WO1994007806A1 - Substrat en verre, obtenu par desalcalinisation, utilise dans le domaine electronique - Google Patents

Substrat en verre, obtenu par desalcalinisation, utilise dans le domaine electronique Download PDF

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WO1994007806A1
WO1994007806A1 PCT/FR1993/000949 FR9300949W WO9407806A1 WO 1994007806 A1 WO1994007806 A1 WO 1994007806A1 FR 9300949 W FR9300949 W FR 9300949W WO 9407806 A1 WO9407806 A1 WO 9407806A1
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WO
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glass
alkaline
glass sheet
substrate
sodium
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Application number
PCT/FR1993/000949
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Inventor
Didier Jousse
Pablo Vilato
Catherine Geoffroy
Jean-Claude Peraud
Original Assignee
Saint-Gobain Vitrage International
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Publication date
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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments

Definitions

  • the invention relates to glass substrates used in the field of electronics and in particular substrates used for the production of flat screens.
  • these screens can be display screens (television screens, computer screens, etc.), image sensor screens (cameras, photographic devices, etc.) or solar cells.
  • the alkali oxides play an important role in the properties of the batch. They make it possible, in particular, to lower the viscosity at a given temperature and to improve the melting of the mixture. Other constituents are known to have similar properties.
  • the batch ob- - 0 run with these components poses many difficulties in implementation; they are generally more expensive than alkaline oxides and are introduced in a non-negligible amount in order to obtain satisfactory properties.
  • the batch, ** thus obtained has a relatively higher overall cost than a batch containing alkaline oxides.
  • This deposition can be carried out by pyrolysis, CVD, vacuum deposition, etc.
  • An object of the invention is to provide a glass substrate which is not capable of contaminating a layer deposited on said substrate, in particular by migration of alkaline ions
  • the invention relates to a glass sheet of the soda-lime type, the content of sodium element released after a stay of 24 h in deionized water at 96 ° C is less than or equal to 0.009 ⁇ g / cm 2 .
  • the glass sheet 25 according to the invention comprises at least one surface zone almost free of alkaline and alkaline-earth ions.
  • the invention also relates to a glass substrate of the soda-lime type intended for the electronic field and of which at least one of the faces carrying functional layers is almost free of alkaline and alkaline earth ions.
  • the invention also relates to flat screens comprising in particular such a substrate and a method for the production of this substrate.
  • the glasses of the soda-lime contain clin ⁇ Type ment a content of alkali metal oxides and alkaline earth between 23 and 30%, in particular an alkali metal oxide content and in particular an oxide of sodium understood Q between 11 and 15%, these contents being expressed in percentages by weight.
  • the substrate according to the invention can be used successfully for the production of products requiring the best performance, such as high definition screens or active matrix screens of the a-Si TFT-LCD type ( amorphous silicon Thin Film Transistor Liquid Crystal Display).
  • this type of screen consists of glass substrates carrying several superimposed layers, in particular a layer composed of a thin network of transistors. We will see in the following description this type of screens in more detail.
  • both the alkaline oxides and the alkaline earth oxides are detrimental to the properties of the supported layers.
  • the most mobile ions are mentioned, namely the alkalines and especially sodium; a limitation of the release of sodium from a support almost de ⁇ provided with alkaline and alkaline earth oxides resulting a fortiori a limitation of the release of other alkali and alkaline earth ions.
  • the release of sodium ions is typically measured by the content of sodium element released after a 24 hour stay of a glass sheet in deionized water at 96 ° C.
  • the glass sheet according to the invention releases, under these conditions at most 0.009 ⁇ g of sodium per cm 2 of deionized surface. This measurement is identical when the glass sheet has previously undergone an annealing simulating the conditions for depositing the functional layers, despite the increased mobility of sodium at high temperature.
  • the substrates used in the field of electronics, and in particular for producing flat screens undergo different thermal cycles.
  • the conductive or semi-conductive layers are deposited hot.
  • the necessary temperature of the support for depositing these layers is of the order of 400 ° C. . It is therefore necessary to limit any possible liberation of sodium, even when the sheet is subjected to such temperatures.
  • the low release of sodium, whether or not the glass sheet has undergone a thermal cycle is obtained, according to the invention, by the presence of a qua ⁇ siment surface zone devoid of alkaline and alkaline-earth oxides, opposing effectively to the migration of alkali and alkaline earth ions and, in particular, to the migration of sodium ions.
  • the glass sheet has a surface area the content of sodium element of which is less than 500 pp and can even reach a content of less than 50 ppm over a depth of at least 0.02 ⁇ m.
  • this depth may prove to be sufficient to prevent the migration of ions in the supported layers, provided that this deionized zone is well uniform.
  • the glass sheets according to the invention have a surface zone within which the content of sodium element is less than or equal to 500 ppm over a depth of at least 0.05 ⁇ m and preferably a content as a sodium element less than 50 ppm over at least 0.05 ⁇ m and may even reach 0.1 ⁇ m.
  • the glass object is subjected to a solution or an atmosphere reacting with the alkaline ions of the glass. To facilitate the reaction, the operation takes place at a temperature higher than room temperature.
  • This type of treatment usually requires a contact time incompatible with the continuous treatment of glass sheets. For this reason, this type of processing is used essentially in the case of batches of objects, for example bottles.
  • Another known technique is deionization under the effect of an electric field applied between two electrodes.
