WO1989003132A1 - Laser device - Google Patents

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WO1989003132A1
WO1989003132A1 PCT/JP1988/000970 JP8800970W WO8903132A1 WO 1989003132 A1 WO1989003132 A1 WO 1989003132A1 JP 8800970 W JP8800970 W JP 8800970W WO 8903132 A1 WO8903132 A1 WO 8903132A1
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laser
fabry
pressure
perot etalon
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Inventor
Hajime Nakatani
Yoshibumi Minowa
Hitoshi; Wakata
Original Assignee
Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/136Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity
    • H01S3/137Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity for stabilising of frequency
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/106Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity
    • H01S3/1062Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity using a controlled passive interferometer, e.g. a Fabry-Perot etalon
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/22Gases
    • H01S3/223Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • H01S3/225Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex

Definitions

  • the present invention relates to a laser device whose wavelength is stabilized.
  • Fig. 1 shows, for example, “Applied Optics”, July 1974, vol.
  • FIG. 13 is a schematic diagram showing a conventional wavelength tuning laser device described on pages 1625 to 1628 of ⁇ ⁇ 7.
  • (1) is a laser oscillator, in this case, a dye laser.
  • (2) is a partial reflector
  • (3) is a Fabry-Peak-Ethallon (hereinafter abbreviated as FP) with a gap
  • (4) is F F (3)
  • (5) is a laser beam
  • (6) is a pressure gauge for measuring the gas pressure in the sealed container (4)
  • (7) is a gas cylinder
  • (9) is the grating.
  • the wavelength of the laser beam emitted from the laser oscillator (1) is selected by various elements in the oscillator.
  • the wavelength width is narrowed by inserting a grating (9) and a spectroscopic element with F 3 (3) in the resonator. By adjusting these spectroscopic elements, the wavelength can be set to an arbitrary wavelength within the originally set oscillation wavelength width.
  • the inclination angle of the grating (9) is changed.
  • the wavelength can be roughly adjusted by changing the inclination angle of the grating (9), and the wavelength can be finely adjusted by adjusting the gas pressure between the FP (3) gears.
  • To adjust the gas pressure measure the pressure with the pressure gauge (6), and open and close the valves (7) and (8). ⁇
  • the etalon is sealed with a gas, the gas pressure is changed by a feedback signal obtained by monitoring the laser light, and the wavelength tuning and the wavelength tuning are performed. It is intended to stabilize the wavelength.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing a conventional device
  • FIG. 2 is a configuration diagram showing an embodiment of a laser device according to the present invention
  • FIG. 3 is a fringe on an image element (element ⁇ 2).
  • FIG. 4 is a configuration diagram showing another embodiment of the present invention
  • FIG. 5 is a configuration diagram showing still another embodiment.
  • FP Fabry-Perot etalon for kning
  • the wavelength monitor 1 mechanism is an interference filter (15) that transmits only the laser light (13). 16), a filter for adjusting the light intensity (17), an integrator (IS) for diffusing the laser light (13), and a monitor with a structure having a gap FP (19), sealed container (20) and lens (21) in which FP (19) is sealed (22) is an image sensor for observing fringes generated by FP [19], for example, a one-dimensional image sensor. Is a light-tight box that accommodates (16) to (22) and transmits external light.
  • the interference filter (16) extracts the laser beam from the mirror.
  • (24) is a temperature control means to keep the temperature of the FP (19) constant
  • (26) is an image processing means to analyze the fringe.
  • the wavelength of the laser beam emitted from the laser oscillator (1) depends on the various elements in the oscillator. Selected. For example, in an excimer laser, the original oscillation wavelength width is several angstrom, but a spectral element such as prism, grating, or FP is placed in the resonator. This narrows the wavelength width. By adjusting these spectroscopic elements, the wavelength can be set to an arbitrary wavelength within the oscillation wavelength range originally provided.
  • the wavelength monitoring mechanism (15) uses FP (19) to determine the wavelength.
  • a circular fringe appearing when light passes through the FP (19) is used.
  • the diameter of the fringe is related to e, and by determining e, the wavelength m is determined from the equation shown earlier.
  • F P is obtained by facing two mirrors with high flatness with a gap d, and the center wavelength of light transmitted through the mirror surface at an angle of is
  • n is the refractive index between gaps, and m is an integer. If an FP with a high resolution is used, the intensity of m in the laser oscillation wavelength distribution can be determined.
  • the wavelength monitor mechanism (15) consists of an integrator (is), FP ⁇ 9) and a lens (21) that weaken or spread the laser beam. ing . Out of the divergent components generated by the integrator (is), only the light having ⁇ that satisfies the above equation passes through FP (19) and reaches lens (21).
