WO1996010483A1

WO1996010483A1 - Feuille en plastique optique stratifiee resistant a la chaleur et son procede de production

Info

Publication number: WO1996010483A1
Application number: PCT/JP1994/001628
Authority: WO
Inventors: Sadao Fujii; Kenji Matsumoto
Original assignee: Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha
Priority date: 1994-09-30
Filing date: 1994-09-30
Publication date: 1996-04-11
Also published as: CN1078845C; EP0733470A1; CN1142799A; US6087007A; EP0733470A4

Description

明細書耐熱性光学プラスチック積層シート及びその製造方法分野

本発明は、光学的に透明でかつ耐熟性を有する光学ブラスチック積層シート及びその製造方法、並びに該積層シ—トを用いた酎熱性透明基板に Μする。背景技術

エレクトロニクス技術の急速な進歩にともない、特に液晶表示素子、エレクト口ルミネッセンス表示素子、太陽池用光鼋変換素子など、光エレクトロ二タス分野は拡大している。

これらの分野において、光エレクトロニクス素子は、一般的には、素子を透明導電層を有するガラス基板上に形成することにより各種用途に供されている。しかし、ガラスは接械的強度、特に脆性に課 Sがあり、素子の耐久性を低下させるため、強化ガラス等の特殊な処理をした基板の利用が行われている。また、特に、可搬型機器に組み込んだ場合、ガラスの大きな比重のため接器の重量が大きくなり、そのためガラス基板の薄瞜化が指向され、 0 . 4 mm程度の基板が利用可能となった。しかし、この場合も、ガラスの脆性のため、プロセス中での割れによる歩留り低下や、素子の耐衝 51性が低下するという課題を有している。

以上のように、基板の強靭化 ·軽量化が強く 2まれており、 S暈 '耐衝撃性の点と、ガラスとの互換性の観点から、一股に光学的に透明な、即ち光線透過率が 8 0 ½程度以上でヘイズ（h a z e ) 値が 5 %以下程度の光学的特性を有し、且つ 0 . 2〜0 . 5 mm厚程度の適度に剛性を備えたプラスチック基板が要求されている。

し力、し、光エレクトロニクス素子を形成させる際に必要とされるプロセス温度からは、 1 8 O 'C以上、好ましくは 2 0 O 'C以上の耐熱性が要求され、また、液晶素子への応用を考える場合には、好ましくは 5 O n m以下、より好ましくは 2 O n m以下という低リタ一デ一シヨンが要求される。一方、プラスチックのフイルム又はシート化の際、分子は配向を受け易く、特に耐熱性の髙ぃ材料を用い溶融法にて低リタ一デーションのフィルム又はシートを得ることは非常に困難である。例えば、ボリカーボネ—ト等の比較的耐熱性の低い材料では、液晶表示素子に利用可能な 5 0 n m以下のリターデーンヨンを有するシートを得ることも可能ではあるが、ボリァリレート等のガラス転移温度が 1 8 O 'C以上の材料では、低リタ一デーションのシ一トは得られていない。

—方、スーパ一ネマチックス液晶表示（S TN— L C D ) の場合、その表示品位を改善するために、 ffi屈折と厚みの Sで表されるリ夕ーデーシヨンを特定の值に制御した高分子フィルム（位相差フィルム）を、ガラス基板に張り付けて使用することか一般的に行われている。基板がブラスチック化された場合、位相差機能をブラスチック基板自体に付与しコストダウンを図るなど、ガラス基板にな t、特徴を出すことが期待され、耐熱性があり、かつリタ一デーシヨンが 1 0 0 n m以上、好ましくは 1 0 0〜7 0 0 n m程度の範囲で高度に制御されたブラスチック板が特に必要とされている。

そのため、酎熱高分子として知られているボリァリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ボリエーテルエーテルケトン等を溶剤キヤスティング法によりフイルム化し、いわゆるブラスチック液晶セル等の形態で利用することが提案されている（特開昭 5 9— 1 1 9 3 2 1号、特開昭 6 0 - 1 6 7 2 0 8号、特開昭 6 0 - i 4 7 7 2 1号、特開昭 6 1一 4 1 5 3 9号、 U S P 4 6 2 3 7 1 0号）が、基板が約 0 . 1 mm 程度のフィルム状であり、ガラスと比較し剛性に欠けフレキシブルであるため、ガラス基板を用いたプロセスと共用することができない。かくして、新たなプロセス開発が必要となり、既存のガラス基板プロセスを利用して、ガラス基板の欠点を解消するという目的のためには適当でない。

