TWM610395U - 防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置 - Google Patents

Abstract

本新型提供一種防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，主要包括一真空腔體、一軸封裝置及一驅動單元，其中驅動單元透過軸封裝置連接並驅動真空腔體轉動。一抽氣管線及至少一進氣管線設置在軸封裝置內，並將一過濾單元設置在軸封裝置連接真空腔體的反應空間的一端。抽氣管線經由過濾單元抽出反應空間內的氣體，而進氣管線則經由過濾單元將前驅物氣體或非反應氣體輸送至反應空間。進氣管線輸送非反應氣體的狀態包括一攪動狀態及一防止沾黏狀態，其中防止沾黏狀態時進氣管線輸出的非反應氣體的流量小於攪拌狀態，並可避免粉末沾黏在過濾單元上。

Description

防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置

本新型有關於一種防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，其中進氣管線輸送非反應氣體的狀態包括一攪動狀態及一防止沾黏狀態，防止沾黏狀態時進氣管線輸出的非反應氣體的流量小於攪拌狀態，並用以避免粉末沾黏在過濾單元上。

奈米顆粒(nanoparticle)一般被定義為在至少一個維度上小於100奈米的顆粒，奈米顆粒與宏觀物質在物理及化學上的特性截然不同。一般而言，宏觀物質的物理特性與本身的尺寸無關，但奈米顆粒則非如此，奈米顆粒在生物醫學、光學和電子等領域都具有潛在的應用。

量子點(Quantum Dot)是半導體的奈米顆粒，目前研究的半導體材料為II-VI材料，如ZnS、CdS、CdSe等，其中又以CdSe最受到矚目。量子點的尺寸通常在2至50奈米之間，量子點被紫外線照射後，量子點中的電子會吸收能量，並從價帶躍遷到傳導帶。被激發的電子從傳導帶回到價帶時，會通過發光釋放出能量。

量子點的能隙與尺寸大小相關，量子點的尺寸越大能隙越小，經照射後會發出波長較長的光，量子點的尺寸越小則能隙越大，經照射後會發出波長較短的光。例如5到6奈米的量子點會發出橘光或紅光，而2到3奈米的量子點則會發出藍光或綠光，當然光色取決於量子點的材料組成。

應用量子點的發光二極體(LED)產生的光可接近連續光譜，同時具有高演色性，並有利於提高發光二極體的發光品質。此外亦可透過改變量子點的尺寸調整發射光的波長，使得量子點成為新一代發光裝置及顯示器的發展重點。

量子點雖然具有上述的優點及特性，但在應用或製造的過程中容易產生團聚現象。此外量子點具有較高的表面活性，並容易與空氣及水氣發生反應，進而縮短量子點的壽命。

具體來說，將量子點製作成為發光二極體的密封膠時，可能會產生團聚效應，而降低了量子點的光學性能。此外，量子點在製作成發光二極體的密封膠後，外界的氧或水氣仍可能會穿過密封膠而接觸量子點的表面，導致量子點氧化，並影響量子點及發光二極體的效能或使用壽命。量子點的表面缺陷及懸空鍵(dangling bonds)亦可能造成非輻射復合(nonradiative recombination)，同樣會影響量子點的發光效率。

目前業界主要透過原子層沉積(atomic layer deposition，ALD)在量子點的表面形成一層奈米厚度的薄膜，或者是在量子點的表面形成多層薄膜，以形成量子井結構。

原子層沉積可以在基板上形成厚度均勻的薄膜，並可有效控制薄膜的厚度，理論上亦適用於三維的量子點。量子點靜置在承載盤時，相鄰的量子點之間會存在接觸點，使得原子層沉積的前驅物氣體無法接觸這些接觸點，並導致無法在所有的奈米顆粒的表面皆形成厚度均勻的薄膜。

為了解決上述先前技術面臨的問題，本新型提出一種防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，可於原子層沉積製程中充份攪拌粉末，以利於在各個粉末的表面上形成厚度均勻的薄膜。在攪拌粉末的過程中，可透過進氣管線經由過濾單元將非反應氣體輸送至反應空間，以防止反應空間內的粉末沾黏在過濾單元上。