  • the application of the field mobilizes the most easily displaceable ions, in particular the alkalis, towards the cathode.
  • Solid or gas electrodes can be used.
  • the inventors have optimized the surface deionization process in order to obtain a substrate capable of being used for the production of flat screens in the electronic field.
  • the deionized glasses according to the invention, and intended for making screens are such as brought into contact with deionized water at 96 ° C. for 24 h, the salting out of sodium ions remains lower or equal to 0.009 ⁇ g / cm 2 .
  • the method used according to the invention consists in passing a heated glass ribbon between two electrodes, subjected to a voltage, in the presence of a plasma gas, thus creating a crown discharge regulated in voltage.
  • the glass temperature is above 500 ° C.
  • the voltage applied between the electrodes is advantageously according to the invention between 300 and 800 V.
  • the speed of movement of the glass is greater than 0.5 m / min.
  • FIG. 1 represents the contents of sodium oxide within the deionized zone in accordance with the invention compared to a so-called alkali-free glass
  • FIG. 2 represents the contents of calcium oxide within the deionized zone in accordance with the invention, compared with a so-called alkali-free glass,
  • Figure 3 shows a simplified diagram in perspective of a liquid crystal screen obtained according to the invention
  • Figure 4 represents a simplified diagram in longitudinal section of a transistor controlling the behavior of liquid crystals used for the realization of an active matrix screen.
  • This test consists in allowing a glass sheet to remain in deionized water at 96 ° C. for 24 hours, the residual sodium content of which is below the resolution limit of the measurement (0.0075 ⁇ g / cm 2 ). At the end of this stay in water, the latter is analyzed. The content of sodium element released by the glass sheet is thus obtained under these conditions simulating accelerated aging.
  • the different substrates tested are: two substrates a and b of the soda-lime type having undergone a crown discharge in accordance with the invention. Their initial chemical composition is as follows, the contents being expressed as a percentage by weight:
  • Impurities 0.86% The electrodes are placed on either side of the glass sheet.
  • the crown discharge is regulated in tension.
  • the operating conditions are as follows:
  • the dimensions of the treated sheets are of the order of 30 x 20 cm.
  • composition of this glass comprises the following different constituents, the contents of which are expressed in percent by weight:
  • a substrate 1 coated with a layer of silica with a thickness of 0.045 ⁇ m marketed by GLASTRON under the trade name” H coat "; • a substrate 2 coated with a layer of silica with a thickness of 0.125 ⁇ m deposited by the technique called CVD (Chemical Vapor Deposition), marketed by NSG (Nippon Sheet Glass);
  • substrate 1 0.010 "substrate 2 0.025
  • the resolution limit of the measurement is 0.0075 ⁇ g / cm 2 , which explains why the substrate according to the invention releases a content of sodium element less than or equal to 0.0075 ⁇ g / cm 2 .
  • the substrates according to the invention are also, if not more, effective than the external layers deposited on the substrate with respect to their resistance to the migration of the sodium element. They are also better than so-called alkaline-free glasses.
  • the substrate according to the invention can be used both for the production of conventional flat screens and for the production of "high-end" screens, for example a high definition screen.
  • the same test is carried out on a glass sheet obtained by a corona discharge regulated in voltage but whose position of the electrodes is not that according to the invention: in this case, the electrodes are located at- above the moving sheet of glass, the anode being in the central position and - 10 - the cathodes in the lateral position.
  • the operating conditions are:
  • Two substrates identical to the substrate described in Example 1, undergo annealing after the deionization.
  • the other undergoes annealing simulating the conditions for the deposition of a functional layer of the ITO type for the production of flat liquid crystal screens. It then remains 20 min in an oven at 400 ° C under a pressure of 0.13 Pa.
  • the content of sodium element released by these various leaves is measured after a stay of 24 h in deionized water at 96 ° C. The results are as follows, the contents being expressed in ⁇ g / cm 2 .
  • the performance of the deionized surface zone relative to the migration of the sodium element was not affected by the annealing.
  • the substrate according to the invention can be used in the electronic field, in particular for producing flat screens.
  • This example illustrates the structure of the area deionized according to the invention.
  • This zone is obtained by analyzing the mass spectrum of the ions sprayed from the sample by ion bombardment (technique known as SIMS). The structures of the deionized zones of the substrates a and b, in accordance with those described in Example 1, are thus obtained.
  • Figure 1 illustrates these results.
  • the curves a and b correspond to the substrates a and b.
  • the surface areas of the sheets according to the invention have a sodium oxide content lower than that present in the glass known as alkaline free. The results are as follows:
  • the so-called alkaline-free glass has an oxide content sodium strictly between 500 and 1000 ppm.
  • the contents of sodium oxides according to the invention can even reach values as small as 5 or 3 ppm, respectively for the substrates a and b.
  • Sheet b has a deionized zone over a depth of 0.07 ⁇ m, the sodium oxide content being equal to the minimum value, ie 5 ppm, over the entire depth of this deionized zone, ie 0.07 ⁇ m.
  • the sheet has, on the contrary, has a deionized zone over a greater depth, the sodium oxide content not being identical over the entire deionized depth: the profile has a kind of point, the minimum value corresponding to a point.
  • the operating conditions can be adapted in order to obtain the structure of the desired deionized zone. It will be noted that a quantity of spent charges greater than 35 mC / cm 2 (substrate b) does not lower the content of sodium oxide within the deionized zone, but increases the depth of this zone. Furthermore, good deionization is obtained with respect to the alkaline earth oxides according to the invention.
