TWM534654U - 鑽頭研磨結構改良 - Google Patents

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TWM534654U
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Taiwan
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TW105212903U
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Han-Nong Huang
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Vertex Machinery Works Co Ltd
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)

Description

鑽頭研磨結構改良
本新型涉及金屬加工切削刀具之研磨裝置,尤指一種鑽頭研磨機。
按,鑽頭於磨損後得須再研磨,故有鑽頭研磨機之產生,而一般習用鑽頭研磨機9,如圖8所示者,其主要係具有一底座91,且該底座91上係設有一支撐座92,而於該支撐座92裝有一砂輪93,又該砂輪93之周圍設置有一鑽頭端部研磨座94及一鑽頭中心部研磨座95,將該鑽頭套入夾具後,然後再套入該鑽頭端部研磨座94的一內孔941後,使該鑽頭的端部接觸該砂輪93並旋轉,以利用該砂輪93對鑽頭的端部研磨;待該鑽頭套入於該鑽頭中心部研磨座95的一內孔951後,使該鑽頭的中心部抵觸該砂輪93後並旋轉,以利該鑽頭中心部進行研磨。但得配合該鑽頭的外徑大小等,據以調整該鑽頭端部研磨座94、鑽頭中心部研磨座95之相關位置。
特別一提,鑽頭的外徑有各種尺寸,於研磨該鑽頭中心部時,必須視該鑽頭的外徑尺寸,據以調整該鑽頭中心部研磨座95的位置。然而,該鑽頭中心部研磨座95係直接螺鎖於該支撐座92,因兩者間的配合誤差且未設置有任何定位機制,導致該鑽頭中心部研磨座95較難調整於適當位置,進而降低鑽頭的研磨作業效率;再者,習用鑽頭研磨機9的底座91係為實心鐵件,無形中增加習用鑽頭研磨機9的整體重量,使其搬運困難。
鑑於上述習用鑽頭研磨機9之問題點,於是本新型創作人開發出一種鑽頭研磨結構改良,其主要目的在於:提供研磨鑽頭作業效率的一種鑽頭研磨結構;本新型的另一目的在於:加工組裝容易,且輕量化並降低成本的一種鑽頭研磨機。
為達上述目的,本新型運用如下技術手段:一種鑽頭研磨結構改良,係包含有:一底座,係設於一鑽頭研磨機的底部;一支撐座,係包含一橫板及一豎板,其中該豎板得結設於該橫板,而該橫板再結設於該底座,又該豎板設有一穿孔,另於該豎板的頂端一側設有一第一定位部;一研磨裝置,係裝設於該支撐座上,且該研磨裝置更包含一馬達及一砂輪,其中該馬達的轉軸得穿伸於該支撐座的豎板的穿孔後,再接設該砂輪;一鑽頭端部研磨座,係得結設於該支撐座的橫板且位於砂輪的側端;及一鑽頭中心部研磨座,係更包含有一第二定位部並得結設於該支撐座的豎板的第一定位部,致該鑽頭中心部研磨座得位於該砂輪的上方處;藉由該鑽頭中心部研磨座的第二定位部的結合於該支撐座的第一定位部,進而可微調鑽頭中心與砂輪旋轉中心的偏置距離,以利研磨該鑽頭中心部。
上述該支撐座係由該橫板、豎板係設為二件式。
上述該豎板的第一定位部與該豎板的高度、厚度分別形成有一第一落差及一第二落差;又該第一定位部設有至少一結合穿孔。
上述該第一落差的底部設有一弧形槽。
上述該第一定位部的結合穿孔係設為長橢圓孔。
上述該鑽頭中心部研磨座的第二定位部係設為L型槽狀,其中該L型槽狀具有一第三落差及一第四落差,且該第三落差、第四落差得分別對應該第一定位部的第一落差、第二落差,藉以達到精準嵌合定位之目的。
上述該底座係設為ㄇ形板型體。
本新型對照先前技術,具有如下之功效:
1、本新型係將該鑽頭中心部研磨座的第二定位部得結設於該支撐座的豎板的第一定位部,致該鑽頭中心部研磨座可很容易被使用人調整位於砂輪上方所需的相對位置處,以利研磨該鑽頭中心部,提升研磨鑽頭的研磨作業效率。
2、本新型的支撐座設為二件式,使其第一定位部具有容易加工製作及組裝之效用;另外其底座係設為ㄇ形板型體,可輕量化本新型鑽頭研磨機,並降低其製造成本者。
