Beschreibung
Verfahren und Vorrichtung zur optimierten photochemischen Behandlung von Stoffen
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur optimierten photochemischen Behandlung von ggf. mit Additiven versehenen Stoffen wie z.B. Abwasser, Grundwasser oder Abfall mittels Strahlung und dient insbesondere der kostengünstigen Durchführung von photochemischen Reaktionen bzw. photochemisch induzierten Redoxreaktionen.
Stand der Technik
Seit der Jahrhundertwende wurden UV-Niederdruckstrahler zur Entkeimung von Flüssigkeiten eingesetzt. Später wurden Verfahren zur Behandlung verunreinigter Flüssigkeiten bekannt, bei welchen UV-Strahlung - in Kombination mit Oxidationsmitteln wie z.B. Ozon oder
Wasserstoffperoxid z.T. unter Zugabe von Katalysatoren und Aktivatoren - in den verschiedensten Bereichen, so z.B. auch bei der Abwasserbehandlung, zum Einsatz kam.
Das Verfahrensprinzip wird i.a. so erklärt, daß sich durch den Einfluß von UV-Strahlung -
Wasserstoffperoxid in kurzlebige, hochreaktive Radikale - insbesondere OH-Radikale zersetzt.
Die Effizienz dieser Reaktion wird mit ca. 50% angegeben.
Die oxidative Wirkung der OH-Radikale wird genutzt, indem die
Wasserstoffperoxid-Zersetzung in kontaminierten Flüssigkeiten zur Oxidation und Elimination von unerwünschten Abfall- bzw. Abwasserinhaltstoffen herangezogen wird.
Ausreichende Reaktionszeiten und Oxidationsmittel im Überschuß vorausgesetzt, reagieren
Kohlenwasserstoffe zu Kohlendioxid und Wasser. Organisch gebundener Schwefel und Sulfide werden zu Sulfat umgesetzt, organisch gebundene Halogene werden zu Halogenidionen,
Phosphor III- Verbindungen zu Phosphat umgewandelt.
Bei den derzeit am Markt angebotenen UV-Reaktoren zur Abwasserbehandlung wird der in ein Quarzschutzrohr eingehauste UV-Strahler in die mit Oxidationsmittel wie H2O2 oder Ozon
versehene Flüssigkeit eingetaucht, oder er bestrahlt in räumlichem Abstand einen dünnen Wasserfilm. Bei den UV-Tauchstrahlerreaktoren ist die oberflächige Verschmutzung der Strahler bzw. der Schutzrohre trotz z.T. installierter komplizierter mechanischer Reinigungsvorrichtungen letztlich nicht beherrschbar.
Grundsätzlich ist die Eindringtiefe von UV-Strahlung in trüben Abwässern / Flüssigabfällen oder in Abwässern mit hohen Konzentrationen an organischen und anorganischen Inhaltsstoffen in der Regel klein und die UV-initiierten Reaktionen finden daher im oberflächennahen Bereich der Flüssigkeit statt - also i.a. im Millimeter- oder Zentimeterbereich. Bei einem Fallfilmreaktor ist - bedingt durch den dünnen rieselnden Wasserfilm - die Ausnutzung der Strahlung zwangsläufig auf wenige Millimeter limitiert. Bei Eindringtiefen der Strahlung in das Abwasser im Zentimeterbereich kann daher ein großer Teil der UV-Strahlung sowie Strahlung anderer Wellenlängen nicht genutzt werden, daher kann der Fallfilmreaktor für bestimmte Aufgabenstellungen nicht eingesetzt werden Zudem ist die verfahrenstechnische Realisierung von Fallfilmreaktoren verhältnismäßig aufwendig, die Bauhöhe zwangsläufig beträchtlich, was eine Aufstellung in niederen Räumen unmöglich macht.
Ausgehend von der UV-Technik ist für eine optimale UV-Intensität die gleichmäßige und optimale Oberflächentemperatur der UV-Strahler über ihre gesamte Länge besonders wichtig. Schon geringe Abweichungen hiervon bedingen erhebliche UV-Intensitätseinbußen. Bei allen bekannten UV- Verfahren in der Abwassertechnik ist daher der UV-Strahler zu Kühlzwecken von mindestens einem Quarzschutzrohr umgeben, welches einen beträchtlichen Anteil der UV-Strahlung absorbiert - je nach Dicke des verwendeten Quarzglases ca. 15% - und zusätzlich Kosten verursacht.
