TWM651965U - 滾輪模具生產設備 - Google Patents
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Abstract
本創作公開一種滾輪模具生產設備，其包含依序配置的噴塗裝置、鍍層裝置、及分離裝置。所述噴塗裝置包含承載機構及奈米銀噴塗機構，所述承載機構用以供前置滾輪設置，所述奈米銀噴塗機構能噴灑多個奈米銀顆粒，以佈設於所述前置滾輪的光阻層。所述鍍層裝置包含化鍍機構與電鍍機構。所述化鍍機構用於在所述光阻層上形成包覆多個所述奈米銀顆粒的化鍍翻印層。所述電鍍機構用於在所述化鍍翻印層上形成有電鍍基底層，以使所述電鍍基底層、所述化鍍翻印層、及多個所述奈米銀顆粒共同構成滾輪母模，其能通過所述分離裝置而自所述前置滾輪分離。
Description
本創作涉及一種模具生產設備，尤其涉及一種滾輪模具生產設備。
現有的滾輪模具生產設備是先在一前置滾輪的外表面通過銀鏡反應形成有一銀鍍層，而後在所述銀鍍層上形成有一母模，最後將所述前置滾輪自所述母模拆出，以使所述母模之內可以用來形成有一轉印滾輪。然而，現有轉印滾輪自所述母模拆出之後，其容易殘留有來自所述銀鍍層的拆版銀線，進而造成缺陷。
於是，本創作人認為上述缺陷可改善，乃特潛心研究並配合科學原理的運用，終於提出一種設計合理且有效改善上述缺陷的本創作。
本創作實施例在於提供一種滾輪模具生產設備，其能有效改善現有滾輪模具生產設備所可能產生的缺陷。
本創作實施例公開一種滾輪模具生產設備，其包括：一噴塗裝置，其包含：一承載機構，定義有一工作區域，用以供一前置滾輪設置；其中，所述前置滾輪包含有一圓筒及形成於所述圓筒外表面的一光阻層；及一奈米銀噴塗機構，其面向所述工作區域；其中，所述奈米銀噴塗機構能朝向所述工作區域噴灑多個奈米銀顆粒，以使多個所述奈米銀顆粒佈設於設置在所述工作區域的所述前置滾輪的所述光阻層之上；一鍍層裝置，其配置於所述噴塗裝置的下游，並且所述鍍層裝置包含：一化鍍機構，用於在所述光阻層上進行化學鍍，以形成有包覆多個所述奈米銀顆粒的一化鍍翻印層；及一電鍍機構，對應於所述化鍍機構設置；其中，所述電鍍機構能用於在所述化鍍翻印層上電鍍形成有一電鍍基底層，以使所述電鍍基底層、所述化鍍翻印層、及多個所述奈米銀顆粒共同構成一滾輪母模；以及一分離裝置，其配置於所述鍍層裝置的下游，並且所述分離裝置用來所述滾輪母模自所述前置滾輪分離。
綜上所述，本創作實施例所公開的滾輪模具生產設備，其通過所述噴塗裝置、所述鍍層裝置、及所述分離裝置之間的搭配，以利於在所述滾輪母模形成有包覆多個所述奈米銀顆粒的化鍍翻印層，進而提供一種有別於以往的滾輪型模具生產機制，據以擴展所述滾輪型模具的發展方向。
為能更進一步瞭解本創作的特徵及技術內容，請參閱以下有關本創作的詳細說明與附圖，但是此等說明與附圖僅用來說明本創作，而非對本創作的保護範圍作任何的限制。
以下是通過特定的具體實施例來說明本創作所公開有關“滾輪模具生產設備”的實施方式，本領域技術人員可由本說明書所公開的內容瞭解本創作的優點與效果。本創作可通過其他不同的具體實施例加以施行或應用，本說明書中的各項細節也可基於不同觀點與應用，在不悖離本創作的構思下進行各種修改與變更。另外，本創作的附圖僅為簡單示意說明，並非依實際尺寸的描繪，事先聲明。以下的實施方式將進一步詳細說明本創作的相關技術內容，但所公開的內容並非用以限制本創作的保護範圍。
應當可以理解的是，雖然本文中可能會使用到“第一”、“第二”、“第三”等術語來描述各種元件或者信號，但這些元件或者信號不應受這些術語的限制。這些術語主要是用以區分一元件與另一元件，或者一信號與另一信號。另外，本文中所使用的術語“或”，應視實際情況可能包括相關聯的列出項目中的任一個或者多個的組合。
