WO1994006804A1 - Cephem compound, process for producing the same, and medicine containing the same - Google Patents

Cephem compound, process for producing the same, and medicine containing the same Download PDF

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WO1994006804A1
WO1994006804A1 PCT/JP1993/001326 JP9301326W WO9406804A1 WO 1994006804 A1 WO1994006804 A1 WO 1994006804A1 JP 9301326 W JP9301326 W JP 9301326W WO 9406804 A1 WO9406804 A1 WO 9406804A1
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WO
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group
thiovinyl
salt
carboxylate
pyridinio
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PCT/JP1993/001326
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English (en)
French (fr)
Inventor
Hiroshi Akagi
Masaru Yasui
Yoshifumi Hara
Hideaki Hanaki
Akio Hyodo
Original Assignee
Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha
Taiho Pharmaceutical Co., Ltd.
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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring

Definitions

  • the present invention relates to a novel cefem compound, a method for producing the same, and a medicament containing the compound.
  • MRSA methicillin-resistant Staphylococcus aureus
  • 3 -thiovinylsefarosporin derivatives having an antibacterial activity are described in, for example, Japanese Patent Publication No. Sho 62-17592 and Japanese Patent Laid-Open No. Sho 59-13092.
  • the compound described in the official gazette European Patent Publication No. 111,281 is known.
  • alcohol was added to the side chain at position 7.
  • a compound having a xyminino group and a thiovinil quaternary ammonium salt at the 3-position of the cephalosporin skeleton is described, but a hydroxymino group is described. Absent.
  • 3-thiovinyl cephalosporin derivative is effective for MRSA.
  • An object of the present invention is to provide a cefnium compound having excellent antibacterial activity, in particular, a novel cefem compound which is effective and highly safe against MRSA.
  • Another object of the present invention is to provide a method for producing the above cefum compound.
  • Another object of the present invention is to provide a pharmaceutical composition for treating MRSA-caused infectious diseases.
  • the present inventors have synthesized and studied various cephem compounds in order to achieve the above object.As a result, they have a thiovinyl-2-quaternary ammonium salt at the 3-position of the cephalosporin skeleton. In addition, it has been found that a cefnium compound having a hydroxymino group at the side chain at the 7-position has excellent antibacterial activity and is particularly effective for MRSA, and thus completed the present invention.
  • the cefnium compound of the present invention is a novel compound, Represented by the general formula (1)
  • R 1 represents a carboxylate or a carboxyl group.
  • R 2 is a lower alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a hydroxy lower alkyl group or a group—A—C 0—R 3 (where A is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms) , A phenylene group, a benzylene group or a xylylene group, and ⁇ represents a phenyl group, an amino group which may be substituted with a hydroxyl group, a lower alkyl group, a hydroxyl group, Represents a lower alkylamino group or an amino group of an amino acid.) Represents 0 or an integer of 1 to 3.
  • represents an anion f represents 0 when R 1 represents a carboxylate, and R 1 represents Represents 1 when represents a carboxyl group.
  • the ring represented by C represents a 5-membered heterocyclic group having 4 or less nitrogen atoms which may be substituted with a lower alkyl group.
  • Examples of the lower alkyl group include alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isopropyl, tertiary butyl, pentyl, and hexyl. .
  • Examples of the lower alkenyl group include alkenyl groups having 2 to 6 carbon atoms, such as vinyl, aryl, chloro, 2-pentenyl and 2-hexenyl groups.
  • Examples of the lower alkynyl group include ethynyl, 1-propynyl, 2-propynyl, 2-butynyl, 1-methyl-12-is-propynyl, 2-pentynyl, and 2-hexynyl. To 6 alkynyl groups.
  • hydroxy lower alkyl group examples include hydroxymethyl, 2—hydroxyl, 3—hydroxypropyl, 4—hydroxybutyl, 5—hydroxypentyl, and 6—hydridoxyl, etc. And a hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms in the alkyl portion.
  • alkylene group having 1 to 6 carbon atoms examples include methylene, Examples thereof include styrene, 1-methylethylene, propylene, 2-ethylpropylene, butylene, pentylene, and hexylene.
  • Examples of the lower alkylamino group include monoalkylamino groups having 1 to 6 carbon atoms, such as methylamino, ethylamino, propylamino, butinoleamino, hexylamino, and the like.
  • Examples thereof include a dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms, such as a tilamino, getylamino, dipropylamino, dibutylamino, dihexylamino group, and the like.
  • the amino group of the amino acid means a group in which one hydrogen atom has been eliminated from the amino group constituting the amino acid.
  • the amino acid include alanine, isoleucine, glysin, serine, treonin, valin, norinerin, isotulin, and mouth mouth.
  • examples thereof include hyamino acids and amino acids having 3 to 10 carbon atoms, such as luroisin, roysin, and methionine.
  • the ring represented by C must be substituted with a lower alkyl group
  • a 5-membered heterocyclic group having a nitrogen number of 4 or less specifically, oxazole, thiazole, isoxazole, isothiazole, oxathiazol, thiadiazole, oxatiaziazole, pyrazole, imidazole, triazo.
  • oxtriazole, thiatriazole, tetrazole and the like, and one lower alkyl group may be substituted on the nitrogen atom or carbon atom of these heterocycles.
  • Such a heterocyclic ring is more specifically represented by the following structural formula.
  • N 3 1,2,4-T diadiazoIe 1,2,5-Thiadiazole
  • N N / R 2
  • N N + ⁇
  • Ding strszols examples of the anions represented by B — include inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, nitric acid, sulfuric acid, and perchloric acid, methansulfonic acid, ethanesulfonic acid, and 2 — cross-port ethanesulfonate. Acid residues of organic acids such as acid, benzenesulfonate, tosylate, p-ethylsulfonate, p-chloronolesulfonate, naphthalenesulfonate, trifluoroacetate, and formic acid. You.
  • Cef carboxyl protecting groups include protected esters commonly used in cef synthesis and pharmaceutically acceptable protected esters.
  • Protected esters commonly used in the chemical synthesis are those which are stable when various chemical modifications are applied to the ⁇ -lactam compound, and which lead to the pharmaceutically acceptable protected esters described below. It is an ester that can be easily eliminated.
  • Pharmaceutically acceptable protective esters are non-toxic esters that can be readily hydrolyzed at in Vi0 and can be rapidly degraded in human blood and tissues. These esters may be known esters usually used in the field of antibiotics, and specifically include, for example, JP-A-49-81380 and Etch. Line 1 Sepha-Sporine Andy Nislin's, Chemistry And Biology (1
  • Lower alkoxymethyl groups such as tyl, ethoxymethyl, n-propyloxymethyl, iso-propyloxymethyl, n-butoxymethyl, isobutoxymethyl, etc., acetylethoxymethyl, acetoxyl, propionyloxethyl , N—butyricoxymethyl, isobutyricoxymethyl, vivaloy luximetyl, 1-acetoxicetyl, pinoculoyloxhetyl, viva royocynpropyl, 1—propionoxyl-butyl, etc.
  • mouth mouth Pentinolecanolevonyloxymethyl silicone mouth mouth C5-C7 cycloalkyl carbonyloxy-lower alkyl groups such as bonyloxymethyl; benzylcarbonyloxy lower alkyl groups such as benzylcarboxyloxymethyl; benzoyloxymethyl; benzoyloxyethyl; Lower alkoxycarbonyloxy lower alkyl group such as benzoyloxy lower alkyl group, methoxycarbonyloxymethyl, 1-ethoxy-carbonyloxymethyl, 3-methoxy-carbonyloxypropyl, benzyloxymethyl, benzyloxymethyl, etc.
  • Benziloxy lower alkyl group, etc. 2—cyano-1,1-dimethylethyl, bromobenzoylmethyl, p—dibenzobenzoylmethyl, dimethylaminomethyl, methylthiomethyl, phenyl Nilthiomethyl, sk 1,2-Dimethyl-2-propenyl, 1,3-Dimethyl-1 3-butyryl, 3-phthalidyl, Crotonolactone 1-4-inole, 7-Butylora Cton 1 4-yl, tetra hydrano linole, dimethinorea minenochinore, dimethinonoreklorosilyl, triclorosilinore, (2-oxo 1 1, 3 — Dioxoden-1-yl) methyl, (5—methyl-1—oxo-1, 3 — Dioxoden-4—yl) methyl, (5—Fujiru-2—oxo-1 1, 3 — dioxoden-1
  • Non-toxic salts of the compound of the general formula (1) include pharmaceutically acceptable salts, for example, hydrochloride, hydrobromide, hydroiodide, sulfate, citrate, maleate and the like.
  • Organic carboxylic acid such as acid salt, lactate, tartrate, etc.
  • organic sulfonic acid salt such as methanesulfonic acid, hydroxymethansulfonic acid, taurine salt, benzenesulfonate, toluenesulfonate , Arginine, lysine, serine, aspartate, glutamate, glycinate and other aminoates, sodium salts, potassium salts, lysates
  • Alkali earth metal salts such as calcium salts and magnesium salts such as alkali metal salts such as titanium salts.
  • the compound (1) and the starting compound of the present invention include cis isomers, trans isomers, and cis and trans mixtures.
  • the cis isomer It means one of geometric isomers having a partial structure represented by the general formula (4), and the trans isomer means another geometric isomer having a partial structure represented by the following formula (5).
  • the compound (1) and a salt thereof of the present invention can be produced by various methods, and if the preferred method is shown, it is produced according to the following Production Method I.
  • R 4 is a carboxyl protecting group
  • R ′ is
  • the compound represented by the general formula (1) comprises an amide compound represented by the general formula (6) and a carboxylic acid compound represented by the general formula (7) or a carboxy group thereof.
  • the compound can be produced by subjecting the converted reactive derivative to an ordinary amide bond formation reaction, and then removing the protecting group from the resulting product.
  • a tri (lower) alkylsilyl group such as a trimethylsilyl group, a benzhydryl group, a ⁇ -methoxybenzyl group, t M t -butyl group, p -nitrobenzyl group, phenacyl group and the like, and easily removable carboxy group protecting groups usually used in this field can be exemplified.
  • a protecting group that can be easily removed under mild conditions can be widely used, and specifically, a trimethylsilyl group or other trimethyl group.
  • an aralkyl-based protecting group such as an acyl-based protecting group, a benzyl group, a benzyl group and a trityl group.
  • the oxime protecting group represented by R 6 includes a trityl group, Examples of protecting groups commonly used in this field that can be easily removed under mild conditions, such as a tetrahydrobiranyl group, are exemplified in the reaction of compound (6) with compound (7) or a reactive derivative thereof.
  • the well-known amide bond formation reaction conditions can be applied to the reaction.
  • Examples of the reactive derivative of the compound (7) include, for example, acid halides such as oxychloride and oxybromide, substituted phosphoric acid, dialkyl phosphite, sulfite, thiosulfate, alkyl carbonate, and organic carboxylic acid.
  • acid halides such as oxychloride and oxybromide
  • substituted phosphoric acid dialkyl phosphite
  • sulfite sulfite
  • thiosulfate alkyl carbonate
  • organic carboxylic acid organic carboxylic acid
  • Acid anhydrides and symmetric acid anhydrides with acids such as acids, active acid amides with imidazole, dimethyl virazole, etc., p-nitrophenyl ester, phenyl thioester, and carboxylic acid methyl ester
  • Active esters such as thioesters and esters with N-hydroxy compounds, such as N-hydroxypiperidine, N-hydroxysuccinoimido, N-hydroxysuccinimide and the like.
  • a condensing agent such as N, N-diethylcarbodiimide, N, N-dicyclohexylcarbodiimide or the like is used. This is preferred.
  • the solvent used in the above reaction is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and the reaction is usually carried out under cooling or near room temperature.
  • Solvents include getyl ether and tetra Ethers such as lahydrofuran and dioxane, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, dichloroethane, cycloform, carbon tetrachloride, and aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene , Pyridines, pyridines, pyridines, amides such as triethylamine, esters such as ethyl acetate and ethyl formate, dimethylformamide, trimethylhexylphosphate, dimethyl sulfoxy.
  • Non-protonic polar solvents such as chloride, etc., and mixed solvents thereof.
  • a basic compound examples include trialkylamines such as triethylamine and triplylamin, pyridine, picolin, 1,8-diazabicyclo [5.4. 0]
  • Organic bases such as pentacene, sodium bicarbonate, sodium bicarbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide
  • inorganic bases such as chromium.
  • the amount of the carboxylic acid compound represented by the general formula (7) or the reactive derivative thereof to the amine compound represented by the general formula (6) is usually 1 to 10 times the molar amount.
  • the amount is preferably about 1 to 3 times the molar amount.
  • the amount of the basic compound used is usually about 1 to 30 times the molar amount of the amine compound represented by the general formula (6), and is preferably about 1 to 30 times.
  • the amount is preferably about 2 to 10 times the molar amount.
  • the reaction time is usually about 1 to 24 hours, preferably about 1 to 6 hours.
  • the protecting group is a tri (lower) alkylsilyl group or the like
  • treatment with water is performed. You can do it.
  • a protecting group such as a benzhydryl group, a trityl group, a p-methoxybenzyl group, a tert-butyl group, a formyl group, etc.
  • formic acid, hydrochloric acid, trifluoroacetic acid anisol-triethyl group It can be removed by treatment with fluoroacetic acid, acetic acid, phenol, cresols and the like.
  • R 1 represents a halogen atom, a lower acyloxy group or a sulfonyloxy group.
  • R 8 is
  • the compound of the present invention represented by the general formula (1) is a compound of the formula (8), or a cephalosporin compound or a salt thereof, and a mercapto compound represented by the general formula (9). And then the resulting general formula
  • the compound of the present invention (1) can be obtained. Further, by reacting the compound of the general formula (8) with the quaternized mercapto compound of the general formula (13), the compound of the general formula (12) can be produced at once. You can also.
  • the reaction between the compound (8) and the compound (9) is usually carried out by halogenation of ketones such as acetone and the like, such as mouth form, dichloromethan and dichlorobenzene.
  • Ethers such as hydrocarbons, getyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane;
  • Alcohols such as acetonitrile, methanol, ethanol, etc., dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, water, organic solvents such as phosphate buffer and hydrophilic organic solvents It is carried out in a mixture with water.
  • the reaction can be promoted by adding a base or a salt to the reaction system.
  • bases and salts examples include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, and potassium carbonate, triethylamine, diisopropylamine, and the like. And organic amines such as trialkylamines.
  • examples of the salts include quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium salt. The reaction is usually performed under cooling or at around room temperature.
  • Examples of the halogenated organic compound represented by the general formula (11) include, for example, lower alkyl halide, lower alkenyl halide, lower alkynyl halide, hydroxy lower alkyl halide, carboxy lower alkyl halide, and carbamoyl lower alkyl halide. And lower alkanol lower alkyl halides. Examples of the above-mentioned various halides include chloride, bromide and iodide. Examples of the solvent used in the reaction between the compound (10) and the compound (11) include halogens such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride.
  • Charcoal Examples include hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene, ethers such as getyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane, and acetonitrile. .
  • the reaction is carried out at room temperature to about 80 ° C., preferably at about 20 to 50 ° C., and is generally completed in about 1 to 20 hours.
  • the reaction between the compound of the general formula (8) and the compound of the general formula (13) is performed under the same reaction conditions as the reaction between the compound of the general formula (8) and the compound of the general formula (9). obtain.
  • Examples of the metal atom of the general formulas (9) and (13) include sodium, lithium, calcium, magnesium, silver, and copper.
  • the thus-obtained compound of the general formula (12) can be subjected to removal of the protecting group by the method shown in Production method I, and the compound of the present invention of the general formula (1) can be easily obtained. Manufactured.
  • the compound of the present invention is made into a pharmaceutical composition according to a conventional method using a suitable pharmaceutical carrier.
  • suitable pharmaceutical carrier are those commonly used for ordinary drugs, for example, excipients, binders, disintegrants, lubricants, coloring agents, flavoring agents, flavoring agents, surfactants And the like.
  • the preparation of the present invention is used as a therapeutic agent for infectious diseases of mammals including humans, in particular, infectious diseases caused by methicillin-resistant Staphylococcus aureus.
  • infectious diseases of mammals including humans, in particular, infectious diseases caused by methicillin-resistant Staphylococcus aureus.
  • the dosage unit form when used as such, and it can be appropriately selected depending on the purpose of treatment.
  • parenteral preparations such as injections, suppositories, eye drops, ointments, aerosols, etc.
  • oral tablets such as tablets, coated tablets, powders, granules, capsules, solutions, pills, suspensions, and emulsions.
  • the above-mentioned various drugs are formulated by a formulation method generally known in this field.
  • carriers such as lactose, sucrose, sodium chloride, sodium glucose, urea, starch, calcium carbonate, kaolin, Excipients such as crystalline cellulose, caic acid, methylcellulose, glycerin, sodium alginate, gum arabic, simple syrup, sugar solution, starch solution, gelatin solution, Polyvinyl alcohol, Polyvinyl ether, Polyvinylpyrrolidone, Powerboxyl methyl selenololose, Cellulose, Methylcellulose, Ethylcellulose, Water, Ethanol, Carboxyl phosphate Binders, such as dried starch, sodium alginate, powdered cante, powdered lamina, powdered sodium bicarbonate, calcium carbonate, polio Disintegrants such as styrene ethylene sorbitan fatty acids, sodium alginate, powdered cante, powdered la
  • Adsorbent purified talc, stearate, powdered boric acid, lubricants such as polyethylene glycol and the like can be used.
  • tablets can be made into tablets coated with a normal coating as required, such as sugar-coated tablets, gelatin-coated tablets, enteric-coated tablets, film-coated tablets, double tablets, and multi-layer tablets. .
  • the carrier When molded into the form of pills, the carrier may be, for example, excipients such as glucose, lactose, starch, cocoa butter, hydrogenated vegetable oils, cellulose, talc, etc. Binders such as gelatin and disintegrants such as laminaran and cantan can be used.
  • Capsules are prepared by mixing with the various carriers exemplified above and filling in hard gelatin capsules, soft capsules and the like.
  • the carrier When molded into suppositories, the carrier may be, for example, polyethylene glycol, cocoa butter, lanolin, higher alcohol, higher alcohol esters, gelatin, semi-synthetic glyceride. Or a suitable absorption enhancer such as Witetsubusol (registered trademark Dynamite Novel Co., Ltd.).
  • the carrier When molding into an injection form, the carrier may be, for example, water, ethyl alcohol, macrogol, propylene glycol, ethoxylated isostearyl alcohol, polyethoxylated isostearyl alcohol.
  • Diluents such as fatty acid esters of poly-xixylene sorbitan, pH adjusters and buffers such as sodium citrate, sodium acetate and sodium phosphate, sodium pyrosulfite Stabilizers such as tritium, ethylenediaminetetraacetic acid, thioglycolic acid, and thiolactic acid can be used.
  • a sufficient amount of salt, glucose, or glycerin to prepare a tonic solution may be included in the pharmaceutical preparation, and an ordinary solubilizing agent, painless Agents, local anesthetics and the like may be added.
  • injections for subcutaneous, intramuscular, and intravenous injections can be manufactured by a conventional method.