[本新型]
A‧‧‧鑽頭研磨機
1‧‧‧底座
2‧‧‧支撐座
21‧‧‧橫板
22‧‧‧豎板
221‧‧‧穿孔
23‧‧‧第一定位部
231‧‧‧第一落差
232‧‧‧第二落差
233‧‧‧結合穿孔
234‧‧‧弧形槽
3‧‧‧研磨裝置
31‧‧‧馬達
32‧‧‧砂輪
320‧‧‧砂輪旋轉中心
4‧‧‧鑽頭端部研磨座
5‧‧‧鑽頭中心部研磨座
51‧‧‧第二定位部
52‧‧‧第三落差
53‧‧‧第四落差
54‧‧‧螺絲
6‧‧‧鑽頭
60‧‧‧中心軸
61‧‧‧鑽頭中心部
[習用]
9‧‧‧習知鑽頭研磨機
91‧‧‧底座
92‧‧‧支撐座
93‧‧‧砂輪
94‧‧‧鑽頭端部研磨座
95‧‧‧鑽頭中心部研磨座
951‧‧‧內孔
圖1:本新型鑽頭研磨機之立體外觀圖。
圖2:本新型鑽頭研磨機內部之局部外觀圖。
圖3:本新型鑽頭研磨機內部底座、支撐座、鑽頭中心部研磨座之分解示意圖。
圖4:本新型鑽頭研磨機支撐座、鑽頭中心部研磨座之分解示意圖。
圖5:本新型鑽頭研磨機支撐座、鑽頭中心部研磨座之另一方向的分解示意圖。
圖6:本新型鑽頭研磨機研磨鑽頭中心部之示意圖。
圖7:本新型鑽頭研磨機研磨鑽頭中心部之局部放大調整圖。
圖8:習用鑽頭研磨機之示意圖。
首先,請參閱圖1至圖4所示者,本新型係關於一種鑽頭研磨結構改良,係包含有:一底座1、一支撐座2、一研磨裝置3、一鑽頭端部研磨座4及一鑽頭中心部研磨座5;其中,該底座1,係設於一鑽頭研磨機A的底部,其中該底座1係設為ㄇ形板型體並得供該支撐座2、鑽頭端部研磨座4、鑽頭中心部研磨座5裝設,如圖2所示者;該支撐座2,係包含一橫板21及一豎板22,其中該豎板22得結設於該橫板21,並呈L板,而該橫板21再結設於該底座1,又該豎板22設有一穿孔221,另於該豎板22的頂端一側設有一第一定位部23,如圖3所示者;進一步,該豎板22的第一定位部23與該豎板22的高度、厚度分別形成有一第一落差231及一第二落差232,又該第一定位部23設有至少一長橢圓孔狀的結合穿孔233,另於該第一落差231的底部設有一弧形槽234,如圖4所示者。
該研磨裝置3,係裝設於該支撐座2上,且該研磨裝置3更包含一馬達31及一砂輪32,其中該馬達31的轉軸得穿伸於該支撐座2的豎板22的穿孔221後,再接設該砂輪32,如圖2所示者;該鑽頭端部研磨座4,係得結設於該支撐座2的橫板21且位於砂輪32的側端,並依據鑽頭端面所須研磨的角度,調整該鑽頭端部研磨座4的旋轉角度,俾供鑽頭及其夾具套入該鑽頭端部研磨座4的內孔,讓該鑽頭的端面抵觸該砂輪32,如圖2所示者;及該鑽頭中心部研磨座5,係更包含有一第二定位部51並得結設於該支撐座2的豎板22的第一定位部23,致該鑽頭中心部研磨座5得位於該砂輪32的上方處;其中該鑽頭中心部研磨座5的第二定位部51係設為L型槽狀(如圖5),其中 該L型槽狀具有一第三落差52及一第四落差53,且該第三落差52、第四落差53得分別對應該第一定位部23的第一落差231、第二落差232,藉以達到精準嵌合定位之目的。
請參閱圖4及圖5所示者,藉由上述各元件所構成鑽頭研磨機A,於研磨鑽頭時,先調整該鑽頭端部研磨座4的水平旋轉角度,再將該鑽頭套入夾具後,再套入於該鑽頭端部研磨座4的內孔,然後讓該鑽頭的端部抵觸該砂輪32並旋轉研磨,以利進行研磨該鑽頭端部的鑽孔切削角度。
待研磨完該鑽頭的端部後,再將該鑽頭6套入於該鑽頭中心部研磨座5的內孔後,使該鑽頭中心部61抵觸該砂輪32後並旋轉,以利該鑽頭中心部61進行研磨,但得配合該鑽頭6的外徑大小等,據以調整該鑽頭中心部研磨座5之相關位置。而該鑽頭中心部研磨座5的調整方式,必須先鬆開螺絲54後調整該鑽頭6的中心軸60與該砂輪旋轉中心320的適當偏置距離後,再緊固各螺絲54,如圖6及圖7所示者。
綜上所述各實施例,本新型係關於一種「鑽頭研磨結構改良」,其各實施例的構成結構未曾見於諸書刊或公開使用,誠符合專利申請要件,懇請鈞局明鑑,早日准予專利,至為感禱;需陳明者,以上所述乃是本申請案之具體實施例及所運用之技術原理,若依本申請案之構想所作之改變,其所產生之功能作用仍未超出說明書及圖式所涵蓋之精神時,均應在本申請案之範圍內,合予陳明。
A‧‧‧鑽頭研磨機
1‧‧‧底座
4‧‧‧鑽頭端部研磨座
5‧‧‧鑽頭中心部研磨座

