TWM526331U - 墊體系統及其閥件 - Google Patents

Description

墊體系統及其閥件

本創作係關於一種閥件，尤指一種易於操作之流體閥件。本創作更包括應用該閥件之墊體系統。

一般內部經充氣後可供使用之物件，都是透過物件上之氣體進出口來注入或洩出氣體。在正常狀態下，為了能維持物件內部固定之氣體量，需要在氣體進出口設置對應之封閉裝置，例如栓塞、密封蓋等，使得經充氣後之物件能夠保持氣密狀態，防止氣體外洩。

然而前述物件以氣墊床、座墊等為例，在物件內部充氣過量之狀態下，往往會讓使用者感覺不適，此時便需要洩除物件內部之部分氣體。當使用者移除物件之栓塞或密封蓋後，並無法確切掌握物件之洩氣速率及洩氣量多寡，使用者必須憑自身感覺判斷以栓塞或密封蓋封閉氣體進出口之時機；一旦洩氣量過多，使用者又要再次對物件進行充氣並重覆前述操作。此外，部分栓塞或密封蓋並非與物件連接為一體，使用者在移除栓塞或密封蓋之過程中若不慎掉落或遺失，將造成使用者之困擾。

因此，如何能讓使用者在需要時有效掌控前述物件之洩氣速率及洩氣量多寡，並且提高其可操作性及便利性，實為一值得研究之課題。

本創作之目的在於提供一種具操作性且便利性之閥件。

為達上述目的，閥件包括基座、蓋體及密封件。基座包括貫通部及止擋件；蓋體包括對應止擋件及至少一開孔，蓋體可移動地結合基座，以使蓋體相對於基座移動至呈第一狀態或第二狀態；密封件位於基座之貫通部與蓋體之間。其中於第一狀態下，蓋體藉由密封件封閉貫通部，以阻隔蓋體與基座之間之流體進出；於第二狀態下，蓋體與基座之間形成至少一流體通路，以使流體可藉由至少一開孔進出，且藉由止擋件及對應止擋件以防止蓋體相對基座移動時脫離基座。

本創作更包括應用前述閥件之墊體系統。墊體系統包括墊體、基座、蓋體及密封件。墊體包括包覆件及發泡材料，包覆件包覆發泡材料；基座結合於包覆件，基座包括供流體進出之貫通部；蓋體包括至少一開孔，蓋體可移動地結合基座，以使蓋體相對於基座移動至呈第一狀態或第二狀態；密封件位於基座之貫通部與蓋體之間。其中於第一狀態下，蓋體藉由密封件封閉貫通部，以阻止墊體之流體進出；於第二狀態下，蓋體與基座之間形成至少一流體通路，以使流體可藉由至少一開孔進出墊體，且當墊體自受外力壓迫狀態解除時，藉由已變形之發泡材料恢復原狀以引導流體經由至少一開孔進入墊體。

據此，藉由閥件之設計，無論使用者如何操作，蓋體都不會脫離基座，且能提供流體進出閥件之有效控制，帶給使用者較佳之操作性及便利性；且墊體系統應用該閥件後能提供自動導入流體之效果。

由於各種態樣與實施例僅為例示性且非限制性，故在閱讀本說明書後，具有通常知識者可知在不偏離本創作之範疇下，亦可能有其他態樣與實施例。根據下述之詳細說明與申請專利範圍，將可使該等實施例之特徵及優點更加彰顯。

於本文中，係使用「一」或「一個」來描述本文所述的元件和組件。此舉只是為了方便說明，並且對本創作之範疇提供一般性的意義。因此，除非很明顯地另指他意，否則此種描述應理解為包括一個或至少一個，且單數也同時包括複數。

於本文中，用語「第一」或「第二」等類似序數詞主要是用以區分或指涉相同或類似的元件或特徵，且不必然隱含此等元件或特徵在空間或時間上的順序。應了解的是，在某些情形或組態下，序數詞可以交換使用而不影響本創作之實施。