  • Liquid preparations may be aqueous or oily suspensions, solutions, syrups, and elixirs, which are prepared using conventional additives in accordance with conventional methods.
  • Ointments such as paste, cream and gel, may be prepared as diluents, for example, white petrolatum, ⁇ , etc.
  • O Raffin, glycerin, cellulose derivatives, polyester glycol, silicone, bentonite, etc. can be used.
  • the amount of the compound of the present invention to be contained in the above-mentioned preparation varies depending on the dosage form, administration route, administration schedule and the like, and cannot be specified unconditionally and is appropriately selected from a wide range.
  • the content is preferably about 70% by weight.
  • the administration method of the above-mentioned preparations is not particularly limited, for example, enteral administration, oral administration, rectal administration, buccal administration, transdermal administration, etc., and each formulation form, patient's age, gender and other conditions, patient's condition It is appropriately determined according to the degree and the like.
  • tablets, pills, solutions, suspensions, emulsions, granules, and capsules are orally administered.
  • it is administered intravenously, alone or in combination with a normal replenisher such as bud sugar or amino acid.If necessary, it can be administered intramuscularly, intradermally, or subcutaneously alone. Or intraperitoneally.
  • suppositories they are administered rectally. Ointments are applied to the skin, oral mucosa and the like.
  • the dose of the compound of the present invention is appropriately selected depending on the usage, the age and condition of the patient, the type of disease, the type of the compound of the present invention to be administered, and the like. Generally, from 1 mg to about 10 g per day, or even more, can be administered to a patient. For the treatment of pathogenic bacterial infections, an average dose of about 50 mg, 100 mg, 250 mg, 100 mg and 200 mg of the compound of the present invention per dose is required. Can be used.
  • the antimicrobial activity of the compound was tested against various bacteria by the agar plate dilution method, and the minimum inhibitory concentration (MIC value) against bacterial growth against various bacteria was compared with FMOX (Flomoxef). Table 1 shows the results. In addition, the results of comparison of the MIC —80 value against clinically isolated methicillin-resistant and highly resistant ciprofloxacillin-resistant Staphylococcus aureus with VCM (vancomycin), FMOX, and CPFX (ciprofloxacin) were compared. Table 2 shows.
  • the test compounds are as follows.
  • Tr represents a trityl group
  • represents a benzylhydrinole group
  • T represents a trifluoromethanesulfonyl group.

Description

明 細 書
セフニム化合物、 その製造方法及び該化合物を含む医薬
技 術 分 野
本発明は、 新規セフ .ェム化合物、 その製造方法及び該 化合物を含む医薬に関する。
従 来 技 術
近年、 第 3世代のセファ ロスポリ ンの広範な使用に伴 い、 メ チシリ ン耐性黄色ブ ドウ球菌 (M R S A ) が起こ す感染症が重要な問題となっている。 第 3世代のセ フ ァ ロスポリ ンはグラム陰性桿菌に対する抗菌力は強いもの のグラム陽性球菌に対する抗菌力が低下しているため、 ^一ラクタム系抗生物質に耐性の黄色ブ ドウ球菌が増加 し、 難治性感染症と して深刻な問題となっている。 現在 M R S Aの引き起こす感染症の治療薬と して有効なもの と しては、 ポ リペプチ ド系抗生物質であるバンコマイ シ ンのみであるが、 バンコマイ シンは湿疹、 腎毒性の副作 用等があり慎重な投与が必要である。
従来、 抗菌作用を有する 3 —チオビ二ルセ フ ァ ロ スポ リ ン誘導体と しては、 例えば、 特公昭 6 2 — 1 7 5 9 2 号公報及び特開昭 5 9 — 1 3 0 2 9 2号公報 (欧州特許 公開第 1 1 1 2 8 1号明細書) に記載された化合物が知 られている。 後者の公報中には 7位の側鎖部分にアルコ キシィ ミ ノ 基を有し、 セフ ァ ロ スポ リ ン骨格の 3 位にチ オビ二ルー第 4級アンモニゥム塩を有する化合物が記載 されてはいるが、 ヒ ドロキシィ ミ ノ基については記載さ れていない。 また、 これら先行技術には 3 —チオビニル セフ ァ ロ スポリ ン誘導体が M R S Aに有効であるとの開 示もない。
発 明 の 開 示
本発明の一つの目的は、 優れた抗菌力を有するセフ ニ ム化合物、 殊に M R S Aに対して有効且つ安全性の高い 新規なセフ エム化合物を提供するこ と にある。
本発明の他の一つの目的は、 上記セフュム化合物の製 造方法を提供することにある。
本発明の他の一つの目的は、 M R S Aが起こす感染症 を治療するための医薬組成物を提供するこ と にある。
本発明者等は上記目的を達成するために、 種々のセ フ ェム化合物を合成し、 検討した結果、 セフ ァ ロ スポ リ ン 骨格の 3位にチオビ二ルー第 4級アンモニゥム塩を有し、 且つ 7位の側鎖部分にヒ ドロキシィ ミ ノ基を有するセ フ ニム化合物が優れた抗菌活性を有し、 特に M R S Aに有 効であるこ とを見い出し、 こ こ に本発明を完成する に至 つ 7"こ o
本発明のセフ ニ ム化合物は、 新規化合物であって、 下 記一般式 ( 1 ) で表わされる
Figure imgf000005_0001
〔式中 Qは C H又は Nを示す。 R 1 はカルボキシレー 卜 又はカルボキシル基を示す。 Rは
Figure imgf000005_0002
(2) (3) を示す。 こ こで R 2 は低級アルキル基、 低級アルケニル 基、 低級アルキニル基、 ヒ ドロキ シ低級アルキル基又は 基— A— C 0— R 3 (基中、 Aは炭素数 1 〜 6のアルキ レ ン基、 フ ヱニ レ ン基、 ベン ジ レ ン基又はキ シ リ レ ン基 を、 ί ύ は水酸基、 低級アルキル基、 水酸基で置換され る こ とのあ る フ エニル基、 ア ミ ノ 基、 低級アルキルア ミ ノ基又はア ミ ノ酸のア ミ ノ基をそれぞれ示す。 ) を示す η は 0又は 1〜 3の整数を示す。 Β は陰イ オ ンを示す f は R 1 がカルボキシ レー トを示す場合には 0を、 R 1 がカルボキシル基を示す場合には 1 を示す。 Cで表わさ れる環は低級アルキル基で置換される こ とのある窒素数 4以下の 5員複素環基を示す。 〕
本明細書において示される基は、 よ り具体的にはそれ
5 ぞれ次の通りである。
低級アルキル基と しては、 メ チル、 ェチル、 プロ ピル、 イ ソプロ ピル、 プチル、 イ ソプチル、 第 3級プチル、 ぺ ンチル、 へキシル基等の炭素数 1 〜 6 のアルキル基を例 示できる。
0 低級アルケニル基と しては、 ビニル、 ァ リ ル、 ク ロチ ル、 2 —ペンテニル、 2 —へキセニル基等の炭素数 2 〜 6のアルケニル基を例示できる。
低級アルキニル基と しては、 ェチニル、 1 —プロ ピニ ル、 2 —プロ ピニル、 2 —プチニル、 1 一 メ チル一 2 — i s プロ ピニル、 2 —ペンチニル、 2 —へキシニル基等の炭 素数 2 〜 6 のァルキニル基を例示でき る。
ヒ ドロキシ低級アルキル基と しては、 ヒ ドロキメ チル、 2 — ヒ ドロキシェチル、 3 — ヒ ドロキ シプロ ピル、 4 — ヒ ドロキシブチル、 5 — ヒ ドロキシペンチル、 6 — ヒ ド 2 0 口キジへキシル基等のアルキル部分の炭素数が 1 〜 6 の ヒ ドロキシァルキル基を例示でき る。
炭素数 1 〜 6 のアルキ レ ン基と しては、 メ チ レ ン、 ェ チ レ ン、 1 —メ チルエチ レン、 プロ ピレ ン、 2 —ェチル プロ ピレン、 ブチレン、 ペンチ レ ン、 へキシレン基等を 例示でき る。
水酸基で置換される こ とのあるフヱニル基と しては、 フヱニル基、 フヱニル基に 1〜 3個の水酸基が置換した 0 — ヒ ドロキシフエニル、 p — ヒ ドロキシフエニル、 m — ヒ ドロキシフエニル、 2, 4 ー ジヒ ドロキシフエニル、 3, 4 — ジ ヒ ドロキシフエニル、 3 , 4 , 5 — ト リ ヒ ド ロキシフ ニ二ル基等を例示でき る。
低級アルキルア ミ ノ基と しては、 メ チルァ ミ ノ、 ェチ ルァ ミ ノ、 プロ ピルァ ミ ノ、 ブチノレア ミ ノ、 へキシルァ ミ ノ基等の炭素数 1〜 6 のモノ アルキルア ミ ノ基、 ジメ チルァ ミ ノ、 ジェチルァ ミ ノ、 ジプロ ピルァ ミ ノ、 ジブ チルァ ミ ノ 、 ジへキシルァ ミ ノ基等の炭素数 2〜 1 2 の ジアルキルア ミ ノ基等を例示でき る。
ア ミ ノ酸のア ミ ノ基とはァ ミ ノ酸を構成するア ミ ノ基 から 1個の水素原子が脱離した基を意味する ものである。 該ア ミ ノ酸と しては、 ァラニ ン、 イ ソ ロイ シ ン、 グ リ シ ン、 セ リ ン、 ト レォニ ン、 バ リ ン、 ノ ノレ リ ン、 イ ソ く' リ ン、 口 ノ ルロ イ シ ン、 ロ イ シ ン、 メ チォニ ン等の炭素 数 3〜 1 0の ひ ア ミ ノ酸や ア ミ ノ 酸を例示でき る。
Cで表わされる環は低級アルキル基で置換される こ と のある窒素数 4以下の 5員複素環基であり、 具体的には ォキサゾール、 チアゾール、 イ ソキサゾール、 イ ソチア ゾール、 ォキサチアゾ一ル、 チアジアゾール、 ォキサチ アジアゾール、 ピラゾール、 ィ ミ ダゾ一ル、 ト リァゾ一 ル、 ォキサ ト リ ァゾ一ル、 チア ト リ ァゾール、 テ トラゾ 一ル等を例示でき、 これらの複素環の窒素原子や炭素原 子上に低級アルキル基が 1個置換していてもよい。 斯か る複素環はより具体的には下記構造式で示される。
N=1 v=o,s 一 r V
_ς f=\
N
R2 R2
Oxazoie Isoxazoie
Thiazole Isothiazole
N=2
ALKYL R2
一 s—Λ 一 飞 一 s Ν+=λ
s. — ALKYL
ヽ Νί Nノ s.
+ ヽ' 一、
I ヽ ヽ N+
R2
R2 R2
Pyrazole Imidazole 1,2.4-Oxadiazole 1,2,5-Oxadiazole
N=3 1,2,4-T iadiazoIe 1,2,5-Thiadiazole
.ALKYL
S F
ノ N一 Aし KYし M
R2
Figure imgf000009_0001
N一 V
X
Figure imgf000009_0002
N=4
N = N / R2
N = N+ \
S- ,」N
ヽ ALKYし S- N V
ヽ ALKYL
N 、Aし KYし
ALKYL
\ ALKYL
\ ALKYし
N-N
w N— ヽ ^2
^ N — S - u N— N+ Νί — S - w
N
ヽ N 、Rつ
R,
丁 strszols B — で表わされる陰イオ ンと しては、 塩酸、 臭化水素 酸、 硝酸、 硫酸、 過塩素酸等の無機酸、 メ タ ンスルホ ン 酸、 エタ ンスルホ ン酸、 2 — ク ロ 口エタ ンスルホ ン酸、 ベンゼンスルホ ン酸、 ト シル酸、 p —ェチルスルホ ン酸、 p — ク ロノレスルホ ン酸、 ナフ タ レ ンスルホ ン酸、 ト リ フ ルォロ酢酸、 ギ酸等の有機酸の酸残基が例示でき る。
セフ エムカルボキシル保護基には、 セフ エ ム合成にお いて汎用される保護エステル及び薬学的に許容される保 護エステルが包含される。 セフ ヱム合成において汎用さ れる保護エステルとは、 ^ —ラ ク タム化合物に種々の化 学的修飾を施す際に安定であり、 且つ後記の薬学的に許 容される保護エステルに導く 際には容易に脱離させる こ とができ るエステルである。 薬学的に許容される保護ェ ステルとは、 i n V i V 0で容易に加水分解され得る ものであり、 ヒ 卜の血中や組織において迅速に分解され 得る非毒性のエステルである。 これらエステルと しては、 抗生物質の分野で通'常用いられている公知の ものでよ く 、 具体的には例えば特開昭 4 9 - 8 1 3 8 0号公報及びェ · ツ チ . ィ 一. フ ラ イ ン編セ フ ァ ロ スポ リ ン ア ン ド ぺ ニシ リ ンズ、 ケ ミ ス ト リ ー ア ン ド バイ オ ロ ジー ( 1
9 7 2年 アカデ ミ ッ ク プレス発行) に記載の ものをい ずれも使用できる。 好ま しい もの と しては、 例えばメ チ ル、 ェチル、 プロ ピル、 ブチル、 t e r t ーブチル、 1, 1 一 ジメ チノレプロ ピル、 1 — シク ロプロ ピルメ チル、 ぺ ンチル、 へキシル、 デシル、 ゥ ンデシル、 ドデシル、 テ ト ラデシル、 へキサデシル、 ォク タデシル等の炭素数 1 〜 1 8のアルキル基、 ョ一 ドデシル、 ク ロルメ チル、 2 , 2 — ジブロモェチル、 2 , 2, 2 — ト リ ク ロロェチル、 2, 2, 2 — ト リ ブロモェチル等の塩素、 臭素又は沃素 原子が 1〜 3個置換したハロゲノ低級アルキル基、 ベ ン ジル、 ジフ ヱニノレメ チル、 ト リ チル、 ρ —二 ト ロべンジ ノレ、 o —メ トキシベンジル、 p —メ トキシベ ンジル、 ジ ( P —メ トキシフ ヱニル) メ チル等のニ ト ロ基又はアル コキシ基が置換していてもよいフ ヱニル基が 1〜 3個置 換したメ チル基、 メ トキシメ チル、 エ トキシメ チル、 n 一プロ ピルォキシメ チル、 ィ ソプロ ピルォキシメ チル、 n —ブ トキシメ チル、 イ ソブ トキシメ チル等の低級アル コキシメ チル基、 ァセ トキシメ チル、 ァセ トキシェチル、 プロ ピオニルォキシェチル、 n —ブチ リ ルォキシメ チル、 ィ ソブチ リ ルォキシメ チル、 ビバロイ ルォキシメ チル、 1 ーァセ トキシェチル、 ピノくロイルォキシェチル、 ビバ ロイルォキンプロ ピル、 1 —プロ ピオ二口キシブチル等 の低級アルキルカルボ二ロキシ低級アルキル基、 シク 口 ペンチノレカノレボニルォキシメ チル、 シク 口へキ シルカル ボニルォキシメ チル等の炭素数 5 〜 7 のシク ロアルキル カルボニルォキシ—低級アルキル基、 ベンジルカルボ二 ルォキシメ チル等のベンジルカルボニルォキシ低級アル キル基、 ベンゾィルォキシメ チル、 ベンゾィルォキシェ チル等のベンゾィルォキシ低級アルキル基、 メ トキシー カルボニルォキシメ チル、 1 ーェ トキシ—カルボニルォ キシェチル、 3 —メ トキシ一カルボニルォキシプロ ピル 等の低級アルコキシカルボニルォキシ低級アルキル基、 ベンジルォキシメ チル、 ベンジルォキシェチル等のベン ジルォキシ低級アルキル基等の他、 2 — シァノ ー 1 , 1 ー ジメ チルェチル、 ブロモベンゾィルメ チル、 p —二 ト 口べンゾィルメ チル、 ジメ チルア ミ ノ メ チル、 メ チルチ オメ チル、 フ エ二ルチオメ チル、 スク シ ンイ ミ ドメ チル、 1 , 1 —ジメ チルー 2 _プロぺニル、 1 , 3 — ジメ チル 一 3 —ブティル、 3 —フ タ リ ジル、 ク ロ 卜 ノ ラ ク ト ン一 4 ーィノレ、 7 —ブチロラ ク ト ン一 4 —ィ ル、 テ 卜 ラ ヒ ド ロ ビラ二ノレ、 ジメ チノレア ミ ノ ェチノレ、 ジメ チノレク ロ ロ シ リ ル、 ト リ ク ロ ロ シ リ ノレ、 ( 2 —ォキソ 一 1 , 3 — ジォ キソデン一 4 一ィル) メ チル、 ( 5 — メ チル一 2 —ォキ ソ 一 1 , 3 — ジォキソデン一 4 —ィ ル) メ チル、 ( 5 — フ エ二ルー 2 —ォキソ 一 1 , 3 — ジォキソデン一 4 ー ィ ル) メ チル、 ピ リ ジ ン一 1 —オキサイ ド一 2 — メ チル、 キノ リ ン一 1 ーォキサイ ドー 2 —メ チル基等を例示でき o