Claims (7)

  1. 一種鑽頭研磨結構改良,係包含有:一底座,係設於一鑽頭研磨機的底部;一支撐座,係包含一橫板及一豎板,其中該豎板得結設於該橫板,而該橫板再結設於該底座,又該豎板設有一穿孔,另於該豎板的頂端一側設有一第一定位部;一研磨裝置,係裝設於該支撐座上,且該研磨裝置更包含一馬達及一砂輪,其中該馬達的轉軸得穿伸於該支撐座的豎板的穿孔後,再接設該砂輪;一鑽頭端部研磨座,係得結設於該支撐座的橫板且位於砂輪的側端;及一鑽頭中心部研磨座,係更包含有一第二定位部並得結設於該支撐座的豎板的第一定位部,致該鑽頭中心部研磨座得位於該砂輪的上方處;藉由該鑽頭中心部研磨座的第二定位部的結合於該支撐座的第一定位部,進而可微調鑽頭中心與砂輪旋轉中心的偏置距離,以利研磨該鑽頭中心部。
  2. 依據申請專利範圍第1項所述鑽頭研磨結構改良,其中該支撐座係由該橫板、豎板係設為二件式。
  3. 依據申請專利範圍第1或2項所述鑽頭研磨結構改良,其中該豎板的第一定位部與該豎板的高度、厚度分別形成有一第一落差及一第二落差;又該第一定位部設有至少一結合穿孔。
  4. 依據申請專利範圍第3項所述鑽頭研磨結構改良,其中該第一落差的底部設有一弧形槽。
  5. 依據申請專利範圍第4項所述鑽頭研磨結構改良,其中該第一定位部的結合穿孔係設為長橢圓孔。
  6. 依據申請專利範圍第3項所述鑽頭研磨結構改良,其中該鑽頭中心部研磨座的第二定位部係設為L型槽狀,其中該L型槽狀具有一第三落差及一第四落差,且該第三落差、第四落差得分別對應該第一定位部的第一落差、第二落差,藉以達到精準嵌合定位之目的。
  7. 依據申請專利範圍第1或2項所述鑽頭研磨結構改良,其中該底座係設為ㄇ形板型體。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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TWD191012S (zh) 2017-11-08 2018-06-11 豪昱電子有限公司 Part of the magnetic passivation mill

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