WO2005029165A1 - 光変調器 - Google Patents

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WO2005029165A1
WO2005029165A1 PCT/JP2004/012592 JP2004012592W WO2005029165A1 WO 2005029165 A1 WO2005029165 A1 WO 2005029165A1 JP 2004012592 W JP2004012592 W JP 2004012592W WO 2005029165 A1 WO2005029165 A1 WO 2005029165A1
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electrode
branch
branch portion
substrate
optical modulator
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PCT/JP2004/012592
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English (en)
French (fr)
Inventor
Kenji Aoki
Osamu Mitomi
Jungo Kondo
Atsuo Kondo
Original Assignee
Ngk Insulators, Ltd.
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/21Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  by interference
    • G02F1/225Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  by interference in an optical waveguide structure
    • G02F1/2255Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  by interference in an optical waveguide structure controlled by a high-frequency electromagnetic component in an electric waveguide structure
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2203/00Function characteristic
    • G02F2203/25Frequency chirping of an optical modulator; Arrangements or methods for the pre-set or tuning thereof

Definitions

  • the present invention relates to an optical modulator.
  • the present applicant has disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. H10-133,159 and H202-; L691333 that a substrate of a traveling waveform optical modulator is provided under an optical waveguide. It is disclosed that a thin portion is provided and the thickness of the thin portion is reduced to, for example, 10 in or less. As a result, high-speed light modulation is possible without forming a buffer layer made of silicon oxide, and the product (V TT -L) of the driving voltage V TT and the electrode length L can be reduced. , Is advantageous. Disclosure of the invention
  • a traveling waveform optical modulator described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 10-133159 and 2002-169133, for example, a single crystal of lithium niobate is used. (Coplanar type) electrode and mahatsuenda on X plate
  • a -type optical waveguide is formed, a similar electric field is applied to each branch portion of the optical waveguide, and the electrode interaction length is made equal. As a result, an optical modulator having zero-chirp characteristics is obtained.
  • an optical modulator using an X-plate or a Y-plate as a substrate may be advantageous for an optical modulator using an X-plate or a Y-plate as a substrate to have a predetermined chip amount.
  • An object of the present invention is to provide a substrate made of an electro-optical material and having one main surface and the other main surface, an optical waveguide having one branch portion and the other branch portion, Another object of the present invention is to provide an optical modulator having a ground electrode and a signal electrode provided on one main surface side of a substrate, wherein the amount of chipping can be controlled to an appropriate value.
  • the present invention relates to a substrate made of an electro-optical material and having one main surface and the other main surface, an optical waveguide formed on the substrate, having one branch portion and the other branch portion, and one of the substrates
  • a ground electrode and a signal electrode are provided on the main surface side of the antenna, and one branch portion and the other branch portion are provided in an electrode gap between the ground electrode and the signal electrode, and a microwave electric field is formed.
  • the present invention provides a substrate made of an electro-optical material and having one main surface and the other main surface, an optical waveguide formed on this substrate, having one branch portion and the other branch portion, and a substrate.
  • the present invention relates to an optical modulator.
  • the amount of the cap will be described.
  • the amount of capping is also called “capping paralysis”.
  • the electrode interaction length of the electric field strength at the branch is a value obtained by integrating the electric field strength E x (z) at each point z of the branch over the entire length L of the branch. This integral value is given as follows.
  • the parameters representing the cap are as follows.
  • ⁇ 2 represent the refractive index changes in waveguides a and b, respectively. This average change in refractive index is Is proportional to Therefore, the following equation holds.
  • the conventional X-cut LN optical modulator generally has a symmetric structure at the center of the center electrode, and the interaction length of the optical waveguide is the same for both arms. For this reason, it was Ai-As. Therefore, m 2 1 was obtained, and the gap amount was 0. For this reason, various optical transmission systems cannot cope with the case where the optical modulator requires a predetermined amount of pickup.
  • the integral values of the electric field intensity due to the electrode interaction length are made different in one branch portion and the other branch portion, whereby the optical modulator has a predetermined value. Is adjusted so that the amount of chars is obtained.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an optical modulator 1A according to an embodiment of the present invention, in which the width of the electrode gap 20A is smaller than the width of the electrode gap 20B.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an optical modulator 1B according to another embodiment of the present invention, in which the width of the electrode gap 20A is smaller than the width of the electrode gap 20B.
  • FIG. 3 is a plan view schematically showing an optical modulator 1C according to still another embodiment of the present invention, in which a part 5c of the branch part 5 is provided below the ground electrode 4C.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing an optical modulator 1D according to still another embodiment of the present invention, in which a branch portion 3 is provided on the thinner portion 12d side, and a branch portion 5 is provided. It is provided on the thick part 12c side.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing an optical modulator 1E according to yet another embodiment of the present invention, in which low dielectric constant portions 10A and 10B are provided below a substrate 2.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing an optical modulator 11 according to still another embodiment of the present invention, in which a branch part 14 is provided in an electrode gap 25 and a branch part 15 is provided. Is provided below the ground electrode 17B.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing an optical modulator 1F according to still another embodiment of the present invention, in which a substrate 32 has a base 32 d, a thin portion 32 b having a different thickness, It has 3 2c.
  • microwave electric fields having different intensities are applied to the one branch and the other branch, so that the respective integrals of the electric field strength due to the electrode interaction length are made different.
  • the specific form is not limited, but preferably, a plurality of ground electrodes are provided, and the width of each electrode gap between the signal electrode and each ground electrode is made different. If the width of one electrode gap is made different from the width of the other electrode gap, the electric field strength at each branch located below each electrode gap also becomes different.