一般式 ( 1 ) の化合物の非毒性塩と しては、 医薬上許 容される塩類、 例えば塩酸塩、 臭化水素酸塩、 沃化水素 酸塩、 硫酸塩、 クェン酸塩、 マ レイ ン酸塩、 乳酸塩、 酒 石酸塩等の有機カルボン酸、 メ タ ンスルホン酸、 ヒ ドロ キシメ タ ンスルホン酸、 タ ウ リ ン塩、 ベンゼンスルホ ン 酸塩、 トルエンスルホン酸塩等の有機スルホン酸塩、 ァ ルギニン塩、 リ ジン塩、 セ リ ン塩、 ァスパラギン酸塩、 グルタ ミ ン酸塩、 グ リ シン酸塩等のァ ミ ノ酸塩、 ナ 卜 リ ゥム塩、 カ リ ウム塩、 リ チウム塩等のアルカ リ金属塩、 カルシウム塩、 マグネシウム塩等のアルカ リ土類金属塩 が挙げられる。
上記一般式 ( 1 ) の化合物及びその非毒性塩の中で好 ま しいものは、 7 — 〔 2 — ヒ ドロキシィ ミ ノ 一 2 — ( 2 ーァ ミ ノ チアゾ一ノレ一 4 一ィル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 1 —力ルバモイノレメ チル一 4 一 ピ リ ジニォ) チ オ ビニル〕 _ 3 —セフ エム一 4 _力ノレボキシ レー 卜又は その塩、 7 — 〔 2 — ヒ ドロキシイ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ア ミ ノ チアゾ—ルー 4 一ィ ル) ァセ トア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 _ ( 1 一ェチル一 4 — ピ リ ジニォ) チオ ビニル〕 一 3 —セ フ ヱム— 4 _カルボキシ レー ト又はその塩、 7 — 〔 2 — ヒ ドロキシィ ミ ノ 一 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チアゾ一ル一 4 一 ィル) ァセ トア ミ ド〕 一 3 — { 2 - 〔 1 一 ( 2 — ヒ ドロ キシェチル) 一 4 — ピ リ ジニォ〕 チオ ビ二ル } 一 3 —セ フエム一 4 —カルボキシレー ト又はその塩、 7 — 〔 2 — ヒ ドロキシィ ミ ノ 一 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チアゾール一 4 一 ィル) ァセ トア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 1 —カルボキシメ チル一 4 一 ピ リ ジニォ) チオ ビニル〕 一 3 —セフ エムー 4 —カルボキシレー ト又はその塩、 7 — 〔 2 — ヒ ドロキ シィ ミ ノ 一 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チアゾールー 4 —ィル) ァ セ トア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 1 ーァセ トニルー 4 — ピ リ ジニォ) チオ ビニル〕 一 3 —セフ エム一 4 —カルボキシ レ一 卜又はその塩、 7 — 〔 2 — ヒ ドロキシイ ミ ノ ー 2 — ( 2—ァ ミ ノ チアゾ一ルー 4 —ィ ル) ァセ トア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 1 —メ チルー 2 — ピ リ ジニォ) チオ ビニル〕 — 3 —セフ エム一 4 一カルボキシ レー ト又はその塩、 Ί 一 〔 2 — ヒ ドロキシィ ミ ノ 一 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チアゾー ル一 4 —ィ ル) ァセ 卜ア ミ ド〕 一 3 — { 2 - 〔 1 — ( 4 —カルボキシベンジル) 一 4 一 ピ リ ジニォ〕 チオ ビ二ル } — 3 —セフ エム一 4 一カルボキ シ レー ト又はその塩、 Ί ― 〔 2 — ヒ ドロキシィ ミ ノ ー 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チアゾー ル一 4 ーィ ノレ) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — { 2 - 〔 1 一 ( N , N— ジェチルア ミ ノ カルボニルメ チル) 一 4 一 ピ リ ジニ ォ〕 チオ ビ二ル} 一 3 —セフ ヱム一 4 一カルボキシ レー ト又はその塩、 7 — 〔 2 — ヒ ドロキシイ ミ ノ ー 2 — ( 2 ーァ ミ ノ チアゾール一 4 —ィ ル〕 ァセ トア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 1 —ァ リ ルー 4 一 ピ リ ジニォ) チオ ビニル〕 一 3 —セフエム— 4 —カルボキシ レー ト又はその塩、 7 — 〔 2— ヒ ドロキシィ ミ ノ ー 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チアゾ一ル 一 4 —ィル) ァセ トア ミ ド〕 一 3— 〔 2 — ( 1 , 4 ー ジ メ チルー 1, 2, 4 ー ト リ アゾリ オ一 5 —ィル) チオ ビ ニル〕 一 3 —セフヱムー 4 一カルボキシレ一 ト又はその 塩、 7 — 〔 2 — ヒ ドロキシィ ミ ノ 一 2 - ( 2 —ア ミ ノ チ ァゾ一ル— 4—ィル) ァセ ト ア ミ ド〕 ー 3 — 〔 2 — ( 1, 3 — ジメ チルーイ ミ ダゾリ オ一 2—ィル) チオ ビニル〕 一 3 —セフ エム一 4 —カルボキシ レー ト又はその塩、 及 び 7 — 〔 2 — ヒ ドロキシィ ミ ノ 一 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チア ゾ—ルー 4 一ィ ル) ァセ トア ミ ド〕 — 3 — 〔 2 — ( 1 , 3 — ジメ チル一 1, 2 , 3 — ト リ アゾ リ オ一 5 —ィ ル) チオ ビニル〕 一 3 —セフ エ厶ー 4 —カルボキシ レー ト又 はその塩である。
本発明の化合物 ( 1 ) 及び原料化合物においては、 シ ス異性体、 ト ラ ンス異性体、 及びシス, ト ラ ンス混合物 が包含される ものとする。
化合物 ( 1 ) については、 例えばシス異性体は下記一 般式 ( 4 ) で表わされる部分構造を有する幾何異性体の 一つを意味し、 トラ ンス異性体は下記式 ( 5 ) で表わさ れる部分構造を有する他の幾何異性体を意味する。
S-R
0 = 0 (4)
H H
H
C = C (5)
H S-R
本発明の化合物 ( 1 ) 及びその塩は、 種々の方法によ つて製造されるが、 その好ま しい方法を示せば下記製造 法 I に従い製造される。
製造法一 I
Figure imgf000017_0001
〔式中 R 4 はセフヱムカルボキシル保護基を、 R' は
Figure imgf000017_0002
(7) (8) を示す で R ώ 、 n、 B 及び Cは前記に同 じ
R はァ ミ ノ基又は保護されたア ミ ノ基を示す。 R 6 は ォキシム保護基を示す。 Q、 R及び R 1 は前記に同 じ。 〕 上記製造法 I において、 一般式 ( 1 ) で表わされる化 合物は、 一般式 ( 6 ) で表わされるァ ミ ン化合物と一般 式 ( 7 ) で表わされるカルボン酸化合物又はそのカルボ キシ基が活性化された反応性誘導体とを通常のア ミ ド結 合生成反応させ、 次いで得られる生成物から保護基を除 去する こ とによ り製造でき る。
こ こで R 4 で示されるカルボキシ基の保護基と しては、 ト リ メ チルシ リ ル基等の ト リ (低級) アルキルシ リ ル基、 ベンズヒ ド リ ル基、 ρ —メ トキシベンジル基、 t M t —ブ チル基、 p —ニ ト ロべンジル基、 フ エナシル基等通常こ の分野に用いられる、 容易に除去し得るカルボキシ基の 保護基を例示でき る。
R 5 の保護されたァ ミ ノ基の保護基と しては、 緩和な 条件で容易に除去でき る保護基を広く 使用でき、 具体的 には ト リ メ チルシ リ ル基等の ト リ (低級) アルキルシ リ ル基、 ホル ミ ル基、 ト リ フルォロアセチル基、 ァセチル 基、 t e M —ブチルカルボニル基、 メ トキシァセチル基、 ベン ジルォキシカルボニル基、 p — 二 ト 口べン ジルォキ シカルボニル基等のァ シル系保護基、 ベン ジル基、 ベン ズヒ ド リ ル基、 ト リ チル基等のァラルキル基系の保護基 を例示でき る。
R 6 で示されるォキシ厶保護基と しては、 ト リ チル基、 テ トラ ヒ ドロ ビラニル基等の緩和な条件で容易に除去し 得る この分野で一般的に使用される保護基を例示でき る 化合物 ( 6 ) と化合物 ( 7 ) 又はその反応性誘導体と の反応には、 通常用いられている公知のア ミ ド結合生成 反応の条件が適用でき る。
化合物 ( 7 ) の反応性誘導体の例と しては、 例えば酸 塩化物、 酸臭化物等の酸ハライ ド、 置換リ ン酸、 ジアル キル亜リ ン酸、 亜硫酸、 チォ硫酸、 炭酸アルキル、 有機 カルボン酸等の酸との酸無水物及び対称酸無水物、 イ ミ ダゾ一ル、 ジメ チルビラ ゾール等との活性酸ア ミ ド、 p —ニ ト ロ フ エニルエステル、 フエ二ルチオエステル、 力 ルボキシメ チルチオエステル又は N — ヒ ドロキシピペ リ ジン、 N — ヒ ドロキシサク シノ イ ミ ド、 N— ヒ ドロキ シ フ 夕ルイ ミ ド等の N — ヒ ドロキシ化合物とのエステル等 の活性エステルが挙げられる。
本発明において、 化合物 ( 7 ) を遊離のカルボン酸の 状態で使用する場合には、 N , N— ジェチルカルボジィ ミ ド、 N, N — ジシク ロへキシルカルポジイ ミ ド等の縮 合剤を用いる こ とが好ま しい。
上記反応で用いられる溶媒は反応に関与しなければ特 に制限はな く 、 また反応温度は通常冷却下又は室温付近 で行なわれる。 .溶媒と しては、 ジェチルエーテル、 テ ト ラ ヒ ドロ フラ ン、 ジォキサン等のエーテル類、 ジク ロ ロ メ タ ン、 ジク ロ ロェタ ン、 ク ロ 口ホルム、 四塩化炭素等 のハロゲン化炭化水素類、 ベンゼン、 トルエン等の芳香 族炭化水素類、 ピ リ ジン、 ピぺリ ジン、 ト リ ェチルア ミ ン等のァ ミ ン類、 酢酸ェチル、 ギ酸ェチル等のエステル 類、 ジメ チルホルムア ミ ド、 へキサメ チルリ ン酸 ト リ ァ ミ ド、 ジメ チルスルホキシ ド等の非プロ ト ン性極性溶媒、 ァセ ト ン等ゃこれらの混合溶媒を例示出来る。
更に用いられるカルボン酸の反応性誘導体によ っては 塩基性化合物存在下に行な う こ とが好ま しい場合もある。 該塩基性化合物と しては、 ト リ ェチルァ ミ ン、 ト リ プチ ルァ ミ ン等の ト リ アルキルア ミ ン類、 ピ リ ジ ン、 ピコ リ ン、 1 , 8 — ジァザビシク ロ 〔 5 . 4 . 0 〕 ゥ ンデセ ン 一 7等の有機塩基、 炭酸水素ナ ト リ ウ ム、 炭酸水素カ リ ゥム、 炭酸ナ ト リ ウム、 炭酸カ リ ウム、 水酸化ナ ト リ ウ ム、 水酸化カ リ ウム等の無機塩基を例示でき る。
上記反応において一般式 ( 6 ) で表わされるア ミ ン化 合物に対する一般式 ( 7 ) で表わされるカルボン酸化合 · 物又はその反応性誘導体の使用量は、 通常 1 〜 1 0 倍モ ル量程度、 好ま し く は 1 〜 3倍モル量程度がよい。 また 一般式 ( 6 ) で表わされるァ ミ ン化合物に対する塩基性 化合物の使用量は、 通常 1 〜 3 0倍モル量程度、 好ま し く は 2〜 1 0倍モル量程度とするのがよい。 反応時間は 通常 1〜 2 4時間程度、 好ま し く は 1〜 6時間程度であ o
上記で得られたア ミ ド結合生成物から保護基を除去す るには、 例えば保護基が ト リ (低級) アルキルシ リ ル基 等である場合には、 水で処理する こ とによ り行なう こ と ができ る。 また、 ベンズヒ ドリ ル基、 ト リ チル基、 p — メ トキシベンジル基、 t e r t—ブチル基、 ホル ミ ル基等の 保護基である場合には、 ギ酸、 塩酸、 ト リ フルォロ酢酸 ァニソール— ト リ フルォロ酢酸、 酢酸、 フ エ ノ ール、 ク レゾ一ル類等で処理すれば除去でき る。 反応終了後、 ダ ィャイオ ン H P - 2 0、 H P - 2 1、 S P - 2 0 7、 C H P— 2 0 P (三菱化成工業) 等のハイ ポーラスポ リ マ 一、 ア ンバーラ イ ト X A D— 2 (口 一ム &ハス社) 等を 用いたカラムグラ フ ィ 一によ り精製する こ とによ り一般 式 ( 1 ) の本発明化合物を得る こ とができ る。
製造法一 H
Figure imgf000022_0001
保護蓰の除去
H2
Figure imgf000022_0002
〔式中 Q、 R、 R 1 、 R 4 、 R 5 、 R 6 及び R ' は前記 に同じ。 R 1 はハロゲン原子、 低級ァシルォキシ基又は スルホ二ルォキシ基を示す。 R 8
Figure imgf000023_0001
を示す。 こ こで C及び n は前記に同じ。 Xはハロゲン原 子を示す。 Mは水素原子又は金属原子を示す。 〕
上記製造法 11において、 一般式 ( 1 ) で表わされる本 発明化合物は、 一般式 (8 ) で表わされるセフ ァ ロ スポ リ ン化合物又はその塩類と一般式 ( 9 ) で表わされる メ ルカプ ト化合物を反応させ、 次いで得られる一般式
( 1 0) の化合物に一般式 ( 1 1 ) で表わされるハロゲ ン化有機化合物を反応させ、 更に得られる一般式 ( 1 2 ) の化合物から保護基を除去する こ と によ り 、 一般式 ( 1 ) の本発明化合物を得る こ とができ る。 また一般式 ( 8 ) の化合物に一般式 ( 1 3 ) で表わされる 4級化されたメ ルカプ ト化合物を反応させる こ とによ り、 一般式 ( 1 2 ) の化合物を一挙に製造する こ と もでき る。
化合物 ( 8 ) と化合物 ( 9 ) との反応は、 通常ァセ ト ン等のケ ト ン類、 ク ロ 口ホルム、 ジ ク ロ ロ メ タ ン、 ジ ク ロ ロェ夕 ン等のハロ ゲン化炭化水素類、 ジェチルェ一テ ル、 テ ト ラ ヒ ドロ フ ラ ン、 ジォキサ ン等のエーテル類、 ァセ トニ ト リ ノレ、 メ タ ノ 一ノレ、 エタ ノ ール等のアルコ一 ル類、 ジメ チルスルホキシ ド、 ジメ チルホルムア ミ ド、 水、 リ ン酸緩衝液等の有機溶媒又は親水性有機溶媒と水 との混合液中で行なわれる。 該反応系内に塩基や塩類を 添加する こ とによって反応を促進させる こ と もでき る。 これらの塩基、 塩類と しては、 例えば水酸化ナ ト リ ウム、 水酸化カ リ ウム、 炭酸ナ ト リ ウム、 炭酸カ リ ウム等の無 機塩基、 ト リ ェチルァ ミ ン、 ジイ ソプロ ピルア ミ ン等の ト リ アルキルア ミ ンの様な有機ア ミ ンを挙げる こ とがで き る。 また塩類と してはテ ト ラ プチルア ンモニゥム塩の 様な第 4級ア ンモニゥム塩が例示でき る。 該反応は通常 冷却下又は室温付近で行なわれる。
一般式 ( 1 1 ) で表わされるハロゲン化有機化合物と しては、 例えば低級アルキルハラィ ド、 低級アルケニル ハライ ド、 低級アルキニルハライ ド、 ヒ ドロキ シ低級ァ ルキルハラィ ド、 カルボキシ低級アルキルハラィ ド、 力 ルバモイル低級アルキルハラィ ド、 低級アルカ ノ ィ ル低 級アルキルハラィ ド等が挙げられ、 上記各種ハラィ ドと しては、 ク ロライ ド、 ブロマイ ド、 ョ ーダイ ド等が例示 でき る。 化合物 ( 1 0 ) と化合物 ( 1 1 ) との反応に使 用される溶媒と しては、 例えばジク ロ ロ メ タ ン、 ジ ク ロ ロェタ ン、 ク ロ 口ホルム、 四塩化炭素等のハロゲン化炭 化水素類、 ベンゼン、 トルエン、 キシ レ ン等の芳香族炭 化水素類、 ジェチルエーテル、 テ ト ラ ヒ ドロ フラ ン、 ジ ォキサン等のエーテル類、 ァセ トニ ト リ ル等が例示でき る。 該反応は室温〜 8 0 °C程度、 好ま し く は 2 0〜 5 0 °C程度にて行なわれ、 一般に 1〜 2 0時間程度で終了す る 0
一般式 ( 8 ) の化合物と一般式 ( 1 3 ) の化合物との 反応は、 前記一般式 ( 8 ) の化合物と一般式 ( 9 ) の化 合物との反応と同様の反応条件下に行ない得る。 一般式 ( 9 ) 及び ( 1 3 ) の金属原子と しては、 ナ ト リ ウム、 リ チウム、 カルシウム、 マグネシウム、 銀、 銅等が例示 できる。
斯く して得られる一般式 ( 1 2 ) の化合物は、 製造法 I で示した方法によ り保護基の除去を行な う こ とができ、 一般式 ( 1 ) の本発明化合物が容易に製造される。
本発明の化合物は、 適当な製剤用担体を用いて通常の 方法に従い、 製剤組成物と される。 こ こで用いられる担 体と しては、 通常の薬剤に汎用される各種の もの、 例え ば賦形剤、 結合剤、 崩壊剤、 滑沢剤、 着色剤、 矯味剤、 矯臭剤、 界面活性剤等を例示でき る。
本発明製剤を人を含む哺乳動物の感染症、 殊にメ チ シ リ ン耐性黄色ブ ドウ球菌の引 き起こす感染症の治療剤と して使用する際の投与単位形態と しては特に限定されず、 治療目的に応じて適宜選択でき、 具体的には注射剤、 坐 剤、 点眼剤、 軟膏剤、 エアゾール剤等の非経口剤、 錠剤、 被覆錠剤、 散剤、 顆粒剤、 カプセル剤、 液剤、 丸剤、 懸 濁剤、 乳剤等の経口剤を例示できる。
