WO2005024392A1 - ナノチューブプローブ及び製造方法 - Google Patents

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WO2005024392A1
WO2005024392A1 PCT/JP2004/013403 JP2004013403W WO2005024392A1 WO 2005024392 A1 WO2005024392 A1 WO 2005024392A1 JP 2004013403 W JP2004013403 W JP 2004013403W WO 2005024392 A1 WO2005024392 A1 WO 2005024392A1
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WO
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nanotube
coating film
partial coating
base end
probe
Prior art date
Application number
PCT/JP2004/013403
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English (en)
French (fr)
Inventor
Yoshikazu Nakayama
Takashi Okawa
Shigenobu Yamanaka
Akio Harada
Original Assignee
Daiken Chemical Co., Ltd.
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Publication date
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Priority to EP04773076A priority patent/EP1666867A4/en
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q70/00General aspects of SPM probes, their manufacture or their related instrumentation, insofar as they are not specially adapted to a single SPM technique covered by group G01Q60/00
    • G01Q70/16Probe manufacture
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01QSCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
    • G01Q70/00General aspects of SPM probes, their manufacture or their related instrumentation, insofar as they are not specially adapted to a single SPM technique covered by group G01Q60/00
    • G01Q70/08Probe characteristics
    • G01Q70/10Shape or taper
    • G01Q70/12Nanotube tips
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y35/00Methods or apparatus for measurement or analysis of nanostructures

Definitions

  • the present invention relates to a nanotube probe using a nanotube as a probe. More specifically, the present invention realizes a specific method for fixing a nanotube to a holder, for example, for physical and chemical characterization of a sample surface.
  • Probe that can be used as a probe of a scanning probe microscope that detects the surface of the sample and detects the sample surface, and a method of manufacturing the nanotube probe
  • a scanning probe microscope is a microscope that detects the physical and chemical effects received from atoms on the sample surface by a probe tip, and generates a sample surface image from detection signals while scanning the probe over the surface. . For this reason, the resolution and measurement accuracy of a scanning probe microscope greatly depend on the size of the probe and its physical properties.
  • High resolution can be obtained by using a tough, small-diameter nanotube represented by a carbon nanotube (CNT) as a probe of a scanning probe microscope.
  • CNT carbon nanotube
  • fixing nanotubes to the holder that holds the probe requires sophisticated microfabrication technology.
  • the nanotube probe and its production method were first disclosed by Colbert Daniel T., Dai Honji et al. In Japanese Patent Publication No. 2000-516708. Next, in the process of improving the above-mentioned invention, it was disclosed by the present inventors as JP-A-2000-227435.
  • a nanotube is used as a probe of a scanning probe microscope, and the nanotube is fixed to the protruding portion of the cantilever by an adhesive using an optical microscope.
  • the maximum magnification of an optical microscope is limited to 1000 to 2000 times, it is theoretically impossible to directly observe nanotubes with a diameter of 100 nm or less with an optical microscope. Therefore, it is difficult to even bond the nanotube to a specific position of the cantilever protrusion, and it is even more difficult to adjust the number and direction of the bonded nanotubes.
  • a nanotube probe is assembled while directly observing the nanotube in an electron microscope. That is, the present invention provides a method for producing a nanotube probe with high precision and ease by coating and fixing the nanotube on the holder surface using an electron beam under a direct observation state.
  • FIG. 15 is an explanatory view of an embodiment in which a nanotube probe is formed by the conventional technique. While observing directly in an electron microscope, the nanotube arrangement plate 106 to which the nanotubes 108 are attached is opposed to the cantilever protrusion 104. Next, the two are brought close to each other to bring the base end portion 108 b of the nanotube into contact with the protruding portion 104.
  • the nanotube 108 has a tip length A of the nanotube tip 108 a sufficient to serve as a probe, and the base 108 b has a base length B. .
  • the impurity substance floating in the sample chamber of the electron microscope is decomposed, and the coating film 112 is formed by the decomposition product carbon substance.
  • the base end 108 b of the nanotube is fixed to the cantilever protrusion 104 by the coating film 112.
  • the electron beam 110 has a beam diameter such that it covers the entire nanotube base end 108 b. Therefore, the impurities 142 and 142 present in the sample chamber are decomposed by the electron beam 110 and the coating film 112 is formed so that the generated carbon material covers the base end 108 b of the nanotube. It is formed.
  • the carbon material not only forms the coating film 112 but also becomes charged by the electrons 140 and 140 and is scattered by the electric repulsion, or the fragments are scattered and the coating material other than the coating film 112 is formed.
  • impurities 1 36 adhered to the region of No. 1 and soiled the protruding portion 104 of the cantilever.
  • the base end of the nanotube 108 b In the case of coating over the entire surface, the diameter of the end face of the electron beam 110 was large, so that the energy flow density was low, and it was necessary to irradiate the electron beam i ⁇ 0 for a long time.
  • the distal end length A when the distal end length A is set to an appropriate length, a case appears in which the proximal end length B becomes considerably long as shown in (15B). If the base end length B is larger than the beam diameter, the coating film 1 1 2 is moved by moving the electron beam 110 in the direction of arrow m to cover the entire base end 108 b. Need to be formed in multiple stages. However, the larger the area covered by the coating film 112, the longer the fixing time, and the greater the amount of the impurity 136 attached to the cantilever protrusion. As a result, the nanotube probe was greatly contaminated by impurities, and could not be provided as a product in some cases.
  • Figure 16 shows the configuration of a defective nanotube probe and a measurement diagram using it. If the nanotubes 108 do not pass through the sharp ends 107 of the cantilever protrusions 104 and the base end 108 b of the nanotubes is entirely coated in one process, the misalignment is corrected. That is no longer possible. Such a shift is likely to occur when the nanotubes 108 are obliquely attached to the nanotube arrangement plate 106.
  • Such misalignment causes an adverse effect when the sharp end 107 also functions as a probe together with the nanotube tip 108 c in the AFM measurement.
  • (16A) when the positions of the sharp end 107 and the nanotube 108 are misaligned, as shown in (16B), the sharp end scanning point 150 and the nanotube running point are shifted. This causes a double exposure of 152 and gives incorrect sample surface information.
  • FIG. 17 is a configuration diagram of a conventional cantilever protrusion 104 having a curved side surface and a nanotube 108.
  • the side surface 122 of the cantilever protrusion 104 is concavely curved, it is necessary to fix the nanotube to the curved side surface 122.
  • the other parts do not contribute to fixation at all even if they are coated entirely. As described above, there are many points that need to be improved in the conventional full-surface coating method.
  • the nanotube probe is fixed to the holder with a predetermined strength or more.
  • Another object of the present invention is to provide a nanotube probe which can be fixed in a short time and a method for producing the same. It is another object of the present invention to provide a nanotube probe which can be fixed to a holder having a curved surface in a short time with a small amount of adhered impurities at the time of fixing, and can further increase the fixing strength, and a method of manufacturing the same.
  • a first aspect of the present invention is to provide a holder for holding a nanotube, and a base end of the nanotube with a tip end of the nanotube protruding.
  • a nanotube probe having a portion fixed to a holder surface by a coating film, each of a plurality of portions at the base end of the nanotube is fixed to the holder surface by a partial coating film, and the partial coating films are separated without overlapping each other. Is a nanotube probe.
  • the maximum coating skirt width fixed to the holder surface in a direction perpendicular to the nanotube axis is W
  • the nanotube diameter is d
  • W / d It is a nanotube probe that satisfies the relation of ⁇ 0.1.
  • the coating length directly pressing the nanotubes in the axial direction is L
  • the diameter of the nanotubes is d
  • the relationship of L / d ⁇ 0.3 is satisfied.
  • a fourth aspect of the present invention is a nanotube probe, wherein the average thickness T of the partial coating film is 1 nm or more.
  • a projecting portion of a cantilever is used as the holder, a base end portion of the nanotube is arranged to be in contact with the surface of the projecting portion, and the partial coating film is provided on each of two or more contact regions.
  • the partial coating film is provided on each of two or more contact regions.
  • a seventh aspect of the present invention is a nanotube probe for disposing a nanotube in the vicinity of a sharp end of the protrusion.
  • a method for manufacturing a nanotube probe comprising: a holder for holding a nanotube; and a base end portion of the nanotube fixed to a holder surface by a coating film with a tip end portion of the nanotube protruding.
  • the coating film is composed of at least two or more partial coating films, and the first fixing portion of the base end portion of the nanotube is brought into contact with the holder surface to partially cover the first fixing portion.
  • a cantilever protrusion is used as the holder, the first partial coating film is formed below the base end of the nanotube, and the nanotube is arranged so as to pass near the sharp end of the protrusion.
  • This is a method for producing a nanotube probe in which a second partial coating film is formed in a state above the base end of the nanotube.
  • a first partial coating film is formed below the nanotube base end, The intermediate region of the end is kept in a non-contact state with the protruding portion, and the nanotube is adjusted so as to pass through the sharp end of the protruding portion with the first partial coating film as a fulcrum.
  • a first partial coating film is formed at a position below the nanotube base end, and the nanotube base is formed.
  • the intermediate region between the first fixed portion and the second fixed portion at the end is forcibly bent to a shape along the curved surface, and adjusted so that the nanotube passes near the sharp end of the protruding portion with the first partial coating film as a fulcrum. Either of the forced bending and the passage adjustment may be performed first, and a position above the base end of the nanotube is brought into contact with the vicinity of the sharp end to form a second partial coating film in the contact area.
  • This is a method for producing a nanotube probe.
  • a twelfth aspect of the present invention is a method for producing a nanotube probe in which after forming the second partial coating film, the intermediate region is fixed by a third partial coating film.
  • the nanotube probe according to claim 8, 9, 10, 10, 11, or 12, wherein the partial coating film is formed while directly observing in an electron microscope or a focused ion beam device. Is a manufacturing method.
  • a fifteenth aspect of the present invention is the method for producing a nanotube probe according to claim 13, wherein the partial coating film is a decomposition deposit formed by an electron beam or an ion beam.
  • a fifteenth aspect of the present invention is a method for producing a nanotube probe for controlling the size of the partial coating film by regulating the scanning range of the electron beam or the ion beam.
  • the size of the partial coating film is reduced as much as possible, so that the time required for forming the coating film can be reduced. It will be possible to make a dramatic reduction. It is difficult to clearly see the whole image of the nanotube even with a magnifying device such as an electron microscope, and it is difficult for even a skilled person to confirm the rearmost end of the nanotube. In the whole-surface coating method, it is necessary to check the rearmost end of the nanotube before coating, which requires a huge amount of coating time.
  • the partial coating method does not require confirmation of the end of the nanotube at all, and has the advantage that the coating time is shortened and the coating operation is extremely simple.
  • the nanotube can be fixed to the holder only by fixing at least two points at the base end of the nanotube.
  • the partial coating film is formed by the maximum coating skirt ⁇ ⁇ W with respect to the nanotube diameter d by satisfying the relationship of W / d ⁇ 0.1. The required fixing strength for fixing the UBE to the holder surface can be obtained.
  • the partial coating film is formed in an arbitrary shape such as a rectangle, a circle, and an ellipse.
  • the adhesive strength determines the strength. This bonding length is called the maximum coating hem width, and the present inventors have discovered for the first time that if the maximum coating hem width W is 0.1 times or more of the nanotube diameter d, the initial fixing strength can be obtained. It was done. Since the partial coating film is formed in an arbitrary shape such as a rectangle, a circle, an ellipse, and a curved surface, the width of the coating hem also varies depending on the position. In the present invention, the above conditions have been found by focusing on the maximum coating hem width.
  • the coating length L satisfies the relationship of L / d ⁇ 0.3 with respect to the nanotube diameter d, so that the partial coating film is required for fixing the nanotubes to the holder surface.
  • Strength can be obtained.
  • the partial coating film is a pure plaster that fixes the nanotubes, and the axial length of the pure plaster directly pressing the nanotube is called the coating length, and is one of the factors that give the adhesive strength. It is.
  • the partial coating can take any shape, but the coating length is uniquely determined. The present inventors have clarified that an initial fixing strength can be obtained when the coating length L is at least 0.3 times the nanotube diameter d.
  • the coating time can be reduced. There is no upper limit on the coating length L, but the upper limit can be determined in consideration of the coating time.
  • a nanotube probe having a fixing strength that can withstand practical use It is possible to provide. It is desirable that the thickness of the partial coating film be uniform, but it cannot be said that it is completely uniform. If the film thickness is uniform, the average film thickness matches that film thickness. If the film thickness is not uniform, judge with the average film thickness. Regarding the average film thickness, it is natural that the coating strength increases as the thickness increases. As the average film thickness increases, coating time unnecessarily increases. The present inventors have experimentally confirmed that the nanotube can be securely fixed if the average thickness of the coating film is 1 nm or more (T ⁇ 1 nm).
  • the coating time was ⁇ Peng large because it was unnecessarily thick. According to the present invention, if the average film thickness is set to 1 nm or more, the coating time can be drastically reduced and the coating operation can be simplified.
  • the nanotube is fixed to the force cantilever by two or more partial coating films. Therefore, a nanotube probe can be easily manufactured.