  • FIG. 1 is a sectional view schematically showing an optical modulator 1A according to this embodiment.
  • the optical modulator 1A includes, for example, a plate-shaped substrate 2. On one main surface 2 a side of the substrate 2, branch portions 3 and 5 of the optical waveguide are provided, and on the main surface 2 a, for example, a coplanar type signal electrode 4 B and ground electrodes 4 A and 4 C Is provided.
  • the branch 3 is disposed in the electrode gap 2OA
  • the branch 5 is disposed in the electrode gap 20B.
  • a so-called coplanar type (Coplanar waveguide: CPW electrode) electrode arrangement is adopted, but the arrangement form of the electrodes is not particularly limited.
  • the present invention can be applied to a so-called asymmetric coplanar strip line (A-CPS electrode) type electrode arrangement.
  • A-CPS electrode asymmetric coplanar strip line
  • the branch portions 3 and 5 of the optical waveguide are formed between the optical waveguide and the ground electrode 4C, and a signal voltage is applied to the branch portions 3 and 5 in a substantially horizontal direction.
  • the optical waveguide constitutes a so-called Mahazenda type optical waveguide when viewed in a plan view.
  • the difference between and G 2 is 3 microns or more. And more preferably at least 20 microns. In order to keep the overall VTTL small, it is preferably 100 ⁇ m or less, more preferably 40 ⁇ m or less.
  • G or G 2 is preferably 1 ⁇ m or more, and more preferably 3 ⁇ m or more, in order to prevent conduction between the signal electrode and the ground electrode.
  • one of the branch portions is arranged near the edge of the signal electrode or the ground electrode in the relatively narrow electrode gap.
  • the branch portion 3 is arranged near the edge E of the signal electrode 4 B or the edge E of the ground electrode 4 A.
  • a relatively large electric field is applied to the branch portion 3 on the side of the narrow electrode gap 20 A.
  • the electric field intensity applied to the branch portion 3a can be further increased.
  • the amount of the tip can be adjusted in a larger range, and the drive voltage-electrode length product V TTL can be reduced.
  • the distance d1 between the center line S of the branch portion 3 and the signal electrode or the ground electrode is preferably 20 microns or less, and more preferably 10 microns or less.
  • the distance between the branch portion 5, the ground electrode and the signal electrode is preferably 10 microns or more, and more preferably 20 microns or more.
  • the electrode interaction lengths of the one branch and the other branch are different.
  • each integral value of the electric field strength depending on the electrode interaction length can be made different. This is because, when the electric field strength is substantially the same, the longer the electrode interaction length L, the larger the integral value.
  • FIG. 3 is a plan view schematically showing an optical modulator 1C according to this embodiment.
  • Mach-Zehnder type optical waveguides 6, 7, 3 and 5 are provided on the substrate 2.
  • Other branch unit 3 the signal electrodes 4 B and is formed on the electrode Giyappu 2 within 0 A of the ground electrode 4 A, its overall length L (approximately L 1 + L 2) Niwata connexion constant electric field E x Has been applied.
  • an electric field of substantially constant intensity is applied to the portion 5a in the electrode gap 20B of the one branch portion 5 over its entire length.
  • An electric field is also applied to the inclined portion 5b.
  • no electric field is applied in the X-direction on the paper below the ground electrode 4C.
  • a predetermined electric field is applied to the branch portion over the length L1, but almost no electric field is applied over the length L2, and the integral value decreases.
  • the ratio of the integral values needs to be about 1: 4.
  • the ratio of the electrode interaction length (L: L 1) between the branches 3 and 5 must be 1: 4.
  • the size of the electrode gap is made different from each other, and the distance between the branch portion and the electrode edge is made different.
  • the amount of chipping of the optical modulator can be controlled over a wider range.
  • a plurality of ground electrodes are provided, the thickness of the substrate under an electrode gap between the signal electrode and one of the ground electrodes, and an electrode between the signal electrode and the other ground electrode.
  • the thickness of the substrate at the gap differs from the thickness of the substrate.
  • the electric field intensity applied to the branch portion at the electrode gap where the substrate is thicker is different from the electric field intensity applied to the branch portion at the electrode gap where the substrate is thinner. Therefore, the integral values at both branch portions can be made different.
  • FIG. 4 is a sectional view schematically showing an optical modulator 1D according to this embodiment.
  • the substrate 12 employs a relatively thick wall portion 12c and a relatively thin wall portion 12d.
  • 1 2a and 1 2b are main surfaces.
  • the electrode gap 20 A is provided on the thin portion 12 d side
  • the electrode gap 20 B is provided on the thick portion 12 c side.
  • T subl of the thin portion 12 d and the thickness T sub 2 of the thick portion 12 c are required.
  • the difference is preferably at least 2 microns, more preferably at least 20 microns.
  • T sub 1 is preferably 20 ⁇ m or less.
  • a plurality of ground electrodes are provided, one low dielectric constant portion is provided below the substrate under an electrode gap between the signal electrode and one ground electrode, and the signal electrode and the other ground electrode are provided.
  • the other low dielectric constant portion is provided under the substrate under the electrode gap between the electrodes. Then, the relative permittivity of one of the low permittivity portions is made different from the relative permittivity of the other low permittivity portion. If the relative permittivity of the low dielectric constant portion under the substrate is different from each other, the electric field strength applied to each branch portion also differs from each other. Therefore, the integral value can be made different between the two branch portions.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing an optical modulator 1E according to this embodiment.
  • the same reference numerals are given to the same structural parts and dimensions as those shown in FIG. 1, and the description will be used.