上記各種薬剤は、 この分野で通常知られた製剤方法に より製剤化される。 錠剤、 散剤、 顆粒剤等の経口用固形 製剤の形態に成形するに際しては、 担体と して例えば乳 糖、 白糖、 塩化ナ ト リ ウム、 ブ ドウ糖、 尿素、 デンプン、 炭酸カルシウム、 カオリ ン、 結晶セルロ ース、 ケィ酸、 メ チルセルロース、 グ リ セ リ ン、 アルギン酸ナ ト リ ウム、 アラ ビアゴム等の賦形剤、 単シロ ップ、 ブ ドゥ糖液、 デ ンプン液、 ゼラチ ン溶液、 ポ リ ビニルアルコ ール、 ポ リ ビニルエーテル、 ポ リ ビニルピロ リ ドン、 力ノレボキ シ メ チルセノレロース、 セラ ッ ク、 メ チルセルロ ース、 ェチル セルロ ース、 水、 エタ ノ ール、 リ ン酸カ リ ウ ム等の結合 剤、 乾燥デンプン、 アルギン酸ナ ト リ ウ ム、 カ ンテ ン末、 ラ ミ ナラ ン末、 炭酸水素ナ ト リ ウ ム、 炭酸カ ルシウ ム、 ポ リ オキ シエチ レ ン ソルビ夕 ン脂肪酸エステル類、 ラ ウ リ ル硫酸ナ ト リ ウ ム、 ステア リ ン酸モ ノ グ リ セ リ ド、 デ ンプ ン、 乳糖等の崩壊剤、 白糖、 ステア リ ン酸、 カ カ オ バター、 水素添加油等の崩壊抑制剤、 第 4級ア ンモニゥ ム塩基、 ラ ウ リ ル硫酸ナ ト リ ウム等の吸収促進剤、 グ リ セ リ ン、 デンプン等の保湿剤、 デンプン、 乳糖、 力オ リ ン、 ベン トナイ ト、 コ ロイ ド状ゲイ酸等の吸着剤、 精製 タルク、 ステア リ ン酸塩、 ホゥ酸末、 ポ リ エチ レングリ コール等の滑沢剤等を使用できる。 更に錠剤は必要に応 じ通常の剤皮を施した錠剤、 例えば糖衣錠、 ゼラチ ン被 包錠、 腸溶被錠、 フィ ルムコーティ ング錠、 二重錠、 多 層錠等とする こ とができ る。
丸剤の形態に成形するに際しては、 担体と して例えば ブ ドウ糖、 乳糖、 デンプン、 カカオ脂、 硬化植物油、 力 ォ リ ン、 タルク等の賦形剤、 アラ ビアゴム末、 ト ラガン ト末、 ゼラチ ン等の結合剤、 ラ ミ ナラ ン、 カ ンテ ン等の 崩壊剤等を使用でき る。
カプセル剤は上記で例示 した各種の担体と混合し、 硬 質ゼラチ ンカプセル、 軟質カプセル等に充填して調製さ れる。
坐剤の形態に成形するに際しては、 担体と して例えば ポ リ エチ レ ング リ コール、 カカオ脂、 ラ ノ リ ン、 高級ァ ルコール、 高級アルコールのエステル類、 ゼラチ ン、 半 合成グ リ セライ ド、 ウ イ テ ツ ブゾール (登録商標ダイ ナ マイ 卜 ノ ーベル社) 等に適当な吸収促進剤を添加 して使 用でき る。 注射剤の形態に成形するに際しては、 担体と して例え ば水、 エチルアルコール、 マク ロ ゴール、 プロ ピレ ング リ コール、 エ トキシ化イ ソステア リ ルアルコ 一ノレ、 ポ リ ォキシ化イ ソステア リ ルアルコール、 ポ リ ォ-キシェチ レ ンソルビタ ン脂肪酸エステル類等の希釈剤、 クェン酸ナ ト リ ウム、 酢酸ナ ト リ ウム、 リ ン酸ナ ト リ ウム等の p H 調整剤及び緩衝剤、 ピロ亜硫酸ナ ト リ ウム、 エチ レ ンジ ア ミ ン四酢酸、 チォグ リ コール酸、 チォ乳酸等の安定化 剤等を使用でき る。 なお、 この場合等.張性の溶液を調製 するに充分な量の食塩、 ブ ドウ糖又はグ リ セ リ ンを医薬 製剤中に含有せ しめてもよ く 、 また通常の溶解補助剤、 無痛化剤、 局所麻酔剤等を添加 してもよい。 これらの担 体を添加して、 常法によ り皮下、 筋肉内、 静脈内用注射 剤を製造する こ とができ る。
液体製剤は水性又は油性の懸濁液、 溶液、 シロ ッ プ、 エ リ キシル剤であつてもよ く 、 これらは通常の添加剤を 用いて常法に従い、 調製される。
軟膏剤、 例えばペース ト 、 ク リ ーム及びゲルの形態に 調製するに際 しては、 希釈剤と して例えば白色ワセ リ ン、 ノ、。ラ フ ィ ン、 グ リ セ リ ン、 セルロ ース誘導体、 ポ リ ェチ レ ン グ リ コ ール、 シ リ コ ン、 ベ ン ト ナイ ト等を使用でき る o 上記製剤中に含有されるべき本発明化合物の量と して は、 剤型、 投与経路、 投与計画等により異なり一概には 言えず広い範囲内から適宜選択されるが、 通常製剤中に 1〜 7 0重量%程度とするのがよい。
上記製剤の投与方法は、 例えば経腸投与、 経口投与、 直腸投与、 口腔内投与、 経皮投与等特に制限されず、 各 種製剤形態、 患者の年齢、 性別その他の条件、 患者の症 状の程度等に応じて適宜決定される。 例えば錠剤、 丸剤、 液剤、 懸濁剤、 乳剤、 顆粒剤及びカプセル剤の場合には、 経口投与される。 また注射剤の場合には単独で又はブ ド ゥ糖、 ア ミ ノ酸等の通常の補液と混合して静脈内投与さ れ、 更に必要に応じて単独で筋肉内、 皮内、 皮下も し く は腹腔内投与される。 坐剤の場合には直腸内投与される。 軟膏剤は、 皮膚、 口腔内粘膜等に塗布される。
本発明の化合物の投与量は、 用法、 患者の年齢、 状態、 病気の種類、 投与する本発明化合物の種類等に応じて適 宜選択される。 一般に 1 日 1 O O m gから約 1 0 g、 更 にはそれ以上の量が患者に投与でき る。 病原菌感染症の 治療には、 本発明化合物の 1回当りの平均投与量と して 約 5 0 m g、 1 0 0 m g、 2 5 0 m g、 1 0 0 0 m g 2 0 0 O m gの量が使用できる。
目的化合物の有用性を示すために、 本発明の代表的化 合物の寒天平板希釈法により各種細菌に対する抗菌力試 験を行ない、 各種細菌に対する菌発育最小阻止濃度 (M I C値) を F MO X (フ ロモキセフ) と比較して試験し た結果を表 1 に、 また臨床分離メ チシリ ン耐性、 シプロ フ ロキサシ リ ン高度耐性黄色ブ ドウ球菌に対する M I C — 8 0値を V CM (バンコマイ シ ン) 、 F MO X、 C P F X (シプロフ ロキサシリ ン) と比較した結果を表 2に 示す。 尚、 試験化合物は以下の通りである。
試験化合物
( a ) : 7— 〔 2— ヒ ドロキ シィ ミ ノ 一 2— ( 2 —ア ミ ノ チアゾ一ル一 4一ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 ― 〔 2— ( 1 一力ルバモイ ノレメ チルー 4 一 ピ リ ジニォ) チオ ビ二ル〕 一 3 —セフ エ ム 一 4 — 力 ルポキ シ レー ト (シ ン異性体)
( b ) : 7 — 〔 2— ヒ ドロキ シィ ミ ノ ー 2 — ( 2 —ア ミ ノ チア ゾールー 4 —ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 一 〔 2— ( 1 一 メ チル一 4 — ピ リ ジニォ) チォ ビニル〕 一 3 —セフ エ ム ー 4 — カ ルボキ シ レ一 ト (シ ン異性体)
( c ) : 7 - 〔 2 — ヒ ドロキ シィ ミ ノ 一 2 — ( 2 —ア ミ ノ チア ゾール _ 4 — ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 ― { 2 - 〔 1 — ( 2 — ヒ ドロキ シェチル) 一 4 — ピ リ ジニォ) チオ ビ二ル } — 3 —セ フ ヱ ム一 4 — カルボキ シ レー ト (シ ン異性体)
( d ) : 7— 〔 2 — ヒ ドロキシイ ミ ノ ー 2 — ( 2 —ア ミ ノ チアゾ一ルー 4一ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 一 〔 2 — ( 1 —カルボキシメ チルー 4 一 ピ リ ジ ニォ) チオ ビニル一 3 —セフ エム一 4 —カルボ キシ レー ト (シ ン異性体)
( e ) : 7 — 〔 2 — ヒ ドロキシィ ミ ノ 一 2.— ( 2 —ア ミ ノ チアゾ一ル一 4 一ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 _ 3 一 〔 2 — ( 4 — ピ リ ジル) チオ ビニル〕 一 3 — セフ エム一 4 —力ノレボン酸ナ ト リ ウム (シ ン異 性体)
( f ) : 7 — 〔 2 — メ ト キ シィ ミ ノ _ 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チア ゾール— 4 — ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 _ ( 1 — メ チルー 4 一 ピ リ ジニォ) チオ ビ ニル〕 一 3 —セフ エ ム ー 4 — カルボキ シ レー ト (シ ン異性体) 試 験 化 合 物 m (a) (b) j (c) j (d)
S. a u r e u s FDA 209 - P 0.1 0.1 I 0.1 1 3.13 E. f a e c a 1 i s A— TC C— 21212 0.2 fl.2 I 0.2 \ 12.5
MRS A 92-1044 3.13 ; 1.56 I 3.13 j 12.5
E. c o 1 i N I H J J C一 2
K. pn e umon i a e N C T C— 9632 0.02a I 0.025 | 0.025; 0.025
S. ma r c e s c e n s I F 0 -12648 0.1 ί 0.05 \ 0.05 ; 0.05 m m 試 験 化 合 物
(e) ; (f ) F M 0 X
S. a u r e u s FDA 209— P 0.1 10.39 0.2
E. f a e c a l i s ATCC-21212 0.78 \ 0. U \ 100
MRS A 92-10 4 25 125 * <— \ >100
E. c o 1 i N I H J J C-2 0.2 \ 0.0125; 0.05
K. p n e umo n i a e N C T C— 9632 0.2 \ 0.025 ! 0. < 0 ·—5
S. ma r c e s c e n s I FO-12648 1.55 I 0.05 ; 0.2
表 2
臨床分離メチシリン耐性, シプロキサシリン高度耐性黄色ブドウ球菌
M I C— 80値 接種菌量: 1 0 c e s m 1 試 験 化 合 物
W ( ) (c) VCM FMOX CPFX
MRS A (12.5^ gXml≥DMPPC) 3.13 1. 5 3. 13 1.56 100 100
MRS A (10 g/ml^CPFX) 3.13 i. o 3.13 1. oo 100 〉100 発明を実施するための最良の形態
7
以下に本発明化合物の製造例を実施例と して掲げる 実施例 1
3
Figure imgf000033_0001
CHS N
Figure imgf000033_0002
〔式中、 Trはトリチル基、 ΒΗはべンズヒ ドリノレ基を示す。
以下同じ。 〕
〔 2 — ( 4 — ピ リ ジル) チオ ビ二 一 3 —セ フ ェ 厶一 4 —力ノレボン酸べ ンズ ヒ ド リ ルエ ス テ ル (シス, ト ラ ンス混合物) ( 1. 0 g ) の塩化メ チ レ ン ( 1 0 m l ) 及びジメ チルホルムア ミ ド ( 1. 0 m l ) の混合溶液に ( Z ) — 2 — ト リ チルォキ シイ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ト リ チノレア ミ ノ チア ゾーノレ 一 4 一 ィ ル) 酢酸 ( 1. 4 6 g ) 及び D C C (ジ シ ク ロへキ シルカ ルポジ イ ミ ド) ( 4 5 0 m g ) を加え、 室温にて 2時間攪拌 し た。 反応終了後ジ シ ク ロへキ シルウ レァを濾別後酢酸ェ チルエステル ( 5 0 m 1 ) を加え、 飽和炭酸水素ナ小 リ ゥム水溶液、 飽和食塩水で洗浄、 硫酸マグネシウムで乾 燥後減圧下溶媒を留去して粗生成物 ( 2. 6 5 g ) を得 た。 その粗生成物をシリ カゲルカラムク ロマ トグラフィ —に付してベンゼン一酢酸ェチルで溶出して、 7 _ 〔 2 — ト リ チルォキシィ ミ ノ 一 2 — ( 2— ト リ チルア ミ ノ チ ァゾール— 4—ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3— 〔 2— ( 4 — ピ リ ジル) チオ ビニル〕 一 3—セフ エ ムー 4 —カノレボ ン酸べンズヒ ド リ ルエステル ( 1. 6 g ) を得た。
^ - NMR C C D C ^ ) 5 p p m ;
3. 5— 3. 7 ( 2 H, m) 、
5. 1 2 ( 1 H, d , J = 5. 3 H z ) .
6. 0 9 ( 1 H, d d , J = 5. 3, 8. 9 H z ) 、 6. 3 7 ( 0. 2 H, d , J = 1 0. 5 H z ) 、
6. 4 4 ( 1 H, s ) 、
6. 5 9 ( 0. 8 H , d , J = 1 5 6 H z ) 、 6. 9 6 ( 1 H, s ) 、
7. 1 — 7. 5 ( 4 3 H , m) 、
8. 4 2 ( 2 H, b r s ) 、
( 卜ラ ンス /シス =約 4 Z 1 )
実施例 2
Figure imgf000035_0001
T r
Figure imgf000035_0002
7 — 〔 2 — ト リ チルォキ シイ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ト リ チ ルァ ミ ノ チアゾール一 4 一ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 _ 3 — 〔 2 — ( 4 — ピ リ ジル) チオ ビニル〕 一 3 —セ フ エ ムー 4 —カルボン酸べ ンズヒ ド リ ルエステル (シス, ト ラ ン ス混合物) ( 2 3 8 m g ) のァセ トニ ト リ ノレ ( 1 1. 0 m l ) 及び塩化メ チ レ ン ( 5. 5 m l ) の混合溶液に、 ョ一 ドアセ ト ア ミ ド ( 7 6 3 m g ) を加え、 室温にて 6 5時間攪拌した。 反応終了後、 減圧下溶媒を留去し、 真空乾燥 した。 これを ジェチルエーテル ( 2 0 m l ) で 3回洗浄を行ない、 7 — 〔 2 — ト リ チルォキシイ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チア ゾールー 4 _ ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 1 — カノレバモイ ルメ チソレー 4 一 ピ リ ジニォ) チオ ビニル〕 一 3 —セ フ エ ム 一 4 一 カ ル ボン酸べンズヒ ド リ ノレエステノレ · 沃化物 ( 3 2 0 m g ) を得た。
H - NMR (DM S O - d g ) 5 p p m ;
3. 7 7 ( 1 H, d , J = 1 6. 2 H z ) 、
4. 1 8 ( 1 H, d, J = 1 6. 2 H z ) 、
5. 2 2 ( s, 2 H) 、
5. 3 5 ( 1 H , d , J = 5. l H z ) 、
5. 9 8 ( 1 H, d d , J = 5. 1, 8. 4 H z )
6. 2 2 ( 1 H, s ) 、 6. 9 2 ( 1 H, s ) ヽ
7. 1 — 7. 7 ( 4 2 H, m) 、
7. 9 8 ( 1 H, s ) 、
8. 1 0 ( 2 H d , J 6. 0 H z )
8. 6 7 ( 2 H d, J 6. 0 H z )
8. 7 8 ( 1 H s ) ヽ
9. 9 5 ( 1 H d, J = 8. 4 H z )
実施例 3
Figure imgf000037_0001
7 - 〔 2 — 卜 リ チルォキシイ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ト リ チ ルァ ミ ノ チアゾ一ルー 4 一ィル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 1 —力ルバモイ ルメ チルー 4 — ピ リ ジニォ) チ オ ビニル〕 一 3 —セ フ エ ム ー 4 — 力ノレボン酸ベンズ ヒ ド リ ルエステル * 沃化物 ( 3 2 0 m g ) の酢酸 ( 7. 8 m 1 ) 及び水 ( 1 . 0 5 m 1 ) の混合溶液を 2時間 4 0 〜 4 5 °Cに加温した。 反応終了後、 減圧下溶媒を留去 し た後、 ジェチルエーテル ( 5 0 m l ) を加え、 沈殿物を 得た ( 1 9 5 m g ) 。 この粗脱 ト リ チル体 ( 7 — 〔 2 — ヒ ドロキシィ ミ ノ ー 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チアゾ一ルー 4 _ ィル) ァセ 卜ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 1 —力ルバモイル メ チルー 4— ピリ ジニォ) チオ ビニル〕 一 3—セフエム — 4 一力ルボン酸べンズヒ ド リ ルエステル · 沃化物) の 塩化メチレ ン溶液 ( 7. 0 m l ) に、 0 °Cでァニソ一ル ( 0. 2 8 m l ) 及び T F A ( ト リ フルォロ酢酸)
( 0. 2 9 6 m l ) を加え 0 °Cから室温へ戻しながら 2 時間 4 5分攪拌した。 反応終了後、 ジェチルエーテルを 加え、 沈殿物 ( 1 5 0 m g ) を得た。 この粗生成物の水 溶液をダイヤイオン C H P— 2 0 Pに吸着させ、 水、 次 いで水ーァセ トニ ト リルで溶出した。 目的物を含む分画 を集め、 減圧濃縮し、 凍結乾燥して、 7 — 〔 2 — ヒ ドロ キシィ ミ ノ 一 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チアゾール _ 4 一ィ ル) ァセ トア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 1 —力ルバモイ ルメ チル — 4 — ピ リ ジニォ) チオ ビニル〕 一 3 —セフ エム一 4 一 カルボキシ レー ト ( ト ラ ンス異性体) を 6 0 m g得た。
1 H— NM R (D M S O - ) 5 p p m ;
3. 5 3 ( 1 H, d, J = 1 6. 2 H z ) 、
3. 7 4 ( 1 H, d , J = 1 6. 2 H z ) 、
5. 0 7 ( 1 H , d , J 5 · H z ) .