  • the AFM device for finely controlling the cantilever can be used as it is, the drive control of the nanotube probe can be easily performed.
  • the shape of the cantilever protrusion may be arbitrary, and various shapes such as a straight cone such as a cone or a triangular pyramid and a curved cone having a curved surface may be used as the shape of the protrusion.
  • a partial coating film may be formed at a position where at least the surface of the protruding portion and the base end of the nanotube are in contact with each other. .
  • a curved cantilever protrusion can be used as a holder.
  • the protruding portion itself is a probe tl "
  • the protruding portion is formed into a concave or convex shape in order to sharpen the tip of the protruding portion.
  • the nanotube When the nanotube is placed in contact with the curved surface, it contacts at least two points, upper and lower, so that the nanotube can be fixed by forming a partial coating film at these contact points.
  • the present invention can be used effectively, and the same fixing strength as that of the entire surface coating can be obtained.
  • the nanotube is arranged to pass near the sharp end of the protruding portion of the cantilever, the surface signal from the nanotube probe running on the sample surface is provided. Thereby, a sample surface image can be revealed with high accuracy.
  • the sharp end of the protruding portion does not function as a probe, and double exposure can be prevented.
  • the eighth embodiment of the present invention provides a manufacturing method for realizing the first embodiment. At least two points where the base end of the nanotube comes into contact with the holder are selected, and both contact points are fixed as a first fixing point and a second fixing point by a partial coating film.
  • the coating order of the first fixed portion and the second fixed portion does not matter. Since the area of the partial coating film is extremely reduced, there is an advantage that the coating time is remarkably reduced as compared with the whole coating method.
  • the fixing strength of the nanotube depends on the area of the partial coating film.
  • the nanotube is swung right and left around the first partial coating film while the nanotube is swung right and left near the sharp end of the cantilever protrusion. , And then a second partial coating film is formed thereon.
  • the nanotubes can be arranged normally, and the failure rate of the nanotube probe can be rapidly reduced.
  • a sample surface image can be captured only by a surface signal from a nanotube probe that scans the sample surface, and a nanotube probe that does not cause double exposure due to a sharp end of a protruding portion can be manufactured.
  • the tenth aspect of the present invention it is possible to manufacture a nanotube probe using a force cantilever whose sharp end of the protruding portion is further sharpened by a curved property.
  • the rod-shaped nanotube When the rod-shaped nanotube is brought into contact with the concave curved surface, the nanotube comes into contact with the curved surface at two points, upper and lower, and is in a non-contact state in the middle region.
  • the lower contact point is partially coated and fixed, and the nanotube is swung right and left with the fixed point as a fulcrum so as to pass through the sharp end, and then the upper contact point is partially coated and fixed. Therefore, although it is not fixed in the middle area, it can be fixed securely by the upper and lower two points.
  • the intermediate region is in contact with the surface, but can be securely fixed by fixing the partial coating at the upper and lower two points.
  • the nanotube can be reliably corrected to a normal posture, This has the advantage of rapidly reducing the defect rate of the tubeless probe.
  • the partial coating since the partial coating is fixed, the same fixing strength can be developed in a shorter time than the conventional coating covering the entire base end of the nanotube.
  • the van der between the nanotube and the cantilever protrusion is fixed together with the partial coating film.
  • the curved shape of the cantilever protrusion includes a concave curve and a convex curve.
  • the nanotube probe when running on the sample surface, the nanotube probe can accurately follow the steep irregularities on the sample surface, and has an advantage that a sample surface image can be captured with high accuracy. Further, since the posture of the nanotube is forcibly corrected so that the nanotube passes through the sharp end of the protruding portion, the failure rate of the nanotube probe can be rapidly reduced.
  • the number of coating locations is 3 or more, and high strength fixing can be realized.
  • the thirteenth aspect of the present invention it is possible to magnify the cantilever or the nanotube as a part while observing the part using an electron microscope or a focused ion beam apparatus, and to assemble the part with high accuracy.
  • the impurity gas in the apparatus is decomposed by an electron beam or an ion beam, and the decomposition product is deposited to form a partial coating film easily and in a short time.
  • the electron beam dion beam has an advantage that an existing electron microscope and a focused ion beam device (FIB device) can be used, and does not require a new charged beam generator.
  • the size of the coating film that is, the coating length L, the maximum coating width W is controlled by regulating the scanning range (beam deflection width) of the electron beam or the ion beam.
  • the scanning range beam deflection width
  • the above-mentioned conditions of W / d ⁇ 0.1 and L / d0.3 can be easily satisfied.
  • the beam diameter of the electron beam or the ion beam can be reduced to a minimum, which has the effect of minimizing the accumulation of decomposition products in areas other than the coating area.
  • the average coating film thickness can be freely controlled, and the above-mentioned film thickness condition, that is, the condition of T ⁇ l (nm) can be easily achieved.
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an apparatus for fixing a nanotube 8 to a cantilever 2.
  • FIG. 2 is an explanatory diagram of the fixing operation of the nanotube 8.
  • FIG. 3 is an explanatory diagram of the partial coating film 12 formed by the electron beam 10.
  • FIG. 4 is an explanatory diagram of the relationship between the size of the partial coating film 12 and the nanotube diameter d. ⁇
  • Figure 5 shows the relationship between the nanotube diameter d, each size of the partial coating film, and the fixing strength.
  • FIG. 6 is a relationship diagram showing the fixing strength of the etched nanotubes 8.
  • FIG. 7 is a process diagram of a method of fixing the nanotubes 8 to the curved force-tilever projections 4.
  • FIG. 8 is an explanatory diagram of a method of fixing the nanotubes 8 to the uncurved force-chinch lever projections 4.
  • FIG. 9 is a process drawing in which the nanotube 8 is arranged to pass through near the sharp end 7 of the protruding portion 4.
  • FIG. 10 is a process diagram of fixing the nanotube intermediate region with the third partial coating film 12c.
  • FIG. 11 is a process diagram for fixing the nanotube 8 to the cantilever protrusion 4 which is formed in a concavely curved shape.
  • FIG. 12 is a process diagram of fixing three points of the nanotubes 8 to the cantilever protrusions 4 formed in a concavely curved shape.
  • FIG. 13 is a process diagram for fixing the nanotubes 8 to the protruding portions 4 of the cantilever that are formed in a convex shape.
  • FIG. 14 is an explanatory diagram of a method for fixing one nanotube 8 from the nanotube group 36.
  • FIG. 15 is an explanatory diagram of an embodiment in which a nanotube probe is formed according to this conventional technique.
  • Figure 16 shows a configuration diagram of a defective product of a conventional nanotube probe and a measurement diagram using the same.
  • FIG. 17 is a configuration diagram of a conventional cantilever protrusion 104 having a curved side surface and a nanotube 108.
  • the inventors of the present invention have conducted intensive studies to improve the nanotube probe by the full-surface coating method, and have completed the nanotube probe by the partial coating method.
  • embodiments of a nanotube probe and a method for manufacturing the same according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
  • a nanotube probe which can fix the nanotube to the holder surface in a short time, reduce the amount of impurities adhering to the holder surface to the utmost, and can use a holder of any shape, and a method of manufacturing the same are provided.
  • a cantilever protrusion for AFM is used as a holder for fixing a nanotube.
  • the holder is not limited to the cantilever, and it goes without saying that any member that can fix the nanotube and can control the fine movement of the nanotube can be used as the holder.
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an apparatus for fixing a nanotube 8 to a force cantilever 2.
  • a cantilever 2 used in AFM is composed of a cantilever part 3 and a protruding part 4, and the protruding part 4 is used as a holder for fixing nanotubes.
  • a large number of nanotubes 8 are attached to a nanotube placement plate 6 which is a source of nanotubes. The nanotube 8 of the nanotube placement plate 6 is fixed to the protrusion 4, and then the nanotube 8 is separated from the nanotube placement plate 6 and the nanotube probe Assemble.
  • FIG. 2 is an explanatory view of the fixing operation of the nanotube 8. As shown in (2A), the sharp end 7 of the cantilever protrusion 4 is brought very close to the nanotube 8 in the direction of arrow a while directly observing with an electron microscope.
  • the cantilever projection 4 is arranged so that the nanotube 8 is disassembled into a distal end 8a and a proximal end 8b by the cantilever projection 4. After the base end portion 8b of the nanotube has adhered to the surface of the cantilever protrusion 4, an appropriate first fixed portion is irradiated with an electron beam 10 to form a first partial coating film 12a. In observing with an electron microscope, it is necessary to be skilled to specify the tip 8c of the nanotube. Therefore, the electron beam 10 is applied to a position appropriately distant from the nanotube tip 8c to form the first partial coating film 12a.
  • the second fixed portion above the base end 8b is irradiated with the electron beam 10 to form the second partial coating film 12b, and the nanotube base end 8b is forced.
  • the impurity gas in the electron microscope is decomposed by the electron beam, and the decomposition products are deposited to form the first partial coating film 12a and the second partial coating film 12b.
  • the impurity gas is an organic gas
  • the decomposition deposit is often composed of a carbon material.
  • the decomposition deposits are composed of metallic substances.
  • the material constituting the coating film can be arbitrarily selected.
  • the cantilever protrusion 4 and the nanotube placement plate 6 are relatively separated in the direction of arrow b.
  • the adhesive force of the nanotube 8 to the nanotube arrangement plate 6 is weaker than the fixing strength of the first partial coating film 12a and the second partial coating film 12b.
  • the probe 8 is separated from the nanotube placement plate 6 integrally with the force-chinch lever projection 4.
  • FIG. 3 is an explanatory diagram of the partial coating film 12 formed by the electron beam 10.
  • the first method is a method in which the electron beam is narrowed down and the beam is swung within a set scanning range, and the size of the partial coating film is adjusted by changing the scanning range.
  • the second method is to make the electron beam thicker by loosening the aperture, and adjust the size of the coating film by changing the beam thickness.
  • the first method is used, and the beam diameter R of the electron beam 10 is narrowed down to an extremely small value (for example, several nm to 10 nm). While shaking in 14, a coating film 12 is formed.
  • the beam diameter R is reduced to about 4 nm, and the scanning range 14 is set to 20 nm on each side.
  • the size of the coating film 12 is about 30 nm.
  • the size of the scanning range 14 and the size of the coating film 12 are of the same order, but are not necessarily the same. However, there is a certain dependency between the size of the scanning range 14 and the size of the coating film 12.
  • the scanning range 14 is an area defined by a horizontal width u and a vertical width V, and is realized by a deflection coil.
  • the partial coating film 12 is formed by irradiating the electron beam 10 while oscillating it within the scanning range 14.
  • the size of the partial coating film 12 can be controlled.
  • the size of the scanning range 14 can be adjusted according to the diameter of the fixed nanotube. As described later, since the width D, length L, and average thickness T of the partial coating film 12 have a certain relationship with the nanotube diameter d, the partial coating film 12 is formed so as to satisfy the relationship. Thereby, the desired fixing strength can be obtained.
  • the second method is used, and when the nanotube diameter d changes from small to large, the diameter R of the electron beam 10 is also adjusted from small to large by adjusting the aperture.
  • the electron beam 10 is in a direct irradiation state and is not scanned. That is, corresponding to the thin nanotube 8 (left figure) and the thick nanotube 8 (right figure), beam irradiation is performed by adjusting the beam diameter R of the electron beam 10 to obtain a partial coating having a predetermined fixed intensity. Films 12 and 12 are formed.
  • the nanotube diameter d, the holder surface The average film thickness T, the coating length L, and the maximum coating hem width W of the partial coating film 12 can be freely changed according to the shape as described later.
  • a method of changing the diameter R of the electron beam and adjusting the aperture of the electron beam can also be adopted.
  • the electron beam diameter R may be set to 30 nm, and the scanning range 14 may be adjusted to 80 nm on each side. Needless to say, such a two-stage adjustment can be freely changed according to the purpose.
  • the material of the partial coating film 12 is selected so as to satisfy various physical properties required for the nanotube probe, for example, fixing strength, conductivity, rawness, insulation, magnetism, etc ..
  • the impurity gas is an organic gas
  • the carbon material generated by electron beam decomposition becomes the partial coating film 12.
  • the impurity gas is a metal organic gas
  • the decomposed metal material is used as the partial coating film.
  • the film becomes 12.
  • the physical properties can be adjusted by selecting the type of the metal element.
  • FIG. 4 is an explanatory diagram of the relationship between the size of the partial coating film 12 and the nanotube diameter d.
  • the partial coating film 12 has the following dimensions.
  • the length in contact with the protrusion surface 5 in the direction perpendicular to the nanotubes 8 is represented by the coating hem width. Since the partial coating film 12 is of a lost shape, the coating hem width is constant, and the maximum coating hem width W is equal to the coating hem width. Therefore, it may be referred to as the coating hem width W or the maximum coating hem width W.
  • the axial length of the partial coating film 12 is given by the coating length L. In this case, since the partial coating film 12 is rectangular, the width of the partial coating film 12 is also equal to the coating length L.
  • the diameter of the nanotube 8 is d, and the average thickness of the nanotube is T.
  • the durability test shown in (4B) is performed.
  • a nanotube 8 fixed to the cantilever protrusion 4 of the cantilever 2 with the first partial coating film 12a and the second partial coating film 12b was used.
