WO2003092256A3 - Procede et systeme de projection a filtrage optique - Google Patents

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WO2003092256A3
WO2003092256A3 PCT/EP2003/004012 EP0304012W WO03092256A3 WO 2003092256 A3 WO2003092256 A3 WO 2003092256A3 EP 0304012 W EP0304012 W EP 0304012W WO 03092256 A3 WO03092256 A3 WO 03092256A3
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Christian Wagner
Martin Brunotte
Volker Graeschus
Paul Graeupner
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Zeiss Carl Smt Ag
Christian Wagner
Martin Brunotte
Volker Graeschus
Paul Graeupner
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70308—Optical correction elements, filters or phase plates for manipulating imaging light, e.g. intensity, wavelength, polarisation, phase or image shift

Abstract

L'invention concerne un système de reproduction optique qui sert à reproduire, dans le plan image de ce dernier, un modèle disposé dans un plan objet dudit système de reproduction. Une pluralité d'éléments optiques et au moins un plan pupille sont disposés entre le plan objet et le plan image, et ledit plan pupille est transformé en plans de champ du système de reproduction au moyen d'une transformation de Fourier. Un filtrage optique à sélectivité angulaire est effectué dans la zone des plans de champ à l'aide d'un élément de filtrage optique dont la fonction de filtrage, qui présente une dépendance angulaire, est calculée en tant que fonction d'une fonction de filtrage à dépendance positionnelle souhaitée pour la zone de la pupille.
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