剛性を持たせるためにフィルムの厚膜化が考えられるが、溶剤キャスティング法により厚膜化する場合、発泡等の欠陷が生じ易い他、生産性が大幅に低下するので工業的実施は難しく、 2 0 0； m程度が限界である。また、溶解押出法により厚膜化した場合、光学的等方性が失われる他、成形時のダイラインによる表面平滑性や外観が悪く、液晶表示用基板として用いることは困難である。

—方、ボリメチルメタクリレー卜や変性ォレフィンの様な本質的に低複屈折材料であるブラスチックや、特開平 6— 1 9 4 5 0 1号にみられるような架椟ァクリルやエポキシの如き硬化型ブラスチックをシ一ト伏に成形して利用することが検討されているが、前者はガラスプロセスで必要とされる耐熱性が無く、後者は生産性が悪く量產実用性に欠ける等の課題を有している。また、前記耐熱光学フィルムを積層しシート化することも可能であるが、酎熱性と信頼性に優れた接着剤が無、ことや、加熱 ¾層する場合は高い処理温度が必要となり、樹脂の変性 ·着色等、特性の劣化が起こる。

従って、ガラスプロセスと互換性を保つことのできる剛性と酎熱性を持ち、耐衝輦性に便れ、かつ、透明 '低リタ一デーシヨン等の光学的特性を滴足する工業的に利用可能な材料は未だ見いだされていないのが実情である。

このような実情に鑑み、本発明は、ガラスプロセスと互換性が期待で 94/01628 き、耐熱性 ·光学的特性に優れ、且つ量產性を有する光エレクトロニクス素子用に好適な熱性光学ブラスチック棲層シートを提供するものである。

本発明者らは、前記目的を達成すべく裟意検討を重ねた結果、高耐熱性を受け持つ層と室温における物理的性質を受け持つ層の稷暦構造にすることにより、剛性、光学的特性及び酎熱性を合わせ持つ光学ブラスチック積暦シートが得られることを見出し本発明に到った。発明の開示

すなわち、本発明の第 1は、光学的に透明なボリマーからなる少なくとも一つの第 1層と、該層よりガラス転移温度の低い光学的に透明な第二の材料からなる第 2層とを積層してなる、耐熱性と透明性に優れた光学ブラスチヅク植層シートを、

本発明の第 2は、第 1暦を構成する光学的に透明なボリマーからなるフィルムと、第 2層を構成する、第 1層よりガラス転移温度の低い光竽的に透明なフィルムを、直接加熱積層することを特徴とする、耐熱性と透明性に ffiれた光学プラスチック積暦シー卜の製造方法を、

本発明の第 3は、上記光学ブラスチック接層シートを用いた光エレクトロニクス素子用熱性透明基板を、それぞれ内容とする。発明を実施するための最良の形態

本発明は、高ガラス転移温度を有する酎熱性の高い材料からなる第 1 層と、低ガラス耘移温度を有する材料からなる第 2層とからなる積雇構造を有するシートである。

第 1層を構成する光学的に透明なボリマーとは、光線透過率が 8 0 ¾ 以上でヘイズ（h a z e ) 値が 5 %以下のものを云い、例えば、ポリア /JP94/01628 リレ一トゃポリカーボネート、ボスルホン、ボリエーテルスルホン、ボリビニルアルコール等、熱可塑性のエンジニアリングブラスチックと呼ばれる耐煞性の高い樹脂が用いられる。第 1層は単騮又は 2層以上の複数層からなる。

主鎖に芳香族基を有するボリァリレートゃボリカーボネートは、耐熱性 ·透明性に優れ、フィルム又はシート（以下、単にフイルムと記載する）を得るのに適しており、好ましい材料である。該ボリマ一の詳細は、特開昭 5 7 - 7 3 0 2 1号、特開平 1一 1 3 5 8 3号、特開平 2— 8 8 6 3 4号、特開平 2— 2 3 7 2 0号等に記載されており、そのガラス耘移温度は 1 6 0て以上、好ましくは 1 8 0で以上、より好ましくは 2 0 O 'C以上を有する材料からなる。