請參閱圖1至圖11所示，其為本創作的一實施例。本實施例公開一種轉印滾輪的製造方法，其先製造一滾輪母模2，而後再通過所述滾輪母模2來翻印形成一轉印滾輪3。以下將先介紹一種滾輪母模的製造方法，而後再說明如何通過所述滾輪母模2來翻印形成所述轉印滾輪3，但所述轉印滾輪的製造方法的實施細節可以依據設計需求而加以調整變化，不以下述為限。
所述轉印滾輪3的製造方法包含依序實施一前置步驟S110、一佈銀步驟S120、一化鍍步驟S130、一電鍍步驟S140、及一脫膜步驟S150。以下將就所述轉印滾輪3的製造方法中的各個步驟作一說明。
如圖2和圖3所示，所述前置步驟S110：提供一前置滾輪1，其包含有一圓筒11及形成於所述圓筒11外表面的一光阻層12。其中，所述圓筒11的材質較佳是金屬（如：銅金屬或鎳金屬），而所述光阻層12形成有的多個光學微結構121，並且多個所述光學微結構121較佳是彼此相連且無間隙地配置於所述圓筒11的所述外表面，但本創作不受限於此。舉例來說，在本創作未繪示的其他實施例中，所述圓筒11的材質也可以是玻璃或塑膠材料。
如圖2和圖3所示，所述佈銀步驟S120：在所述光阻層12的多個所述光學微結構121上佈設有多個奈米銀顆粒21。於本實施例中，多個所述奈米銀顆粒21可以選用介於1奈米（nm）～15奈米的平均粒徑，並且多個所述光學微結構121上較佳是僅局部佈設有多個奈米銀顆粒21，而多個奈米銀顆粒21較佳是與多個所述光學微結構121呈點接觸；也就是說，於所述佈銀步驟S120中，可以選用濃度較低的奈米銀溶液（圖中未示出）來噴塗在多個所述光學微結構121上，但本創作不以此為限。
如圖4和圖5所示，所述化鍍步驟S130：在所述光阻層12的多個所述光學微結構121上進行化學鍍，以形成有包覆多個所述奈米銀顆粒21的一化鍍翻印層22。於本實施例中，所述化鍍翻印層22形成在未佈設有多個所述奈米銀顆粒21的多個所述光學微結構121部位，而未接觸於多個所述光學微結構121的多個所述奈米銀顆粒21表面則是被所述化鍍翻印層22所包覆，並且所述化鍍翻印層22的厚度介於0.5微米（μm）～5微米。
據此，多個所述奈米銀顆粒21通過較小比例的表面接觸多個所述光學微結構121（如：多個奈米銀顆粒21是與多個所述光學微結構121呈點接觸），而以較大比例的表面埋置於所述化鍍翻印層22內（如：多個所述奈米銀顆粒21的至少60%表面被所述化鍍翻印層22所包覆），以使多個所述奈米銀顆粒21能夠穩定地固定在所述化鍍翻印層22內而不易脫離。
需額外說明的是，所述化鍍翻印層22的內表面及其所包覆的多個所述奈米銀顆粒21的形狀是互補於所述前置滾輪1的多個所述光學微結構121。再者，包覆多個所述奈米銀顆粒21的所述化鍍翻印層22於本實施例中是限定以化學鍍方式形成；也就是說，以電鍍形成的任何金屬層是不同於本實施例所指的化鍍翻印層22。
如圖6和圖7所示，所述電鍍步驟S140：在所述化鍍翻印層22上電鍍形成有一電鍍基底層23，以使所述電鍍基底層23、所述化鍍翻印層22、及埋置於所述化鍍翻印層22內的多個所述奈米銀顆粒21共同構成所述滾輪母模2。其中，所述化鍍翻印層22的厚度小於所述電鍍基底層23的厚度，並且所述化鍍翻印層22的材質相同於所述電鍍基底層23的材質；舉例來說，所述化鍍翻印層22的材質與所述電鍍基底層23的材質於本實施例中皆為鎳金屬，但本創作不受限於此。
如圖8和圖9所示，所述脫膜步驟S150：將所述前置滾輪1自所述滾輪母模2分離，以使所述化鍍翻印層22的所述內表面及其所包覆的多個奈米銀顆粒21共同包圍形成有一微結構翻印空間S。進一步地說，在實施所述脫膜步驟S150之後，即可取得具備所述微結構翻印空間S的所述滾輪母模2，據以用來在後續步驟中製造所述轉印滾輪3。