In den Patent Abstracts of Japan, C-960, July 8, 1992, Vol.16, No.310, zu JP 4-87636 A2 wird eine gekühlte UV-Strahler/ eflektoreinheit ohne Strahler-Quarzschutzrohr beschrieben, wie sie in dieser oder ähnlicher Anordnung heute bei verschiedenen industriellen Anwendungen z.B. bei der Lack- und Druckfarbenhärtung Stand der Technik ist. Die gezeigte
Anordnung ist allerdings konstruktiv aufwendig zu realisieren und es resultieren bei der gezeigten Anordnung durch lange Strahlungswege erhebliche Strahlungsverluste. Im Bereich der Lichttechnik gab es in den letzten Monaten und Jahren einige auch bei der Abwasserbehandlung eingesetzte Neuentwicklungen betreffend unterschiedlicher Strahlertypen, welche im wesentlichen den monochromatischen Strahlern zuzuordnen sind. Zu erwähnen sind hier beispielsweise die Excimer-Strahler (Excited Dimer) mit einer jeweils scharfen Emissionslinie bei 172 nm oder 222 nm oder 308 nm.
Bei allen bekannten UV-Oxidationsverfahren erfolgt die Behandlung von Abwasser unter Zugabe von kostenintensiven Oxidationsmitteln wie Wasserstoffperoxid und/oder Ozon. Vielfach werden zur beschleunigten Aktivierung des Oxidationsmittels zusätzlich Katalysatoren und Aktivatoren zugegeben, was Schlammbildung verursacht und Nachbehandlungen notwendig macht.
Aufgabe der Erfindung
Die Aufgabe vorliegender Erfindung ist es daher, mit einer baulich einfachen, energetisch wirkungsvollen, kostengünstigen und wartungsfreundlichen Vorrichtung von einer Strahlungsquelle räumlich getrennte ggf. mit Additiven versehene Stoffe unter Anwesenheit von ausreichend Luft und/oder Reinsauerstoff mit Strahlung hoher Intensität und unter Ausnutzung eines breiten Emissionsspektrums so zu bestrahlen, daß mit diesem Verfahren und dieser Vorrichtung z.B. photochemisch induzierte Redoxreaktionen zur schnellen und kostengünstigen Elimination problematischer Inhaltsstoffe - zur Verbesserung der biologischen Abbaubarkeit - fallweise auch Syntheseprozesse - effektiv durchgeführt werden können. Eine weitere Aufgabe vorliegender Erfindung ist es, durch geeignete Maßnahmen die Zugabe von teuren Oxidationsmitteln wie z.B. Wasserstoffperoxid einzuschränken bzw. darauf zu verzichten.
Eine baulich einfache, kostengünstige Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens ist im folgenden anhand einer Skizze eines Reaktor-Querschnitts näher erläutert.
Erfindungsgemäß wird in mindestens einem Bestrahlungsreaktor - aus korrosionsfestem, wärmebeständigem und gegenüber kurzwelliger Strahlung beständigem Material - der im wesentlichen aus mindestens einem Behälter 6 - mit Möglichkeiten der Stoffzufuhr und Stoffableitung 11, 12 - sowie mindestens einer über dem Behälter angeordneten Bestrahlungseinheit besteht, der Stoff, der fallweise mit Additiven versehen (sein) werden kann, so eingeleitet, daß bei flüssigen Stoffen kein oberflächiges Verspritzen der Flüssigkeit eintritt. Der Stoff kann in großer Schichtdicke vorgelegt werden, damit bei größeren Eindringtiefen alle Strahlungsanteile ausgenutzt werden.
Die Wände des Behälters können mit katalytisch wirkenden Oberflächen ausgestattet und strukturiert sein. Bei der Behandlung von flüssigen Stoffen können in den Behälter Katalysatoren 9 wie z.B. Kupfer-Lochbleche, unlegierter kohlenstoffarmer Stahl oder durch entsprechende Beschichtungen katalytisch und/oder aktivierend wirkende Füllkörper eingebracht werden. Dem zu behandelnden Stoff kann Luft und/oder Sauerstoff mittels jeder dafür geeigneten Vorrichtung zugegeben werden, beispielsweise aber mittels eines blasenfreien Eintragssystems 10, bestehend aus einer - für Sauerstoff permeablen - Membran, welche in Form von Hohlfasern oder Schläuchen in den Behälter - den zu behandelnden Stoff - eingebracht werden kann.
