TWM517058U - 流體拋光裝置 - Google Patents

Description

流體拋光裝置

　　本創作係與流體研磨加工機(Abrasive flow Machining,AFM)有關，尤指一種可同時進行多工件拋光工作之流體拋光裝置。

　　按，傳統的工件拋光方式，多以人力手持拋光機，沿工件表面方向進行打磨拋光，以獲得光亮的加工表面，然而以人工方式進行拋光工作，勢必會受限於操作者的技術，使得拋光品質難以確保；再者，針對一些細小或複雜形狀之工件，也無法以人工方式來進行拋光。
　　而流體研磨加工機(Abrasive flow Machining,AFM)提供一種自動化的拋光加工方式，如第５圖所示，其主要是利用將磨料５１(摻有磨粒的一種可流動的混合物)灌注在一通道５２中，並於該通道５２中藉由呈相對設置之活塞５３所提供的壓力作用，使該通道５２中之磨料５１可往復流過設置於該通道５２中之工件５４所需加工的表面，以進行去除毛邊、殘留屑渣、磨圓角等作業，並減少工件表面的粗糙度，以達到精密加工的光潔度及平坦度，對於體積較小或形狀複雜的工件，以及以其他方法難以加工的部位是較佳的加工方法。惟，以此種流體研磨加工機所提供之拋光方式，會受限於其加工通道５２之限制，而無法同時進行多工件之拋光工作，並進而導致其加工效率並不理想。
　　有鑑於此，故如何改進上述問題，即為本創作之首要課題，因此，本案創作人係經過不斷的苦思與試作後，才終於有本創作之產生。

　　本創作之主要目的，在於提供一種流體拋光裝置，其係具有可同時進行多工件拋光工作之功效。
　　為達前述之目的，本創作提供一種流體拋光裝置，其包含有：
　　一直立柱，沿一軸向延伸有一預定高度；
　　一旋轉槽，具有一沿著該旋轉槽之中心位置圈繞的環形槽道，並於該旋轉槽之中心位置形成有一環形牆，且該旋轉槽以其環形牆相對樞設於該直立柱上，使該旋轉槽可受一外力驅動而繞著該直立柱旋轉；
　　至少一升降機構，設於該旋轉槽之相對上方，該升降機構包括有一可沿著該直立柱之軸向進行上下升降動作之滑座，且該滑座向外延伸有一懸架，並於該懸架之下方懸吊有一可供設置有至少一工件之工件治具，且該工件治具與該旋轉槽之環形槽道呈上下相對設置，使該工件治具可受該滑座之帶動而向下進入於該旋轉槽之環形槽道中。
　　較佳地，該直立柱之周側係呈放射狀等距環設有多個升降機構。
　　較佳地，該懸架之上方接設有一傳動馬達，且該傳動馬達具有一向下延伸之傳動軸，該傳動軸並用以與該工件治具相互連接，使該傳動馬達驅動其傳動軸運轉時，可同步帶動與其相接之工件治具進行一旋轉動作。
　　更進一步地，如該工件治具向外延伸形成有多個支臂，且於每一支臂上分別樞設有一夾具，該各夾具可分別用以固定一工件，使該各夾具受到外力撥動時，該各夾具更可分別相對其支臂而樞轉。
　　而本創作之上述目的與優點，不難從下述所選用實施例之詳細說明與附圖中，獲得深入了解。

（習用部分）
５１‧‧‧磨料
５２‧‧‧通道
５３‧‧‧活塞
５４‧‧‧工件
（本創作部分）
１１‧‧‧直立柱
２１‧‧‧旋轉槽
２２‧‧‧環形槽道
２３‧‧‧環形牆
２４‧‧‧組接孔
３１‧‧‧升降機構
３２‧‧‧滑座
３３‧‧‧懸架
３４‧‧‧工件治具
３４１‧‧‧支臂
３４２‧‧‧夾具
３５‧‧‧傳動馬達
３６‧‧‧傳動軸
４１‧‧‧流體磨料
４２‧‧‧從動齒盤
４３‧‧‧傳動齒盤
４４‧‧‧工件

