TWM499554U - 臨場真空測漏系統 - Google Patents

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TWM499554U
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vacuum
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Te-Hsien Kao
Meng-Chun Tsou
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Te-Hsien Kao
Meng-Chun Tsou
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Description

臨場真空測漏系統
本創作係關於一種臨場真空測漏(In-Situ Air Leak Checking)系統,應用於一枚葉式真空機台(Cluster-type Vacuum Tool)。
以往在真空環境下,即時監測真空腔體是否有外漏發生,通常是使用氣體感知器(Gas Detector)偵測腔體(chamber)中氣體的濃度變化(concentration record),再依據這些氣體的濃度變化來判斷是否外漏。依據現有的即時的測漏技術,在廣域的真空壓力環境下,例如當真空腔體內的真空壓力大於10-4 陶爾(Torr)而至一大氣壓之間時,無法執行即時的真空腔體是否有外漏的偵測,也無法進而得知此真空腔體的外漏程度。
例如,在枚葉式機台中,氣體感知器對氣體的偵測常會被製程腔(Process Chamber)與傳輸腔(Transfer Chamber)之間的閥門開或關(Valve Open/Closed)的動作而受影響,造成誤判或偵測不到漏(Leak)。
本揭露實施例可提供關於一種臨場真空測漏系統。
本創作提供一種臨場真空測漏系統,應用於一枚葉式真空機台。根據一實施例,此真空測漏系統可包含一氧氣感測器(oxygen sensor)、一閥門動作感知單元(valve state sensing unit)、以及一控制單元。此氧氣感測器偵測此枚葉式真空機台的一真空腔體內的氧氣含量,從而輸出關於該氧氣含量的一第一資訊。此閥門動作感知單元偵測此枚葉式真空機台中閥門開或關狀態,從而輸出關於此閥門開或關狀態的一第二資訊。此控制單元分別連接至該氧氣感測器及該閥門動作感知單元,以分別接收該第一資訊及該第二資訊,並且依據該第一資訊及該第二資訊,判斷出該枚葉式真空機台是否有外漏發生。
茲配合下列圖示、實施例之詳細說明及申請專利範圍,將上述及本創作之其他優點詳述於後。
10‧‧‧臨場真空測漏系統
11‧‧‧氧氣感測器
12‧‧‧閥門動作感知單元
13‧‧‧控制單元
14‧‧‧第一資訊
15‧‧‧第二資訊
21‧‧‧氧氣感測器偵測此真空腔體內的氧氣含量,從而輸出關於該氧氣含量的第一資訊
22‧‧‧啟動閥門動作感知單元來偵測閥門開或關狀態,從而輸出關於該閥門開或關狀態的第二資訊
23‧‧‧接收氧氣感測器偵測的氧氣含量的第一資訊以及閥門動作感知單元的關於閥門開或關狀態的第二資訊,判斷此真空腔體是否發生氣體外漏
31、32、33、34‧‧‧腔體
35‧‧‧真空腔體
41、42、43、44‧‧‧閥門
51‧‧‧訊號線
52‧‧‧傳輸線
第一圖是根據本揭露的一實施例,說明一種臨場真空測漏系統,應用於一枚葉式真空機台。
第二圖是根據本揭露的一實施例,說明臨場真空測漏系統的運作流程。
第三圖是根據本揭露的一實施例,舉一範例說明臨場真空 測漏系統搭配一枚葉式真空機台真空腔體來判斷真空腔體的外漏程度。
第四圖是根據本揭露的一實施例,舉一範例說明利用氧氣感測器輸出的第一資訊及利用閥門動作感知單元輸出的第二資訊,判斷出真空腔體是否發生氣體外漏的實驗顯示結果。
以下,參考伴隨的圖式,詳細說明依據本揭露的實施例,俾使本領域者易於瞭解。所述之創作可以採用多種變化的實施方式,當不能只限定於這些實施例。本揭露省略已熟知部分(well-known part)的描述,並且相同的參考號於本揭露中代表相同的元件。
依據本揭露的實施例,本創作提供一種臨場真空測漏系統,應用於一枚葉式真空機台。此臨場真空測漏系統可包含一氧氣感測器、一閥門動作感知單元、以及一控制單元,並且當此枚葉式真空機台內的真空壓力大於10-4 陶爾而至一大氣壓之間時,能即時監測此枚葉式真空機台是否發生大氣外漏。換句話說,相較於既有的測漏系統常造成誤判或偵測不到漏,本創作之臨場真空測漏系統是一種枚葉式與低中度的真空即時測漏的系統。
第一圖是根據本揭露的一實施例,說明一種臨場真空測漏系統,應用於一枚葉式真空機台。參考第一圖,此臨 場真空測漏系統10包含一氧氣感測器11、一閥門動作感知單元12、以及一控制單元13,其中氧氣感測器11偵測枚葉式真空機台(未示於圖式)的一真空腔體內的氧氣含量。閥門動作感知單元12偵測該枚葉式真空機台的閥門開或關狀態。控制單元13連接氧氣感測器11以接收氧氣感測器11偵測到關於氧氣含量的一第一資訊14;控制單元13連接閥門動作感知單元12以接收閥門動作感知單元12偵測到關於閥門開/關狀態的一第二資訊15;並且,控制單元13依據第一資訊14與第二資訊15來判斷出該枚葉式真空機台是否有外漏發生,及/或外漏程度。