第 1層は、該層よりも低ガラス転移温度を有する第 2暦の片面もしくは両面に種層化されており、第 2臞の高温加熱時の熱変形を防止する役割を果たしている。第 1層の厚みは、積層シートの厚みや、要求される耐熱形状安定性により決定されるが、通常、積層シートの 2 0〜8 0 ¾ である。該積層シートを単に液晶表示装 S用基板として用いる場合、シ一トは低リタデーシヨンであることが必要であり、液晶表示装 Sの種類にもよるが、一般に 5 O n m以下が好ましく、より好ましくは 2 0 n m 以下である。また、該シートに位相差の機能を付与する場合は、積層する少なくとも一^ 3の躕に予め特定のリタ一デーシヨンを付与した後積層することにより容易に得ることができる。一股には、 1 0 0 n m以上、好ましくは 3 0 O n m以上のリタ一デーシヨンを付与することが要請される。特に、高酎熱性を有する第 1層に特定のリタ一デーンヨンを付与することが、得られた位相差饜シー卜の熱安定性にとり都合がよい。第 1層に特定のリターデ一ションを付与するには、上記した高分子材料を配向させることにより得ることができる。 —股には、光学的に異方性の少ないボリァリレートやボリカーボネート、ボリスルホン、ボリエ一テルスルホン、ボリビニルアルコール等からなる高分子フイルムを 1 軸又は 2軸に延伸することにより得ることができる。これらのフィルムは公知のフィルム化技術により得ることができるが、表面性と光学的特性から、溶剤キャスティング法によるフイルムが最も好ましく用いられる。

リタ一デーシ 3ンは、フィル厶の膜厚と分子の配向程度により决定され、分子の配向は延伸条件により大きく左右される。従って、リターデーシヨンを精密に制卸するためには、第 1層の厚みを比較的薄くし、延伸条件の制御幅を大きく取ることが好ましい。そのため、第 1層の厚みは 2 0〜1 5 0 mから選択されるのが望ましく、より好ましくは 4 0 〜】 0 0〃mである。また、特開平 2— 1 6 0 2 0 4号ゃ特開平 3— 8 5 5 1 9号に見られるように、面内方向のいずれの屈折率とも異なるように膜厚方向の屈折率を調整した特殊な材料も好適に用いることができる。この場合においても、第 1層は、単層のみならず 2層以上の複層であってもよい。

第 2層を構成する材料としては、ー投には低複屈折性を有し、厚瞜化が容易な材料から構成され、耐熱性は第 1暦より低いものを用いる。加熱融着法等により、氇雇プロセスにて第 2層がガラス転移温度以上に加熱される場合、低複屈折性を有しない材料を用いることも可能であり、第 2層に要求される光学的な初期特性は大幅に緩和される。第 2層を構成する材料のガラス転移温度は、要求される酎熱性の程度に依存するが、一般には 1 0 0。C以上であればよく、好ましくは 1 4 0て以上で、第 1 層を構成する材料のガラス^温度よりも 2 0で以上低いことが好ましく、更に 4 0て以上低いことが一層好ましい。本発明の »層プラスチックシートの酎熱性は、第 1層の酎熱性からの寄与が大きい。第 2層は単 4/01628 層又は 2層以上の複数暦からなる。

第 2雇を構成する材料は、第 1暦との親和性に優れた材料が好ましく、最適ブラスチック材料を選択する必要がある。第 2層は、常温でのシートの PM性を出すための役割を果たしている。また、熱的変形に対しては第 1層により守られているため、ガラス転移温度以上の高温加熱時においても、その片面あるいは両面に存在する高ガラス転移温度を有する第

1層の保護を受け、加圧等の応力に対しても流動すること無く形態を保持する。第 2層の厚みは、第 1暦厚みの場合と同様に、積層シートに要求される特性により決定されるが、積層シート全体の厚みの 8 0〜2 0 ½が選択される。

本発明のプラスチック積層シートは、各層を構成するブラスチックを溶融共押出法により成形することができるが、各層を単独にて溶剤キヤスティング法や溶融押出法により必要とする厚みにフィルム化した後ラミネートすることにより容易に髙品位のブラスチック積層シートを得ることができる。接着剤を用いてラミネートすることも可能であるが、積暦シートの酎熱性を損なうことのないように接着剤を選択する必要がある。高温時の特性から加熱ラミネートが好ましい。この場合は、第 1層と第 2層の親和性を考慮して材料 S択を行う必要がある。

