably has a minimum value of reflectance of 1% or less in the wavelength region of 380 to 780 nm. Reflectance is preferably measured with a spectrophotometer. If the minimum value of the reflectance is more than 1%, the function as a low refractive index coating film may be insufficient, which is preferable.
  • the thickness of the coating film obtained by the present invention is preferably adjusted so that the reflectance at a wavelength of 550 nm takes a minimum value.
  • the film thickness can be adjusted by the formula ⁇ 138 ⁇ (where ⁇ is the wavelength of light and ⁇ is the refractive index of the film).
  • the low refractive index coating film obtained by applying the inorganic coating composition of the present invention is excellent in transparency, it is used particularly when the organic substrate is transparent. Is suitable.
  • the transparency is preferably evaluated by haze value according to the standard of JIS K7150.
  • the obtained low refractive index coating film preferably has a haze value of 1% or less. When the haze value is more than 1%, the transparency of the coating film is deteriorated and the transmittance is lowered, which is preferable.
  • the haze value of the obtained coating film is particularly preferably 0.5% or less.
  • the inorganic coating composition of the present invention can be applied by a known method. For example, brush coating, roller coating, hand coating, spin coating, dip coating, coating by various printing methods, curtain flow, coating, gravel coating, gravure coating, linole coating, ronor coating, flow coating, spray coating, dip coating, etc. Is mentioned. Further, for the purpose of increasing the mechanical strength of the coating film, irradiation with heating, ultraviolet rays, electron beams or the like may be performed as necessary. The heating may be determined taking into consideration the heat resistance of the organic base material, but is preferably 60 to 100 ° C.
  • pretreatment is not particularly required for the organic substrate, but plasma treatment, corona treatment, UV treatment, Discharge treatment such as water treatment, chemical treatment such as water, acid or alkali, or physical treatment using an abrasive can be performed.
  • the thickness of the obtained coating film is preferably 30 to 3000 nm. If the thickness of the coating film is less than 30 nm, the function as a low refractive index coating film may be insufficient. Therefore, if the coating film thickness is more than 3000 nm, cracks tend to occur. Interference fringes or scratches are likely to be noticeable. It is particularly preferable that the coating film has a film thickness of 50-:! OOOnm.
  • Examples 1, 2, 5, and 6 are shown below as examples. Examples 3 and 4 are shown as comparative examples.
  • the refractive index of the hollow silica particles is determined by the following method. That is, the dispersion medium is evaporated from the hollow silica fine particle-dispersed sol by an evaporator and then dried at 120 ° C. to obtain a powder. A few drops of standard refractive liquid with a known refractive index are dropped on a glass plate, and the above powder is mixed therewith. This operation is performed with various standard refractive liquids, and the refractive index of the standard refractive liquid when the mixed liquid becomes transparent is used as the refractive index of the fine particles.
  • Example 1 Dispersion sol of hollow silica fine particles (average particle size 60 nm, pore size 30 nm, refractive index 1.3, solid content 20% isopropanol as a solvent, isopropanol as a solvent in a 200 ml glass reaction vessel. Has a boiling point of 8 ⁇ 3 ° C at 0 ° IMPa.) 5 g, 85 g of isopropanol, N, N-dimethylacetamide (pressure 0 66 ° C at IMPa 1 66 ° C, against water (Solubility: dissolves at an arbitrary ratio) 10 g is added and mixed, and then stirred at 20 ° C. for 1 hour to obtain an inorganic coating composition having a solid content of 1%. The content of N, N-dimethylacetamide is 10%, and the content of isopropanol is 89%.
  • the resulting inorganic coating composition was applied onto a polycarbonate plate wiped with ethanol (length 10 Omm x width 100 mm, thickness 3.5 mm, refractive index: 1.584), and rotated at 150 rpm for 70 rpm. After spin coating for 2 seconds, dry at 100 ° C for 20 seconds to form a coating with a thickness of lOOnm.
  • evaluation is performed by the following method on a sampnore having a coating film formed thereon.
  • the evaluation results are shown in Table 1.
  • Example 2 to 6 the same operations as in Example 1 were performed using the resulting inorganic coating composition, and evaluation was performed.
  • the evaluation results are also shown in Table 1.
  • haze value As the transparency evaluation, evaluation is performed based on a haze value.
  • the haze measurement is evaluated according to JIS K7150.
  • the haze value of the coating film on the substrate is measured with a haze computer (model name: HGM-3DP, manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.). A haze value of 1% or less is accepted, and a haze value exceeding 1% is rejected.
  • the reflectance of the obtained coating film is measured using a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., model: U-4100). The rating is less than 1% reflectivity at 550nm.
  • the refractive index of the obtained coating film is measured using an ellipsometer (manufactured by ULVAC, model: ESM-1AT). A refractive index in the range of 1.1 to 1.4 is acceptable.
