TWM543112U - 擾流裝置 - Google Patents

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TWM543112U
TWM543112U TW106203967U TW106203967U TWM543112U TW M543112 U TWM543112 U TW M543112U TW 106203967 U TW106203967 U TW 106203967U TW 106203967 U TW106203967 U TW 106203967U TW M543112 U TWM543112 U TW M543112U
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Taiwan
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spoiler
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water
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water outlet
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TW106203967U
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English (en)
Inventor
Liang-Xin Zhong
sheng-ru Zhong
Pei-Rong Zhong
Original Assignee
Liang-Xin Zhong
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  • Cultivation Receptacles Or Flower-Pots, Or Pots For Seedlings (AREA)

Description

擾流裝置
本創作係有關於一種擾流裝置的容器,尤其是用於浸水式種植的容器,搭配擾流裝置器組後,可以增加水體的含氧量及減少容器底層水流速緩慢而產生淤積的問題。
愈來愈多的農場導入浸水式種植,希望可以藉此減少了翻土、鋤草及澆水的例行性工作,也可以進一步控管施加的肥料,可以全然的被植物吸收,而不是平白的滲透至土壤中。
通常用於浸水式種植的容器,其本體僅僅為一個設有頂部呈開口狀之容置空間,以供作為盛裝液體介質使用,其容置空間中並無其他的擾流裝置器。
習知技術,當該容置空間越寬時,容置空間內部的邊緣水流就會越慢;離進水口越遠的地方,流速也相較的緩慢。此時就必須藉助較強進的供水泵浦,再搭配地板傾斜的高程落差,或是不同高度的支撐架,來加速水流的進行與流出,否則將會造成該水體自該容器中溢流出來。
再者,為增加水體中的溶氧,通常於水體進流端添加文氏管,或是利用打氣機將空氣打入水中,用以增加水體中的溶氧量,讓植物根部有較多接觸溶氧的機會,尤其是容置空間越大的容器越是需要。
習知技術得知,水體於開放式水槽表面流速通常都較快,底部則因水體與水槽間的摩擦力關係,會使得水流速減緩。也因此,一般採用浸水式 種植的容器,其容器底層容易有淤積,或是長青苔的現象產生,尤其是容器的角落及底部。
再者容器末端出水口,常會因植物生長環境好,根部顯得旺盛,也因此經常發生根部堵塞出水口的現象,進而造成水流不順暢的情形,或是因出水口被堵塞了,因而造成溢流出容器本體的現象。
基於上述理由,本創作的目的在於提供一個,可以增加水中溶氧、改變水流方向、減少容器底層淤積、減少青苔的生長及避免出水口被根部堵塞的容器。
本創作所述容器,包括一種植容器本體、複數個擾流裝置;該本體係設有頂部呈開口狀之容置空間,以供作為盛裝液體介質使用,本體側邊設有至少有一進水口、至少一出水口,底部至少有一排水口,容器本體內部至少設有複數個擾流板。
本創作所述之下方斜面,位於容器本體下方,讓容器呈現上方面積大,下方面積小之倒梯形,縮短容器邊緣與中心的距離。讓容器周圍複數個面與底層接合處,所呈現的角度小於90度。為使貴審查委員可以更為詳盡的瞭解此創作產品的結構、特徵與目的,如後之說明僅以容器進水口、出水口二側為梯形之容器,作為詳細之圖例,惟該圖例所說明之實施例,係供說明之用,並非為專利申請上之唯一限制者。
