TWM543745U - 用於磨床的冷卻液導流座 - Google Patents

Description

用於磨床的冷卻液導流座

本創作係與磨床有關，特別是指一種用於磨床的冷卻液導流座。

請參考第1圖，習知的磨床工具機包含一座體、一工件定位單元、一冷卻液噴灑單元以及一研磨單元，工件定位單元係設置於座體頂面並用以定位工件，研磨單元設置於座體一側，並對工件定位單元上的工件進行研磨加工，而冷卻液噴灑單元係對工件以及研磨單元噴灑冷卻液以降低溫度，其中，為了導流冷卻液噴灑單元噴出的冷卻液，習知的方式係在座體頂面的周緣剖設一環狀剖溝以及一連通環狀剖溝的導流口，藉此，冷卻液及可流至環狀剖溝並藉由導流口流至座體外部，以便操作者進行收集以及過濾。

惟，上述環狀剖溝通常呈水平式設置，並且深度較淺，研磨工件所產生的碎屑以及冷卻液噴灑單元所噴出的冷卻液容易滯留及堆積於環狀剖溝甚至溢出，造成難以清理之問題。

綜合上述說明，習知用以導流冷卻液的技術仍有其不便之處，而有待改進。

藉此，本創作之主要目的係在於提供一種用於磨床的冷卻液導流座，不僅方便操作者收集冷卻液，並且可避免冷卻液流至磨床其他部位導致難以清理甚至造成機件損壞之問題。

該冷卻液導流座包含一座體，該座體具有一傾斜底壁、一側壁以及一分隔壁，該傾斜底壁具有一預定傾斜角，該側壁設置於該傾斜底壁之周緣，並且與該傾斜底壁定義形成一具有上開口之導流槽，該側壁穿設一導流口，該分隔壁設置於該傾斜底壁並將該導流槽分隔為二導流道，該二導流道係向下傾斜延伸至該導流口。

較佳地，該冷卻液導流座更包含一用以定位工件之工件定位單元，該工件定位單元係設置於該座體並位於各該導流道上方。

藉此，當磨床的研磨單元對該工件定位單元上的工件進行研磨時，磨床的冷卻液噴灑單元即可向研磨單元及工件噴灑冷卻液以降低溫度，而噴灑出的冷卻液以及研磨工件所產生的碎屑，隨即流至下方的各該導流道，而由於各該導流道為傾斜式設計，冷卻液及碎屑即可流向該導流口並排至該座體外部，以便操作者進行收集及過濾，避免了冷卻液及碎屑流到磨床其他部位，進而造成難以清理之問題。

有關本創作所提供之詳細構造、特點，將於後續的實施方式詳細說明中予以描述。然而，在本領域中具有通常知識者應能瞭解，該等詳細說明以及實施本創作所列舉的特定實施例，僅係用於說明本創作，並非用以限制本創作之專利申請範圍。

請參考第2~6圖，本創作一較佳實施例所提供用於磨床的冷卻液導流座10，包含一座體20以及一用以定位工件之工件定位單元30。

座體20係為一長方形缸體結構，座體20具有一傾斜底壁22、一側壁24、一分隔壁26以及一肩部28，傾斜底壁22具有一預定傾斜角θ，側壁24設置於傾斜底壁22之周緣，並且與傾斜底壁22定義形成一具有上開口23之導流槽25，側壁24穿設一導流口27，分隔壁26設置於傾斜底壁22並將導流槽25分隔為二導流道252、254，二導流道252、254係向下傾斜延伸至導流口27，各導流道252、254係用於導流冷卻液。傾斜底壁22、側壁24以及分隔壁26係為一體成形，並且側壁24係由傾斜底壁22之周緣向上延伸，另外，傾斜底壁22的厚度、長度，以及側壁24及分隔壁26的厚度、高度尺寸並不限定，可依實際需求而變化。

更進一步來說，側壁24包含一前側壁242、一後側壁244以及一連接壁246，前側壁242及後側壁244係彼此相對，前側壁242及後側壁244的底側分別連接於傾斜底壁22的兩側，前側壁242及後側壁244分別與分隔壁26形成各導流道252、254；連接壁246之兩側分別連接前側壁242及後側壁244，連接壁246之底側連接傾斜底壁22，導流口27係穿設連接壁246，分隔壁26係連接連接壁246並將導流口27分隔為二導流孔272，各導流道252、254係向下傾斜延伸至各導流孔272，值得一提的是，前側壁242、後側壁244以及連接壁246的厚度、高度尺寸並不限定，可依實際需求而變化。

肩部28係設置於前側壁242上緣，並朝遠離各導流道252、254的方向橫向延伸，肩部28具有一斜導流面282以及一凸緣284，斜導流面282一側係向下傾斜延伸至前側壁242，凸緣284設置於斜導流面282另一側並用以防止冷卻液流出肩部28，於本較佳實施例中，肩部28之斜導流面282以及凸緣284係為一體成形，於其它較佳實施例中，凸緣284亦可以用焊接或是利用固定件固定於斜導流面282。

接著介紹座體20與工件定位單元30的連接關係，工件定位單元30係設置於座體20並位於各導流道252、254上方，更進一步來說，座體20更包含複數支撐件29，各支撐件29於本較佳實施例中大致呈長條狀但並不以此為限，各支撐件29之兩端分別固接斜導流面282以及後側壁244，各支撐件29係跨設並固接分隔壁26，並且各支撐件29係呈間隔設置，而工件定位單元30係設置於各支撐件29上。