  • is when the coating film is not peeled off at all
  • is when the area of more than half of the part is peeled off
  • X when more than half is peeled off.
  • Example 1 85 g of isopropanol, 85 g of water and 0.1% nonionic surfactant (product name: L-77, manufactured by Nippon Tunica Co., Ltd.) ethanol solution (note that ethanol is at a pressure of 0. IMPa) The boiling point is 78.2 ° C.) Except for changing to 0.lg, the same operation is carried out to obtain an inorganic coating composition having a solid content of 1%.
  • the N, N_dimethylacetamide content is 10%, and the total content of isopropanol, water and ethanol is 89%.
  • Example 1 except that isopropanol is 65 g and N, N-dimethylacetamide is 30 g, the same operation as in Example 1 is performed to obtain an inorganic coating composition having a solid content of 1%.
  • the N, N-dimethylacetamide content is 30% and the isopropanol content is 69%.
  • Example 1 an inorganic coating composition having a solid content of 1% is obtained in the same manner as in Example 1 except that 95 g of isopropanol is used without using N, N-dimethylacetamide. The isopropanol content is 99%.
  • Example 1 93 g of isopropanol is used, and 2 g of pyrrolidinone (pressure 0. boiling point 245 ° C at IMPa, solubility in water: dissolve in any ratio) instead of N, N-dimethylacetamide is 2 g. Except for the above, the same operation as in Example 1 is carried out to obtain an inorganic coating composition having a solid content of 1%. The content of 2-pyrrolidinone is 2%, and the content of isopropanol is 97%. [0044] [Example 6]
  • Example 1 except that the base material is changed to polymethylmethacrylate (refractive index: 1.521), the same operation as in Example 1 is performed to form a coating film.
  • a low refractive index coating film can be imparted to various articles having an organic substrate such as a display panel cover material, an optical lens, an optical filter, and a polarizing film. It can. It should be noted that the entire contents of Japanese Patent Application No. 2004-342184 filed on November 26, 2004, Akito Ida, the scope of claims, and the abstract are cited herein as the disclosure of the specification of the present invention. It is something that is incorporated.