第 1層としてポリアリレートゃボリカーボネート系材料を用いた場合、第 2層の好適な材料としては、比較的低ガラス転移温度を有するボリェステル、ポリアリレート又はボリカーボネート等である。ビスフエノール Aとテレフタル酸から成るボリカーボネートはエンジニアリングブラスチックとして広く利用されており、また、ガラス転移温度が約 1 5 0 •Cと適度な値を有すると共に、第 1層と高い親和性を有しており、特性 • コストの点から第 2層材料として特に好ましい。

本発明の酎熱光学ブラスチック種層シートは、上記の如く、第 1層と第 2厪とを積層してなるので、光学的特性に優れた薄厚フィルムを得やすいという溶剤キャスティング法の利点を生かし、低コストで酎煞厚膜シートを得ることができるという特 aを有している。また、ラミネート法により積層シートを得る場合、髙耐熱層（第 1曆）は光学的特性や表面平滑性の点から溶剤キャスティング法により成膜したフィルムを用いることができる。更に、比較的低ガラス転移温度を有する材料は溶融押出法で光学的特性の良好なフィルムを生産性髙く得ることが容易であるという特徴を利用し、第 2層は溶融押出フィルムを用い、積層シートのコストを低滅することも可能である。

また、加熱ラミネート法によれば、一股的に、第 2層はラミネート時にガラス転移温度以上に加熱されるため、熱ァニールの効果を受けることになり、単一フイルムで有していた複屈折は、熱ァニールにより低下改善され、その結果、得られた覆層シートは、単一フィルムのリターデーシヨンの総和より小さくなるという特黴を有する。好適な加熱ラミネ一トの方法の一つは、加熱ロールあるいはベルトによる加熱 ·加圧ラミネート法である。必要とする加熱温度はラミネートする材料により異なるが、第 2層を構成する材料のガラス転移温度より高く、第 1層を構成する材料のガラス転移温度より低い温度が好適である。熱ラミネートは、比較的低温にて予備圧着した後、ラミネート温度に加熱し本圧着する等、加熱を複数の段階に分けて実施することも可能である。熱ラミネート時の気泡巻き込みを防止するため、真空ラミネート方式も好適に使用可能である。

上記の如き構造の本発明のブラスチック積曆シートは、剛性等、プロセスでのガラスとの共用又は互換性を保っため、厚みは 0 . 2〜l mni が好適であり、 0 . 3〜0 . 7 mmが特に好ましい。光学的特性については、全光璩透過率は 8 ο κ以上が好ましい。本発明のブラスチック積層シートは、ガラスと同樣に、光エレクト口二クス素子用基板として、透明導鬈加工等の 2次加工をすることができるが、加工条件としては、透明導電フィルムで実施されている条件を参考にしながら最適な条件を見出す必要がある。また、ガラス基板と異なり、酸素、水蒸気等に対するバリヤ一性能は落ちるため、必要に応じ、エチレン一ビニルアルコール共重合体ゃボリ塩化ビニリデン等の有摟系ガスバリヤ一加工や、シリカ ·アルミナ等からなる無機系ガスバリヤ一加工を行う。

—方、前記した如く、少なくとも一つの第 1層に予め機能を付与することも可能である。例えば、第 1層を構成するフィルムを予め延伸し一定の複屈折性を付与して位相差フィルムとした後、積層シート化することにより位相差フィルムを一体化させたブラスチック積層シ一トを得ることができる。この場合、第 1層を構成する位相差フィルムは高いガラス転移温度を有するため、加熱ラミネートにおいても、余りリターデーシヨンが低下しないという特徴を有しており、高度にリターデーシヨンを制御されたシートを得ることができる。

位相差フィルムからなる第 1層を第 2の層の両面に設ける場合において、第 1層の位相差フイルムの光軸を相互に並行に保った場合、得られたシートの位相差は、それぞれの狯和となる。このように第 1暦を配置した場合、一つの第 1層で位相差を発現させた場合と比較し、得られたシートの反り等の好ましくない変形を防止することができる。また第 1 暦を搆成するそれぞれの位相差フィル厶は、得られた液晶表示装置のコントラストを向上させる等、特性向上の目的で、その光軸を適度に交差させて配置することも好ましい。通常、 S T N液晶表示装置としては基板以外に複数枚の位相差フイルムを必要とするが、このような構成をとることにより、基板材料が複数の位相差フィルムの攆能を有しているため液晶表示装置の構成を簡単にすることができるという利点を有する。