  • FIG. 2 illustrates the results.
  • Curve O corresponds to a so-called alkaline-free glass, the composition of which is described in Example 1.
  • Curves a and b correspond to the sheets a and b described above, obtained in accordance with the invention.
  • the sheets according to the invention have a better deionization relative to the so-called alkaline-free glass.
  • the so-called alkaline-free glass, 0, has a calcium oxide content of between 500 and 300 ppm.
  • the glass sheet b obtained according to the invention has a deionized zone over a depth of 0.08 ⁇ m within which the content of calcium oxide is equal to 50 ppm.
  • the glass sheet obtained according to the invention has a deionized zone over a much greater depth, 0.15 ⁇ m, within which the calcium content is equal to 100 ppm: the profile presents a kind of landing.
  • FIG. 3 represents, in perspective, the structure of a conventional flat screen with liquid crystals. For a better understanding of the figure, the latter does not respect a scale.
  • Liquid crystals 1 are interposed between two glass substrates 2 and 3.
  • the surface area 4 of the glass substrate 2 and the surface area 5 of the substrate 3 are almost free of alkaline and alkaline earth ions according to the invention.
  • On these zones 4 and 5 are deposited, respectively, semiconductor layers 6 and 7 of the ITO type. This deposition is generally carried out by sputtering.
  • FIG. 4 shows, in longitudinal section, a transistor for controlling the behavior of liquid crystals used in the production of a flat screen with liquid crystals comprising an active matrix.
  • this type of transistor comprises a stack of layers capable of controlling the behavior of the liquid crystal for each picture element.
  • the glass substrate 1 comprises a surface zone 2 almost devoid of alkaline and alkaline-earth ions in accordance with the invention, on which several functional layers are successively deposited.
  • the layers 3, 4 and 5 constitute metal electrodes.
  • Layer 3 is, for example, based on chromium, layers 4 and 5 based on aluminum.
  • An insulating layer 6 based, for example, on silicon nitride electrically isolates layer 3 from electrodes 4 and 5.
  • Layer 7 is the so-called active layer, based on amorphous silicon, capable of controlling the behavior of liquid crystals.
  • Enter here layer 7 and the metal electrodes 4 and 5 is a layer 8 heavily doped with negative charges in order to control the proper functioning of the transistor.
  • This type of transistor makes it possible to improve the quality of the image on the said screen, for example, at high definition.
  • FIGS 3 and 4 illustrate possible applications of the substrate according to the invention.
  • the substrate according to the invention can be used for the production of other types of flat screens, for example of the electroluminescent type or of the MIM (Metal Insulating Metal) type, or for any other electronic application comprising functional layers capable of 'be deteriorated by alkali or alkaline earth oxides.

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Abstract

L'invention concerne une feuille de verre du type silico-sodo-calcique libérant peu d'éléments alcalins et alcalino-terreux. Selon l'invention, la feuille de verre libère une teneur en élément sodium inférieure ou égale à 0,009 νg/cm2 lorsque ladite feuille de verre a subi un séjour de 24 h dans une eau désionisée à 96 °C. Cette feuille de verre peut être utilisée notamment comme substrat dans le domaine électronique.

Description

SUBSTRAT EN VERRE, OBTENU PAR DESALCALINISATION,
UTILISE DANS LE DOMAINE ELECTRONIQUE
L'invention concerne des substrats en verre utilisés dans le domaine de l'électronique et notamment des sub¬ strats utilisés pour la réalisation d'écrans plats.
A titre indicatif, ces écrans peuvent être des écrans de visualisation (écrans de télévision, d'ordinateur...), des écrans capteurs d'images (caméras, appareils photogra- phiques...) ou des photopiles.
Ils sont traditionnellement constitués de substrats en verre sur lesquels sont déposées et gravées des couches superficielles fonctionnelles, notamment des couches con¬ ductrices et semi-conductrices. Ces couches sont particu¬ lièrement sensibles aux éléments alcalins et alcalino-terreux et notamment à l'élément sodium. A titre indicatif, une contamination par 0,05 μg/cm2 de sodium suffit à altérer leurs qualités.
Une des raisons principales d'une éventuelle contami¬ nation est la migration des ions alcalins et alcalino-terreux provenant du support. Pour éviter ce type de difficulté, il a été proposé d'utiliser des substrats en verre dont la composition est pratiquement dépourvue d'oxydes alcalins et alcalino-terreux. Ces compositions peuvent être telles que la somme des oxydes alcalins et alcalino-terreux, principalement l'oxyde de sodium, est inférieure à 1000 ppm.
On sait que les oxydes alcalins jouent un rôle im- portant sur les propriétés du mélange vitrifiable ; ils permettent, en particulier, d'abaisser la viscosité à une température donnée et d'améliorer la fusion du mélange. D'autres constituants sont connus pour posséder des pro¬ priétés similaires. Cependant, le mélange vitrifiable ob- -, 0 tenu avec ces constituants pose de multiples difficultés de mise en oeuvre ; ils sont en général plus coûteux que les oxydes alcalins et sont introduits en quantité non négli¬ geable afin d'obtenir des propriétés satisfaisantes.
Pour ces diverses raisons, le mélange vitrifiable ,** ainsi obtenu a un coût global relativement plus élevé qu'un mélange vitrifiable contenant des oxydes alcalins.