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Abstract

 高い透明性を有し、有機基材との密着性に優れた低屈折率性塗膜を形成できる無機塗料組成物。  有機基材上に低屈折率性塗膜を形成できる下記組成の無機塗料組成物、平均粒子径5~3000nmの中空状シリカ粒子:0.1~20質量%、有機基材を膨潤又は溶解でき、かつ、気圧0.1MPaの状態で沸点130°C以上の、水に混和しうる有機溶剤:1~20質量%、有機基材を実質上膨潤又は溶解させず、かつ、気圧0.1MPaの状態で沸点50~120°Cの、水に混和しうる有機溶剤及び水:60~98.9質量%。

Description

明 細 書
無機塗料組成物、低屈折率性塗膜及び低屈折率性塗膜の形成方法 技術分野
[0001] 本発明は、透明性の高い低屈折率性塗膜を形成できる無機塗料組成物、低屈折 率性塗膜及び低屈折率性塗膜を形成する方法に関する。
背景技術
[0002] 従来より、ディスプレイパネルのカバー材料や、光学レンズ、光学フィルタ、偏光フィ ルム等の有機基材に対して、反射率の低減等を目的として、低屈折率性塗膜を形成 する様々な方法が検討されている。この検討の一環として、スパッタゃ CVD等の蒸 着法が挙げられるが、有機基材の場合、高温に加熱することができず、有機基材と塗 膜の密着性が充分なものが得られないという問題がある。また、上記蒸着法は一般に 、膨大な設備投資がかかりコストが高くなる他、大面積の基材に対しては生産技術的 に難しいという問題も挙げられる。このため、簡易な装置で安価に生産できることから 、例えば、多孔質シリカ微粒子とバインダを含有した塗布液を塗工して、低屈折率性 塗膜を形成する湿式による方法が挙げられる(特許文献 1)。しかし、この湿式による 方法では、バインダを必須とするため、このバインダの影響により得られる塗膜の反 射率がそれほど下がるものは得られてない。また、有機基材上にシリカ等の無機粒子 を形成する際には有機基材と無機粒子の密着性を向上させるためにプライマー層や ハードコート層が中間層として必要となる場合があり、コストが高くなるという問題があ る。
[0003] また、ポリカーボネート等の有機基材に強固なシリカ膜を形成する方法として、疎水 処理されたシリカ、水、及び有機基材に対して溶解性のあるセロソルブアセテート等 の有機溶剤を含んだ塗料が開示されている(特許文献 2)。しかし、この方法では、有 機基材に対して溶解性のある有機溶剤を大量に含むことから有機基材への侵食が かなり進み、得られた塗膜品が白濁しやすいという問題がある。
[0004] 特許文献 1 :特開平 7— 48527号公報
特許文献 2:米国特許第 4413088号明細書 発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0005] 本発明は、高い透明性を有し、有機基材との密着性に優れた低屈折率性塗膜を形 成できる無機塗料組成物、低屈折率性塗膜及び低屈折率性塗膜を形成する方法を 提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
[0006] 本発明は下記を特徴とする要旨を有する。
(1) (a)平均粒子径 5〜3000nmの中空状シリカ粒子を 0.:!〜 20質量%; (b)有機 基材を膨潤又は溶解することができ、かつ、気圧 0. IMPaの状態で沸点 130°C以上 の、水に混和しうる有機溶剤 Aを 1〜20質量%; (c)有機基材を実質上膨潤又は溶 解させることなぐかつ、気圧 0. IMPaの状態で沸点 50〜120°Cの、水に混和しうる 有機溶剤 B及び Z又は(d)水を 60〜98. 9質量%を含有し、有機基材上に低屈折 率性塗膜を形成することのできる無機塗料組成物。
(2)前記有機基材がポリカーボネート又はアクリル樹脂からなる上記(1)に記載の無 機塗料組成物。
(3)前記有機溶剤 Aが、ジグライム、 N, N ジメチルホルムアミド、 N, N ジメチル ァセトアミド、ァセト酢酸ェチル、 N メチル 2 ピロリジノン、 2 ピロリジノン、 1 , 3 ジメチノレ 2—イミダゾリジノン及びジメチルスルホキシドからなる群より選ばれる少 なくとも 1種である上記(1)又は(2)に記載の無機塗料組成物。
(4)前記有機基材を実質上膨潤又は溶解させることなぐかつ、気圧 0. IMPaの状 態で沸点 50〜120°Cの、水に混和しうる有機溶剤力 メタノーノレ、エタノール、 n—プ ロパノール、イソプロパノール、 n—ブタノール、イソブタノール、 sec—ブタノール及び t—ブタノールからなる群より選ばれる少なくとも 1種である上記(1)〜(3)のいずれか に記載の無機塗料組成物。
(5)上記(1)〜(4)のレ、ずれかに記載の無機塗料組成物を有機基材に塗布すること により得られる低屈折率性塗膜。