2つの第 1曆がなす相対的な光軸の角度は、液晶表示装 Sを設計する諸バラメーターとの関連で様々に決められるものである。本積層シートによれば、必要とする相対角度を有するものを容易に得ることができる。また、本積 Sシートは第 1 ，第 2層以外の層を更に設けることを制限するものではない。

2つの第 1屨は、そのリターデーション値は同じであっても異なったものであってもよい。更に、必要であれば、これら第 1層を攙成する材料の種類を変えてもかまわない。

また、表面に透明導罨暦を有するフィルムを第 1暦として用いることにより、透明導性ブラスチック積曙シートを得ることができる。更に、 ^の第 1層フィルムに位相差フィル厶、別の第 1層フィルムに透明導 ¾性を有するフィルムを用いることにより、位相差 '透明導 S—体型ブラスチック S層シートを得ることもできる。

本発明のブラスチック積暦シートは、耐熱性と光学特性の点からガラスと共用又は互換可能であり、広く、光エレクトロニクス素子用の基板として有用である。更に、ガラスと異なり酎衝撃性に優れ、かつ軽量であるため、大面接化が要求されている液晶表示素子用の基板材料として特に有用である。

以下、実施例に基づいて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

実施例 1

第 1層の材料として、溶剤キャスティング法により製膜され、ガラス転移温度が 2 1 5て、リターデーションが 1 0 n mである 7 5 m厚の A 4版サイズの透明ボリァリレートフイルム（エルメック F— 1 1 0 0 ：鐘淵化学工業株式会社の登録商標）を用い、第 2層の材料として、溶剤キャスティング法により製膜され、ガラス転移温度が 1 5 0て、リターデーションが 1 3 である 1 20 zm厚の主縝にビスフエノール A—テレフタル酸からなる透明ポリカーボネートフィルムを用い、ボリカーボネートフイルムをボリァリレートフイルム 2枚で挟み、真空ラミネート接で〗 45"Cにて仮圧着した。その後ガラス扳で挟み 20 0 "Cに加熱 ·本圧着し、強固に融着した 270 厚の積餍シートを得た。得られた積層シートの TMA分析による軟化温度は 24 5てであり、ポリアリレート単独のフイルムとほぼ同程度の軟化温度を示した。一方、ボリカーボネートの軟化温度は 1 8 0でであった。また、作成した種層シートは 2 0 O'Cで 2 OKgZcm' で加圧しても、その形態を保持し、リターデーションは 20 nmと優れた耐熱性と光学的等方性を有していた。また、表面粗さは、平均で 0. 028 mであった。また、光線透通率は 90%、ヘイズ（h a z e) 値は 0. 3%であった。

実施例 2

1 , 1一ビス一（ 4ーヒドロキシフエニル）一 3. 3, 5—トリメチルシクロへキサンとビスフノール Aをフエノール成分として含有する耐熱ポリカーボネート（ガラス転移温度： 206。C、 Ap e c HT KU I - 9 37 1 ：バイエル株式会社の登録商標）を用い、溶剤キャスティング法により、リターデーションが 8 nmである 75 im厚のボリカーボネートフイルムを得た。該フィルムを第 1層として用いた他は、実施例 1 と同様にして、強固に融着した 270 ;uniの積層シートを得た。得られた ¾層シ一トの TMA分析による軟化温度は 23 0てであり、第 1暦のボリカーボネート単独のフィルムとほぼ同程度の軟化温度を示した。作成した擯層シートは 1 90。Cで 2 OKgZcm* で加圧しても、その形態を保持し、リタ一デーシヨンは 1 9 nmと、 ffiれた酎熱性と光学的等方性を有していた。また、光線透過率は 8 9 ¾、ヘイズ（h a z e) 値は 0. 4 ¾であった。

実施例 3

第 2層の材料として溶融押出法により成形された、 1 5 0 nmのリタ —デーションを有する 4 00 / m厚のボリカーボネートフィルム（ガラス転移温度： 1 50て）を用いた他は、実施例 1と同様にボリァリレ一トフイルム 2枚との加熱融着を行い、 5 30 m厚の積層シートを得た。得られた積層シートの軟化温度は 24 5てで、 200 'C、 20 Kg/cm ² で加圧した後のリタ一デーシヨンは 1 9 nmであった。また、光棣透過率は 9096、ヘイズ（h a z e) 値は 0. 3 ¾であった。

