TWM662291U - 清洗盤、基站和清潔機器人系統 - Google Patents

Abstract

本新型提供了一種清洗盤、基站和清潔機器人系統。清洗盤包括：清潔腔以及設置於清潔腔內的清洗部，清洗部用於與自移清潔設備的清潔元件干涉以將清潔元件上的髒污去除，清潔腔用於容納髒污；其中，清洗盤設置為與基站可拆卸連接。

Description

清洗盤、基站和清潔機器人系統

本新型要求於2023年03月21日遞交的中國專利申請號為202320564399.0的優先權，在此全文引用上述中國專利申請新型的內容以作為本新型的一部分。本新型涉及智慧家居技術領域，尤其涉及一種清洗盤、基站和清潔機器人系統。

隨著技術的迭代運算更新與發展，自移清潔設備已經進入到普通家庭生活當中，並逐漸實現了普及。在當前的自移清潔設備中，拖地機、掃拖一體機因具備拖地功能，廣受人們喜愛。另外，自移清潔設備在完成一定清掃任務或清掃指定時間後等，可以停靠基站對清潔元件進行清洗。

在新型內容部分中引入了一系列簡化形式的概念，這將在具體實施方式部分中進一步詳細說明。本新型的此部分並不意味著要試圖限定出所要求保護的技術方案的關鍵特徵和必要技術特徵，更不意味著試圖確定所要求保護的技術方案的保護範圍。

本新型第一方面的實施例，提供了一種清洗盤，應用於清洗自移清潔設備的基站，清洗盤包括：清潔腔、以及設置於清潔腔內的清洗部，清洗部用於與自移清潔設備的清潔元件干涉以將清潔元件上的髒污去除，清潔腔用於容納髒污；其中，清洗盤設置為與基站可拆卸連接。

進一步地，基站包括用於容納自移清潔設備的容納腔，容納腔的底壁上開設有安裝槽，清洗盤的外緣形狀與安裝槽的形狀相匹配，清洗盤可受限於安裝槽內以對清洗盤相對於基站在水平方向的運動進行限位。

進一步地，清潔腔內設置有污水槽，設置於基站上的污水管的一段延伸至該污水槽。

進一步地，清潔腔的側壁開設有缺口，污水管穿過該缺口固定於清洗盤上。

進一步地，清洗部設置於清潔腔的底壁上，並凸出於清潔腔的底壁表面，清洗部包括連接端和自由端，連接端與清潔腔的側壁連接，清洗部的頂部設置有第一清洗凸起；其中，清洗部的數量為至少兩個。

進一步地，清洗盤還包括：導水部，導水部設置於清潔腔的底壁上，並凸出於清潔腔的表面，導水部的頂部開設有導水槽，導水槽與基站上的出水口連通，導水槽用於容納清潔液並能夠與清潔元件干涉；其中，導水部的數量為至少兩個。

進一步地，導水部與清洗部間隔分佈，導水部的第一端與清潔腔的側壁連接，清洗部和導水部中相鄰的兩個之間形成集水區，污水槽位於一個集水區內，清潔腔的底壁上開設有排污通道，污水槽通過排污通道與各個集水區連通。

進一步地，位於集水區內的清潔腔的底壁設置為導向面，導向面為傾斜平面或傾斜曲面。

進一步地，導水部上開設有與導水槽連通的漏液口，漏液口與導水槽的槽底連通；導水槽內還設置有第二清洗凸起。

進一步地，清洗部包括第一清洗部，第一清洗部的頂部由連接端至自由端的方向設置有刮水板，第一清洗凸起位於刮水板的同一側。

進一步地，清洗部還包括第二清洗部，第二清洗部位於兩個第一清洗部之間，刮水板位於第一清洗部遠離第二清洗部的一側。

進一步地，第二清洗部包括與清洗腔的側壁連接的主支、以及與主支連接的兩個分支，分支遠離主支的端部和鄰近的第一清洗部的自由端之間形成與排污通道連通的第一開口。

進一步地，兩個導水部分佈在兩個第一清洗部之間，並位於第一清洗部遠離第二清洗部的一側，導水部的第二端與鄰近的第一清洗部的自由端之間形成與排污通道連通的第二開口；其中，污水槽位於兩個導水部之間。

進一步地，清洗盤還包括：過濾裝置，設置在污水槽內，位於污水管的周側。

進一步地，清洗盤還包括：液位檢測裝置，設置於污水槽內，用於檢測污水槽內的液位高度；其中，液位檢測裝置包括設置於過濾裝置上的浮子組件，浮子組件包括在液體作用下浮於液體表面的浮子本體；非接觸式感應元件和非接觸式被感應元件中的一個設置於浮子本體上，另一個設置於基站上，當過濾裝置設置於污水槽內，且污水槽內液體表面處於特定範圍時，非接觸式感應元件可以感應到非接觸式被感應元件。

本新型的第二方面，提供了一種基站，包括第一方面中任一項的清洗盤。

本新型的第三方面，提供了一種清潔機器人系統，包括：自移清潔設備；以及第二方面的基站。

本新型實施例的上述方案與相關技術相比，至少具有以下有益效果：

通過清洗盤設置為與基站可拆卸連接，使得清洗盤作為一個整體能夠與基站進行可拆卸連接，由此使用者可以根據需求將清洗盤安裝在基站上，或者從基站上拆卸下來。如用戶可以將整個清洗盤從基站上拆卸下來，便於對清洗盤進行清洗，提高清洗盤清洗的便利性，並能夠提高清洗盤清洗的徹底性，能夠避免髒污長時間聚集或殘留在清潔腔內而產生異味，有利於提高用戶使用的滿意度。同時，本新型提供的清洗盤在對清潔元件進行清洗的過程中，不會有髒污殘留在基站上，確保了基站的清潔性，因此，避免了髒污長時間殘留在基站上使基站產生異味的可能性。