(6)前記低屈折率性塗膜の JIS K- 7150の規格に則ったヘイズが 1 %以下である 上記 (5)に記載の低屈折率性塗膜。 (7)前記低屈折率性塗膜の屈折率が 1.:!〜 1. 4である上記(5)又は(6)に記載の 低屈折率性塗膜。
(8) (a)平均粒子径 5〜3000nmの中空状シリカ粒子を 0·:!〜 20質量%; (b)有機 基材を膨潤又は溶解することができ、かつ、気圧 0. IMPaの状態で沸点 130°C以上 の、水に混和しうる有機溶剤 Aを 1〜20質量%; (c)有機基材を実質上膨潤又は溶 解させることなぐかつ、気圧 0. IMPaの状態で沸点 50〜120°Cの、水に混和しうる 有機溶剤 B及び Z又は(d)水を 60〜98. 9質量%;を含有する無機塗料組成物を調 製する工程、及び該無機塗料組成物を有機基材上に塗布、乾燥することにより低屈 折率性塗膜を形成する工程、を経る低屈折率性塗膜の形成方法。
発明の効果
[0007] 本発明により、高い透明性を有し、有機基材との密着性に優れた低屈折率性塗膜 を形成できる無機塗料組成物及び低屈折率性塗膜を得ることができる。また、本発 明により、簡易で、安価な低屈折率性塗膜の形成方法も提供することができる。 発明を実施するための最良の形態
[0008] 本発明の無機塗料組成物は、(a)中空シリカ粒子、(b)有機溶剤 Aと、(c)有機溶 剤 B及び Z又は(d)水とを含有する。
[0009] 本発明において、(a)中空シリカ粒子は平均粒子径 5〜3000nmであることが必要 である。平均粒子径 5nm未満であると、無機塗料組成物中で中空シリカ粒子が不安 定となり、凝集して粒子が大きくなりすぎるため沈殿するおそれがあるので好ましくな ぐ平均粒子径 3000nm超であると、塗膜を形成した際、有機基材への埋め込みが 困難となり、密着性が低下するおそれがあるので好ましくない。中空シリカ粒子は、得 られる塗膜が透明性に優れることから、平均粒子径 5〜200nmであることが特に好ま しぐ平均粒子径 5〜: !OOnmであることが最も好ましい。なお、本明細書において、 中空シリカ粒子の平均粒子径は質量基準のものである。
[0010] 中空シリカ粒子は、屈折率 1. 2〜: 1. 5であることが好ましい。これにより、低屈折率 性塗膜が得られるので好ましい。中空シリカ粒子の屈折率は、例えば、特開 2001— 233611号公報に記載されている方法により測定することが好ましい。具体的には、 屈折率が既知の種々の標準液について、 2、 3滴ガラス板上に滴下し、これに中空シ リカ粒子を混合して、混合液が透明になったときの標準液の屈折率を中空シリカ粒子 の屈折率とする方法が挙げられる。中空シリカ粒子が分散液中に含有される場合は 、分散液中の分散媒を蒸発させた後、乾燥して、粉末にして使用することが好ましい 。中空シリカ粒子は、屈折率 1. 3〜: 1. 4であることが特に好ましい。
なお、本明細書において、中空シリカ粒子とは、粒子内部に空孔のあるシリカ粒子 であり、空孔以外の外殻の部分は多孔質でも無孔質のものでもよぐ従来より公知の ものを適宜必要に応じて使用することができる。中空シリカ粒子の製造方法としては、 例えば、多孔質の無機粒子を核粒子として使用し、この核粒子の周りにケィ酸アル力 リ等を使用してシリカで被覆した後、酸で核粒子を溶解して中空粒子を得る方法が挙 げられる。中空シリカ粒子は、空孔径が粒子径の 1/3〜2/3であるものが好ましレヽ
[0011] 本発明では、無機塗料組成物中に有機溶剤 Aを含有する。これにより、得られる塗 膜の密着性を向上させることができる。有機溶剤 Aを含有することにより、有機基材と の密着性が向上する機構については解明できていないが、有機溶剤 Aが有機基材 を膨潤又は溶解させることにより、有機基材表面にミクロな欠陥部位を作り出し、その ミクロな欠陥部位に中空シリカ粒子が浸入した後、有機溶剤 Aが揮発することで有機 基材の表面部位で樹脂の収縮が起こり中空シリカ粒子が有機基材中に坦め込まれ た状態で固定化されるものと考えられる。
[0012] 有機溶剤 Aは、有機基材を膨潤又は溶解することができ、かつ、気圧 0. IMPaの 状態で沸点 130°C以上を有する。有機溶剤 Aは、無機塗料組成物を調製する際、無 機塗料組成物中の水と混和して無機塗料組成物が相分離を起こさなレ、ものであるこ とが必要である。このため、有機溶剤 Aは、水に対する溶解度が 2以上であることが好 ましレ、。なお、本発明において、水に対する溶解度とは温度 20°Cで水 lOOgに溶解 する有機溶剤 Aの量 (g)をいう。
[0013] また、有機溶剤 Aが気圧 0. IMPaの状態で沸点 130°C以上であることにより、無機 塗料組成物中において、有機溶剤 B、水に比べて最後まで残存することができ、上 述のような効果を示すことができる。有機溶剤 Aは、気圧 0. IMPaの状態で、沸点 1 60〜300°Cであることが特に好ましい。なお、本発明で、「気圧」とは、絶対圧を意味 する。