実施例 4

溶剤キャスティング法により製膜された厚さ 75 / mのボリァリレ一トフイルムを自由端 1軸延伸により縱 1軸延伸を行い、ガラス耘移温度が 2 1 5て、リタ一デーンヨンが 380 nmの位相差フィルムを得た。この位相差フィルムと朱延伸の厚さ 75 juniのポリアリレ一トフイルム (ガラス転移温度： 2 1 5で〉を第 1層の材料として用い、第 2層の材料として、溶¾押出法により成形された、ガラス転移温度が 1 5 0でで、 20 nmのリターデーションを有する 20 0 jum厚のボリカーボネートフィルムを用い、実施例 1 と同様に加熱融着を行い、位相差フィルムが —体となった 34 0 tm厚の積層シートを得た。

得られた積層シートは 372 nmのリターデーンョンを有していた。また、面内のリターデーンョン分布は 7 nmと良好な均一性を有していた。また、光榇透過率は 88%. ヘイズ（h a z e) 値は 0· 9 ¾であつ

実施例 5

実施例 2で用いた酎熱ボリカーボネートからなるフィルムを自由端 1 軸延伸により縱 1軸延伸を行いリタ一デーンヨンが 4 1 O n mを有する 7 5 /z m厚の位相差フィルムを得た。この位相差フィルムと未延伸の厚さ 7 5 /z mを有する酎熱ボリカーボネートフィル厶を第 1層の材料として用い、第 2層の材料として、実施例 4で用いた、溶融押出法により成形された、ガラス転移温度が 1 5 0でで、 2 0 n mのリタ一デーン 3ンを有する 2 0 0 m厚のポリカーボネートフィルムを用い、実施例 1 と同様に加熱融着を行い、位相差フィルムが一体となった 3 4 Ο ΠΙ厚の積層シートを得た。

得られた積層シ一トは 3 9 2 n mのリターデーションを有していた。また、面内のリタ一デーンヨン分布は 1 2 n mと良好な均一性を有していた。また、光線透過率は 8 9 %、ヘイズ（ h a z e ) 値は 0 . 8 %であた ₀

実施例 6

一方の表面に S i O xからなるガスバリヤ一層、 I T Oからなる透明導 ¾層を順次設けた厚さ 7 5 Ai m、表面抵抗 6 0 Ω/C]のポリアリレートフイルム（ガラス転移温度： 2 1 5で）、及び実施例 1に記載のボリァリレートフィルムを第 1層の材料として用い、第 2層の材料として、実施例 4で用いた、溶融押出法により成形された 2 0 n mのリタ一デ一シヨンを有する 2 0 0 /z m厚のボリカーボネ一トフイルム（転移温度： 1 5 0 "C) を用い、ボリカーボネートフィルムを上記 2種類のポリアリレートフィルムで挟み、実施例 1 と同様に加熱融着を行い、表面に透明導電層を有するプラスチック積層シートを得た。

得られた接層シートは、厚みが 3 5 0 Ai m. 表面抵抗が 4 のものであった。

実施例 7

実施例 4に記載のボリアリレート位相差フィルム、及び実施例 6に記載の透明導 ¾ボリアリレートフィル厶をそれぞれ第 1雇の材料として用い、第 2暦の材料として、実施例 4で用いた、狯融押出法により成形された 2 0 n mのリタ一デーシヨンを有する 2 0 0； z m厚のボリカーボネ一トフイルム（ガラス転移温度： 1 5 0で）を用い、実施例 1 と同様に加熱融着を行い、表面に透明導 ¾層を有し、しかも位相差を有するブラスチック積層シートを得た。

得られた積餍シートは、厚みが 3 4 7 i/ mであり、 3 6 9 n mのリターデーションと 4 5 ΩΖΙΙΙの表面抵抗を有していた。

実施例 8

実施例 1で得られたブラスチック接層シ一トを用い、真空スバッタリング法にて、 S i O x層 5 0 0 1丁0層 1 0 0 0 Aを順次形成させ、バリヤ一層と透明導罨層を有する耐熱透明基板を作成した。