上述說明僅是本新型技術方案的概述，為了能夠更清楚瞭解本新型的技術手段，而可依照說明書的內容予以實施，並且為了讓本新型的上述和其它目的、特徵和優點能夠更明顯易懂，以下特舉本新型的具體實施方式。

在下文的描述中，給出了大量具體的細節以便提供對本新型所提供的技術方案更為徹底的理解。然而，對於本領域技術人員而言顯而易見的是，本新型所提供的技術方案可以無需一個或多個這些細節而得以實施。

應予以注意的是，這裡所使用的術語僅是為了描述具體實施例，而非意圖限制根據本新型的示例性實施例。如在這裡所使用的，除非上下文另外明確指出，否則單數形式也意圖包括複數形式。此外，還應當理解的是，當在本說明書中使用術語“包含”和/或“包括”時，其指明存在所述特徵、整體、步驟、操作、元件和/或組件，但不排除存在或附加一個或多個其他特徵、整體、步驟、操作、元件、組件和/或它們的組合。

現在，將參照附圖更詳細地描述根據本新型的示例性實施例。然而，這些示例性實施例可以多種不同的形式來實施，並且不應當被解釋為只限於這裡所闡述的實施例。應當理解的是，提供這些實施例是為了使得本新型的新型徹底且完整，並且將這些示例性實施例的構思充分傳達給本領域普通技術人員。

如第1圖至第8圖所示，本新型的實施例提供了一種清洗盤220、基站200和清潔機器人系統，其中，清潔機器人系統包括自移清潔設備100和基站200，即基站200與自移清潔設備100配合使用。

進一步地，如第1圖和第2圖所示，自移清潔設備100可以包括機器主體110、感知系統120、控制模組、驅動系統140、清潔系統150、能源系統和人機交互系統170。可以理解的是，自移清潔設備100可以為自動清潔設備或滿足要求的其他自移清潔設備100。自移清潔設備100是在無使用者操作的情況下，在某一待清潔區域自動進行清潔操作的設備。其中，當自移清潔設備100開始工作時，自移清潔設備100從基站200出發進行清潔任務。當自移清潔設備100完成清潔任務或其他需要中止清潔任務的情況時，自移清潔設備100可以返回基站200進行充電、和/或補水、和/或清洗、和/或集塵等操作。

如第1圖所示，機器主體110包括前向部分111和後向部分112，具有近似圓形形狀(前後都為圓形)，也可具有其他形狀，包括但不限於前方後圓的近似D形形狀及前方後方的矩形或正方形形狀。

如第1圖所示，感知系統120包括位於機器主體110上的位置確定裝置121、設置於機器主體110的前向部分111的緩衝器122上的碰撞感測器、近距離感測器，設置於機器主體110下部的懸崖感測器，以及設置於機器主體110內部的磁力計、加速度計、陀螺儀、里程計等傳感裝置，用於向控制模組提供機器的各種位置資訊和運動狀態資訊。位置確定裝置121包括但不限於攝像頭、雷射測距裝置（LDS，全稱Laser Distance Sensor）。

如第1圖所示，機器主體110的前向部分111可承載緩衝器122，在清潔過程中驅動輪模組141推進自移清潔設備100在地面行走時，緩衝器122經由設置在其上的感測器系統，例如紅外感測器，檢測自移清潔設備100的行駛路徑中的一個或多個事件，自移清潔設備100可通過由緩衝器122檢測到的事件，例如障礙物、牆壁，而控制驅動輪模組141使自移清潔設備100來對事件做出回應，例如遠離障礙物。

控制模組設置在機器主體110內的電路主機板上，包括與非暫時性記憶體，例如硬碟、快閃記憶體、隨機存取記憶體，通信的計算處理器，例如中央處理單元、應用處理器，應用處理器根據雷射測距裝置回饋的障礙物資訊利用定位演算法，例如即時定位與地圖構建（SLAM，全稱Simultaneous Localization And Mapping），繪製自移清潔設備100所在環境中的即時地圖。並且結合緩衝器122上所設置感測器、懸崖感測器、磁力計、加速度計、陀螺儀、里程計等傳感裝置回饋的距離資訊、速度資訊綜合判斷自移清潔設備100當前處於何種工作狀態、位於何位置，以及自移清潔設備100當前位姿等，如過門檻，上地毯，位於懸崖處，上方或者下方被卡住，塵盒滿，被拿起等等，還會針對不同情況給出具體的下一步動作策略，使得自移清潔設備100有更好的清掃性能和使用者體驗。

如第2圖所示，驅動系統140可基於具有距離和角度資訊例如x、y及θ分量的驅動命令而操縱機器主體110跨越地面行駛。驅動系統140包含驅動輪模組141，驅動輪模組141可以同時控制左輪和右輪，為了更為精確地控制機器的運動，優選驅動輪模組141分別包括左驅動輪模組和右驅動輪模組。左、右驅動輪模組沿著由機器主體110界定的橫向軸設置。為了自移清潔設備100能夠在地面上更為穩定地運動或者更強的運動能力，自移清潔設備100可以包括一個或者多個從動輪142，從動輪142包括但不限於萬向輪。驅動輪模組141包括行走輪和驅動馬達以及控制驅動馬達的控制電路，驅動輪模組141還可以連接測量驅動電流的電路和里程計。驅動輪可具有偏置下落式懸掛系統，以可移動方式緊固，例如以可旋轉方式附接到機器主體110，且接收向下及遠離機器主體110偏置的彈簧偏置。彈簧偏置允許驅動輪以一定的著地力維持與地面的接觸及牽引，同時自移清潔設備100的清潔元件183也以一定的壓力接觸地面。

