WO2002057193A3 - Procede de production d'une ebauche en sio¿2? - Google Patents

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Abstract

Selon un procédé connu de production d'une ébauche en SiO2, des particules de SiO2 sont formées dans plusieurs brûleurs de dépôt disposés en série, une flamme étant associée à chaque brûleur, et ces particules sont déposées sur une surface de dépôt d'un support en rotation autour de son axe longitudinal. Selon ce procédé, la série de brûleurs de dépôt effectue un mouvement de va-et-vient, selon une séquence de déplacement prédéterminée le long de l'ébauche en formation, entre des points d'inversion au niveau desquels le sens de déplacement est inversé, la flamme des brûleurs formant, dans une projection sur un plan parallèle à son sens principal de propagation, une surface de projection dont les limites latérales forment un angle d'ouverture avec le sens principal de propagation. L'objectif de l'invention est de proposer, à partir de cela, un procédé simple de production d'une ébauche poreuse permettant d'obtenir un corps homogène en verre de quartz. A cet effet, l'angle d'ouverture (α) est défini sur une valeur comprise entre 3° et 15° et la distance (D) entre le brûleur de dépôt (2) et la surface de dépôt (10) est comprise entre 170 mm et 240 mm.
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