習知技術,水往低處流,故本創作容器之進水口與出水口開口高程不同,進水口將略高於出水口。
本創作所述之擾流器裝置器組,包括至少一進水口端的擾流板、出水口端的擾流板、及容器本體內部有複數個擾流板,至少一擾流板是與容器本體開口頂部切齊,並於容器底部呈現一開口;其開口形狀可以設計成各 式多邊形、或是弧形、或是複數個貫穿孔的樣式。
本創作所述之進水口端擾流板,安裝於容器內部進水口端,該進水口擾流板,一側與容器本體頂部開口呈現一個角度結合,並非平貼容器進水側,且進水端擾流版另一側會低於進水口下緣。
本創作所述之第一道擾流板,安裝進水口端擾流板之後,第一道擾流板左右二側,牢固於容器本體內部,上側稍稍的低於進水口下緣,下側則未與容器貼合。
本創作所述之第二道擾流板,位於容器本體正中間位置,第二道擾流板左右二側,牢固於容器本體內部,上側與容器本體上緣貼齊,下側並未與容器貼合。
本創作所述之第三道擾流板,安裝出水口端擾流板之前,第三道擾流板左右二側,牢固於容器本體內部,上側會稍稍的低於進水口下緣,下側並未與容器貼合。
本創作所述之出水口端擾流板,安裝於容器內部出水口端,該出水口擾流板,一側與容器本體頂部開口呈現一個角度結合,並非平貼容器出水側,且出水端擾流版另一側則是低於出水口下緣。
一種選擇,本創作前述的第一道擾流板、第二道擾流板與第三道擾流板,可以固定於容器本體內。
另一種選擇,本創作前述的第一道擾流板、第二道擾流板與第三道擾流板,是可以與容器本體分離的,完全可以由種植型態的需求,來決定第一道擾離板、第二道擾流板與第三道擾流板,於容器本體內部的位置。
習知技術得知,水往低處流。也就是說,當水源自進水口端流入時,會與空氣接觸,再因水流自身的重量關係,而在較低的水面上形成氣泡,因而增加了水體中的溶氧。
不管是採用動力泵浦輸送水源,或是採用高低落差的方式,讓水源流入容器中,都有可能直接衝擊到離進水口端較近的植物,因而影響了植物的生長;但是因設置進水口端擾流板的緣故,避免了這個引響因素,也讓水源衝擊進水口端擾流板後,與空氣接觸的機會再次增加,水中溶氧也可隨之增加。
將水源經過進水口端擾流板後,流經第二道擾流板,起初將經過第一道擾流板下方通道,到達第二道擾流板下方通道,再經過第三道擾流板下方通道,當水位逐漸上升至出水口之前,水面將會陸續的漫過第一道擾流板上方通道,接著漫過第三道擾流板的上方通道,水面持續上升至高過出水口下緣後,則會流出容器本體。
習知技術,水面上的物體將會隨水流方向前進,也就是說當容器本體內的種植板,也會隨水流方向流至出水口,或是植物的根也會隨水流流至出水口,因而影響了水流的進行。但是因設置了出水口端擾流板,因而避免了出水口被植物的根或是種植板堵住的可能。
本創作容器本體的外觀,可以設計成正方體、長方體或是梯形。為使貴審查委員可以更為詳盡的瞭解此創作產品的結構、特徵與目的,如後之說明僅以梯形容器,搭配五個擾流板作為詳細之圖例,惟該圖例所說明之實施例,係供說明之用,並非為專利申請上之唯一限制者。
1‧‧‧擾流裝置
10‧‧‧容器
11‧‧‧進水口端擾流板
12‧‧‧出水口端擾流板
13‧‧‧第一道擾流板
14‧‧‧第二道擾流板
15‧‧‧第三道擾流板
16‧‧‧進水口
17‧‧‧出水口
18‧‧‧排水口
19‧‧‧下方斜面
20‧‧‧種植板
201‧‧‧有種植孔
P‧‧‧植物
RK‧‧‧架子
M‧‧‧供水泵浦
第1圖係為本創作之第一實施例之擾流裝置之容器側視圖。
第2圖係為本創作之第一實施例之擾流裝置之外框剖面圖。
第3圖係為本創作之第一實施例之擾流裝置之容器剖視圖。
第4圖係為本創作之第一實施例之之擾流裝置之種植圖。
第5圖係為本創作之第二實施例之擾流裝置之架子之側視圖。
第6圖係為本創作之第二實施例之擾流裝置之架子之組合圖。
以下將參照相關圖式,說明依本創作之擾流裝置之實施例,為了清楚與方便圖式說明之故,圖式中的各部件在尺寸與比例上可能會被誇大或縮小地呈現,為使便於理解,下述實施例中之相同元件係以相同之符號標示來說明。
請參閱第1圖及第2圖,係為本創作之第一實施例之擾流裝置之容器側視圖及外框剖面圖。如圖所示,擾流裝置1可包含容器10、進水口端擾流板11、出水口端擾流板12、第一道擾流板13、第二道擾流板14、第三道擾流板15、進水口16、出水口17及排水口18。