5. 2 0 ( 2 H , b r s ) ヽ
5. 6 3 ( 1 H , d d , J = 5. 1 , 8. 4 I- I z ) 6. 4 8 ( 1 H, d, = 1 5. 3 H z ) 、
6. 6 4 ( 1 H, s ) 7. 1 1 ( 2 H, b r s )
7. 4 8 ( 1 H, d, = 1 5. 3 H z ) 、
7. 6 3 ( 1 H, s )
7. 9 8 ( 2 H, d , = 6. 0 H z )
8. 0 0 ( 1 H, s )
8. 6 0 ( 2 H , d , = 6. 0 H z ) 、
9. 4 3 ( 1 H, d, = 8. 4 H z ) 、
1 1. 7 ( 1 H, . s )
実施例 4
Figure imgf000039_0001
7 - 〔 2 — ト リ チルォキ シ イ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ト リ チ ルァ ミ ノ チア ゾー ル一 4 — ィ ノレ) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 4 一 ピ リ ジル) チオ ビ二ル〕 — 3 — セ フ ヱ ム — 4 一 力 ノレボ ン酸べン ズ ヒ ド リ ノレエステル ( シ ス, ト ラ ン ス混合物) ( 4. 0 3 g ) のァセ トニ ト リノレ ( 9. 2 m 1 ) 及び塩化メ チ レ ン ( 2 4 m 1 :) の混合液に沃化メ チル ( 2. 2 1 m 1 ) を加え、 室温にて 2 2時間攪捽し た。 反応終了後、 減圧濃縮後、 ジェチルェ一テルを加え 粉末化した。 これを濾取し、 7 — 〔 2 — ト リ チルォキシ イ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チアゾ一ルー 4 —ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 1 —メ チルー 4 — ピ リ ジニォ) チオ ビニル〕 一 3 —セフ エ ム一 4 一 力ルボン 酸べンズヒ ドリルエステル · 沃化物 ( 4. 3 2 g ) を得 た。
^ - N M R ( D M S 0 - d g ) 5 p p m ;
3. 7 7 ( 1 H , d , J = 1 6. 2 H z ) 、
4. 1 8 ( 1 H, d , J = 1 6. 2 H z ) 、
4. 2 0 ( 1 H , s ) 、
5. 3 5 ( 1 H , d, J = 5. 1 H z )
5. 9 8 ( 1 H , d d , J = 5. 1 , 8 4 H z )
6. 6 2 ( 1 H , s ) 、 6. 9 2 ( 1 H s ) ヽ
7. 1 - 7. 7 ( 4 2 H , m) 、
8. 0 5 ( 2 H , d , J 6. 0 H z )
8. 7 0 ( 2 H , d , J 6. 0 H z )
9. 9 5 ( 1 H , d , J 8. 4 I-I z )
実施例 5
Figure imgf000041_0001
H2
Figure imgf000041_0002
Figure imgf000041_0003
実施例 3の方法に準じ、 7 — 〔 2 — ト リ チルォキ シィ ミ ノ 一 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チア ゾ一ル一 4 ー ィ ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 1 一 メ チル一 4 — ピ リ ジ ニォ) チオ ビニル〕 一 3 —セフ エム一 4 —力ノレボン酸べ ンズ ヒ ド リ ルエステル沃化物 ( 4. 3 g ) よ り 7 — 〔 2 — ヒ ドロキ シィ ミ ノ 一 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チア ゾーノレ一 4 一ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 1 — メ チルー 4 一 ピ リ ジニォ) チオ ビ二ル〕 _ 3 —セ フ ヱ ム一 4 一 カ ル ボキ シ レー ト ( 1. 1 g ) を得た。 H - N M R ( D M S 0 - d g ) δ p p m
3 . 5 2 ( 1 H, d , J = 1 6. 2 H z )
3. 7 3 ( 1 H, d , J = 1 6 . 2 H z )
4 1 5 ( 3 H , s ) 、 - 5 0 7 ( 1 H, d , J = 5. 1 H z ) 、
5 6 3 ( 1 H, d d , J = 5. 1, 8. 4 H z ) 6 4 9 ( 1 H , d , J = 1 5 . 4 H z ) 、
6 6 5 ( 1 H s ) 、 7 . 1 ( 2 H , b r s ) 、 7 4 8 ( 1 H d , J = 1 5 . 4 H z ) 、
7 9 5 ( 2 H d , J = 6 . 0 H z ) 、
8 6 1 ( 2 H d , J = 6. 0 H z ) 、
9 4 4 ( 1 H d , J = 8. 4 H z ) 、
1 1 . 3 2 ( 1 H , s )
実施例 6
Figure imgf000042_0001
7— 〔 2— ト リ チルォキシィ ミ ノ 一 2— ( 2 — ト リ チ ルァ ミ ノ チアゾ一ル— 4 —ィル) ァセ トア ミ ド〕 — 3 —
( 2 - ( 4—ピリ ジル) チオビニル〕 一 3—セフ ヱムー 4—カルボン酸-ベンズヒ ド リ ルエステル (シス, ト ラ ン ス混合物) ( 1. 0 g) のァセ トニ ト リ ル ( 2. 3 m l ) 及び塩化メ チ レン ( 5. 9 m l ) の混合液に臭化工チル
( 8. 5 m l ) 及び沃化ナ ト リ ウム ( 1 4. 9 g ) を加 え、 室温にて 2 4時間攪拌した。 反応終了後沈殿を瀘別 し、 溶媒を減圧下留去した後ジェチルエーテル
( 1 0 0 m l ) を加え、 粉末化を行ない、 これを濾取し て、 7— 〔 2— ト リ チルォキシイ ミ ノ ー 2— ( 2— ト リ チルァ ミ ノ チアゾール _ 4一ィル) ァセ トア ミ ド〕 一 3 一 〔 2— ( 1 —ェチルー 4 一 ピ リ ジニォ) チオ ビニル〕 — 3 —セフ エム一 4一力ルボン酸べンズヒ ド リ ノレエステ ル · 沃化物 ( 9 7 2 m g ) を得た。
1 H - N M R ( D M S 0 - d , ) 5 p p m
1. 4 7 ( 3 H t, J = 7. 2 H z ) 、
3. 7 6 ( 1 H d, J = 1 7. 7 I- I z ) 、
4. 1 6 ( 1 H d, J = 1 7. 7 H z ) 、
4. 4 8 ( 2 H q , J = 7. 2 H z )
5. 3 5 ( 1 H d , J = 5. 1 H z ) 、
5. 9 8 ( 1 H d d, J = 5. 1 , 8. 1 H z ) 6 . 6 2 ( 1 H, s ) 、 6. 9 8 ( 1 H , s )
7. 1〜 7 . 6 ( 4 2 H , m ) 、
8. 8 0 ( 2 H , d , J 6. 0 H z )
8. 8 1 ( 2 H , d, J 6. 0 H z )
9. 9 4 ( 1 H , d , J 8. 1 H z )
実施例 7
Figure imgf000044_0001
Figure imgf000044_0002
Figure imgf000044_0003
実施例 3 の方法に準じ、 7 — 〔 2 — ト リ チルォキ シィ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チア ゾ一ルー 4 一 ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 1 ーェチルー 4 一 ピ リ ジ ニォ) チオ ビニル〕 — 3—セフ エム一 4一力ルボン酸べ ンズヒ ド リ ル · 沃化物より 7— 〔 2— ヒ ドロキシィ ミ ノ - 2 - ( 2—ァ ミ ノ チアゾ一ル一 4一ィル) ァセ トア ミ ド〕 一 3 — 〔 2— ( 1—ェチル一 4一 ピ リ ジニォ) チォ ビニル〕 一 3—セフエム一 4—カルボキシ レ一 トを得た !H - N M R (DM S O - d 6 ) <5 p p m ;
1. 4 7 ( 3 H, t , J = 7. 2 H z ) 、
3 5 3 ( 1 H, d, J = 1. 6 2 H z ) 、
3 7 4 ( 1 H, d , J = 1 6. 2 H z ) 、
5 0 7 ( 1 H, d , J = 5. 1 H z ) 、
5 6 3 ( 1 H, d d, J = 5. 1 , 8. 4 H z ) 4 4 8 ( 2 H, q , J = 7. 2 H z )
6 4 8 ( 1 H , d , J = 1 5. 3 H z ) 、
6 6 4 ( 1 H, s ) 、 7. 1 1 ( 2 H , b r s ) 7 4 8 ( 1 H , d , J = 1 5. 3 H z ) 、
7 9 8 ( 2 H, d , J = 6. 0 H z ) 、
8 6 0 ( 2 H , d, J = 6. 0 H z ) 、
9 4 2 ( 1 H , d, J = 8. 4 H z ) 、
7 1 ( 1 H , s )
実施例 8
Figure imgf000046_0001
T r
Figure imgf000046_0002
7 - 〔 2 — ト リ チルォキシィ ミ ノ 一 2 — ( 2 — ト リ チ ルァ ミ ノ チアゾ一ル— 4 一ィル) ァセ トア ミ ド〕 — 3 — 〔 2 — ( 4 一 ピリ ジル) チオ ビニル〕 一 3 —セフ エム一 4 一 力 ノレボ ン酸べン ズ ヒ ド リ ノレエ ス テノレ ( シ ス, ト ラ ン ス混合物) ( 1 . O g ) の ァ セ ト ニ ト リ ノレ ( 2. 3 m l ) 及び塩化メ チ レ ン ( 5. 9 m 1 ) の混合液にブロム酢酸 ベンズヒ ド リ ルエステル ( 3. 2 g ) を加え、 室温にて 1 2時間攪拌した。 反応終了後減圧下溶媒を留去後、 ジ ェチルエーテル ( 1 0 O m 1 ) を加え、 粉末化を行ない、 これを濾別して 7 — 〔 2 — ト リ チルォキ シィ ミ ノ 一 2 — ( 2 - ト リ チノレア ミ ノ チアゾ一ル一 4 一ィ ル) ァセ 卜 ァ ミ ド〕 一 3 _ 〔 2 — ( 1 — ジフ ヱニルメ トキシカルボ二 ルメ チル一 4 一 ピ リ ジニォ) チオ ビニル〕 一 3 —セフ エ ム一 4一力ルボン酸べンズヒ ド リ ノレエステル · 臭化物
( 1. 2 g ) を得た。
H - N M R ( D M S 0 - d 6 ) <5 p p m ;
3. 7 6 ( 1 H, d , J = 1 7. 5 H z ) .
4. 1 6 ( 1 H, d, J = 1 7. 5 H z ) 、
5. 3 5 ( l H, d, J = 5. 3 H z ) 、
5. 6 9 ( 1 H, s ) 、
5. 9 8 ( 1 H, d d , J = 5. 1, 8. 5 H z )
6. 6 2 ( 1 H, s ) 、 6. 9 3. ( 1 H, s ) 、 6. 9 8 ( 1 H , s ) 、
7 7. 5 ( 5 2 H m) 、
8. 1 8 ( 2 H, d , J 6. 0 H z )
8. 8 0 ( 2 H, d , J 6. 0 H z )
9. 9 4 ( 1 H , d , J 8. 5 H z )
実施例 9
Figure imgf000048_0001
。 B H
Figure imgf000048_0002
実施例 3 の方法に準 じ、 7 — 〔 2 — ト リ チルォキ シィ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チア ゾールー 4 — ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 - 3 - C 2 - ( 1 一 ジフ ヱニルメ ト キ シ カルボニルメ チル— 4 一 ピ リ ジニォ) チオ ビニル〕 — 3 —セフ エ 厶 ー 4 — 力 ノレボン酸べンズ ヒ ド リ ルエステノレ · 臭化物よ り、 7 — 〔 2 — ヒ ドロキ ジイ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ァ ミ ノ チア ゾール— 4 一 ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 1 — カルボキ シメ チル _ 4 一 ピ リ ジニォ) チォ ビニル〕 一 3 —セ フ エ ム 一 4 — カ ルボキ シ レー 卜 を得た。 H一 NM R (D M S O - d g ) 5 p p m ;
3. 5 2 ( 1 H, d, J = 1 6. 0 H z ) 、
3. 7 3 ( 1 H, d, J = 1 6. 0 H z ) 、
5. 0 7 ( 1 H, d, J = 4. 8 H z ) 、- 5. 6 4 ( 1 H, d d , J = 4. 8, 8. 4 H z )
4. 6 9 ( 2 H, s ) ヽ
6. 4 8 ( 1 H d , J = 1 5. 3 H z ) 、
6. 6 4 ( 1 H; s ) 、 7. 1 1 ( 2 H, b r s )
7. 5 1 ( 1 H: d, J = 1 5. 3 H z ) 、
8. 0 1 ( 2 d , J = 6. 0 H z ) 、
8. 6 2 ( 2 L d, J = 6. 0 H z ) 、
9. 4 1 ( 1 H; d , J = 8. 4 H z ) 、
1 1. 7 2 ( 1 H , s )
実施例 1 0
Figure imgf000049_0001
Figure imgf000049_0002
.-, OH 7 - 〔 2 — ト リ チルォキシィ ミ ノ 一 2 — ( 2 — ト リ チ ルァ ミ ノ チアゾ一ル一 4 一ィル) ァセ トア ミ ド〕 — 3 —
〔 2 — ( 4 — ピ リ ジル) チオ ビ二 ― ό — t?フエム一
4 —カルボン酸べンズヒ ド リ ルエステル ( 1. 2 g ) の ァセ トニ ト リ ノレ ( 2. 8 m l ) 及び塩化メ チ レン
( 7. O m l ) の混合液に 2 —ョ一 ド—エタ ノ ール
( 8. 1 m l ) を加え、 4 0〜 5 0 °Cで 5 0時間攪拌し た。 反応終了後、 減圧下溶媒を留去した後ジイ ソプロ ピ ルエーテル ( 1 0 0 m l ) を加え、 粉末化を行ない、 こ れを濾別して 7 — 〔 2 — ト リ チルォキシイ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チアゾール一 4 一ィ ル) ァセ トァ ミ ド〕 一 3 — { 2 - 〔 1 一 ( 2 — ヒ ドロキシェチル) 一 4 一 ピ リ ジニォ〕 チオ ビ二ル} 一 3 —セフ エム一 4 一力 ルボン酸べンズヒ ド リ ルエステル · 沃化物 ( 9 2 5 m g ) を得た。
1 H - N M R ( D M S 0 - d g ) 5 p p m ;
3. 7 6 ( 1 H , d , J = 1 7. 4 Η ζ ) 、
4. 1 5 ( 1 Η , d , J = 1 7. 4 Η ζ ) 、
3. 7〜 3. 8 ( 2 H, m) 、
4 5〜 4. 6 ( 2 Η , m )
5. 3 5 ( 1 Η , d , J = 5. 1 Η ζ ) 、
5. 9 8 ( 1.H , d d , J = 5. 1, 8. 5 Η ζ ) 6. 6 2 ( 1 H , s ) 、 6. 9 9 ( 1 H, s )
7. 1〜 7. 5 ( 4 2 H, m) 、
8. 1 8 ( 2 H, d , J 6. 0 H z )
8. 8 0 ( 2 H, d, J 6. 0 H z )
9. 9 4 ( 1 H, d , J 8. 5 H z )
実施例 1 1
Figure imgf000051_0001
実施例 3の方法に準じて、 7 — 〔 2 — ト リ チルォキ シ イ ミ ノ ー 2 _ ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チア ブール一 4 ー ィ ル) ァセ 卜 ア ミ ド〕 - 3 - { 2 - 〔 1 — ( 2 — ヒ ドロ キ シェチル) 一 4一 ピ リ ジニォ〕 チオ ビ二ル } 一 3—セフ ヱムカルボン酸べンズヒ ド リ ルエステル · 沃化物より、 7— 〔 2— ヒ ドロキシィ ミ ノ 一 2— ( 2—ァ ミ ノ チアゾ —ルー 4—ィル) ァセ トア ミ ド〕 — 3— { 2 - 〔 1 — ( 2— ヒ ドロキシェチル) 一 4— ピリ ジニォ〕 チオ ビ二 ル} 一 3 —セフヱム一 4一カルボキシ レー トを得た。
^ - N M R (DM S O - ) ά p p m ;
3. 5 2 ( 1 H, d, J = 1 6. 2 H z ) 、
3. 7 4 ( 1 H , d , J = 1 6. 2 H z ) 、
3. 8〜 3. 9 ( 2 H, m) 、
4. 6〜 4. 7 ( 2 H , m) 、
5. 0 7 ( 1 H , d, J = 4. 8 H z ) 、
5. 6 5 ( 1 H , d d, J = 4. 8, 8. 5 H z )ヽ 6. 4 8 ( 1 H, d, J = 1 5. 4 H z ) 、
6. 6 5 ( 1 H , s ) 、 7. 1 1 ( 2 H , b r s ) 、
7. 5 2 ( 1 H , d, J = 1 5. 4 H z ) 、
7. 9 8 ( 2 H , d , J = 6. 0 H z ) 、
8. 6 0 ( 2 H , d, J = 6. 0 H z ) 、
9. 4 1 ( 1 H, d , J = 8. 5 H z ) 、
1 1. 7 1 ( 1 H , s )
実施例 1 2
Figure imgf000053_0001
Figure imgf000053_0002
7 - 〔 2 — ト リ チルォキ シイ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ト リ チ ルァ ミ ノ チアゾール— 4 —ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 — 3 —
〔 2 — ( 4 — ピ リ ジル) チオ ビニル〕 _ 3 —セフ エ ムー 4 —力ノレボン酸べンズヒ ド リ ルエステル ( 1 . 0 g ) の ァセ トニ ト リ ル ( 2. 3 m l ) 及び塩化メ チ レ ン
( 5. 9 m l ) の混合液にク ロルアセ ト ン ( 0. 6 9 m l ) 及び沃化ナ ト リ ウム ( 1 . 3 g ) を加え、 室温に て 5時間反応し、 沈殿物を濾別 し、 濾液を減圧下溶媒を 留去した後ジェチルエーテル ( 1 0 0 m 1 ) で粉末化を 行ない、 これを濾取し 7 _ 〔 2 — ト リ チルォキシィ ミ ノ - 2 - ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チアゾールー 4 _ィ ル) ァ セ ト ア ミ ド〕 — 3 — 〔 2 — ( 1 —ァセ ト ニルー 4 一 ピ リ ジニォ) チオ ビニル〕 一 3 —セ フ エ ム 一 4 — 力 ノレボ ン酸 ベ ンズヒ ド リ ルエステノレ · 沃化物 ( 1. 1 g ) を得た !H - N M R ( D M S 0 - d , ) 5 p p m ;
2. 2 8 ( 3 H, s ) 、
3. 7 6 ( 1 H, d , J 1 7. 4 H z )
4. 1 5 ( 1 H, d , J 1 7. 4 H z )
5. 3 5 ( 1 H, d, J 4. 8 H z ) .