Une autre solution au problème de la contamination des couches par les oxydes alcalins et alcalino-terreux est de déposer une couche à base de silice ou d'alumine sur la
20 surface du substrat. Ce dépôt peut s'effectuer par pyrolyse, CVD, dépôt sous vide...
Cependant, il est nécessaire d'avoir une excellente préparation de la surface du verre sur laquelle va s'ef¬ fectuer le dépôt afin d'améliorer l'adhésion et la qualité
25 de la couche déposée. Cette préparation est longue et mi¬ nutieuse.
Un but de l'invention est de proposer un substrat en verre non susceptible de contaminer une couche déposée sur ledit substrat, notamment par migration des ions alcalins
30 et des ions alcalino-terreux provenant dudit substrat.
L'invention concerne une feuille de verre du type sodo-calcique dont la teneur en élément sodium libéré au bout d'un séjour de 24 h dans une eau désionisée à 96°C est inférieure ou égale à 0,009 μg/cm2. La feuille de verre 25 selon l'invention comporte au moins une zone superficielle quasiment dépourvue d'ions alcalins et alcalino-terreux.
L'invention concerne également un substrat en verre du type sodo-calcique destiné au domaine électronique et dont au moins l'une des faces portant des couches fonctionnelles est quasiment dépourvue d'ions alcalins et alcalino- terreux.
L'invention concerne également les écrans plats com¬ prenant notamment un tel substrat et un procédé pour la 5 production de ce substrat.
Les verres du type sodo-calcique contiennent typique¬ ment une teneur en oxydes alcalins et alcalino-terreux comprise entre 23 et 30 %, en particulier une teneur en oxydes alcalins et notamment en oxyde de sodium comprise Q entre 11 et 15 %, ces teneurs étant exprimées en pourcen¬ tage pondéral.
Pour la constitution des écrans haut de gamme, tels que les écrans à haute définition, les électroniciens pré¬ fèrent des verres dont la composition est pratiquement dé- pourvue d'oxydes alcalins, malgré les difficultés liées à la mise en oeuvre de ces verres.
Pour la réalisation d'écrans d'usage plus courant, l'utilisation d'un verre dont la composition est pratique¬ ment dépourvue d'ions alcalins est trop coûteuse. Les o électroniciens utilisent alors un verre contenant une forte teneur en alcalins, mais ils intercalent entre les couches fonctionnelles et ce verre une couche barrière, du type silice ou alumine, afin d'éviter tout contact entre le verre et la couche supportée. 5 Les inventeurs ont montré que ces couches barrières présentent souvent des défauts, en particulier des "trous", qui laissent passer les ions indésirables. Ces trous sont dus à la difficulté d'atteindre une parfaite continuité de la couche par les techniques usuelles de dépôt. 0 Les inventeurs ont montré qu'il est possible de pro¬ téger les couches fonctionnelles en utilisant un substrat en verre sodo-calcique dont la face supportant ces couches fonctionnelles est préalablement traitée de manière à qua¬ siment en éliminer les ions alcalins et alcalino-terreux. 5 Cette façon de faire minimise le risque d'apparition de défauts.
L'utilisation d'un substrat désionisé superficielle¬ ment permet, par ailleurs, de minimiser les problèmes liés aux différences de coefficient de dilatation thermique - 4 - entre le substrat et la couche barrière.
Entre le verre et les couches barrières en silice, existe une différence sensible de coefficient de dilata¬ tion. Lors d'un quelconque cycle thermique, notamment au cours du processus de réalisation de l'écran, cette diffé¬ rence de coefficient de dilatation thermique peut être la cause d'une délamination localisée, génératrice de défauts.
L'utilisation d'un substrat désionisé permet d'éviter ce risque de délamination.
Les inventeurs ont montré que le substrat selon l'in¬ vention pouvait être utilisé avec succès pour la réalisa¬ tion des produits exigeant les meilleures performances comme les écrans à haute définition ou les écrans à matrice active du type a-Si TFT-LCD (amorphous silicon Thin Film Transistor Liquid Crystal Display) .
A titre indicatif, ce type d'écrans est constitué de substrats en verre portant plusieurs couches superposées, en particulier une couche composée d'un fin réseau de transistors. Nous verrons dans la suite de la description ce type d'écrans de façon plus détaillée.
Il est bien entendu qu'à la fois les oxydes alcalins et les oxydes alcalino-terreux sont néfastes aux propriétés des couches supportées. Dans la suite de la description, il est question des ions les plus mobiles, à savoir les alca- lins et particulièrement le sodium ; une limitation de la libération du sodium provenant d'un support quasiment dé¬ pourvu d'oxydes alcalins et alcalino-terreux entraînant a fortiori une limitation de la libération des autres ions alcalins et alcalino-terreux. La libération des ions sodium est mesurée typiquement par la teneur en élément sodium libéré au bout d'un séjour d'une durée de 24 h d'une feuille de verre dans une eau désionisée à 96°C.
La feuille de verre selon l'invention libère, dans ces conditions au plus 0,009 μg de sodium par cm2 de surface désionisée. Cette mesure est identique lorsque la feuille de verre a subi préalablement un recuit simulant les con¬ ditions de dépôt des couches fonctionnelles, malgré la mo¬ bilité accrue du sodium à température élevée. Comme nous l'avons vu précédemment, les substrats utilisés dans le domaine de l'électronique, et notamment pour réaliser des écrans plats, subissent différents cycles thermiques. En particulier, le dépôt des couches conduc- trices ou semi-conductrices s'effectue à chaud. Pour la réalisation d'écrans à cristaux liquides comportant, par exemple, des couches conductrices ITO (oxyde d'indium dopé à l'étain), la température nécessaire du support pour dé¬ poser ces couches est de l'ordre de 400°C. II est donc nécessaire de limiter une éventuelle li¬ bération du sodium, même lorsque la feuille est soumise à de telles températures.