容器10之頂部可具有開口,其可提供容置空間,以供作為盛裝液體介質使用。
進水口16可設置於容器10之側壁,出水口17則可設置於容器10之另一側壁,並可進水口16相對設置,而排水口18則可設置於容器10之底部。
進水口端擾流板11可設置於進水口16側之側壁,並可與進水口16側之側壁具有夾角,而進水口端擾流板11之下緣可低於進水口16。
出水口端擾流板12可設置於出水口17側之側壁,並可與出水口17側之側壁具有夾角,出水口端擾流板12之下緣可低於出水口。
擾流裝置1之容器10之本體內部更可包含複數個擾流板,該些擾流板可分離地安裝設置於容器10之本體內部,且其位置均可依實際需求進行調整,其中至少一個擾流板與容器10之頂部之開口切齊,並於容器10之底部呈現開口。在本實施例中,擾流裝置1可包含第一道擾流板13、第二道擾流板14、第三道擾流板15。
第一道擾流板13可設置於進水口端擾流板11之後,第一道擾流板13左右二側可分離地固定於容器10之本體內部,第一道擾流板13之上緣可低於進水口16下緣,第一道擾流板13之下緣可不與容器10之底部貼齊。
第二道擾流板14可設置於容器10之本體中間,第二道擾流板14左右二側可分離地固定於容器10之本體內部,第二道擾流板14之上緣可與容器10之本體頂部貼齊,第二道擾流板14之下緣可不與容器10之底部貼齊。
第三道擾流板15可設置於出水口端擾流板12之前,第三道擾流板15左右二側可分離地固定於容器10之本體內部,第三道擾流板15之上緣可低於進水口16之下緣,第三道擾流板之下緣可不與容器10之底部貼齊。
上述第一道擾流板13、第二道擾流板14、第三道擾流板15均可於容器10之底部呈現開口,而其開口形狀可以依據實際需求設計成各式多邊形、或是弧形、或是複數個貫穿孔的樣式。此外,上述第一道擾流板13、第二道擾流板14、第三道擾流板15為可分離地設置於容器10內部,故使用者完全可以由種植型態及實際的需求決定第一道擾流板13、第二道擾流板14、第三道擾流板15,於容器10本體內部的位置。
此外,在本實施例中,容器10可包含複數個下方斜面19,其可位於容器10之本體下方,讓容器10可呈現上方面積大,下方面積小之倒梯形體,如此可以縮短容器10邊緣與中心的距離,且使容器10周圍複數個面與底層接合處所呈現的角度小於90度。當然,在其它較佳的實施例中,容器10還可呈正方體狀、長方體狀或其它各種不同的多邊形體狀。
當然,上述僅為舉例,擾流裝置1之結構還可依實際需求進行修改變化,本創作並不以此為限。
請參閱第3圖及第4圖,係為本創作之擾流裝置之第一實施例之容器側視圖及外框剖面圖。如第4圖所示,容器10之頂部可具有開口,其可設 置多個種植板20,各個種植板20均具有種植孔201以種植植物P。
如第3圖所示,圖中虛線箭頭表示水流方向,由於由進水口16注入水流時,水流都有可能直接衝擊到離進水口16端較近的植物,而本實施例之擾流裝置1由於有設置進水口端擾流板12,故可以有效地防止水流直接衝擊到離進水口16端較近的植物,此外,水流衝擊進水口端擾流板後與空氣接觸的機會增加,因此也可增加水中溶氧。
而將水流經過進水口端擾流板11後,一開始將先經過第一道擾流板13下方通道,再由第二道擾流板14下方通道通過,再經過第三道擾流板15下方通道;而當水位逐漸上升至出水口17時,水面將會逐漸上升並陸續的漫過第一道擾流板13,並由其上方通道通過,再由第二道擾流板14下方通道通過,接著再漫過第三道擾流板15的上方通道;在水面持續上升至高過出水口17下緣後,則會流出容器10本體,透過上述的方式,擾流裝置1可有效地減少容器10底層產生淤積的情況,並有效地減緩青苔生長。
習知技術,水面上的物體將會隨水流方向前進,也就是說當容器本體內的種植板,也會隨水流方向流至出水口,或是植物的根也會隨水流流至出水口,因而影響了水流的進行。然而,本實施例之擾流裝置1由於有設置出水口端擾流板12,因此可以有效地防止出水口17被植物P的根或是種植板20堵住的情況產生。
當然,上述僅為舉例,擾流裝置1之結構還可依實際需求進行修改變化,本創作並不以此為限。
由上述可知,本實施例之擾流裝置1確實可以增加水中溶氧、改變水流方向、減少容器10底層淤積、減少青苔的生長及避免出水口17被物體堵塞的情況,確實可以解決習知技藝之技術間題而達到無法預期之功效。