能源系統包括充電電池，例如鎳氫電池和鋰電池。充電電池可以連接有充電控制電路、電池組充電溫度檢測電路和電池欠壓監測電路，充電控制電路、電池組充電溫度檢測電路、電池欠壓監測電路再與單片機控制電路相連。主機通過設置在機身側方或者下方的充電電極與基站200連接進行充電。

人機交互系統170包括主機面板上的按鍵，按鍵供使用者進行功能選擇；還可以包括顯示螢幕和/或指示燈和/或喇叭，顯示螢幕、指示燈和喇叭向用戶展示當前機器所處狀態或者功能選擇項；還可以包括手機用戶端程式。對於路徑導航型自移清潔設備100，在手機用戶端可以向使用者展示設備所在環境的地圖，以及機器所處位置，可以向用戶提供更為豐富和人性化的功能項。

清潔系統150包括濕式清潔系統，即自移清潔設備100可以為拖地機，或者，清潔系統150包括濕式清潔系統和乾式清潔系統151，即自移清潔設備100可以為掃拖一體機。

如第2圖所示，本新型實施例所提供的乾式清潔系統151可以包括滾刷、塵盒、風機、出風口。與地面具有一定干涉的滾刷將地面上的垃圾掃起並卷帶到滾刷與塵盒之間的吸塵口前方，然後被風機產生並經過塵盒的有吸力的氣體吸入塵盒。乾式清潔系統151還可包括具有旋轉軸的邊刷152，旋轉軸相對於地面成一定角度，以用於將碎屑移動到清潔系統150的滾刷區域中。

其中，濕式清潔系統可以包括：清潔元件、送水機構、儲液箱等。其中，清潔元件可以設置於儲液箱下方，儲液箱內部的清潔液通過送水機構傳輸至清潔元件，以使清潔元件對待清潔平面進行濕式清潔。在本新型其他實施例中，儲液箱內部的清潔液也可以直接噴灑至待清潔平面，清潔元件通過將清潔液塗抹均勻實現對平面的清潔。可以理解的是，自移清潔設備100設置有與儲液箱連通的注水口，利用注水口，能夠將自移清潔設備100外部的液體補充至儲液箱中，以實現對儲液箱的補水操作。

本新型實施例提供的清潔元件，包括設置於機器主體110上的運動機構（圖中未示出）和清潔元件183，即整個清潔元件可以通過運動機構安裝在機器主體110上，清潔元件隨著機器主體110的移動而移動，以實現拖地功能。其中，運動機構用於驅動清潔元件183動作，如運動機構可以驅動清潔元件183升降、運動機構也可以驅動清潔元件183旋轉，由此，可以根據清潔元件183是否與待清潔表面接觸的需求，通過運動機構，即可實現清潔元件183的升降和旋轉操作，以滿足清潔元件183的不同功能需求，即能夠實現清潔元件183的區分策略的處理，提高了自清潔設備的清潔性能，提高了清潔效率和使用體驗。

其中，在自移清潔設備100的前進方向上，清潔元件183可以位於乾式清潔系統151的後部，清潔元件183通常可以是織物、海綿等具有吸水性的柔性物質。在本方案中，清潔元件183可以為至少一個旋轉的轉盤，自移機器人儲液箱中的水引導至清潔元件183，浸濕的清潔元件183通過旋轉運動將地面上的污漬清除。

進一步地，當在自移清潔設備100移動的過程中，在一些不需要拖地的場景，如往返基站200、或者進行地毯清潔的情況下，可以利用控制模組控制運動機構驅動清潔元件183升起，可以理解的是，清潔元件183升起可以為清潔元件183的最低下表面高於驅動輪的最低下表面，使得在該種情況下，驅動輪帶動自移清潔設備100移動的過程中，清潔元件183不會與待清潔表面接觸，由此可以避免在不需要拖地的場景下，清潔元件183與待清潔表面接觸而使待清潔表面二次污染的情況，有利於提高自移清潔設備100的清潔性，提高清潔效率和使用體驗。

當在自移清潔設備100移動的過程中，在一些需要拖地的場景，如對地面進行濕式處理的情況下，可以利用控制模組控制運動機構驅動清潔元件183下降，使清潔元件183的最低下表面與待清潔表面干涉接觸，同時，利用控制模組控制運動機構驅動清潔元件183旋轉，由此，使得驅動輪帶動自移清潔設備100移動的過程中，清潔元件183會與待清潔表面接觸干涉，以實現對待清潔表面的拖地操作。

如第3圖和第4圖所示，本新型提供的基站200，包括清洗盤220，清洗盤220用於對自移清潔設備100的清潔元件183進行清潔，因此，當自移清潔設備100利用清潔元件183完成拖地操作後，可以將自移清潔設備100停靠在基站200上，利用清洗盤220對髒污的清潔元件183進行清潔操作。

如第5圖、第6圖和第7圖所示，在本新型提供的一些可能實現的實施例中，清洗盤220與基站200可拆卸連接，由此，可以將清洗盤220整體上從基站200上拆卸下來，對清洗盤220進行清洗，有利於提高清洗盤220清洗的徹底性，避免清洗盤220清洗不徹底、或不方便清洗而使髒污長時間殘留在清洗盤220上存在產生異味的可能性，有利於提高清洗盤220的清洗體驗，提高用戶使用的滿意度。同時，清洗盤220與基站200可拆卸連接，有利於提高維修效率。