依據本揭露的實施例,氧氣感測器11偵測枚葉式真空機台的一真空腔體內的氧氣含量。閥門動作感知單元12可偵測到枚葉式真空機台的閥門開或關狀態,此閥門開或關狀態例如是製程腔與傳輸腔之間的閥門開或關狀態。
承上述,當控制單元13接收氧氣感測器11輸出的第一資訊14及閥門動作感知單元12輸出的第二資訊15後,控制單元13依據第一資訊14及第二資訊15,判斷出真空腔體的外漏程度,即可判斷出枚葉式真空機台的真空腔體是否有外漏發生。因此,本創作的測漏系統能從一個大氣壓至10-4 陶爾真空壓力時,皆能即時監測此真空腔體是否有外漏發生。換句話說,可依據第一資訊來判斷枚葉式真空機台氧氣含量,並且還可依據第二資訊,即枚葉式真空 機台的閥門開/關狀態,將第一、第二資訊整合後,得知真空腔體的外漏程度。
依據本揭露的實施例,控制單元13還可以傳送系統啟動的訊息以啟動臨場真空測漏系統10,控制氧氣感測器11來執行偵測氣體含量,以及啟動閥門動作感知單元12來判斷真空腔體內氣體的外漏程度。第二圖是根據本揭露的一實施例,說明臨場真空測漏系統10的運作流程。參考第二圖,臨場真空測漏系統10被啟動後,氧氣感測器11偵測此真空腔體內的氧氣含量,從而輸出關於該氧氣含量的第一資訊14(步驟21);控制單元13啟動閥門動作感知單元12來偵測閥門開或關狀態,從而輸出關於該閥門開或關狀態的第二資訊15(步驟22)。控制單元13接收氧氣感測器11偵測的氧氣含量的第一資訊以及閥門動作感知單元12的關於閥門開或關狀態的第二資訊15,判斷此真空腔體是否發生氣體外漏(步驟23)。
依據本揭露的一實施例,氧氣感測器11可安裝於真空腔體上,並利用一訊號線連接至控制單元13,氧氣感測器11可經由此訊號線將關於該氧氣含量的第一資訊14輸出至控制單元13。閥門動作感知單元12可安裝於枚葉式真空機台上,並利用一傳輸線連接至控制單元13,再經由此傳輸線將關於閥門開或關狀態的第二資訊15輸出至控制單元13。
控制單元13還可連接一顯示單元,來顯示被偵測出的或判斷出的結果、或警告訊息、或結果與警告訊息皆備。根據前述所載,該被偵測出與被判斷出的結果至少包括該氧氣含量所產生的分壓、以及該外漏程度。此結果顯示方式例如是,但不限定於,聲音、燈號或數字等顯示方式。例如,此顯示單元可顯示被偵測出的該氧氣含量所產生的分壓數值以及該閥門開或關狀態,及/或以聲音、燈號來顯示真空腔體內的氣體的外漏程度。例如蜂鳴器不響係顯示真空腔體無發生氣體外漏、蜂鳴器響係顯示真空腔體發生氣體外漏並以燈號來顯示如警告訊息等。
第三圖是根據本揭露的一實施例,舉一範例說明臨場真空測漏系統搭配一枚葉式真空機台真空腔體來判斷真空腔體的外漏程度。參考第三圖,臨場真空測漏系統10的氧氣感測器11連接枚葉式真空機台的真空腔體35,以偵測此真空腔體35中的氣體含量。如之前所述,氧氣感測器11利用一訊號線51連接至控制單元13,氧氣感測器11可經由此訊號線51將關於該氧氣含量的第一資訊14輸出至控制單元13。在第三圖的範例中,真空腔體35可經由多個閥門(例如閥門41、42、43及44)分別與枚葉式真空機台的多個腔體(例如腔體31、32、33及34)的各個腔體連接。如之前所述,閥門動作感知單元12可安裝在枚葉式真空機台上,並利用一傳輸線52連接至控制單元13,再經由此傳輸線52將關 於此多個閥門(例如第三圖範例中的閥門41、42、43及44)的開或關狀態的第二資訊15輸出至控制單元13。閥門動作感知單元12係以,但不限定於,硬體、或軟體、或硬體及軟體皆備來實現。
第四圖是根據本揭露的一實施例,舉一範例說明利用氧氣感測器輸出的第一資訊及利用閥門動作感知單元12輸出的第二資訊,判斷出真空腔體是否發生氣體外漏的實驗顯示結果。參考第四圖的範例,氧氣感測器11輸出第一資訊14,此第一資訊14可包含氧氣濃度(百萬分比濃度,ppm),如第四圖的範例所示。在第四圖的範例中,閥門A和閥門B的狀態都是關的狀態時,真空腔體中的氧氣濃度小於0.1ppm,可以判斷出真空腔體無發生氣體外漏。閥門A的狀態是開的狀態並且閥門B的狀態是關的狀態時,真空腔體中的氧氣濃度大於0.1ppm,可以判斷出真空腔體有發生氣體外漏。閥門A的狀態是關的狀態並且閥門B的狀態是開的狀態時,真空腔體中的氧氣濃度小於0.1ppm,可以判斷出真空腔體無發生氣體外漏。而再一次地,閥門A的狀態是開的狀態並且閥門B的狀態是關的狀態時,真空腔體中的氧氣濃度大於0.1ppm,可以判斷出真空腔體有發生氣體外漏。
如之前所述,根據本揭露的實施例,顯示單元之結果顯示方式例如是聲音、燈號或數字等。在第四圖的範例中,顯示單元可顯示被偵測出的氧氣濃度的數值,及/或以聲音 顯示真空腔體內的氣體的外漏程度,如蜂鳴器不響係顯示真空腔體無發生氣體外漏、蜂鳴器響係顯示真空腔體發生氣體外漏並以燈號來顯示如警告訊息等。
以上所述者皆僅為本揭露實施例,不能依此限定本創作實施之範圍。大凡本創作申請專利範圍所作之均等變化與修飾,皆應屬於本創作專利涵蓋之範圍。
10‧‧‧臨場真空測漏系統
11‧‧‧氧氣感測器
12‧‧‧閥門動作感知單元
13‧‧‧控制單元
14‧‧‧第一資訊
15‧‧‧第二資訊

