TWM619359U - 具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置 - Google Patents

Abstract

本新型提供一種具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，主要包括一真空腔體、一軸封裝置及一驅動單元，其中驅動單元經由軸封裝置連接並驅動真空腔體轉動。真空腔體包括一蓋板及一腔體，其中蓋板的一內表面覆蓋腔體，並於兩者之間形成一反應空間。蓋板的內表面設置至少一第一凹槽及複數個第二凹槽，其中第二凹槽環繞設置在第一凹槽周圍。蓋板內表面的第一凹槽及第二凹槽可用以引導進入反應空間的氣體，使得氣體充分翻攪反應空間內的粉末，以利於透過原子層沉積製程在粉末的表面形成厚度均勻的薄膜。

Description

具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置

本新型有關於一種具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，主要於蓋板的內表面設置一第一凹槽及複數個第二凹槽，使得輸送至真空腔體的氣體可有效翻攪粉末，並有利於在粉末的表面形成厚度均勻的薄膜。

奈米顆粒(nanoparticle)一般被定義為在至少一個維度上小於100奈米的顆粒，奈米顆粒與宏觀物質在物理及化學上的特性截然不同。一般而言，宏觀物質的物理特性與本身的尺寸無關，但奈米顆粒則非如此，奈米顆粒在生物醫學、光學和電子等領域都具有潛在的應用。

量子點(Quantum Dot)是半導體的奈米顆粒，目前研究的半導體材料為II-VI材料，如ZnS、CdS、CdSe等，其中又以CdSe最受到矚目。量子點的尺寸通常在2至50奈米之間，量子點被紫外線照射後，量子點中的電子會吸收能量，並從價帶躍遷到傳導帶。被激發的電子從傳導帶回到價帶時，會通過發光釋放出能量。

量子點的能隙與尺寸大小相關，量子點的尺寸越大能隙越小，經照射後會發出波長較長的光，量子點的尺寸越小則能隙越大，經照射後會發出波長較短的光。例如5到6奈米的量子點會發出橘光或紅光，而2到3奈米的量子點則會發出藍光或綠光，當然光色取決於量子點的材料組成。

應用量子點的發光二極體(LED)產生的光可接近連續光譜，同時具有高演色性，並有利於提高發光二極體的發光品質。此外亦可透過改變量子點的尺寸調整發射光的波長，使得量子點成為新一代發光裝置及顯示器的發展重點。

量子點雖然具有上述的優點及特性，但在製造的過程中容易產生團聚現象。此外量子點具有較高的表面活性，並容易與空氣及水氣發生反應，進而縮短量子點的壽命。

具體來說，將量子點製作成為發光二極體的密封膠的過程中，可能會產生團聚效應，而降低了量子點的光學性能。此外，量子點在製作成發光二極體的密封膠後，外界的氧或水氣仍可能會穿過密封膠而接觸量子點的表面，導致量子點氧化，並縮短量子點及發光二極體的效能或使用壽命。此外量子點的表面缺陷及懸空鍵(dangling bonds)亦可能造成非輻射復合(nonradiative recombination)。

目前業界會透過原子層沉積(atomic layer deposition，ALD)在量子點的表面形成一層奈米厚度的薄膜，或者是在量子點的表面形成多層薄膜，以形成量子井結構。

原子層沉積可以在基板上形成均勻厚度的薄膜，並可有效控制薄膜的厚度，理論上亦適用於三維的量子點。量子點靜置在承載盤時，相鄰的量子點之間會存在接觸點，使得原子層沉積的前驅物氣體無法接觸這些接觸點，並導致無法在所有的奈米顆粒的表面皆形成厚度均勻的薄膜。

為了解決上述先前技術的問題，本新型提出一種具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，主要在蓋板的內表面設置一第一凹槽及複數個第二凹槽，第一凹槽及第二凹槽可用以引導進入反應空間的氣體，使得氣體可充份攪拌粉末，以利於透過原子層沉積製程在各個粉末的表面上形成厚度均勻的薄膜。