此外，於本文中，用語「包括」、「包括」、「具有」或其他任何類似用語意欲涵蓋非排他性之包括物。舉例而言，含有複數要件的元件或結構不僅限於本文所列出之此等要件而已，而是可以包括未明確列出但卻是該元件或結構通常固有之其他要件。

請一併參考圖1至圖3。圖1為本創作之閥件第一實施例之爆炸圖；圖2為本創作之閥件第一實施例於第一狀態下之局部剖視圖；圖3為本創作之閥件第一實施例於第二狀態下之局部剖視圖。如圖1至圖3所示，閥件1包括基座10、蓋體20及密封件30，且蓋體20可移動地結合基座10。

基座10包括貫通部11及止擋件12，貫通部11設計為一類似管狀結構，且貫通部11包括外側111、內側112及開口端113。止擋件12凸設於貫通部11之外側111，此處止擋件12設計為一環狀突出結構。在本實施例中，基座10更包括第一螺紋部13。第一螺紋部13設置於貫通部11之外側111，且止擋件12介於開口端113及第一螺紋部13之間。此外，貫通部11更包括凹槽114，且凹槽114設置於貫通部11之內側112。此處凹槽114設計為一環狀凹槽，供設置密封件30。

蓋體20包括至少一開孔21、對應止擋件22、容置部23及凸件24，且對應止擋件22及凸件24均設置於容置部23內。此處對應止擋件22設計為一環狀突出結構，而容置部23形成蓋體20之一個容置空間。各個開孔21自蓋體20之外表面26貫通至容置部23；在本實施例中，各個開孔21是自蓋體20之上表面貫通至容置部23，但本創作不以此為限，例如各個開孔21也能自蓋體20之側表面或其他位置貫通至容置部23。凸件24自容置部23之頂端231朝容置部23外延伸，此處凸件24設計為一類似錐狀結構。其中於蓋體20結合基座10後，容置部23可供容置基座10之貫通部11之至少一部分，且凸件24可隨著蓋體20相對於基座10之移動而伸入貫通部11之開口端113。在本實施例中，蓋體20更包括對應第一螺紋部13之第二螺紋部25。第二螺紋部25設置於容置部23內，且對應止擋件22介於頂端231及第二螺紋部25之間。

密封件30位於基座10之貫通部11與蓋體20之凸件24之間。在本實施例中，密封件30設置於貫通部11之凹槽114內，但本創作不以此為限，例如密封件30也可以設置於蓋體20之凸件24上。此處密封件30設計為一環狀件，且密封件30採用具有彈性之塑性材料製成。

為了能清楚描述本實施例中各元件之間之移動及狀態，在圖2及圖3中以較細之線條來表示位於該剖面後方之閥件1結構部分，特此聲明。如圖2及圖3所示，在本實施例中，蓋體20結合基座10後，蓋體20之對應止擋件22會介於基座10之止擋件12及第一螺紋部13之間；因此藉由止擋件12與對應止擋件22所產生之相互止擋作用，能防止蓋體20相對基座10移動時脫離基座10，保持基座10及蓋體20之結合。蓋體20結合基座10後仍可相對於基座10移動，以呈現如圖2之第一狀態A1或如圖3之第二狀態A2。

當藉由施加外力使得蓋體20朝基座10之方向移動至第二螺紋部25接觸第一螺紋部13時，蓋體20可相對於基座10之貫通部11之中心軸旋轉，使得第二螺紋部25與第一螺紋部13彼此逐漸嚙合，直到蓋體20相對於基座10移動至如圖2所示之第一狀態A1。於第一狀態A1下，基座10之第一螺紋部13嚙合蓋體20之第二螺紋部25至一旋緊狀態，此時蓋體20之凸件24會伸入貫通部11之開口端113並壓迫密封件30，以封閉貫通部11至蓋體20之容置部23之間之流體通路，產生密閉效果。據此，於第一狀態A1下，閥件1本身會呈現阻隔流體流通之狀態，防止流體自基座10流向蓋體20或自蓋體20流向基座10。

