TWM498203U - 基材固定裝置與濺鍍設備 - Google Patents

Description

基材固定裝置與濺鍍設備

本新型是有關於一種固定裝置與濺鍍設備，特別是指一種可用於固定欲鍍膜基材的基材固定裝置與濺鍍設備。

已知的真空濺鍍法鍍膜，其原理是在一個真空腔體中，透過離子束、電漿或電弧等方式，衝擊靶材(Target)表面，使靶材原子飛出，並沉積、附著在目標基材(Substrate)的表面上，以能形成薄膜。

參閱圖1，一般的真空濺鍍設備，包括一個反應腔體(圖未示)，及一個可移動地直立設置於該反應腔體內並用以承載數個基材8的基材固定裝置9。該基材固定裝置9包括一個直立的基材載架91，及數個安裝於該基材載架91並分別用以夾持固定該等基材8的夾固單元92。該濺鍍設備能讓基材8在直立放置狀態下進行表面鍍膜，隨後，再將已完成鍍膜之基材8移出。

然而，利用夾固單元92來夾持固定該等基材8需要一些安裝步驟。同時，在濺鍍薄膜時，每一個夾固單元92會局部遮擋各別之基材8，會使各別之基材8無法被 充分的濺鍍，而在該基材8上的固定位置處留下夾具印，導致該基材8的邊緣存在無效區。此外，該夾固單元92通常只適用於夾固單一尺寸的基材8，並不利於濺鍍多種尺寸規格的基材8。

因此，本新型之目的，即在提供一種基材易於固定，並表面能完整鍍膜的基材固定裝置。

於是，本新型基材固定裝置，適用於供一片基材放置，並包含一個基材載架，及至少一個承載單元。該基材載架包括一個上下延伸的安裝面。該承載單元用於承載該基材，並包括安裝於該安裝面上的一個承托模組及一個抵靠模組，該承托模組具有一個與一水平面呈一夾角且供該基材傾斜放置於上方的放置面，該抵靠模組鄰近於該放置面之較低的一端，以供該基材抵靠，該承托模組、該抵靠模組與該安裝面相配合界定出一個可供該基材放置的放置空間。

因此，本新型之目的，即在提供一種能使基材被充分濺鍍的濺鍍設備。

於是，本新型濺鍍設備，包含一個反應腔體、一個所述基材固定裝置，及一個輸送裝置。該基材固定裝置設置於該反應腔體內，且該基材固定裝置的該安裝面由上往下逐漸向前傾斜。該輸送裝置包括一個安裝於該反應腔體內並支撐設置於該基材固定裝置底部的下滾送單元，及一個安裝於該反應腔體內並支撐設置於該基材固定裝置 頂部的上滾送單元。該上滾送單元與該下滾送單元相配合使該基材固定裝置的該安裝面能由上往下逐漸向前傾斜。

本新型之功效，藉由該承托模組與該抵靠模組的擺放設計，使該基材傾斜放置於該放置空間時，會同時受到該承托模組與該抵靠模組的支撐，而可僅利用自身重量就直接穩固地擺放設置，因此本新型之創新結構可方便且容易地供該基材擺放與固定，並避免基材被遮擋，使基材表面能完整鍍膜。

1‧‧‧反應腔體

2‧‧‧基材固定裝置

21‧‧‧基材載架

211‧‧‧安裝面

22‧‧‧底桿

221‧‧‧下凸抵面

23‧‧‧承載單元

24‧‧‧承托模組

241‧‧‧承托柱

242‧‧‧承托面

243‧‧‧放置面

25‧‧‧抵靠模組

251‧‧‧抵靠柱

26‧‧‧間隔模組

261‧‧‧間隔凸粒

27‧‧‧放置空間

3‧‧‧輸送裝置

31‧‧‧下滾送單元

311‧‧‧滾輪

312‧‧‧環凹狀輪槽

32‧‧‧上滾送單元

321‧‧‧滑輪組

322‧‧‧輪盤

4、41、42、43 ‧‧‧基材

本新型之其他的特徵及功效，將於參照圖式的實施方式中清楚地呈現，其中：圖1是一個部分立體示意圖，說明現有濺鍍設備用以承載數個基材；圖2是一個前視圖，說明本新型濺鍍設備的一個第一實施例用以承載數個基材；圖3是一個側視圖，說明該第一實施例；圖4是一個部分前視圖，說明該第一實施例的一個基材固定裝置；圖5是一個不完整的立體圖，說明該第一實施例的一個承載單元；圖6是一個不完整的前視圖，說明該第一實施例的該承載單元；及圖7是一個類似圖3的視圖，說明本新型濺鍍設備的一個第二實施例。