本新型的一目的，在於提供一種防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，主要包括一驅動單元、一軸封裝置及一真空腔體，其中驅動單元透過軸封裝置連接並驅動真空腔體轉動。至少一抽氣管線、至少一攪動氣體輸送管線及至少一進氣管線位於軸封裝置內，並將一過濾單元設置在軸封裝置連接或接觸真空腔體的反應空間的一端。

抽氣管線經由過濾單元抽出反應空間內的氣體，以防止抽氣管線抽出反應空間內的粉末。攪動氣體輸送管線經由過濾單元將一攪動氣體輸送至反應空間，以吹動反應空間內的粉末。此外當攪動氣體輸送管線經由過濾單元將攪動氣體輸送反應空間時，進氣管線亦會經由過濾單元將非反應氣體輸送至反應空間，使得過濾單元連接反應空間的一側形成正壓或氣牆，以防止粉末沾黏在過濾單元的表面或內部。

本新型的一目的，在於提供一種防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，主要包括一驅動單元、一軸封裝置及一真空腔體，其中驅動單元透過軸封裝置連接並驅動真空腔體轉動。抽氣管線經由過濾單元抽出反應空間內的氣體，以防止抽氣管線抽出反應空間內的粉末。至少一進氣管線經由過濾單元將一非反應氣體輸送至反應空間，其中進氣管線輸送非反應氣體的狀態包括一攪動狀態及一防止沾黏狀態。在攪拌狀態的進氣管線輸出 的非反應氣體的流量大於防止沾黏狀態，並可透過較大流量的非反應氣體吹動反應空間的粉末。防止沾黏狀態則透過較小流量的非反應氣體在過濾單元連接反應空間的表面形成氣牆或正壓，以防止粉末沾黏在過濾單元的表面或內部。

為了達到上述的目的，本新型提出一種防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，包括：一真空腔體，包括一反應空間用以容置複數顆粉末；一軸封裝置，連接真空腔體；一驅動單元，透過軸封裝置連接真空腔體，並經由軸封裝置帶動真空腔體轉動；一過濾單元，位於軸封裝置連接真空腔體的反應空間的一端；至少一抽氣管線，位於軸封裝置內，並經由過濾單元流體連接真空腔體的反應空間，以抽出反應空間內的一氣體；至少一攪動氣體輸送管線，位於軸封裝置內，並經由過濾單元將一攪動氣體輸送至反應空間，以吹動反應空間內的粉末；及至少一進氣管線，位於軸封裝置內，並經由過濾單元將一前驅物氣體或一非反應氣體輸送至反應空間，其中攪動氣體輸送管線將攪動氣體輸送反應空間時，進氣管線會將非反應氣體輸送至反應空間。

本新型提出另一種防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，包括：一真空腔體，包括一反應空間用以容置複數顆粉末；一軸封裝置，連接真空腔體；一驅動單元，透過軸封裝置連接真空腔體，並經由軸封裝置帶動真空腔體轉動；一過濾單元，位於軸封裝置連接真空腔體的反應空間的一端；至少一抽氣管線，位於軸封裝置內，並經由過濾單元流體連接真空腔體的反應空間，以抽出反應空間內的一氣體；及至少一進氣管線，位於軸封裝置內，並經由過濾單元將一非反應氣體輸送至反應空間，其中進氣管線輸送非反應 氣體的狀態包括一攪動狀態及一防止沾黏狀態，攪拌狀態時進氣管線輸出的非反應氣體的流量大於防止沾黏狀態，以吹動反應空間的粉末。

所述的防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，其中攪動氣體輸送管線包括一延伸管線，延伸管線位於反應空間內，並朝反應空間的一表面的方向延伸。

所述的防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，其中軸封裝置包括一外管體及一內管體，外管體具有一容置空間，用以容置內管體，抽氣管線、攪動氣體輸送管線及進氣管線位於內管體內。

所述的防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，其中內管體由外管體的容置空間延伸至真空腔體的反應空間，並在反應空間內形成一凸出管部。

所述的防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，其中進氣管線經由過濾單元將非反應氣體輸送至反應空間，並在過濾單元接觸反應空間的一表面形成一氣牆或一正壓，以防止粉末沾黏在過濾單元的表面。

