TWM484587U - 可簡化被鍍物抓取之濺射腔結構 - Google Patents

Description

可簡化被鍍物抓取之濺射腔結構

本創作係有關於一種濺射腔結構，尤其是一種可簡化被鍍物抓取之濺射腔結構。

請參考圖一，習知技術中的濺射腔1’其外側有一腔門100’，用於置入或取出靶材；如欲同時在一被鍍物上濺鍍數種靶材，則必須有數個濺鍍槍4’，各濺鍍槍的前端安裝有靶材40’，該濺鍍槍將會令靶材的分子游離濺射到被鍍物3’上。該濺鍍槍的投射端係在該濺射腔內，而另一端則延伸到該濺射腔1’外，已使得操作人員可以進行所需要的操作。另外設有一轉盤2’，係為一盤體2’位在該濺射腔1’之內，該盤體可乘載一被鍍物3’，該轉盤2’尚包含驅動結構，該驅動結構包含：一轉動軸，該轉動軸的一端固定在該轉盤的中心部位，另一端延伸出該濺射腔之外，並連結一驅動器(圖中沒顯示，係位在該濺射腔外)，該驅動器可以進行徑向轉動而使得該轉盤旋轉。其中該腔門100’的門體係大略垂直於該轉盤的盤面，以便於抓取轉盤上的被鍍物3’。

一抓取裝置400’，該抓取裝置用於由該腔門100’置入或取出該被鍍物3’。使用時，該抓取裝置靠近該腔門，並深入腔門內取出或置入該被鍍物。

一輸送裝置5’，該輸送裝置用於將該被鍍物3’從該濺射腔取出，其該輸送裝置包含：一前輸送腔50’，為一腔體，該腔體可密閉態抽真空。使用時，將該前輸送腔靠近該濺射腔的腔門，將該前輸送腔抽取呈真空狀態，將該濺射腔的腔門打開，由於該前輸送腔以抽真空，所以兩者連通時，並不會破壞濺射腔的真空態。然後該抓取裝置將以濺鍍完成的該被鍍物取出，並經該腔門饋送入該前輸送腔。以便於取出該被鍍物，隨後再將該濺射腔的腔門關閉。一隔離閥51’，該隔離閥位於該前輸送腔的後方，可以隔離該前輸送腔與該係輸送裝置的其餘部位，而保持該前輸送腔的真空態。一後輸送腔52’，該後輸送腔位於該隔離閥的後方，而與該前輸送腔形成一完全的腔體，兩者應用該隔離閥隔離。當該被鍍物已被取出並至於該前輸送腔內時，將該隔離閥打開，便可將該被鍍物移至該後輸送腔，再將該後輸送腔的腔門打開，以夾爪取出該被鍍物。

在上述的習知技術中，濺射腔的外側設有一腔門，該腔門100’的門體係大略垂直於該轉盤的盤面，以抓取轉盤上的被鍍物3’。所以必須配置該抓取裝置。惟該抓取裝置為機動結構，其後方必須有電控裝置，以控制該抓取機構的動作。不惟，成本高昂，結構複雜。而且整體的結構有部分必須伸出該前輸送腔，所以有可能破壞原濺射腔的真空，以至於整體的操作難度變高，時間也拉長。由於該抓取裝置在抓取被鍍物時，需耗費較多的時間，因此反覆打開該濺射腔，破壞其真空度，再建立真空，整體操作時間拉長，而且此一過程又會造成對被鍍物鍍膜的損害，而影響整個濺鍍品 質。因此若能提出一種能夠簡省成本及空間的濺射結構，必能帶來更高的經濟效益，且增進濺鍍的品質。

因此本案的創作人鑒於對於對習知技術的了解，所以希望能提出一嶄新的結構，因此構思具新穎性的本案以解決上述習知技術中的缺點。

所以本創作的目的係為解決上述習知技術上的問題，本創作中提出一種可簡化被鍍物抓取之濺射腔結構，其優點為透過該升降軸將該被鍍物推出該濺射腔至該輸送裝置內，其輸送裝置也為抽真空的狀態，因此並不會破壞原先該濺射腔的真空狀態，以至於整體的操作難度降低，時間也減短。因此為一能夠簡省成本及空間的濺射結構。

為達到上述目的本創作中提出一種可簡化被鍍物抓取之濺射腔結構，包含：一濺射腔，為一腔體結構；該濺射腔有一腔門，係用於取出或置入一被鍍物於該濺射腔內；一受鍍轉盤，包含一盤體位在該濺射腔之內，該盤體上包含至少一穿孔，係用於安置濺射所需要的被鍍物；其中該腔門的門體平行於該受鍍轉盤，以利於從該受鍍轉盤上攫取該被鍍物並饋送出該濺射腔外；一濺鍍槍，其中靶材係安裝在該濺鍍槍前方的投射端，該濺鍍槍的投射端係在該濺射腔內，而另一端則延伸到該濺射腔外；一升降軸，該升降軸係安裝在該濺射腔的一側，相對於該受鍍轉盤，該升降軸與該濺鍍槍同一側；該升降軸的軸向位置指向該腔門；該升降軸可進行前後的軸向移動，以便將該被鍍物向前頂出該受鍍轉盤，並向該腔門移動；以及一 輸送裝置，該輸送裝置用於將該被鍍物從該濺射腔取出，但不破壞該濺射腔內的真空狀態。