5. 5 7 ( 2 H, s ) ヽ
5. 9 8 ( 1 H , d d, J = 4. 8, 8 4 H z )
6. 6 2 ( 1 H, s ) 、 6. 9 9 ( 1 H s ) ヽ
7. 1〜 7. 5 ( 4 2 H, m) 、
8. 1 2 ( 2 H, d , J = 6. 0 H z )
8. 5 2 ( 2 H , d , J = 6. 0 H z )
9. 9 4 ( 1 H , d, J = 8. 4 H z )
実施例 1 3
Figure imgf000055_0001
実施例 3の方法に準じて、 Ί — 〔 2 — 卜 リ チルォキシ イ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チアゾーノレ一 4 —ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 — 3 — C 2 - ( 1 ーァセ トニル— 4 — ピリ ジニォ) チオ ビニル〕 一 3 —セフ エムー 4 — カ ル ボン酸べンズヒ ド リ ルエステル ' 沃化物よ り 、 7 — L 2 — ヒ ドロキシィ ミ ノ 一 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チア ゾ一ルー 4 一ィル) ァセ トア ミ ド〕 _ 3 — 〔 2 — ( 1 ーァセ ト ニル 一 4 — ピ リ ジニォ) チオ ビニル〕 一 3 —セ フ エ 厶 ー 4 一 カルボキシ レー トを得た。 H - N M R ( D M S 0 - d g ) <5 p p m ;
2. 2 8 ( 3 H, s ) 、
3. 5 4 ( 1 H, d, J = 1 6. 0 H z ) 、
3. 7 5 ( 1- H, d, J = 1 6. 0 H z ) 、
5. 0 8 ( 1 H, d, = 4. 8 H z ) 、
5. 6 4 ( 1 H, d d , J = 4. 8 , 8. 4 H z )
5. 5 7 ( 2 H, s ) 、
6. 4 8 ( 1 H, d , J = 1 5. 3 H z )
6. 6 4 ( 1 H, s ) 、 7. 1 2 ( 2 H, b s )
7. 5 0 ( 1 H , d, J = 1 5. 3 H z )
8. 0 2 ( 2 H, d , J = 6. 0 H z ) 、
8. 5 0 ( 2 H, d , J = 6. 0 H z ) 、
9. 4 2 ( 1 H , d, J = 8. 4 H z ) 、
1 1. 7 0 ( 1 H , s )
実施例 1 4
Figure imgf000057_0001
Figure imgf000057_0002
7 — 〔 2 — ト リ チルォキ シィ ミ ノ 一 2 — ( 2 — ト リ チ ルァ ミ ノ チアゾ一ルー 4 一ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 —
〔 2 — ( 2 — ピ リ ジル) チオ ビニル〕 一 3 —セフ エムー 4 —力ノレボン酸べンズヒ ド リ ルエステノレ ( 2. 4 g ) の ァセ トニ ト リ ノレ ( 1 2 m l ) 及び塩化メ チ レ ン ( 4. 8 m 1 ) の混^溶液に沃化メ チル ( 1 8. 7 m 1 ) を加え、 室温にて 3 日間攪拌した。 反応終了後、 減圧濃縮し、 ク ロ ロホルム ( 3 8 m l ) に溶解した後、 ジイ ソ プロ ピル エーテル ( 1 2 0 m l ) 中に滴下し、 沈殿物を分取 し、 7 — 〔 2 — ト リ チルォキ シイ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ト リ チル ァ ミ ノ チア ゾ一ルー 4 —ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 — 3 —
〔 2 — ( 1 — メ チル一 2 — ピ リ ジニォ) チオ ビニル〕 一 3 ーセ フ エ ム一 4 一 力ルボ ン酸べンズ ヒ ド リ ノレエステル ' 沃化物 ( 3. 5 g ) を得た。
!H - N M R ( D M S 0 - d g ) 5 p p m ;
3. 7 7 ( 1 H, d, J = 1 6. 8 H z ) 、
4. 1 5 ( 1 H, d , J = 1 6. 8 H z ) 、
4. 2 0 ( 3 H, s ) 、
5. 2 5 ( 1 H, d , J = 4. 8 H z )
5. 8 0 ( 1 H, d d, J = 4. 8, 8 1 H z )
6. 6 8 ( 1 H, s ) 、 6. 9 7 ( 1 H s ) ヽ
7. 1〜 7. 7 ( 4 6 H, m) 、
8. 9 4 ( 1 H, s ) 、
9. 6 3 ( 1 H, d, J = 8. 1 H z )
実施例 1 5
Figure imgf000058_0001
7 — 〔 2 — ト リ チルォキ シィ ミ ノ 一 2 — ( 2 — 卜 リ チ ルァ ミ ノ チア プール一 4 一 ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2— ( 1 —メ チルー 2 — ピ リ ジニォ) チオ ビニル〕 一 3 —セフ ヱムー 4 一力ルボン酸べンズヒ ド リ ルエステル • 沃化物 ( 2. 5 g ) のク ロ 口ホルム ( 7. 1 m l ) 溶 液に 8 8 %ギ酸 ( 4. — 7 m 1 ) 及び濃塩酸 ( 0. 4 6 m l ) を加え、 2 5 °Cにて 3. 5時間攪拌した。 反応終 了後ク ロ口ホルム ( 1 4. 5 m l ) を加え、 分液後、 上 層をク ロ 口ホルムにて洗浄し ( 1 4. 5 m 1 X 3回) 、 その後ギ酸層をジイ ソプロ ピルエーテル ( 1 3. 4 m l ) 及びアセ ト ン ( 4 9 m l ) の混合液中に滴下し、 生成し た沈殿物をァセ ト ンにて洗浄し、 塩酸塩と して脱保護体
( 1. 7 g ) を得た。 次にこれを 0. I N—塩酸 ( 6 0 m l ) 溶液と して、 常法に従い、 ダイヤイオ ン H P — 2 1 カラムによ り精製 (溶出液 ; ァセ トニ ト リ ル Z水) し、 凍結乾燥品と して 7 — 〔 2 — ヒ ドロキシイ ミ ノ ー 2 —
( 2 —ァ ミ ノ チアゾール一 4 一ィル) ァセ トア ミ ド〕 ― 3 — 〔 2 — ( 1 —メ チルー 2 — ピ リ ジニォ) チオ ビニル〕 — 3 —セフ エム一 4 —カルボキシ レー ト ( 6 0 0 m g ) を得た。 iH— N M R CD M S O— d e ) ^ !^ !^ :
3. 5 4 ( 1 H , d , J = ] 6. 8 H z ) 、
3. 6 6 ( 1 H , d , J = 1 6. 8 H z ) 、
4. 1 0 ( 3 H , s ) 、
5. 0 5 ( 1 H , d , J = 4. 8 I-I z ) 、 5. 5 7 ( 1 H , d d , J = 4. 8 , 8. 1 H z )
6. 7 2 ( 1 H, d , J = 1 5. 8 H z ) 、
6. 7 3 ( 1 H, s ) 、
7. 1 4 ( 1 H, d d , J = 0. 9, 4. 8 H z ) 7. 1 9 ( 2 H, s ) 、
7. 3 1 ( 1 H, d , J = 1 5. 8 H z ) 、
7. 6 8 ( 1 H, d d , J = 1. 8 , 8 1 H z )
8. 4 2 ( 1 H , d d, J = 2. 7, 4 8 H z ) 7. 3 5 ( 1 H , d, J = 8. 4 H z )
9. 5 5 ( 1 H , d, J = 8. 1 H z )
1 1. 6 ( 1 H, b r s )
実施例 1 6
CH S
Figure imgf000060_0001
H
S、 I ®
C一 C 0 N
ø
H II N CH=CH S - C H
T r N 0 OH
\〇T r C〇2 B H
CO- \\ ノ OH
7 - 〔 2 — ト リ チ ルォ キ シ イ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ト リ チ ルァ ミ ノ チ ア ゾ一ルー 4 ー ィ ノレ) ァ セ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 4 _ ピ リ ジル) チオ ビニル〕 一 3 —セ フ エム一 4 一 力ルボン酸べンズ ヒ ド リ ノレエステノレ ( 1. 0 g ) の ァセ トニ ト リ ル ( 5. 9 m l ) 及び塩化メ チ レ ン
( 2. 3 m l ) の混合溶液に 4 — (ク ロ ロアセチル) 力 テコール ( 8 9 5 m g ) 及び沃化ナ ト リ ウム ( 7 5 0 m g ) を加え、 室温にて 6. 5時間攪拌した。 反応終了 後、 塩化メ チ レ ン ( 3 0 m l ) を加えて不溶分を瀘別 し た後、 濾液を減圧濃縮し、 溶媒を留去した。 これをク ロ 口ホルム ( 5 0 m l ) に溶解した後、 ジイ ソプロ ピルェ 一テル ( 5 0 m l ) 中に滴下し、 沈殿物を分取し、 7 —
〔 2— ト リ チルォキシィ ミ ノ 一 2 — ( 2 — ト リ チルア ミ ノ チアゾ一ルー 4一ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 3 2
〔 1 — ( 3, 4 — ジ ヒ ドロキ シフ エニルカルボ二ルメ チ ル) 一 4 — ピ リ ジニォ〕 チオ ビ二ル } — 3 —セ フ エ ム ー 4 ーカルボン酸べンズヒ ド リ ルエステル · 沃化物
( 1. 0 5 g ) を得た。
1 H - N M R ( D M S 0 - d g ) <5 p p m ;
3. 7 7 ( 1 H, d , J = 1 7 H z )
4. 1 8 ( 1 H , d , J = 1 7 H z ) 、
5. 3 5 ( 1 H, d , J = 5. 1 H z ) 、
5. 9 8 ( 1 H , d d , J = 5. 1, 8. 1 H z ) 、
6. 1 6 ( 2 H , s ) 、 6. 6 1 ( 1 II , s ) 、 6. 9 9 ( 1 H, s ) 、
6. 9〜 7. 5 ( 4 5 H, m) 、
8. 1 5 ( 2 H, d , J = 6. 9 H z )
8. 7 4 ( 2 H, d , J = 6. 9 H z )
8. 7 8 ( 1 H, s ) 、
9. 9 4 ( 1 H, d , J = 8. 1 H z )
実施例 1 7
H H
H
H
Figure imgf000062_0001
7 - 〔 2 — ト リ チルォキ シィ ミ ノ 一 2 — ( 2 — ト リ チ ルァ ミ ノ チア ゾールー 4 一 ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 — 3 — { 2 - 〔 1 _ ( 3 , 4 — ジ ヒ ドロキ シフ ヱニルカ ルボ二 ルメ チル) 一 4 一 ピ リ ジニォ〕 チオ ビ二ル } 一 3 —セ フ ェ ム — 4 _ カルボン酸べンズヒ ド リ ルエステル · 沃化物
( 1 . 0 g ) のク ロ 口 ホルム ( 3. 0 m 1 ) 溶液に 8 8 %ギ酸 ( 2 m 1 ) 及び濃塩酸 ( 0. 1 8 m 1 ) を加え、 2 5 °Cにて 2. 5時間攪拌した。 反応終了後ク ロ口ホル ム ( 1 5 m l ) を加え、 分液後、 上層をク ロ口ホルムに て洗浄し ( 1 5 m l X 3回) 、 その後ギ酸層をジイ ソプ 口 ピルエーテル ( 5. 4 m l ) 及びアセ ト ン ( 2 0 m l ) の混合液中に滴下し、 生成した沈殿物をアセ ト ンにて洗 浄して、 粗生成物 ( 4 5 8 m g ) を塩酸塩と して得た。 次にこれを 0. 1 N—塩酸 ( 1 0 0 m l ) 溶液と して、 常法に従い、 ダイヤイオン H P — 2 1 カラムにより精製
(溶出液 ; ァセ トニ ト リ ル/水) し、 凍結乾燥品と して 7 - 〔 2 — ヒ ドロキシイ ミ ノ ー 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チアゾ ール— 4—ィル) ァセ トア ミ ド〕 — 3 — { 2 - 〔 1 —
( 3 , 4— ジヒ ドロキシフ エニルカルボニルメ チル) 一 4 一 ピ リ ジニォ〕 チオ ビ二ル} 一 3 —セフ エムー 4 一力 ルポキシ レー ト ( 5 7 m g ) を得た。
1 H - N M R ( D M S 0 - d , ) 5 p p m ;
3. 7 9 ( 1 H , d , J = 1 7. 1 Η ζ ) 、
3. 5 6 ( 1 H, d , J = 1 7. l H z ) 、
5. 0 7 ( 1 H d, J = 5. 1 H z ) 、
5. 6 5 ( 1 H d d , J = 5. 1 , 8. 1 H z ) 6. 1 3 ( 2 H b r s ) 、
6. 5 7 ( 1 H d, J = 1 5. 3 H z ) 、
6. 6 5 ( 1 H s ) 、 6. 9 2 ( 1 H, d , J = 8. 1 H z ) ヽ
7. 1 1 ( 2 H, b r s ) 、 7. 4 3 ( 2 H, m)
7. 5 1 ( 1 H, d, J = 1 5. 3 H z )
8. 0 5 ( 2 H , d , J = 6. 9 H z ) 、
8. 5 9 ( 2 H, d , J = 6. 9 H z ) 、
9. 4 4 ( 1 H, d , J = 8. 1 H z )
実施例 1 8
Figure imgf000064_0001
Figure imgf000064_0002
7— 〔 2 — ト リ チルォキ シィ ミ ノ 一 2 — ( 2— ト リ チ ルァ ミ ノ チア ゾ一ル— 4 — ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 — 3 —
〔 2— ( 4 一 ピ リ ジル) チオ ビ二ル〕 一 3 —セ フ ヱ 厶 ー 4 一 力ノレボン酸べンズヒ ド リ ルエステル ( 1. 6 g ) の ァセ トニ ト リ ノレ ( 9. 6 m l ) 及び塩化メ チ レ ン
( 3. 7 m 1 ) の混合溶液に 5 — プロモ吉草酸べンズ ヒ ド リ ルエステル ( 1 1. 0 g ) 及び沃化ナ ト リ ウ ム ( 4. 8 4 g ) を加え、 4 5 °Cにて 4 7. 5時間攪拌し た。 反応終了後、 塩化メ チ レ ン ( 4 8 m l ) を加えて不 溶分を濾別した後、 濾液を減圧濃縮し、 溶媒を留去した これをク ロ口ホルム ( 7 m l ) に溶解した後、 ジイ ソプ 口 ピルエーテル ( 7 5 m l ) 中に滴下し、 沈殿物を分取 し、 7 — 〔 2 — ト リ チルォキシィ ミ ノ 一 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チアゾ一ルー 4 —ィル) ァセ トア ミ ド〕 — 3 ― { 2 — 〔 1 一 ( 4 — ジフ エニルメ トキシカルボニルブ チル) 一 4 — ピリ ジニォ〕 チオ ビ二ル } 一 3 —セフ エム — 4 —カルボン酸べンズヒ ド リ ルエステル · 沃化物
( 2. 0 2 g ) を得た。
^ - N M R (D M S O - d 6 ) δ p p m ;
1. 4 2〜 1. 5 9 ( 2 H , m) 、
1. 7 9〜 : L . 9 2 ( 2 H, m) 、
2. 5 0 ( 2 H t , J = 7. 2 H z ) 、
3. 7 5 ( 1 H d, J = 1 7. 4 H z )
4. 1 4 ( 1 H d , J = 1 7. 4 H z )
4. 4 5 ( 2 H t, J = 7. 2 H z ) 、
5. 3 4 ( 1 H d , J = 4. 8 H z ) 、
5. 9 8 ( 1 H d d , J = 4. 8 , 8 1 I-I z )
6. 6 2 ( 1 H s ) 、 6. 7 8 ( 1 M s ) ヽ 6. 9 7 ( l.H s ) ヽ 7. 0〜 7. 6 ( 5 2 H, m) 、
8. 0 8 ( 2 H, d , J = 6. 9 H z )
8. 7 8 ( 2 H, d, J = 6. 9 H z )
9. 9 2 ( 1 H, d , J = 8. 1 H z )
実施例 1 9
Figure imgf000066_0001
7 - 〔 2 — ト リ チルォキ シィ ミ ノ 一 2 — ( 2 — ト リ ルァ ミ ノ チア ゾール— 4 —ィ ル) ァセ 卜 ア ミ ド〕 一 3 —
{ 2 — 〔 1 — ( 4 ー ジフ エニルメ ト キ シカ ルボ二ルブチ ル) 一 4 一 ピ リ ジニォ〕 チオ ビ二ル } 一 3 —セ フ ニ 厶 ー 4 一 力 ルボン酸べンズ ヒ ド リ ルエステル · 沃化物 '
( 1 . 8 g ) の ク ロ 口 ホルム ( 4 . 8 m l ) 溶液へ 8 8 %ギ酸 ( 2 m l ) 及び濃塩酸 ( 0. 3 m l ) を加え、 2 5 °Cにて 3時間攪拌した。 反応終了後ク ロ 口 ホルム
( 2 4 m 1 ) を加え、 分液後、 上層をク ロ 口ホルムにて 洗浄し ( 2 4 m 1 x 3回) 、 その後ギ酸層をジイ ソプロ ピルェ一テノレ ( 8. 4 m l ) 及びアセ ト ン ( 3 1 m l ) の混合液中に滴下し、 生成した沈殿物をアセ ト ンにて洗 浄して塩酸塩 ( 4 6 5 m g ) を得た。 次にこれを 0. 1 N—塩酸 ( 1 0 0 m l ) 溶液と して、 常法に従い、 ダイ ャイオン H P— 2 1 カラムにより精製 (溶出液 ; ァセ ト 二 ト リル Z水) し、 凍結乾燥品と して 7 — 〔 2 — ヒ ドロ キシィ ミ ノ 一 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チアゾール一 4 —ィル) ァセ トア ミ ド〕 一 3 — { 2 - 〔 1 一 ( 4 一カルボキシブ チル) 一 4 — ピリ ジニォ〕 チオ ビ二ル } — 3 —セフ エム — 4 —カルボキシレー ト ( 1 6 7 m g) を得た。
^ - N M R ( D M S 0 - d , ) 5 p p m ;
1. 4 4 ( 2 H, m) 、 1. 8 4 ( 2 H, m) 、 2. 2 5 ( 2 H , t , J = 7. 2 H z ) 、
4. 3 4 ( 2 H , t , J = 7. 2 H z ) .
5. 0 8 ( 1 H, d, J = 4. 8 H z ) 、
5. 6 5 ( 1 H , d d , J = 4. 8, 8. l H z ) 、
6. 5 0 ( 1 H , d , J = 1 5. 3 H z ) 、
6. 6 4 ( 1 H, s ) 、 7. 1 2 ( 2 H , b r s ) 、
7. 4 6 ( 1 H , d, J = 1 5. 3 H z ) 、
7. 9 8 ( 2 H , d , J = 6. 9 H z ) 、
8. 7 4 ( 2 H , d, J = 6. 9 H z ) 、 9. 4 4 ( 1 H, d , J = 8 H z )
実施例 2 0
Figure imgf000068_0001
C〇2 BH 実施例 1 8の方法に準じ、 7 — 〔 2 — ト リ チルォキ シ ィ ミ ノ 一 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チアゾ一ル一 4 — ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 4 — ピ リ ジル) チォ ビニル〕 一 3 —セフ エム一 4 一力ノレボン酸べンズヒ ド リ ルエステル、 p — ク ロ ロ メ チル安息香酸ベ ンズヒ ド リ ル エステル及び沃化ナ ト リ ウムよ り 7 — 〔 2 — ト リ チルォ キ シイ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チア ゾール一 4 一ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — { 2 - 〔 1 一 ( 4 — ジ フ ヱニノレメ ト キ シカノレボニノレべ ン ジノレ) 一 4 — ピ リ ジニォ〕 チオ ビ二ル } 一 3 —セフ エ ム 一 4 一 力 ルボ ン酸べ ンズ ヒ ド リ ルエステル · 沃化物を得た。
1 H - N M R ( D M S 0 - d 6 ) 5 p p m ;
3. 7 1 ( 1 H , d , J = 1 7. 0 Η ζ ) 、
4. 1 2 ( 1 Η , d , J = 1 7. 0 Η ζ ) 、
5. 3 1 ( 1 Η , d , J = 5. 4 Η ζ ) 、 5. 8 2 ( 2 H , b r s ) ヽ
5. 9 8 ( 1 H, d d, J = 5. 4 , 8 1 H z )
6. 6 1 ( 1 H, s ) 、 6 , 9 8 ( 1 H s ) ヽ 7. 0 3 ( 1 H, s )―、
7. 1〜 7. 5 ( 5 2 H, m) 、
7. 6 1 ( 2 H, d , J = 8. 7 H z )
8. 1 1 ( 2 H, d, J = 8. 1 H z )
8. 1 3 ( 2 H, d , J = 6. 9 H z )
8. 7 8 ( 1 H, s ) 、
8. 9 1 ( 2 H, d, J 6. 9 H z )
9. 9 2 ( 1 H, d , J 8. 1 H z )
実施例 2 1
Figure imgf000069_0001
実施例 1 9の方法に準 じ、 7 _ 〔 2 — ト リ チルォキ シ ィ ミ ノ 一 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チア プール一 4 — ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — { 2 - 〔 1 — ( 4 — ジフ ヱ二 ルメ ト キ シカルボニルベ ン ジル) 一 4 一 ピ リ ジニォ〕 チ オ ビ二ル } 一 3 —セ フ エ ム ー 4 一 力 ノレボ ン酸べ ンズ ヒ ド リ ルエステル · 沃化物よ り 7— 〔 2 — ヒ ドロキシィ ミ ノ
- 2 - ( 2—ァ ミ ノ チアゾ一ルー 4 一ィル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3— { 2— 〔 1 — ( 4—カルボキシベンジル) 一 4— ピ リ ジニォ〕 チオ ビ二ル} 一 3—セフ エム一 4 —力 ルボキシレー 卜を得た。
H - N M R ( D M S 0 - d 6 ) 5 p p m ;
3. 5 2 ( 1 H , d , J = 1 7. 0 Η ζ ) .
3. 7 5 ( 1 Η d , J = 1 7. 0 Η ζ ) 、
5. 0 7 ( 1 Η d , J = 5. 4 Η ζ ) 、
5. 6 5 ( 1 Η d d , J = 5. 4, 8. 1 H z )
5. 7 6 ( 2 Η b r s ) .
6. 5 1 ( 1 Η d, J = 1 5. 3 H z ) 、
6. 6 4 ( 1 Η s ) ヽ
7. 1 2 ( 2 Η b r s ) 、
7. 5 1 ( 2 Η d, J = 8. 7 H z ) .