工件定位單元30包含一滑軌32、一主軸座34以及一尾座36，滑軌32係設置於各支撐件29上，主軸座34以及尾座36係滑設於滑軌32並用以定位一工件A。

於其它較佳實施例中，工件定位單元30可涵蓋任何能承載或定位工件之結構，並不一定要具有滑軌32、主軸座34以及尾座36。

藉此，請參考第2圖及第7圖，當本創作所提供之冷卻液導流座10應用於磨床40時，係將冷卻液導流座10、一冷卻液噴灑單元50以及一研磨單元60裝設於一基座80上，並在基座80周圍罩設一外罩70，當研磨單元60之砂輪62對工件定位單元30上的工件A進行研磨加工時，冷卻液噴灑單元50隨即對工件A以及砂輪62噴灑冷卻液以降低溫度，而噴灑出的冷卻液以及研磨工件A所產生的碎屑隨即自上開口23流入下方的各導流道252、254，或是藉由斜導流面282流至導流道252，而由於導流道252、254為傾斜式設計，冷卻液及碎屑即可流向導流孔272並排至座體20外部，或是導流孔272可接合輸送管並將冷卻液及碎屑輸送出磨床40外，以便操作者進行收集及過濾，避免了冷卻液及碎屑流到磨床40其他部位，進而造成難以清理之問題。

值得一提的是，於本較佳實施例中，研磨單元60之砂輪62之轉動軸心可與工件A之軸向夾設一非90度之夾角，於其它較佳實施例中，研磨單元60之砂輪62之轉動軸心亦可平行於工件A之軸向，其目的係在於不同角度的研磨方式可研磨出不同形狀的工件A，或是在工件A上研磨出不同的光澤及紋理。

最後必須再次說明，本創作於前揭實施例中所揭露的構成元件，僅為舉例說明，並非用來限制本案之範圍，其他等效元件的替代或變化，亦應為本案之申請專利範圍所涵蓋。

10‧‧‧冷卻液導流座
20‧‧‧座體
30‧‧‧工件定位單元
22‧‧‧傾斜底壁
24‧‧‧側壁
26‧‧‧分隔壁
28‧‧‧肩部
θ‧‧‧預定傾斜角
23‧‧‧上開口
25‧‧‧導流槽
27‧‧‧導流口
252、254‧‧‧導流道
242‧‧‧前側壁
244‧‧‧後側壁
246‧‧‧連接壁
272‧‧‧導流孔
282‧‧‧斜導流面
284‧‧‧凸緣
29‧‧‧支撐件
32‧‧‧滑軌
34‧‧‧主軸座
36‧‧‧尾座
A‧‧‧工件
40‧‧‧磨床
50‧‧‧冷卻液噴灑單元
60‧‧‧研磨單元
70‧‧‧外罩
80‧‧‧基座
62‧‧‧砂輪

第1圖為習知磨床工具機的立體圖。 第2圖為本創作一較佳實施例之立體圖，係顯示座體結合工件定位單元之態樣。 第3圖為本創作一較佳實施例之立體圖。 第4圖為本創作一較佳實施例之俯視圖。 第5圖為第4圖之5-5剖線剖視圖。 第6圖為第4圖之6-6剖線剖視圖。 第7圖為本創作一較佳實施例之局部側視圖，係顯示座體結合工件定位單元以及外罩之態樣。

20‧‧‧座體

24‧‧‧側壁

26‧‧‧分隔壁

28‧‧‧肩部

25‧‧‧導流槽

27‧‧‧導流口

252、254‧‧‧導流道

242‧‧‧前側壁

244‧‧‧後側壁

246‧‧‧連接壁

272‧‧‧導流孔

282‧‧‧斜導流面

284‧‧‧凸緣

29‧‧‧支撐件

Claims (8)

1. 一種用於磨床的冷卻液導流座，包含： 一座體，具有一傾斜底壁、一側壁以及一分隔壁，該傾斜底壁具有一預定傾斜角，該側壁設置於該傾斜底壁之周緣，並且與該傾斜底壁定義形成一具有上開口之導流槽，該側壁穿設一導流口，該分隔壁設置於該傾斜底壁並將該導流槽分隔為二導流道，該二導流道係向下傾斜延伸至該導流口。
2. 如申請專利範圍第1項所述之冷卻液導流座，該側壁係包含一前側壁、一後側壁以及一連接壁，該前側壁以及該後側壁係彼此相對並分別與該分隔壁形成各該導流道，該連接壁之兩側分別連接該前、後側壁，該連接壁之底側連接該傾斜底壁，該導流口係穿設該連接壁。
3. 如申請專利範圍第2項所述之冷卻液導流座，該分隔壁係連接該連接壁並將該導流口分隔為二導流孔，各該導流道係向下傾斜延伸至各該導流孔。
4. 如申請專利範圍第2項所述之冷卻液導流座，該座體更包含一肩部，該肩部係設置於該前側壁上緣，該肩部具有一斜導流面，該斜導流面一側係向下傾斜延伸至該前側壁。
5. 如申請專利範圍第4項所述之冷卻液導流座，該肩部更包含一凸緣，該凸緣係設置於該斜導流面另一側。
6. 如申請專利範圍第4項所述之冷卻液導流座，其更包含一用以定位工件之工件定位單元，該座體更包含複數支撐件，各該支撐件之兩端係分別固接於該斜導流面以及該後側壁，各該支撐件係跨設並固接該分隔壁，並且各該支撐件係呈間隔設置，該工件定位單元係設置於各該支撐件上。
7. 如申請專利範圍第6項所述之冷卻液導流座，該工件定位單元包含一滑軌、一主軸座以及一尾座，該滑軌設置於各該支撐件上，該主軸座以及該尾座係滑設於該滑軌並用以定位工件。
8. 如申請專利範圍第1項所述之冷卻液導流座，其更包含一用以定位工件之工件定位單元，該工件定位單元係設置於該座體並位於各該導流道上方。