  • the focal length of the lens is ⁇ ⁇ ⁇
  • the light having the f component converges at the focal point at a distance f from the lens axis. Therefore, by observing the position where light is gathered by the image sensor (22), the value can be obtained, and the distance can be calculated.
  • the light intensity distribution on the image sensor (22) is as shown in FIG.
  • the vertical axis shows the output
  • the horizontal axis shows the distance X from the center of the fringe.
  • Each peak corresponds to a difference in the order m of F P.
  • the interval between the peaks is called a free spectrum region, and the wavelength can be uniquely determined within this range. Since the free spectral range can be determined by the design of the FP, the wavelength shift is generally wider than expected.
  • each mountain has a light intensity distribution corresponding to the wavelength distribution of the laser beam
  • an image processing means (25) is required to process the peak and generate a light intensity.
  • the present wavelength is calculated, and the pressure in the sealed container (4) is adjusted by operating the volume expansion / contraction means (11) by the drive mechanism (12) according to the result. In this way, the wavelength of the oscillator is adjusted.
  • the wavelength monitor mechanism is used as an FP free channel.
  • the method of measuring the image with an image sensor has been described, the same effect can be obtained by a wavelength monitor mechanism using another method.
  • FIG. 4 is a configuration diagram showing another embodiment of the present invention.
  • the same reference numerals as in the previous embodiment indicate the same ones.
  • (26) is a gas cylinder that supplies clean gas into the enclosure (4)
  • (27) and (28) are gas flow control valves provided on the inlet and outlet sides of the enclosure (4).
  • (29),, (30) are the same stop valves
  • (31) is the gas flow control valve receiving the output signal of the wavelength monitor means (101) ⁇ ) It is a control device for controlling.
  • the control device (31) receives the output of the image processing means (25), knows the current wavelength of the laser beam (13), and controls the gas flow control valve (27) to select the wavelength.
  • the gas pressure around F′R (3) is adjusted so that the wavelength of the laser beam becomes a predetermined value.
  • This gas flow control valve (27) is manually adjusted in the initial adjustment stage.
  • the wavelength selection operation of F R (3) is the same as that of F R (19) for the wavelength monitor.
  • the case where only the gas flow control valve (27) on the inlet side of the enclosure (4) is controlled by the control device (31), but the gas flow control valve ⁇ on the outlet side is controlled Alternatively, both of these may be controlled to adjust the gas pressure in the enclosure (4).
  • the gas flow rate (accordingly, the gas pressure) may be controlled by an orifice or a mass flow controller.
  • FIG. 5 is a block diagram showing another embodiment of the laser device according to the present invention.
  • a pressure sensor (32) and a pressure sensor are shown.
  • a constant control device (33) is added. That is, a pressure sensor (32) is provided in the enclosure (4), and this output signal and an output signal having wavelength information from the control device (20) are sent to the constant pressure control device (33).
  • the control device (20) controls the gas flow control valve (16) via the device (33). In this way, the gas pressure in the enclosure (4) can be more easily adjusted. '
  • the F ⁇ (19) for the wavelength monitor is not provided in an atmosphere in which a clean gas flows like the F ⁇ (3) for the wavelength selection.
  • the reason is that only a part of the laser beam (13) is incident on the F ⁇ (19), so that it is installed in an atmosphere where clean gas flows. If you do so, it is even better.
  • a wavelength monitor means 101
  • a method of measuring a flange generated by light transmitted through the FP (19) by the image sensor (22) is used.
  • the method of measuring with the image sensor (22) is shown, but the method of measuring the wavelength by another method may be used.
  • the present invention can be applied to wavelength stabilization of a laser device, for example, an excimer laser device.

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Description

明 細 書
発明の名称
レ一ザ装置
技術分野
こ の発明は、 波長を安定化した レーザ装置に関する も のであ る 。
背景技術 '
第 1 図は例えば 「 Applied Optics」 , July 1974, vol.