所述的防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，其中進氣管線經由過濾單元將一前驅物氣體輸送至反應空間。

所述的防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，其中進氣管線在防止沾黏狀態時經由過濾單元將非反應氣體輸送至反應空間，並在過濾單元接觸反應空間的一表面形成一氣牆或一正壓，以防止粉末沾黏在過濾單元的表面。

10:防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置

11:真空腔體

111:蓋板

1111:內表面

113:腔體

115:監控晶圓

12:反應空間

121:粉末

13:軸封裝置

130:凸出管部

131:外管體

132:容置空間

133:內管體

134:連接空間

139:過濾單元

14:齒輪

15:驅動單元

16:加熱裝置

171:抽氣管線

172:延伸管線

173:進氣管線

175:攪動氣體輸送管線

177:加熱器

179:溫度感測單元

191:承載板

193:固定架

195:連接軸

[圖1]為本新型防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置一實施例的立體示意圖。

[圖2]為本新型防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置一實施例的剖面示意圖。

[圖3]為本新型防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置的軸封裝置一實施例的剖面示意圖。

[圖4]為本新型防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置又一實施例的剖面示意圖。

[圖5]為本新型防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置又一實施例的剖面示意圖。

請參閱圖1、圖2及圖3，分別為本新型防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置一實施例的立體示意圖、剖面示意圖及防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置的軸封裝置一實施例的剖面示意圖。如圖所示，防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置10主要包括一真空腔體11、一軸封裝置13及一驅動單元15，其中驅動單元15透過軸封裝置13連接真空腔體11，並帶動真空腔體11轉動。

真空腔體11內具有一反應空間12，用以容置複數顆粉末121，其中粉末121可以是量子點(Quantum Dot)，例如ZnS、CdS、CdSe等II-VI半導體材料，而形成在量子點上的薄膜可以是三氧化二鋁(Al2O3)。真空腔體11 可包括一蓋板111及一腔體113，其中蓋板111的一內表面1111用以覆蓋腔體113，並在兩者之間形成反應空間12。

在本新型一實施例中，可於蓋板111的內表面1111設置一監控晶圓115，當蓋板111覆蓋腔體113時，監控晶圓115會位於反應空間12內。在反應空間12內進行原子層沉積時，監控晶圓115的表面會形成薄膜。在實際應用時可進一步量測監控晶圓115表面的薄膜厚度與粉末121表面的薄膜厚度，並計算出兩者之間的關係。而後便可透過量測監控晶圓115表面的薄膜厚度，換算出粉末121表面的薄膜厚度。

在本新型一實施例中，軸封裝置13包括一外管體131及一內管體133，其中外管體131具有一容置空間132，而內管體133則具有一連接空間134，例如外管體131及內管體133可為空心柱狀體。外管體131的容置空間132用以容置內管體133，其中外管體131及內管體133同軸設置。軸封裝置13可以是一般常見的軸封或磁流體軸封，主要用以隔離真空腔體11的反應空間12與外部的空間，以維持反應空間12的真空。

驅動單元15透過外管體131動力連接真空腔體11，並透過外管體131帶動真空腔體11轉動。此外驅動單元15並未連接內管體133，因此驅動單元15帶動外管體131及真空腔體11轉動時，內管體133不會隨著轉動。

驅動單元15可帶動外管體131及真空腔體11以同一方向持續轉動，例如順時針或逆時針方向持續轉動。在不同實施例中，驅動單元15可帶動外管體131及真空腔體11以順時針的方向旋轉一特定角度後，再以逆時針的方向旋轉特定角度，例如特定角度可為360度。真空腔體11轉動時，會 攪拌反應空間12內的粉末121，以利於粉末121均勻受熱並與前驅物氣體、非反應氣體或攪動氣體接觸。

在本新型一實施例中，驅動單元15可為馬達，透過至少一齒輪14連接外管體131，並經由齒輪14帶動外管體131及真空腔體11相對於內管體133轉動。

軸封裝置13或其內管體133的連接空間134內可設置至少一抽氣管線171、至少一進氣管線173、至少一攪動氣體輸送管線175、一加熱器177及/或一溫度感測單元179，如圖2及圖3所示。此外，內管體133連接反應空間12的一端可設置一過濾單元139，其中過濾單元139主要用以過濾反應空間12內的粉末121。

