TWM652176U - 電子產品旋轉離心電鍍機 - Google Patents
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- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims description 45
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims abstract description 187
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 54
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 20
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 14
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013475 authorization Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
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Abstract
本創作公開了一種電子產品旋轉離心電鍍機，包括電鍍液槽，所述電鍍液槽中盛裝有電鍍液，所述電鍍液槽中設置有可以旋轉的電鍍桶，所述電鍍桶浸沒在電鍍液中，電鍍桶的壁上開設有孔使電鍍液槽中的電鍍液流入電鍍桶內，所述電鍍桶的桶壁上設置有導電陰極環，所述電鍍桶的中部固定設置有陽極鈦籃，陽極鈦籃浸入電鍍液中，所述電鍍桶外側豎直設置有轉軸，所述轉軸的上端與電鍍桶固定連接，所述電鍍液槽的下方設置有用於驅動轉軸和電鍍桶旋轉的馬達。採用本創作的電鍍機可以使電子產品電鍍均勻，電鍍液的溫度控制精確，電鍍品質好。
Description
本創作關於電鍍技術領域，具體為電子產品旋轉離心電鍍機。
目前一些電子產品包括晶片這種體積較小的產品在電鍍時一般可以採用離心電鍍的方法，使電鍍件在電鍍時不容易出現黏接現象，電鍍效果和效率較好，目前的離心電鍍製程一般是在可旋轉的電鍍槽中加入電鍍液，電鍍槽上有電鍍陰極，然後有可移動的電鍍陽極在電鍍時移動到電鍍槽中，通電後進行電鍍。電鍍液需要有一定的溫度，為了保持電鍍液的溫度一般是在另一個電鍍液槽中加入加熱裝置，對電鍍液加熱，然後通過管道將加熱後的電鍍液輸送到進行電鍍的電鍍槽中，進行電鍍的電鍍槽中的原有溫度變低的電鍍液通過管道回流到有加熱裝置的電鍍液槽中，使電鍍液循環流動以保持進行電鍍的電鍍液的溫度。但是這種電鍍液循環的管道一般較細，循環速度慢，溫度控制精度不夠，進行電鍍的電鍍液的溫度不穩定，使不同時段的電鍍有差異，電鍍的均勻性不好，影響電鍍品質。另外在抽取電鍍液進行循環時容易有空氣進入電鍍液中，也就是有氧氣進入電鍍液中，氧氣與電鍍離子進行反應會影響電鍍品質。
授權公告號為CN216891288U的專利公開了一種離心電鍍機，包括控制櫃；本創作多個電鍍缸均是固定的，增強陰極旋轉時的穩定性，也不存在藥水腐蝕軌道的問題，通過五通閥內推動氣缸帶動閥芯的動作，通過閥芯的切換作用和不同的出水口可實現排水和電鍍藥水的分別排出，此種方式可使藥水在密閉的管道內循環，避免藥水在循環時裸露於空氣中而產生泡沫，從而避免了泡沫對電鍍效果的影響，同時減少藥水的揮發性，對節約藥水和生產環境的影響均有更好效果；經過循環過濾機的循環輸送，純水和電鍍藥水進入到電鍍缸中處理，經過電鍍缸的處理後，藥水重新進入到出水管中，經五通閥的切換分別回到儲液槽內循環使用。但是該專利仍然沒有解決電鍍液溫度控制不好、電鍍的均勻性不好以及氧氣進入電鍍液中影響電鍍品質的問題。
針對先前技術的不足，本創作提供了一種電子產品旋轉離心電鍍機，採用該電鍍方法可以使電子產品電鍍件電鍍均勻，電鍍液的溫度控制精確，電鍍品質好。
為實現以上目的，本創作通過以下技術方案予以實現：一種電子產品旋轉離心電鍍機，包括電鍍液槽，所述電鍍液槽中盛裝有電鍍液，所述電鍍液槽中設置有可以旋轉的電鍍桶，所述電鍍桶浸沒在電鍍液中，電鍍桶的壁上開設有孔使電鍍液槽中的電鍍液流入電鍍桶內，所述電鍍桶的桶壁上設置有導電陰極環，所述電鍍桶的中部固定設置有陽極鈦籃，陽極鈦籃浸入電鍍液中，所述電鍍桶外側豎直設置有轉軸，所述轉軸的上端與電鍍桶固定連接，所述電鍍液槽的下方設置有用於驅動轉軸和電鍍桶旋轉的馬達。