此外，在前述第一狀態A1下，基座10之貫通部11之開口端113會抵住蓋體20之容置部23之頂端231，使得蓋體20無法再相對於基座10繼續旋緊。藉此設計，本創作之閥件1能提示使用者蓋體20已處於旋緊狀態，且防止凸件24過度伸入貫通部11而導致密封件30損壞。當然，本創作之閥件1也能採用其他方式給予使用者類似之提示效果，例如於蓋體20或/及基座10上標示刻度或標記等，供使用者判斷目前蓋體20相對於基座10之旋轉程度或位置是否適當，但本創作不以此為限。

蓋體20自第一狀態A1下，可藉由施加外力使得蓋體20相對於基座10之貫通部11之中心軸反向旋轉，使得蓋體20朝離開基座10之方向移動，以致蓋體20之凸件24不與密封件30接觸。在此情況下，凸件24並未封閉貫通部11，因此蓋體20之容置部23與基座10之貫通部11之間會形成至少一流體通路；由於至少一開孔21連通該至少一流體通路，使得流體可流經至少一流體通路並藉由至少一開孔21進出（流體流動方向如圖3中虛線箭頭所示），此時即呈現第二狀態A2。也就是說，無論此時第一螺紋部13與第二螺紋部25是否彼此嚙合，只要能形成前述至少一流體通路，均可視為蓋體20已相對於基座10移動至呈第二狀態A2。在本實施例中，以圖3所示第一螺紋部13與第二螺紋部25仍彼此嚙合之情況來說明前述之第二狀態A2，但不以本實施例為限，例如在第二狀態A2下，蓋體20之第二螺紋部25可介於基座10之第一螺紋部13及止擋件12之間。據此，閥件1本身在第二狀態A2下，會呈現容許流體流通之狀態，供流體自基座10流向蓋體20或自蓋體20流向基座10，故使用者即可藉由相對於基座10旋轉蓋體20來控制閥件1是否容許流體流通。

請一併參考圖4至圖6。圖4為本創作之閥件第二實施例之爆炸圖；圖5為本創作之閥件第二實施例於第一狀態下之局部剖視圖；圖6為本創作之閥件第二實施例於第二狀態下之局部剖視圖。如圖4所示，閥件5包括基座50、蓋體60、密封件70及彈性件80，且蓋體60可移動地結合基座50。

基座50包括貫通部51及止擋件52，貫通部51設計為一類似管狀結構，且貫通部51包括外側511、內側512及開口端513。止擋件52設置於貫通部51之開口端513。此處止擋件52設計為具有內凸緣521之環狀件。內凸緣521具有一高度，且內凸緣521面向開口端513之一側形成一斜面結構。貫通部51更包括限位部514，限位部514設置於貫通部51之內側512並遠離開口端513。在本實施例中，限位部514可設置供流體流通之穿孔514a（如圖5中限位部514之虛線部位所示），但限位部514之結構設計不以本實施例為限。

蓋體60包括至少一開孔61、容置部62及凸件63。各開孔61自蓋體60之外表面64貫通至容置部62。凸件63自外表面64朝容置部62延伸，此處凸件63設計為一類似柱狀結構，其中心軸部位可結合加強結構強度之金屬件。凸件63包括對應止擋件631、側凹陷部632及凹槽633。對應止擋件631設計為一環狀突出結構，且凹槽633設置於對應止擋件631及側凹陷部632之間。此處側凹陷部632設計為一矩形凹槽，而凹槽633設計為一環狀凹槽，其中側凹陷部632用以形成一流體通道，而凹槽633供設置密封件70。在本實施例中，側凹陷部632沿凸件63之中心軸方向之一設置長度大於止擋件52之內凸緣521之高度。其中於蓋體60結合基座50後，容置部62可供容置基座50之貫通部51之至少一部分，且凸件63可隨著蓋體60相對於基座50之移動而於貫通部51內移動。