本新型的一目的，在於提供一種具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，主要包括一驅動單元、一軸封裝置及一真空腔體，其中驅動單元透過軸封裝置連接並驅動真空腔體轉動。真空腔體包括一蓋板及一腔體，其中蓋板的內表面覆蓋腔體，並於兩者之間形成一反應空間，用以容置複數個粉末。

蓋板的內表面設置至少一第一凹槽及複數個第二凹槽，其中第二凹槽環繞在第一凹槽的周圍。進入反應空間的氣體會被輸送到蓋板的內表面，並透過蓋板內表面的第一凹槽及第二凹槽引導氣體，使得氣體擴散的反應空間的各個區域，並充分且均勻的翻攪反應空間內的粉末，以避免粉末發生團聚現象，並有利於在各個粉末的表面形成厚度均勻的薄膜。

本新型的一目的，在於提供一種具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，主要將至少一抽氣管線、至少一進氣管線、至少一氣體輸送管線、至少一加熱器及/或至少一溫度感測單元設置在軸封裝置內。抽氣管線用以抽出反應空間內的氣體，進氣管線用以將前驅物氣體及/或氣體輸送至反應空間，以在粉末的表面形成薄膜。在進行原子層沉積時，透過驅動單元帶動真空腔體轉動，並可透過進氣管線或氣體輸送管線將氣體輸送至真空腔體。透過蓋板內表面的第一凹槽及第二凹槽的設置，氣體可充分翻攪 反應空間內的粉末。透過均勻的翻攪反應空間內的粉末，可在各個粉末的表面形成厚度均勻的薄膜，同時有利於透過一溫度感測單元量測粉末的實際溫度。

本新型的一目的，在於提供一種具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，主要包括一驅動單元、一軸封裝置及一真空腔體，其中驅動單元透過軸封裝置連接真空腔體，並驅動真空腔體轉動。真空腔體包括一蓋板及一腔體，其中蓋板的內表面設置一第一凹槽及複數個第二凹槽。此外蓋板還設置至少一檢視窗，使得真空腔體外部的非接觸溫度感測單元可經由檢視窗量測反應空間內被揚起的粉末，並得知粉末的實際溫度。

為了達到上述的目的，本新型提出一種具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，包括：一真空腔體，包括一蓋板及一腔體，蓋板的一內表面覆蓋腔體，並在兩者間形成一反應空間；至少一第一凹槽，設置在蓋板的內表面；複數個第二凹槽，設置在蓋板的內表面，並環繞在第一凹槽的周圍；一軸封裝置，連接真空腔體；一驅動單元，連接軸封裝置，其中驅動單元透過軸封裝置帶動真空腔體轉動；至少一抽氣管線，流體連接真空腔體的反應空間，並用以抽出反應空間內的一氣體；及至少一進氣管線，流體連接真空腔體的反應空間，並用以將一前驅物氣體或一氣體輸送至反應空間，其中氣體吹向位於蓋板的內表面的第一凹槽及第二凹槽，並經由第一凹槽及第二凹槽帶動氣體以吹動反應空間內的粉末。。

所述的具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，包括一監控晶圓位於蓋板的第一凹槽內。

所述的具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，其中腔體的一空間為一圓形波浪狀空間或一多邊形柱狀空間。

所述的具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，其中進氣管線包括至少一氣體輸送管線，流體連接真空腔體的反應空間，並用以將氣體吹向位於蓋板的第一凹槽及第二凹槽。

所述的具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，其中軸封裝置包括一外管體及一內管體，外管體具有一容置空間，用以容置內管體，而內管體則具有一連接空間，用以容置抽氣管線、進氣管線及氣體輸送管線。

所述的具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，包括一加熱器及一溫度感測單元設置在內管體，加熱器用以加熱內管體的連接空間，而溫度感測單元則用以量測內管體的連接空間的溫度。

所述的具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，其中真空腔體的一底面包括一凹部，用以容置部分軸封裝置。

所述的具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，其中凹部延伸至反應空間，並用以容置凸出外管體的內管體，以在反應空間內形成一凸出管部。

所述的具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，其中進氣管線或氣體輸送管線由內管體的連接空間延伸至真空腔體的反應空間內。

所述的具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，其中真空腔體透過至少一連接單元鎖固在軸封裝置，連接單元卸下後，真空腔體會與軸封裝置分離。