  • the tip 8 c of the nanotube 8 is brought into contact with the sample surface 48, and an arrow perpendicular to the sample surface 48
  • the cantilever was further approached in the direction c, and the nanotube 8 was curved.
  • the sample was moved on the sample surface 48 while maintaining this curved state. This test was repeated 100 times, and the fixing strength of the partial coating film 12 was measured.
  • Fig. 5 shows the test results.
  • each dimension is defined by a rectangular partial coating film, but the shape of the partial coating film 12 is not limited to a square.
  • the shape of the partial coating film can be formed in various shapes by changing the beam cross section or the scanning range of the electron beam according to the shape of the cantilever protrusion. As an example,
  • (4C) shows the partial coating film 12 formed in an elliptical shape.
  • the length from the nanotube to the end of the coating film that becomes the maximum is the maximum coating foot width W
  • the length of the nanotube 8 directly pressed in the axial direction is defined as the coating length L.
  • the shape of the partial coating film of the nanotube probe used in the durability test shown in (4B) is not limited to a rectangle, but may include an elliptical shape.
  • the relationship between the ratio of the maximum coating skirt width W and the coating length L to the nanotube diameter d and the fixing strength of the nanotube almost coincides, at least for the rectangular and elliptical shapes. From this, it can be concluded that the relationship between the nanotube diameter d and each dimension shown in FIG. 5 generally holds unless there is an excessive difference in shape.
  • Figure 5 shows the relationship between the nanotube diameter d, each size of the partial coating film, and the fixing strength.
  • the fixing strength was judged in four stages: excellent ( ⁇ ), good ( ⁇ ), acceptable ( ⁇ ), and unacceptable (X). The three stages of excellent, good, and acceptable were passed, and unacceptable was rejected. .
  • the criteria for “excellent”, “good” and “not good” were determined by taking an AFM image of a standard sample using the tested nanotube probe and judging the sharpness of the image by a skilled person. If this is not possible, various causes can be considered, such as early detachment of the nanotubes and wear of the nanotube tips.
  • T was not possible with In nm.
  • the result was ⁇ , when it was 3 nm, it was ⁇ , and when it was 4 nm or more, the result was ⁇ . Therefore, it was judged to be acceptable when T was 2 nm or more. That is, in order to have the minimum required fixing strength as a probe in the partial coating film, the average thickness of the partial coating film needs to be 2 nm or more. Furthermore, it has a preferable fixing strength at T ⁇ 3 nm, and has a more preferable fixing strength at T ⁇ 4 nm.
  • FIG. 6 is a relationship diagram showing the fixing strength of the nanotube 8 subjected to the etching treatment. It is thought that the etching treatment of the protruding portion of the forcech lever increases the fixing strength of the nanotube by modifying the surface of the protruding portion.
  • the etching treatment includes chemical etching using hydrofluoric acid, phosphoric acid, etc., electrolytic etching, plasma etching, laser beam etching, and the like, and various etching methods can be selected according to the purpose.
  • the fixed strength was determined by changing WZd, LZd, and T.
  • a practically minimum fixed strength is obtained even when the value of / (1 is 0.1. Further, preferably, W / d ⁇ 0.3. Excellent fixing strength is obtained preferably when W / d ⁇ 0.5 or more, as shown in (6B), for LZ d, the minimum required fixing strength is obtained with LZd ⁇ 0.3 . Preferably Excellent fixing strength is obtained when L / d ⁇ 0.5, more preferably L / d ⁇ 0.8. As shown in (6C), for the average coating thickness T, the minimum required fixing strength is obtained at T ⁇ 1 nm. Excellent fixation strength is obtained when T ⁇ 2 nm, more preferably T ⁇ 3 nm.
  • the etching treatment increased the strength by one step compared to the case without etching. This is probably because the surface of the protruding part was modified by the etching treatment, and the bonding strength with the nanotube increased.
  • the required fixing strength was obtained when W / d ⁇ 0.1, L / d ⁇ 0.3, and T ⁇ 1 nm. It was found that when no etching treatment was performed, the required fixing strength was obtained when W / d ⁇ 0.3, L / d ⁇ 0.5, and T ⁇ 2 nm.
  • FIG. 7 is a process chart of a method of fixing the nanotube 8 to the curved cantilever protrusion 4.
  • the nanotubes 8 attached to the nanotube placement plate 6 are fixed to the protruding portion curved surface 22 that is curved toward the sharp end 7.
  • the nanotube 8 is irradiated with the electron beam 10 to the first fixed portion P1 in contact with the curved surface 22 to form a first partial coating film 12a.
  • the nanotube 8 is laid down, and the nanotube 8 is brought into contact with the second fixing point P 2 located near the sharp end 7.
  • the second fixed portion P2 is irradiated with an electron beam 10 to form a second partial coating film 12b.
  • the nanotube 8 is fixed at at least two points in contact with the curved surface 22, and a predetermined fixing strength is maintained by satisfying the above-mentioned coating conditions.
  • the gap 23 existing between the nanotube 8 and the curved surface 22 is not subjected to the coating process, so that the coating time of the coating film is reduced, and the efficient coating process is performed.
  • FIG. 8 is an explanatory diagram of a method of fixing the nanotube 8 to the uncurved cantilever protrusion 4.
  • the surfaces 5a and 5b of the cantilever protrusion 4 are not curved but are formed in a straight line, and the nanotubes 8 have the first coating film 12a and the second coating film 12b on the surface 5a or 5b. It is fixed by.
  • the cantilever 3 is oriented in the Z-axis direction
  • the protrusion 4 is arranged in the Y-axis direction
  • the nanotube 8 is fixed to the surface 5a.
  • the surface of the cantilever protrusion 4 Nanotube 8 is fixed to 5b.
  • the nanotube 8 can be fixed to either the surface 5.a or the surface 5b of the cantilever protrusion 4.
  • the surface on which the nanotube 8 is mounted can be freely selected by freely controlling the attitude of the nanotube arrangement plate 6 with respect to the protrusion 4.
  • FIG. 9 is a process diagram in which the nanotube 8 is disposed so as to pass near the sharp end 7 of the protrusion 4.
  • the tip 8c of the nanotube and the sharp end 7 of the protruding portion simultaneously function as a probe, and the captured surface image becomes a double image (double exposure) and the image accuracy is reduced. Resulting in.
  • the nanotubes 8 are arranged so as to pass near the sharp ends 7 of the protrusions 4.
  • the nanotube placement plate 6 is a source of the nanotubes 8, but the nanotubes 8 are generally oblique to the nanotube placement plate 6.
  • the nanotubes 8 are attached to the nanotube placement plate 6 in the attachment area 6a.
  • the attachment region 6a is a region where the nanotube 8 and the nanotube arrangement plate 6 are bonded by an intermolecular force. The method of attaching both is out of the scope of the present invention, and is not mentioned.
  • the obliquely arranged nanotubes 8 are brought into contact with the cantilever protrusions 4, and the first fixed position P 1, which is the contact point, is irradiated with the electron beam 10 to make the first partial coating film 12 a
  • the nanotube 8 is forcibly passed through the sharp end 7.
  • this enforcement method In the first method, the nanotube placement plate 6 is moved in the direction of arrow e, and the nanotube 8 is swiveled counterclockwise around the first fixed point P1 as a fulcrum.
  • the cantilever protrusion 4 is moved in the direction of arrow f, and the nanotube 8 is turned counterclockwise around the attachment region 6a as a fulcrum. In this way, the arrangement of the nanotubes 8 is corrected so as to pass near the sharp end 7.
  • the second fixed portion P2 near the sharp end 7 is irradiated with the electron beam 10 to form the second partial coating film 12b.
  • the nanotubes 8 are passed through the first partial coating film 12a and the second It is fixed to the protrusion 4 by the partial coating film 1 2b.
  • the vicinity of the sharp end 7 means the position of the sharp end 7 and the vicinity thereof, and it is needless to say that it is optimal that the nanotube 8 directly passes through the position of the sharp end 7.
  • FIG. 10 is a process diagram for fixing the nanotube intermediate region with the third partial coating film 12c.
  • (10 A) and (10 B) the operation described with reference to FIG. 9 is performed, and the nanotube 8 is applied to the protrusion 4 by the first partial coating film 12 a and the second partial coating film S 12 b Is fixed by Further, in order to increase the fixing strength, the intermediate region between the first partial coating film 12a and the second partial coating film 12b is irradiated with an electron beam 10 to irradiate the third partial coating film 12c.
  • a fourth partial coating film or the like can be additionally formed, and the nanotubes can be fixed at multiple points to provide higher strength fixing.
  • FIG. 11 is a process diagram of fixing the nanotube 8 to the cantilever protrusion 4 that is concavely curved.
  • the side surface of the cantilever protrusion 4 is formed in a concave shape toward the sharp end 7 thereof, and a curved surface 22 is formed.
  • the steps of bringing the nanotube 8 into close contact with the curved surface 22 are shown in (11A), (11B) and (11C).
  • the first fixed portion P1 below the nanotube 8 is irradiated with the electron beam 10 to form the first partial coating film 12a.
  • the nanotube placement plate 6 is moved in the direction of arrow g, and at the same time, the nanotube placement plate 6 is slightly moved in the direction of arrow h, so that the middle region of the nanotube 8 is brought into contact with the curved surface 22. Force to bend. Further, the nanotube 8 is adjusted so as to pass through the sharp end 7 with the first partial coating film 12a as a fulcrum.
  • the electron beam 10 is irradiated to the second fixed point P2 in the upper direction of the nanotube 8 that is in close contact with the cantilever protrusion 4, thereby forming the second partial coating film 12b.
  • Such close fixation enhances the Van der Waals force between the nanotube 8 and the cantilever protrusion 4, and can fix the nanotube 8 more firmly.
  • the nanotubes 8 attached in such a manner project substantially vertically upward from the protrusions 4. Therefore, since the probe is arranged at a right angle to the sample surface, the tip of the nanotube probe stands perpendicular to the unevenness on the sample surface, and the unevenness is detected with high accuracy to reduce erroneous information.
  • FIG. 12 is a process diagram in which three nanotubes 8 are fixed to the cantilever protrusions 4 that are formed in a concavely curved shape.
  • the nanotubes 8 are formed along the curved surface 22 by the first partial coating film 12 a and the second partial coating film 1. 2 fixes 2 points. At this time, the nanotube 8 is fixed so as to pass through the sharp end 7.
  • the third partial coating film 12c is formed by irradiating the intermediate region with an electron beam 10 in order to increase the fixing strength.
  • the nanotubes 8 are securely bonded and fixed to the curved surface 22 by the third partial coating film 12 c. Further, if necessary, a fourth partial coating film or the like is formed and the nanotubes 8 are fixed at multiple points, so that the fixing strength can be increased.
  • FIG. 13 is a process diagram of fixing the nanotube 8 to the cantilever protrusion 4 which is formed in a convex shape.
  • (13A) when the curved surface 22 of the cantilever protrusion 4 is formed in a convex shape toward the sharp end 7, the electron beam 10 is applied to a position below the nanotube 8 to emit the first beam.
  • a partial coating film 12a is formed.
  • (13B) the upper position of the nanotube 8 is brought into contact with the vicinity of the sharp end 7, and the contact portion is irradiated with the electron beam 10 to form the second partial coating film 12b.
  • the fixing method using the partial coating film makes it easy to fix the nanotube to the holder surface having various shapes.
  • FIG. 14 is an explanatory diagram of a method for fixing one nanotube 8 from the nanotube group 36.
  • An appropriate nanotube 8 to be used as a probe is selected from a group of several to several tens of nanotubes attached to the nanotube placement plate 6.
  • the nanotube placement plate 6 may be retracted in the direction of arrow j.
  • the protruding portion 4 of the cantilever is retracted in the direction of arrow k, only the selected nanotube 8 can be pulled out.
  • a single nanotube 8 is pulled out from the same nanotube placement plate 6 to produce a large number of nanotube probes. be able to. Therefore, the production efficiency of the nanotube probe can be sharply increased.
  • an electron microscope was used as a magnifying device, and an electron beam was used to form a partial coating film.
  • other magnifying devices and charged beams can be used for any purpose.
  • the fixing time can be significantly reduced, and mass production of the nanotube probe and reduction of production cost can be achieved. Can be realized.
  • the same nanotube placement plate can be used many times, and the production efficiency of the nanotube probe can be increased.
  • nanotube probe with a specified strength can be manufactured only by forming a partial coating film that satisfies the relationship of 1 nm.
  • initial energy density of the charged beam, irradiation time, and scanning range (beam deflection width) can be manufactured without the need for skill. It is possible to significantly improve productivity.
  • a nanotube probe can be easily manufactured simply by attaching a nanotube to a conventionally used cantilever with a partial coating film, and the production cost can be significantly reduced.
  • the intended purpose can be achieved only by partially coating only the contact portion between the curved cantilever protrusion and the nanotube. Even when the contact point between the curved surface and the nanotube is small, if the contact point is partially coated, the same fixing strength as that of the entire surface coating can be obtained. This not only significantly shortens the manufacturing time, but also allows the advanced use of the conventional force cantilever, thereby achieving labor saving.