La faible libération du sodium, que la feuille de verre ait ou non subi un cycle thermique est obtenue, selon l'invention, par la présence d'une zone superficielle qua¬ siment dépourvue d'oxydes alcalins et alcalino-terreux, s'opposant efficacement à la migration des ions alcalins et alcalino-terreux et, notamment, à la migration des ions sodium. Selon l'invention, la feuille en verre présente une zone superficielle dont la teneur en élément sodium est inférieure à 500 pp et peut même atteindre une teneur in¬ férieure à 50 ppm sur une profondeur d'au moins 0,02 μm.
Dans les utilisations projetées, notamment comme écran plat dans le domaine électronique, cette profondeur peut s'avérer suffisante pour prévenir la migration des ions dans les couches supportées, sous réserve que cette zone désionisée soit bien uniforme.
Avantageusement, les feuilles en verre selon l'inven- tion présentent une zone superficielle au sein de laquelle la teneur en élément sodium est inférieure ou égale à 500 ppm sur une profondeur d'au moins 0,05 μm et de pré¬ férence une teneur en élément sodium inférieure à 50 ppm sur au moins 0,05 μm et pouvant même atteindre 0,1 μm. II est connu que pour désioniser superficiellement des verres, il est possible d'opérer par voie chimique. L'objet en verre est soumis à une solution ou une atmosphère ré¬ agissant avec les ions alcalins du verre. Pour faciliter la réaction, l'opération se déroule à une température supérieure à la température ambiante. Ce type de traitement nécessite, ordinairement, un temps de contact incompatible avec le traitement continu de feuilles de verre. Pour cette raison, ce type de traitement est utilisé essentiellement dans le cas de lots d'objets, par exemple des flacons.
Une autre technique connue est la désionisation sous l'effet d'un champ électrique appliqué entre deux élec¬ trodes. L'application du champ mobilise les ions les plus facilement déplaçables, en particulier les alcalins, vers la cathode. Des électrodes solides ou gazeuses peuvent être utilisées.
L'application du champ par des électrodes solides ne permet pas, ordinairement, d'obtenir un traitement suffi¬ samment homogène. Ceci provient de la difficulté qu'il y a à établir un bon contact sur toute la surface du verre traité.
Pour obtenir un traitement homogène, il a été envisagé d'appliquer au verre un champ électrique entre deux élec¬ trodes distantes de la surface du verre afin d'engendrer ne décharge couronne ou plasma.
Il est connu plusieurs techniques de désionisation par décharge couronne dont les conditions opératoires varient sensiblement. Ces différences concernent, par exemple, le mode de régulation, la mobilité de la plaque de verre, la position des électrodes...
Les inventeurs ont optimisé le procédé de désionisa¬ tion superficielle afin d'obtenir un substrat susceptible d'être utilisé pour la réalisation d'écrans plats dans le domaine électronique. En particulier, les verres désionisés selon l'invention, et destinés à la confection d'écrans, sont tels que mis en contact avec de l'eau désionisée à 96°C pendant 24 h, le relargage d'ions sodium reste infé¬ rieur ou égal à 0,009 μg/cm2.
Avantageusement, le procédé utilisé selon l'invention consiste à faire défiler un ruban de verre chauffé entre deux électrodes, soumises à une tension, en présence d'un gaz plasmagène, créant ainsi une décharge couronne régulée en tension.
La température du verre est supérieure à 500°C. La tension appliquée entre les électrodes est avantageusement comprise selon l'invention entre 300 et 800 V. La vitesse de défilement du verre est supérieure à 0,5 m/min.
Les exemples suivants, non limitatifs, illustrent l'invention dans lesquels :
« la figure 1 représente les teneurs en oxyde de so¬ dium au sein de la zone désionisée conformément à l'inven¬ tion comparativement à un verre dit sans alcalin,
• la figure 2 représente les teneurs en oxyde de cal- cium au sein de la zone désionisée conformément à l'inven¬ tion comparativement à un verre dit sans alcalin,
• la figure 3 représente un schéma simplifié en pers¬ pective d'un écran à cristaux liquides obtenu selon l'in¬ vention, « la figure 4 représente un schéma simplifié en coupe longitudinale d'un transistor de commande du comportement des cristaux liquides utilisé pour la réalisation d'un écran à matrice active.
EXEMPLE 1
Afin de comparer la résistance de différents substrats à la migration de l'oxyde de sodium, un test dit "de re¬ largage" est effectué sur différents substrats utilisés couramment dans le domaine de l'électronique.