其中，如第5圖、第6圖、第7圖和第8圖所示，清洗盤220包括清潔腔2211、以及設置於清潔腔2211內部的清洗部222，清洗部222用於與自移清潔設備100的清潔元件183干涉以將清潔元件183上的髒污去除，由此實現對清潔元件183的清潔操作，如當清潔元件183為拖盤時，通過拖盤與清潔腔2211內的清洗部222干涉實現對拖盤的清洗操作。由於清潔腔2211用於容納髒污，使得清洗部222將清潔元件183上的髒污去除後可以聚集在清潔腔2211內。

通過清洗盤220設置為與基站200可拆卸連接，使得清洗盤220作為一個整體能夠與基站200進行可拆卸連接，由此使用者可以根據需求將清洗盤220安裝在基站200上，或者從基站200上拆卸下來。如用戶可以將整個清洗盤220從基站200上拆卸下來，便於對清洗盤220進行清洗，提高清洗盤220清洗的便利性，並能夠提高清洗盤220清洗的徹底性，能夠避免髒污長時間聚集或殘留在清潔腔2211內而產生異味，有利於提高用戶使用的滿意度。

而相關技術中的基站，由於清洗後的髒污會聚集在基站的污水槽內後排出，即使污水槽內的髒污排出，基站的污水槽內仍會殘留髒污流痕和殘渣，長時間後仍會產生異味，同時，由於污水槽是開設在基站上的，不方便清洗，由此，異味會長時間存在，影響用戶的使用體驗。

而本新型中，由於能夠將整個清洗盤220從基站200上拆卸下來，由此，可以對整個清洗盤220進行清洗，使得清洗部222、清潔腔2211都較為清潔，大大提高了清洗盤220清潔的徹底性，進而能夠避免髒污長時間聚集或殘留在清潔腔2211內而產生異味的情況，能夠提升使用者的使用體驗，同時，本新型提供的清洗盤220在對清潔元件183進行清洗的過程中，不會有髒污殘留在基站200上，確保了基站200的清潔性，因此，避免了髒污長時間殘留在基站200上使基站200產生異味的可能性。

可以理解的是，當需要對自移清潔設備100的清潔元件183進行清洗操作時，可以將清洗盤220安裝在基站200上即可。

進一步地，可以通過卡接結構、限位結構、螺紋結構、榫卯結構、磁吸結構等實現清洗盤220與基站200的可拆卸連接。其中，清洗部222可以通過黏結、焊接、或其他結構連接在清洗盤220的清潔腔2211內，或者，清洗部222可以與清潔腔2211的腔壁一體成型，如清洗部222可以與清洗盤220一體成型。其中，清洗部222去除的清潔元件183上的髒污可以包括污液、毛髮、固體殘渣等。

在本新型提供的一些可能實現的實施例中，基站200包括用於容納自移清潔設備100的容納腔211，當自移清潔設備100的清潔元件183髒污需要清洗時，至少部分自移清潔設備100可以停靠在基站200的容納腔211內，以利用清洗盤220對清潔元件183進行清洗操作。

其中，清洗盤220安裝在容納腔211的底壁上，使得自移清潔設備100容納在基站200的容納腔211內時，位於容納腔211底部的清洗盤220可以對位於機器主體110底部的清潔元件183進行清洗操作。

其中，如第5圖所示，容納腔211的底壁上設置有安裝槽2111，清洗盤220的外緣形狀與安裝槽2111的形狀相匹配，清洗盤220可受限於安裝槽2111內以對清洗盤220相對於基站200在水平方向的運動進行限位。由此，通過合理設置安裝槽2111的形狀和清洗盤220外緣的形狀，使得清洗盤220放置在安裝槽2111內，如清洗盤220由安裝槽2111的上方插入安裝槽2111，即可實現整個清洗盤220與基站200的安裝，當清洗盤220由安裝槽2111的上方取出，即可實現整個清洗盤220與基站200的拆卸，操作簡單，使用方便，且簡化了卡接結構、限位結構、螺紋結構、榫卯結構、磁吸結構等連接清洗盤220和基站200的結構的設置，有利於降低成本。

如第5圖和第6圖所示，在本新型提供的一些可能實現的實施例中，清潔腔2211的底壁上設置有位於清潔腔2211內部的污水槽2212，污水槽2212的槽底可以低於清潔腔2211的底壁的上表面，使得清洗部222將清潔元件183上的髒污去除後，髒污在重力的作用下會聚集在污水槽2212內。其中，基站200還包括污水管223，污水管223的一端延伸至該污水槽2212內，具體地，污水管223的第一端與污水槽2212連通，污水管223的第二端延伸至清潔腔2211的外部。由此，利用污水管223能夠將污水槽2212內的髒污排出，進而能夠及時將清潔腔2211內的髒污排出，使得清潔腔2211可以繼續容納髒污，以實現對清潔元件183的繼續清洗，有利於提高清洗效果。同時，能夠避免清潔腔2211內的髒污未及時排出而溢出造成二次污染，有利於提高用戶使用的滿意度。在本新型實施例中，污水管223可由彈性材質構成，便於清洗盤220的拆卸。

如第7圖所示，在上述實施例中，清潔腔2211的側壁開設有缺口2213，即缺口2213開設在清洗盤220上，污水管223通過缺口2213固定在清洗盤220上並延伸至污水槽2212內。其中，基站200包括污水箱214，污水管223的第二端與污水箱214連通，可以將髒污收集在污水箱214內。可以理解的是，連通污水管223和污水箱214的管路上可以設置水泵，以實現污水的收集。

其中，如第3圖所示，基站200的污水箱214可以位於容納腔211的上方，利用污水管223的第二端可以便利地將污水管223與污水箱214連通，進而通過污水管223將污水槽2212與位於容納腔211上方的污水箱214連通，由此，可以將清洗盤220的清潔腔2211內的污水及時收集在污水箱214內。可以理解的是，在另一些可能實現的實施例中，污水管223的第二端也可以延伸至基站200的外部，直接與排污管道連通。具體地，污水管223設置為彎折結構，與污水管223的第二端連接的部分向上彎折，以使污水管223能夠可靠地與污水箱214連通。