抽氣管線171經由過濾單元139流體連接真空腔體11的反應空間12，並經由過濾單元139抽出反應空間12內的氣體，使得反應空間12為真空狀態，以進行原子層沉積製程。具體而言抽氣管線171可連接一幫浦，並透過幫浦抽出反應空間12內的氣體。此外透過過濾單元139的設置可避免粉末121在抽氣的過程中進入抽氣管線171內，可有效減少粉末121的損耗。

進氣管線173經由過濾單元139流體連接真空腔體11的反應空間12，並經由過濾單元139將一前驅物氣體或一非反應氣體輸送至反應空間12，其中非反應氣體可以是氮氣或氬氣等惰性氣體。例如進氣管線173可透過閥件組連接一前驅物氣體儲存槽及一非反應氣體儲存槽，並透過閥件組將前驅物氣體輸送至反應空間12內，以將前驅物氣體沉積在粉末121表面。在實際應用時，進氣管線173可能會將一載送氣體(carrier gas)及前驅物氣體一起輸送到反應空間12內。而後透過閥件組將非反應氣體輸送至反應空間 12內，並透過抽氣管線171抽氣，以去除反應空間12內的未反應氣體、反應後的氣體或前驅物氣體。在本新型一實施例中，進氣管線173可連接複數個分枝管線，並分別透過各個分枝管線將不同的前驅物氣體依序輸送至反應空間12內。

此外可增大進氣管線173輸送至反應空間12的非反應氣體的流量，並透過非反應氣體吹動反應空間12內的粉末121，使得粉末121受到非反應氣體的帶動，擴散到反應空間12的各個區域。

在本新型一實施例中，進氣管線173輸出的非反應氣體的流量為可調整，當進氣管線173輸出的非反應氣體的流量較大時，可透過非反應氣體攪動反應空間12內的粉末121，並可將此一狀態定義為一攪動狀態。反之，當進氣管線173輸出的非反應氣體的流量較小時，非反應氣體有可能無法攪動反應空間12內的粉末121。然而輸出的非反應氣體可在過濾單元139接觸反應空間12的表面形成氣牆或正壓，以防止反應空間12內的粉末121沾黏在過濾單元139的表面，並可將此一狀態定義為一防止沾黏狀態。換言之，在攪拌狀態時進氣管線173輸出的非反應氣體的流量會大於防止沾黏狀態。

在實際應用時可依據製程的需求，調整進氣管線173輸出非反應氣體的流量，並在攪拌狀態及防止沾黏狀態之間切換。具體而言，進氣管線173可在除了攪拌狀態及輸出前驅物氣體以外的時間，皆輸出小流量的非反應氣體。

在本新型另一實施例中，防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置10的軸封裝置13內可設置至少一攪動氣體輸送管線175，其中攪動氣體輸送管 線175經由過濾單元139流體連接真空腔體11的反應空間12，並經由過濾單元139將一攪動氣體輸送至反應空間12，例如攪動氣體輸送管線175可透過閥件組連接一氮氣儲存槽，並透過閥件組將氮氣輸送至反應空間12。攪動氣體用以吹動反應空間12內的粉末121，配合驅動單元15驅動真空腔體11轉動，可有效且均勻的翻攪反應空間12內的粉末121，並有利於在各個粉末121的表面沉積厚度均勻的薄膜。

具體而言，進氣管線173用以輸出前驅物氣體或非反應氣體，而攪動氣體輸送管線175則用以輸出攪動氣體，其中攪動氣體及非反應氣體可以是相同或不相同的氣體，例如攪動氣體及非反應氣體可以是惰性氣體或氮氣。進氣管線173輸送的非反應氣體的流量較小，主要用以去除反應空間12內的前驅物氣體，而攪動氣體輸送管線175輸送的攪動氣體的流量較大，主要用以吹動反應空間12內的粉末121。

