WO2001068956A1 - Dispositif et procede de cristallogenese - Google Patents

Dispositif et procede de cristallogenese Download PDF

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Thierry Duffar
Pierre Dusserre
Nathalie Giacometti
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Commissariat A L'energie Atomique
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/46Sulfur-, selenium- or tellurium-containing compounds
    • C30B29/48AIIBVI compounds wherein A is Zn, Cd or Hg, and B is S, Se or Te

Definitions

  • This invention relates to a device and a method of crystallogenesis, in which a liquefied body of the composition of the crystal to be formed is enclosed in a crucible whose wall it wets and left to solidify in the presence of a germ having the structure crystal to create, so that this structure is reproduced by the body as it solidifies.
  • a liquefied body of the composition of the crystal to be formed is enclosed in a crucible whose wall it wets and left to solidify in the presence of a germ having the structure crystal to create, so that this structure is reproduced by the body as it solidifies.
  • an ingot of the body is deposited in the solid state in the crucible and it is liquefied in slices by a mobile heating means along the crucible away from the germ: the body gradually solidifies from of the germ, from which it still takes the crystalline structure.
  • the original body thus transformed into crystal is then recovered by opening the crucible.
  • French patent 2,757,184 which constitutes the closest known prior art, teaches that the solidification of the crystal causes certain difficulties since its coefficient of contraction is different from that of the crucible when it cools, which produces mechanical stresses, defects in the crystals and sometimes a rupture of the crucible, even if it contracts less than the crystal, since it adheres to it.
  • This patent also teaches that a solution can be found by producing a higher gas pressure. in a bottom part of the crucible, where the crystal forms, only in a top part of the crucible, which overhangs the liquid and is also occupied by gas.
  • This overpressure automatically produces a contraction of the section of the crystal at the time of its solidification, and therefore a clearance between the crystal and the crucible, which rises with the level of the crystal-liquid interface as the solidification progresses.
  • This invention constitutes a perectioning of the previous one: if the known process makes it possible to obtain the stated objectives, it has certain drawbacks due to the existence of pipes leading to the two extreme regions of the crucible and making it possible to establish the difference of desired pressure.
  • An essential object of the invention is therefore to do without the gas circuit without giving up the beneficial effect of the pressure difference between the two parts of the crucible.
  • a closed crucible but fitted with a gas pocket, called a bulb heated by a particular and adjustable means that allows the temperature of the gas to be changed at will.
  • the bulb communicates with the bottom part of the crucible and there establishes the desired overpressure by heating its contents.
  • a pressure setting is therefore replaced by a temperature setting, which is easier to accomplish in practice.
  • a visual observation of the solidification, and in particular of the crystal-liquid interface makes it possible to ensure the good quality of the overpressure without resorting to a sensor.
  • the body which is the object of crystallogenesis comprises a liquid portion 1 surmounting a crystal 2 solidified in a closed crucible 3, of cylindrical shape and erect or inclined.
  • the volume of the crucible 3 unoccupied by the liquid 1 and the crystal 2 is filled with a neutral gas, which does not react with the sample.
  • the bottom region of the crucible 3 is occupied by a bulb 4 of this gas which makes it possible to apply a pressure difference between the bottom region of the crucible 3 and a top region 10 overhanging the liquid 1 and also filled with neutral gas, since the liquid 1 wets the wall of the crucible 3, while the resulting crystal 2 of a contraction to solidification is separated from this wall by a clearance.
  • a heating device comprises three ovens 7; 8 and 9 superimposed, surrounding the crucible 3 and separated by insulating layers 11 and 12.
  • the first two ovens 7 and 8 are usual in the art and make it possible to carry out a Brigdman solidification process, the upper oven 7 being kept at a temperature higher than that of the middle oven 8 and the interface between the crystal 2 and the liquid 1 being located at the border between the ovens 7 and 8.
  • the lower oven 9 is assigned to the heating of the gas in the bulb 4 and to the pressure adjustment by varying the temperature.
  • the gas pressure in the top region 10 adjusts to the volume and temperature conditions there, but an overpressure is maintained in the bottom region of the crucible due to - stronger heating of the contents of the bulb 4
  • the sufficiency of this overpressure can be verified by examining the shape of the meniscus 6 formed by the liquid 1 at the point of its connection with the crystal 2: a concave meniscus will be proof of sufficient overpressure.
  • the observation means used can be an optical fiber 5 passing locally through the insulating layer 11.
  • the lower oven 9 is adjusted to make the heating which it produces more or less intense depending on the shape of the meniscus 6.
  • the reference 13 designates a labyrinth seal composed of baffles which impose a sinuous path on the gas flows between the bulb 4 and the bottom region of the crucible 3 which is adjacent to the crystal 2, in order to thwart the heat exchanges between these two volumes without affecting the communication of pressures.
  • the growth of a single crystal of CdTe 10 m long and 5 cm in diameter was carried out according to the Brigdman method.
  • the crucible 3 was made of transparent silica glass and a monocrystalline seed with a diameter very slightly smaller than that of the crucible was placed under the load to be solidified.
  • the vapor pressure of the liquid was 1.5 atmospheres in the top region 10, which was brought to a temperature of about 1150 ° C while the vapor pressure at the meniscus 6 was from an atmosphere at the CdTe melting temperature of 1100 ° C.
  • the pressure in the bulb 4 should therefore ensure and the pressure of 1.5 atmosphere in the top region 10 and the overpressure of the bottom region of the crucible 3 to form the contraction of the crystal 2 and the meniscus 6. From the 0.4 atmosphere argon had been blown into crucible 3 before sealing it. Under these conditions, the bulb 4 was heated to 1200 ° C. using the lower oven 9 to operate the device correctly.
  • the process of the invention is compatible with the presence of an upper ingot to be liquefied and then solidified.
  • the ovens 7, 8 and 9 are movable along the crucible 3, the 2-liquid crystal interface 1 remaining at the height of the insulating layer 11 and the optical fiber 5, which allows to solidify.
  • the oven 9 is designed to remain at the level of the bulb 4; he can comprise stepped portions in turn put into service when they pass in front of the bulb 4. It should also be noted that the bulb 4 could remain stationary and be heated by an oven separate from the furnaces for heating the body to be solidified; it would then be in communication with the crucible 3 by a deformable piping.