較佳地，所述轉軸可轉動地豎直設置在電鍍桶的外側，轉軸穿過一法蘭並與法蘭固定連接，法蘭與電鍍桶的底部固定連接，轉軸與電鍍液槽之間密封，所述陽極鈦籃的外緣與電鍍桶的桶壁上相鄰對應的導電陰極環之間的距離相等。
較佳地，在電鍍液槽上方設置陰極導電機構，所述陰極導電機構與導電陰極環和陽極鈦籃電路導通。
較佳地，所述電鍍液槽上方設置有陰極接入安裝架，所述陰極導電機構的上部安裝在陰極接入安裝架上，所述陰極導電機構的下部與導電陰極環和陽極鈦籃電路導通。
較佳地，所述轉軸的下端設置有從動帶輪，所述馬達的工作軸上設置有主動帶輪，所述主動帶輪和從動帶輪上繞有傳動皮帶，所述轉軸與電鍍液槽之間密封。
較佳地，所述電鍍液槽的旁側設置有馬達安裝架，所述馬達安裝在馬達安裝架上。
較佳地，所述電鍍液槽的頂部封閉。
較佳地，所述電鍍液槽中設置有加熱裝置。
較佳地，所述電鍍桶的頂部設置有鍍桶上蓋。
本創作提供的電子產品旋轉離心電鍍機，具備以下有益效果：通過對電鍍液進行直接加熱，可以精確控制加熱溫度，電子產品電鍍件電鍍均勻，氧氣不容易進入電鍍液中，電鍍品質好。
下面將結合本創作實施例中的圖式，對本創作實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本創作一部分實施例，而不是全部的實施例。
請參閱圖1和圖2，本創作提供技術方案：電子產品旋轉離心電鍍機，包括電鍍液槽1，所述電鍍液槽1中盛裝有電鍍液，所述電鍍液槽1中設置有可以旋轉的電鍍桶2，所述電鍍桶2浸沒在電鍍液中，電鍍桶2的壁上開設有孔（圖中未標識）使電鍍液槽1中的電鍍液流入電鍍桶2內，所述電鍍桶2的桶壁上設置有導電陰極環3，所述電鍍桶2的中部固定設置有陽極鈦籃5，所述轉軸4的上端與電鍍桶2固定連接，所述電鍍液槽1的下方設置有用於驅動轉軸4和電鍍桶2旋轉的馬達9，陽極鈦籃5整個浸入電鍍液中。
較佳地，轉軸4可轉動地豎直設置在電鍍桶2的外側，轉軸4穿過法蘭14並與法蘭14固定連接，法蘭14與電鍍桶2的底部固定連接，轉軸4與電鍍液槽1之間密封，所述陽極鈦籃5的外緣與電鍍桶2的桶壁上相鄰對應的導電陰極環3之間的距離相等，這樣電鍍離子的移動效率高、移動時間接近，則在相同時間段內不同位置的電子產品的電鍍效果基本相同，不同位置的電子產品的電鍍均勻、品質一致。
較佳地，在電鍍液槽1上方設置陰極導電機構6，所述陰極導電機構6與導電陰極環3和陽極鈦籃5電路導通，形成電鍍回路。
較佳地，所述電鍍液槽1上方設置有陰極接入安裝架7，所述陰極導電機構6的上部安裝在陰極接入安裝架7上，所述陰極導電機構6的下部與導電陰極環3和陽極鈦籃5電路導通。
較佳地，所述轉軸4的下端設置有從動帶輪8，所述馬達9的工作軸上設置有主動帶輪13，所述主動帶輪13和從動帶輪8上繞有傳動皮帶10，所述轉軸4與電鍍液槽1之間密封。
較佳地，所述電鍍液槽1的旁側設置有馬達安裝架11，所述馬達9安裝在馬達安裝架11上。
較佳地，所述電鍍液槽1的頂部封閉，保持電鍍液槽1中的電鍍液的溫度。
較佳地，所述電鍍液槽1中設置有加熱裝置（圖中未示），加熱裝置的工作可以精確控制，採用可精密控制的加熱裝置，這樣電鍍液槽1中的電鍍液的溫度可以保證相對穩定，不同時段的電鍍基本沒有差異，電鍍的均勻性好，可以保證電子產品的電鍍品質。
較佳地，所述電鍍桶2的頂部設置有鍍桶上蓋12，鍍桶上蓋12可以拆卸，鍍桶上蓋12蓋在電鍍桶2上防止電鍍的電子產品飛出電鍍桶2。
本創作電子產品旋轉離心電鍍機工作時，首先是開啟加熱裝置對電鍍液槽1中的電鍍液進行加熱，將電鍍液加熱到電鍍需要的溫度，然後將要電鍍的電子產品如晶片放入電鍍桶2內，並且啟動馬達9工作帶動轉軸4和法蘭14、電鍍桶2旋轉，陰極導電機構6通電在導電陰極環3和陽極鈦籃5之間形成導電回路，電鍍液中的電鍍離子電鍍到電子產品上，在旋轉離心力作用下電子產品如晶片貼附在電鍍桶2的內壁上進行電鍍不會掉落。
由於是將電鍍桶2直接浸沒在電鍍液槽1內的電鍍液中，電鍍液是通過精密控制加熱裝置進行加熱，不需要循環管道抽取電鍍液，這樣不會有空氣進入電鍍液中，也就沒氧氣進入電鍍液中，不會出現氧氣與電鍍離子的反應，可以保證電鍍的品質和效果，同時電鍍液槽1中的電鍍液的溫度可以保證相對穩定，在溫度達到設定的電鍍溫度上限時加熱裝置停止加熱，在溫度達到設定的電鍍溫度下限時加熱裝置開始加熱，電鍍溫度的上下限範圍在一個極小的區間內，電鍍溫度的波動很小，相當於電鍍溫度是穩定的，不同時段的電鍍基本沒有差異，電鍍的均勻性好，可以保證電子產品的電鍍品質。