得られた耐熱透明基板は、表面抵抗が 5 2 Ω/Ε1、酸素透過性が 0 . 7 c c /m ² / d a y以下であった。

実施例 9

溶剤キャスティング法により製膜され、ガラス転移温度が 2 1 5て、リ夕ーデーションが I 0 n mである 5 8 m厚のボリァリレート透明フィル厶（エルメック F— 1 1 0 0 ：鏟淵化学工業株式会社の登録商標）を 1軸延伸して 3 8 0 ± 3 n mのリタ一デーシヨンを有する位相差フィルムを得た。この位相差フィルムを第 1暦とし、第 2層の材料として、溶融押出法により形成され、ガラス転移温度が 1 5 0で、リターデーションが 3 0 n mである 4 0 0 /z m厚のボリカーボネートフィルムを用い、該ポリカーボネートフィルムを、上記ポリアリレート位相差フィルム 2枚の間にそれらの光軸が互いに 7 0。を示すように配置しながら挟み、加熱融着を行い、強固に融着した 5 5 0 / m厚で 3 0 0 mm X 4 0 0 mmの積雇シートを得た。得られた積層シートは、 2枚の第 1層かそれぞれ 38 8 ± 5 nm及び 3 9 0 ± 4 nmのリターデ一ションを有していた。また、光棣透過率は 8 9 %、ヘイズ（h a z e) 値は 1. 5%であった。

実施例 1 0

実施例 9で用いたポリアリレート透明フィルムを 1軸延伸して 20 0 土 3 nmのリタ一デーシヨンを有する位相差フイルムを得た。この位相差フィルムを第 1層とし、第 2層の材料として、実施例 9で用いたボリカーボネー卜フィルムを用レ、、該ボリカーボネートフイルムを、ポリアリレート位相差フィルム 2枚の間にそれらの光軸が互いに並行になるように配置しながら挟み、加熱融着を行い、強固に融着した 5 5 0；/m厚で 3 0 Ommx 4 0 Ommの積層シートを得た。

得られた積層シ一トは、 3 88 ± 5 nmのリタ一デーションを有していた。また面内のリタ一デーンヨン分布は、 1 cmあたり 3 nm以下と良好な値を示した。また光棣透過率は 889<、ヘイズ（h a z e) 値は 1.

29b めった o

実施例 1 1

第 2層の材料として、溶融押出法により成形されたガラス転移温度が 1 5 0T；、 1 30 nmのリタ一デーションを有する 4 00 m厚のボリ力一ボネートフィルムを用い、実施例 9と同様にして、実施例 9に記載のボリァリレートフィルム 2枚との加熱融着を行い、 55 厚の積層シートを得た。

得られた痏層シ一トを構成する 2枚の第 1層のリタ一デーンョンは、それぞれ 3 90 ± 4 nm及び 385 ± 3 nmであり、第 2層の初期リタ一デーシヨンは、得られた積層シートのリタ一デーシヨンには大きな影響を与えず、実施例 9と同様の光学的性能を有していた。また光锒透過率は 8 9 ¾、ヘイズ（h a z e) 値は 1 · 5 ¾であった。実施例 1 2

溶剤キャスティング法により製膜され、ガラス転位温度が 2 1 5て、リ夕一デーシヨンが 4 2 0 nmである 55 m厚のボリァリレート位相差フィルムを第 1雇として、実施例 9で用いたボリカーボネートフィルムを第 2履として用いた。 2 «の第 1層の光軸を相対的に 4 5° の方向に交差させて第 2層を挟み、加熱 ¾着し 5 30 m厚の積雇シートを得た。植層後の 2枚の第 1層リタ一デ一シヨンは、それぞれ 4 0 3 nm及び 4 0 9 n mであった。また光棣透過率は 8 8 %、ヘイズ（ h a z e ) 值は 1. 6 ¾であった。

実施例 1 3

1 , 1一ビス一（ 4ーヒドロキシフエニル）一 3, 3, 5—トリメチルシクロへキサンとビスフエノール Aをフヱノール成分として含有する耐熱ボリカーボネート（ガラス転移温度： 20 6 *C, Ap e c HT KU I - 9 3 7 1 ：バイエル株式会社の登録商擦）を用い、溶剤キャスティング法により、リ夕一デーシヨンが 8 nmである A 4版サイズの 7 5 im厚の耐熱ボリカーボネートフィルムを得た。さらに、このフィル厶を自由端 1軸延伸により縱 1軸延伸を行いリタ一デーシヨンが 4 1 0 nmを有する位相差フィルムを得た。