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Abstract

Le dispositif proposé avec cette invention comprend une ampoule (4) au fond d'un creuset (3) de cristallogenèse par solidification progressive d'un liquide, et un moyen de chauffage particulier (9) pour régler la température du volume de cette poche gazeuse et instaurer une surpression au fond du creuset par rapport au sommet pour garantir une contraction du cristal (2) au moment de sa solidification et éviter les défauts dans les cristaux. En supprimant un circuit de réglage de pression reliant ces deux régions extrêmes pour établir directement la surpression, on simplifie grandement la disposition tout en évitant des condensations de portions vaporisées du cristal dans des tuyauteries.

Description

DISPOSITIF ET PROCEDE DE CRISTALLOGENESE
DESCRIPTION
Cette invention a trait à un dispositif et à un procédé de cristallogenese, dans lequel un corps liquéfié de la composition du cristal à former est enfermé dans un creuset dont il mouille la paroi et laissé à se solidifier en présence d'un germe ayant la structure cristalline à créer, afin que cette structure so f reproduite par le corps à mesure qu'il se solidifie. Dans une variante du procédé, un lingot du corps est déposé à l'état solide dans le creuset et on le liquéfie par tranches par un moyen de chauffage mobile le long du creuset en s 'éloignant du germe : le corps se solidifie progressivement à partir du germe, dont il prend encore la structure cristalline. Le corps d'origine ainsi transformé en cristal est ensuite récupéré en ouvrant le creuset. Plusieurs expressions concrètes de ces procédés ont été conçues dans 1' industrie. L brevet français 2 757 184, qui constitue l'art antérieur connu le plus proche, enseigne que la solidification du cristal cause certaines difficultés puisque son coefficient de contraction est différent de celui du creuset quand il se refroidit, ce qui produit des contraintes mécaniques, des défauts dans les cristaux et parfois une rupture du creuset, même s'il se contracte moins que le cristal, puisqu'il adhère à lui. Ce brevet enseigne aussi qu'une solution peut être trouvée en produisant une pression de gaz plus forte dans une partie de fond du creuset, où le cristal se forme, que dans une partie de sommet du creuset, qui surplombe le liquide et est aussi occupée par du gaz. Cette surpression produit automatiquement une contraction de la section du cristal au moment de sa solidification, et donc un jeu entre le cristal et le creuset, qui s'élève avec le niveau de l'interface cristal-liquide à mesure que la solidification progresse . Cette invention-ci constitue un périectionnement de la précédente : si le procédé connu permet d'obtenir les objectifs affirmés, il présente certains inconvénients dus à l'existence de canalisations menant aux deux régions extrêmes du creuset et permettant d'y instaurer la différence de pression souhaitée. Il faut d'abord admettre que cette greffe d'un circuit de gaz sur le creuset impose des modifications de l'appareillage et perturbe quelque peu les échanges de chaleur ; mais surtout, on observe des condensations du corps devant former le cristal dans des parties froides des tuyauteries quand ces corps ont une tension de vapeur élevée, comme CdTe, GaAs , InP, GaP en particulier. La composition du cristal peut en être affectée, et les tuyauteries finissent par être bouchées. Il serait concevable de maintenir l'ensemble du circuit de gaz à une température suffisante pour interdire la condensation de ces corps, mais les difficultés techniques seraient considérables à cause de l'élévation de cette température (1000°C par exemple), et il n'existe pas de capteur de pression, pourtant nécessaire pour régler la différence de pression, qui résisterait à une telle chaleur.
Un objet essentiel de l'invention est donc de se passer du circuit de gaz sans renoncer à l'effet bénéfique de la différence de pression entre les deux parties du creuset. On utilise désormais un creuset fermé mais muni d'une poche gazeuse, appelée ampoule, chauffée par un moyen particulier et réglable qui permet d'y modifier à volonté la température du gaz. L'ampoule communique à la partie de fond du creuset et y -^établit la surpression voulue grâce au chauffage de son contenu. On remplace donc un réglage de pression par un réglage de température, plus facile à accomplir en pratique. Une observation visuelle de la solidification, et en particulier de l'interface cristal-liquide, permet de s'assurer de la bonne qualité de la surpression sans recourir à un capteur.