  • one low dielectric constant portion 10A and the other low dielectric constant portion 10B are provided below the substrate 2.
  • the electrode gap 20 A is provided on the low dielectric constant portion 10 A side
  • the electrode gap 20 B is provided on the low dielectric constant portion 10 B side.
  • the ratio of the relative permittivity between the low dielectric constant portion 10A and the low dielectric constant portion 10B is doubled. Above Preferably, it is more preferably 5 times or more.
  • one branch is provided in the electrode gap between the ground electrode and the signal electrode, and the other branch is provided below the ground electrode. . Then, a microwave electric field is applied to each electrode interaction part of one branch part and the other branch part, and the light propagating through one branch part and the other branch part is modulated. At this time, by arranging one branch portion in the electrode gap, the amount of the tip can be appropriately adjusted. '
  • FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing an optical modulator 11 according to this embodiment.
  • the branch part 15 is provided below the signal electrode 1 ⁇ B via the buffer layer 16.
  • An electrode gap 25 is provided between the signal electrode 17 A and the ground electrode 17 B.
  • the branch portion 14 extends to the electrode gap 25, and the center line S of the branch portion 14 is provided outside the edge E of the signal electrode 17A by being separated by t.
  • the branch section 14 and the signal electrode 17 A are separated by a buffer layer 16.
  • t is preferably 20 ⁇ m or less, and more preferably 10 ⁇ m or less. Further, from the viewpoint of reducing the amount of chipping, t is preferably at least 0.5 ⁇ m, more preferably at least 1 ⁇ m.
  • an electric field is applied to each branch in a direction substantially perpendicular to the main surface of the substrate.
  • the thickness of the substrate is 30 ⁇ m or less at least in an electrode interaction length portion.
  • the substrate has a base having a thickness of 30 m or more, preferably 200 m or more, and a concave portion is formed inside the base. According to such a substrate, high-speed light modulation can be realized while imparting mechanical strength suitable for handling to the substrate.
  • the substrate includes a first thin portion having a relatively large thickness facing the concave portion and a second thin portion having a relatively small thickness facing the concave portion.
  • An optical waveguide is provided in the first thin portion.
  • the substrate main bodies described in JP-A-10-133159 and JP-A-2002-169913 can be used.
  • the substrate 32 shown in FIG. 7 has a base portion 3 2 d, a first thin portion 3 2 b having a relatively large thickness facing the concave portion 33, and a relatively thick portion facing the concave portion 33. It has a second thinner section 32c of smaller thickness.
  • An optical waveguide is provided in the first thinned portion 32b.
  • 32 a is the main surface of the substrate.
  • the bottom surfaces of the substrates 2, 12, and 13 can be bonded to a separate holding base via a bonding layer.
  • the material forming the optical waveguide substrates 2, 12, and 13 is a ferroelectric electro-optic material, preferably a single crystal.
  • a crystal is not particularly limited as long as it can modulate light, but lithium niobate, lithium tantalate, Examples thereof include lithium niobate monolithium tantalate solid solution, lithium niobate rhedium, KTP, GaAs, and quartz.
  • the ground electrode and the signal electrode are not particularly limited as long as they are materials having low resistance and excellent impedance characteristics, and may be made of a material such as gold, silver, or copper.
  • Known materials such as silicon oxide, magnesium fluoride, silicon nitride, and alumina can be used for the buffer layer.
  • the optical waveguide is formed on the substrate main body, and is preferably formed on one main surface side of the substrate main body.
  • the optical waveguide may be a ridge-type optical waveguide formed directly on one main surface of the substrate main body, and a ridge-type optical waveguide formed on one main surface of the substrate main body via another layer.
  • the electrodes are provided on one main surface side of the substrate main body, but may be formed directly on one main surface of the substrate main body or may be formed on the buffer layer.
  • the above-mentioned low dielectric constant portion means a portion having a relative dielectric constant lower than the relative dielectric constant of the electro-optical material forming the substrate main body.
  • (Relative dielectric constant of low dielectric constant portion) / (Relative dielectric constant of electro-optical material constituting the substrate) is preferably 1/3 or less, more preferably 1/10 or less.
  • the low dielectric portion may be a void.
  • the low dielectric constant portion may be made of a solid material having a relative dielectric constant lower than that of the electro-optical material forming the substrate. Examples of such a material include alumina, aluminum nitride, lithium niobate, lithium tantalate, gallium arsenide, and silicon oxide.
  • the low dielectric constant portion may be an adhesive.
  • the type of the adhesive is not particularly limited, but a thickness of 300 m or less is appropriate.
  • a low dielectric constant layer As a suitable low dielectric material to be used, it is desirable to use a material having a low dielectric loss (low tan d) from the viewpoint of reducing the propagation loss of a high frequency modulation signal. Examples of such a material having a low dielectric constant and a low dielectric loss include Teflon and an acrylic adhesive. Examples of other low dielectric constant materials include glass-based adhesives, epoxy-based adhesives, interlayer insulators for semiconductor manufacturing, and polyimide resins.