  • the probe function of the sharp end of the protruding part can be sealed off by disposing the nanotube near the sharp end of the protruding part of the cantilever, and a high-precision surface image using only the nanotube probe appears. This can greatly improve the reliability of nanotube probes. In other words, by preventing double exposure, it is possible to accurately detect the nanostructure of a substance sample or a biological sample, and to provide an innovative method as a measurement method of nanotechnology.
  • the nanotube probe can be manufactured in a short time, and mass production of the nanotube probe and rapid reduction of the production cost can be realized.
  • the nanotube is placed near the sharp end of the protruding part of the forceps, so that the probe function of the protruding part can be sealed off, and a high-precision surface image can be provided using only the nanotube probe. it can. Further, the reliability of the nanotube probe can be greatly improved.
  • the nanotube probe can be provided by partially coating and fixing the nanotube on the curved surface, so that the nanotube probe can be configured using a holder having an arbitrary shape, and the nanotube probe can be multi-expanded.
  • the van der Waals force of the contact surface acts to provide a durable nanotube probe it can. Further, since the nanotube probe is perpendicular to the sample surface, it is possible to accurately detect unevenness information on the sample surface.
  • the fixing operation is performed while directly observing with an electron microscope, a partial coating film can be formed with high accuracy.
  • the processing of the nanotubes and the addition of functional materials can be performed reliably in the electron microscope.
  • a partial coating film can be formed using an electron beam or an ion beam. Therefore, it is possible to manufacture a nanotube probe using an existing device such as an electron microscope or a focused ion beam device (FIB device). No charged beam generator is required. Electron and ion beams have an established electromagnetic control method, which enables advanced microfabrication.
  • the average film thickness, the coating length, and the maximum coating width of the partial coating film can be freely changed only by controlling the scanning range of the electron beam or the ion beam. Therefore, a nanotube probe having a desired fixing strength on an arbitrary shaped holder surface can be manufactured. Further, the beam diameter of the charged beam can be reduced to a minimum, and the amount of impurities in the beam path adhered to the holder surface by the charged beam can be suppressed.
  • the nanotube probe according to the present invention can be applied to an ordinary scanning probe microscope.
  • Scanning probe microscopes include a scanning tunneling microscope (STM) that detects tunnel current, an atomic force microscope (AFM) that detects surface irregularities by van der Waals force, and a surface friction is detected by frictional force.
  • Horizontal force microscope (LFM) Magnetic force microscope (MFM) to detect magnetic interaction between magnetic probe f and sample surface
  • FFM Magnetic force microscope
  • FFM Magnetic force microscope
  • Field force microscope to detect electric field force gradient by applying voltage between sample and probe
  • C FM chemical force microscope
  • These scanning probe microscopes have in common that they detect the physical and chemical effects unique to the probe with a probe and image the atomic arrangement on the surface. Therefore, if the nanotube probe according to the present invention is applied, the resolution and measurement accuracy can be remarkably improved.

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Abstract

 耐久性があり、短時間で製造することができ、ナノチューブを保持するホルダー面に付着不純物が少ないナノチューブプローブを実現する。 本発明に係るナノチューブプローブは、ナノチューブ8をカンチレバー突出部4に少なくとも二つの部分コーティング膜12a、12bにより固定して構成される。これら二つの部分コーティング膜の中間領域に1箇所以上の部分コーティング膜を追加形成してもよい。各部分コーティング膜は、ナノチューブ基端部8bがカンチレバー突出部4に接触した位置に電子ビーム10を照射して形成される。各部分コーティング膜が相互に重なり合わないように分離して形成される。部分コーティング膜の大きさを極力小さくし、電子ビーム10のビーム径を絞ることにより、コーティング時間を短縮できる。ビーム径が小さいので余分な不純物の堆積を抑制することができる。

Description

ナノチューブプロ一ブ及び製造方法'
(技術分野)
本発明は、 ナノチューブを探針として使用するナノチュープローブに関し、 更 に詳細には、 ナノチューブをホルダーに固定させる具体的方法を実現して、 例え ば、 試料表面の物理的 ·化学的作明用を検出して試料表面像を撮像する走査型プロ ーブ顕微鏡の探針とレて使用できるナノチューブプローブ及びその製造方法に関 田
する。
(背景技術)
走査型プローブ顕微鏡は、 プローブの探針により試料表面の原子から受ける物 理的 ·化学的作用を検出し、 探針を表面上に走査させながら検出信号から試料面 像を現出させる顕微鏡である。 そのため、 走査型プローブ顕微鏡の分解能や測定 精度は探針のサイズやその物性に大きく依存している。
カーボンナノチューブ (CNT) に代表される丈夫で微小径のナノチューブを 走査型プローブ顕微鏡の探針として用いることにより、 高い分解能を得ることが できる。 し力 し、 探針を保持するホルダーへのナノチューブの固定は、 高度の微 細加工技術を必要とする。
ナノチューブプローブ及びその製造方法については、 先ず最初に、 コルバー ト ·ダニエル ·ティー、 ダイ ·ホンジ一等によって特表 2000-516708 号公報として開示された。 次に、 前記発明を改良する過程で、 本発明者等によつ て特開 2000-227435号公報として開示された。
特表 2000— 516708号公報では、 走査型プローブ顕微鏡の探針として ナノチューブが使用され、 このナノチューブは光学顕微鏡を用いて接着剤により カンチレバー突出部に固定されている。 し力 し、 光学顕微鏡の最大倍率は 100 0倍から 2000倍が限度であるため、 直径が 100 nm以下のナノチューブを 光学顕微鏡により直接観察することは原理的に不可能である。 そのため、 カンチレバー突出部の特定位置にナノチューブを接着することさえ 難しく、 接着されるナノチューブの本数や方向などを調整することは更に困難で ある。 また、 仮に接着されたとしても、 複数本のナノチューブ探針が接着して試 料面像が多重に重なったり、 測定試料表面に対するナノチューブ探針の設定角度 が直角から大きくずれて表面信号を誤って読み取ることが多かった。 言い換えれ ば、 暗室の中でナノチューブを取り扱うに等しい状態であった。
前記状態を改善するため、 特開 2 0 0 0— 2 2 7 4 3 5号公報では、 電子顕微 鏡の中でナノチューブを直接観察しながらナノチューブプローブを組み立てる。 即ち.、 直接観察状態下で電子ビームを用いて前記ナノチューブをホルダー面にコ 一ティング固定することによって、 ナノチューブプローブを高精度且つ簡便に製 造する方法を提供している。
図 1 5はこの従来技術によりナノチューブプローブを構成する実施例の説明図 である。 電子顕微鏡の中で直接観測しながら、 ナノチューブ 1 0 8が付着したナ ノチューブ配置板 1 0 6とカンチレバー突出部 1 0 4を対向させる。 次いで、 両 者を接近させてナノチューブ基端部 1 0 8 bを前記突出部 1 0 4上に接触させる。 ここで、 ナノチューブ 1 0 8は探針として甩いるのに十分なナノチューブ先端部 1 0 8 aの先端長 Aを有し、 前記基端部 1 0 8 bは基端部長 Bを有している。 次に、 電子ビーム 1 1 0を照射すると、 電子顕微鏡の試料室内に浮遊する不純 物質が分解され、 分解生成物である炭素物質によってコーティング膜 1 1 2が形 成される。 このコーティング膜 1 1 2によりナノチューブ基端部 1 0 8 bが前記 カンチレバー突出部 1 0 4に固定される。
図 1 5において、 電子ビーム 1 1 0は前記ナノチューブ基端部 1 0 8 b全体を 被覆するようなビーム径を有している。 従って、 試料室内に存在する不純物 1 4 2、 1 4 2は電子ビーム 1 1 0により分解し、 生成される炭素物質がナノチュー ブ基端部 1 0 8 bを覆うようにコーティング膜 1 1 2が形成される。