密封件70位於基座50之貫通部51與蓋體60之凸件63之間。在本實施例中，密封件70設置於凸件63之凹槽633內，但本創作不以此為限，例如密封件70也可以設置於基座50之止擋件52上。此處密封件70設計為一環狀件，且密封件70採用具有彈性之塑性材料製成。

彈性件80位於蓋體60之容置部62內，且彈性件80之兩端分別抵接基座50之止擋件52與蓋體60之容置部62之頂端621。當基座50與蓋體60結合後，彈性件80即呈現部分受壓縮之狀態，因此藉由彈性件80以提供蓋體60相對於基座50之支撐及彈力恢復效果。

為了能清楚描述本實施例中各元件之間之移動及狀態，在圖5及圖6中以較細之線條來表示位於該剖面後方之閥件5結構部分，特此聲明。如圖5及圖6所示，在本實施例中，蓋體60結合基座50後，蓋體60之凸件63之對應止擋件631會介於基座50之止擋件52及貫通部51之限位部514之間，因此藉由止擋件52與對應止擋件631所產生之相互止擋作用，能防止蓋體60相對基座50移動時脫離基座50，保持基座50及蓋體60之結合。蓋體60結合基座50後仍可相對於基座50移動，以呈現如圖5之第一狀態B1或如圖6之第二狀態B2。此外，在本實施例中，蓋體60結合基座50後，蓋體60與貫通部51之外側511之間會形成一縫隙S。

在蓋體60不受外力影響之情況下，藉由已受壓縮之彈性件80能提供蓋體60朝離開基座50方向之支撐力，使得蓋體60帶動凸件63之對應止擋件631及密封件70，並壓迫密封件70以抵住基座50之止擋件52之斜面結構，進而產生密閉效果，封閉貫通部51至蓋體60之容置部62之間之流體通路，如圖5所示。此時蓋體60即相對於基座50移動至呈第一狀態B1。據此，閥件5本身會呈現阻隔流體流通之狀態，防止流體自基座50流向蓋體60或自蓋體60流向基座50。

蓋體60自第一狀態B1下，可藉由施加外力使得蓋體60相對於基座50朝接近基座50之方向移動，以致基座50之止擋件521不與密封件30接觸。由於基座50與蓋體60結合後，側凹陷部632沿貫通部51之軸線方向之設置長度大於止擋件52之內凸緣521之高度，在設計上使得蓋體60移動後，基座50之止擋件52之內凸緣521仍保持在凸件63之側凹陷部632之設置長度範圍內，且側凹陷部632之兩端部仍可保持流體流通而不被止擋件52之內凸緣521所阻擋。在此情況下，凸件63並未封閉貫通部51，並藉由側凹陷部632之設置而容許流體流通，因此蓋體60之容置部62與基座50之貫通部51之間會形成至少一流體通路；由於至少一開孔21、蓋體60與基座50之間形成之縫隙S以及前述設置於限位部514之穿孔514a均連通至少一流體通路，使得流體可以從穿孔514a流經至少一流體通路並自至少一開孔61或/及縫隙S流出，反之亦然（流體流動方向如圖6中虛線箭頭所示），此時即呈現第二狀態B2。也就是說，無論此時蓋體60相對於基座50之移動距離多寡，只要能形成前述至少一流體通路，均可視為蓋體60相對於基座50移動至呈第二狀態B2。

此外，在如圖6所示之第二狀態B2下，為防止蓋體60受外力過大而造成蓋體60相對於基座50之過度移動，在設計上藉由貫通部51之限位部514抵住蓋體60之凸件63，產生移動止擋效果以限制蓋體60之移動距離；且在凸件63之底部634或貫通部51之限位部514上可設置供流體通過之溝槽（圖未示），使得貫通部51之限位部514即使抵住蓋體60之凸件63，也不會阻礙流體流通。藉此設計，本創作之閥件5能提示使用者蓋體60之移動距離已移動至極限，且使用者過度施加外力而導致閥件5損壞。當然，本創作之閥件5也能採用其他方式給予使用者類似之提示效果，例如於蓋體60或/及基座50上標示刻度或標記等，供使用者判斷目前蓋體60相對於基座50之移動位置是否適當，但本創作不以此為限。