10:具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置

11:真空腔體

111:蓋板

1111:內表面

112:連接單元

113:腔體

115:監控晶圓

119:凹部

12:反應空間

121:第一凹槽

122:粉末

123:第二凹槽

13:軸封裝置

130:凸出管部

131:外管體

132:容置空間

133:內管體

134:連接空間

139:過濾單元

14:齒輪

15:驅動單元

161:檢視窗

163:非接觸溫度感測單元

171:抽氣管線

173:進氣管線

175:氣體輸送管線

177:加熱器

179:溫度感測單元

191:承載板

193:固定架

195:連接軸

[圖1]為本新型具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置一實施例的立體示意體。

[圖2]為本新型具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置一實施例的剖面示意圖。

[圖3]為本新型具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置的軸封裝置一實施例的剖面示意圖。

[圖4]為本新型具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置的真空腔體一實施例的立體分解示意體。

[圖5]為本新型具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置的真空腔體又一實施例的立體分解示意體。

[圖6]為本新型具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置又一實施例的剖面示意圖。

[圖7]為本新型具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置又一實施例的剖面示意圖。

請參閱圖1、圖2、圖3及圖4，分別為本新型具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置一實施例的立體示意圖、剖面示意圖、軸封裝置的剖面示意圖及具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置的蓋板一實施例的剖面示意圖。如圖所示，具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置10主要包 括一真空腔體11、一軸封裝置13及一驅動單元15，其中驅動單元15透過軸封裝置13連接真空腔體11，並帶動真空腔體11轉動。

真空腔體11具有一反應空間12，用以容置複數個粉末122，其中粉末122可以是量子點(Quantum Dot)，例如ZnS、CdS、CdSe等II-VI半導體材料，而形成在量子點上的薄膜可以是三氧化二鋁(Al2O3)。在本新型實施例中，如圖4所示，真空腔體11包括一蓋板111及一腔體113，其中蓋板111的一內表面1111覆蓋腔體113，並於兩者之間形成反應空間12。此外於蓋板111的內表面1111上設置至少一第一凹槽121及複數個第二凹槽123，其中第二凹槽123環繞設置在第一凹槽121的周圍。

至少一抽氣管線171、至少一進氣管線173及/或至少一氣體輸送管線175流體連接真空腔體11的反應空間12，例如抽氣管線171、進氣管線173、氣體輸送管線175、一加熱器177及/或一溫度感測單元179可設置在軸封裝置13內，如圖3所示。抽氣管線171流體連接真空腔體11的反應空間12，並用以抽出反應空間12內的氣體，使得反應空間12為真空狀態，以進行後續的原子層沉積製程。具體而言抽氣管線171可連接一幫浦，並透過幫浦抽出反應空間12內的氣體。

進氣管線173流體連接真空腔體11的反應空間12，並用以將一前驅物或一氣體輸送至反應空間12，例如氣體可為非反應氣體。例如進氣管線173可透過閥件組連接一前驅物儲存槽及一氣體儲存槽，並透過閥件組將前驅物氣體輸送至反應空間12內，使得前驅物氣體沉積在粉末122表面。在實際應用時，進氣管線173可能會將一載送氣體(carrier gas)及前驅物氣體一起輸送到反應空間12內。而後透過閥件組將氣體輸送至反應空間12內，並 透過抽氣管線171抽氣，以去除反應空間12內未反應的前驅物氣體。在本新型一實施例中，進氣管線173可連接複數個分枝管線，並分別透過各個分枝管線將不同的前驅物氣體依序輸送至反應空間12內。

此外可增大進氣管線173輸送至反應空間12的氣體的流量，並透過氣體吹動反應空間12內的粉末122，使得粉末122受到氣體的帶動，而擴散到反應空間12的各個區域。

在本新型一實施例中，進氣管線173可包括至少一氣體輸送管線175流體連接真空腔體11的反應空間12，並用以將氣體輸送至反應空間12，例如氣體輸送管線175可透過閥件組連接一氮氣儲存槽，並透過閥件組將氮氣輸送至反應空間12。氣體用以吹動反應空間12內的粉末122，配合驅動單元15驅動真空腔體11轉動，將可有效且均勻的翻攪反應空間12內的粉末122，並在各個粉末122的表面沉積厚度均勻的薄膜。