しかしながら、 前記炭素物質はコーティング膜 1 1 2を形成するだけではなく、 電子 1 4 0、 1 4 0により帯電して電気的反発力によって散乱したり、 又は破片 が飛び散ってコーティング膜 1 1 2以外の領域に不純物 1 3 6が付着してカンチ レバー突出部 1 0 4を汚すことが多かった。 また、 ナノチューブ基端部 1 0 8 b の全面コーティングする場合には、 電子ビーム 1 1 0の端面直径が大きくなるた めエネルギー流密度が低下し、 電子ビーム i丄 0を長時間照射する必要があった。 更に、 先端長 Aを適正長さに設定する場合には、 (1 5 B ) に示すように、 基 端部長 Bが相当長くなるケースが出現する。 基端部長 Bがビーム径に比べて大き い場合、 基端部 1 0 8 bの全面を被覆するためには、 電子ビーム 1 1 0を矢印 m 方向に移動することによって、 コーティング膜 1 1 2を多段階に形成する必要が 生ずる。 しかし、 コーティング膜 1 1 2の被覆領域が大きくなればなるほど、 固 定時間が長くなり、 カンチレバー突出部に付着する不純物 1 3 6の量が増大する。 その結果、 前記ナノチューブプローブが不純物により大きく汚され、 商品として 提供できなくなる場合もあった。
図 1 6はナノチューブプローブの不良品の構成図とそれを用いた測定図である。 ナノチューブ 1 0 8がカンチレバー突出部 1 0 4の先鋭端 1 0 7を通過しない状 態で、 ナノチューブ基端部 1 0 8 bが 1回の処理で全面コーティングされると、 そのずれ配置を補正することはもはや不可能である。 このようなずれは、 ナノチ ユーブ配置板 1 0 6に対しナノチューブ 1 0 8が斜交状態で付着している場合に 起こりやすい。
このようなずれ異常は、 A F M測定においてナノチューブ先端 1 0 8 cと共に 先鋭端 1 0 7も探針として機能するといつた弊害を招く。 (1 6 A) に示すよう に、 先鋭端 1 0 7とナノチューブ 1 0 8の配置がずれている場合、 ( 1 6 B ) に 示すように、 先鋭端走査点 1 5 0とナノチューブ走查点 1 5 2の二重露出を引き 起こし、 誤った試料表面 1 4 8の情報を与えることになる。
図 1 7は従来の湾曲側面を有するカンチレバー突出部 1 0 4とナノチューブ 1 0 8の構成図である。 カンチレバー突出部 1 0 4の側面 1 2 2が凹状に湾曲して いる場合、 この湾曲側面 1 2 2にナノチューブを固定する必要が生ずる。 ナノチ ユープ 1 0 8と突出部 1 0 4との間に隙間 1 2 3が空き、 全面コーティング膜 1 1 2により固定されている部分は、 先鋭端付近と下方部付近だけである。 それ以 外の部分は、 全面コーティングしていても固定には全く寄与していない。 以上の ように、 従来の全面コーティング方式には、 改善すべき点が多々存在する。
従って、 本発明は、 ナノチューブプローブを所定以上の強度でホルダーに固定 し、 しかも短時間で固定することが可能なナノチューブプローブ及ぴその製造方 法を提供することを目的する。 また、 固定時に不純物の付着量が少なく、 湾曲面 を有するホルダーにも短時間で固定することが可能であり、 更に固定強度を増大 化できるナノチューブプローブ及びその製造方法を提供することを目的する。
(発明の開示)
本発明は、 上記課題を達成するためになされたものであり、 本発明の第 1の形 態は、 ナノチューブを保持するホルダーと、 前記ナノチューブの先端部を突出さ せた状態でナノチューブの基端部をホルダー面にコーティング膜により固定した ナノチューブプローブにおいて、 前記ナノチューブ基端部の複数箇所の夫々を部 分コーティング膜によりホルダー面に固定し、 各部分コーティング膜が相互に重 なり合わずに分離しているナノチューブプローブである。
本発明の第 2の形態は、 前記部分コーティング膜において、 ナノチューブの軸 に直交する方向でホルダー面に固定されている最大コーティング裾幅を Wとし、 ナノチューブの直径を dとしたとき、 W/ d≥ 0 . 1の関係を満足するナノチュ ーブプローブである。
本発明の第 3の形態は、 前記部分コーティング膜において、 ナノチューブを軸 方向に直接押さえているコーティング長を Lとし、 ナノチューブの直径を dとし たとき、 L/ d≥ 0 . 3の関係を満足するナノチューブプローブである。
本発明の第 4の形態は、 前記部分コーティング膜の平均膜厚 Tは 1 n m以上で あるナノチューブプローブである。
本発明の第 5の形態は、 カンチレバーの突出部を前記ホルダーとして使用し、 前記突出部表面にナノチューブ基端部を接触するように配置し、 2個以上の接触 領域の夫々に前記部分コーティング膜を形成するナノチューブプローブである。 本発明の第 6の形態は、 前記突出部の側面が突出部先端に向けて湾曲形成され ているとき、 ナノチューブ基端部が前記湾曲面と接触している位置に前記部分コ 一ティング膜を形成するナノチューブプローブである。
本発明の第 7の形態は、 前記突出部の先鋭端の近傍にナノチューブを通過配置 させるナノチューブプローブである。 本発明の第 8の形態は、 ナノチューブを保持するホルダーと、 前記ナノチュー プの先端部を突出させた状態でナノチューブの基端部をホルダー面にコーティン グ膜により固定するナノチューブプローブの製造方法において、 前記コーティン グ膜を少なくとも 2個以上の部分コーティング膜によって構成し、 前記ナノチュ 一プ基端部の第 1固定箇所をホルダー面に接触させて、 この第 1固定箇所を部分 的に被覆する第 1部分コーティング膜を形成し、 次にナノチューブ基端部の第 2 固定箇所をホルダー面に接触させて、 この第 2固定箇所を部分的に被覆する第 2 部分コーティング膜を形成し、 第 1部分コーティング膜と第 2部分コーティング 膜が相互に重なり合わないように分離して形成されるナノチューブプローブの製 造方法である。
本発明の第 9の形態は、 前記ホルダーとしてカンチレバー突出部を使用し、 第 1部分コーティング膜をナノチューブ基端部の下方位置に形成し、 ナノチューブ が突出部の先鋭端近傍を通過するような配置状態で、 第 2部分コーティング膜を ナノチューブ基端部の上方位置に形成したナノチューブプローブの製造方法であ る。
本発明の第 1 0の形態は、 前記カンチレバー突出部の側面がその先鋭端に向け て湾曲形成されているとき、 ナノチューブ基端部の下方位置に第 1部分コーティ ング膜を形成し、 ナノチューブ基端部の中間領域を前記突出部と非接触状態に保 持し、 前記第 1部分コーティング膜を支点としてナノチューブが突出部先鋭端を 通過するように調整し、 ナノチューブ基端部の上方位置を前記先鋭端近傍に接触 させてこの接触部に第 2部分コーティング膜を形成したナノチューブプローブの 製造方法である。
本発明の第 1 1の形態は、 前記カンチレバー突出部の側面がその先鋭端に向け て湾曲形成されているとき、 ナノチユーブ基端部の下方位置に第 1部分コーティ ング膜を形成し、 ナノチューブ基端部における第 1固定箇所と第 2固定箇所の間 の中間領域を湾曲面に沿う形状に強制湾曲させ、 前記第 1部分コーティング膜を 支点としてナノチューブが突出部先鋭端近傍を通過するように調整し、 前記強制 湾曲と通過調整はいずれが先に行われてもよく、 ナノチューブ基端部の上方位置 を前記先鋭端近傍に接触させてこの接触領域に第 2部分コーティング膜を形成し たナノチューブプロ一ブの製造方法である。
本発明の第 1 2の形態は、 前記第 2部分コーティング膜を形成した後、 前記中 間領域を第 3部分コーティング膜により固定するナノチューブプローブの製造方 法である。
本発明の第 1 3の形態は、 電子顕微鏡又は集束イオンビーム装置の中で直接観 察しながら部分コーティング膜を形成する請求項 8、 9 , 1 0、 1 1、 1 2に記 載のナノチューブプローブの製造方法である。
本発明の第 1 4の形態は、 前記部分コーティング膜は電子ビーム又はィオンビ ームによる分解堆積物である請求項 1 3に記載のナノチューブプローブの製造方 法である。
本発明の第 1 5の形態は、 前記電子ビーム又はイオンビームの走査範囲を規制 することにより、 前記部分コーティング膜の大きさを制御するナノチューブプロ ーブの製造方法である。
本発明の第 1の形態によれば、 部分コーティング膜によってナノチューブをホ ルダ一面に固定するから、 部分コーティング膜の大きさを極力小さくすることに より、 コーティング膜の形成時間を従来の全面コーティング膜より飛躍的に短縮 することが可能になる。 ナノチューブは電子顕微鏡などの拡大視装置でもその全 体像を明瞭に視認することは難しく、 特にナノチューブの最後端を確認すること は熟練者でも難しい。 全面コーティング方式ではナノチューブ最後端を必ず確認 してコーティングする必要があるため、 膨大なコーティング時間を必要としてい た。 し力 し、 部分コーティング方式ではナノチューブ最後端の確認などは全く不 要となり、 コーティング時間の短縮と同時にコーティング操作が極めて簡単にな る利点がある。 換言すれば、 拡大視装置の中で確認できるナノチューブの少なく とも 2点を対象にコーティング操作を施すだけでよいから、 コーティング作業の 操作性を格段に向上することができる。 また、 ナノチューブ基端部の少なくとも 2点を固定するだけでナノチューブをホルダーに不動状態に固定できが、 固定力 を高めるためにはコーティング点を 3点又は 4点と増やしていくだけでよレ、。 本発明の第 2の形態によれば、 ナノチューブ直径 dに対し最大コーティング裾 φ畐 Wが W/ d≥0 . 1の関係を満たすことにより、 部分コーティング膜がナノチ ユーブをホルダー面へ固定するために必要な固定強度を得ることができる。 部分 コーティング膜は矩形、 円形、 楕円形など任意の形状に形成され、 部分コーティ ング膜はナノチューブを謂わば絆創膏で固定するようなものであり、 粋創膏の端 部がホルダー面と接着する長さによって接着強度が決められる。 この接着長さを 最大コーティング裾幅と呼んでおり、 この最大コーティング裾幅 Wがナノチュー ブ直径 dの 0 . 1倍以上であれば初期の固定強度が得られることを本発明者らは 初めて発見したのである。 部分コーティング膜は矩形、 円形、 楕円形、 曲面形な ど任意の形状に形成されるから、 コーティング裾幅も位置によって変化する。 本 発明は、 最大のコーティング裾幅に着目して前記条件を発見したものである。 こ の発見により部分コーティング膜の最大裾幅 Wの下限値が明確になり、 過度な固 定強度を与える従来のコーティング操作が無用になった。 従って、 この発明によ りコーティング時間の相当な短縮化を実現できる。 最大コーティング裾幅 Wの上 限について制限はないが、 コーティング時間との兼ね合いで上限値を決めればよ い。 .
本発明の第 3の形態によれば、 ナノチユーブ直径 dに対しコーティング長 Lが L / d≥0 . 3の関係を満たすことにより、 部分コーティング膜がナノチューブ をホルダー面へ固定するために必要な固定強度を得ることができる。 前述したよ うに、 部分コーティング膜はナノチューブを固定する粋創膏であり、 粋創膏がナ ノチューブを直接押さえる軸方向の長さをコーティング長さと称し、 前記接着強 度を与える因子の一つである。 部分コーティング膜は任意の形状を取り得るが、 コーティング長は一意的に決定される。 このコーティング長 Lがナノチューブ直 径 dの 0 . 3倍以上であれば初期の固定強度が得られることが本発明者らによつ て明らかにされた。 この発見により部分コーティング膜のコーティング長 Lの下 限値が明確になり、 過度な固定強度を与える従来のコーティング操作が格段に改 善される。 この発明によりコーティング時間の短縮化を実現できる。 コーティン グ長 Lの上限について制限はないが、 コーティング時間との兼ね合いで上限値を 決めることができる。
本発明の第 4の形態によれば、 平均膜厚丁が 1 n m以上の部分コーティング月莫 を形成することにより、 実用に耐え得る固定強度を有したナノチューブプローブ を提供することが可能である。 部分コーティング膜の膜厚は均一であることが望 ましいが、 完全に均一であるとはいえない。 膜厚が均一である場合には、 平均膜 厚はその膜厚に一致する。 膜厚が均一でない場合には、 平均の膜厚で判断する。 平均膜厚に関しては、 厚くなるほどコーティング強度が強くなるのは当然である。 し力 し、 平均膜厚が大きくなると、 コーティング時間を無用に増大させる。 本発 明者らは、 コーティング膜の平均膜厚が 1 n m以上 (T≥ l n m) であれば、 ナ ノチューブの固定を確実に行えることを実験的に確定した。 従来の全面コーティ ング膜方式では、 無用に厚くしていたためにコーティング時間が δ彭大になってい た。 本発明により、 平均膜厚を 1 n m以上に設定するように構成すればょレ、から、 コーティング時間の激減とコーティング操作の簡便化が実現される。
本発明の第 5の形態によれば、 原子間力顕微鏡 (A FMと呼ぶ) に用いられる カンチレバーをホルダーとして利用するから、 この力ンチレバーにナノチューブ を 2個以上の部分コーティング膜によって固定することにより、 簡単にナノチュ ーブプローブを製造することができる。 また、 カンチレバーを微動制御する A F M装置をそのまま使用できるから、 ナノチューブプローブの駆動制御を容易に行 うことができる。 この発明では、 カンチレバー突出部の形状は任意でよく、 突出 部形状として円錐や三角錐などの直錐体、 表面が曲面から成る曲錐体など種々の 形状が利用できる。 突出部表面とナノチューブ基端部が少なくとも接触する位置 に部分コーティング膜を形成すればよい。 .
本発明の第 6の形態によれば、 湾曲形成されたカンチレバー突出部をホルダー として用いることができる。 従来の半導体カンチレバーでは突出部自身が探 tl "で あるため、 この突出部の先端をより先鋭ィ匕するために凹状又は凸状に湾曲形成さ れることが行われている。 本発明は棒状のナノチューブを湾曲面に当接配置する と少なくとも上下の 2点で接触するから、 これらの接触点に部分コーティング膜 を形成することによってナノチューブを固定することができる。 このように、 接 触点が複数存在する場合には、 本発明が有効に利用でき、 全面コーティングと同 程度の固定強度を得ることができる。
本発明の第 7の形態によれば、 力ンチレバー突出部の先鋭端近傍にナノチュー ブを通過配置させるから、 試料表面を走查するナノチューブ探針からの表面信号 により試料表面像を高精度に現出させることができる。 突出部先鋭端は探針とし て機能せず、 2重露出を防ぐことができる。