在本新型被詳細描述之前，應當注意在以下的說明內容中，類似的元件是以相同的編號來表示。

參閱圖2、圖3與圖4，本新型濺鍍設備之一第一實施例，可應用於承載數片概呈片狀矩方形並為玻璃或塑膠材質製成的基材4，並於該等基材4上鍍膜。該濺鍍設備包含一個反應腔體1、一個用以承載該等基材4的基材固定裝置2，及一個輸送裝置3。該反應腔體1呈中空概矩方體狀，並如圖3所示由上往下逐漸向前傾斜擺置，且供該基材固定裝置2與該輸送裝置3安裝於其內。實際上，該反應腔體1內還設有濺鍍槍(圖未示)等用於濺鍍成膜的裝置，但由於該等裝置非本新型的改良重點，故不再說明。

該基材固定裝置2包括一個呈平板狀且由上往下逐漸向前傾斜地置於反應腔體1內的基材載架21、安裝於該基材載架21底部的底桿22，及數個彼此間隔地安裝於該基材載架21前方並分別供該等基材4放置的承載單元23。該基材載架21具有一個位於前方且由上往下逐漸向前傾斜延伸的安裝面211。該底桿22包括一個位於底部且截面呈下凸圓弧狀的下凸抵面221。

圖4中以假想線框圍出每一個承載單元23包括的元件。在本實施例中，該等承載單元23呈8×8的矩陣方式排列，因此共有64個承載單元23，但亦可為其他數目，且於實施時該基材固定裝置2亦可僅包含一個承載單元23 。每一個承載單元23安裝於該安裝面211前方，並包括一個承托模組24、一個抵靠模組25及一個間隔模組26。該承托模組24、該抵靠模組25與該安裝面211相配合界定出一個可供各別之基材4傾斜放置的放置空間27。

參閱圖4、圖5與圖6，每一個承載單元23的該承托模組24可供各別之基材4置於其上，並具有三個分別垂直往前突出該安裝面211且由左而右逐漸往上間隔排列的承托柱241，當然該等承托柱241的數目亦可為二或四個以上，在設計上可依所需支撐力的大小與重量平衡增減。該等承托柱241分別具有一個朝上並與該基材4底邊接觸的承托面242，而該等承托面242共同界定出一個與一水平面呈一夾角的放置面243。當然在實施上，該承托模組24也可以僅為單一個柱體或板體，只要該柱體與板體能界定出朝上且與一水平呈一夾角的該放置面243即可。

該抵靠模組25鄰近於該承托模組24之左端，可供各別之基材4的左側邊抵靠，並具有兩個垂直往前突出該安裝面211的抵靠柱251。當然該等抵靠柱251的數目亦可為三個以上，或該抵靠模組25僅為單一個柱體或板體，只要能供該基材4抵靠並達到所需支撐力即可。該等抵靠柱251由下而上並沿著垂直該放置面243之方向間隔排列，當然該承托模組24與該抵靠模組25亦可左右相反設置，也就是該等承托柱241由右而左逐漸往上間隔排列，而該等抵靠柱251由鄰近最右方的承托柱241向上並沿著垂直該放置面243之方向間隔排列，不以本實施例為限。

在本實施例中，該等承托柱241與該等抵靠柱251以螺接或其他方式安裝於該安裝面211上，使該等承托柱241與該等抵靠柱251可調整突出該安裝面211之長度，以因應不同厚度的基材4，但實施上，該等承托柱241與該等抵靠柱251亦可為固定長度，不以本實施例為限。另外，該等承托柱241與該等抵靠柱251主要是由一種聚醯亞胺(Polyimide，PI)的有機高分子材料所製成，聚醯亞胺具有耐高低溫度-269℃~400℃的特點，可在攝氏250~300度的溫度下長時間使用，並具有高強度、高耐摩擦、自潤滑的特點，因此耐磨耗性優異、且膨脹係數小所以尺寸安定性佳，此外還具有高絕緣、耐高輻射、耐腐蝕等其他特點，但實施上，該等承托柱241與該等抵靠柱251亦可為其他材料製成。