如圖10和圖10A所示，所述轉印滾輪的製造方法述在實施了上述轉印滾輪3的製造方法之後，接著將一金屬圓筒31置入於所述滾輪母模2的所述微結構翻印空間S之內，並於所述金屬圓筒31的外表面電鍍形成充滿所述微結構翻印空間S的一金屬轉印層32，以使所述金屬圓筒31與所述金屬轉印層32共同構成所述轉印滾輪3。其中，所述金屬圓筒31的材質相同於所述金屬轉印層32的材質；舉例來說，所述金屬圓筒31的材質及所述金屬轉印層32的材質於本實施例中皆為鎳金屬，但本創作不受限於此。
最後，如圖11所示，將所述轉印滾輪3自所述滾輪母模2分離，即可取得能夠用來轉印形成光學膜的所述轉印滾輪3。再者，所述轉印滾輪3的所述金屬轉印層32的外表面未殘留有不同於所述金屬轉印層32材質的任何金屬（也就是，任一個所述奈米銀顆粒21不會殘留在所述金屬轉印層32外表面）。
據此，所述轉印滾輪的製造方法於本實施例中可以通過在所述電鍍基底層23的內表面形成有包覆多個所述奈米銀顆粒21的所述電鍍基底層23，以使所述化鍍翻印層22的內表面及多個奈米銀顆粒21所共同包圍形成的所述微結構翻印空間S，其能夠利於所述轉印滾輪3的成形且不殘留上述奈米銀顆粒21。
需說明的是， 所述轉印滾輪的製造方法於本實施例中是以上述說明為例，但本創作不受限於此。舉例來說，在本創作未繪示的其他實施例中，所述轉印滾輪的製造方法中的部分條件（如：所述奈米銀顆粒21的所述平均粒徑、所述化鍍翻印層22的所述厚度、或各個構件的材質）也可以依據設計需求而加以調整變化。
此外，所述滾輪母模的製造方法是被應用來搭配其他步驟，據以製造形成所述轉印滾輪3，但本創作不以此為限。舉例來說，所述滾輪母模的製造方法也可以被獨立地應用或實施。
再者，本創作實施例也公開了一種滾輪母模2，其較佳是以上述滾輪母模的製造方法所製成，但本創作不受限於此。舉例來說，在本創作未繪示的其他實施例中，所述滾輪母模2也可以是通過不同於本實施例滾輪母模的製造方法之其他方法所製成。以下將接著大致介紹本實施例的所述滾輪母模2構造，而已於上述滾輪母模的製造方法中述及的技術特徵，則不再加以贅述。
如圖8和圖9所示，於本實施例中，所述滾輪母模2包含有呈圓管狀的一電鍍基底層23、形成於所述電鍍基底層23內表面的一化鍍翻印層22、及埋置於所述化鍍翻印層22內的多個奈米銀顆粒21。其中，所述化鍍翻印層22的內表面以及多個奈米銀顆粒21共同包圍形成有（呈長形的）一微結構翻印空間S。
更詳細地說，所述化鍍翻印層22的厚度（如：0.5微米～5微米）小於所述電鍍基底層23的厚度，所述化鍍翻印層22的材質（如：鎳金屬層）相同於所述電鍍基底層23的材質，多個所述奈米銀顆粒21的至少60%表面被所述化鍍翻印層22所包覆，並且多個所述奈米銀顆粒21的平均粒徑介於1奈米～15奈米。
此外，如圖1至圖12所示，為便於實施上述多個步驟，本實施例也公開一種滾輪模具生產設備1000，其能用來實現所述轉印滾輪的製造方法。為便於理解本實施例，下述將介紹所述滾輪模具生產設備1000的構造，並適時說明其應用於所述轉印滾輪的製造方法時的相對應關係。
所述滾輪模具生產設備1000包含一噴塗裝置100、配置於所述噴塗裝置100下游的一鍍層裝置200、及配置於所述鍍層裝置200下游的一分離裝置300。其中，所述噴塗裝置100、所述鍍層裝置200、及所述分離裝置300之間的加工物件可以通過各種合適的移載方式與機構進行，在此不加以限制。