如第7圖和第8圖所示，在本新型提供的一些可能實現的實施例中，清洗部222設置於清潔腔2211的底壁上，並凸出於清潔腔2211的表面，清洗部222包括連接端2227和自由端2228，連接端2227與清潔腔2211的側壁連接，即清洗部222可以理解為清洗筋。清洗部222的頂部設置有第一清洗凸起2223，由此，利用清洗部222頂部的第一清洗凸起2223與自移清潔設備100的清潔元件183干涉，能夠將清潔元件183上的髒污去除。

由於清洗部222的連接端2227與清潔腔2211的側壁連接，清洗部222的自由端2228向清潔腔2211的內容延伸，使得清洗部222同時起到了良好的引導作用，利用清洗部222能夠將髒污引導至污水槽2212內，進而有利於提高清洗盤220排污效率，提高清洗盤220的清洗效率。其中，清洗部222凸出於清潔腔2211的表面，使得清洗部222上的第一清洗凸起2223能夠可靠與清潔元件183干涉，以確保良好的清潔效果。

其中，清洗部222的數量為至少兩個，如清洗部222的數量為兩個、三個、四個或多個，通過合理設置清洗部222的數量，能夠確保清洗部222的第一清洗凸起2223與清潔元件183具有足夠的接觸面積，以確保良好的清潔效果，同時，能夠確保清潔腔2211內具有足夠的空間供髒污順暢流通至污水槽2212，以確保良好的清洗效率。

可以理解的是，在對清潔元件183進行清洗過程中，清潔元件183與第一清洗凸起2223干涉，同時，自移清潔設備100的運動機構驅動清潔元件183旋轉，使得整個清潔元件183做旋轉運動，以循環與第一清洗凸起2223干涉，進而實現對清潔元件183的清洗操作。

如第7圖和第8圖所示，在本新型提供的一些可能實現的實施例中，清洗盤220還包括：導水部224，導水部224設置於清潔腔2211的內底壁上並凸出於清潔腔2211的表面，即導水部224可以理解為導水筋，導水部224的頂部開設有導水槽2241，導水槽2241與基站200上的出水口2112連通，導水槽2241用於容納清潔液並能夠與清潔元件183干涉。由此，清潔液從基站200的出水口2112流入導水槽2241，當清潔元件183與導水槽2241干涉，能夠利用導水槽2241中的清潔液將自身沾濕，然後清潔元件183與清洗部222干涉，即可實現對清潔元件183的清潔，這樣的設置，有利於提高清潔元件183的清潔效果。其中，導水部224凸出於清潔腔2211的表面，使得導水部224上的導水槽2241能夠可靠與清潔元件183干涉，以確保導水槽2241的水能夠順利被清潔元件183沾取。

其中，導水部224的數量為至少兩個，如導水部224的數量為兩個、三個、四個或多個，通過合理設置導水部224的數量，能夠確保導水部224的導水槽2241內的清潔液較為均勻、全面地將清潔元件183沾濕。

可以理解的是，在對清潔元件183進行清洗過程中，清潔元件183與導水部224的導水槽2241干涉，同時，自移清潔設備100的運動機構驅動清潔元件183旋轉，使得整個清潔元件183做旋轉運動，以循環與導水槽2241干涉，進而使得清潔元件183能夠均勻被沾濕，沾濕後的清潔元件183與清洗部222干涉以提高清洗效果。

如第3圖和第4圖所示，其中，基站200包括清水箱213，清水箱213位於容納腔211的上方用於容納清潔液，出水口2112與清水箱213連通，通過出水口2112可以將清水箱213中的清潔液輸入至導水槽2241內。其中，出水口2112可以位於容納腔211的頂部，出水口2112與導水部224的導水槽2241正對，如此，通過閥等部件控制出水口2112的開閉情況，即可使清水箱213中的清潔液在重力作用下輸入至導水槽2241內。可以理解的是，出水口2112也可以位於容器腔的側壁，通過管路連通出水口2112和導水槽2241，將清洗箱中的清潔液流入導水槽2241內。

在上述實施例中，如第5圖和第6圖所示，導水部224與清洗部222間隔分佈，清洗部222和導水部224中相鄰的兩個之間形成集水區2214，即可以是相鄰的兩個清洗部222之間形成集水區2214，也可以是相鄰的兩個導水部224之間形成集水區2214，也可以是相鄰的一個清洗部222和一個導水部224形成集水區2214。通過將污水槽2212位於一個集水區2214內，清潔腔2211的底壁上設置有排污通道2216，污水槽2212通過排污通道2216與各個集水區2214連通，進而利用排污通道2216的導向作用，能夠將各個集水區2214的髒污引導至污水槽2212內，由此，能夠提高清洗盤220收集污水的快速性和徹底性，有利於提高清洗盤220的排污效率，進而提高清洗效率。

如第7圖所示，在上述實施例中，位於集水區2214內的清潔腔2211的底壁設置為導向面2215，導向面2215為傾斜平面或傾斜曲面，由此，在導向面2215的引導下，能夠使各個集水區2214的髒污較為快速、較為徹底地引導至污水槽2212內，提高清洗盤220的排污效率和排污效果，進而提高清洗效率。

進一步地，導向面2215可以為傾斜平面或傾斜曲面，導向面2215的傾斜角度可以為大於0°小於等於30°，如導向面2215的傾斜角度可以為5°、10°、20°、30°或其他角度，具體地，導向面2215的傾斜角度可以大於等於8°，如每個集水區2214內的導向面2215可以由不低於8°的圓錐面構成。