該間隔模組26介於該安裝面211與各別之基材4之間，並具有七個分別突出於該安裝面211並彼此間隔地散布於該放置空間27的間隔凸粒261，當然該等間隔凸粒261的數目亦可為其他數目，且該間隔模組26亦可僅包含一個間隔凸粒261，不以本實施例為限。該等間隔凸粒261的其中四個鄰近該承托模組24與該抵靠模組25的交會處，並排列成一個傾斜矩形，另外三個遠離該承托模組24與該抵靠模組25的交會處，並與其中四個中位於左下角的間隔凸粒261排列成一個尺寸較大的傾斜矩形，該等間隔凸粒261用以將該基材4與該安裝面211隔開，以方便放置與拿取該基材4。

參閱圖2、圖3與圖4，該輸送裝置3包括一個安裝於該反應腔體1內並支撐設置於該基材固定裝置2底部的下滾送單元31，及一個安裝於該反應腔體1內並支撐設置於該基材固定裝置2頂部後方的上滾送單元32。由於該上滾送單元32並非位於該下滾送單元31正上方，而是相對地位於該下滾送單元31的正上方後側，因此上滾送單元32可與該下滾送單元31配合供該基材載架21呈傾斜放置，使該安裝面211由上往下逐漸向前傾斜。

該下滾送單元31具有數個可分別轉動地安裝於該反應腔體1內底部且沿該基材固定裝置2之底部長向間隔排列的滾輪311，每一個滾輪311具有一個與該下凸抵面221形狀相對應以供該底桿22容置的環凹狀輪槽312。因此該等滾輪311能利用該等環凹狀輪槽312共同限位、支撐該基材載架21的底側。

該上滾送單元32具有數個安裝於該反應腔體1內且沿該基材載架21之背面頂側長向間隔排列的滑輪組321。每一滑輪組321具有一個可轉動地貼靠於該基材載架21之背面的輪盤322。因此，該等滑輪組321的該等輪盤322共同支撐於該基材載架21之背面頂部。

透過該上滾送單元32、該下滾送單元31能分別對該基材載架21的底部、背側頂部施予支撐作用的設計，能讓該基材載架21能呈正面朝斜上方地傾斜擺置於該反應腔體1中，而當該下滾送單元31之該等滾輪311被驅動而開始滾動時，便能對該基材載架21的底部施予滾送作用， 同時該基材載架21之背面頂部會摩擦、帶動該上滾送單元32之該等輪盤322滾動，藉以，使得傾斜擺放的該基材載架21，在受到該上滾送單元32與該下滾送單元31的共同支撐與雙重滾送等作用下，能更加順暢、平穩地被予載送。

參閱圖3、圖5與圖6，本新型濺鍍設備供該等基材4放置時，藉由該基材載架21的傾斜設計使每一個基材4由上往下逐漸向前傾斜，進而使其重心後移而能穩定地擺放於該放置空間27，同時，再利用該等承托柱241與該等抵靠柱251的位置設計，使該基材4放置於該放置空間27時，其底邊會由左而右逐漸向上傾斜，而將重量分散落於該基材4下方的該等承托柱241與該基材4左方的該等抵靠柱251，使得該基材4的側邊與底邊皆受到支撐而能更加穩固的直接擺放於該放置空間27。

值得一提的是，由於該承載單元23可供該基材4直接放置於上方，因此該承載單元23除了可供如圖6所示的基材4放置外，還可供如圖6假想線所示之不同尺寸的基材41、42、43放置。當最大尺寸的基材4與次大尺寸的基材41放置於該承載單元23時，其底邊會靠置於該等承托柱241，側邊會抵靠於該等抵靠柱251，同時背面會貼靠於該等間隔凸粒261。當次小尺寸的基材42與最小尺寸的基材43放置於該承載單元23時，其底邊會靠置於該等承托柱241的其中位於左邊的兩個，側邊會抵靠於該等抵靠柱251的其中位於下方的一個，同時背面會貼靠於該等 間隔凸粒261的其中四個間隔凸粒261。藉由此特點，本新型可供不同尺寸大小的基材4、41、42、43進行鍍膜，以利於生產作業。