如圖1至圖3所示，所述噴塗裝置100包含一承載機構101及對應於所述承載機構101設置的一奈米銀噴塗機構102。其中，所述承載機構101定義有一工作區域W，用以供所述前置滾輪1設置；而所述奈米銀噴塗機構102面向所述工作區域。也就是說，所述奈米銀噴塗機構102能朝向所述工作區域噴灑多個所述奈米銀顆粒21，以使多個所述奈米銀顆粒21佈設於設置在所述工作區域W的所述前置滾輪1的所述光阻層12之上。
更詳細地說，所述奈米銀噴塗機構102與所述承載機構101之間能夠彼此相對地移動，據以利於所述光阻層12能夠均勻地佈設有多個所述奈米銀顆粒21。於本實施例中，所述承載機構101定義有穿過所述工作區域的一旋轉軸線R，並且所述承載機構101能用來使所述前置滾輪1以所述旋轉軸線R而中心而（等速地）自轉。
再者，所述奈米銀噴塗機構102可依據設計需求而採用不同架構來搭配於所述承載機構101。如圖2所示的其中一個架構之中，所述奈米銀噴塗機構102具有面向所述工作區域W的一鋼噴嘴1021，用於使自其噴灑而出的多個所述奈米銀顆粒21的平均粒徑介於1奈米～15奈米。其中，所述奈米銀噴塗機構102的所述鋼噴嘴1021能沿平行所述旋轉軸線R的方向自所述工作區域W的一端移動至另一端，以使所述鋼噴嘴1021的噴灑範圍覆蓋整個所述工作區域W（或整個所述光阻層12）。
或者，如圖12所示的其中一個架構之中，所述奈米銀噴塗機構102也可以具有面向所述工作區域W且彼此間隔設置的多個鋼噴嘴1021，用於使自其噴灑而出的多個所述奈米銀顆粒21的平均粒徑介於1奈米～15奈米。其中，多個所述鋼噴嘴1021排成一列且其位置保持固定，並且多個所述鋼噴嘴1021的噴灑範圍覆蓋整個所述工作區域W（或整個所述光阻層12）。
如圖1、圖4、和圖5所示，所述鍍層裝置200包含一化鍍機構201、對應於所述化鍍機構201設置一電鍍機構202、及對應於所述電鍍機構202配置的一支撐機構203。其中，如圖4和圖5所示，所述化鍍機構201用於在所述光阻層12上進行化學鍍，以形成有包覆多個所述奈米銀顆粒21的所述化鍍翻印層22。再者，所述電鍍機構202能用於在所述化鍍翻印層22上電鍍形成有所述電鍍基底層23（如：圖6和圖7）、也能用於在所述金屬圓筒31的外表面上電鍍形成有所述金屬轉印層32（如：圖10和圖10A）。
需說明的是，當所述電鍍機構202用於形成所述電鍍基底層23時，所述電鍍機構202相當於是位在所述化鍍機構201的下游。但當所述電鍍機構202用於形成所述金屬轉印層32時，所述支撐機構203能用於固持所述金屬圓筒31，以使所述金屬圓筒31穿過所述滾輪母模2，進而搭配所述電鍍機構202來共同實現所述金屬轉印層32的成形。
如圖1、圖8、和圖11所示，所述分離裝置300用來所述滾輪母模2自所述前置滾輪1分離、也能用來使所述轉印滾輪3自所述滾輪母模2分離。具體來說，所述分離裝置300於本實施例中包含有一去光阻機構301及一拆版機構302；其中，所述去光阻機構301是用來去除所述前置滾輪1的所述光阻層12，以使所述滾輪母模2自所述前置滾輪1分離；而所述拆版機構302則是用來使所述轉印滾輪3自所述滾輪母模2分離。
進一步地說，所述拆版機構302採用的具體分離機制可依據設計需求而加以調整變化，以下舉例說明、但不以此為限。所述拆版機構302能先以吸盤方式使所述轉印滾輪3與所述滾輪母模2之間產生些微縫隙，而後再對著所述縫隙輸入強力氣流，以使所述轉印滾輪3與所述滾輪母模2沿著彼此之間的相接介面分離。或者，所述拆版機構302也可以將所述滾輪母模2以片狀方式自所述轉印滾輪3分離（如：剝離）。
[本創作實施例的技術效果]