如第8圖所示，在本新型提供的一些可能實現的實施例中，導水部224上開設有與導水槽2241連通的漏液口2242，由於清潔液進入導水部224的導水槽2241後，自移清潔設備100的清潔元件183無法將導水槽2241中的清潔液沾取徹底，存在導水槽2241內殘留清潔液的情況，通過在導水部224上開設與導水槽2241連通的漏液口2242，使得導水槽2241內剩餘的清潔液可以從漏液口2242排出，能夠避免導水槽2241中長時間殘留液體而產生異味的情況，進而有利於提高導水槽2241的清潔性。可以理解的是，在將清洗盤220從基站200上取下來進行清洗的過程中，也可以對導水部224和清洗部222進行清洗。

其中，漏液口2242與導水槽2241的槽底連通，使得導水槽2241中的殘留液體能夠經漏液口2242較為徹底的排出，進而能夠提高導水槽2241排液的徹底性。

其中，導水槽2241內還設置有第二清洗凸起，由此，在清潔元件183與導水槽2241干涉沾取導水槽2241內的清潔液時，清潔元件183能夠同時與第二清潔凸起2243干涉進行清洗操作，進而提高清洗效率和清洗效果。

可以理解的是，第二清洗凸起和第一清洗凸起2223的形狀和大小可以相同也可以不同，多個第二清洗凸起的形狀和大小可以相同也可以不同，多個第一清洗凸起2223的形狀和大小可以相同也可以不同。

如第7圖所示，在本新型提供的一些可能實現的實施例中，清洗部222包括第一清洗部2221，第一清洗部2221的頂部由連接端2227至自由端2228的方向設置有刮水板2224。刮水板2224的設置，使得清潔元件183在經過刮水板2224的過程中，將清潔元件183上的污水刮掉，進而提高清潔元件183的清潔效果。

其中，第一清洗凸起2223位於刮水板2224的同一側，使得清潔元件183可以在與刮水板2224干涉進行刮水操作後，與第一清洗凸起2223干涉、摩擦進行清洗操作，或者，清潔元件183可以在與第一清洗凸起2223干涉、摩擦進行清洗操作後，與刮水板2224干涉進行刮水操作。可以理解的是，清潔元件183的同一位置在進行刮水操作後，可以與導水部224干涉，進行沾取清潔液的操作，或者，清潔元件183的同一位置在進行刮水操作後，可以與清洗部222干涉，進行清洗操作。可以理解的是，刮水板2224刮下的髒污在重力作用下流入清潔腔2211，經集水區2214、排污通道2216流向污水槽2212，經排污管收集至污水箱214。

如第7圖所示，在本新型提供的一些可能實現的實施例中，清洗部222還包括第二清洗部2222，第二清洗部2222位於兩個第一清洗部2221之間，刮水板2224位於第一清洗部2221遠離第二清洗部2222的一側。由於第二清洗部2222的頂端設置有第一清洗凸起2223，將第二清洗部2222設置在兩個第一清洗部2221之間，使得清潔元件183在被一個第一清洗部2221上的刮水板2224掛掉水分後，旋轉至與第二清洗部2222上的第一清洗凸起2223干涉，能夠充分地進行清洗操作，然後清潔元件183旋轉至另一個第一清洗部2221後，被該清洗部222上的刮水板2224再次刮掉水分和髒污，由此，可以提高清洗盤220的清洗效果。可以理解的是，該部分清潔元件183被另一個清洗部222上的刮水板2224刮掉水分和髒污後，可以與導水部224干涉進行沾取清洗液的操作。

進一步地，刮水板2224位於第一清洗部2221遠離第二清洗部2222的一側，即刮水板2224遠離第二清洗部2222設置，第一清洗部2221上的第一清洗凸起2223和第二清洗部2222位於刮水板2224的同一側，由此，使得第一清洗部2221和第二清洗部2222上的第一清洗凸起2223均在兩個第一清洗部2221的刮水板2224之間，由此，能夠增大刮水後的清潔元件183與第一清洗凸起2223的接觸時長，有利於提高清洗效果。

如第7圖所示，在上述實施例中，第二清洗部2222包括與清洗腔的側壁連接的主支2225、以及與主支2225連接的兩個分支2226，分支2226遠離主支2225的端部和鄰近的第一清洗部2221的自由端2228之間形成與排污通道2216連通的第一開口。由此，使得分支2226與鄰近的第一清洗部2221之間形成的集水區2214的髒污通過第一開口引導至排污通道2216，並經排污通道2216引導至污水槽2212，然後通過污水管223排出至清潔腔2211的外部。

如第5圖至第8圖所示，在本新型提供的一些可能實現的實施例中，兩個導水部224分佈在兩個第一清洗部2221之間，並位於第一清洗部2221遠離第二清洗部2222的一側，由此，可以利用兩個導水部224較為集中的對清潔元件183提供清潔液，以使清潔元件183能夠充分地沾濕，提高清潔效果。

其中，導水部224的第二端與鄰近的第一清洗部2221的自由端2228之間形成與排污通道2216連通的第二開口，由此，使得導水部224與鄰近的第一清洗部2221之間形成的集水區2214的髒污通過第二開口引導至排污通道2216，並經排污通道2216引導至污水槽2212，然後通過污水管223排出至清洗腔的外部。

其中，污水槽2212位於兩個導水部224之間，由於清潔元件183與導水部224干涉沾取清潔液的過程中，會有部分清潔液從導水槽2241內擠出，也會有部分清潔液從脫離導水部224的清潔元件183上掉落，將污水槽2212設置在兩個導水部224之間，可以將從導水槽2241內擠出的清潔液、從脫離導水部224的清潔元件183上掉落的清潔液快速引導至污水槽2212，以提高清洗盤220的排污效率。