　　第１圖係本創作之結構示意圖。
　　第２圖係本創作另一視角之結構示意圖。
　　第３圖係本創作之使用狀態示意圖。
　　第４圖係本創作另一視角之使用狀態示意圖。
　　第５圖係習用流體研磨加工機之作動示意圖。

　　請參閱第１～２圖所示，為本創作所提供之一種流體拋光裝置，其主要係由一直立柱１１、一旋轉槽２１以及多個環設於該直立柱１１周側之升降機構３１所組成，其中：
　　該直立柱１１，呈向上垂直延伸之直立柱狀，而沿其軸向延伸有一預定高度。
　　該旋轉槽２１，呈圓環狀，且該旋轉槽２１具有一以該旋轉槽２１之中心位置為圓心，而沿著該旋轉槽２１之中心外周圈繞的環形槽道２２，並於該旋轉槽２１之中心位置形成有一環形牆２３，該環形牆２３之內緣圈圍形成有一組接孔２４，且該旋轉槽２１以其環形牆２３之組接孔２４相對樞設於該直立柱２１之外周上，使該旋轉槽２１可受一外力驅動而相對繞著該直立柱１１旋轉。
　　該各升降機構３１，呈放射狀等距環設於該直立柱１１之周側且位於該旋轉槽２１之相對上方，該各升降機構３１分別包括有一可沿著該直立柱１１之軸向進行上下升降動作之滑座３２，其中，各該滑座３２可分別藉由導螺桿（圖中未示）之傳動方式，而沿著該直立柱１１之軸向進行往復之上下升降動作，且該滑座３２向外延伸形成有一懸架３３，並於該懸架３３之下方懸吊有一可供設置有至少一工件之工件治具３４，且該工件治具３４係與該旋轉槽２１之環形槽道２２呈上下相對設置，使該工件治具３４可受該滑座３２之帶動而向下進入於該旋轉槽２１之環形槽道２２中。於本實施例中，該各懸架３３之上方更分別接設有一傳動馬達３５，且該各傳動馬達３５分別具有一向下延伸之傳動軸３６，該傳動軸３６並用以與該工件治具３４相互連接，使該各傳動馬達３５驅動其傳動軸３６運轉時，可同步帶動與其相接之工件治具３４進行一旋轉動作；而該各工件治具３４並分別向外延伸形成有多個支臂３４１，且於每一支臂３４１上分別樞設有一夾具３４２，該各夾具３４２可分別用以固定一工件，且在該各夾具３４２受到外力撥動時，該各夾具更可分別相對其支臂３４１而樞轉。
　　而藉由上述結構所組成之本創作於實際使用時，如第３圖所示，首先係於該旋轉槽２１之環狀槽道２２中裝填有適當之流體磨料４１，其中，該流體磨料４１是由一種具有黏彈性、柔軟性和切割性的半固態載體和一定量的磨砂料攪拌而成，而磨砂料可由碳化珪素、氧化鋁、碳化硼或鑽石的砂粒構成，並可依據不同的拋光需求自行選用不同黏度的載體、不同的磨砂種類或不同的磨粒大小；另於本實施例中，係於該旋轉槽２１之底部固設有一從動齒盤４２，該從動齒盤４２用以與一傳動齒盤４３相接，當以一外力(例如馬達)驅動該傳動齒盤４３運轉時，即可同步帶動該從動齒盤４２與該旋轉槽２１相對繞著該直立柱１１旋轉。
　　且當該各升降機構３１之工件治具３４於受相對應之滑座３２帶動而向下進入於該旋轉槽２１之環形槽道２２中時，各該工件治具３４之夾具３４２所固定之工件４４即會相對浸入於該流體磨料４１中。接著如第４圖所示，由於該旋轉槽２１係進行著繞著該直立柱１１旋轉之動作，而使其環形槽道２２中所裝填之流體磨料４１可隨著此一旋轉動作同動，進而使該流體磨料４１可產生一循環流動之效果（如第４圖之箭頭方向所示），如此一來，置於該流體磨料４１中之工件４４即可受該流體磨料４１循環流動之往復沖刷，而進行去除毛邊、殘留屑渣、磨圓角等作業，以達到精密加工的光潔度及平坦度之加工要求。而由於本創作係於該直立柱１１之周側環設有多個升降機構３１，且該各升降機構３１之工件治具３４又分別延伸形成有多個可供夾持固定工件４４之支臂３４１，使本創作所提供之流體拋光裝置可達到同時進行多工件拋光工作之功效，並進而具有極佳之工作效率。
　　又，本創作所提供之流體拋光裝置更可藉由驅動位於該各升降機構３１上之傳動馬達３５，使與該傳動馬達３５相接之工件治具３４可以該傳動馬達３５之傳動軸３６為軸心而自行進行旋轉，並藉此即可用以增加該各工件治具３４所固定之工件４４與該流體磨料４１間之摩擦，而大幅提升其加工效率；再者，本創作該各工件治具３４之每一支臂３４１上的夾具３４２皆是以樞接方式設於相對應之支臂３４１上，因此當該各夾具３４２上之工件４４於受流體磨料４１沖刷時，該各夾具３４２上之工件４４更可分別相對其支臂３４１而產生樞轉，進而使工件４４之各個表面都可均勻地受到該流體磨料４１之沖刷，以確保其拋光之加工品質。
　　惟，以上實施例之揭示僅用以說明本創作，並非用以限制本創作，故舉凡等效元件之置換仍應隸屬本創作之範疇。
　　綜上所述，係可使熟知本項技藝者明瞭本創作的確可達成前述目的，實已符合專利法之規定，故依法提出申請。