本発明の第 8の形態は、 前述した第 1の形態を実現する製造方法を与えている。 ナノチューブ基端部がホルダーと接触する少なくとも 2点を選択し、 その両接触 点を第 1固定箇所及び第 2固定箇所として部分コーティング膜により固定するも のである。 第 1固定箇所及び第 2固定箇所のコーティング順序は問わない。 部分 コーティング膜の面積が極減されているから、 全面コーティング方法と比較して コーティング時間を格段に短縮する利点がある。 ナノチューブの固定強度は部分 コーティング膜の面積に依存する。 し力 し、 前述した W/ d 0 . 1、 L/ d≥ 0 . 3又は/及び T≥ l ( n m) の条件を考慮すれば、 部分コーティング膜の面 積を一定以上に設定することにより、 固定強度を所定値以上に設計することが可 能になる。
本発明の第 9の形態によれば、 第 1部分コーティング膜を下方に形成した後、 この第 1部分コーティング膜を支点してナノチューブを左右に振らせながらカン チレパー突出部の先鋭端近傍にナノチューブを通過配置させ、 その後に第 2部分 コーティング膜を上方に形成する。 このような 2段階固定によってナノチューブ を正常に配置することができ、 ナノチューブプローブの不良率を急速に低減する ことができる。 また、 試料表面を走査するナノチューブ探針からの表面信号だけ で試料表面像の撮像が可能になり、 突出部先鋭端による 2重露出を引き起こさな いナノチューブプローブを製造することができる。
本発明の第 1 0の形態によれば、 突出部先鋭端を湾曲性により一層先鋭ィヒされ た力ンチレバーを用いてナノチューブプローブを作製することができる。 凹状の 湾曲面に棒状のナノチューブを当接させると、 上下の 2点でナノチューブは湾曲 面に接触し、 中間領域では非接触状態となる。 下方の接触点を先ず部分コーティ ング固定し、 この固定点を支点としてナノチューブを左右に振らせて前記先鋭端 を通過させ、 その後に上方の接触点を部分コーティング固定する。 従って、 中間 領域では固定されではいないが、 上下 2点により確実に固定できる。 また、 凸状 の湾曲面では中間領域は接触状態となるが、 上下 2点の部分コーティング固定に より確実に固定できる。 同時に、 ナノチューブを正常姿勢に確実に矯正でき、 ナ ノチューブプローブの不良率を急速に低減する利点を有する。 また、 部分コーテ イング固定であるから、 ナノチュ一ブ基端部全面を覆う従来コーティングより短 時間で同程度の固定強度を発現させることができる。
本発明の第 1 1の形態によれば、 ナノチューブと湾曲形成されたカンチレバー 突出部を強制的に密着させて固定するから、 部分コーティング膜による固定とと もにナノチューブとカンチレバー突出部間のファンデルワールス力が加わり、 よ り高強度に固定することができる。 カンチレバー突出部の湾曲形状には、 凹状湾 曲と凸状湾曲がある。 これらの湾曲形状に応じてナノチューブを湾曲させると、 ナノチューブ先端部は突出部先鋭端の突出方向に強制され、 ナノチューブ探針が 試料表面に対して直交し易くなる。 従って、 試料表面を走查する際、 ナノチュー ブ探針が試料表面の急峻な凹凸に正確に追従でき、 試料表面像を高精度に撮像で きる利点がある。 また、 ナノチューブが突出部先鋭端を通過するようにナノチュ ーブの姿勢を強制的に矯正するから、 ナノチューブプローブの不良率を急速に低 減させることができる。
本発明の第 1 2の形態よれば、 前記第 1 1の形態における中間領域も部分コー ティング膜によって固定されるから、 コーティング箇所が 3箇所以上になり、 高 強度な固定を実現することができる。
本発明の第 1 3の形態によれば、 電子顕微鏡や収束イオンビーム装置を用いて 部品となるカンチレバーやナノチューブをその場観察しながら拡大視でき、 部品 の組み立てを高精度に行うことができる。
本発明の第 1 4の形態によれば、 電子ビーム又はイオンビームにより装置内の 不純物ガスを分解し、 この分解物を堆積させて部分コーティング膜を簡単且つ短 時間に形成できる利点がある。 前記電子ビームゃィオンビームは既成の電子顕微 鏡や集束イオンビーム装置 (F I B装置) を用いることができる利点を有し、 新 たな荷電ビーム発生装置を必要としない。
本発明の第 1 5の形態によれば、 電子ビーム又はイオンビームの走査範囲 (ビ ームの振れ幅) を規制することにより、 コーティング膜のサイズ、 即ちコーティ ング長 L、 最大コーティング裾幅 Wを自在に変えることができる。 従って、 前述 した W/ d≥0 . 1及び L/ d 0 . 3の条件を簡単に満足させることができる。 また、 電子ビームやイオンビームのビーム径を極小に絞ることが可能であり、 コ 一ティング領域以外への分解物の堆積を極小化できる効果がある。 更に、 ビーム 照射時間を制御することにより平均コーティング膜厚を自在に制御でき、 前述し た膜厚条件、 即ち T≥ l ( n m) の条件を簡単に達成することができる。 (図面の簡単な説明)
図 1は、 カンチレバー 2にナノチューブ 8を固定させる装置の概略構成図であ る。
図 2は、 ナノチューブ 8の固定作業の説明図である。
図 3は、 電子ビーム 1 0よって形成される部分コーティング膜 1 2の説明図で あ 。
図 4は、 部分コーティング膜 1 2の大きさとナノチューブ直径 dの関係の説明 図である。 ―
図 5は、 ナノチューブ直径 dと部分コーティング膜の各サイズと固定強度の関 係図である。
図 6は、 エッチング処理されたナノチューブ 8の固定強度を示した関係図であ る。
図 7は、 湾曲形成された力ンチレバー突出部 4にナノチューブ 8を固定する方 法の工程図である。
図 8は、 湾曲していない力ンチレバー突出部 4に対するナノチューブ 8の固定 方法の説明図である。
図 9は、 ナノチューブ 8を突出部 4の先鋭端 7近傍に通過配置させる工程図で ある。
' 図 1 0は、 ナノチューブ中間領域を第 3部分コーティング膜 1 2 cにより固定 する工程図である。
図 1 1は、 凹状に湾曲形成されたカンチレバー突出部 4にナノチューブ 8を固 定する工程図である。
図 1 2は、 凹状に湾曲形成されたカンチレバー突出部 4にナノチューブ 8を 3 点固定する工程図である。 図 1 3は、 凸状に湾曲形成されたカンチレパー突出部 4にナノチューブ 8を固 定する工程図である。
図 1 4は、 ナノチューブ群 3 6から一本のナノチューブ 8を固定する方法の説 明図である。
図 1 5は、 この従来技術によりナノチューブプローブを構成する実施例の説明 図である。
図 1 6は、 従来のナノチューブプローブの不良品の構成図とそれを用いた測定 図である。
図 1 7は、 従来の湾曲側面を有するカンチレバー突出部 1 0 4とナノチューブ 1 0 8の構成図である。
(発明を実施するための最良の形態)
本発明者らは、 全面コーティング方式によるナノチューブプローブを改良する ため鋭意研究した結果、 部分コーティング方式によるナノチューブプローブを完 成するに到った。 以下に、 本発明に係るナノチューブプローブ及びその製造方法 の実施例を図面に従つて詳細に説明する。
この部分コーティング方式により、 ナノチューブをホルダー面に短時間に固定 でき、 ホルダー面に付着する不純物量を極限まで低減でき、 しかも任意形状のホ ルダーを利用できるナノチューブプローブ及びその製造方法が提供される。 以下 の実施例では、 ナノチューブを固定するホルダーとして A FM用のカンチレバー 突出部が利用される。 し力 し、 ホルダーはカンチレバーに限定されるものではな く、 ナノチューブを固定できしかもナノチューブを微動制御できる部材であれば ホルダーとして利用できることは言うまでもない。
図 1は力ンチレバー 2にナノチューブ 8を固定させる装置の概略構成図である。 A FMにおいて使用されるカンチレバー 2は、 カンチレバー部 3と突出部 4から 構成され、 突出部 4がナノチューブ固定用のホルダーとして用いられる。 ナノチ ユーブ供給源であるナノチューブ配置板 6には多数のナノチューブ 8が付着され ている。 ナノチューブ配置板 6のナノチューブ 8を前記突出部 4に固定し、 その 後ナノチューブ 8をナノチューブ配置板 6から引き離してナノチューブプローブ を組み立てる。
ナノチューブ配置板 6上にはナノチューブ 8、 8は単に付着しているだけで、 固定されていないことは当然である。 力ンチレバー 2は X Y Zの 3次元方向に移 動でき、 ナノチューブ配置板 6は XYの 2次元方向に移動できる。 これらの操作 は走査型電子顕微鏡室内で実時間観察しながら行われ、 極めて微細な駆動制御が 可能となる。 . 図 2はナノチューブ 8の固定作業の説明図である。 (2 A) に示すように、 電 子顕微鏡で直接観測しながら、 カンチレバー突出部 4の先鋭端 7をナノチューブ 8に矢印 a方向に極微に接近させる。 カンチレバー突出部 4により、 前記ナノチ ユープ 8が先端部 8 a及び基端部 8 bに分解されるようにカンチレバー突出部 4 を配置する。 ナノチューブ基端部 8 bがカンチレバー突出部 4の表面に付着した ら、 適当な第 1固定箇所に電子ビーム 1 0を照射して第 1部分コーティング膜 1 2 aを形成する。 電子顕微鏡による観察ではナノチューブ先端 8 cを特定するこ とは熟練度を要する。 従って、 ナノチューブ先端 8 cから適当に離れた位置に電 子ビーム 1 0を照射して、 前記第 1部分コーティング膜 1 2 aを形成するのであ る。
次に (2 B ) では、 基端部 8 bの上方にある第 2固定箇所に電子ビーム 1 0を 照射し、 第 2部分コーティング膜 1 2 bを形成し、 ナノチューブ基端部 8 bを力 ンチレバー突出部 4に固定する。 電子顕微鏡内の不純物ガスは電子ビームによつ て分解され、 その分解物が堆積して第 1部分コーティング膜 1 2 a及び第 2部分 コーティング膜 1 2 bが形成される。 前記不純物ガスが有機ガスの場合には分解 堆積物は炭素物質から構成される場合が多い。 し力 、 有機金属ガスの場合には、 分解堆積物は金属物質から構成される。 このようにコーティング膜を構成する素 材は任意に選択できる。
第 1部分コーティング膜 1 2 a及び第 2部分コーティング膜 1 2 bが形成され た後、 前記カンチレパー突出部 4とナノチューブ配置板 6を矢印 b方向に相対的 に引き離す。 このとき、 当然のことながら、 ナノチューブ 8のナノチューブ配置 板 6に対する付着力は、 第 1部分コーティング膜 1 2 aと第 2部分コーティング 膜 1 2 bよる固定強度に比べて弱い。 その結果、 前記引き離し過程で、 ナノチュ ーブ 8は力ンチレバー突出部 4と一体になってナノチューブ配置板 6から分離さ れる。
図 3は電子ビーム 1 0よって形成される部分コーティング膜 1 2の説明図であ る。 コーティング膜を形成する場合に 2つの方法がある。 第 1方法は電子ビーム を極細に絞ってビームを設定された走査範囲内で振る方法であり、 走査範囲を可 変して部分コーティング膜のサイズを調整する。 第 2方法は絞りを緩めて電子ビ ーム自体を太くする方法であり、 ビームの太さを可変してコーティング膜のサイ ズを調整する。
( 3 A) では、 前記第 1方法が使用され、 電子ビーム 1 0のビーム直径 Rを極 細 (例えば、 数 n m〜1 0 n m) まで絞り、 この電子ビーム 1 0を設定された走 查範囲 1 4内で振りながらコーティング膜 1 2を形成する。 例えば、 ビーム直径 Rを 4 n m程度に絞り、 走査範囲 1 4を一辺 2 0 n mに設定し、 そのときコーテ ィング膜 1 2のサイズは 3 0 n m程度である。 走査範囲 1 4の大きさとコーティ ング膜 1 2の大きさは同オーダーではあるが同一とは限らない。 しかし、 走査範 囲 1 4の大きさとコーティング膜 1 2の大きさには一定の依存関係がある。
前記走査範囲 1 4は横幅 u及び縦幅 Vにより区画される領域で、 偏向コイルに より実現される。 この走査範囲 1 4内で電子ビーム 1 0を振りながら照射するこ とによって、 部分コーティング膜 1 2が形成される。 前記走査範囲 1 4を可変す ることにより部分コーティング膜 1 2の大きさを制御できる。 固定されるナノチ ユーブの直径の大小に応じて走査範囲 1 4の大小を調整すればよレ、。 後述するよ うに、 部分コーティング膜 1 2の幅 D、 長さ L、 平均膜厚 Tがナノチューブ直径 dに対し一定の関係を有するから、 その関係を満足するように部分コーティング 膜 1 2を形成することにより所期の固定強度を得ることができる。
( 3 B ) では、 第 2方法が使用され、 ナノチューブ直径 dが小から大へと変化 する場合に、 電子ビーム 1 0の直径 Rも絞り調整により小から大へと調節される。 この場合には電子ビーム 1 0は直射状態にあり、 走査されない。 即ち、 細いナノ チューブ 8 (左図) と太いナノチューブ 8 (右図) に対応して、 電子ビーム 1 0 のビーム径 Rを調整してビーム照射を行い、 所定の固定強度を有した部分コーテ イング膜 1 2、 1 2を形成する。 その結果、 ナノチューブの直径 d、 ホルダー面 の形状に対応して、 後述されるように部分コーティング膜 1 2の平均膜厚 T、 コ 一ティング長 L、 最大コーティング裾幅 Wを自在に変えることができる。
第 3の方法として、 電子ビームの直径 Rを可変し、 且つ電子ビームの絞り調整 を行う方法も採用できる。 例えば、 コーティング膜 1 2の一辺のサイズが 1 Q 0 n mのとき、 電子ビーム直径 Rを 3 0 n mに設定し、 走査範囲 1 4を一辺 8 0 n mに調節する場合が考えられる。 このような 2段調整は目的に応じて自在に変更 できることは言うまでもない。