13 , Να 7 の第 1625頁〜第 1628頁に記載されている従 来の波長チ ュ ーニ ン グレーザ装置を示す模式図であ る 。 図において 、 (1)は レーザ発振器で 、 この場合、 色素レ ー ザであ る。 (2)は部分反射鏡、 (3)はギ ヤ'ッ プを有する構造 の フ ア ブ リ ー ペ 口 一エ タ ロ ン ( 以下 F P と 略する ) 、 (4) は F Ρ (3)を.ガス で密封する密封容器、 (5)は レーザ光、 (6) は密封容器(4)内のガス圧を測定する圧力計、 (7)はガス ボ ンべ 、 (7) (8)は ノぺ、ル ブ、 (9)は グ レ ー テ ィ ン グで あ る 。
次に動作について説明する 。 レーザ発振器(1)か ら 出た レーザ ビー ム の波長は発振器中にあ る各種の素子によ り 選択さ れてい る 。 こ の従来例では共振器内に グレ ーテ ィ ング(9) , F Ρ (3)の分光素子を入れる こ と によ り 波長幅'を 狭 く してい る 。 しか も それ ら の分光素子を調整する こ と によ り その波長を も と も と あ つ た発振波長幅内の任意の 波長に設定する こ と がで き る 。
こ の従来例 にお いて は 、 グ レ ー テ ィ ン グ(9)の傾 き 角 を 変え る こ と に よ り 、 また密封容器 (4)内のガス圧を変化さ せて F P (3)のギヤ ッ プ間におけ る ガスの屈折率を変え る こ と によ り 、 波長の選択を行な っ ている。 グレーテ ィ ン グ(9)の傾き角の変化によ り 波長の粗調整がで き 、 F P (3) のギヤ ッ プ間のガス圧調整によ り 波長の微調整がで き る。 ガ 圧の調整は圧力計(6)で圧力 を測定し、 バルブ(7) (8)の 開:閉によ り 行な う 。 ·
従来の レーザ装置は以上のよ う に構成さ れている ので、 波長チ ュ ー ニ ン グを精度良く 、 例えば ± 0. 0 0 l n m の精 度で行な う ためには、 例えばフ ルス ケールの 0. 1 %以下 の精度を も つ圧力計が必要になる とい う 問題点があ つ た。 発明の開示
この発明に係る レーザ装置は、 エタ ロ ンをガス で密封 し、 レ 一ザ光をモ ニ タ ー し た フ ィ 一 ドバッ ク信号でガス 圧を変化さ せ、 波長チ ュ ーニ ン グ及び波長安定化を行な える よ う に した も のであ る 。
図面の簡単な説明
第 1 図は従来の装置を示す模式図、 第 2 図は こ の発明 に よ る レーザ装置の一実施例を示す構成図、 第 3 図は撮 像-素:子 β2)上の フ リ ンジの強度分布を示す図、 第 4 図は こ の発明の他の実施例を示す構成図、 第 5 図は さ ら に別の 実施例を示す構成図であ る 。
発明 を実施する為の最良の形態
以下、 こ の発明の一実施例を図について説明する 。 第 2 図において 、 は)〜(4)は従来と 同様であ るが、 波長チ ュ
— ニ ング用の フ ア ブ リ 一ペ ロ ーエ タ ロ ン ( 以下 F P と 略 す ) (3)は密封容器(4)内に収容さ れている。 (10)は F P (4)を 介して部分反射鏡(2)と 対向して配置 さ れた全反射鏡、 (11) は密封容器(4)に連結されたべ 口 ーズか ら な る容積伸縮手 段、 (ι は容積伸縮手段 (11)の駆動機構、 (13)は レ ーザ発振器 (1)、 全反射鏡 (10)、 部分反射鏡 <2)、 F P (3)によ り 発振した レ ーザ光、 (1 は レーザ光 (13)の 一部を取 り 出すた め の ビー ム取 り 出 し ミ ラ ー、 (15)は ビーム取 り 出 し ミ ラ ー (1 力 > ら取 り 出 された レーザ光を分光する波長モニ タ 一機構であ る < 波長モ ニ タ 1 機構 (15)は レ 1 ザ光 (13)のみを透過さ せる干渉 フ ィ ル タ ー(16)、 光強度調節用 フ ィ ル タ ー(17) 、 レ ーザ光(13) を拡散さ せる イ ンテ グレ 一 タ (IS)、 ギ ャ ッ プを有する構造 のモ ニ タ ー用の F P (19)、 F P (19)を密封した密封容器 (20)及 び レ ン ズ (21)力 ら構成さ れている。 (22)は F P (19]によ り 生じ た フ リ ン ジ を観測する ための撮像素子で、 例えば一次元 の イ メ ージセ ン サ ーであ る。 (23)は(16)〜 (22)を収容して外部 の光をし や へいした光し や へい箱で、 干渉フ ィ ルタ (16)カ' ビーム取出 し ミ ラ 一 Mか ら の レ ーザ光が入射で き る よ う に配置さ れてい る 。 (24)は F P (19)の温度を一定に保つ温度 調節手段 、 (26) は フ リ ン ジ を解析する画像処理手段で、 駆 動機構 (I2)へ出力する 。