有機溶剤 Aは、ジグライム、 N, N—ジメチルホルムアミド、 N, N—ジメチルァセトァ ミド、ァセト酢酸ェチル、 N—メチルー 2—ピロリジノン、 2—ピロリジノン、 1 , 3—ジメチ ル _ 2 _イミダゾリジノン及びジメチルスルホキシド力、らなる群より選ばれるいずれかの ものが好ましい。
[0014] また、本発明の無機塗料組成物は、有機溶剤 B及び Z又は水を含有する。有機溶 剤 Bも有機溶剤 Aと同様、無機塗料組成物を調製する際、無機塗料組成物中の水と 混和して無機塗料組成物が相分離を起こさなレ、ものであることが必要である。このた め、有機溶剤 Bも水に対する溶解度が 2以上であることが好ましい。有機溶剤 B及び 水は、任意の割合で配合したものが使用でき、後述のとおり、それぞれ、単独で使用 してもよい。
有機溶剤 B及び水は、無機塗料組成物において、中空シリカ粒子を安定して分散 させる役割をする。また、有機溶剤 Bは、無機塗料組成物の塗布性を向上させる役割 もするので特に好ましい。この有機溶剤 B及び水を含有することにより、無機塗料組 成物を塗布して、乾燥する際、有機溶剤 Aより早く蒸発するために、乾燥の最終段階 で有機基材 Aが有機基材表面に均一に残り、有機基材を均一に膨潤又は溶解する ことができるので好ましい。 有機溶剤 Bは、有機基材を実質上膨潤又は溶解させる ことなく、かつ、気圧 0. IMPaの状態で沸点 50〜: 120°Cであることが必要である。有 機溶剤 Bの沸点が 50°C未満であると、常温で揮発しやすぐ無機塗料組成物の取り 扱いが難しくなるので好ましくなぐ沸点が 120°C超であると、揮発せずに残存し、有 機基材と中空シリカ粒子との密着性を阻害するおそれがあるので好ましくない。有機 溶剤 Bは気圧 0. IMPaの状態で沸点が有機溶剤 Aの沸点に対して 50〜80°C程度 低いものを使用することが好ましい。
有機溶剤 Bとしては、例えば、メタノーノレ、エタノール、 n—プロパノール、イソプロパ ノール、 n—ブタノール、イソブタノール、 sec—ブタノール及び t—ブタノールからなる 群より選ばれるレ、ずれかのものが好ましレ、。
[0015] 本発明の無機塗料組成物は、適宜必要に応じて、界面活性剤を含有することがで きる。界面活性剤としては、ァニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ノニォ ン性界面活性剤のいずれのものも使用できる。界面活性剤を含有することにより、有 機基材に対して優れた濡れ性を有するので好ましい。界面活性剤としては、 -CH
2
CH O—、 - SO―、— NR— (Rは水素原子又は有機基)、 -NH、—SO Y、又は
2 2 2 3
_CO〇Y (Yは水素原子、ナトリウム原子、カリウム原子又はアンモニゥムイオン)の 構造単位を有するノニオン性界面活性剤が好ましい。なかでも、無機塗料組成物の 保存安定性を損なうおそれのないことから、 -CH CH〇_の構造単位をもつノニォ
2 2
ン系の界面活性剤が特に好ましい。
ノニオン系の界面活性剤としては、例えば、アルキルポリオキシエチレンエーテル、 アルキルポリオキシエチレン一ポリプロピレンエーテル、脂肪酸ポリオキシエチレンェ ステル、脂肪酸ポリオキシエチレンソルビタンエステル、脂肪酸ポリオキシエチレンソ ノレビトーノレエステノレ、アルキルポリオキシエチレンァミン、アルキルポリオキシエチレン アミド、ポリエーテル変性のシリコーン系界面活性剤等が挙げられる。
[0016] また、本発明の無機塗料組成物は、適宜必要に応じて、着色用染料、顔料、紫外 線吸収剤、酸化防止剤等の添加剤を含有することができる。
[0017] 有機溶剤 Aの含有量は、無機塗料組成物の 1〜20質量%であることが必要である 。有機溶剤 Aは上述のとおり、有機基材を膨潤又は溶解させることにより中空シリカ 粒子を基材中に坦め込ませる働きをすると考えられる。したがって、有機溶剤 Aは有 機基材の表面を覆う量だけ存在すればよぐ無機塗料組成物において、固形分でな く全体の濃度に依存する。有機溶剤 Aの含有量が 1質量%未満であると、得られる塗 膜の有機基材への密着性が低下するおそれがあるので好ましくない。また、有機溶 剤 Aの含有量が 20質量%超であると、有機基材への侵食の影響が大きくなり、表面 の平滑性が損なわれ、塗膜の透明性が低下するおそれがあり、さらに、塗膜の外観 が悪くなるおそれがあるので好ましくなレ、。有機溶剤 Aの含有量は 3〜: 10質量%であ ることが特に好ましい。
[0018] 有機溶剤 B及び水の含有量は、無機塗料組成物の 60〜98. 9質量%であることが 必要である。有機溶剤 B及び水の含有量が 60質量%未満であると、中空シリカ粒子 又は有機溶剤 Aが所定の範囲を超えるので好ましくなぐ 98. 9質量%超であると、 有機溶剤 Aの量が少なくなるため有機基材への低屈折率性塗膜の密着力が低下す るおそれがあるので好ましくない。なお、有機溶剤 B及び水は、任意の割合で配合さ れた場合でも、単独で使用された場合でも、その総量が 60〜98. 9質量%含有され ればよい。すなわち、本発明の無機塗料組成物においては、有機溶剤 B又は水のい ずれかを全く含まなくてもよい。有機溶剤 B及び水の含有量は 80〜97質量%である ことが特に好ましい。