Wird Wasserstoffperoxid zugegeben, so kann es auch mit Hilfe von höherfrequentem Ultraschall direkt in der zu behandelnden Flüssigkeit erzeugt werden, daher kann an dem Behälter und/oder an einem Vorlagebehälter für die Flüssigkeit mindestens eine Vorrichtung zur einfachen Installation eines Ultraschallgenerators 13 oder mindestens ein Ultraschallgenerator angebracht sein.
Ist der Strahler - vorzugsweise mit breitem Emissionsspektrum im Wellenlängenbereich von UV bis IR - in eine Bestrahlungseinheit integriert, so besteht diese aus einem Gehäuse 1 mit jeweils einem Strahler 4, mindestens einem Reflektor 3 und mindestens einer Kühlvorrichtung 5, 2 für Strahler, Reflektor und Gehäuse. Bei dieser Anordnung und diesem Reaktortyp ist der Strahler 4 horizontal - parallel und in geringem Abstand zum Behälter 6 bzw. zum darin befindlichen Stoff - angeordnet und wird ohne Schutz- bzw. Kühlrohr betrieben. Für
bestimmte Aufgabenstellungen kann eine Quarzschutzscheibe zwischen Strahler und zu behandelndem Stoff optional angebracht werden.
Der Strahler kann bei einem zur Durchführung dieses Verfahrens geeigneten, verfahrenstechnisch anders realisiertem Behandlungsreaktor z.B. in einem Zentrifugalreaktor mit zentrisch angeordnetem Strahler - ebenso vertikal oder in jeder beliebigen Stellung angeordnet sein wobei hier auf einen Reflektor verzichtet wird..
Die Kühlung des Strahlers erfolgt gleichmäßig über dessen gesamte Länge durch - im Volumen veränderbare - angesaugte oder eingeblasene atmosphärische - Luft, welche über - an geeigneter Stelle angebrachte - lichtdichte Kühlöffnungen 5 eintritt und nach Kühlung von Strahler/Reflektoreinheit ggf. in freier Konvektion abströmt - oder abgesaugt wird 2. Hierdurch wird bewirkt, daß sich kein Temperaturgradient längs des Strahlers einstellt und die optimalen Oberflächentemperaturen über die gesamte Strahlerlänge eingehalten werden. Die Kühlöffnungen 2, 5 können am Gehäuse der Bestrahlungseinheit und/oder an dem Behälter angebracht und mit einer Staubfiltervorrichtung versehen sein.
Das Luftvolumen kann z.B. durch einstellbare Gebläseleistung oder durch entsprechende Einstellung von Klappen an den Kühlöffnungen oder an den Abluftstutzen je nach Strahlertyp variiert werden. Auch eine rein konvektive Kühlung mit Luft ist möglich. Die Luft kühlt zusätzlich den (die) über dem Strahler 4 angeordneten Reflektor(en) 3 und das gesamte Strahler-Reflektorgehäuse 1.
Die Luft wird zudem so gefuhrt, daß der Luftsauerstoff und der zu behandelnde Stoff möglichst große Kontaktflächen aufweisen sowie ausreichend Kontaktzeit zur Verfügung steht, damit die durch den Einfluß der Strahlung zunächst energetisch angeregten Moleküle - sowohl die des Sauerstoffs als auch die des zu behandelnden Stoffs - miteinander reagieren können und damit zur Elimination von Inhaltsstoffen bzw. zu Aktivierungsreaktionen beitragen. Es überlagern sich dabei unterschiedliche Reaktionen, welche u.a auch zu Kettenreaktionen im bestrahlten Stoff fuhren können.