具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置10的進氣管線173及氣體輸送管線175都是用以將氣體輸送至反應空間12，其中進氣管線173輸送的氣體的流量較小，並用以去除反應空間12內的前驅物氣體，而氣體輸送管線175輸送的氣體的流量較大，並用以吹動反應空間12內的粉末122。此外進氣管線173及氣體輸送管線175所傳輸的氣體可以是不同的氣體。

進氣管線173及氣體輸送管線175將氣體輸送至反應空間12的時間點不同，因此在實際應用時可不設置氣體輸送管線175，並調整進氣管線173在不同時間點輸送的氣體的流量。具體而言，在去除反應空間12內的前驅物氣體時，可降低進氣管線173輸送至反應空間12的氣體的流量，而要吹 動反應空間12內的粉末122時，則增加進氣管線173輸送至反應空間12的氣體的流量。

在本新型一實施例中，軸封裝置13包括一外管體131及一內管體133，其中外管體131具有一容置空間132，而內管體133則具有一連接空間134，例如外管體131及內管體133可為空心柱狀體。外管體131的容置空間132用以容置內管體133，其中外管體131及內管體133同軸設置。

本新型所述的軸封裝置13可以是一般常見的軸封或磁流體軸封，主要用以隔離真空腔體11的反應空間12與外部的空間，以維持反應空間12的真空。

在本新型一實施例中，內管體133連接反應空間12的一端可設置一過濾單元139，其中抽氣管線171經由過濾單元139流體連接反應空間12，並經由過濾單元139抽出反應空間12內的氣體。過濾單元139主要用以過濾反應空間12內的粉末122，以避免粉末122在抽氣的過程中進入抽氣管線171內，而造成粉末122的損耗。

驅動單元15透過外管體131動力連接真空腔體11，並透過外管體131帶動真空腔體11轉動。此外驅動單元15並未連接內管體133，因此驅動單元15帶動外管體131及真空腔體11轉動時，內管體133不會隨著轉動，有利於維持內管體133內的抽氣管線171、進氣管線173及/或氣體輸送管線175抽氣或供氣的穩定。

驅動單元15可帶動外管體131及真空腔體11以同一方向持續轉動，例如順時針或逆時針方向持續轉動。在不同實施例中驅動單元15可帶動外管體131及真空腔體11以順時針的方向旋轉一特定角度後，再以逆時針 的方向旋轉特定角度，例如特定角度可為360度。真空腔體11轉動時，會攪拌反應空間12內的粉末122，以利於粉末122與前驅物氣體接觸。

在本新型一實施例中，驅動單元15可為馬達，透過至少一齒輪14連接外管體131，並經由齒輪14帶動外管體131及真空腔體11相對於內管體133轉動。抽氣管線171、進氣管線173、氣體輸送管線175、加熱器177及/或溫度感測單元179可設置在內管體133的連接空間134，如圖2及圖3所示。

加熱器177用以加熱連接空間134及內管體133，並透過加熱器177加熱內管體133內的抽氣管線171、進氣管線173及/或氣體輸送管線175，以提高抽氣管線171、進氣管線173及/或氣體輸送管線175內的氣體的溫度。例如可提高進氣管線173輸送至反應空間12的氣體及/或前驅物氣體的溫度，並可提高氣體輸送管線175輸送至反應空間12的氣體的溫度。使得氣體及/或前驅物氣體進入反應空間12時，不會造成反應空間12的溫度大幅下降或改變。此外可透過溫度感測單元179量測加熱器177或連接空間134的溫度，以得知加熱器177的工作狀態。當然在真空腔體11的內部、外部或周圍通常會設置另一個加熱裝置，其中加熱裝置鄰近或接觸真空腔體11，並用以加熱真空腔體11及反應空間12。在本新型一實施例中，進氣管線173及/或氣體輸送管線175可由內管體133的連接空間134延伸至真空腔體11的反應空間12。

