TWM616910U - 輪盤機構 - Google Patents

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Taiwan
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vertical
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TW110204777U
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張烘杰
陳東陽
李建申
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安益隆展業股份有限公司
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Abstract

一種輪盤機構,包括一立式旋轉模組,其有一立式轉輪、一真空產生單元及一動力單元,立式轉輪之周圍環設有複數容置槽,各容置槽分別有一朝向立式轉輪之輪面的進出口及一朝向立式轉輪之輪緣的工作口,各容置槽之底面分別有一真空吸引口,各真空吸引口連接真空產生單元,動力單元連接立式轉輪之轉軸;一輸送模組,其設於立式轉輪靠近各進出口之一側,輸送模組將一待測物移進或移出各容置槽;及一測試模組,其設於對應立式轉輪旋轉時各工作口之位置。本創作藉由立式轉輪的旋轉動作將待測物帶往不同的測試單元進行測試,可減少待測物在移動時的撞擊與摩擦。

Description

輪盤機構
本創作係有關於一種移動設備,特別是一種可減少待測物移動中的撞擊與摩擦的輪盤機構。
晶片在科技發達的現代已經成為生活不可或缺的一部分,但晶片在出貨前必須經歷過各種測試,方能保證晶片的正常功能並在電路中發揮作用。為了能快速的且連續的測試晶片,習知測試機組如我國專利證書號I418811中揭露一具有旋轉轉盤的封裝晶片檢測與分類裝置,利用旋轉轉盤來帶動待測的晶片在不同的工作站間移動並接受檢測與分類。由於晶片與電路板的接點大多設計在晶片底面,為了對晶片進行定位、測試及分類等動作,習知旋轉轉盤B必須將底部簍空讓機具能夠接觸到晶片底面(如第一圖中所示);但如此一來晶片在被旋轉轉盤帶動時,晶片底面缺乏保護而有接點與機台表面摩擦受損的可能,又或是旋轉轉盤移動時可能會撞擊到晶片而使晶片受損。
有鑑於此,本創作人乃累積多年相關領域的研究以及實務經驗,特創作出一種輪盤機構,藉以改善上述習知技術的缺失。
本創作之主要目的,在於提供一種輪盤機構,以直立的轉輪來移動待測物,減少待測物移動中的摩擦以及待測物與轉盤之間的撞擊。
為達上述目的,本創作之輪盤機構,包含一立式旋轉模組,其有一立式轉輪、一真空產生單元及一動力單元,立式轉輪之輪面與水平面之間所呈角度可為45~135度之間,立式轉輪之周圍環設有複數容置槽,各容置槽分別有一朝向立式轉輪之輪面的進出口及一朝向立式轉輪之輪緣的工作口,各容置槽之底面分別有一真空吸引口,各真空吸引口連接真空產生單元,動力單元連接立式轉輪之轉軸;一輸送模組,其設於立式轉輪靠近各進出口之一側,輸送模組將一待測物移進或移出各容置槽;及一測試模組,其設於對應立式轉輪旋轉時各工作口之位置。
本創作藉由類似摩天輪的立式轉輪來搬運待測物,並有真空產生單元與真空吸引口來真空吸附待測物緊靠容置槽,讓立式轉輪在轉動時,待測物可免於撞擊與摩擦。由於習知待測物的移動方式多為將待測物之接點朝下,輸送模組可設於立式轉輪之底端靠近各進出口之一側,讓待測物可以接點朝下的形式由立式轉輪的底部進入容置槽中,待測物以側面被真空吸引口吸引,此時待測物的接點自然會朝向容置槽之工作口,當立式轉輪轉動時,待測物的接點便保持在朝向立式轉輪的外側的方向,測試模組可設於高於輸送模組的位置且圓周分布於立式轉輪的外側,讓立式轉輪旋轉時將待測物由立式轉輪的底端帶往測試模組進行對位及測試等動作。本創作可適用於各種封裝的晶片,例如:QFN、SOP、BGA、DIP等等封裝形式,或是其他的待測物品。
本創作可於各容置槽之側面分別設有一頂出部,各頂出部可沿著平行立式轉輪之輪面的方向移動,各頂出部可在需要時將待測物朝工作口之方向稍微推進,或是在測試完成後將待測物推出各容置槽。
本創作可以配合現有的待測物移動設備來改變輸送模組對應於立式轉輪的位置,不需要增加改變現有設備的成本,例如現有的待測物移動設備若是將待測物的接點朝上來移動,可將輸送模組設於立式轉輪之頂端靠近各進出口之一側,讓待測物在容置槽之內時,待測物的接點朝向立式轉輪的外側,當立式轉輪轉動時,待測物的接點便同樣保持在朝向立式轉輪的外側的方向,而測試模組就可設於低於輸送模組的位置且圓周分布於立式轉輪的外側。
輸送模組可有一輸入區塊、一良品區塊及一不良品區塊,讓待測物由輸入區塊進入立式轉輪,並在測試完成後將良好的待測物移到良品區塊,而未通過測試的待測物則移動到不良品區塊。輸送模組可設有至少一以抓取一待測物橫向移動並由各進出口進出各容置槽之夾爪;或是輸送模組可設有至少一以抓取一待測物縱向移動並由各工作口進出各容置槽之夾爪。
測試模組可有各種測試單元例如:對位單元、電性檢測單元及光學檢測單元等,各測試單元可按照檢測順序設置在立式轉輪的圓周各處,各測試單元可從各容置槽之工作口來將待測物移動對位或是接觸到待測物的接點。對位單元可用來檢查並微調待測物在容置槽之內的位置,電性檢測單元可用來檢測待測物的功能是否正常,光學檢測單元可用來檢測待測物的外觀是否有毀損。測試模組可以包含一個或多個測試單元。