參閱圖5與圖7，本新型濺鍍設備之一個第二實施例之構造大致相同於該第一實施例，不同之處在於：該反應腔體1呈直立設置，並供該基材固定裝置2設置於該反應腔體1內，而該上滾送單元32、該下滾送單元31能相配合供該基材載架21由上往下逐漸向前傾斜地擺放。因此在本實施例中，每一個基材4擺放於各別之承載單元23時，依然是由上往下逐漸向前傾斜，且底邊由左而右逐漸向上傾斜，而將重量分散落於該等承托柱241與該等抵靠柱251，因此仍然能穩固地直接擺放於該放置空間27。

綜上所述，本新型濺鍍設備，藉由該基材載架21的傾斜設計，及該等承托柱241與該等抵靠柱251的排列設計，使每一個基材4只要直接擺放於該承托模組24上就可利用自身重量直接穩固地靠置於該承托模組24與該抵靠模組25，而不需利用例如圖1所示之習知的該等夾固單元92來固定，因此能使該基材4被充分的濺鍍以避免無效區的存在。另外，擺放的設置方式，還能使該承載單元23可供不同尺寸之基材4、41、42、43放置，能大幅增加本新型的泛用性，以利於生產作業，故確實能達成本新型之目的。

惟以上所述者，僅為本新型之實施例而已，當不能以此限定本新型實施之範圍，即大凡依本新型申請專 利範圍及專利說明書內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本新型專利涵蓋之範圍內。

1‧‧‧反應腔體

2‧‧‧基材固定裝置

21‧‧‧基材載架

211‧‧‧安裝面

22‧‧‧底桿

24‧‧‧承托模組

25‧‧‧抵靠模組

3‧‧‧輸送裝置

31‧‧‧下滾送單元

311‧‧‧滾輪

32‧‧‧上滾送單元

321‧‧‧滑輪組

4‧‧‧基材

Claims (9)

1. 一種基材固定裝置，適用於供一片基材放置，並包含：一個基材載架，包括一個上下延伸的安裝面；及至少一個承載單元，用於承載該基材，並包括安裝於該安裝面上的一個承托模組及一個抵靠模組，該承托模組具有一個與一水平面呈一夾角且供該基材傾斜放置於上方的放置面，該抵靠模組鄰近於該放置面之較低的一端，以供該基材抵靠，該承托模組、該抵靠模組與該安裝面相配合界定出一個可供該基材放置的放置空間。
2. 如請求項1所述的基材固定裝置，包含數個彼此間隔地安裝於該安裝面上的承載單元。
3. 如請求項1所述的基材固定裝置，其中，該承托模組具有數個由鄰近而遠離該抵靠模組逐漸往上間隔排列的承托柱，該等承托柱分別具有一個與該基材接觸的承托面，該等承托面共同界定出該承托模組的該放置面，該抵靠模組具有數個由下而上並沿著遠離該承托模組之方向間隔排列的抵靠柱。
4. 如請求項3所述的基材固定裝置，其中，該等承托柱與該等抵靠柱分別可調整突出該安裝面之長度地安裝於該基材載架上。
5. 如請求項1所述的基材固定裝置，其中，該承載單元還包括一個安裝於該安裝面且將該基材與該安裝面隔開的間隔模組。
6. 如請求項5所述的基材固定裝置，其中，該間隔模組具有數個彼此間隔地位於該放置空間的間隔凸粒。
7. 一種濺鍍設備，包含：一個反應腔體；一個如請求項1至6中任一項所述的基材固定裝置，設置於該反應腔體內，且該基材固定裝置的該安裝面由上往下逐漸向前傾斜；及一個輸送裝置，包括一個安裝於該反應腔體內並支撐設置於該基材固定裝置底部的下滾送單元，及一個安裝於該反應腔體內並支撐設置於該基材固定裝置頂部的上滾送單元，該上滾送單元與該下滾送單元相配合使該基材載架的該安裝面能由上往下逐漸向前傾斜。
8. 如請求項7所述的濺鍍設備，其中，該基材固定裝置還包括一個安裝於該基材載架底部的底桿，該底桿具有一個位於底部且截面呈下凸圓弧狀的下凸抵面，該下滾送單元具有數個可分別轉動地安裝於該反應腔體內底部且沿該基材固定裝置之底部間隔排列的滾輪，每一個滾輪具有一個供該底桿放置且與該下凸抵面形狀相對應的環凹狀輪槽。
9. 如請求項7所述的濺鍍設備，其中，該上滾送單元具有數個安裝於該反應腔體內且沿該基材固定裝置之背面頂側間隔排列的滑輪組。