On passe maintenant aα commentaire de la figure unique, qui illustre une réalisation possible de l'invention. Le corps objet de la cristallogenèse comprend une portion liquide 1 surmontant un cristal 2 solidifié dans un creuset 3 clos, de forme cylindrique et dressée ou inclinée. Le volume du creuset 3 inoccupé par le liquide 1 et le cristal 2 est empli d'un gaz neutre, qui ne réagit pas avec l'échantillon. La région de fond du creuset 3 est occupée par une ampoule 4 de ce gaz qui permet d'appliquer une différence de pression entre la région de fond du creuset 3 et une région de sommet 10 surplombant le liquide 1 et aussi empli du gaz neutre, puisque le liquide 1 mouille la paroi du creuset 3, alors que le cristal 2 résultant d'une contraction à la solidification est séparé de cette paroi par un jeu.
Un dispositif de chauffage comprend trois fours 7; 8 et 9 superposés, environnant le creuset 3 et séparés par des couches isolantes 11 et 12. Les deux premiers fours 7 et 8 sont usuels dans l'art et permettent de réaliser un procédé de solidification de Brigdman, le four supérieur 7 étant maintenu à une température supérieure à celle du four médian 8 et l'interface entre le cristal 2 et le liquide 1 étant stée à la frontière entre les fours 7 et 8. Le four inférieur 9 est affecté au chauffage du gaz dans l'ampoule 4 et au réglage de sa pression en faisant varier la température. La pression de gaz dans la région de sommet 10 s'ajuste aux conditions de volume et de température à cet endroit, mais une surpression se maintient dans la région de fond du creuset en raison - du chauffage plus fort du contenu de l'ampoule 4. La suffisance de cette surpression peut être vérifiée en examinant la forme du ménisque 6 formé par le liquide 1 à l'endroit de son raccordement avec le cristal 2 : un ménisque concave sera la preuve d'une surpression suffisante. Le moyen d'observation utilisé peut être une fibre optique 5 traversant localement la couche d'isolant 11. Le four inférieur 9 est réglé pour rendre le chauffage qu'il produit plus ou moins intense en fonction de la forme du ménisque 6. Enfin, la référence 13 désigne un joint à labyrinthe composé de chicanes qui imposent un trajet sinueux aux écoulements de gaz entre l'ampoule 4 et la région de fond du creuset 3 qui est adjacente au cristal 2, afin de contrarier les échanges de chaleur entre ces deux volumes sans nuire à la communication des pressions.
Dans un exemple concret, on effectua la croissance d'un monocristal de CdTe de 10 m de long et de 5 cm de diamètre selon la méthode de Brigdman. Le creuset 3 était en verre de silice transparent et un germe monocristallin de diamètre très légèrement inférieur à celui du creuset fut placé sous la charge à solidifier. Au début de la solidification, la tension de vapeur du liquide était de 1,5 atmosphère dans la rég-îon de sommet 10, qui était portée à une température d'environ 1150°C alors que la tension de vapeur au niveau du ménisque 6 était d'une atmosphère à la température de fusion du CdTe de 1100°C. La pression dans l'ampoule 4 devait donc assurer et la pression de 1,5 atmosphère dans la région de sommet 10 et la surpression de la région de fond du creuset 3 pour former la contraction du cristal 2 et le ménisque 6. De l'argon à 0,4 atmosphère avait été insufflé dans le creuset 3 avant de le sceller. Dans ces conditions, on chauffa l'ampoule 4 à 1200°C à l'aide du four inférieur 9 pour faire fonctionner correctement le dispositif.
Le procédé de l'invention est compatible avec la présence d'un lingot supérieur à liquéfier puis solidifier.
Dans la réalisation décrite du procédé, les fours 7, 8 et 9 sont mobiles le long du creuset 3, l'interface cristal 2- liquide 1 restant à hauteur de la couche d'isolant 11 et de la fibre optique 5, ce qui permet d'accomplir la solidification. Le four 9 est conçu pour rester à hauteur de l'ampoule 4 ; il peut comprendre des portions étagées mises tour à tour en service quand elles passent devant l'ampoule 4. Il convient aussi de noter que l'ampoule 4 pourrait rester immobile et être chauffée par un four séparé des fours de chauffage du corps à solidifier ; elle serait alors en communication avec le creuset 3 par une tuyauterie déformable.