為能明確且充分揭露本創作,併予列舉較佳實施之圖例,以詳細說明其實施方式如後述。
請參閱第二圖至第三圖,揭示出本創作實施方式的圖式,由上述圖式說明本創作之輪盤機構,包含一立式旋轉模組,其有一立式轉輪1、一真空產生單元12及一動力單元13,立式轉輪1之輪面與水平面之間所呈角度可為45~135度之間,本實施例中立式轉輪1與水平面之間所呈角度為90度,立式轉輪1之周圍環設有複數容置槽11,各容置槽11分別有一朝向立式轉輪1之輪面的進出口111及一朝向立式轉輪1之輪緣的工作口112,各容置槽11之底面分別有一真空吸引口113,各真空吸引口113連接真空產生單元12,動力單元13連接立式轉輪1之轉軸14,動力單元13使立式轉輪1旋轉;一輸送模組2,其設於立式轉輪1靠近各進出口111之一側,輸送模組2將一待測物A移進或移出各容置槽11;及一測試模組,其設於對應立式轉輪1旋轉時各工作口112之位置,本實施例中測試模組包含一對位單元31及一電性檢測單元32且分別圓周分布於立式轉輪1的外側,本實施例中立式轉輪1的旋轉方向為逆時鐘旋轉,故待測物A會先經由對位單元31進行定位作業後再由電性檢測單元32做電性檢測。
本說明書中各容置槽11之底面指的是平行立式轉輪1之輪面的一面,而各容置槽11之側面指的是垂直立式轉輪1之輪面的一面。
本創作藉由類似摩天輪的立式轉輪1來搬運待測物,並有真空產生單元12與真空吸引口113來真空吸附待測物A緊靠容置槽11,讓立式轉輪1在轉動時,待測物A可免於受撞擊與摩擦,保障待測物A不會受到損傷。由於習知待測物A的移動方式多為將待測物A之接點朝下,本實施例中輸送模組2設於立式轉輪1之底端靠近各進出口111之一側,讓待測物A以第三圖中接點朝下的形式由立式轉輪1的底部進入容置槽11中,待測物A以側面被真空吸引口113吸引,此時待測物A的接點自然會朝向容置槽11之工作口112,當立式轉輪1轉動時,待測物A的接點便保持在朝向立式轉輪1的外側的方向。
本實施例如第三圖中,於各容置槽11之側面分別設有一頂出部114,各頂出部114可沿著平行立式轉輪1之輪面的方向移動,各頂出部114可在需要時將待測物A朝工作口112之方向稍微推進,或是在測試完成後將待測物A推出各容置槽11。
測試模組可設於高於輸送模組2的位置且圓周分布於立式轉輪的外側,讓立式轉輪1旋轉時將待測物A由立式轉輪1的底端帶往對位單元31及電性檢測單元32進行對位及測試等動作,對位單元31可如第四圖中從各容置槽11之工作口112來觀察並調整待測物A在容置槽11之內的位置,電性檢測單元32可如第五圖中從各容置槽11之工作口112接觸到待測物A的接點來進行電性測試並判斷待測物A之功能是否正常。本創作之待測物可為各種封裝的晶片,例如:QFN、SOP、BGA、DIP等等封裝形式的晶片皆可適用於本創作,本創作亦可用於其他的待測物品。
輸送模組2可有一輸入區塊21、一良品區塊22及一不良品區塊23,讓待測物A由輸入區塊21進入立式轉輪1,並如第六圖中在測試完成後將良好的待測物A移到良品區塊22,而未通過測試的待測物A則移動到不良品區塊23。本實施例中輸送模組2設有至少一以抓取一待測物A橫向移動並由各進出口111進出各容置槽11之夾爪24;或是輸送模組2可設有至少一以抓取一待測物縱向移動並由各工作口112進出各容置槽11之夾爪(未繪製)。或是輸送模組可用真空、正壓或頂針等方式來將待測物A移進或移出立式轉輪1。
本創作亦可增加一光學檢測單元(未繪製),光學檢測單元(未繪製)可用攝影機來拍攝待測物A之外觀並與正常影像作比較,光學檢測單元(未繪製)便可判斷待測物A的外觀是否有毀損。光學檢測單元(未繪製)可設於立式轉輪1圓周外側的任意位置。測試模組可以包含一個或多個測試單元,例如單獨使用對位單元31、電性檢測單元32或光學檢測單元(未繪製)其中之一,或是將任意的測試單元組合使用。
本創作可以配合現有的移動設備來改變輸送模組2對應於立式轉輪1的位置,不需要增加改變現有設備的成本,例如現有的移動設備若是將待測物A的接點朝上來移動,可將輸送模組2設於立式轉輪1之頂端靠近各進出口111之一側,讓待測物A在被移進容置槽11之內時,待測物A的接點朝向立式轉輪1的外側,當立式轉輪1轉動時,待測物A的接點便同樣保持在朝向立式轉輪1的外側的方向,而測試模組就可設於低於輸送模組2的位置且圓周分布於立式轉輪1的外側。
惟以上所述者,僅為本創作之較佳實施例,當不能用以限定本創作可實施之範圍,凡習於本業之人士所明顯可作的變化與修飾,皆應視為不悖離本創作之實質內容。
1:立式轉輪 11:容置槽 111:進出口 112:工作口 113:真空吸引口 114:頂出部 12:真空產生單元 13:動力單元 14:轉軸 2:輸送模組 21:輸入區塊 22:良品區塊 23:不良品區塊 24:夾爪 31:對位單元 32:電性檢測單元 A:待測物 B:習知旋轉轉盤
第一圖為習知旋轉轉盤之示意圖。 第二圖為本創作之實施例之示意圖。 第三圖為本創作之實施例之側視部分剖面示意圖(一)。 第四圖為本創作之實施例之動作示意圖(一)。 第五圖為本創作之實施例之動作示意圖(二)。 第六圖為本創作之實施例之側視部分剖面示意圖(二)。
1:立式轉輪
11:容置槽
111:進出口
112:工作口
113:真空吸引口
114:頂出部
12:真空產生單元
13:動力單元
14:轉軸
2:輸送模組
21:輸入區塊
22:良品區塊
23:不良品區塊
24:夾爪
31:對位單元
32:電性檢測單元