[0019] 本発明の無機塗料組成物の固形分含有量は 0.:!〜 20質量%であることが必要で ある。固形分含有量が 0. 1質量%未満であると、無機塗料組成物を塗布した際、ム ラが発生しやすくなるので好ましくなぐ固形分含有量が 20質量%超であると、塗布 する際の作業性が悪くなるおそれがあるので好ましくなレ、。無機塗料組成物の固形 分含有量は 0. 1〜: 10質量%であることが特に好ましい。
[0020] 本発明の無機塗料組成物において、界面活性剤は l〜500ppmであることが好ま しい。界面活性剤力 Slppm未満であると、無機塗料組成物の濡れ性が低下するため 塗布する際の作業性が悪くなるおそれがあるので好ましくなぐ界面活性剤が 500pp m超であると、得られる塗膜の外観の品質が低下するおそれがあるので好ましくない 。界面活性剤は 10〜400ppmであることが特に好ましい。
[0021] 本発明の無機塗料組成物は、適宜必要に応じて、中空シリカ粒子 100質量部に対 して、ケィ酸オリゴマーを固形分換算で 1〜50質量部含有することが好ましい。これ により、得られる塗膜の強度を向上させることができるので好ましい。ケィ酸オリゴマ 一の含有量が 1質量部未満であると、塗膜の強度を向上させる効果がほとんどないこ とから好ましくなぐ含有量が 50質量部超であると、得られる塗膜の屈折率が上がる おそれがあるので好ましくなレ、。ケィ酸オリゴマーの含有量は 1〜30質量部であるこ とが特に好ましい。
[0022] ケィ酸オリゴマーとしては、ケィ酸ェチル等のケィ酸アルコキサイドをカ卩水分解する 方法、アルカリ金属ケィ酸塩を酸で分解した後、透析する方法、アルカリ金属ケィ酸 塩を解膠する方法、アルカリ金属ケィ酸塩を酸型のカチオン交換樹脂と接触させる 方法等により得られるものが好ましい。なかでも、アルカリ金属ケィ酸塩を酸型のカチ オン交換樹脂と接触させる方法により得られるケィ酸オリゴマーが純度の高レ、ものが 得られ、塗膜を形成した際、バインダカの強いことから特に好ましい。 ケィ酸アルカリ金属塩としては、ケィ酸ナトリウム、ケィ酸カリウム、ケィ酸リチウム等 が好ましい。イオン交換樹脂としては、従来より公知のものが使用でき、例えば、 S O H基、 COOH基等を有する陽イオン交換樹脂を使用することが好ましい。使用
3
する陽イオン交換樹脂の量、接触時間、接触方法等を制御することで、除去するァ ルカリ金属イオンの量を調節できる。なお、本明細書において、ケィ酸オリゴマーとは 分散媒中で SiO分子が 2〜20程度重合したものをいう。ケィ酸オリゴマーにおいて、
2
アルカリ金属の 95%以上が除去されたものであることが好ましい。これにより、耐候性 に優れた低屈折率性塗膜品が得られるので好ましい。
[0023] ケィ酸オリゴマーは適宜必要に応じて、水の他、メタノーノレ、エタノール、イソプロパ ノール等の有機溶剤に分散させて分散液として使用することが好ましい。分散液中 のケィ酸オリゴマーの含有量は 1〜: 10質量0 /0であることが好ましい。
[0024] 本発明の無機塗料組成物は、有機基材に塗布することにより、低屈折率性塗膜を 形成することができる。得られる塗膜は屈折率 1.:!〜 1. 4であるのが好適である。有 機基材としては、適宜必要に応じて、様々なものが使用することができる力 ポリカー ボネート又はアクリル樹脂からなる基板を使用することが好ましい。また、基材の形状 は平板に限らず、全面又は一部に曲率を有してレ、てもよレ、。
[0025] 本発明により得られる塗膜は、波長 380〜780nmの領域において、反射率の極小 値が 1%以下であることが好ましい。反射率は分光光度計で測定することが好ましレ、 。反射率の極小値が 1 %超であると、低屈折率性塗膜としての機能が不充分となるお それがあることから好ましくなレ、。本発明により得られる塗膜は、波長 550nmでの反 射率が極小値をとるように膜厚を調整することが好ましい。なお、膜厚の調整は、式 λ 138Ζη (ただし、 λは光の波長、 ηは膜の屈折率)により行うことができる。
[0026] また、本発明の無機塗料組成物を塗布することにより得られる低屈折率性塗膜は、 透明性に優れたものが得られるので、特に有機基材が透明である場合に使用に適し ている。透明性については、 JIS K7150の規格に則り、ヘイズ値で評価することが 好ましい。得られた低屈折率性塗膜は、ヘイズ値は 1%以下であることが好ましい。 ヘイズ値が 1%超であると、塗膜の透明性が悪くなり、透過率が低下するので好ましく なレ、。得られる塗膜のヘイズ値は 0. 5%以下であることが特に好ましい。 [0027] 本発明では、中空シリカ粒子を 0.:!〜 20質量%、有機溶剤 Aを 1〜20質量%、有 機溶剤 B及び水を 60〜98. 9質量%含有する無機塗料組成物を調整する工程、及 び、無機塗料組成物を有機基材上に塗布、乾燥することにより低屈折率性塗膜を形 成する工程、を経ることにより低折率性塗膜を形成することができるので好ましい。