この位相差フィルムを第 1層として用い、第 2層の材料として、溶敏押出法により成形された 20 nmのリタ一デーシヨンを有する 200〃 m厚のポリカーボネートフィルムを用い、実施例 9と同様にして加熱 ¾ 着を行い、位相差フィルムが一体となった 34 0； m厚の積層シ一トを得た。積層後の 2枚の第 1層のリタ一デーンヨンは、それぞれ 3 9 2 n m及び 3 9 0 nmであった。また、面内のリターデーシヨン分布は 1 2 nmと良好な均一性を有していた。また光線透過率は 8 8 ¾、ヘイズ (h a z e) 値は 1. 5 %であった。実施例 1 4

実施例 9で用いた 1軸延伸したボリアリレート位相差フィル厶を用い， —方の表面スパッタリング法により S i 0 , からなる厚さ 5 0 O Aのガスバリヤ一層を存在させた。第 2暦の材料として、実施例 1 3で用いたボリカーボネートフイルムを用い、ボリカーボネートフイルムを 2枚のボリァリレ一トフイルムのガスバリヤー層が存在しない面に重ねて挟み, 実施例 9と同様に加熱融着を行い、表面にバリヤ一層を有する複屈折性のプラスチック積層シ一トを得た。このシートは、厚みが 3 5 0 mであり、酸素透過性が 0 . 7 c c Zni² Z d a y以下であり、また、バリヤー雇の存在する表面は良好な酎薬品性を示した。

実施例 1 5

実施例 9で得られた積層シートを用い、上下 2枚の第 1層のうちの一つの層の表面に真空スパッタリング法にて、 5 1 0 , 層を5 0 0 、 I T O層 1 5 0 0 Aを順次形成させ、バリヤ一層と透明導電層を有する酎熱透明基板を作成した。この積層シートは、表面抵抗が 3 0 酸素透過性が 0 . 8 c c /m ² / d a y以下であった。積層シートのリタ一デーシヨンはスパッタリングの前後で変化はなく、良好な光学的性能を有する位相差を有する透明導電稜層シ一トを得た。産業上の利用可能性

叙上のとおり、本発明により耐衝擎性、剛性を備えるとともに、光学的特性に便れた耐熱性透明ブラスチック積層シートが提供される。本発明のブラスチック積層シートは、光エレクトロニクス分野、特に、液晶表示装置分野でのガラスに代わる光学基板として有用である。

Claims

請求の範囲

1 . 光学的に透明なボリマーからなる第 1層と、該層よりガラス転移温度の低い光学的に透明な第二の材料からなる第 2層とを積層してなる、耐熱性と透明性に優れた光字プラスチック積層シート。

2 . 第 i履を第 2雇の両面に配置してなる請求項 1記載の光学ブラスチック積層シート。

3 . リターデーシヨンが 5 0 n m以下である請求項 1又は 2記載の光学ブラスチック植雇シート。

4 . リタ一デーンヨンが 1 0 0 n m以上である請求項 1又は 2記載の光学ブラスチック淒層シート。

5 . 第 1層と第 2層が直接積曆されてなる請求項 1〜 4記載の光学ブラスチック犢層シート。

6 . 第 1層が、主鎖に芳香族を有する光学的に透明なポリアリレートまたはボリカーボネートからなる請求項 1〜 5記載の光学ブラスチック積躧シート。

7 . 第 2雇がボリカーボネートからなる請求項 1〜6記載の光学ブラスチック癀層シ一ト。

8 . 第 1層の表面に透明導層を有する請求項 1〜 7記載の光学ブラスチック積雇シート。

9 . 第 1雇を構成する光学的に透明なボリマーからなるフィルムと、第 2層を構成する、前記第 1層よりガラス転移温度の低い光学的に透明なフィルムを積層することを特徴とする、耐熱性と透明性に便れた光学プラスチック撩雇シートの製造方法。

1 0 . 第 1暦を構成するフィルムと第 2層を構成するフィルムを直接加熱植層する請求項 9記载の製造方法。

1 1 . 積暦する第 1暦フィルムが、溶剤キャスティング法により得られたフィルムである請求項 9又は 1 0記載の製造方法。

1 2 . 請求項 1〜8記載の光学ブラスチック積層シートを用いた光ェレクトロニクス素子用耐熱性透明基板。