Claims (11)

  1. 一種臨場真空測漏系統,應用於一枚葉式真空機台,包含:一氧氣感測器,偵測該枚葉式真空機台的一真空腔體內的氧氣含量,從而輸出關於該氧氣含量的一第一資訊;一閥門動作感知單元,偵測該真空腔體的閥門開或關狀態,從而輸出關於閥門開或關狀態的一第二資訊;以及一控制單元,分別連接至該氧氣感測器及該閥門動作感知單元,以分別接收該第一資訊及該第二資訊,並且依據該第一資訊及該第二資訊,判斷出該真空腔體內的氣體的外漏程度。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之臨場真空測漏系統,其中該控制單元還傳送系統啟動的訊息以啟動該臨場真空測漏系統。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之臨場真空測漏系統,其中該控制單元還控制該氧氣感測器來執行偵測氧氣含量。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之臨場真空測漏系統,其中該控制單元傳送系統啟動的訊息以啟動該閥門動作感知單元,偵測該真空腔體的該閥門開或關狀態,以判斷該真空腔體內的氣體的外漏程度。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之臨場真空測漏系統,其中該控制單元還連接一顯示單元,來顯示被偵測出與被判斷出的結果、或警告訊息、或結果與警告訊息皆備。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之臨場真空測漏系統,其中該真空腔體經由多個閥門分別與該枚葉式真空機台的多個腔體的各個腔體連接。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之臨場真空測漏系統,其中該被偵測出與被判斷出的結果至少包括該氧氣含量所產生的分壓、以及該外漏程度。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之臨場真空測漏系統,其中該閥門開或關狀態是一製程腔與一傳輸腔之間的閥門開或關狀態。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之臨場真空測漏系統,其中該氧氣感測器安裝於該真空腔體上,並利用一訊號線連接至該控制單元,該氧氣感測器經由該訊號線將關於該氧氣含量的第一資訊輸出至該控制單元。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之臨場真空測漏系統,其中該閥門動作感知單元安裝於該枚葉式真空機台上,並利用一傳輸線連接至該控制單元,再經由該傳輸線將關於該閥門開或關狀態的第二資訊輸出至該控制單元。
  11. 如申請專利範圍第1項所述之臨場真空測漏系統,其中該閥門動作感知單元係以硬體、或軟體、或硬體及軟體皆備來實現。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112639596A (zh) * 2018-08-29 2021-04-09 默克专利股份有限公司 用包含至少一种液晶材料的介质填充液晶盒的方法和设备

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