Abstract

 光変調器1Cは、電気光学材料からなり、一方の主面と他方の主面とを備えている基板2、基板2に形成され、一方の分岐部5および他方の分岐部3を有する光導波路、および基板の一方の主面側に設けられた接地電極4A、4Cおよび信号電極4Bを備えている。一方の分岐部5と他方の分岐部3とが接地電極4A、4Cのエッジと信号電極4Bのエッジとの間に設けられている。マイクロ波電界を一方の分岐部5および他方の分岐部3の各電極相互作用部に印加し、一方および他方の分岐部3、5を伝搬する光を変調するのに際して、一方の分岐部および他方の分岐部において電界強度の電極相互作用長による各積分値が異なっており、所定のチャープ量を得る。

Description

明細書
光変調器
発明の属する技術分野
本発明は光変調器に関するものである。
背景技術
本出願人は、 特開平 1 0— 1 3 3 1 5 9号公報、 特開 2 0 0 2 — ; L 6 9 1 3 3号公報において、 進行波形光変調器の基板の光導波路の下に 肉薄部分を設け、 この肉薄部分の厚さを例えば 1 0 in以下に薄くする ことを開示した。 これによつて、 酸化珪素からなるバッファ層を形成す ることなしに高速光変調が可能であるし、 駆動電圧 V TTと電極の長さ L との積 (V TT - L ) を小さくできるので、 有利である。 発明の開示
特開平 1 0— 1 3 3 1 5 9号公報、 特開 2 0 0 2— 1 6 9 1 3 3号公 報に記載のような進行波形光変調器においては、 例えばニオブ酸リチウ ム単結晶の X板上に C P W (コプレーナ型) 電極およびマヅハツエンダ
—型の光導波路を形成し、 光導波路の各分岐部に対して同様の電界を印 加すると共に電極相互作用長を等しく し、 これによつて 0チヤープ特性 の光変調器を得る。
しかし、 実際の光伝送システムにおいては、 X板や Y板を基板として 用いた光変調器についても、 所定のチヤ一プ量をもたせることが有利な 場合がある。 しかし、 電気光学結晶の X板や Y板を基板として用いた光 変調器について、 このような所定のチヤ一プ量をもたせることは、 これ まで検討されてこなかった。
本発明の課題は、 電気光学材料からなり、 一方の主面と他方の主面と を備えている基板、一方の分岐部および他方の分岐部を有する光導波路、 および基板の一方の主面側に設けられた接地電極および信号電極を備え ている光変調器において、 チヤ一プ量を適切な値に制御可能とする構成 を提供することである。
本発明は、 電気光学材料からなり、 一方の主面と他方の主面とを備え ている基板、 この基板に形成され、 一方の分岐部および他方の分岐部を 有する光導波路、 および基板の一方の主面側に設けられた接地電極およ び信号電極を備えており、 一方の分岐部と他方の分岐部とが接地電極と 信号電極との電極ギヤップに設けられており、 マイクロ波電界を一方の 分岐部および他方の分岐部の各電極相互作用部に印加し、 一方の分岐部 および他方の分岐部を伝搬する光を変調するのに際して、 一方の分岐部 および他方の分岐部において電界強度の電極相互作用長による各積分値 が異なっており、 これによつて所定のチヤ一プ量を得ることを特徴とす る o 1
また、 本発明は、 電気光学材料からなり、 一方の主面と他方の主面と を備えている基板、 この基板に形成され、 一方の分岐部および他方の分 岐部を有する光導波路、 および基板の一方の主面側に設けられた接地電 極および信号電極を備えており、 一方の分岐部が接地電極と信号電極と の間の電極ギャップに設けられており、 他方の分岐部が接地電極下に設 けられており、 マイクロ波電界を一方の分岐部および他方の分岐部の各 電極相互作用部に印加し、 一方の分岐部および他方の分岐部を伝搬する 光を変調することを特徴とする、 光変調器に係るものである。
以下、 本発明について更に詳細に説明する。
最初にチヤ一プ量について述べる。チヤ一プ量は、「チヤープパラメ一 夕ひ」 とも呼ばれるものである。
光変調器の 2つの分岐部 (光導波路) aと bとで、 それぞれ、 電界強 度 E x ( z ) の電極相互作用長 zによる各積分値 A i、 A。を算出する。 分岐部の電界強度の電極相互作用長とは、 分岐部の各点 zにおける電界 強度 Ex (z) を、 分岐部の全長 Lにわたつて積分して得られた値であ る。 この積分値は以下のように与えられる。
Figure imgf000005_0001
たとえば特開平 07-064031号公報によれば、チヤープを表すパラメ一 タひは以下の通りである。
1+ m
a = - cot(ASL)
1-m
Figure imgf000005_0002
ここで、 Δ Lは、通常は ττ/4もしくは- 7Γ/4であるから、 cot(A^L)=l もしくは— 1である。 と Δη2は、 それそれ、 導波路 a, bでの屈折 率変化を表す。 この平均的な屈折率変化は
Figure imgf000005_0003
に比例する。 従って下式が成り立つ。
一 m 一 A1
2 従来の X-cut LN光変調器では、 一般的に中心電極中央で対称構造で あり、両アームで光導波路の相互作用長は同じとなっている。このため、 Ai - Asであった。 従って、 m二一 1となり、 チヤ一プ量ひ = 0となつ ていた。 このため、 種々の光伝送系において光変調器に所定チヤ一プ量 が必要となる場合に対応できなかった。