由下文的說明可更進一步瞭解本創作的特徵及其優點，閱讀時並請參考附圖。

1‧‧‧濺射腔

2‧‧‧受鍍轉盤

3‧‧‧被鍍物

4‧‧‧濺鍍槍

5‧‧‧升降軸

6‧‧‧輸送裝置

20‧‧‧穿孔

21‧‧‧轉動軸

201‧‧‧靶材

100‧‧‧腔門

60‧‧‧前輸送腔

61‧‧‧隔離閥

62‧‧‧後輸送腔

圖一顯示習知技術的示意圖。

圖二顯示本創作的立體圖。

圖三顯示本創作的應用示意圖。

圖四顯示本創作的應用示意圖。

茲謹就本案的結構組成，及所能產生的功效與優點，配合圖式，舉本案之一較佳實施例詳細說明如下。

請參考圖二至圖四所示，顯示本創作之可簡化被鍍物抓取之濺射腔結構，包含下列元件：一濺射腔1，為一腔體結構，用於容納本創作之其他元件；該濺射腔為一高真空的腔體。主要是濺射程序必須在高度真空下進行。該濺射腔有一腔門100，係用於取出或置入一被鍍物3於該濺射腔內。

一受鍍轉盤2，包含一盤體位在該濺射腔之內，該盤體上包含至少兩穿孔20，係用於安置濺射所需要的被鍍物3；圖中顯示該受鍍轉盤具有四個穿 孔，所以可容納四種不同的被鍍物3；該受鍍轉盤尚包含驅動結構已驅動該轉盤旋轉，該驅動結構包含：一轉動軸21，該轉動軸的一端固定在該受鍍轉盤的中心部位，另一端延伸出該濺射腔之外，並連結一驅動器(圖中未示，也位在該濺射腔外)，該驅動器可以使該轉動軸徑向轉動而使得該受鍍轉盤旋轉。

其中該腔門的門體大略平行於該受鍍轉盤2，以利於從該受鍍轉盤上攫取該被鍍物3並饋送出該濺射腔1外。

一濺鍍槍4，其中靶材係安裝在該濺鍍槍4前方的投射端，在安裝態時該受鍍轉盤係位在該被鍍物及濺鍍槍之間；該濺鍍槍將會產生高電壓、雷射、射頻電波等不同的熱源驅動靶材，以使得靶材的分子游離濺射到被鍍物上。該濺鍍槍的投射端係在該濺射腔內，而另一端則延伸到該濺射腔外，以使得操作人員可以進行所需要的操作。

其中該靶材201可為各種不同的金屬、玻璃等材料，而可應用高電壓、雷射、射頻電波等不同的熱源驅動後，而使該靶材的粒子脫離靶材而射出。

安裝時，該被鍍物3係安裝在該受鍍轉盤的一穿孔內，而且對齊該濺鍍槍4的靶材。該受鍍轉盤轉動可令該被鍍物也跟著對齊該該濺鍍槍4中的靶材。當該該濺鍍槍4上的靶材受驅動後，急速濺射向該被鍍物，而在該被鍍物上形成一層膜，即所謂的濺鍍膜。

一升降軸5，該升降軸5係安裝在該濺射腔的一側，相對於該受鍍轉盤2，該升降軸與該濺鍍槍同一側。該升降軸的軸向位置指向該腔門100。該 升降軸可進行前後的軸向移動，以便將該被鍍物向前頂出該受鍍轉盤，並向該腔門移動。使用時，可以轉動該受鍍轉盤，以使得該被鍍物對齊該升降軸，將該升降軸往上提升，即可頂到該被鍍物3，而將該被鍍物舉升，並離開該受鍍轉盤。

一輸送裝置6，與該濺射腔1連結，該輸送裝置6用於將該被鍍物從該濺射腔取出，但不破壞該濺射腔內的真空狀態，該輸送裝置6包含：

一前輸送腔60，為一腔體，該腔體可密閉態抽真空。使用時，將該前輸送腔靠近該濺射腔的腔門，將該前輸送腔抽取呈真空狀態，將該濺射腔的腔門打開，由於該前輸送腔以抽真空，所以兩者連通時，並不會破壞濺射腔的真空態。然後該升降軸將以濺鍍完成該被鍍物頂出受鍍轉盤，並經該腔門饋送入該前輸送腔。以便於取出該被鍍物，隨後再將該濺射腔的腔門關閉。

一隔離閥61，該隔離閥位於該前輸送腔的後方，可以隔離該前輸送腔與該係輸送裝置的其餘部位，而保持該前輸送腔的真空態。

一後輸送腔62，該後輸送腔位於該隔離閥的後方，而與該前輸送腔形成一完全的腔體，兩者應用該隔離閥隔離。當該被鍍物已被取出並至於該前輸送腔內時，將該隔離閥打開，便可將該被鍍物移至該後輸送腔，再將該後輸送腔的腔門打開，以夾爪取出該被鍍物。