[0028] 本発明の無機塗料組成物は、公知の方法で塗布することができる。例えば、はけ 塗り、ローラー塗布、手塗り、回転塗布、浸漬塗布、各種印刷方式による塗布、カー テンフロー、タ、'ィコート、グラビアコート、リノくースコート、ローノレコート、フローコート、 スプレーコート、ディップコート等が挙げられる。また、塗膜の機械的強度を高める目 的で、必要に応じて、加熱や紫外線や電子線等による照射を行ってもよい。加熱は 有機基材の耐熱性をカ卩味して決定すればよいが、 60〜100°Cが好ましい。本発明 の無機塗料組成物を塗布するにあたり、有機基材に対して特に前処理は必要としな いが、塗膜の密着性をより高める目的で、プラズマ処理、コロナ処理、 UV処理、ォゾ ン処理等の放電処理、水、酸やアルカリ等の化学処理、又は研磨剤を用いた物理的 処理を施すことができる。
[0029] 本発明において、得られる塗膜の厚さは 30〜3000nmであることが好ましい。塗膜 の膜さが 30nm未満であると、低屈折率性塗膜としての機能が不充分となるおそれが あるので好ましくなぐ塗膜の膜さが 3000nm超であると、クラックが入りやすくなつた り、干渉縞が発生したり、傷が目立ちやすくなるおそれがあるので好ましくない。塗膜 は膜さ 50〜: !OOOnmであることが特に好ましい。
実施例
[0030] 以下に、実施例として、例 1、 2、 5、 6を示す。また、比較例として、例 3、 4を示す。
以下、質量%を単に%で示す。なお、中空状シリカ粒子の屈折率については、以下 の方法により行う。すなわち、中空状シリカ微粒子分散ゾルから分散媒をエバポレー ターにより蒸発させた後、 120°Cで乾燥し、粉末とする。屈折率が既知の標準屈折液 を 2、 3滴ガラス板上に滴下し、これに上記粉末を混合する。この操作を種々の標準 屈折液で行い、混合液が透明になったときの標準屈折液の屈折率を微粒子の屈折 率とする。
[0031] [例 1] 容量 200mlのガラス製反応容器に、中空状シリカ微粒子の分散ゾル (平均粒子径 60nm、空孔径 30nm、屈折率 1. 3、固形分含有量 20%のイソプロパノールを溶媒 とする分散液、なお、イソプロパノールは圧力 0· IMPaでの沸点が 82· 3°Cである。 ) を 5g、イソプロパノーノレ 85g、 N, N—ジメチルァセトアミド(圧力 0. IMPaでの沸点 1 66°C、水に対する溶解度:任意の割合で溶解する) 10gを加え、混合した後、 20°C で 1時間撹拌して、固形分含有量 1 %の無機塗料組成物を得る。なお、 N, N—ジメ チルァセトアミドの含有量は 10%であり、イソプロパノールの含有量は 89%である。
[0032] [評価試験]
得られる無機塗料組成物を使用して、エタノール拭きしたポリカーボネート板(縦 10 Omm X横 100mm、厚さ 3. 5mm、屈折率: 1. 584)上に、塗布して、回転数 150rp mで 70秒間スピンコートした後、 100°Cで 20秒間乾燥し、厚さ lOOnmの塗膜を形成 する。
[0033] 以下、塗膜の形成されたサンプノレにっレ、て、下記に示す方法で評価を行う。評価 結果を表 1に示す。なお、例 2〜6においても、得られる無機塗料組成物を使用して 例 1と同様に操作を行い、評価を行う。評価結果を併せて表 1に示す。
[0034] 外観評価として、得られる塗膜の塗布ムラを目視により判断する。塗布ムラがなく外 観上良好なものを〇、塗布ムラがあり実用的でないものを Xとして評価する。
[0035] 透明性評価として、ヘイズ値により評価を行う。ヘイズ測定は JIS K7150に則り、 評価を行う。基板上の塗膜のヘイズ値をヘーズコンピューター (スガ試験機社製、型 名: HGM— 3DP)で測定する。ヘイズ値が 1 %以下のものは合格、 1 %を超えるもの は不合格とする。
[0036] 反射率評価として、得られる塗膜の反射率を分光光度計(日立製作所社製、型式: U—4100)を使用して測定する。波長 550nmにおける反射率が 1 %未満のものを合 格とする。
[0037] 屈折率評価として、得られる塗膜の屈折率をエリプソメーター(ULVAC社製、型式 : ESM—1AT)を使用して測定する。屈折率が 1. 1〜: 1. 4の範囲のものを合格とす る。
[0038] 密着性評価として、サンプルにおいて塗膜にセロハンテープを接着し、このセロハ ンテープを剥がした時の塗膜の剥離状況を肉眼で観察する。塗膜が全く剥がれない 場合を〇、一部が剥がれるものの半分以上の面積が残っている場合を△、半分以上 が剥離する場合を Xとする。
[0039] 耐磨耗性評価として、サンプルの塗膜表面を、綿布で 100回往復磨耗した後、塗 膜の剥離状況を肉眼で観察する。塗膜が全く剥がれない場合を〇、一部が剥がるも のの半分以上の面積が残っている場合を△、半分以上が剥離する場合を Xとする。
[0040] [例 2]