11‧‧‧直立柱

21‧‧‧旋轉槽

22‧‧‧環形槽道

23‧‧‧環形牆

24‧‧‧組接孔

31‧‧‧升降機構

32‧‧‧滑座

33‧‧‧懸架

34‧‧‧工件治具

341‧‧‧支臂

342‧‧‧夾具

35‧‧‧傳動馬達

36‧‧‧傳動軸

Claims (5)

1. 一種流體拋光裝置，包含有：
   　　一直立柱，沿一軸向延伸有一預定高度；
   　　一旋轉槽，具有一沿著該旋轉槽之中心位置圈繞的環形槽道，並於該旋轉槽之中心位置形成有一環形牆，且該旋轉槽以其環形牆相對樞設於該直立柱上，使該旋轉槽可受一外力驅動而繞著該直立柱旋轉；
   　　至少一升降機構，設於該旋轉槽之相對上方，該升降機構包括有一可沿著該直立柱之軸向進行上下升降動作之滑座，且該滑座向外延伸有一懸架，並於該懸架之下方懸吊有一可供設置有至少一工件之工件治具，且該工件治具與該旋轉槽之環形槽道呈上下相對設置，使該工件治具可受該滑座之帶動而向下進入於該旋轉槽之環形槽道中。
2. 如請求項１所述之流體拋光裝置，其中，該直立柱之周側環設有多個呈放射狀等距排列之升降機構。
3. 如請求項１所述之流體拋光裝置，其中，該懸架之上方接設有一傳動馬達，且該傳動馬達具有一向下延伸之傳動軸，該傳動軸並用以與該工件治具相互連接，使該傳動馬達驅動其傳動軸運轉時，可同步帶動與其相接之工件治具進行一旋轉動作。
4. 如請求項１或３所述之流體拋光裝置，其中，該工件治具向外延伸形成有多個支臂，且於每一支臂上分別設有一夾具，該各夾具可分別用以固定一工件。
5. 如請求項４所述之流體拋光裝置，其中，該各夾具係分別樞設於相對應之支臂上，使該各夾具受到外力撥動時，該各夾具更可分別相對其支臂而樞轉。