以上，僅為本創作較佳的具體實施方式，但本創作的保護範圍並不局限於此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本創作揭露的技術範圍內，如本創作的技術方案及其創作構思加以等同替換或改變，都應涵蓋在本創作的保護範圍之內。
1:電鍍液槽
2:電鍍桶
3:導電陰極環
4:轉軸
5:陽極鈦籃
6:陰極導電機構
7:陰極接入安裝架
8:從動帶輪
9:馬達
10:傳動皮帶
11:馬達安裝架
12:鍍桶上蓋
13:主動帶輪
14:法蘭
圖1為本創作電子產品旋轉離心電鍍機的結構示意圖。
圖2為本創作電子產品旋轉離心電鍍機實施例中電鍍桶處的透視結構示意圖。
1:電鍍液槽
2:電鍍桶
5:陽極鈦籃
6:陰極導電機構
7:陰極接入安裝架
8:從動帶輪
9:馬達
10:傳動皮帶
11:馬達安裝架
13:主動帶輪
Claims (9)
- 一種電子產品旋轉離心電鍍機，其包括電鍍液槽，所述電鍍液槽中盛裝有電鍍液，其特徵在於： 所述電鍍液槽中設置有可以旋轉的電鍍桶，所述電鍍桶浸沒在所述電鍍液中，所述電鍍桶的壁上開設有孔使所述電鍍液槽中的所述電鍍液流入所述電鍍桶內，所述電鍍桶的桶壁上設置有導電陰極環，所述電鍍桶的中部固定設置有陽極鈦籃，所述陽極鈦籃浸入所述電鍍液中，所述電鍍桶外側豎直設置有轉軸，所述轉軸的上端與所述電鍍桶固定連接，所述電鍍液槽的下方設置有用於驅動所述轉軸和所述電鍍桶旋轉的馬達。
- 如請求項1所述的電子產品旋轉離心電鍍機，其中，所述轉軸可轉動地豎直設置在所述電鍍桶的外側，所述轉軸穿過一法蘭並與所述法蘭固定連接，所述法蘭與所述電鍍桶的底部固定連接，所述轉軸與所述電鍍液槽之間密封，所述陽極鈦籃的外緣與所述電鍍桶的桶壁上相鄰對應的所述導電陰極環之間的距離相等。
- 如請求項2所述的電子產品旋轉離心電鍍機，其中，在所述電鍍液槽上方設置陰極導電機構，所述陰極導電機構與所述導電陰極環和所述陽極鈦籃電路導通。
- 如請求項3所述的電子產品旋轉離心電鍍機，其中，所述電鍍液槽上方設置有陰極接入安裝架，所述陰極導電機構的上部安裝在所述陰極接入安裝架上，所述陰極導電機構的下部與所述導電陰極環和所述陽極鈦籃電路導通。
- 如請求項1所述的電子產品旋轉離心電鍍機，其中，所述轉軸的下端設置有從動帶輪，所述馬達的工作軸上設置有主動帶輪，所述主動帶輪和所述從動帶輪上繞有傳動皮帶，所述轉軸與所述電鍍液槽之間密封。
- 如請求項5所述的電子產品旋轉離心電鍍機，其中，所述電鍍液槽的旁側設置有馬達安裝架，所述馬達安裝在所述馬達安裝架上。
- 如請求項1所述的電子產品旋轉離心電鍍機，其中，所述電鍍液槽的頂部封閉。
- 如請求項1所述的電子產品旋轉離心電鍍機，其中，所述電鍍液槽中設置有加熱裝置。
- 如請求項1所述的電子產品旋轉離心電鍍機，其中，所述電鍍桶的頂部設置有鍍桶上蓋。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2023217949901 | 2023-07-10 | ||
| CN202321794990.1U CN220685310U (zh) | 2023-07-10 | 2023-07-10 | 一种电子产品旋转离心电镀机 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TWM652176U true TWM652176U (zh) | 2024-03-01 |
Family
ID=90412129
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW112209674U TWM652176U (zh) | 2023-07-10 | 2023-09-08 | 電子產品旋轉離心電鍍機 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN220685310U (zh) |
| TW (1) | TWM652176U (zh) |
-
2023
- 2023-07-10 CN CN202321794990.1U patent/CN220685310U/zh active Active
- 2023-09-08 TW TW112209674U patent/TWM652176U/zh unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN220685310U (zh) | 2024-03-29 |
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