在本新型實施例中，當攪動氣體輸送管線175將攪動氣體輸送至反應空間12時，進氣管線173亦可將非反應氣體輸送至反應空間12，並在過濾單元139接觸反應空間12的表面形成氣牆或正壓，以防止反應空間12內被攪動氣體吹動的粉末121沾黏在過濾單元139的表面。

在本新型一實施例中，如圖4所示，軸封裝置13的內管體133由外管體131的容置空間132延伸至真空腔體11的反應空間12，其中反應空間12內的內管體133被定義為一凸出管部130。此外位於內管體133的連接空間134內的抽氣管線171、進氣管線173、攪動氣體輸送管線175、加熱器177及/或溫度感測單元179亦位於凸出管部130。透過凸出管部130的設置可縮短或調整進氣管線173及/或攪動氣體輸送管線175與蓋板111之間的距離，使得進 氣管線173及/或攪動氣體輸送管線175輸送至反應空間12的非反應氣體及/或攪動氣體傳遞至蓋板111上，並經由蓋板111擴散到反應空間12的各個區域。此外，過濾單元139可設置在凸出管部130的一端。

加熱器177用以加熱內管體133內的抽氣管線171、進氣管線173及/或攪動氣體輸送管線175，以提高抽氣管線171、進氣管線173及/或攪動氣體輸送管線175內的氣體的溫度。例如可提高進氣管線173輸送至反應空間12的非反應氣體及/或前驅物氣體的溫度，並可提高攪動氣體輸送管線175輸送至反應空間12的攪動氣體的溫度。使得非反應氣體、攪動氣體及/或前驅物氣體進入反應空間12時，不會造成反應空間12的溫度大幅下降或改變。此外可透過溫度感測單元179量測加熱器177或連接空間134的溫度，以得知加熱器177的工作狀態。當然在真空腔體11的內部、外部或周圍通常會設置另一個加熱裝置16，如圖4所示，其中加熱裝置16鄰近或接觸真空腔體11，並用以加熱真空腔體11及反應空間12。

驅動單元15帶動外管體131及真空腔體11轉動時，內管體133及內部的抽氣管線171、進氣管線173及/或攪動氣體輸送管線175並不會隨著轉動，並有利於穩定傳送至反應空間12的非反應氣體、攪動氣體及前驅物氣體。

在本新型一實施例中，防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置10亦可包括一承載板191及至少一固定架193，其中承載板191可為一板體，用以承載驅動單元15、真空腔體11及軸封裝置13。例如承載板191連接驅動單元15，並透過驅動單元15連接軸封裝置13及真空腔體11。此外軸封裝置13 及/或真空腔體11亦可透過至少一支撐架連接承載板191，以提高連接的穩定度。

承載板191可透過至少一連接軸195連接固定架193，其中固定架193的數量可為兩個，並分別設置在承載板191的兩側。承載板191可以連接軸195為軸心相對於固定架193轉動，以改變驅動單元15、軸封裝置13及真空腔體11的仰角，以利於在各個粉末121的表面形成厚度均勻的薄膜。

在本新型另一實施例中，如圖5所示，攪動氣體輸送管線175由內管體133的連接空間134延伸至真空腔體11的反應空間12，其中延伸至反應空間12的攪動氣體輸送管線175可被定義為一延伸管線172。延伸管線172位於反應空間12內，並朝反應空間12的一表面的方向延伸，例如反應空間12下半部的表面。攪動氣體輸送管線175及延伸管線172不經由過濾單元139將攪動氣體傳送至真空腔體11的反應空間12，而是直接將攪動氣體輸送至反應空間12。

當攪動氣體輸送管線175及延伸管線172輸出攪動氣體時，進氣管線173亦會輸出非反應氣體，並在過濾單元139接觸反應空間12的表面形成氣牆或正壓，以防止反應空間12的粉末121沾黏在過濾單元139的表面。

以上所述者，僅為本新型之一較佳實施例而已，並非用來限定本新型實施之範圍，即凡依本新型申請專利範圍所述之形狀、構造、特徵及精神所為之均等變化與修飾，均應包括於本新型之申請專利範圍內。