Claims (9)

  1. 一種輪盤機構,其包括有: 一立式旋轉模組,其有一立式轉輪、一真空產生單元及一動力單元,該立式轉輪之周圍環設有複數容置槽,各該容置槽分別有一朝向該立式轉輪之輪面的進出口及一朝向該立式轉輪之輪緣的工作口,各該容置槽之底面分別有一真空吸引口,各該真空吸引口連接該真空產生單元,該動力單元連接該立式轉輪之轉軸; 一輸送模組,其設於該立式轉輪靠近各該進出口之一側,該輸送模組將一待測物移進或移出各該容置槽;及 一測試模組,其設於對應該立式轉輪旋轉時各該工作口之位置。
  2. 如請求項1所述之輪盤機構,其中該立式轉輪之輪面與水平面之間所呈角度為45~135度之間。
  3. 如請求項1所述之輪盤機構,其中該輸送模組設有至少一以抓取一待測物橫向移動並由各該進出口進出各該容置槽之夾爪。
  4. 如請求項1所述之輪盤機構,其中該輸送模組有一輸入區塊、一良品區塊及一不良品區塊。
  5. 如請求項1所述之輪盤機構,其中該輸送模組設於該立式轉輪之底端靠近各該進出口之一側。
  6. 如請求項1所述之輪盤機構,其中該測試模組設於高於該輸送模組且對應該立式轉輪旋轉時各該工作口之位置。
  7. 如請求項1所述之輪盤機構,其中該測試模組包含一對位單元。
  8. 如請求項1所述之輪盤機構,其中該測試模組包含一電性檢測單元。
  9. 如請求項1所述之輪盤機構,其中該測試模組包含一光學檢測單元。
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