WO2002062569A1 - Structure a couche d'oxyde, procede de production de cette structure, et condensateur et filtre utilisant cette structure - Google Patents

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Seichi Rengakuji
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Seichi Rengakuji
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Abstract

L'invention concerne une structure, comprenant un substrat et une couche d'oxyde, pouvant être appliquée à des matériaux diélectriques, différents appareils électroniques utilisant ces matériaux, en particulier des filtres et des condensateurs, ainsi qu'un procédé de production de cette structure. Elle concerne aussi une couche d'oxyde de grande surface, ou une couche diélectrique, pouvant être produite à faible coût, la couche diélectrique obtenue possédant une caractéristique telle qu'un revêtement d'oxyde sur cette couche est comparable à celui préparé au moyen d'un monocristal, ainsi qu'un procédé de production de cette couche. Elle concerne encore une structure comportant une couche d'oxyde ou une couche diélectrique dont l'adhésion à un substrat est élevée et qui ne présente pas de craquelures sauf suite à un test de choc thermique. Elle concerne enfin une structure comprenant un substrat et une couche d'oxyde formée sur le substrat, la couche d'oxyde étant constituée d'un premier oxyde métallique, cet oxyde étant cristallin, l'adhésion entre le substrat et la couche étant telle qu'elle permet de supporter un test de chocs thermiques consistant à répéter 1000 fois un maintien pendant une heure à 10 °C et un maintien à +80 °C pendant une heure.
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