本発明によれば、 このようなタイプの光変調器において、 一方の分岐 部および他方の分岐部において電界強度の電極相互作用長による各積分 値を異ならせ、 これによつて光変調器において所定のチヤーズ量が得ら れるように調整している。 図面の簡単な説明
図 1は、 本発明の一実施形態に係る光変調器 1 Aを概略的に示す断面 図であり、 電極ギヤップ 2 0 Aの幅が電極ギヤップ 2 0 Bの幅よりも小 さい。
図 2は、 本発明の他の実施形態に係る光変調器 1 Bを概略的に示す断 面図であり、 電極ギヤップ 2 0 Aの幅が電極ギヤップ 2 0 Bの幅よりも 小さい。
図 3は、 本発明の更に他の実施形態に係る光変調器 1 Cを概略的に示 す平面図であり、 分岐部 5の一部 5 cが接地電極 4 C下に設けられてい る。
図 4は、 本発明の更に他の実施形態に係る光変調器 1 Dを概略的に示 す断面図であり、 分岐部 3が肉薄部分 1 2 d側に設けられており、 分岐 部 5が肉厚部分 1 2 c側に設けられている。
図 5は、 本発明の更に他の実施形態に係る光変調器 1 Eを概略的に示 す断面図であり、 基板 2下に低誘電率部 1 0 A、 1 0 Bが設けられてい 図 6は、 本発明の更に他の実施形態に係る光変調器 1 1を概略的に示 す断面図であり、 分岐部 1 4が電極ギャップ 2 5内に設けられており、 分岐部 1 5が接地電極 1 7 B下に設けられている。
図 7は、 本発明の更に他の実施形態に係る光変調器 1 Fを概略的に示 す断面図であり、 基板 3 2が、 基部 3 2 d、 厚さの異なる薄肉部分 3 2 b、 3 2 cを備えている。 発明を実施するための最良の形態
好適な実施形態においては、 一方の分岐部および他方の分岐部に対し て、 相異なる強度のマイクロ波電界を印加することによって、 電界強度 の電極相互作用長による各積分値を異ならせる。 この具体的形態は限定 されないが、 好ましくは、 複数の接地電極を設け、 信号電極と各接地電 極との間の各電極ギヤップの幅を異ならせる。 一方の電極ギヤップの幅 と他方の電極ギヤップの幅とを異ならせると、 各電極ギヤップ下に配置 されている各分岐部における電界強度も異なる。
図 1は、 この実施形態に係る光変調器 1 Aを概略的に示す断面図であ る。 光変調器 1 Aは、 例えば平板形状の基板 2を備えている。 基板 2の 一方の主面 2 a側に、 光導波路の分岐部 3、 5が設けられており、 また 主面 2 a上に、例えばコプレーナ型の信号電極 4 Bおよび接地電極 4 A、 4 Cが設けられている。 分岐部 3は電極ギャップ 2 O A内に配置されて おり、 分岐部 5は電極ギャップ 2 0 B内に配置されている。 本例では、 いわゆるコプレーナ型 (Coplanar waveguide: C P W電極) の電極配置 を採用しているが、 電極の配置形態は特に限定されない。 本発明は、 い わゆる非対称コプレーナストリヅプライン (Asymmetric coplanar strip line: A - C P S電極) 型の電極配置にも適用できる。
本例では、 接地電極 4 Aと中心電極 4 Bとの間、 および中心電極 4 B と接地電極 4 Cとの間に、 それぞれ光導波路の分岐部 3、 5が形成され ており、 各分岐部分 3、 5に対して略水平方向に信号電圧を印加するよ うになつている。 光導波路は、 平面的に見るといわゆるマヅハツエンダ 一型の光導波路を構成している。
このような設計とすると、 相対的に幅が狭い電極ギャップ 2 0 Aにお いては、 分岐部 3に加わる電界強度 Exが相対的に大きくなるので、 電 界強度の電極相互作用長による積分値も大きくなる。 相対的に幅が広い 電極ギヤップ 2 0 Bにおいては、 分岐部 5に加わる電界強度は相対的に 小さくなる。 この結果、 光変調器 1 Aのチヤ一プ量を所望値に調整する ことが可能である。
2つの電極ギヤップの幅を変更するという本実施形態 (例えば図 1、 図 2 ) では、 光変調器のチヤ一プ量を大きくするという観点からは、 と G 2との差は、 3 ミクロン以上であることが好ましく、 20 ミクロ ン以上であることが更に好ましい。 は、 全体の VTT Lを小さく抑え るためには、 100ミクロン以下であることが好ましく、 40ミクロン以下 であることが更に好ましい。 Gい G2は、 信号電極と接地電極との導通 を防止するためには 1 ミクロン以上であることが好ましく、 3 ミクロン 以上であることが更に好ましい。
以下、 検証のために、 F EMを用いて準 TEM波解析を行った。 は 2 0 zmに設定した。 信号電極 4 Bの幅を 3 0 mに設定し、 基板 2 はニオブ酸リチウム単結晶とし、 厚さ T s u bは 8 mとした。 電極膜 厚 Tmは 2 6 ^mとした。 広い方の電極ギヤヅプ 2 0 Βの幅 G2を、 表 1に示すように 3 0〜 1 0 0〃mで種々変更した。 そして、 ィンビーダ ンス Z c、 全体の VTT L、 分岐部 3側の VTT L 1、 分岐部 5側の VTT L 2、 およびチヤ一プ量 (a— p a r a) を算出した。 この結果を表 1に 示す。 表 1から分かるように、 電極ギヤヅプ 2 0 Bの幅 G 2を変更すること によって、 光変調器のチヤープ量 αを幅広い範囲で適切に制御できるこ とが分かる。 表 1
Figure imgf000009_0001