在本實施例中，於蓋體60相對於基座50移動至呈如圖6所示之第二狀態B2下，彈性件80會因為所施加外力之影響而增加其受壓縮程度。一旦外力消失後，藉由彈性件80之彈性恢復力，將會帶動蓋體60相對於基座50朝離開基座50之方向移動，進而恢復至如圖5所示之第一狀態B1。據此，使用者即可藉由按壓蓋體60使其相對於基座50移動，來控制閥件5是否容許流體流通。

以下請一併參考圖1至圖3及圖7。圖7為本創作之墊體系統之立體圖。以下舉應用前述閥件1之第一實施例為例說明墊體系統，但本創作之墊體系統所應用之閥件也能以前述閥件5之第二實施例取代，不以此為限。

如圖7所示，本創作之墊體系統9包括墊體90及前述閥件1，其中閥件1包括基座10、蓋體20及密封件30。有關閥件1之結構元件請參考圖1至圖3及前述閥件1之第一實施例之相關說明內容，在此不多加贅述。墊體90包括包覆件91及發泡材料92（如圖7中虛線部分所示）。在本實施例中，墊體90設計為一囊泡式座墊，但不以本實施例為限。包覆件91用以包覆發泡材料92，且基座10結合於包覆件91，使得流體僅能藉由基座10之貫通部11進出包覆件91。此處包覆件91可採用皮革、布料或其他紡織品等材料製成，而發泡材料92可採用泡棉等具有彈性恢復力之材料。

墊體系統9可藉由控制閥件1之蓋體20相對於基座10之移動，以呈現密閉閥件1之第一狀態A1（請參考圖2及前述第一實施例之相關內容）或容許流體通過閥件1之第二狀態A2（請參考圖3及前述第一實施例之相關內容）。其中於第一狀態A1下，蓋體20藉由密封件30封閉基座10之貫通部11，以阻止墊體90內之流體進出；於第二狀態A2下，蓋體20與貫通部11之間形成至少一流體通路，且藉由至少一開孔21連通至少一流體通路，使得流體可流經至少一流體通路並藉由蓋體20之至少一開孔21進出墊體90。

當閥件1處於第二狀態A2下，若是墊體90受外力壓迫而擠壓內部之發泡材料92產生變形，保持於墊體90之流體會因為外力影響而經由至少一流體通路自至少一開孔21流出墊體90外部；而當墊體90自受外力壓迫狀態解除時，由於發泡材料92本身具有一定彈性，已變形之發泡材料92會逐漸恢復原狀並使得墊體90產生一股吸力，進而引導流體自閥件1之至少一開孔21經由至少一流體通路進入墊體90內，形成一自動充氣之效果。

以上實施方式本質上僅為輔助說明，且並不欲用以限制申請標的之實施例或該等實施例的應用或用途。此外，儘管已於前述實施方式中提出至少一例示性實施例，但應瞭解本創作仍可存在大量的變化。同樣應瞭解的是，本文所述之實施例並不欲用以透過任何方式限制所請求之申請標的之範圍、用途或組態。相反的，前述實施方式將可提供本領域具有通常知識者一種簡便的指引以實施所述之一或多種實施例。再者，可對元件之功能與排列進行各種變化而不脫離申請專利範圍所界定的範疇，且申請專利範圍包含已知的均等物及在本專利申請案提出申請時的所有可預見均等物。