7. 9 4 ( 2 Η d, J = 8. 1 H z ) 、
8. 0 1 ( 2 H, d, J = 6. 9 H z )
8. 8 4 ( 2 H , d , J = 6. 9 H z )
9 4 4 ( 1 H , d , J = 8 H z )
実施例 2 2
Figure imgf000071_0001
CH2 C〇2 BH 実施例 1 8の方法に準じ、 7 — 〔 2 — ト リ チルォキ シ ィ ミ ノ 一 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チアゾ一ルー 4 ー ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 4 一 ピ リ ジル) チォ ビュル〕 _ 3 —セフ エ ム— 4 —カルボン酸べンズヒ ド リ ルエステル、 p — ク ロ ロ メ チルフ エ二ノレ酔酸べンズ ヒ ド リ ルエステル及び沃化ナ ト リ ウムよ り 7 — 〔 2 — ト リ チ ルォキシィ ミ ノ 一 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チア ゾール — 4 —ィ ル) ァセ 卜 ア ミ ド〕 一 3 — { 2 - 〔 1 — ( 4 一 ジフ エニノレメ ト キ シカノレポニノレメ チノレべ ン ジノレ) 一 4 一 ピ リ ジニォ〕 チオ ビ二ル } — 3 —セ フ エ ムー 4 一 カ ルボ ン酸べンズヒ ド リ ルエステル · 沃化物を得た。
!H - N M R ( D M S 0 - d 6 ) 5 p p m ;
3. 7 2 ( 1 H , d , J = 1 6. 8 H z ) 、
3. 8 3 ( 2 H, s ) 、
4. 1 3 ( 1 H , d , J . = 1 6. 8 H z ) .
5. 3 3 ( 1 H , d , J = 5. l H z ) 、
5. 6 7 ( 1 H , d d , J = 5. 1, 8 1 H z 6. 6 2 ( 1 H , s ) ヽ 6. 7 5 ( 1 H , s )
6. 9 8 ( 1 H, s ) 、
7. 0〜 7. 5 ( 5 6 H, m) 、
8. 0 9 ( 2 H, d, J = 6. .9 H z )
8. 7 9 ( 1 H, s ) 、
8. 9 ( 2 H, d , J = 6. 9 H z ) 、
9. 9 4 ( 1 H, d, J = 8. 1 H z )
実施例 2 3
Figure imgf000072_0001
CH2 C02 H 実施例 1 9 の方法に準じ、 7 〔 2 — ト リ チルォキ シ ィ ミ ノ 一 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チア ゾールー 4 — ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 ー 3 — { 2 - 〔 1 一 ( 4 ー ジフ エ二 ルメ トキ シカルボニルメ チルベン ジル) 一 4 — ピ リ ジニ ォ〕 チオ ビ二ル} 一 3 —セ フ エ ム 一 4 — カ ルボ ン酸ベ ン ズ ヒ ド リ ルエステル ' 沃化物よ り 7 — 〔 2'— ヒ ドロ キ シ ィ ミ ノ 一 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チア ゾ一ルー 4 一 ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — { 2 — 〔 1 — ( 4 _ カ ルボキ シ メ チル ベ ン ジノレ) 一 4 — ピ リ ジニォ〕 チオ ビ二ル } — 3 — セ フ ェム 4 —カルボキシ レー トを得た。
1 H - N M R ( D M S 0 - d P + D 2 0 ) 5 p p m
3. 2 2 ( 2 H, s ) 、 3. 5 0 ( 1 H, d , J = 1 6. 8 H z ) 、 3. 7 3 ( 1 H , d , J = 1 6. 8 H z ) 、 5. 0 5 ( 1 H, d , J = 5. l H z ) 、 5. 5 6 ( 2 H, b r s ) 、
5. 6 4 ( 1 H, d, J = 5. l H z ) 、
6. 4 9 ( 1 H, d , J = 1 5. 3 H z ) 、
6. 6 4 ( 1 H, s ) 、
7. 2〜 7. 3 ( 4 H , m) 、
7. 4 5 ( 1 H, d J 1 5. 3 H z )
7. 8 6 ( 2 H , d J 6. 9 H z ) 、
8. 7 4 ( 2 H, d J = 6. 9 H z ) 実施例 2 4
T r 2
C〇9 BH
Figure imgf000073_0001
実施例 1 8の方法に準 じ、 7 — 〔 2 — ト リ チルォキ シ ィ ミ ノ 一 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チア ゾ一ルー 4 ー ィ ル) ァセ トア ミ ド〕 一 3 — 〔 2— ( 4一 ピ リ ジル) チォ ビニル〕 一 3—セフ エム一 4 一力ルボン酸べンズヒ ド リ ルエステル及び 0—ョ一 ドメ チル安息香酸べンズヒ ド リ ルエステルより 7— 〔 2— ト リ チルォキシィ ミ ノ 一 2 — ( 2— ト リ チルァ ミ ノ チアゾール一 4—ィル) ァセ ト ァ ミ ド〕 一 3— { 2 - 〔 1 — ( 2— ジフ エニルメ トキシカ ルボニルベンジル) 一 4— ピ リ ジニォ〕 チオ ビ二ル } 一 3—セフ エム一 4—カルボン酸べンズヒ ド リ ノレエステル • 沃化物を得た。
1 H— NMR ( D M S 0 - d 6 ) 5 p p m ;
3. 7 5 ( 1 H, d, J = 1 7. 1 Η ζ ) 、
4. 1 4 ( 1 H, d, J = 1 7. l H z ) 、
5. 3 4 ( 1 H , d, J = 5. 1 H z ) 、
5. 9 3〜 6. 0 ( 1 H , m) 、
6. 0 1 ( 2 H, b r s ) 、 6. 6 1 ( 1 H , s ) 、
6. 9 7 ( 1 H , s ) 、 6. 9 8 ( 1 H, s ) 、
7. 0〜 8. 5 ( 4 6 H, m) 、
8. 0 3 ( 2 H d , J = 6. 9 H z ) 、
8. 6 8 ( 1 H d, J = 6. 9 H z ) 、
8. 7 8 ( 1 H s ) ヽ
9. 9 3 ( 1 H d, J = 8. 1 H z ) 。
実施例 2 5
Figure imgf000075_0001
実施例 1 8の方法に準じ、 7— 〔 2 — ト リ チルォキシ ィ ミ ノ 一 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チアゾ一ルー 4 —ィ ル) ァセ トア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 4 — ピ リ ジル) チォ ビニル〕 一 3 —セフ ヱムー 4 一力ルボン酸べンズヒ ド リ ルエステル、 N, N— ジェチノレ一 2 — ク ロ ロアセ ト ア ミ ド及び沃化ナ ト リ ウムよ り 7 — 〔 2 — ト リ チルォキシィ ミ ノ 一 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チアゾールー 4 —ィル) ァセ トア ミ ド〕 — 3 — { 2 - 〔 1 — ( N , N— ジェチル ァ ミ ノ カルボニルメ チル) 一 4 一 ピ リ ジニォ〕 チオ ビ二 ル } — 3 —セフヱム一 4 一力ルボン酸べンズヒ ド リ ノレェ ステル · 沃化物を得た。
1 H— N MR ( D M S 0 - d g ) 5 p p m ;
1. 0 3 ( 3 H , t , J = 7. 0 H z ) 、
1. 2 2 ( 3 H, t , J = 7. 0 H z ) 、
3. 3 1 ( 4 H , m ) 、
3. 7 5 ( 1 H, d , J = 1 6. 8 H z )
4. 1 4 ( 1 H, d , J = 1 6. 8 H z ) 、 5. 3 3 ( 1 H , d, J = 4. 8 H z ) 、
5 5 7 ( 2 H, b r s ) 、
5 9 8 ( 1 H, d d , J = 4. 8 , 8. 0 H z
6 6 1 ( 1 H, s ) 、 6. 9 8 ( 1 H, s ) 、
7 0 5〜 7. 5 0 ( 4 2 H m) 、
8 1 0 ( 2 H, d, J = 6 0 H z ) 、
8 6 4 ( 2 H , d , J = 6 0 H z ) 、
6 7 9 ( 1 H, s ) 、
9 9 3 ( 1 H, d , J = 8 0 H z )
実施例 2 6
Figure imgf000076_0001
実施例 1 9の方法に準じ、 7 — 〔 2 — ト リ チルォキ シ イ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チア ゾ一ルー 4 ー ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — { 2 — 〔 1 一 ( N , N— ジェ チルァ ミ ノ カ ルボニルメ チル) _ 4 一 ピ リ ジニォ〕 チォ ビニル } 一 3 —セ フ エ ム ー 4 一 力 ルボン酸べンズ ヒ ド リ ルエステル . 沃化物よ り 7 — 〔 2 — ヒ ドロキ シィ ミ ノ — 2 - ( 2 — ァ ミ ノ チア ゾールー 4 — ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 - 3 - { 2 - 〔 1 一 ( N N — ジェチルァ ミ ノ カルボ二 ルメ チル) 一 4 一 ピ リ ジ ォ〕 チオ ビ二ル } 3 —セ フ ェムー 4 —カルボキシ レ 卜を得た。
^ - N M R ( D M S O d c ά p p m ;
1 . 0 3 ( 3 H, t , = 7 . 0 H z ) 、
1 . 2 1 ( 3 H , t , = Ί . 0 H z ) 、
3 . 3 3 ( H , m)
3. 5 4 ( 1 H , d, J = 1 6. 8 H z )
3. 7 4 ( 1 H , d, J = 1 6. 8 H z )
5 . 0 8 ( 1 H , d , J = 4. 8 H z ) 、
5. 5 6 ( 2 H , b r s ) 、
5 6 5 ( 1 H, d d = 4. 8, 8. 0 H z ) 6 5 2 ( 1 H : d, J = 1 5 . 3 H z ) 、
6 6 4 ( 1 H s ) 、 7 . 1 2 ( 2 H , b r s ) 7 4 7 ( 1 H d , J = 1 5 . 3 H z ) 、
8 0 0 ( 2 H d, J = 6 . 0 H z ) 、
8 5 9 ( 2 H d , J = 6 . 0 H z ) 、
9 4 4 ( 1 H d , J = 8. 0 H z ) 、
1 1 . 3 8 ( 1 H , b r s )
実施例 2 7
Figure imgf000078_0001
(CH3 ) 2 CH - CH - C〇2 BH 実施例 1 8の方法に準じ、 7 — 〔 2 — ト リ チルォキ シ イ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チアゾールー 4 ーィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 4 — ピ リ ジル) チォ ビニル〕 一 3 —セフ ヱ ム一 4 —カルボン酸べンズヒ ド リ ルエステル、 ク ロ ロアセチノレ一ノく リ ンベンズヒ ド リ ルェ ステル及び沃化ナ ト リ ウムよ り 7 — 〔 2 — ト リ チルォキ シィ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チア ゾールー 4 一 ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — { 2 - 〔 1 — ( 1 一 ジ フ ヱ ニルメ ト キ シカルボ二ルー 2 — メ チルプロ ピルア ミ ノ カ ルポニルメ チル) 一 4 — ピ リ ジニォ〕 チオ ビ二ル } — 3 —セフ エ ム 一 4 一 力ルボン酸べ ンズヒ ド リ ノレエステル ' 沃化物を得た。
1 H - N R ( D M S 0 - d 6 ) 5 p p m ;
0. 8 3 ( 3 H , d, J = 3. 0 H z ) 、
0. 8 5 ( 3 H , d, J 二 3. 0 H z ) 、
2. 2 0 ( 1 H , m) 、
3. 7 4 ( 1 H , d , J = 1 6. 8 H z ) 6. 8 H z ) 、
4.455 5. 2, 8. 4 H z )
433 1 . 4 H z ) 、
Figure imgf000079_0001
5. 9 7 ( 1 H, d d, J = 5. 4 , 8. 4 H z )
6. 6 1 ( 1 H, s ) 、 6. 8 1 ( 1 H, s ) 、
6. 9 9 ( 1 H, s ) 、
7. 0〜 7. 5 ( 5 2 H, m) 、 '
8. 0 8 ( 2 H, d, J = 7. 2 H z ) 、
8. 6 4 ( 2 H, d, J = 7. 2 H z ) ,
8. 7 8 ( 1 H, s ) 、
8. 9 5 ( 1 H , d, J = 8. 4 H z )
実施例 2 8
Figure imgf000079_0002
(CH3 ) 2 CH CH - C02 H 実施例 1 9 の方法に準じ、 7 — 〔 2 — ト リ チルォキ シ イ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チア ゾール _ 4 ー ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 — 3 — { 2 - 〔 1 一 ( 1 — ジフ エ 二 ルメ ト キ シカルボ二ルー 2 — メ チルプロ ピルァ ノ カ ル ボニルメ チル) 一 4 一 ピ リ ジニォ〕 チオ ビ二ル } — 3 — セフ エム一 4 一力ルボン酸べンズヒ ド リ ルエステル · 沃 化物よ り 7 — 〔 2— ヒ ドロキシイ ミ ノ ー 2 — ( 2 —ア ミ ノ チアゾールー 4一ィル) ァセ トア ミ ド〕 一 3 — { 2 - 〔 1 — ( 1 —カルボキシ一 2 —メ チルプロ ピルア ミ ノ カ ルポニルメ チル) 一 4 一 ピ リ ジニォ〕 チオ ビ二ル } — 3 —セフ エム一 4 一カルボキシ レー 卜を得た。
1 H N M R (D M S O - d 6 ) <5 p p m
0 8 7 ( 3 H d , J = 3. 0 H z ) 、
0 8 9 ( 3 H d, J = 3. 0 H z ) 、
2 0 8 ( 1 H m) 、
3 5 5 ( 1 H d , J = 1 6. 8 H z ) 、
3 7 8 ( 1 H d , J = 1 6. 8 H z )
4 1 5 ( 1 H d d , J = 5. 2 , 8. 4 H z ) 、 5 0 9 ( 1 H d, J = 5. 4 H z ) .