次に動作につい て説明する 。 レ ーザ発振器(1)か ら 出た レ ーザ ビー ム の.波長は発振器中にあ る各種の素子に よ り 選択されてい る。 例えば、 エキ シマ レーザでは本来の発 振波長の幅は数オ ン グス ト ロ ー ムあ る のだが、 共振器内 に プ リ ズム , グレ一テ ィ ン グ , F P等の分光素子を入れ る こ と によ り 波長幅が狭く な る。 しか も それ ら の分光素 子を調整する こ と によ り 、 その波長を も と も と あ った発 振波長幅内の任意の波長に設定する こ とがで き る 。
さ て、 そ う して得 られた-レ '一ザ ビー ム(13)の一部を波長 モ ニ タ ー機構 (15) に導く 。 波長モ ニ タ ー機構 (15)は波長を決 定するために F P (19) を用いている 。
. 上記実施例では光が F P (19) を透過した際に表われる円 形の フ リ ン ジを利用する。 フ リ ン ジの直径は e と関係し てお り 、 e を求め る こ と によ り 先に示したは)式か ら波長 ' ス m を決定する。 F P は高い平面度を持つ 2枚の ミ ラ ー をギャ ッ プ d を持 って向い合わせた も ので、 ミ ラ ー面に の角度で透過する光の中心波長は
, 2 nd co s
A m = ≡ … ) で表わせる特定の波長にな る。 n はギ ャ ッ プ間の屈折率、 mは整数であ る。 分解能の高い F P を用いればレーザの 発振波長分布の内 ス m の強度がわかる こ と にな る。 一般 に レーザ ビームはあ る発散角 を持つか ら 、 その う ち上の 式を満たす ビ一ム成分のみが F P を透過し、 ビーム の光 軸を中心と して同軸状のフ リ ン ジ ( リ ン グ状干渉縞 ) を 形成する。 波長モ ニ タ ー機構 (15)は レーザ ビー ム を弱めた り 、 拡散 さ せた り する ィ ン テ グ レ ー タ (is) と F P α9) と レ ン ズ (21) と か ら な ってい る 。 イ ンテ グレ ータ(is)によ り 生じた発散成分 の う ち先の式を満たす θ を持つ光のみが F P (19)を透過し レ ン ズ (21)にいた る。 レ ン ズの焦点距離を ί と すれば Θ 成分を持つ光は焦点位置におい て レ ン ズの軸よ り f 離 れた と こ ろ に集ま る。 そ こ で'、 撮像素子 (22)によ り 光の集 ま る位置を観測すれば が求ま り 、 ス が計算で き る と い う わけであ る 。
と こ ろ で 、 撮像素子 (22)上の光の強度分布は第 3 図のよ う にな つ てい る。 縦軸は出力、 横軸はフ リ ン ジ の中心か ら の距離 X を示す。 各山は F P の次数 mの違いに対応し てい る。 そ して、 各山の間隔は 自 由ス ぺ ク トル領域と 呼 ばれ、 こ の範囲で波長を一意的に決め る こ と がで き る 。 し力 > も 自 由スぺ ク ト ル領域は F P の設計によ り 決め る こ と がで き る の で波長シ フ ト が予想さ れる値よ り も 広め に 曰十し飞 お く 。
また、 各山は レーザ ビーム の波長分布に対応した光強 度分布を持つか ら 、 これを処理して を出すために画像 処理手段 (25)が必要 と な る。 さ ら に 、 こ こ では現在の波長 を計算し 、 その結果に応じて駆動機構 (12)によ り 容積伸 縮手段 (11)を作動さ せて密封容器 (4)内の圧力 を調整する こ と によ つ て発振器の波長の調整を行な う 。
上記実施例では、 波長モ ニ タ 一機構と して F P の フ リ ン ジ を撮像素子で測定する方法を示したが、 別の方法に よ る波長モ ニ タ 一機構で も 同等の効果を奏する 。
第 4 図は こ の発明の別の実施例を示す構成図であ る 。 前の実施例ど同一番号を付している も のは同様の も のを 示す。 (26)は封入容器 (4)内へ清浄なガス を供給するガス ボ ンべ 、 (27) , (28)は封入容器 (4)の入口側及び出口側に設け ら れた ガス流量調節バル ブ 、 (29) · , (30)は同 じ く ス ト ッ プバル ブ、 (31)は波長モ ニ タ 一手段 (1 0 1 ) の出力信号を う けてガ ス流量調節バル ブ^)を制御する制御装置であ る 。