1‧‧‧閥件
10‧‧‧基座
11‧‧‧貫通部
111‧‧‧外側
112‧‧‧內側
113‧‧‧開口端
114‧‧‧凹槽
12‧‧‧止擋件
13‧‧‧第一螺紋部
20‧‧‧蓋體
21‧‧‧開孔
22‧‧‧對應止擋件
23‧‧‧容置部
231‧‧‧頂端
24‧‧‧凸件
25‧‧‧第二螺紋部
26‧‧‧外表面
30‧‧‧密封件
A1‧‧‧第一狀態
A2‧‧‧第二狀態
5‧‧‧閥件
50‧‧‧基座
51‧‧‧貫通部
511‧‧‧外側
512‧‧‧內側
513‧‧‧開口端
514‧‧‧限位部
514a‧‧‧穿孔
52‧‧‧止擋件
521‧‧‧內凸緣
60‧‧‧蓋體
61‧‧‧開孔
62‧‧‧容置部
621‧‧‧頂端
63‧‧‧凸件
631‧‧‧對應止擋件
632‧‧‧側凹陷部
633‧‧‧凹槽
634‧‧‧底部
64‧‧‧外表面
70‧‧‧密封件
80‧‧‧彈性件
B1‧‧‧第一狀態
B2‧‧‧第二狀態
S‧‧‧縫隙

圖1為本創作之閥件第一實施例之爆炸圖。 圖2為本創作之閥件第一實施例於第一狀態下之局部剖視圖。 圖3為本創作之閥件第一實施例於第二狀態下之局部剖視圖。 圖4為本創作之閥件第二實施例之爆炸圖。 圖5為本創作之閥件第二實施例於第一狀態下之局部剖視圖。 圖6為本創作之閥件第二實施例於第二狀態下之局部剖視圖。 圖7為本創作之墊體系統第一實施例之立體圖。

1‧‧‧閥件

10‧‧‧基座

11‧‧‧貫通部

111‧‧‧外側

112‧‧‧內側

113‧‧‧關口端

114‧‧‧凹槽

12‧‧‧止擋件

13‧‧‧第一螺紋部

20‧‧‧蓋體

21‧‧‧開孔

26‧‧‧外表面

30‧‧‧密封件

Claims (18)