請參閱第5圖及第6圖,係為本創作之擾流裝置之第二實施例之擾流 裝置之架子之側視圖及組合圖。
如第5圖所示,多個擾流裝置1可設置於梯形之架子RK上以進行種植,利用梯形之架子RK形成的高底落差來加速水流的流動。
如第6圖所示,最上方的擾流裝置1之進水口16可與供水泵浦M連接,使供水泵浦M將水流注入,最上方的擾流裝置1之出水口17可與下方鄰近的擾流裝置1進水口16連接,而其出水口17則可與其下方鄰近的擾流裝置1進水口16連接,以此類推。
當然,上述僅為舉例,擾流裝置1之設置方式及架子RK的構造可依實際需求進行修改變化,本創作並不以此為限。
可見本創作在突破先前之技術下,確實已達到所欲增進之功效,且也非熟悉該項技藝者所易於思及,其所具之進步性、實用性,顯已符合專利之申請要件,爰依法提出專利申請,懇請貴局核准本件新型專利申請案,以勵創作,至感德便。
以上所述僅為舉例性,而非為限制性者。其它任何未脫離本創作之精神與範疇,而對其進行之等效修改或變更,均應該包含於後附之申請專利範圍中。
1‧‧‧擾流裝置
10‧‧‧容器
11‧‧‧進水口端擾流板
12‧‧‧出水口端擾流板
13‧‧‧第一道擾流板
14‧‧‧第二道擾流板
16‧‧‧進水口
17‧‧‧出水口
18‧‧‧排水口
19‧‧‧下方斜面
20‧‧‧種植板
201‧‧‧種植孔
P‧‧‧植物

Claims (10)

  1. 一種擾流裝置,係包含:一容器,其頂部具有開口;一進水口,係設置於該容器之側壁;一進水口端擾流板,係設置於該進水口側之側壁,並與該進水口側之側壁具有夾角,該進水口端擾流板之下緣低於該進水口;複數個擾流板,其中至少一個該擾流板與該容器之頂部之開口切齊,並於該容器之底部呈現開口;以及一出水口,係設置於該容器之另一側壁,並該進水口相對設置。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之擾流裝置,其中該些擾流板係可分離地設置於該容器之本體內部。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之擾流裝置,更包含一排水口,係設置於該容器之底部。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之擾流裝置,其中該容器係包含複數個下方斜面。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之擾流裝置,其中該進水口高於該出水口。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之擾流裝置,其中該容器呈正方體狀、長方體狀、倒梯形體狀或多邊形體狀。
  7. 如申請專利範圍第2項所述之擾流裝置,更包含一出水口端擾流板,係設置於該出水口側之側壁,並與該出水口側之側壁具有夾角,該出水口端擾流板之下緣低於該出水口。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之擾流裝置,其中該些擾流板中之一第一道擾流板設置於該進水口端擾流板之後,該第一道擾流板左右二側固定於該容器之本體內部,該第一道擾流板之上緣低於該進水口下緣,該第一 道擾流板之下緣未與該容器之底部貼齊。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之擾流裝置,其中該些擾流板中之一第二道擾流板設置於該容器之本體中間,該第二道擾流板左右二側固定於該容器之本體內部,該第二道擾流板之上緣與該容器之本體頂部貼齊,該第二道擾流板之下緣未與該容器之底部貼齊。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之擾流裝置,其中該些擾流板中之一第三道擾流板設置於該出水口端擾流板之前,該第三道擾流板左右二側固定於該容器之本體內部,該第三道擾流板之上緣低於該進水口之下緣,該第三道擾流板之下緣未與該容器之底部貼齊。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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