本新型的蓋板111包括一第一凹槽121及複數個第二凹槽123，其中第二凹槽123環繞設置在第一凹槽121周圍。如圖4所示，第一凹槽121及第二凹槽123為圓孔狀的凹槽，由進氣管線173或氣體輸送管線175輸送至反應空間12的氣體會吹向第一凹槽121及第二凹槽123，並經由蓋板111上的第一凹槽121及第二凹槽123傳送或擴散到反應空間12的各個區域，並吹動或 揚起反應空間12內的粉末122，使得粉末122均勻的擴散到反應空間12的各個區域。

透過蓋板111上的第一凹槽121及第二凹槽123引導氣體揚起反應空間12內的粉末122，有利於均勻加熱反應空間12內的粉末122，並可於粉末122的表面形成厚度均勻的薄膜。在本新型一實施例中，透過將粉末122揚起，亦有利於透過一非接觸溫度感測單元163經由蓋板111上的檢視窗161量測反應空間12內的粉末122，以準確得知粉末122的實際溫度。

在本新型一實施例中，如圖4所示，腔體113的內表面可形成複數個半圓柱狀構造或弧形柱狀構造，其中半圓柱狀構造或弧形柱狀構造沿著腔體113的內表面連續設置，使得腔體113的空間可為一圓形波浪狀空間。此外，腔體113內表面的半圓柱狀構造的數量可與蓋板111上第二凹槽123的數量相同，當蓋板111連接腔體113時，蓋板111上的第二凹槽123可分別對準腔體113內表面的半圓柱狀構造，例如蓋板111上的第二凹槽123可與腔體113內表面的半圓柱狀構造相切。

在本新型另一實施例中，如圖5所示，第一凹槽121可為圓孔狀的凹槽，而第二凹槽則類似半圓柱狀凹槽或半圓孔狀凹槽。此外腔體113內的空間可為多邊形柱狀空間，例如六邊形柱狀空間。第一凹槽121為圓孔狀凹槽，而第二凹槽123為圓孔狀凹槽或半圓柱狀凹槽僅為本新型一實施例，在本新型其他實施例中，第一凹槽121及第二凹槽123亦可為多邊形狀凹槽。

透過蓋板111的內表面1111上的第一凹槽121及第二凹槽123的設置，不僅有利於引導及擴散氣體。此外在真空腔體11轉動的過程中，位於第一凹槽121及/或第二凹槽123內的粉末122亦會隨著真空腔體11轉動，直到 第一凹槽121及/或第二凹槽123內的粉末122轉動到一特定角度後，才會因為重力的作用而逐漸落下。如此可進一步均勻且充分地翻攪反應空間12內的粉末122，使得各個粉末122均勻受熱，並在粉末122的表面形成厚度均勻的薄膜。

在本新型一實施例中，可於蓋板111的內表面1111設置一監控晶圓115，例如將監控晶圓115設置在第一凹槽121內。當蓋板111覆蓋腔體113時，監控晶圓115會位於反應空間12內。在反應空間12內進行原子層沉積時，監控晶圓115的表面會形成薄膜。在實際應用時可量測監控晶圓115表面的薄膜厚度與粉末122表面的薄膜厚度，並計算出兩者之間的關係。而後便可透過量測監控晶圓115表面的薄膜厚度，換算出粉末122表面的薄膜厚度。

在本新型一實施例中，部分的軸封裝置13可延伸至反應空間12內，例如軸封裝置13的部分內管體133可延伸反應空間12內，以在反應空間內形成一凸出管部130，如圖6所示。

在本新型一實施例中，具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置10亦可包括一承載板191及至少一固定架193，其中承載板191可為一板體，用以承載驅動單元15、真空腔體11及軸封裝置13。例如承載板191連接驅動單元15，並透過驅動單元15連接軸封裝置13及真空腔體11。此外軸封裝置13及/或真空腔體11亦可透過至少一支撐架連接承載板191，以提高連接的穩定度。

承載板191可透過至少一連接軸195連接固定架193，其中固定架193的數量可為兩個，並分別設置在承載板191的兩側。承載板191可以連接 軸195為軸心相對於固定架193轉動，以改變驅動單元15、軸封裝置13及真空腔體11的仰角，以利於在各個粉末122的表面形成厚度均勻的薄膜。