Zwar entsteht beim Einsatz von Strahlern mit Anteilen an kurzwelliger Strahlung Wasserstoffperoxid jedoch wird ein wesentlicher Teil des oxidativen Abbaus - auch der OH-Radikal-induzierten Prozesse - nach heutigen Erkenntnissen von Sauerstoff geleistet, daher ist die Anwesenheit von Sauerstoff oder eines anderen Elektronenakzeptors notwendig. Der für die Oxidations/Redoxreaktionen benötigte, im Überschuß vorhandene molekulare Sauerstoff stammt hauptsächlich aus der Luftschicht zwischen Strahler und Stoff/Flüssigkeit 14 und wird durch Energiezufuhr angeregt. Es entstehen unter anderem radikalische, hochreaktive Sauerstoffspezies. In wässriger Lösung werden nicht nur beispielsweise Hydroxylradikale oder Wasserstoffperoxid gebildet, die weitere Reaktionsketten auslösen, sondern die abzubauenden Abwasserinhaltsstoffe absorbieren Strahlung, wodurch Energieübertragungsreaktionen resultieren. Je nach zu behandelndem Stoff überwiegen Reaktionen, die z.B. auf elektrophile Addition, Elektronentransferreaktion, Radikalisierung oder Anregung der Abwasser- bzw. Wasserinhaltsstoffe, Anregung des Luftsauerstoffs zurückzuführen sind. Die im bestrahlten Medium gebildeten Radikale haben z.T. eine lange Lebensdauer und können sukzessive weiterreagieren, weshalb fallweise der zu behandelnde Stoff/das Abwasser nach einer definierten Bestrahlungszeit - für eine definierte Folgezeit - in einen Zwischenbehälter eingebracht wird, von welchem er ggf. wieder in den Bestrahlungsraum zurückgeführt wird. Der Zwischenbehälter kann durch eine geeignete Trennwand im Behälter hergestellt werden oder aus einem zweiten Behälter bestehen. Die Kühlung der Reflektoreinheit 3 kann auch mittels Kühlwasser erfolgen. Die Reflektoreinheit, die aus mindestens einem Reflektor 3b besteht ist so beschaffen und angeordnet, daß eine Rückreflexion der Strahlung in die Strahlungsquelle 4 weitgehend ausgeschlossen und nahezu die gesamte vom Strahler emittierte Strahlung auf den Stoff/das Abwasser in dem Behälter 6 umgelenkt wird und lange Strahlungswege ausgeschlossen sind. Daß durch den Einfluß aggressiver Medien die Reflektoroberfläche(n) - beispielsweise bei Reflektoren aus hochpoliertem oder eloxierten Aluminium - durch Korrosionsvorgänge ihre Wirkung nicht verliert (verlieren), kann die Reflektoroberfläche mit Quarz bedampft sein oder jeweils ein Reflektor gasdicht in ein Quarzschutzrohr 3a eingebracht oder in einem gasdicht
geschlossenen Quarzrohr angebracht sein. Die gasdichte Reflektorhülle 3 a kann mit Stickstoff oder jedem geeigneten anderen Gas gefüllt sein. Je nach Aufgabenstellung und Strahlertyp kann ein Kaltlichtreflektor 3 eingesetzt werden, welcher Wärmestrahlung passieren läßt und vorwiegend Strahlung mit maximalem Wirkungsgrad für die photochemische Behandlung - bzw. für die energetische Anregung von Sauerstoff und Abwasserinhaltsstoffen notwendige Strahlungsanteile - reflektiert. Der Reflektor kann aus zwei oder mehr Teilen bestehen, zwischen welchen die Kühlluft abströmen kann oder eingeblasen werden kann. Insbesondere bei schwer oxidierbaren Flüssigkeits- Abfallinhaltsstoffen kommt der dauerhaft verfügbaren hohen Strahlungsleistung pro Flächeneinheit eine besondere Bedeutung zu, welche erstmals mit dieser Vorrichtung erreicht werden kann. So können z.B. Quecksilber Mittel- bzw. Hochdruckstrahler mit einer elektrischen Anschlußleistung von 40.000 Watt pro Meter Strahlerlänge und hohem Anteil an kurzwelliger Strahlung mit geringem technischen Aufwand eingesetzt werden.
Da bei diesem Verfahren ein breites Emissions-Spektrum des Strahlers vom kurzwelligen über den sichtbaren Bereich bis in den Infrarotbereich wichtig ist, kann je nach Aufgabenstellung und zu behandelndem Stoff ein Strahler mit unterschiedlichen Emissionsmaxima eingesetzt werden.
Ist die Bestrahlungseinheit mit dem Behälter 6 verbunden, so kann sie zur Wartung (Strahlertausch) entweder aufgeklappt 15 oder insgesamt von dem Behälter 6 entfernt werden. Im Falle der Behandlung von flüssigen Stoffen befindet sich an dem Behälter ein Zu- und ein Ablauf 11, 12 für die zu behandelnde Flüssigkeit mit welchen der Flüssigkeitspegel bzw. der Durchfluß in dem Behälter variiert werden kann.