Ce test consiste à laisser séjourner 24 h une feuille de verre dans de l'eau désionisée à 96°C dont la teneur résiduelle en sodium est inférieure à la limite de résolu¬ tion de la mesure (0,0075 μg/cm2). A l'issue de ce séjour dans l'eau, cette dernière est analysée. On obtient ainsi la teneur en élément sodium libérée par la feuille de verre dans ces conditions simulant un vieillissement accéléré. Les différents substrats testés sont : deux substrats a et b du type sodo-calcique ayant subi une décharge couronne conformément à l'invention. Leur composition chimique initiale est la suivante, les teneurs étant exprimées en pourcentage pondéral :
Si02 71,9 %
Na20 13,8 %
CaO 8,8 %
MgO 3,7 %
Figure imgf000010_0001
Impuretés 0,86 % Les électrodes sont placées de part et d'autre de la feuille de verre. La décharge couronne est régulée en ten¬ sion. Les conditions opératoires sont les suivantes :
• feuille de verre a :
- température du verre : 580°C
- longueur de l'électrode : 30 cm
- nature du gaz : hélium
- vitesse de défilement : 1 m/min
- nombre de passages : 4
- tension entre les électrodes : 380-570 V - tension moyenne entre les électrodes : 490 V
- quantité de charges passées : 70 mC/cm2 ~ feuille de verre b :
- température du verre : 490°C
- longueur de l'électrode : 22,5 cm ~ nature du gaz : hélium
- vitesse de défilement : 2 m/min
- nombre de passages : 2
- tension entre les électrodes : 381-414 V
- tension moyenne entre les électrodes : 398 V - quantité de charges passées : 35 mC/cm2
Les dimensions des feuilles traitées sont de l'ordre de 30 x 20 cm.
• un substrat constitué d'un verre dit sans alcalin, utilisé pour la réalisation d'écran plat "haut de gamme". La composition de ce verre comprend les différents consti¬ tuants suivants dont les teneurs sont exprimées en pour¬ centage pondéral :
Figure imgf000010_0002
Impuretés 0 , 03 %
" un substrat 1 revêtu d'une couche de silice d'une épaisseur de 0,045 μm commercialisée par GLASTRON sous la dénomination commerciale "H coat" ; • un substrat 2 revêtu d'une couche de silice d'une épaisseur de 0,125 μm déposée par la technique dite de CVD (Chemical Vapor Déposition), commercialisée par NSG (Nippon Sheet Glass) ;
• un substrat 3 revêtu d'une couche de nitrure de silicium d'une épaisseur de 0,11 μm déposée par pulvérisa¬ tion cathodique.
Les résultats sont regroupés ci-après :
Teneur en élément sodium libérée (μg/cm2)
• substrat a 0,009
• substrat b < 0,0075
- verre dit sans alcalin 0,015
• substrat 1 0,010 " substrat 2 0,025
- substrat 3 0,015 La limite de résolution de la mesure est 0,0075 μg/cm2 ce qui explique que le substrat selon l'invention libère une teneur en élément sodium inférieure ou égale à 0,0075 μg/cm2.
Les substrats selon l'invention sont aussi, sinon plus, efficaces que les couches externes déposées sur le substrat relativement à leur résistance à la migration de l'élément sodium. Ils sont également meilleurs que les verres dits sans alcalins.
Le substrat selon l'invention peut être utilisé aussi bien pour la réalisation d'écrans plats classiques que pour la réalisation d'écrans "haut de gamme", par exemple un écran à haute définition.
A titre de comparaison, le même test est effectué sur une feuille de verre obtenue par une décharge couronne régulée en tension mais dont la position des électrodes n'est pas celle conformément à l'invention : dans ce cas, les électrodes sont situées au-dessus de la feuille de verre en défilement, l'anode étant en position centrale et - 10 - les cathodes en position latérale. Les conditions opéra¬ toires sont :
• longueur de l'électrode : 18 cm
- température du verre : 600°C
• vitesse de défilement : 2 /min
• tension entre les électrodes : 2337-2340 V
- tension moyenne entre les électrodes : 2338 V
• nombre de charges passées : 73 mC/cm2 En dépit de la forte quantité d'électricité passée, la teneur mesurée en élément sodium est de 0,02 μg/cm2, teneur inférieure à celle mesurée conformément à l'invention.
EXEMPLE 2
Deux substrats, identiques au substrat a décrit dans l'exemple 1, subissent un recuit après la désionisation.
L'un subit un recuit simulant les conditions du dépôt d'une couche fonctionnelle pour la réalisation de certains types d'écrans plats. Il séjourne 12 h dans une étuve à 500°C sous une pression de 67 Pa.
L'autre subit un recuit simulant les conditions du dépôt d'une couche fonctionnelle du type ITO pour la réa¬ lisation d'écrans plats à cristaux liquides. Il séjourne alors 20 min dans une étuve à 400°C sous une pression de 0,13 Pa.
On mesure la teneur en élément sodium libéré par ces différentes feuilles après un séjour de 24 h dans une eau désionisée à 96°C. Les résultats sont les suivants, les teneurs étant exprimées en μg/cm2.
A titre comparatif, la teneur libérée en élément so¬ dium d'un verre dit sans alcalin dont la composition chi- mique est donnée à l'exemple 1 est mesurée.
Recuit : 12 h à 500°C : 20 min à 400°C
Substrat
Verre dit sans alcalin > 0,02 > 0,02
Substrat b < 0,0075 < 0,0075
On rappelle (cf. exemple 1) que la valeur obtenue lors - 11 - de ce test lorsque le substrat b n'a pas subi de recuit est également inférieure ou égale à 0,0075 μg/cm2.
La performance de la zone superficielle désionisée relativement à la migration de l'élément sodium n'a pas été affectée par le recuit.
Le substrat selon l'invention peut être utilisé dans le domaine électronique, notamment pour la réalisation d'écrans plats.