在本新型一實施例中，如圖7所示，真空腔體11透過至少一連接單元112連接並固定在軸封裝置13的一端，例如連接單元112可為螺絲。連接單元112為螺絲僅為本新型一實施例，在實際應用時可透過其他不同形式的連接單元112將真空腔體11鎖固在軸封裝置13上，例如透過氣缸接頭、卡扣機構、卡榫、快拆裝置、螺紋等具有可拆卸功能的連接單元112連接真空腔體11及軸封裝置13。

在本新型另一實施例中，真空腔體11的底部可設置一凹部119，用以容置部分的軸封裝置13，而過濾單元139則設置在凹部119內，其中底部面對蓋板111。凹部119可延伸至真空腔體11的反應空間12內，而軸封裝置13的內管體133則由外管體131的容置空間132延伸至外部，並凸出軸封裝置13及外管體131。連接真空腔體11及軸封裝置13時，凸出軸封裝置13的內管體133可用以插入凹部119，使得內管體133及凹部119在反應空間12內形成一凸出管部130。

以上所述者，僅為本新型之一較佳實施例而已，並非用來限定本新型實施之範圍，即凡依本新型申請專利範圍所述之形狀、構造、特徵及精神所為之均等變化與修飾，均應包括於本新型之申請專利範圍內。

111:蓋板

1111:內表面

113:腔體

115:監控晶圓

121:第一凹槽

123:第二凹槽

Claims (10)

1. 一種具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，包括：一真空腔體，包括一蓋板及一腔體，該蓋板的一內表面覆蓋該腔體，並在兩者間形成一反應空間，用以容置複數顆粉末；至少一第一凹槽，設置在該蓋板的該內表面；複數個第二凹槽，設置在蓋板的該內表面，並環繞在該第一凹槽的周圍；一軸封裝置，連接該真空腔體；一驅動單元，連接該軸封裝置，其中該驅動單元透過該軸封裝置帶動該真空腔體轉動；至少一抽氣管線，流體連接該真空腔體的該反應空間，並用以抽出該反應空間內的一氣體；及至少一進氣管線，流體連接該真空腔體的該反應空間，並用以將一前驅物氣體或一氣體輸送至該反應空間，其中該氣體吹向位於該蓋板的該內表面的該第一凹槽及該第二凹槽，並經由該第一凹槽及該第二凹槽帶動該氣體以吹動該反應空間內的該粉末。
2. 如請求項1所述的具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，包括一監控晶圓位於該蓋板的該第一凹槽內。
3. 如請求項1所述的具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，其中該腔體的一空間為一圓形波浪狀空間或一多邊形柱狀空間。
4. 如請求項1所述的具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，其中該進氣管線包括至少一氣體輸送管線，流體連接該真空腔體的該反應空間，並用以將該氣體吹向位於該蓋板的該第一凹槽及該第二凹槽。
5. 如請求項4所述的具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，其中該軸封裝置包括一外管體及一內管體，該外管體具有一容置空間，用以容置該內管體，而該內管體則具有一連接空間，用以容置該抽氣管線、該進氣管線及該氣體輸送管線。
6. 如請求項5所述的具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，包括一加熱器及一溫度感測單元設置在該內管體，該加熱器用以加熱該內管體的該連接空間，而該溫度感測單元則用以量測該內管體的該連接空間的溫度。
7. 如請求項5所述的具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，其中該真空腔體的一底面包括一凹部，用以容置部分該軸封裝置。
8. 如請求項7所述的具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，其中該凹部延伸至該反應空間，並用以容置凸出該外管體的該內管體，以在該反應空間內形成一凸出管部。
9. 如請求項5所述的具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，其中該進氣管線或該氣體輸送管線由該內管體的該連接空間延伸至該真空腔體的該反應空間內。
10. 如請求項1所述的具有特殊蓋板設計的粉末原子層沉積裝置，其中該真空腔體透過至少一連接單元鎖固在該軸封裝置，該連接單元卸下後，該真空腔體會與該軸封裝置分離。

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