部分コーティング膜 1 2の材質については、 ナノチューブプローブに対して要 求される各種の物性、 例えば固定強度、 導電'! "生、 絶縁性、 磁性などを満足するよ うに選択される。 電子顕微鏡内の不純物ガスが有機ガスの場合には、 電子ビーム 分解によって生成される炭素物質が前記部分コーティング膜 1 2となる。 不純物 ガスが金属有機ガスの場合には、 分解された金属物質が前記部分コーティング膜 1 2となる。 金属元素の種類を選択することによって前記物性の調整が可能であ る。
図 4は部分コーティング膜 1 2の大きさとナノチューブ直径 dの関係の説明図 である。 (4 A) に示すように、 部分コーティング膜 1 2は次のような寸法を有 して構成される。 ナノチューブ 8と直交する方向において、 突出部表面 5と接触 する長さはコーティング裾幅で表される。 この部分コーティング膜 1 2は失巨形で あるから、 コーティング裾幅は一定であり、 最大コーティング裾幅 Wはそのコー ティング裾幅に等しい。 従って、 コーティング裾幅 Wと言ってもよいし、 最大コ 一ティング裾幅 Wと言ってもよい。 また、 部分コーティング膜 1 2の軸方向の長 さはコ一ティング長 Lで与えられる。 この場合、 部分コーティング膜 1 2は矩形 であるから、 部分コーティング膜 1 2の幅も前記コーティング長 Lと同一になる。 ナノチューブ 8の直径は d、 平均 B奠厚は Tとする。
この部分コーティング膜 1 2の各サイズとナノチューブ直径 dに対する固定強 度の関係を調べるために、 (4 B ) に示した耐久力の試験を行う。 この耐久試験 では、 カンチレバー 2のカンチレバー突出部 4に第 1部分コーティング膜 1 2 a と第 2部分コーティング膜 1 2 bで固定されたナノチューブ 8が使用された。 ナ ノチューブ 8の先端 8 cを試料表面 4 8に接触させ、 試料表面 4 8に垂直な矢印 c方向へカンチレバーを更に接近させ、 ナノチューブ 8を湾曲させた。 次に、 こ の湾曲状態を保持して試料表面 4 8上を移動させた。 この試験を 1 0 0回反復し て、 部分コーティング膜 1 2の固定強度が測定された。 この試験結果について図 5に示す。
( 4 A) では、 方形の部分コーティング膜により各寸法を定義したが、 部分コ 一ティング膜 1 2の形状は方形に限られたものではない。 部分コーティング膜の 形状は、 カンチレバー突出部の形状に応じて、 電子ビームのビーム断面や走查範 囲を変化させることにより様々な形状に形成することが可能である。 例として、
( 4 C) に楕円形状に形成された部分コーティング膜 1 2を示す。 このとき、 部 分コーティング膜 1 2と突出部表面 5が接触する面内において、 ナノチューブ 8 と直交する方向へ、 ナノチューブからコーティング膜の端までの幅が最大となる 長さを最大コーティング裾幅 Wとする。 また、 ナノチューブ 8を軸方向に直接押 さえている長さをコーティング長 Lとする。
( 4 B ) に示した耐久力試験に用いられたナノチューブプローブの部分コーテ イング膜の形状は、 矩形に限らず楕円形状なども含まれる。 しかしながら、 ナノ チユーブ直径 dに対する最大コーティング裾幅 Wやコーティング長 Lの比と、 ナ ノチューブの固定強度の関係は、 少なくとも矩形と楕円形では、 ほぼ一致する。 このことから、 図 5に示すナノチューブ直径 dと各寸法の関係は、 過度な形状の 違いがない限り、 一般的に成り立つと結論付けられる。
図 5はナノチューブ直径 dと部分コーティング膜の各サイズと固定強度の関係 図である。 固定強度は優 (◎) 、 良 (〇) 、 可 (△) 、 不可 (X ) の 4段階で 判定され、 優 ·良 ·可の 3段階が合格とされ、 不可は不合格と判断された。 優' 良 ·可 ·不可の判断基準は、 試験されたナノチューブプローブを用いて標準試料 の A FM画像を撮像し、 その画像の鮮明度を熟練者が判断して決められた。 不可 の場合には、 ナノチューブの早期脱落やナノチューブ先端の摩耗など種々の原因 が考えられる。
( 5 A) では、 最大コーティング裾幅 Wとナノチューブ直径 dの比率 W/ dを変 えて判定が行われた。 W/ dが 0 . 1の場合には不可であった。 W/ dが 0 · 3 では△、 0 . 4では〇、 1以上では◎の結果が得られた。 従って、 W/ dが 0 . 3以上の場合に合格と判定された。 つまり、 前記部分コーティング膜において、 操針として最低限必要な固定強度を有するためには、 W/ d≥ 0. 3の関係を満 足する必要性がある。 更に、 W/d≥0. 5では好ましい固定強度を有し、 WZ d≥ lでは、 より好ましい固定強度を有する。
(5 B) では、 コーティング長 Lとナノチューブ直径 dの比率 L/dを変えて 判定が行われた。 LZdが 0. 3の場合には不可であった。 L/dが 0. 5では △、 0. 8では〇、 1以上では◎の結果が得られた。 従って、 LZdが 0. 5以 上の場合に合格と判定された。 つまり、 前記部分コーティング膜において、 探針 として最低限必要な固定強度を有するためには、 L/d≥0. 5の関係を満足す る必要性がある。 更に、 L/d≥0. 8では好ましい固定強度を有し、 L/d≥ 1では、 より好ましい固定強度を有する。
(5 C) では、 平均コーティング S莫厚 Tを変えて判定が行われた。 Tが I n mでは不可であった。 Tが 2nmでは△、 3nmでは〇、 4nm以上では◎の結 果が得られた。 従って、 Tが 2 nm以上の場合に合格と判定された。 つまり、 前 記部分コーティング膜において、 探針として最低限必要な固定強度を有するため には、 前記部分コーティング膜の平均膜厚丁が 2 n m以上であることが必要であ る。 更に、 T≥ 3 nmでは好ましい固定強度を有し、 T≥4nmではより好まし い固定強度を有する。
図 6はェツチング処理されたナノチューブ 8の固定強度を示した関係図である。 力ンチレバー突出部をェツチング処理すると、 突出部表面の改質によりナノチュ ーブの固定強度が増加すると考えられる。 ここで、 エッチング処理はフッ酸、 リ ン酸などを用いた化学エッチング、 電解エッチング、 プラズマエッチング、 レー ザ一ビームェツチング等があり、 目的に応じて種々のェツチング方法を選択でき る。 図 5と同様に、 WZd、 LZd及び Tを変化させて固定強度の判定が行われ た。
(6 A) に示されるように、 /(1の値が0. 1に対しても実用上最低限の固 定強度が得られている。 また、 好ましくは W/d≥0. 3、 より好ましくは W/ d≥0. 5以上で優れた固定強度が得られる。 (6B) に示されるように、 LZ dに対しては、 最低限必要な固定強度は LZd≥0. 3で得られる。 好ましくは L/ d≥0 . 5、 より好ましくは L/ d≥0 . 8の場合に優れた固定強度が得ら れる。 (6 C) に示されるように、 平均コーティング膜厚 Tに対しては、 最低限 必要な固定強度は T≥ 1 n mで得られる。 好ましくは T≥2 n m、 より好ましく は T≥ 3 n mの場合に優れた固定強度が得られる。
エッチング処理することにより、 エッチングしない場合より 1段階強度が増加す ることが明らかとなった。 エッチング処理によって突出部表面が改質され、 ナノ チューブとの結合力が増大したことが原因であると考えられる。 エツチング処理 を考慮すると、 必要な固定強度は、 W/ d≥0 . 1、 L/ d≥0 . 3、 T≥ 1 n mの場合に得られることが分かった。 エッチング処理を行わない場合には、 必要 な固定強度は、 W/ d≥0 . 3、 L/ d≥0 . 5、 T≥ 2 n mの場合に得られる ことが分かった。
図 7は湾曲形成されたカンチレバー突出部 4にナノチューブ 8を固定する方法 の工程図である。 ナノチューブ配置板 6に付着したナノチューブ 8を先鋭端 7に 向けて湾曲形成された突出部湾曲面 2 2に固定する。 前記ナノチューブ 8が前記 湾曲面 2 2と接触した第 1固定箇所 P 1に電子ビーム 1 0を照射し、 第 1部分コ 一ティング膜 1 2 aを形成する。 次に、 ナノチューブ 8を倒して先鋭端 7の近傍 に位置する第 2固定箇所 P 2にナノチューブ 8を接触させる。 この第 2固定箇所 P 2に電子ビーム 1 0を照射し、 第 2部分コーティング膜 1 2 bを形成する。 そ の結果、 ナノチューブ 8は前記湾曲面 2 2と少なくとも接触している 2点で固定 され、 しかも前述したコーティング条件を満足することによって所定の固定強度 が保持される。 ナノチューブ 8と湾曲面 2 2の間に存在する隙間 2 3にはコーテ イング処理が施されず、 コーティング膜の被覆時間が削減され、 効率的なコーテ ィング処理が行われる。
図 8は湾曲していないカンチレバー突出部 4に対するナノチューブ 8の固定方 法の説明図である。 カンチレバー突出部 4の表面 5 a、 5 bは湾曲せずストレー トに形成されており、 ナノチューブ 8がその表面 5 a又は 5 bに第 1コーティン グ膜 1 2 a及び第 2コーティング膜 1 2 bにより固定されている。 (8 A) では, カンチレバー部 3を Z軸方向に向け、 突出部 4を Y軸方向に配置し、 表面 5 aに ナノチューブ 8が固定されている。 (8 b ) では、 カンチレバー突出部 4の表面 5 bにナノチューブ 8が固定される。 このように、 ナノチューブ 8はカンチレバ 一突出部 4の表面 5. aと表面 5 bのどちら側にも固定することができる。 ナノチ ユーブ配置板 6の突出部 4に対する姿勢を自在に制御することによって、 ナノチ ユーブ 8を取り付ける表面を自在に選択することができる。
図 9はナノチューブ 8を突出部 4の先鋭端 7近傍に通過配置させる工程図であ る。 ナノチューブ 8が先鋭端 7からずれると、 ナノチューブ先端 8 cと突出部先 鋭端 7が同時に探針として機能し、 撮像された表面画像が 2重像 (2重露出) に なって画像精度が低下してしまう。 画像を鮮明化するために、 先鋭端 7の探針機 能を封殺する必要がある。 このために、 ナノチューブ 8を突出部 4の先鋭端 7近 傍に通過配置させるのである。
( 9 A) では、 ナノチューブ 8がナノチューブ配置板 6に対して直交せずに、 斜めに付着している場合が示されている。 ナノチューブ配置板 6はナノチューブ 8の供給源であるが、 ナノチューブ 8はナノチューブ配置板 6に対し斜交してい るのが通常である。 ナノチューブ 8は付着領域 6 aにおいてナノチューブ配置板 6に付着されている。 付着領域 6 aは、 ナノチューブ 8とナノチューブ配置板 6 が分子間力により結合している領域である。 両者を付着させる方法は本発明の主 題を外れるので言及しない。
( 9 B ) では、 斜交配置されたナノチューブ 8をカンチレバー突出部 4に接触 させ、 その接触点である第 1固定位置 P 1に電子ビーム 1 0を照射して第 1部分 コーティング膜 1 2 aを形成する。 次に、 ナノチューブ 8を先鋭端 7に強制的に 通過させる。 この強制方法には 2種類ある。 第 1の方法は、 ナノチューブ配置板 6を矢印 e方向に移動させ、 ナノチューブ 8を第 1固定箇所 P 1を支点として左 回りに旋回移動させる。 第 2の方法は、 カンチレバー突出部 4を矢印 f 方向に移 動させ、 ナノチューブ 8を付着領域 6 aを支点として左回りに旋回移動させるこ とになる。 このようにして、 先鋭端 7近傍を通過するようにナノチューブ 8の配 置を修正する。
( 9 C) では、 先鋭端 7付近にある第 2固定箇所 P 2に電子ビーム 1 0を照射 して第 2部分コーティング膜 1 2 bを形成する。 このようにして、 先銳端 7の近 傍を通過するように、 ナノチューブ 8が第 1部分コーティング膜 1 2 a及び第 2 部分コーティング膜 1 2 bにより突出部 4に固定される。 先鋭端 7の近傍とは先 銳端 7の位置及びその近接領域を意味しており、 ナノチューブ 8が先鋭端 7の位 置を直接通過することが最適であることは言うまでもない。
図 1 0はナノチューブ中間領域を第 3部分コーティング膜 1 2 cにより固定す る工程図である。 (1 0 A) 及び (1 0 B ) では、 図 9で説明した操作が行われ、 ナノチューブ 8が突出部 4に対し、 第 1部分コーティング膜 1 2 a及び第 2部分 コーティング S莫 1 2 bにより固定される。 更に、 固定強度を強めるために、 第 1 部分コーティング膜 1 2 aと第 2部分コーティング膜 1 2 bの間にある中間領域 に対し電子ビーム 1 0を照射して第 3部分コーティング膜 1 2 cを形成する。 で 固定する。 また、 必要な場合には、 第 4部分コーティング膜などを追加形成して、 ナノチューブを多点固定してより高強度な固定を施すことができる。
図 1 1は凹状に湾曲形成されたカンチレバー突出部 4にナノチューブ 8を固定 する工程図である。 カンチレバー突出部 4の側面がその先鋭端 7に向けて凹状に 湾曲形成され、 湾曲面 2 2が形成されている。 この湾曲面 2 2にナノチューブ 8 を密着させる工程が (1 1 A) 、 (1 1 B ) 、 (1 1 C ) に示される。 先ず、
( 1 1 A) では、 ナノチューブ 8の下方位置の第 1固定箇所 P 1に電子ビーム 1 0を照射することにより第 1部分コーティング膜 1 2 aを形成する。 (1 1 B ) では、 ナノチューブ配置板 6を矢印 g方向に移動し、 同時にナノチューブ配置板 6を矢印 h方向に微動させ、 ナノチューブ 8の中間領域を湾曲面 2 2に沿わすよ うに接触させて強制湾曲させる。 また、 第 1部分コーティング膜 1 2 aを支点と してナノチューブ 8が先鋭端 7を通過するように調整する。