EXEMPLE 3
Cet exemple illustre la structure de la zone désio¬ nisée selon l'invention.
La structure de cette zone est obtenue par l'analyse du spectre de masse des ions pulvérisés de l'échantillon par bombardement ionique (technique désignée sous le nom de SIMS). Les structures des zones désionisées des substrats a et b, conformes à ceux décrits dans l'exemple 1, sont ainsi obtenues.
La figure 1 illustre ces résultats. Les courbes a et b correspondent aux substrats a et b.
A titre comparatif, la même analyse est effectuée sur un verre dit sans alcalin dont la composition chimique est identique à celle décrite dans l'exemple 1. La courbe 0 illustre les résultats.
Les zones superficielles des feuilles conformes à l'invention possèdent une teneur en oxyde de sodium infé¬ rieure à celle présente dans le verre dit sans alcalin. Les résultats sont les suivants :
Epaisseur (μm) de la zone désionisée dont la teneur en élément sodium est 500 ppm 50 ppm inférieure à
Substrat a (courbe a) 0,17 0,16
Substrat b (courbe b) 0,07 0,07
Verre dit sans alcalin
Le verre dit sans alcalin possède une teneur en oxyde de sodium comprise strictement entre 500 et 1000 ppm.
Les teneurs en oxydes de sodium selon l'invention peuvent même atteindre des valeurs aussi petites que 5 ou 3 ppm, respectivement pour les substrats a et b. On observe des profils différents obtenus selon l'in¬ vention. La feuille b présente une zone désionisée sur une profondeur de 0,07 μm, la teneur en oxyde de sodium étant égale à la valeur minimale, soit 5 ppm, sur toute la pro¬ fondeur de cette zone désionisée, soit 0,07 μm. La feuille a, au contraire, présente une zone désionisée sur une plus grande profondeur, la teneur en oxyde de sodium n'étant pas identique sur toute la profondeur désionisée : le profil présente une sorte de pointe, la valeur minimale corres¬ pondant à un point. Selon les applications envisagées, on peut adapter les conditions opératoires afin d'obtenir la structure de la zone désionisée voulue. On remarquera qu'une quantité de charges passées supérieure à 35 mC/cm2 (substrat b) n'abaisse pas la teneur en oxyde de sodium au sein de la zone désionisée, mais augmente la profondeur de cette zone. Par ailleurs, on obtient une bonne désionisation re¬ lativement aux oxydes alcalino-terreux selon l'invention.
La figure 2 illustre les résultats. La courbe O cor¬ respond à un verre dit sans alcalin dont la composition est décrite dans l'exemple 1. Les courbes a et b correspondent aux feuilles a et b décrites précédemment, obtenues con¬ formément à l'invention.
Les feuilles selon l'invention présentent une meil¬ leure désionisation relativement au verre dit sans alcalin. Le verre dit sans alcalin, 0, possède une teneur en oxyde de calcium comprise entre 500 et 300 ppm.
La feuille de verre b obtenue selon l'invention pré¬ sente une zone désionisée sur une profondeur de 0,08 μm au sein de laquelle la teneur en oxyde de calcium est égale à 50 ppm.
La feuille de verre a obtenue selon l'invention pré¬ sente une zone désionisée sur une profondeur bien supé¬ rieure, 0,15 μm, au sein de laquelle la teneur en calcium est égale à 100 ppm : le profil présente une sorte de palier .
La figure 3 représente, en perspective, la structure d'un écran plat classique à cristaux liquides. Pour une meilleure compréhension de la figure, cette dernière ne respecte pas d'échelle.
Des cristaux liquides 1 sont intercalés entre deux substrats en verre 2 et 3. La zone superficielle 4 du sub¬ strat en verre 2 et la zone superficielle 5 du substrat 3 sont quasiment dépourvues d'ions alcalins et alcalino- terreux selon l'invention. Sur ces zones 4 et 5 sont déposées, respectivement, des couches semi-conductrices 6 et 7 du type ITO. Ce dépôt est effectué généralement par pulvérisation cathodique.
Ces couches sont gravées en lignes parallèlement au bord 8 du substrat 2 et en colonnes parallèlement au bord 9 du substrat 3. Ainsi, lorsque les deux substrats sont as¬ semblés, les couches semi-conductrices forment un quad¬ rillage dont chaque intersection constitue un élément d'image. La figure 4 représente, en coupe longitudinale, un transistor de commande du comportement des cristaux li¬ quides utilisé dans la réalisation d'un écran plat à cris¬ taux liquides comportant une matrice active. Contrairement aux écrans à cristaux liquides classiques, tel que par exemple représenté à la figure 3, ce type de transistor comprend un empilement de couches susceptibles de commander le comportement du cristal liquide pour chaque élément d'image.
Le substrat en verre 1 comprend une zone superficielle 2 quasiment dépourvue d'ions alcalins et alcalino-terreux conformément à l'invention, sur laquelle sont déposées successivement plusieurs couches fonctionnelles. Les cou¬ ches 3, 4 et 5 constituent des électrodes métalliques. La couche 3 est, par exemple, à base de chrome, les couches 4 et 5 à base d'aluminium. Une couche isolante 6 à base, par exemple, de nitrure de silicium isole électriquement la couche 3 des électrodes 4 et 5. La couche 7 est la couche dite active, à base de silicium amorphe, susceptible de commander le comportement des cristaux liquides. Entre la couche 7 et les électrodes métalliques 4 et 5 se trouve une couche 8 fortement dopée en charges négatives afin de con¬ trôler le bon fonctionnement du transistor.