また、 好適な実施形態においては、 相対的に幅の狭い電極ギャップに おいて、 一方の分岐部を信号電極または接地電極のエッジ近傍に配置す る。 例えば、 図 2に示す光変調器 1 Bの場合には、 相対的に幅の狭い電 極ギヤップ 2 0 Aにおいて、 分岐部 3を信号電極 4 Bのエッジ Eまたは 接地電極 4 Aのエッジ E近傍に配置する。 幅の狭い電極ギヤヅプ 2 0 A 側の分岐部 3に対しては、 相対的に大きな電界が印加される。 ここで、 分岐部 3 aを信号電極 4 Bのエッジ Eまたは接地電極 4 Aのエッジ E近 傍に配置することによって、 分岐部 3 aに加わる電界強度を一層大きく することができ、 これによつてチヤ一プ量を一層大きい範囲で調整する ことができ、 駆動電圧-電極長積 V TT Lも下げることが可能となる。
この観点からは、 分岐部 3の中心線 Sと信号電極または接地電極との 間隔 d 1は、 20 ミクロン以下とすることが好ましく、 10ミクロン以下と することが一層好ましい。
また、 光変調器のチヤ一プ量を一層大きくするためには、 相対的に幅 広い電極ギャップ 2 0 Bにおいて、 分岐部 5と接地電極および信号電極 との間隔をできるだけ大きくすることが好ましい。 これによつて、 分岐 部 5に加わる電界強度を最小限とし、 光変調器のチヤ一プ量を大きくで きるからである。 この観点からは、 分岐部 5と接地電極または信号電極 との間隔 d 2 (小さい方の値) は、 10ミクロン以上であることが好まし く、 20ミクロン以上であることが更に好ましい。
また、 好適な実施形態においては、 一方の分岐部と他方の分岐部の各 電極相互作用長が異なっている。 これによつて、 電界強度の電極相互作 用長による各積分値を異ならせることができる。 これは、 電界強度が同 程度とすると、 電極相互作用長 Lが大きければ、 前記積分値も大きくな るからである。
この実施形態において更に好ましくは、 一方の分岐部の一部を信号電 極または接地電極の直下に配置することによって、 一方の分岐部の電極 相互作用長を他方の分岐部の電極相互作用長よりも小さくすることがで きる。 図 3は、 この実施形態に係る光変調器 1 Cを概略的に示す平面図であ る。 光変調器 1 Cにおいては、 基板 2の上に、 マッハツェンダー型の光 導波路 6、 7、 3、 5が設けられている。 他方の分岐部 3は、 信号電極 4 Bと接地電極 4 Aとの電極ギヤップ 2 0 A内に形成されており、 その 全長 L (ほぼ L 1 + L 2 ) にわたつて一定の電界 E xが印加されている。 これに対して、 一方の分岐部 5の方は、 電極ギャップ 2 0 B内の部分 5 aには、 その全長にわたって略一定強度の電界が印加される。 また傾斜 部分 5 bにおいても電界が印加される。 しかし、 接地電極 4 C下の被覆 部分においては紙面 X方向電界が印加されない。 この結果、 長さ L 1に わたっては所定の電界が分岐部に印加されるが、 長さ L 2にわたつてほ とんど電界が印加されず、 前記積分値が小さくなる。 例えば、 チヤ一プ 量ひ = 0 . 6を実現するためには、 前記積分値の比率は 1 : 4程度とす る必要がある。 このためには、 分岐部 3と 5との間で電極相互作用長の 比率 (L : L 1 ) を 1 : 4とする必要がある。
このように、 分岐部 3と 5との間で電極相互作用長を異ならせた場合 に、 更に、 電極ギャップの大きさを互いに異ならせたり、 分岐部と電極 エッジとの間隔を異ならせることによって、 光変調器のチヤ一プ量を一 層広範囲にわたって制御可能となる。
また、 他の好適な実施形態においては、 複数の接地電極を設け、 信号 電極と一方の接地電極との間の電極ギヤップ下における基板の厚さと、 信号電極と他方の接地電極との間の電極ギヤップにおける基板の厚さと を異ならせる。 基板が厚い側の電極ギヤップにおいて分岐部に印加され る電界強度と、 基板が薄い側の電極ギヤップにおいて分岐部に印加され る電界強度とは異なる。 従って、 両方の分岐部における前記積分値を異 ならせることができる。
図 4は、 この実施形態に係る光変調器 1 Dを概略的に示す断面図であ る。 図 1に示したのと同じ構造部分および寸法については、 同じ符号を 付け、 その説明を参照する。 本例においては、 基板 1 2が、 相対的に厚 さの大きい肉厚部分 1 2 cと、 厚さの小さい肉薄部分 1 2 dとを傭えて いる。 1 2 a、 1 2 bは主面である。 電極ギャップ 2 0 Aは肉薄部分 1 2 d側に設けられており、 電極ギヤップ 2 0 Bは肉厚部分 1 2 c側に設 けられている。 上述したように、 分岐部 3と 5との間で前記積分値を異 ならせるためには、 肉薄部分 1 2 dの厚さ T s u b lと肉厚部分 1 2 c の厚さ T s u b 2との差を、 2 ミクロン以上とすることが好ましく、 20 ミクロン以上とすることが更に好ましい。 また、 高速光変調という観点 からは、 T s u b 1は、 20ミクロン以下であることが好ましい。
また、 好適な実施形態においては、 複数の接地電極を設け、 信号電極 と一方の接地電極との間の電極ギヤップ下において基板下に一方の低誘 電率部を設け、 信号電極と他方の接地電極との間の電極ギヤップ下にお いて基板下に他方の低誘電率部を設ける。 そして、 一方の低誘電率部の 比誘電率と他方の低誘電率部の比誘電率とを異ならせる。 基板下の低誘 電率部の比誘電率が互いに異なっていると、 各分岐部に印加される電界 強度も互いに異なる。 従って、 両方の分岐部における前記積分値を異な らせることができる。