1. 一種閥件，用以控制一流體之進出，該閥件包括： 一基座，包括一貫通部及一止擋件； 一蓋體，包括一對應止擋件及至少一開孔，該蓋體可移動地結合該基座，以使該蓋體相對於該基座移動至呈一第一狀態或一第二狀態；以及 一密封件，位於該基座之該貫通部與該蓋體之間； 其中藉由該止擋件及該對應止擋件以防止該蓋體相對該基座移動時脫離該基座；於該第一狀態下，該蓋體藉由該密封件封閉該貫通部，以阻隔該蓋體與該基座之間之該流體進出；於該第二狀態下，該蓋體與該貫通部之間形成至少一流體通路，且藉由該至少一開孔連通該至少一流體通路。
2. 如請求項1所述之閥件，其中該蓋體更包括一容置部及一凸件，該容置部供容置該貫通部之至少一部分，且該凸件可伸入該貫通部；該凸件及該對應止擋件設置於該容置部內，且該至少一開孔自該蓋體之一外表面貫通至該容置部。
3. 如請求項2所述之閥件，其中該基座更包括一第一螺紋部，且該止擋件及該第一螺紋部設置於該貫通部之該外側；該蓋體包括對應該第一螺紋部之一第二螺紋部，且該對應止擋件及該第二螺紋部設置於該容置部內。
4. 如請求項3所述之閥件，其中該貫通部包括一凹槽，設置於該貫通部之一內側，且該密封件設置於該凹槽內；於該第一狀態下，該基座之該第一螺紋部嚙合該蓋體之該第二螺紋部至一旋緊狀態，以使該凸件伸入該貫通部以藉由該密封件封閉該貫通部。
5. 如請求項4所述之閥件，其中於該第一狀態下，該貫通部抵住該容置部之一頂端，以提示該蓋體已處於該旋緊狀態。
6. 如請求項3所述之閥件，其中於該第二狀態下，該蓋體之該第二螺紋部介於該基座之該第一螺紋部及該止擋件之間，且該凸件未封閉該貫通部以使該容置部與該貫通部之間形成該至少一流體通路。
7. 一種墊體系統，包括： 一墊體，包括一包覆件及一發泡材料，該包覆件包覆該發泡材料； 一基座，結合於該包覆件，該基座包括供一流體進出之一貫通部及一止擋件； 一蓋體，包括一對應止擋件，該蓋體可移動地結合該基座，以使該蓋體相對於該基座移動至呈一第一狀態或一第二狀態；以及 一密封件，位於該基座之該貫通部與該蓋體之間； 其中藉由該止擋件及該對應止擋件以防止該蓋體相對該基座移動時脫離該基座；於該第一狀態下，該蓋體藉由該密封件封閉該貫通部，以阻止該墊體之該流體進出；於該第二狀態下，該蓋體與該貫通部之間形成至少一流體通路，以使該流體可經由該至少一流體通路進出該墊體，且當該墊體自一受外力壓迫狀態解除時，藉由已變形之該發泡材料恢復原狀以引導該流體經由該至少一流體通路進入該墊體。
8. 如請求項7所述之墊體系統，其中該蓋體更包括一容置部、一凸件及至少一開孔，該容置部供容置該貫通部之至少一部分，且該凸件可伸入該貫通部；該至少一開孔自該蓋體之一外表面貫通至該容置部，以藉由該至少一開孔連通該至少一流體通路。
9. 如請求項8所述之墊體系統，其中該基座更包括一第一螺紋部，且該止擋件及該第一螺紋部設置於該貫通部之該外側；該蓋體包括對應該第一螺紋部之一第二螺紋部，且該對應止擋件及該第二螺紋部設置於該容置部內。
10. 如請求項9所述之墊體系統，其中該貫通部包括一凹槽，設置於該貫通部之一內側，且該密封件設置於該凹槽內；於該第一狀態下，該基座之該第一螺紋部嚙合該蓋體之該第二螺紋部至一旋緊狀態，以使該凸件伸入該貫通部以藉由該密封件封閉該貫通部。
11. 如請求項10所述之墊體系統，其中於該第一狀態下，該貫通部抵住該容置部之一頂端，以提示該蓋體已處於該旋緊狀態。
12. 如請求項9所述之墊體系統，其中於該第二狀態下，該蓋體之該第二螺紋部介於該基座之該第一螺紋部及該止擋件之間，且該凸件未封閉該貫通部以使該容置空間與該貫通部之間形成該至少一流體通路。
13. 如請求項8所述之墊體系統，更包括一彈性件，該彈性件之兩端分別抵接該基座與該蓋體；其中該蓋體與該貫通部之間形成一縫隙，於該第二狀態下，該縫隙連通該至少一流體通路，且該蓋體可藉由該彈性件之彈性恢復力自該第二狀態相對於該基座移動回復至呈該第一狀態。
14. 如請求項13所述之墊體系統，其中該止擋件設置於該貫通部之一開口端，且該對應止擋件設置於該凸件上。
15. 如請求項13所述之墊體系統，其中該凸件包括一凹槽，且該密封件設置於該凹槽內；於該第一狀態下，該彈性件支撐該蓋體，以使伸入該貫通部之該凸件藉由該密封件封閉該貫通部。
16. 如請求項13所述之墊體系統，其中該凸件更包括一側凹陷部，於該第二狀態下，該凸件未密封該貫通部以使該容置部、該側凹陷部與該貫通部之間形成該至少一流體通路。
17. 如請求項16所述之墊體系統，其中該止擋件包括一內凸緣，且該側凹陷部沿該貫通部之一軸線方向之一設置長度大於該內凸緣之一高度。
18. 如請求項13所述之墊體系統，其中該凸件更包括一底部，且該基座更包括設置於該貫通部內之一限位部；於該第二狀態下，藉由該限位部抵住該底部，以提供該基座對該蓋體之移動止擋效果。