Ce type de transistor permet d'améliorer la qualité de l'image sur l'écran dit, par exemple, à haute définition.
Les figures 3 et 4 illustrent des applications possi¬ bles du substrat selon l'invention.
Le substrat selon l'invention peut être utilisé pour la réalisation d'autres types d'écrans plats, par exemple du type électroluminescent ou du type MIM (Métal Isolant Métal), ou pour toute autre application électronique com¬ portant des couches fonctionnelles susceptibles d'être dé¬ tériorées par les oxydes alcalins ou alcalino-terreux.

Claims

REVENDICATIONS
1. Feuille de verre du type silico-sodo-calcique dont la teneur en élément sodium libéré au bout d'un séjour de 24 h dans une eau désionisée à 96°C est inférieure ou égale
5 à 0,0090 μg/cm2.
2. Feuille de verre du type silico-sodo-calcique selon la revendication 1, comportant au moins une zone superfi¬ cielle quasiment dépourvue d'ions alcalins et alcalino-terreux.
10 3. Feuille de verre selon les revendications précé¬ dentes, caractérisée par une teneur en oxyde de sodium au sein de la zone superficielle inférieure ou égale à 500 ppm sur au moins 0,05 μm.
4. Feuille de verre selon la revendication 3, carac- 1 térisée par une teneur en élément sodium au sein de la zone superficielle inférieure ou égale à 50 ppm sur au moins 0,05 μm.
5. Feuille de verre selon la revendication 4, carac¬ térisée par une teneur en élément sodium au sein de la zone
20 superficielle inférieure ou égale à 50 ppm sur au moins 0,1 μm.
6. Substrat en verre utilisé dans le domaine électro¬ nique, caractérisé en ce qu'il est constitué notamment d'une feuille de verre selon l'une des revendications pré-
-.e cédentes.
7. Ecran plat utilisé dans le domaine électronique, caractérisé en ce qu'il est constitué notamment d'un sub¬ strat en verre selon la revendication 6 sur au moins une des faces duquel sont déposées des couches fonctionnelles.
30 8. Méthode de désionisation d'un verre en défilement, du type silico-sodo-calcique, par décharge couronne régulée en tension, les électrodes étant situées de part et d'autre du verre.
9. Méthode selon la revendication 8, caractérisée en 3 ce que la température du verre est supérieure à 500°C.
10. Méthode selon la revendication 8, caractérisée en ce que la tension appliquée entre les électrodes est com¬ prise entre 300 et 800 V.
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU736751B2 (en) * 1996-12-26 2001-08-02 Canon Kabushiki Kaisha Electron source substrate and electron source and image-forming apparatus using such substrate as well as method of manufacturing the same
FR2768857B1 (fr) * 1997-09-23 1999-12-03 Thomson Tubes Electroniques Procede de realisation d'un panneau de visualisation comportant une dalle a stabilite dimensionnelle amelioree
JP3075535B2 (ja) * 1998-05-01 2000-08-14 キヤノン株式会社 電子放出素子、電子源及び画像形成装置の製造方法
JP2003217833A (ja) * 2002-01-28 2003-07-31 Nippon Sheet Glass Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ用背面封止缶、及び該封止缶の製造方法
WO2011060793A1 (fr) 2009-11-23 2011-05-26 Aalborg Universitet Vitrocéramique aux propriétés de surface améliorées
EP2881375A4 (fr) * 2012-06-22 2016-11-02 Asahi Glass Co Ltd Procédé de traitement de surface d'un substrat en verre, et substrat en verre
JP6244884B2 (ja) * 2013-12-19 2017-12-13 旭硝子株式会社 強化ガラス板の製造方法
WO2015093284A1 (fr) * 2013-12-19 2015-06-25 旭硝子株式会社 Procédé de production de substrat en verre trempé
US10472271B2 (en) 2015-05-19 2019-11-12 Corning Incorporated Glass with modified surface layer
FR3132709A1 (fr) * 2022-02-17 2023-08-18 Universite de Bordeaux Procede de traitement de la surface d’un materiau amorphe ionique pour le controle de l’orientation de cristaux liquides, procede de fabrication de cellules a cristaux liquides a multi-domaines d’alignements

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2202049A1 (fr) * 1972-10-10 1974-05-03 Rca Corp
FR2240895A1 (fr) * 1973-08-15 1975-03-14 Rca Corp
EP0237431A2 (fr) * 1986-03-11 1987-09-16 Saint-Gobain Vitrage International Désionisation du verre par décharge couronne
EP0452180A1 (fr) * 1990-04-06 1991-10-16 Saint-Gobain Vitrage Procédé pour la désionisation superficielle d'un ruban de verre, dispositif pour sa mise en oeuvre et produits désionisés obtenus

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2202049A1 (fr) * 1972-10-10 1974-05-03 Rca Corp
FR2240895A1 (fr) * 1973-08-15 1975-03-14 Rca Corp
EP0237431A2 (fr) * 1986-03-11 1987-09-16 Saint-Gobain Vitrage International Désionisation du verre par décharge couronne
EP0452180A1 (fr) * 1990-04-06 1991-10-16 Saint-Gobain Vitrage Procédé pour la désionisation superficielle d'un ruban de verre, dispositif pour sa mise en oeuvre et produits désionisés obtenus

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