図 5は、 この実施形態に係る光変調器 1 Eを概略的に示す断面図であ る。 図 1に示した構造部分および寸法と同じ構造部分および寸法につい ては、 同じ符号を付け、 その説明を流用する。 本例においては、 基板 2 の下に一方の低誘電率部 1 0 Aと他方の低誘電率部 1 0 Bとが設けられ ている。 電極ギヤップ 2 0 Aは低誘電率部 1 0 A側に設けられており、 電極ギヤップ 2 0 Bは低誘電率部 1 0 B側に設けられている。 上述した ように、 分岐部 3と 5との間で前記積分値を異ならせるためには、 低誘 電率部 1 0 Aと低誘電率部 1 0 Bとの比誘電率の比率を 2倍以上とする ことが好ましく、 5倍以上とすることが更に好ましい。
また、 他の発明に係る光変調器においては、'一方の分岐部が接地電極 と信号電極との間の電極ギャップに設けられており、 他方の分岐部が接 地電極下に設けられている。 そして、 マイクロ波電界を一方の分岐部お よび他方の分岐部の各電極相互作用部に印加し、 一方の分岐部および他 方の分岐部を伝搬する光を変調する。 この際、 一方の分岐部を電極ギヤ ップ内に配置させることによって、 チヤ一プ量を適切に調整することが できる。 '
また、 従来の Z板光変調器において片側駆動を用いた場合、 2つの分 岐部に印加される電界強度が異なるために、 典型的にはチヤープ量 (ひ - a r a ) が 0.6〜0.7程度となっていた。 しかし、 適用される光通信 システムによっては、 より小さな αが好ましい場合もある。 このため、 適用されるシステムに適切なチヤープ量へ調整できることが望ましい。 図 6は、 この実施形態に係る光変調器 1 1を概略的に示す断面図であ る。 基板 1 3の主面 1 3. a側には、 マッハヅエンダー型光導波路の一方 の分岐部 1 4および他方の分岐部 1 5が形成されている。 1 3 bは基板 1 3の底面である。 分岐部 1 5は信号電極 1 Ί Bの下にバッファ層 1 6 を介して設けられている。 信号電極 1 7 Aと接地電極 1 7 Bとの間には 電極ギャップ 2 5が設けられている。 分岐部 1 4は電極ギヤヅプ 2 5に 出ており、 分岐部 1 4の中心線 Sは信号電極 1 7 Aのエッジ Eから tだ け離れて外側に設けられている。 分岐部 1 4と信号電極 1 7 Aとの間は ノ ヅファ層 1 6によって分離されている。
ここで、 分岐部 1 4の中心線 Sと信号電極 1 7 Aのエッジ Eとの間隔 tを変更することによって、 分岐部 1 4へと加わる電界強度を変更する ことができ、 これによつて光変調器 1 1のチヤ一プ量を変更できる。 t を小さくすると、 分岐部 1 4に加わる電界強度を大きくでき、 tを大き くすると、 分岐部 1 4に加わる電界強度を小さくできる。 分岐部 1 4に おいて効率的な光変調を行うためには、 tは 20 ミクロン以下であるこ とが好ましく、 10ミクロン以下であることが更に好ましい。 また、 チヤ 一プ量を小さくするという観点からは、 tは 0.5 ミクロン以上であるこ とが好ましく、 1 ミクロン以上であることが更に好ましい。
この実施形態においては、 各分岐部に対して、 基板主面と略垂直な方 向へと向かって電界が印加されることが好ましい。
好適な実施形態においては、 前記基板の厚さが、 少なくとも電極相互 作用長部分において 3 0〃m以下である。 そして、 基板が、 厚さ 3 0 m以上、 好ましくは厚さ 200 m以上の基部を備えており、 基部の内側 に凹部が形成されている。 このような基板によれば、 基板に取り扱いに 適した機械的強度を付与しつつ、 高速光変調を実現できる。
この実施形態において特に好ましくは、 基板が、 凹部に面する相対的 に厚さの大きい第一の肉薄部分と、 凹部に面する相対的に厚さの小さい 第二の肉薄部分とを備えており、.光導波路が第一の肉薄部分内に設けら れている。このような形態の基板は、特開平 1 0— 1 3 3 1 5 9号公報、 特開 2 0 0 2— 1 6 9 1 3 3号公報に記載の基板本体を利用できる。 例 えば図 7に示す基板 3 2は、 基部 3 2 d、 凹部 3 3に面する相対的に厚 さの大きい第一の肉薄部分 3 2 b、 および、 凹部 3 3に面する相対的に 厚さの小さい第二の肉薄部分 3 2 cを備えている。 光導波路が第一の肉 薄部分 3 2 b内に設けられている。 3 2 aは基板主面である。
基板 2、 1 2、 1 3の底面は、 接合層を介して別体の保持基体に対し て接合することもできる。
光導波路基板 2、 1 2、 1 3を構成する材質は、 強誘電性の電気光学 材料、 好ましくは単結晶からなる。 こうした結晶は、 光の変調が可能で あれば特に限定されないが、 ニオブ酸リチウム、 タンタル酸リチウム、 ニオブ酸リチウム一タンタル酸リチウム固溶体、 ニオブ酸力リゥムリチ ゥム、 K T P、 G a A s及び水晶などを例示することができる。
接地電極、 信号電極は、 低抵抗でインピーダンス特性に優れる材料で あれば特に限定されるものではなく、 金、 銀、 銅などの材料から構成す ることができる。