( 1 1 C) では、 カンチレバー突出部 4に密着させたナノチューブ 8の上方位 置にある第 2固定箇所 P 2に電子ビーム 1 0を照射し、 第 2部分コーティング膜 1 2 bを形成する。 このような密着固定により、 前記ナノチューブ 8とカンチレ パー突出部 4間のファンデルスワールス力が増強し、 より強固にナノチューブ 8 を固定することができる。 また、 このような方法で取り付けられたナノチューブ 8は突出部 4から上方に向かってほぼ垂直に突設される。 従って、 試料面に対し て略直角に配置されるため、 ナノチューブ探針の先端が試料表面の凹凸に垂直に 立ち、 その凹凸を高精度に検出して誤情報を急減させる。 図 1 2は凹状に湾曲形成されたカンチレバー突出部 4にナノチューブ 8を 3点 固定する工程図である。 (1 2 A) 及び (1 2 B) では、 図 1 1で示されたよう に、 湾曲面 2 2に沿うようにナノチューブ 8が、 第 1部分コーティング膜 1 2 a 及び第 2部分コーティング膜 1 2 により 2点固定される。 このときナノチュー ブ 8は先鋭端 7を通過するように固定されている。 (1 2 C) では、 固定強度を 強くするため、 中間領域に対し電子ビーム 1 0を照射して第 3部分コーティング 膜 1 2 cを形成する。 この第 3部分コーティング膜 1 2 cにより、 ナノチューブ 8が湾曲面 2 2に確実に接合固定される。 また、 必要によっては第 4部分コーテ ィング膜などを形成して、 ナノチューブ 8を多点固定すれば固定強度の増大化を 達成できる。
図 1 3は凸状に湾曲形成されたカンチレバー突出部 4にナノチューブ 8を固定 する工程図である。 (1 3 A) では、 カンチレバー突出部 4の湾曲面 2 2がその 先鋭端 7に向けて凸状に湾曲形成されているとき、 ナノチューブ 8の下方位置に 電子ビーム 1 0を照射して第 1部分コーティング膜 1 2 aを形成する。 (1 3 B ) では、 ナノチューブ 8の上方位置を先鋭端 7近傍に接触させ、 この接触部に 電子ビーム 1 0を照射し第 2部分コーティング膜 1 2 bを形成する。 このように 部分コーティング膜による固定方法では、 様々な形状を持つホルダー面にナノチ ユーブを固定することが容易になる。
図 1 4はナノチューブ群 3 6から一本のナノチューブ 8を固定する方法の説明 図である。 ナノチューブ配置板 6に付着した数本〜数十本のナノチューブ群から 探針として用いる適当なナノチューブ 8を選択する。 このナノチューブ 8に対し 微小なビーム径を持つ電子ビームを照射することによって、 このナノチューブ 8 だけを選択的にカンチレバー突出部 4に固定することができる。 換言すれば、 部 分コーティング膜 1 2 a、 1 2 bの大きさを隣接するナノチューブの間隔よりも 小さく設計すれば、 一本のナノチューブだけを固定できるわけである。 固定した 後、 ナノチューブ配置板 6を矢印 j方向に後退させればよい。 又は、 カンチレパ 一突出部 4を矢印 k方向に後退させても、 その選択されたナノチューブ 8だけを 引き抜くことができる。 このようにすれば、 同じナノチューブ配置板 6から一本 一本のナノチューブ 8を引き抜いて、 多数本のナノチューブプローブを製造する ことができる。 従って、 ナノチューブプローブの製造効率を急激に高めることが できる。
上記実施例では、 拡大視装置として電子顕微鏡を使用し、 部分コーティング膜 を形成するために電子ビームを使用した。 しかし、 他の拡大視装置及び荷電ビー ムを目的に応じて使用することができる。 例えば、 集束イオンビーム装置を使用 し、 荷電ビームとしてイオンビームを使用することも可能である。
(産業上の利用可能性)
本発明の第 1の形態を用いると、 部分コーティング膜によつてナノチューブを ホルダー面に固定するから、 固定時間を大幅に短縮することが可能になり、 ナノ チューブプローブの大量生産と生産コストの低減を実現できる。 部分コーティン グ膜のサイズを小さくすることによって、 同一のナノチューブ配置板を何回も使 用でき、 ナノチューブプローブの製造効率を増大化できる。
第 2〜第 4の形態を用いれば、 ナノチューブ直径 d、 最大コーティング裾幅 W、 コーティング長 L、 平均膜厚 Tとしたとき、 W/ d≥0 . 1、 L/ d≥0 . 3、 T≥ 1 n mの関係を満たす部分コーティング膜を形成するだけで所定強度のナノ チューブプローブを製造できる。 この条件を満足するように、 荷電ビームのエネ ルギ一流密度、 照射時間、 走査範囲 (ビーム振れ幅) などを初期設定しておくだ けで、 熟練度を必要とすることなくナノチューブプローブを製造でき、 生産性を 著しく向上させることが可能である。
第 5の形態を用いれば、 従来用いられているカンチレバーにナノチューブを部 分コーティング膜によって取り付けるだけで、 簡単にナノチューブプローブを製 造することができ、 生産コストを著しく低減することが可能である。
第 6の形態を用レ、れば、 湾曲形成されたカンチレバー突出部とナノチューブの 接触部のみを部分コーティングするだけで所期の目的を達成できる。 前記湾曲面 とナノチューブの接触点が小さい場合にも、 その接触点を部分コーティングすれ ば、 全面コーティングと同程度の固定強度を得ることができる。 これは、 製造時 間の大幅な短縮のみならず、 従来の力ンチレバーの高度利用を図ることができ、 省力化を達成することができる。 第 7の形態を用いれば、 カンチレバー突出部の先鋭端近傍にナノチュープを通 過配置することにより、 突出部先鋭端の探針機能を封殺でき、 ナノチューブ探針 だけによる高精度の表面画像を現出でき、 ナノチューブプローブの信頼' I生を大幅 に向上させることができる。 つまり、 2重露出の防止により、 物質試料や生体試 料のナノ構造を正確に検出し、 ナノテクノロジ一の測定手段として画期的な方法 を提供するものである。
第 8の形態を用いれば、 ナノチューブプローブを短時間で製造でき、 ナノチュ ーブプ口ーブの大量生産と生産コストの急減を実現できる。
第 9の形態を用いれば、 力ンチレバー突出部の先鋭端近傍にナノチューブを通 過配置するから、 突出部先鋭端の探針機能を封殺でき、 ナノチューブ探針だけに よる高精度の表面画像を提供できる。 また、 ナノチューブプローブの信頼性を大' 幅に向上させることができる。
第 1 0の形態を用いれば、 ナノチューブを湾曲面に部分コーティング固定して ナノチューブプローブを提供できるから、 任意形状のホルダーを用いてナノチュ ーブプローブを構成でき、 ナノチューブプローブの多展開を図ることができる。 第 1 1の形態を用いれば、 ナノチューブをカンチレバー突出部の湾曲面に密着 させる力、ら、 部分コーティング固定に加えて、 密着面のファンデルワールス力が 作用し、 耐久性のあるナノチューブプローブを提供できる。 更に、 ナノチューブ 探針が試料表面に対して直交することにより、 試料表面の凹凸情報を正確に検出 することができる。
第 1 2の形態を用いれば、 ナノチューブ基端部の 3箇所を部分コーティング膜 によって固定することにより、 より一層の高強度固定を施すことができる。
第 1 3の形態によれば、 電子顕微鏡で直接観測しながら固定作業を行うから、 高精度で部分コーティング膜を形成することができる。 更に、 ナノチューブの固 定と共に、 ナノチューブの加工や機能性物質の添加等を電子顕微鏡装置内で確実 に行うことが可能である。
第 1 4の形態を用いれば、 電子ビーム又はイオンビームを用いて部分コーティ ング膜を形成できる。 従って、 電子顕微鏡や集束イオンビーム装置 (F I B装 置) 等の既成の装置を用いてナノチューブプローブの製造が可能であり、 新たな 荷電ビーム発生装置を必要としない。 電子ビーム及びイオンビームは電磁的制御 方法が確立しており、 高度な微細加工を可能にする。
第 1 5の形態を用いれば、 電子ビーム又はイオンビームの走査範囲を規制する だけで、 部分コーティング膜の平均膜厚、 コーティング長、 最大コーティング裾 幅を自在に変えることができる。 従って、 任意形状のホルダー面に所望の固定強 度を有したナノチューブプローブを製造できる。 また、 荷電ビームのビーム径を 極小に絞ることが可能であり、 荷電ビームによりホルダー面上に付着されるビー ム経路内の不純物量を抑制することができる。
本発明に係るナノチューブプローブは、 通常の走查型プローブ顕微鏡に適用で きる。 走査型プローブ顕微鏡には、 トンネル電流を検出する走査型トンネル顕微 鏡 (S TM) 、 ファンデルワールス力で表面凹凸を検出する原子間力顕微鏡 (A FM) 、 表面の違いを摩擦力で検出する水平力顕微鏡 ( L FM) 、 磁性探金 fと試 料表面の磁性相互作用を検出する磁気力顕微鏡 (MFM) 、 試料と探針間に電圧 を印加して電界力勾配を検出する電界力顕微鏡 (E FM) 、 化学官能基の表面分 布を画像化する化学力顕微鏡 (C FM) などがある。 これらの走査型プローブ顕 微鏡は、 その特有の物理的 ·化学的作用を探針で検出して表面の原子配置を撮像 する点で共通する。 従って、 本発明に係るナノチューブプローブを適用すれば、 分解能や測定精度を格段に向上できる。

Claims

1 . ナノチューブを保持するホルダーと、 前記ナノチユーブの先端部を突出させ た状態でナノチューブの基端部をホルダー面にコーティング膜により固定したナ ノチューブプローブにおいて、 前記ナノチューブ基端部の複数箇所の夫々を部分 コーティング膜によりホルダー面に固定し、 各部分コーティング膜が相互に重な り合わずに分離していることをー口特徴とするナノチューブプローブ。
2 . 前記部分コーティング膜において、 ナノチューブの軸に直交する方向でホル ダ一面に固定されている最大コーティング裾幅を" Wとし、 ナノチューブの直径を の
dとしたとき、 W/ d≥ 0 . 1の関係を満足する請求項 1に記載のナノチューブ プローブ。
3 . 前記部分コーティング膜において、 ナノチューブを軸方向に直接押さえてい るコーティング長を Lとし、 ナノチューブの直径を dとしたとき、 L/ d≥0 .
3の関係を満足する請求項 1に記載のナノチューブプローブ。
4 . 前記部分コーティング膜の平均膜厚丁が 1 n m以上である請求項 1に記載の ナノチューブプローブ。
5'. カンチレバーの突出部を前記ホルダーとして使用し、 前記突出部表面にナノ チューブ基端部を接触するように配置し、 2個以上の接触領域の夫々に前記部分 コーティング膜を形成する請求項 1に記載のナノチューブプローブ。
6 . 前記突出部の側面が突出部先端に向けて湾曲形成されているとき、 ナノチュ 一ブ基端部が前記湾曲面と接触している位置に前記部分コーティング膜を形成す る請求項 5に記載のナノチューブプローブ。
7 . 前記突出部の先鋭端の近傍にナノチューブを通過配置させる請求項 5又は 6 に記載のナノチューブプローブ。
8 . ナノチューブを保持するホルダーと、 前記ナノチューブの先端部を突出させ た状態でナノチューブの基端部をホルダー面にコーティング膜により固定するナ ノチューブプローブの製造方法において、 前記コーティング膜を少なくとも 2個 以上の部分コーティング膜によって構成し、 前記ナノチューブ基端部の第 1固定 箇所をホルダー面に接触させて、 この第 1固定箇所を部分的に被覆する第 1部分 コーティング膜を形成し、 次にナノチューブ基端部の第 2固定箇所をホルダー面 に接触させて、 この第 2固定箇所を部分的に被覆する第 2部分コーティング膜を 形成し、 第 1部分コーティング膜と第 2部分コーティング膜が相互に重なり合わ ないように分離して形成されることを特徴とするナノチューブプローブの製造方 法。
9 . 前記ホルダーとしてカンチレパー突出部を使用し、 第 1部分コーティング膜 をナノチューブ基端部の下方位置に形成し、 ナノチューブが突出部の先鋭端近傍 を通過するような配置状態で、 第 2部分コーティング膜をナノチューブ基端部の 上方位置に形成した請求項 8に記載のナノチューブプローブの製造方法。
1 0 . 前記カンチレバー突出部の側面がその先鋭端に向けて湾曲形成されている とき、 ナノチューブ基端部の下方位置に第 1部分コーティング膜を形成し、 ナノ チューブ基端部の中間領域を前記突出部と非接触状態に保持し、 前記第 1部分コ 一ティング膜を支点としてナノチューブが突出部先鋭端を通過するように調整し、 ナノチューブ基端部の上方位置を前記先鋭端近傍に接触させてこの接触領域に第
2部分コーティング膜を形成した請求項 9に記載のナノチューブプローブの製造 方法。
1 1 . 前記カンチレバー突出部の側面がその先鋭端に向けて湾曲形成されている とき、 ナノチューブ基端部の下方位置に第 1部分コーティング膜を形成し、 ナノ チューブ基端部における第 1固定箇所と第 2箇所の間の中間領域を湾曲面に沿う 形状に強制湾曲させ、 前記第 1部分コーティング膜を支点としてナノチューブが 突出部先鋭端を通過するように調整し、 前記強制湾曲と通過調整はいずれが先に 行われてもよく、 ナノチューブ基端部の上方位置を前記先鋭端近傍に接触させて この接触領域に第 2部分コーティング膜を形成した請求項 9に記載のナノチュー ブプローブの製造方法。
1 2 . 前記第 2部分コーティング膜を形成した後、 前記中間領域を第 3部分コー ティング膜により固定する請求項 1 1に記載のナノチューブプローブの製造方法。
1 3 . 電子顕微鏡又は集束イオンビーム装置の中で直接観察しながら部分コーテ イング膜を形成する請求項 8、 9, 1 0、 1 1、 1 2に記載のナノチューブプロ ーブの製造方法。
1 4 . 前記部分コーティング膜は電子ビーム又はィオンビームによる分解堆積物 である請求項 1 3に記載のナノチューブプローブの製造方法。
1 5 . 前記電子ビーム又はィオンビームの走査範囲を規制することにより前記部 分コーティング膜の大きさを制御する請求項 1 4に記載のナノチューブプローブ の製造方法。
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