綜上所述，本創作實施例所公開的滾輪模具生產設備，其通過所述噴塗裝置、所述鍍層裝置、及所述分離裝置之間的搭配，以利於在所述滾輪母模形成有包覆多個所述奈米銀顆粒的化鍍翻印層，進而提供一種有別於以往的滾輪型模具生產機制，據以擴展所述滾輪型模具的發展方向。
再者，本創作實施例所公開的轉印滾輪的製造方法、及滾輪母模與其製造方法，通過在所述電鍍基底層的內表面形成有包覆多個所述奈米銀顆粒的所述電鍍基底層，以使所述化鍍翻印層的內表面及多個奈米銀顆粒所共同包圍形成的所述微結構翻印空間，其能夠利於轉印滾輪成形且不殘留奈米銀顆粒。
更詳細地說，本創作實施例所公開的轉印滾輪的製造方法、及滾輪母模與其製造方法，通過多個所述奈米銀顆粒以較小比例的表面接觸多個所述光學微結構（如：多個奈米銀顆粒是與多個所述光學微結構呈點接觸），而以較大比例的表面埋置於所述化鍍翻印層內（如：多個所述奈米銀顆粒的至少60%表面被所述化鍍翻印層所包覆），以使多個所述奈米銀顆粒能夠穩定地固定在所述化鍍翻印層內而不易脫離。
以上所公開的內容僅為本創作的優選可行實施例，並非因此侷限本創作的專利範圍，所以凡是運用本創作說明書及圖式內容所做的等效技術變化，均包含於本創作的專利範圍內。
1000:滾輪模具生產設備
100:噴塗裝置
101:承載機構
102:奈米銀噴塗機構
1021:鋼噴嘴
200:鍍層裝置
201:化鍍機構
202:電鍍機構
203:支撐機構
300:分離裝置
301:去光阻機構
302:拆版機構
W:工作區域
R:旋轉軸線
1:前置滾輪
11:圓筒
12:光阻層
121:光學微結構
2:滾輪母模
21:奈米銀顆粒
22:化鍍翻印層
23:電鍍基底層
3:轉印滾輪
31:金屬圓筒
32:金屬轉印層
S:微結構翻印空間
S110:前置步驟
S120:佈銀步驟
S130:化鍍步驟
S140:電鍍步驟
S150:脫膜步驟
圖1為本創作實施例的滾輪模具生產設備的示意圖。
圖2為本創作實施例的滾輪模具生產設備應用於前置步驟與佈銀步驟的示意圖。
圖3為圖2沿剖線III-III的局部剖視示意圖。
圖4為本創作實施例的滾輪模具生產設備應用於化鍍步驟的示意圖。
圖5為圖4沿剖線V-V的局部剖視示意圖。
圖6為本創作實施例的滾輪模具生產設備應用於電鍍步驟的示意圖。
圖7為圖6沿剖線VII-VII的局部剖視示意圖。
圖8為本創作實施例的滾輪模具生產設備應用於脫膜步驟的示意圖。
圖9為圖8的局部剖視示意圖。
圖10為本創作實施例的滾輪模具生產設備用於生產轉印滾輪的示意圖。
圖10A為圖10沿剖線XA-XA的局部剖視示意圖。
圖11為本創作實施例的滾輪模具生產設備用於使轉印滾輪自滾輪母模分離的示意圖。
圖12為本創作實施例的滾輪模具生產設備的噴塗裝置另一態樣示意圖。
100:噴塗裝置
101:承載機構
102:奈米銀噴塗機構
1021:鋼噴嘴
W:工作區域
R:旋轉軸線
1:前置滾輪
11:圓筒
12:光阻層
21:奈米銀顆粒
S110:前置步驟
S120:佈銀步驟
Claims (10)
- 一種滾輪模具生產設備，其包括： 一噴塗裝置，其包含： 一承載機構，定義有一工作區域，用以供一前置滾輪設置；其中，所述前置滾輪包含有一圓筒及形成於所述圓筒外表面的一光阻層；及 一奈米銀噴塗機構，其面向所述工作區域；其中，所述奈米銀噴塗機構能朝向所述工作區域噴灑多個奈米銀顆粒，以使多個所述奈米銀顆粒佈設於設置在所述工作區域的所述前置滾輪的所述光阻層之上； 一鍍層裝置，其配置於所述噴塗裝置的下游，並且所述鍍層裝置包含： 一化鍍機構，用於在所述光阻層上進行化學鍍，以形成有包覆多個所述奈米銀顆粒的一化鍍翻印層；及 一電鍍機構，對應於所述化鍍機構設置；其中，所述電鍍機構能用於在所述化鍍翻印層上電鍍形成有一電鍍基底層，以使所述電鍍基底層、所述化鍍翻印層、及多個所述奈米銀顆粒共同構成一滾輪母模；以及 一分離裝置，其配置於所述鍍層裝置的下游，並且所述分離裝置用來所述滾輪母模自所述前置滾輪分離。