バッファ層は、 酸化シリコン、 弗化マグネシウム、 窒化珪素、 及びァ ルミナなどの公知の材料を使用することができる。
光導波路は、 基板本体に形成されており、 好ましくは基板本体の一方 の主面側に形成されている。 光導波路は、 基板本体の一方の主面に直接 形成されたリッジ型の光導波路であってよく、 基板本体の一方の主面の 上に他の層を介して形成されたリッジ型の光導波路であってよく、 また 基板本体の内部に内拡散法やイオン交換法によって形成された光導波路、 例えばチタン拡散光導波路、 プロトン交換光導波路であってよい。 電極 は、 基板本体の一方の主面側に設けられているが、 基板本体の一方の主 面に直接形成されていてよく、 バッファ層の上に形成されていてよい。 前記した低誘電率部とは、 基板本体を構成する電気光学材料の比誘電 率よりも低い比誘電率を有する部分を意味する。 (低誘電率部分の比誘 電率) / (基板を構成する電気光学材料の比誘電率) は、 1 / 3以下で あることが好ましく、 1 / 1 0以下であることが更に好ましい。
低誘電率部は空隙であってよい。 また、 低誘電率部は、 基板を構成す る電気光学材料の比誘電率よりも低い比誘電率を有する固形材料からな つていてよい。 このような材料としては、 アルミナ、 窒化アルミニウム、 ニオブ酸リチウム、 タンタル酸リチウム、 ガリウムヒ素、 酸化シリコン . を例示できる。
また、 低誘電率部は接着剤であってよい。 接着剤の種類は特に限定さ れないが、 厚さ 3 0 0 m以下が適当である。 また、 低誘電率層として 用いる好適な低誘電体材料としては、 高周波変調信号の伝搬損失を低減 する観点から低誘電体損 (低 tan d )を有する材料を用いることが望まし い。 このような低誘電率、 低誘電体損の材質としてはテフロン、 ァクリ ル系接着剤が例示できる。 また、 他の低誘電率材料としては、 ガラス系 接着剤、 エポキシ系接着剤、 半導体製造用層間絶縁体、 ポリイミ ド樹脂 を例示できる。

Claims

請求の範囲
1 . 電気光学材料からなり、 一方の主面と他方の主面とを備えている 基板、 この基板に形成され、 一方の分岐部および他方の分岐部を有する 光導波路、 および前記基板の前記一方の主面側に設けられた接地電極お よび信号電極を備えており、 前記一方の分岐部と前記他方の分岐部とが 前記接地電極と前記信号電極との電極ギヤップに設けられており、 マイ クロ波電界を前記一方の分岐部および前記他方の分岐部の各電極相互作 用部に印加し、 前記一方の分岐部および前記他方の分岐部を伝搬する光 を変調するのに際して、 前記一方の分岐部および前記他方の分岐部にお いて電界強度の電極相互作用長による各積分値が異なっており、 これに よって所定のチヤ一プ量を得ることを特徴とする、 光変調器。
2 . 前記一方の分岐部および前記他方の分岐部に対して相異なる強度 のマイクロ波電界を印加することを特徴とする、 請求項 1記載の光変調 器。
3 . 複数の前記接地電極を有しており、 前記信号電極と前記各接地電 極との間の前記各電極ギヤ.ップの幅が互いに異なっていることを特徴と する、 請求項 2記載の光変調器。
4 . 前記電極ギヤップのうち相対的に幅の狭い電極ギヤップにおいて、 前記一方の分岐部が前記信号電極または前記接地電極のエッジ近傍に配 置されていることを特徴とする、 請求項 3記載の光変調器。
5 . 前記一方の分岐部と前記他方の分岐部の前記各電極相互作用長が 互いに異なっていることを特徴とする、 請求項 1記載の光変調器。
6 . 前記一方の分岐部の一部を前記信号電極または前記接地電極の直 下に配置することによって、 前記一方の分岐部の前記電極相互作用長を 前記他方の分岐部の前記電極相互作用長よりも小さくすることを特徴と する、 請求項 5記載の光変調器。
7 . 前記電極相互作用長部分における前記基板の厚さが 3 0〃m以下 であることを特徴とする、 請求項 1〜 6のいずれか一つの請求項に記載 の光変調器。
8 . 複数の前記接地電極を有しており、 前記信号電極と一方の前記接 地電極との間の電極ギャップ下における前記基板の厚さと、 前記信号電 極と他方の前記接地電極との間の前記電極ギャップにおける前記基板の 厚さとが異なっていることを特徴とする、 請求項 1記載の光変調器。
9 . 複数の前記接地電極を有しており、 前記信号電極と一方の前記接 地電極との間の電極ギヤップ下において前記基板下に一方の低誘電率部 が設けられており、 前記信号電極と他方の前記接地電極との間の電極ギ ャヅプ下において前記基板下に他方の低誘電 部が設けられており、 前 記一方の低誘電率部の比誘電率と前記他方の低誘電率部の比誘電率とが 異なっていることを特徴とする、 請求項 1記載の光変調器。
1 0 . 電気光学材料からなり、 一方の主面と他方の主面とを備えてい る基板、 この基板に形成され、 一方の分岐部および他方の分岐部を有す る光導波路、 および前記基板の前記一方の主面側に設けられた接地電極 および信号電極を備えており、 前記一方の分岐部が前記接地電極と前記 信号電極との間の電極ギヤップに設けられており、 前記他方の分岐部が 前記接地電極下に設けられており、 マイクロ波電界を前記一方の分岐部 および前記他方の分岐部の各電極相互作用部に印加し、 前記一方の分岐 部および前記他方の分岐部を伝搬する光を変調することを特徴とする、 光変調器。
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