Claims

REVENDICATIONS
1. Dispositif de cristallogenèse, comprenant un creuset (3) dans lequel un corps liquide (1) est mis à solidifier pour former un cristal (2) et des premiers moyens de chauffage (7, 8) environnent le creuset (3) devant au moins le corps liquide (1), caractérisé en ce qu'il comprend une ampoule à gaz (4) communiquant avec une portion de fond du creuset de façon à créer une différence de pression entre la portion de fond et une région de sommet (10) du creuset surplombant le liquide (1) et des seconds moyens de chauffage (9) réglables environnant l'ampoule.
2. Dispositif de cristallogenèse selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comprend un isolant thermique (12) entre les premiers et les seconds moyens de chauffage.
3. Dispositif de cirstallogenèse selon l'une quelconque des revendications 1 ou 2, caractérisé en ce qu'il comprend des moyens d'observation d'une interface (6) entre le liquide et le gaz.
4. Dispositif de cristallogenèse selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que 1 ' ampoule communique au creuset par un passage à labyrinthe (13).
5. Procédé de cristallogenèse avec un dispositif conforme à l'une quelconque des revendications précédentes, comprenant une solidification progressive du corps liquide par un réglage des premiers moyens de chauffage et une création d'un jeu entre le corps solidifié et le creuset en établissant une surpression dans une région inférieure du creuset, où se trouve le corps solide, par rapport à une région de sommet du creuset, occupée par du gaz', caractérisé en ce que la surpression est causée en réglant les seconds moyens de chauffage .
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2865740B1 (fr) 2004-01-30 2007-06-22 Centre Nat Rech Scient Procede et dispositif de fabrication de monocristaux
KR100712139B1 (ko) 2006-05-01 2007-05-09 임항준 브릿지만 공정을 이용한 단결정 생성장치 및 생성방법
FR2927910B1 (fr) * 2008-02-27 2011-06-17 Centre Nat Rech Scient Procede de cristallogenese d'un materiau electriquement conducteur a l'etat fondu.
US9109299B1 (en) * 2011-03-30 2015-08-18 CapeSym, Inc. Solidification of high quality alloy semiconductors

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4764350A (en) * 1986-10-08 1988-08-16 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Method and apparatus for synthesizing a single crystal of indium phosphide
US5037621A (en) * 1989-11-09 1991-08-06 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army System for the in-situ visualization of a solid liquid interface during crystal growth
JPH0442888A (ja) * 1990-06-08 1992-02-13 Nikko Kyodo Co Ltd 結晶成長装置
EP0565415A2 (fr) * 1992-04-06 1993-10-13 Alcatel Procédé de fabrication d'un lingot en oxyde supraconducteur à haute température critique
FR2757184A1 (fr) * 1996-12-12 1998-06-19 Commissariat Energie Atomique Dispositif et procede de cristallogenese

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69934643T2 (de) * 1998-03-31 2007-10-25 Nippon Mining & Metals Co., Ltd. Verfahren zur herstellung eines einkristalls mit halbleitender zusammensetzung
JP3631063B2 (ja) * 1998-10-21 2005-03-23 キヤノン株式会社 フッ化物の精製方法及びフッ化物結晶の製造方法
US6210605B1 (en) * 1999-07-26 2001-04-03 General Electric Company Mn2+ activated green emitting SrAL12O19 luminiscent material

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4764350A (en) * 1986-10-08 1988-08-16 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Method and apparatus for synthesizing a single crystal of indium phosphide
US5037621A (en) * 1989-11-09 1991-08-06 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army System for the in-situ visualization of a solid liquid interface during crystal growth
JPH0442888A (ja) * 1990-06-08 1992-02-13 Nikko Kyodo Co Ltd 結晶成長装置
EP0565415A2 (fr) * 1992-04-06 1993-10-13 Alcatel Procédé de fabrication d'un lingot en oxyde supraconducteur à haute température critique
FR2757184A1 (fr) * 1996-12-12 1998-06-19 Commissariat Energie Atomique Dispositif et procede de cristallogenese

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 016, no. 219 (C - 0943) 22 May 1992 (1992-05-22) *

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Publication number Publication date
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FR2806100A1 (fr) 2001-09-14
EP1261760A1 (fr) 2002-12-04
FR2806100B1 (fr) 2002-09-20
US6652647B2 (en) 2003-11-25
JP2003527297A (ja) 2003-09-16

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