さ て、 制御装置 (31)は画像処理手段 (25)の出力 を受けて現 時点におけ る レーザー光 (13)の波長を知 り 、 ガス流量調節 バルブ (27)を制御して、 波長選択用の F 'R (3)の周通のガス 圧を レーザー光 の波長が所定の値と な る よ う に調節す る 。 こ の ガス流量調節バル ブ (27)は初期調節の段階では手 動で調節する 。 F R (3)の波長選択動作は、 波長モニ タ ー 用の F R (19)の場合と 同様であ る。 又、 制御装置 (31)によ り 、 封入容器(4)の入口側のガス流量調節バル ブ (27)のみを制御 する場合を示したが、 出口側のガス流量調節バルブ ©の 方を制御して も よ く 、 これ ら両方を制御して封入容器 (4) 内のガス圧を調節して も よ い。 又、 バルブのかわ り に、 オ リ フ ィ ス や マ ス フ ロ ー コ ン ト ロ ー ラ 一等に よ り ガス流 量 ( 従 って、 ガス圧力 ) を制御して も よい。
第 5 図は本考案によ り レーザー装置の他の実施例を示 す構成図であ り 、 第 4 図の も のに圧力セ ン サ ー(32)と圧力 一定制御装置 (33) と を付加した も のであ る 。 即ち 、 封入容 器(4)に圧力セ ン サ ー (32)を設け、 こ の出力信号と制御装置 (20)か ら の波長情報を有する出力信号と を圧力一定制御装 置 (33)へ入力 し 、 こ の装置 (33)を介して制御装置(20)がガス流 量調節バルブ (16)の制御を行な う よ う に した も のであ る。 こ の よ う にすれば封入容器(4)内のガス圧の調節がよ り 容 易に行なえ る 。 '
なお、 上記実施例では波長モ ニ タ ー用の F Ρ (19)は波長 選択用の F Ρ (3)のよ う に清浄な ガスが流通する雰囲気中 には設け られていないが、 こ の理由は F Ρ (19)には レ ーザ 一光 (13)の う ち ほんの一部の も のしか入射しないよ う にな つているか ら であ り 、 清浄な ガスが流通する雰囲気中に 設ける よ う にすればさ ら に良い。
又、 波長モ ニ タ 一手段 (1 0 1 ) と し て 、 F P (19)の透過光 で生じ る フ ラ ン ジ を撮像素子 (22)で測定する方法の も の を 生じ る フ ラ ン ジ撮像素子 (22)で測定する方法の も の を示し たが、 他の方法によ り 波長を測定する も の であ つて も よ い ο
産業上の利用可能性
こ の発明は レーザ装置、 例えばエ キ シ マ レ ーザ装置の 波長安定化に'適用で き る 。

Claims

m 求 の 範 囲
1. レ ーザ発振波長を選択する フ ァ ブ リ ペ ロ ーエ タ ロ ン を有し 、 波長が可変の レーザ発振器か ら取 り 出 された レ 一ザ ビーム を波長モ ニ タ ー手段で モ ニ タ ーし て、 上記波 長モ ニ タ ー手段の出力信号によ つて上記フ ア ブ リ ペ ロ ー エ タ 口 ン の ギ ヤ ッ プの圧力を調整する レ ーザ装置。
2. フ ア ブリ ペ ロ ーエタ ロ ン-の ギ ヤ ッ プの圧力 を調整す るために上記フ ァ プリ ぺ 口 一エタ 口 ンを密封容器に収容 して、 内容積が伸縮可能な容積伸縮手段を上記密封容器 と接続し 、 上記波長モ ニ タ 一手段の出力信号に応じて駆 動機構を介して上記容積伸縮手段を作動さ せる こ と を特 徵とする特許請求の範囲第 1 項記載の レーザ装置。
3. · フ ア ブ リ ペ ロ ーエタ ロ ンの ギ ヤ ッ プの圧力を調整す る為に 、 上記フ ァ ブリ ぺ 口 一エタ 口 ン を密封容器に収容 し て 、 こ の密封容器に流通する ガス を上記出力信号に応 じて操作する こ と によ り 、 上記フ ア ブ リ ペ ロ ーエタ ロ ン のギヤ ッ プの圧力を調整する こ と を特徵 とする特許請求 の範囲第 1 項記載の レーザ装置。
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JP63/31893U 1988-03-10
JP3189388U JPH01135756U (ja) 1988-03-10 1988-03-10

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