5 3 4 ( 2 H b r s ) 、
5 6 7 ( 1 H d d , J = 4. 5 , 8. 4 H z ) 、 6 5 8 ( 1 H d , J = 1 5. 6 H z ) 、
6 6 4 ( 1 H s ) 、 7. 1 4 ( 2 11, b r s ) 、 7 4 6 ( 1 H d , J = 1 5. 6 H z ) 、
7 9 9 ( 2 H d , J = 7. 2 H z ) 、
8 6 2 ( 2. H d , J = 7. 2 H z ) 、 8. 8 8 ( 1 H, d, J = 8. 4 H z )
9. 4 5 ( 1 H, d , J = 8. 4 H z )
実施例 2 9
Figure imgf000081_0001
実施例 1 8の方法に準じ、 7 — 〔 2 — ト リ チルォキシ イ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チアゾールー 4 ーィ ル) ァセ トア ミ ド〕 一 3— 〔 2 — ( 4 — ピ リ ジル) チォ ビニル〕 一 3 —セフヱム一 4 —カルボン酸べンズヒ ド リ ルエステル、 塩化フ ヱナシル及び沃化ナ ト リ ゥムよ り 7 - 〔 2 _ ト リ チルォキシイ ミ ノ ー 2 _ ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チアゾール— 4 —ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 - ( 1 一フ エニルカルボニルメ チル一 4 一 ピ リ ジニォ) チオ ビニル〕 一 3 —セフ ヱムー 4 一力ルボン酸べンズヒ ド リ ルエステル ' 沃化物を得た。
1 H - N M R ( D M S 0 - d g ) <5 p p m ;
3. 7 8 ( 1 H, d , J = 1 6. 9 H z ) 、
4. 1 7 ( 1 H , d, J = 1 6. 9 H z ) 、
5. 3 5 ( 1 H, d, J = 5. 0 H z ) 、
5. 9 8 ( l.H, d d, J = 5. 0 , 8. 1 H z ) N 6 . 3 0 ( 2 H , b r s ) 、 6. 6 2 ( 1 H , s )
6. 9 9 ( 1 H, s ) 、
7 0〜 8. 1 ( 4 7 H , m) 、
8 9 ( 2 H , d , 6. 9 H )
8. 6 8 ( 2 H , d , J 6. 9 H z )
8. 7 8 ( 1 H , s ) 、
9. 9 5 ( 1 H , d , J = 8 H z )
実施例 3 0
Figure imgf000082_0001
実施例 1 8 の方法に準 じ、 7 — 〔 2 _ ト リ チルォキ シ イ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チア ゾールー 4 ー ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 4 — ピ リ ジル) チォ ビニル〕 一 3 —セ フ エ ム 一 4 — 力ノレボン酸べンズヒ ド リ ルエステル及び臭化ァ リ ルよ り 7 — 〔 2 — ト リ チルォキ シィ ミ ノ 一 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チア ゾール一 4 一 ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 1 — ァ リ ノレー 4 一 ピ リ ジニォ) チオ ビニル〕 一 3 —セフ エ 厶 一 4 一 カ ルボ ン酸べンズ ヒ ド リ ルエステル · 臭化物を得た。
!H - N M R ( D M S 0 - d 6 ) δ p p m ; 3. 7 5 ( 1 H, d, J = 1 6. 8 H z ) 、
4. 1 6 ( 1 H, d , J = 1 6. 8 H z ) 、
5. 1 1 ( 2 H, d, J = 6. 0 H z ) 、
5. 3 4 ( 1 H, d , J = 4. 8 H z ) 、
5. 3 ~ 5. 4 ( 2 H, m) 、
5. 9 6 ( 1 H, d d , J = 4. 8, 8. 1 H z )
6. 0 1〜 6. 1 9 ( 1 H, m) 、
6. 6 2 ( 1 H, s ) 、 6. 9 8 ( 1 H, s ) 、
7. 0〜 7. 5 ( 4 2 H, m) 、
8. 1 0 ( 2 H, d , J = 7. 2 H z ) 、
8. 7 2 ( 2 H, d, J = 7. 2 H z ) 、
8. 7 8 ( 1 H, s ) 、
9. 9 5 ( 1 H, d, J = 8. 1 H z )
実施例 3 1
Figure imgf000083_0001
実施例 1 9の方法に準じ、 7 — 〔 2 — ト リ チルォキ シ イ ミ ノ ー 2 _ ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チア ゾール一 4 — ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 1 ー ァ リ ノレ一 4 ー ピ リ ジニォ) チオ ビニル〕 一 3 —セ フ エ ム一 4 一 力 ルボ ン 酸べンズヒ ド リ ルエステル · 臭化物よ り 7 — 〔 2 — ヒ ド 口キシィ ミ ノ 一 2— ( 2 —ァ ミ ノ チアゾール一 4 —ィ ル) ァセ トア ミ ド〕 一 3 — 〔 2— ( 1 —ァ リ ル一 4 — ピ リ ジ ニォ) チオ ビニル〕 一 3 —セフ エム一 4 —カルボキシ レ 一 トを得た。
! H - N M R ( D M S 0 - d fi 6 ) δ p p m
3 5 4 ( 1 H, d J = 1 6 . 8 H z )
3 7 3 ( 1 H , d ; J = 1 6 . 8 H z )
5 0 6 ( 1 H, d ; J = 4 . 8 H z ) 、
5 0 8 ( 2 H, d , J = 6 . 0 H z ) 、
5 3 1 ( 1 H, d , = 1 7 1 H z )
5 3 8 ( 1 H , d, J = 1 0 8 H z )
5 6 4 ( 1 H , d d , J = 4 8 , 8 . 1 H z ) 6 0 6 ( 1 H , m )
6 4 7 ( 1 H , d , J = 1 5 . 3 H z )
6 6 4 ( 1 H , s ) 、 7 . 1 0 ( 2 H , b r s ) 7 4 8 ( 1 H , d , J = 1 5 . 3 H z )
7 9 9 ( 2 H , d, J = 7 . 2 H z ) 、
8 6 6 ( 2 H , d, J = 7 . 2 H z ) 、
9 4 5 ( 1 H, d , J = 8 . 1 H z )
実施例 3 2
Figure imgf000085_0001
〔式中、 T ίはトリフルォロメタンスルホニル基を示す。 〕
7 — 〔 2 — ト リ チルォキ シィ ミ ノ 一 2 — ( 2 — 卜 リ チ ルァ ミ ノ チア ゾ一ルー 4 一 ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 _ 3 —
( 2 — ト リ フルォ ロ メ 夕 ンスルホニルォキシ ビニル) 一 3 —セフ エ ム一 4 一 力ルボン酸べンズヒ ド リ ルエステル
( 8 1 m g ) ヽ シルバー 1 ー メ チルー ピ リ ジニゥ ムー 4 ー スルフ ィ ド , 過塩素酸塩 ( 4 5 m g ) 及び塩化 リ チ ゥム ( 1 4. 5 m g ) を ジメ チルスルホキ シ ド ( 1 m l ) 中、 室温にて 4 日間攪拌後、 酢酸ェチル ( 8 0 m l ) を 加え、 水 ( 8 O.m 1 ) で 3回洗浄後、 乾燥し、 次いで溶 媒を減圧下に留去して 7 — 〔 2 — ト リ チルォキシィ ミ ノ 一 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チアゾ一ルー 4 —ィル) ァ セ トア ミ ド〕 一 3 — ( 2 - ( 1 —メ チル一 4 — ピリ ジニ ォ) チオ ビニル〕 一 3 —セフエムー 4 一力ルボン酸ベン ズヒ ドリ ルエステル ' 過塩素酸塩 ( 4 5 m g ) を得た。 この化合物の LH— NMRスぺク トルは、 実施例 4で得 られた化合物のそれと一致した。
実施例 3 3
Figure imgf000086_0001
実施例 1 9 の方法に準 じ、 7 — 〔 2 — 卜 リ チルォキ シ イ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チア ゾ一ルー 4 — ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 1 , 4 — ジ メ チルー 1 , 2 , 4 — 卜 リ ア ゾ リ オ 一 5 — ィ ル) チオ ビニル〕 一 3 —セ フ エ ム 一 4 — カ ルボン酸べ ンズ ヒ ド リ ルエステル * 沃化物よ り 7 _ 〔 2 — ヒ ドロ キ シィ ミ ノ 一 2 — ( 2 — ァ ミ ノ チアゾール .一 4 —ィ ル) ァセ トア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 1, 4 — ジメ チル _ 1, 2 , 4 — ト リ ァゾ リ オ 一 5 —ィル) チオ ビニル〕 — 3 —セフ エ厶ー 4 一カルボ キシレー トを得た。
^ - N M R ( D M S 0 - d g ) 5 p p m ;
3. 2 2 ( 1 H, d , J = 1 7. 4 H z ) 、
3 2 4 ( 1 H d , J = 1 7. 4 H z ) 、
3 7 6 ( 1 H s ) 、 4. 0 3 ( 3 H, s ) 、 5 0 4 ( 1 H d , J = 5. 1 H z ) 、
5 6 1 ( 1 H d d , J = 5. 1 , 8. l H z ) 、 6 2 4 ( 1 H d , J = 1 5. 3 H z ) 、
6 6 3 ( 1 H s ) 、 7. 1 1 ( 2 H , m) 、 7 4 3 ( 1 H d , J = 1 5. 3 H z ) 、
9 4 2 ( 1 H d , J = 8. 1 H z ) 、
1 0. 0 6 ( 1 H, s ) ヽ 1 1. 3 2 ( 1 H, s ) 実施例 3 4
Figure imgf000088_0001
実施例 1 9の方法に準じ、 7 — 〔 2 — 卜 リ チルォキ シ ィ ミ ノ ー 2 — ( 2 - ト リ チノレア ミ ノ チアゾーノレー 4 — ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 ー 3 — 〔 2 — ( 1, 3 — ジメ チルー イ ミ ダゾ リ オ一 2 — ィル) チオ ビニル〕 一 3 —セフ エ ム — 4 一 力 ノレボン酸べンズヒ ド リ ルエステル · 沃化物よ り 7 - 〔 2 — ヒ ドロキ シイ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ァ ミ ノ チア ゾ ール— 4 —ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 1 , 3 一 ジメ チルー ィ ミ ダゾ リ オ 一 2 — ィ ル) チオ ビ二
3 —セフ エ ムー 4 — カルボキ シ レー ト を得た。
1 H - N M R ( D M δ 0 - d 6 ) ά p p m ;
3. 3 6 ( 1 H , d , J = 1 7. 4 I-I z ) 、
3. 3 8 ( 1 H, d , J 二 1 7. 4 I-I z ) 、
3. 8 5 ( 6 H , s ) 、
4. 9 9 ( 1 H, d, J 二 4. 8 H z ) 、 5. 5 8 ( 1 H, d d , J = 4. 8, 8. 1 H z )
6. 2 5 ( 1 H, d, J = 1 5. 3 H z ) 、
6. 6 2 ( 1 H, s ) 、 7. 1 0 ( 2 H, m) 、 7. 3 0 ( 1 H, d , J = 1 5 3 H z )
7. 9 2 ( 2 H, s ) 、
9. 3 8 ( 1 H, d , J = 8. l H z ) 、
1 1. 3 0 ( 1 H, s )
実施例 3 5
Figure imgf000089_0001
実施例 1 9の方法に準じ、 7 — 〔 2— ト リ チルォ キ シ イ ミ ノ ー 2 — ( 2 — ト リ チルァ ミ ノ チア ゾ一ルー 4 ー ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 1 , 3 — ジ メ チルー 1, 2 , 3 — ト リ ア ゾ リ オ 一 5 — ィ ノレ) チオ ビニル〕 一 3 — セ フ ェ ム 一 4 一 力 ノレボ ン酸べン ズ ヒ ド リ ルエ ス テ ル * 沃化物よ り 7 — 〔 2 — ヒ ドロキ シィ ミ ノ ー 2 — (? - ァ ミ ノ チアゾール一 4 一ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 _ 3 —
〔 2 ( 1, 3 — ジメ チルー 1 , 2, 3 — ト リ アゾ リ オ 一 5 —ィル) チオ ビニル〕 一 3 —セフ エム一 4 —カルボ キシレー トを得た。
H - N M R ( D M S 0 - d P ) 5 p p m
3. 4 0 ( 1 H d , J = 1 7. 4 H z ) 、
3. 4 9 ( 1 H d , J = 1 7. 4 H z ) 、
4. 1 8 ( 3 H s ) 、 4. 2 6 ( 3 H, s ) 、 5. 0 2 ( 1 H d, J = 5 H z )
5. 6 0 ( 1 H d d , J = 5. 1, 8. 1 H z ) 6. 2 1 ( 1 H d , J = 1 5. 3 H z ) 、
6. 6 3 ( 1 H s ) 、 7. 1 0 ( 2 H , m ) 、 7. 4 2 ( 1 H d , J = 1 5. 3 H z )
9. 0 5 ( 1 H s ) 、
9. 3 9 ( 1 H d, J = 8. 1 H z ) 、
1 1. 3 0 ( 1 H , s )
実施例 3 6
Figure imgf000090_0001
実施例 1 9 の方法に準じ、 7 — 〔 2 _ ト リ チルォキ シ イ ミ ノ ー 2— ( 2— ト リ チノレア ミ ノ チア ゾーノレ一 4 —ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3— { 2— 〔 1 一 ( 2— ジフ エ二 ルメ トキシカルボニルベン ジル) _ 4— ピ リ ジニォ〕 チ オ ビ二ル} — 3—セフ エムー 4—カルボン酸べンズヒ ド リ ルエステル · 沃化物より 7— 〔 2— ヒ ドロキ シィ ミ ノ - 2 - ( 2—ァ ミ ノ チアゾ一ル一 4—ィ ル) ァセ 卜 ア ミ ド〕 一 3— { 2 - 〔 1— ( 2 —カルボキ シベン ジル) 一 4— ピ リ ジニォ〕 チオ ビ二ル}778 1一 3—セフ エム一 4 一 力
· 5
ルポキシ レー トを得た。 . o o 1
H H H 3
!H - N M R (DM S O - d 6 ) 5 p p H z z z m ;
3. 5 4 ( 1 H, d , J = 1 7. 1 H z )
3. 77 77 (( 11 HH, d, J = 1 7. 1 H z )
5 0 8 ( 1 H d , J = 5. H z ) 5 6 7 ( 1 H d d , J = 5. 1, 8. 1 H z ) 5 9 9 ( 2 H b r s ) 、 6 5 8 ( 1 H d , J = 1 5. 3 H z ) . 6 6 4 ( 1 H s ) 7 1 ( 2 H , b r s ) 7 2 - 7. 9 5 ( 4 H, m) 、
7. 4 2 ( 1 H , d , J
7. 9 6 ( 2 H , d , J
8. 7 8 ( 2 H , d , J
9. 4 5 ( l.H , d , J

Claims

一般式
N- 儿 CH=CH-SR
H Nへ Q
Figure imgf000092_0001
二 5へ者
求 9
〔式中 Qは C H又は Nを示す。 R 1 はカルボキシレー ト の o
又はカルボキシル基を示す。 Rは 囲
Figure imgf000092_0002
(B- ) を示す。 こ こで R 2 は低級アルキル基、 低級アルケニル 基、 低級アルキニル基、 ヒ ドロキ シ低級アルキル基又は 基一 A— C O — R 3 (基中、 A は炭素数 :! 〜 6 のアルキ レ ン基、 フ ヱニ レ ン基、 ベ ン ジ レ ン基又はキ シ リ レ ン基 を、 は水酸基、 低級アルキル基、 水酸基で置換され る こ とのある フ ヱニル基、 ア ミ ノ 基、 低級アルキルア ミ ノ基又はァ ミ ノ酸のァ ミ ノ基をそれぞれ示す。 ) を示す n は 0又は 1 〜 3 の整数を示す。 B — は陰イ オ ンを示す f は R 1 がカルボキシ レー ト を示す場合には 0 を、 R 1 がカルボキシル基を示す場合には 1 を示す。 Cで表わさ れる環は低級アルキル基で置換される こ とのある窒素数
4以下の 5員複素環基を示す。 〕
で表わされるセ_フエム化合物、 そのセフ ヱムカルボキシ 保護エステル及びその非毒性塩。
2 . Qが C Hである請求の範囲第 1項記載の化合物。
3 が
Figure imgf000093_0001
(B - )
( R 2 、 n、 B 及び f は前記に同 じ) である請求の範 囲第 2項記載の化合物。
4 . R力く
Figure imgf000093_0002
( R 2 、 C s B " 及び f は前記に同 じ) である請求の範 囲第 2項記載の化合物
5. Cで表わされる環がォキサゾ一ル、 チアゾ一ル、 イ ソキサゾール、 イ ソチアゾ一ル、 ピラゾール、 イ ミ ダ ゾール、 ォキサゾール、 チア ジアゾール、 ト リ ァゾ一ル、 ォキサ ト リ ァゾ一ル、 チア ト リ ァゾ一ル又はテ ト ラ ゾー ルである請求の範囲第 4項記載の化合物。
6. 7 - 〔 2 — ヒ ドロキシィ ミ ノ 一 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チアゾ一ルー 4 —ィル) ァセ ト ア ミ ド〕 — 3 — 〔 2 —
( 1 —力ルバモイルメ チルー 4 一 ピ リ ジニォ) チオ ビ二 ル〕 一 3 —セフエムー 4 —カルボキシ レー ト又はその塩、 7 — 〔 2 — ヒ ドロキシィ ミ ノ 一 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チアゾ ール— 4 —ィル) ァセ トア ミ ド〕 — 3 — 〔 2 — ( 1 —ェ チル一 4 — ピリ ジニォ) チオ ビニル〕 一 3 —セフ ヱム一 4 一カルボキシ レー ト又はその塩、 7 _ 〔 2 — ヒ ドロキ シィ ミ ノ 一 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チアゾールー 4 —ィ ル) 了 セ トア ミ ド〕 一 3 — { 2 — 〔 1 一 ( 2 — ヒ ドロキシェチ ル) 一 4 一 ピリ ジニォ〕 チオ ビ二ル } — 3 —セフ ヱム ー 4 —カルボキシ レー ト又はその塩、 7 — 〔 2 — ヒ ド πキ シィ ミ ノ ー 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チアゾ一ルー 4 —ィ ル) ァ . セ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 1 —カルボキシメ チル _ 4 一 ピ リ ジニォ) チオ ビニル〕 _ 3 —セフ ヱ厶一 4 一 カル ボキシ レー ト又はその塩、 7 — 〔 2 — ヒ ドロキ シィ ミ ノ — 2 — ( 2 —ア ミ ノ チアゾール一 4 一ィ ル) ァセ ト ア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 — ( 1 ーァセ トニル一 4 一 ピ リ ジニォ) チオ ビニル〕 一 3 —セフエム一 4 —カルボキシ レー ト又 はその塩、 7 — 〔 2 — ヒ ドロキシィ ミ ノ 一 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チアゾール一 4 —ィル) ァセ トア ミ ド〕 一 3 — 〔 2 - ( 1 —メ チル一 2 — ピリ ジニォ) チオ ビニル〕 一 3 — セフ エム一 4 —カルボキシレー ト又はその塩、 7 — 〔 2 — ヒ ドロキシィ ミ ノ 一 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チアゾ一ルー 4 一ィル) ァセ トア ミ ド〕 一 3 — { 2 - 〔 1 一 ( 4 —カル ボキシベンジル) 一 4 一 ピリ ジニォ〕 チオ ビ二ル } 一 3 —セフエムー 4 一カルボキシ レー ト又はその塩、 7 —
〔 2 — ヒ ドロキシイ ミ ノ ー 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チアゾ一ル 一 4 —ィル) ァセ トア ミ ド〕 — 3 — { 2 - 〔 1 — ( N , N— ジェチルア ミ ノ カルボニルメ チル) _ 4 一 ピ リ ジニ ォ〕 チオ ビ二ル} — 3 —セフ エム一 4 _カルボキシ レー ト又はその塩、 7 — 〔 2 — ヒ ドロキシイ ミ ノ ー 2 — ( 2 —ァ ミ ノ チアゾ一ルー 4 一ィ ル〕 ァセ 卜ア ミ ド〕 ー 3 —
〔 2 — ( 1 ーァ リ ノレー 4 — ピ リ ジニォ) チオ ビニル〕 一 3 —セフ エム一 4 —カルボキシ レー ト又はその塩、 7 —
〔 2 — ヒ ドロキシイ ミ ノ ー 2 _ ( 2 —ァ ミ ノ チアゾール 一 4 —ィノレ) ァセ トア ミ ド〕 一 3 — [ 2 - ( 1 , 4 — ジ メ チルー 1 , 2, 4一 ト リ アゾリ オ一 5 — ィ ル) チオ ビ ニル〕 一 3 —セフ エム一 4 一カルボキ シ レー ト又はその 塩、 7— 〔 2 — ヒ ドロキシィ ミ ノ 一 2 ( 2 —ア ミ ノ チ ァゾ一ル— 4 —ィル) ァセ トア ミ ド〕 3— 〔 2— ( 1
3 — ジメ チルーイ ミ ダゾリ オ一 2 —ィル) チオ ビニル〕 — 3 —セフエム一 4 一カルボキン-レー ト又はその塩、 及 び 7— 〔 2 — ヒ ドロキシィ ミ ノ 一 2— ( 2 —ァ ミ ノ チア ゾールー 4 —ィル) ァセ トア ミ ド〕 一 3— 〔 2— ( 1 , 3 — ジメ チルー 1, 2, 3 — ト リ アゾリ オ一 5 _ィル) チオ ビニル〕 一 3 —セフエムー 4 —カルボキシ レ一 ト又 はその塩から選ばれる少な く と も 1種の化合物。
7 . 一般式
Figure imgf000096_0001
〔式中 R 4 はセフ ヱムカルボキシル保護基を示す R ' は
Figure imgf000096_0002
B B
R ' R
を示す。 で R n B " 及び C は前記に同 じ。 〕 で表わされる化合物に、 一般式 N- 7Γ C-COOH
5儿 11
Figure imgf000097_0001
〔式中 R 5 はァミ ノ基又は保護されたア ミ ノ基を示す R 6 はォキシム保護基を示す。 Qは前記に同じ。 〕 で表わされる化合物又はその反応性誘導体を反応させ 引続き保護基を除去することを特徵とする一般式
N-
H2 N
Figure imgf000097_0002
〔式中 Q、 R 1 及び Rは前記に同じ。 〕
で表わされるセフヱム化合物、 そのセフ エムカルボキシ 保護エステル及びその非毒性塩の製造方法。
8. 一般式
Figure imgf000097_0003
〔式中 R 4 、 R 0 及び R 6 は前記に同 じ。 R 1 はハロゲ ン原子、 低級ァシルォキシ基又はスルホ二ルォキシ基を 示す。 〕 で表わされる化合物に、 一般式
R ' - S M
〔式中 Mは水素原子又は金属原子を示す。 R ' は前記に 同じ。 〕
で表わされる化合物を反応させ、 引続き保護基を除去す ることを特徴とする一般式
Figure imgf000098_0001
〔式中 Q、 R 1 及び Rは前記に同じ。 〕
で表わされるセフヱム化合物、 そのセフ ヱムカルボキシ 保護エステル及びその非毒性塩の製造方法。
9 . 一般式
Figure imgf000098_0002
〔式中 R 4 、 R 、 R 6 及び R 7 は前記に同じ。
で表わされる化合物に、 一般式
R 8 - S M
〔式中 R 8 は Η (CiV n 又は 基
Figure imgf000099_0001
Ν を示す。 こ こで n及び Cは前記に同じ。 Mは前記に同 じ o 〕
で表わされる化合物を反応させ、 次いで一般式
R - X
〔式中 Xはハ口ゲン原子を示す 2 は前記に同じ。 〕 で表わされる化合物を反応させ 引続き保護基を除去す ることを特徴とする一般式
Figure imgf000099_0002
〔式中 Q、 R 1 及び Rは前記に同じ。 〕
で表わされるセフ エム化合物、 そのセフ エムカルボキシ 保護エステル及びその非毒性塩の製造方法。
1 0 . —般式
H 2
Figure imgf000099_0003
〔式中 Q、 R 1 及び Rは前記に同じ。 〕
で表わされるセフヱム化合物、 そのセフエムカルボキシ 保護エステル及びその非毒性塩と薬学的に許容される担 体とからなる、 メチ-シリ ン耐性黄色ブ ドウ球菌が起こす 感染症を治療するための医薬組成物。
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