如第8圖所示，在本新型提供的一些可能實現的實施例中，清洗盤220還包括：過濾裝置225，設置在污水槽2212內，位於污水管223的周側。過濾裝置225的設置，可以將清潔腔2211內顆粒較大的雜質過濾掉，防止雜質堵塞污水管223的現象，有利於提高經污水管223排出至污水箱214或外部環境的污液的清潔性。

進一步地，過濾裝置225與清洗盤220可拆卸連接，可以將過濾裝置225從清洗盤220上拆卸下來對過濾裝置225、清洗盤220分別進行清洗，以提高清洗盤220的清洗效果。具體地，過濾裝置225可以通過螺紋結構、卡接結構、榫卯結構中的一種與座體221可拆卸連接。

其中，過濾裝置225可以在污水槽2212周向的一側上設置過濾網、也可以在污水槽2212周向的兩側上設置過濾網，也可以在污水槽2212的整個周向上設置過濾網。進一步地，過濾裝置225的頂部也可以設置過濾網，進一步提高過濾裝置225的過濾效果。

如第8圖所示，在本新型提供的一些可能實現的實施例中，清洗盤220還包括：液位檢測裝置226，液位檢測裝置226設置於污水槽2212內，用於檢測污水槽2212內的液位高度。液位檢測裝置226的設置，能夠確定污水槽2212的液位高度是否在合理範圍內，避免污水槽2212的液位高度較高而使髒污溢出清洗腔外部造成二次污染，液位檢測裝置226的設置，有利於提高清洗盤220使用的安全性和清潔性。

具體地，液位檢測裝置226可以為液位感測器，也可以為滿足要求的其他結構。

進一步地，液位檢測裝置226包括設置於過濾裝置225上的浮子組件，浮子組件包括在液體作用下浮於液體表面的浮子本體；非接觸式感應元件和非接觸式被感應元件中的一個設置於浮子本體上，另一個設置於基站200上，當過濾裝置225設置於污水槽2212內，且污水槽2212內液體表面處於特定範圍時，非接觸式感應元件可以感應到非接觸式被感應元件。

其中，非接觸式感應元件用於對非接觸式被感應元件進行檢測，如非接觸式感應元件用於檢測非接觸式被感應元件發射的信號參數，通過非接觸式感應元件和非接觸式被感應元件中的一個設置於浮子本體上，另一個設置於基站200上，即非接觸式感應元件和非接觸式被感應元件中的一個隨著浮子本體的浮動而移動，另一個設置在基站200的固定位置處，這樣，浮子本體在液體的作用下上下浮動過程中，非接觸式感應元件檢測到的非接觸式被感應元件發射的信號參數是不同的，進而根據不同的信號參數即可確定污水槽2212內的液位範圍，並確定液位範圍是否處於合理範圍。

進一步地，當過濾裝置225設置於污水槽2212內，且污水槽2212內的液體表面處於特定範圍時，非接觸式感應元件可以感應到非接觸式被感應元件，說明過濾裝置225準確安裝在座體221上，且污水槽2212內水位處於特定範圍，如污水槽2212內的水位處於安全位置並不會影響基站200的正常工作。即浮子組件、非接觸式感應元件、非接觸式被感應元件構成的檢測裝置，能夠同時對污水槽2212內的液位和過濾裝置225的當前位置進行檢測，擴大了浮子組件的功能，簡化了檢測裝置的設置，即簡化了產品的結構，並簡化了系統軟體程式及演算法，可有效的節約成本，適於推廣應用。

也就是說，本新型實施例提供的基站200，通過將浮子組件設置在過濾裝置225上，並配合非接觸式感應元件和非接觸式被感應元件，使得基站200能夠同時對過濾裝置225是否安裝於清潔槽以及清潔槽內水位是否處於正常範圍進行檢測，簡化基站200的結構。

其中，如第4圖所示，基站200的容納腔211內還設置有補水接頭2114，補水接頭2114的入口與清水箱213連接，補水接頭2114的出口用於與自移清潔設備100的注水口連接，以實現對自移清潔設備100的補水操作。

其中，基站200上還設置有充電對接元件，充電對接元件包括位於容納腔211內的充電接觸極片2113，當自移清潔設備100停靠在基站200的容納腔211內時，自移清潔設備100的充電極片與基站200的充電接觸極片2113對接，以實現對自移清潔設備100的充電操作。

本新型已經通過上述實施例進行了說明，但應當理解的是，上述實施例只是用於舉例和說明的目的，而非意在將本新型限制於所描述的實施例範圍內。此外本領域技術人員可以理解的是，本新型並不局限於上述實施例，根據本新型的教導還可以做出更多種的變型和修改，這些變型和修改均落在本新型所要求保護的範圍以內。本新型的保護範圍由附屬的申請專利範圍及其等效範圍所界定。

100:自移清潔設備 110:機器主體 111:前向部分 112:後向部分 120:感知系統 121:確定裝置 122:緩衝器 140:驅動系統 141:驅動輪模組 142:從動輪 150:清潔系統 151:乾式清潔系統 152:邊刷 170:人機交互系統 183:清潔元件 200:基站 211:容納腔 2111:安裝槽 2112:出水口 2113:充電接觸極片 2114:補水接頭 213:清水箱 214:污水箱 220:清洗盤 221:座體 2211:清潔腔 2212:污水槽 2213:缺口 2214:集水區 2215:導向面 2216:排污通道 222:清洗部 2221:第一清洗部 2222:第二清洗部 2223:第一清洗凸起 2224:刮水板 2225:主支 2226:分支 2227:連接端 2228:自由端 223:污水管 224:導水部 2241:導水槽 2242:漏液口 2243:第二清潔凸起 225:過濾裝置 226:液位檢測裝置