- 如請求項1所述的滾輪模具生產設備，其中，所述奈米銀噴塗機構與所述承載機構之間能夠彼此相對地移動。
- 如請求項2所述的滾輪模具生產設備，其中，所述承載機構定義有穿過所述工作區域的一旋轉軸線，並且所述承載機構能用來使所述前置滾輪以所述旋轉軸線而中心而自轉。
- 如請求項3所述的滾輪模具生產設備，其中，所述奈米銀噴塗機構具有面向所述工作區域的一鋼噴嘴，用於使自其噴灑而出的多個所述奈米銀顆粒的平均粒徑介於1奈米（nm）～15奈米。
- 如請求項4所述的滾輪模具生產設備，其中，所述奈米銀噴塗機構的所述鋼噴嘴能沿平行所述旋轉軸線的方向自所述工作區域的一端移動至另一端，以使所述鋼噴嘴的噴灑範圍覆蓋整個所述工作區域。
- 如請求項2所述的滾輪模具生產設備，其中，所述奈米銀噴塗機構具有面向所述工作區域且彼此間隔設置的多個鋼噴嘴，用於使自其噴灑而出的多個所述奈米銀顆粒的平均粒徑介於1奈米（nm）～15奈米。
- 如請求項6所述的滾輪模具生產設備，其中，多個所述鋼噴嘴排成一列且其位置保持固定，並且多個所述鋼噴嘴的噴灑範圍覆蓋整個所述工作區域。
- 如請求項2所述的滾輪模具生產設備，其中，所述承載機構定義有穿過所述工作區域的一旋轉軸線，並且所述承載機構能用來使所述前置滾輪以所述旋轉軸線而中心而等速地自轉。
- 如請求項1所述的滾輪模具生產設備，其中，所述鍍層裝置進一步包含有一支撐機構，其對應於所述電鍍機構配置，並且所述支撐機構能用於固持一金屬圓筒，以使所述金屬圓筒穿過所述滾輪母模；其中，所述電鍍裝置能用於在所述金屬圓筒的外表面上電鍍形成有一金屬轉印層，以使所述金屬圓筒與所述金屬轉印層共同構成一轉印滾輪。
- 如請求項9所述的滾輪模具生產設備，其中，所述分離裝置包含有： 一去光阻機構，用來去除所述前置滾輪的所述光阻層，以使所述滾輪母模自所述前置滾輪分離；及 一拆版機構，用來使所述轉印滾輪自所述滾輪母模分離。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW112211817U TWM651965U (zh) | 2023-11-01 | 2023-11-01 | 滾輪模具生產設備 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW112211817U TWM651965U (zh) | 2023-11-01 | 2023-11-01 | 滾輪模具生產設備 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TWM651965U true TWM651965U (zh) | 2024-02-21 |
Family
ID=90823995
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW112211817U TWM651965U (zh) | 2023-11-01 | 2023-11-01 | 滾輪模具生產設備 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| TW (1) | TWM651965U (zh) |
-
2023
- 2023-11-01 TW TW112211817U patent/TWM651965U/zh unknown
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