Die Wände des Behälters können strömungsgünstig geformt sein, so daß ggf. Walzenströmungen quer zur Strömungsrichtung der zu behandelnden Flüssigkeit zu realisieren sind. Diese Walzenströmungen werden vorzugsweise durch mindestens einen motorisch angetriebenen rotierenden Zylinder bewirkt, welcher sich über die gesamte Behälterlänge innerhalb der Flüssigkeit befindet. Insbesondere bei tiefer ausgebildeten Behältern mit höherem Wasserstand wird so eine intensive, verspritzungsfreie Durchmischung der zu bestrahlenden
Flüssigkeit und ein ständiger Austausch der oberflächennahen bestrahlten Flüssigkeitsschicht bewirkt. Hierdurch wird erreicht, daß auch bei tiefer ausgebildeten Behältern alle Moleküle bzw. alle Inhaltsstoffe der Flüssigkeit von der Strahlung getroffen werden. Bedarfsweise kann die verspritzungsfreie Durchmischung des Stoffs/der Flüssigkeit auch mittels Magnetrührer 7 oder jeder anderen geeigneten Mischungstechnik, z.B. auch durch geeignete Zu- und
Ableitung des Stoffes erfolgen.
Der gesamte Reaktor ist lichtdicht geschlossen und kann mittels einer mechanischen
Vorrichtung 8 so justiert werden, daß der Stoff/die Flüssigkeit den Behälter gleichmäßig erfüllt und zudem ein spritzfreies Fließen der Flüssigkeit mit einstellbarer Geschwindigkeit möglich wird.
Der Reaktor erlaubt bei flüssigen Stoffen folgende Betriebsweisen:
- Chargenbetrieb durch Rühren der Flüssigkeit im Reaktionsbehälter bis zur Erreichung der Behandlungsziele. Dabei kann der Reaktor mit einem Behälter verbunden sein, der als Vorratsbehälter dient und von dem aus bei Betrieb das zu behandelnde Medium in den Bestrahlungsraum gepumpt wird und von dort aus wieder in den Behälter zurückfließt.
- Kontinuierlicher Betrieb. Der zu behandelnde Stoff wird dem Reaktionsbehälter mit einem bestimmten Volumenstrom zugeführt und hat das Behandlungsziel nach einer bestimmten Aufenthaltszeit im Reaktor erreicht. Hierzu wird der Reaktor aus einem Vorlagebehälter oder direkt aus der Flüssigkeitsquelle gespeist und der behandelte Stoff wird in einen nachgeschalteten Kontrollbehälter entlassen.
Die Ableitung evtl. entstehender Abgase oder Gerüche erfolgt entweder aus dem Bestrahlungsraum oder aus o.g. Vorratsbehälter.
Durch die vorliegende Erfindung werden kurze Reaktionszeiten erreicht, der Platzbedarf für einen Reaktor - mehrere Reaktoren - ist gering, der Montage- und Wartungsaufwand ist äußerst gering. Dadurch werden u.a. beträchtliche Energie-, Raum- Material- und Personalkosten eingespart.
Zeichenerklärung zur Prinzipskizze Querschnitt Photochemischer Reaktor
: Strahler/Reflektorgehäuse : Anschlußstutzen für Kühlluft-Saugzug (je nach Luftführung unterschiedliche Position) : Reflektoren angepasster Geometrie (hier in Quarz-Schutzrohre eingehaust) 3 a: Quarz-Schutzrohr für den Reflektor
3 b: Reflektor im Quarz-Schutzrohr positioniert : Strahler : Lichtdichter Kühlluft-Einlaß, ggf. mit Staubfilter : Behälter fürden zu bestrahlenden Stoff : Spritzfreie Umwälzeinrichtung für für flüssige Stoffe (M = Motor) : Justiervorrichtung für den Reaktor : Katalysatorelemente : Blasenfreies Sauerstoff-Eintragssystem : Stoffeinspeisung : Stoffaustrag : Ultraschallgenerator (Option) : Oberfläche des Stoffs : Vorrichtung zum Aufklappen des Reaktor-Bestrahlungsteils