例 1において、イソプロパノール 85gを、水 85g及び含有量 0. 1%のノニオン性界 面活性剤(日本ュニカー社製、商品名: L— 77)エタノール溶液 (なお、エタノールは 圧力 0. IMPaでの沸点が 78. 2°Cである。) 0. lgに変更する以外は同様にして操 作を行い、固形分含有量 1%の無機塗料組成物を得る。なお、 N, N_ジメチルァセ トアミドの含有量は 10%であり、イソプロパノールと水とエタノールとの総量の含有量 は 89%である。
[0041] [例 3]
例 1において、イソプロパノールを 65g、 N, N—ジメチルァセトアミドを 30gとする以 外は例 1と同様にして操作を行い、固形分含有量 1%の無機塗料組成物を得る。な お、 N, N—ジメチルァセトアミドの含有量は 30%であり、イソプロパノールの含有量 は 69%である。
[0042] [例 4]
例 1において、 N, N—ジメチルァセトアミドを使用せずに、イソプロパノールを 95g とする以外は例 1と同様にして操作を行い、固形分含有量 1 %の無機塗料組成物を 得る。なお、イソプロパノールの含有量は 99%である。
[0043] [例 5]
例 1において、イソプロパノールを 93gとし、 N, N—ジメチルァセトアミドの代わりに 2_ピロリジノン (圧力 0. IMPaでの沸点 245°C、水に対する溶解度:任意の割合で 溶解する)を 2gとする以外は例 1と同様にして操作を行い、固形分含有量 1%の無機 塗料組成物を得ることができる。なお、 2 _ピロリジノンの含有量は 2%であり、イソプ ロパノールの含有量は 97%である。 [0044] [例 6]
例 1において、基材をポリメチルメタタリレート(屈折率: 1. 521)に変更する以外は 、例 1と同様にして操作を行い、塗膜を形成する。
[0045] [表 1]
Figure imgf000013_0001
産業上の利用可能性
本発明の無機塗料組成物を使用することにより、ディスプレイパネルのカバー材料 や、光学レンズ、光学フィルタ、偏光フィルム等の有機基材を有する様々な物品に低 屈折率性塗膜を付与することができる。 なお、 2004年 11月 26曰に出願された日本特許出願 2004— 342184号の明糸田書 、特許請求の範囲、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示と して、取り入れるものである。

Claims

請求の範囲
[1] (a)平均粒子径 5〜3000nmの中空状シリカ粒子を 0.:!〜 20質量%; (b)有機基 材を膨潤又は溶解することができ、かつ、気圧 0. IMPaの状態で沸点 130°C以上の 、水に混和しうる有機溶剤 Aを 1〜20質量%; (c)有機基材を実質上膨潤又は溶解さ せることなく、かつ、気圧 0. IMPaの状態で沸点 50〜120°Cの、水に混和しうる有機 溶剤 B及び Z又は(d)水を 60〜98. 9質量%を含有し、有機基材上に低屈折率性 塗膜を形成することのできる無機塗料組成物。
[2] 前記有機基材がポリカーボネート又はアクリル樹脂からなる請求項 1に記載の無機 塗料組成物。
[3] 前記有機溶剤 Aが、ジグライム、 N, N ジメチルホルムアミド、 N, N ジメチルァ セトアミド、ァセト酢酸ェチル、 N—メチル 2 ピロリジノン、 2 ピロリジノン、 1, 3— ジメチノレ 2—イミダゾリジノン及びジメチルスルホキシドからなる群より選ばれる少な くとも 1種である請求項 1又は 2に記載の無機塗料組成物。
[4] 前記有機基材を実質上膨潤又は溶解させることなぐかつ、気圧 0. IMPaの状態 で沸点 50〜120°Cの、水に混和しうる有機溶剤力 メタノーノレ、エタノール、 n プロ パノール、イソプロパノール、 n—ブタノール、イソブタノール、 sec—ブタノール及び t —ブタノールからなる群より選ばれる少なくとも 1種である請求項 1〜3のいずれかに 記載の無機塗料組成物。
[5] 請求項 1〜4のいずれかに記載の無機塗料組成物を有機基材に塗布することによ り得られる低屈折率性塗膜。
[6] 前記低屈折率性塗膜の JIS K—7150の規格に則ったヘイズが 1%以下である請 求項 5に記載の低屈折率性塗膜。
[7] 前記低屈折率性塗膜の屈折率が 1. 1〜: 1. 4である請求項 5又は 6に記載の低屈 折率性塗膜。
[8] (a)平均粒子径 5〜3000nmの中空状シリカ粒子を 0.:!〜 20質量%; (b)有機基 材を膨潤又は溶解することができ、かつ、気圧 0. IMPaの状態で沸点 130°C以上の 、水に混和しうる有機溶剤 Aを 1〜20質量%; (c)有機基材を実質上膨潤又は溶解さ せることなく、かつ、気圧 0. IMPaの状態で沸点 50〜: 120°Cの、水に混和しうる有機 溶剤 B及び/又は(d)水を 60〜98· 9質量%;を含有する無機塗料組成物を調製す る工程、及び該無機塗料組成物を有機基材上に塗布、乾燥することにより低屈折率 性塗膜を形成する工程、を経る低屈折率性塗膜の形成方法。
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