10:防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置

11:真空腔體

111:蓋板

1111:內表面

113:腔體

115:監控晶圓

12:反應空間

121:粉末

13:軸封裝置

131:外管體

132:容置空間

133:內管體

134:連接空間

139:過濾單元

14:齒輪

15:驅動單元

171:抽氣管線

175:攪動氣體輸送管線

177:加熱器

Claims (10)

1. 一種防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，包括：一真空腔體，包括一蓋板及一腔體，其中該蓋板的一內表面覆蓋該腔體以在兩者之間形成一反應空間用以容置複數顆粉末，並於該蓋板的該內表面設置一監控晶圓；一軸封裝置，連接該真空腔體；一驅動單元，透過該軸封裝置連接該真空腔體，並經由該軸封裝置帶動該真空腔體轉動；一過濾單元，位於該軸封裝置連接該真空腔體的該反應空間的一端；至少一抽氣管線，位於該軸封裝置內，並經由該過濾單元流體連接該真空腔體的該反應空間，以抽出該反應空間內的一氣體；至少一攪動氣體輸送管線，位於該軸封裝置內，並經由該過濾單元將一攪動氣體輸送至該反應空間，以吹動該反應空間內的該粉末；及至少一進氣管線，位於該軸封裝置內，並經由該過濾單元將一前驅物氣體或一非反應氣體輸送至該反應空間，其中該攪動氣體輸送管線將該攪動氣體輸送該反應空間時，該進氣管線會將該非反應氣體輸送至該反應空間。
2. 如請求項1所述的防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，其中該攪動氣體輸送管線包括一延伸管線，該延伸管線位於該反應空間內，並朝該反應空間的一表面的方向延伸。
3. 如請求項1所述的防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，其中該軸封裝置包括一外管體及一內管體，該外管體具有一容置空間，用以容置該內管體，該抽氣管線、該攪動氣體輸送管線及該進氣管線位於該內管體內。
4. 如請求項3所述的防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，其中該內管體由該外管體的該容置空間延伸至該真空腔體的該反應空間，並在該反應空間內形成一凸出管部。
5. 如請求項1所述的防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，其中該進氣管線經由該過濾單元將該非反應氣體輸送至該反應空間，並在該過濾單元接觸該反應空間的一表面形成一氣牆或一正壓，以防止該粉末沾黏在該過濾單元的表面。
6. 一種防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，包括：一真空腔體，包括一蓋板及一腔體，其中該蓋板的一內表面覆蓋該腔體以在兩者之間形成一反應空間用以容置複數顆粉末，並於該蓋板的該內表面設置一監控晶圓；一軸封裝置，連接該真空腔體；一驅動單元，透過該軸封裝置連接該真空腔體，並經由該軸封裝置帶動該真空腔體轉動；一過濾單元，位於該軸封裝置連接該真空腔體的該反應空間的一端；至少一抽氣管線，位於該軸封裝置內，並經由該過濾單元流體連接該真空腔體的該反應空間，以抽出該反應空間內的一氣體；及至少一進氣管線，位於該軸封裝置內，並經由該過濾單元將一非反應氣體輸送至該反應空間，其中該進氣管線輸送該非反應氣體的狀態包括一攪動狀態及一防止沾黏狀態，該攪拌狀態時該進氣管線輸出的該非反應氣體的流量大於該防止沾黏狀態，以吹動該反應空間的該粉末。
7. 如請求項6所述的防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，其中該進氣管線經由該過濾單元將一前驅物氣體輸送至該反應空間。
8. 如請求項6所述的防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，其中該軸封裝置包括一外管體及一內管體，該外管體具有一容置空間，用以容置該內管體，該抽氣管線及該進氣管線位於該內管體內。
9. 如請求項8所述的防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，其中該內管體由該外管體的該容置空間延伸至該真空腔體的該反應空間，並在該反應空間內形成一凸出管部。
10. 如請求項6所述的防止粉末沾黏的粉末原子層沉積裝置，其中該進氣管線在該防止沾黏狀態時經由該過濾單元將該非反應氣體輸送至該反應空間，並在該過濾單元接觸該反應空間的一表面形成一氣牆或一正壓，以防止該粉末沾黏在該過濾單元的表面。

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