本新型的下列附圖在此作為本新型實施例的一部分用於理解本新型。附圖中示出了本新型的實施例及其描述，用來解釋本新型的原理。附圖中： 第1圖為根據本新型的一個可選實施例的自移清潔設備的結構示意圖； 第2圖為第1圖所示實施例的一個視角的結構示意圖； 第3圖為根據本新型的一個可選實施例的基站的結構示意圖； 第4圖為第3圖所示實施例的一個視角的部分結構示意圖； 第5圖為根據本新型的一個可選實施例的清洗盤的結構示意圖； 第6圖為第5圖所示實施例的一個視角的結構示意圖； 第7圖為根據本新型的一個可選實施例的清洗盤的結構示意圖； 第8圖為第7圖所示實施例的一個視角的結構示意圖。

200:基站

220:清洗盤

222:清洗部

2212:污水槽

2213:缺口

2221:第一清洗部

2222:第二清洗部

223:污水管

Claims (17)

1. 一種清洗盤，應用於清洗自移清潔設備的基站，所述清洗盤包括：清潔腔以及設置於所述清潔腔內的清洗部，所述清洗部用於與所述自移清潔設備的清潔元件干涉以將所述清潔元件上的髒污去除，所述清潔腔用於容納所述髒污；其中，所述清洗盤設置為與所述基站可拆卸連接。
2. 如請求項1所述之清洗盤，其中，所述基站包括用於容納所述自移清潔設備的容納腔，其中，所述容納腔的底壁上開設有安裝槽，所述清洗盤的外緣形狀與所述安裝槽的形狀相匹配。
3. 如請求項1所述之清洗盤，其中，所述清潔腔內設置有污水槽，設置於所述基站上的污水管的一端延伸至所述污水槽。
4. 如請求項3所述之清洗盤，其中，所述清潔腔的側壁開設有缺口，所述污水管穿過所述缺口固定於所述清洗盤上。
5. 如請求項3所述之清洗盤，其中，所述清洗部設置於所述清潔腔的底壁上，並凸出於所述清潔腔的底壁表面，所述清洗部包括連接端和自由端，所述連接端與所述清潔腔的側壁連接，所述清洗部的頂部設置有第一清洗凸起；其中，所述清洗部的數量為至少兩個。
6. 如請求項5所述之清洗盤，還包括： 導水部，所述導水部設置於所述清潔腔的底壁上，並凸出於所述清潔腔的表面，所述導水部的頂部開設有導水槽，所述導水槽與所述基站上的出水口連通，所述導水槽用於容納清潔液並能夠與所述清潔元件干涉；其中，所述導水部的數量為至少兩個。
7. 如請求項6所述之清洗盤，其中，所述導水部與所述清洗部間隔分佈，所述導水部的第一端與所述清潔腔的側壁連接，所述清洗部和所述導水部中相鄰的兩個之間形成集水區，所述污水槽位於一個所述集水區內，所述清潔腔的底壁上開設有排污通道，所述污水槽通過所述排污通道與各個所述集水區連通。
8. 如請求項7所述之清洗盤，其中，位於所述集水區內的所述清潔腔的底壁設置為導向面，所述導向面為傾斜平面或傾斜曲面。
9. 如請求項7所述之清洗盤，其中，所述導水部上開設有與所述導水槽連通的漏液口，所述漏液口與所述導水槽的槽底連通；所述導水槽內還設置有第二清洗凸起。
10. 如請求項7至9任一項所述之清洗盤，其中，所述清洗部包括第一清洗部，所述第一清洗部的頂部由所述連接端至所述自由端的方向設置有刮水板，所述第一清洗凸起位於所述刮水板的同一側。
11. 如請求項10所述之清洗盤，其中，所述清洗部還包括第二清洗部，所述第二清洗部位於兩個所述第一清洗部之間，所述刮水板位於所述第一清洗部遠離所述第二清洗部的一側。
12. 如請求項11所述之清洗盤，其中，所述第二清洗部包括與所述清洗腔的側壁連接的主支、以及與所述主支連接的兩個分支，所述分支遠離所述主支的端部和鄰近的所述第一清洗部的所述自由端之間形成與所述排污通道連通的第一開口。
13. 如請求項11所述之清洗盤，其中，兩個所述導水部分佈在兩個所述第一清洗部之間，並位於所述第一清洗部遠離所述第二清洗部的一側，所述導水部的第二端與鄰近的所述第一清洗部的所述自由端之間形成與所述排污通道連通的第二開口；其中，所述污水槽位於兩個所述導水部之間。
14. 如請求項3所述之清洗盤，還包括：過濾裝置，設置在所述污水槽內，位於所述污水管的周側。
15. 如請求項14所述之清洗盤，還包括：液位檢測裝置，設置於所述污水槽內，用於檢測所述污水槽內的液位高度；其中，所述液位檢測裝置包括設置於所述過濾裝置上的浮子組件，所述浮子組件包括在液體作用下浮於液體表面的浮子本體；非接觸式感應元件和非接觸式被感應元件中的一個設置於所述浮子本體上，另一個設置於所述基站上，當所述過濾裝置設置於所述污水槽內，且所述污水槽內液體表面處於特定範圍時，所述非接觸式感應元件可以感應到所述非接觸式被感應元件。
16. 一種基站，包括如請求項1至15任一項所述之清洗盤。
17. 一種清潔機器人系統，包括：自移清潔設備；以及如請求項16所述之基站，其中，所述自移清潔設備包括清潔元件，所述基站包括用於容 納所述自移清潔設備的容納腔，當所述自移清潔設備的所述清潔元件髒污需要清洗時，至少部分所述自移清潔設備能夠停靠在所述基站的所述容納腔內，以對所述清潔元件進行清洗操作。