本創作的操作方式說明如下：

係將被鍍物安裝到濺射腔的既定位置，然後對該濺射腔抽取空氣，達 到所需要的真空度，然後將該轉盤調整到所需要的位置點，即可進行濺鍍的動作。當被鍍物上的薄膜達到所需要的厚度及濃度時，則旋轉該轉盤使得下一個濺射靶材對齊該濺射腔的投射端，進行濺射的動作。其該濺射腔的外側設有一腔門，該腔門的門體係大略平行於該受鍍轉盤的盤面，以抓取轉盤上的被鍍物。所以必須配置該升降軸及輸送裝置，透過該升降軸將該被鍍物推出該濺射腔至該輸送裝置內，其輸送裝置也為抽真空的狀態，因此並不會破壞原先該濺射腔的真空狀態，以至於整體的操作難度降低，時間也減短。因此為一能夠簡省成本及空間的濺射結構。

綜上所述，本案人性化之體貼設計，相當符合實際需求。其具體改進現有缺失，相較於習知技術明顯具有突破性之進步優點，確實具有功效之增進，且非易於達成。本案未曾公開或揭露於國內與國外之文獻與市場上，已符合專利法規定。

上列詳細說明係針對本創作之一可行實施例之具體說明，惟該實施例並非用以限制本創作之專利範圍，凡未脫離本創作技藝精神所為之等效實施或變更，均應包含於本案之專利範圍中。

1‧‧‧濺射腔

2‧‧‧受鍍轉盤

3‧‧‧被鍍物

4‧‧‧濺鍍槍

5‧‧‧升降軸

6‧‧‧輸送裝置

20‧‧‧穿孔

21‧‧‧轉動軸

201‧‧‧靶材

100‧‧‧腔門

60‧‧‧前輸送腔

61‧‧‧隔離閥

62‧‧‧後輸送腔

Claims (5)

1. 一種可簡化被鍍物抓取之濺射腔結構，包含：一濺射腔，為一腔體結構；該濺射腔為一高真空的腔體；主要是濺射程序必須在高度真空下進行；該濺射腔有一腔門，係用於取出或置入一被鍍物於該濺射腔內；一受鍍轉盤，包含一盤體位在該濺射腔之內，該盤體上包含至少一穿孔，係用於安置濺射所需要的被鍍物；其中該腔門的門體平行於該受鍍轉盤，以利於從該受鍍轉盤上攫取該被鍍物並饋送出該濺射腔外；一濺鍍槍，其中靶材係安裝在該濺鍍槍前方的投射端，在安裝態時該受鍍轉盤係位在該被鍍物及濺鍍槍之間；該濺鍍槍將會產生不同的熱源或輻射源驅動靶材，以使得靶材的分子游離濺射到被鍍物上；該濺鍍槍的投射端係在該濺射腔內，而另一端則延伸到該濺射腔外；安裝時，該被鍍物係安裝在該受鍍轉盤的一穿孔內，而且對齊該濺鍍槍的靶材；該受鍍轉盤轉動可令該被鍍物也跟著對齊該該濺鍍槍中的靶材；一升降軸，該升降軸係安裝在該濺射腔的一側，相對於該受鍍轉盤，該升降軸與該濺鍍槍同一側；該升降軸的軸向位置指向該腔門；該升降軸可進行前後的軸向移動，以便將該被鍍物向前頂出該受鍍轉盤，並向該腔門移動；使用時，可以轉動該受鍍轉盤，以使得該被鍍物對齊該升降軸，將該升降軸往上提升，即可頂到該被鍍物，而將該被鍍物舉升，並離開該 受鍍轉盤；以及一輸送裝置，該輸送裝置與該濺射腔連結，該輸送裝置用於將該被鍍物從該濺射腔取出，但不破壞該濺射腔內的真空狀態。
2. 如申請專利範圍第1項所述之可簡化被鍍物抓取之濺射腔結構，其中該輸送裝置包含：一前輸送腔，為一腔體，該腔體可密閉態抽真空，使用時，將該前輸送腔靠近該濺射腔的腔門，將該前輸送腔抽取呈真空狀態，將該濺射腔的腔門打開，由於該前輸送腔以抽真空，所以兩者連通時，並不會破壞濺射腔的真空態；然後該升降軸將以濺鍍完成該被鍍物頂出受鍍轉盤，並經該腔門饋送入該前輸送腔；以便於取出該被鍍物，隨後再將該濺射腔的腔門關閉；一隔離閥，該隔離閥位於該前輸送腔的後方，可以隔離該前輸送腔與該係輸送裝置的其餘部位，而保持該前輸送腔的真空態；以及一後輸送腔，該後輸送腔位於該隔離閥的後方，而與該前輸送腔形成一完全的腔體，兩者應用該隔離閥隔離；當該被鍍物已被取出並至於該前輸送腔內時，將該隔離閥打開，便可將該被鍍物移至該後輸送腔，再將該後輸送腔的腔門打開，以夾爪取出該被鍍物。
3. 如申請專利範圍第1項所述之可簡化被鍍物抓取之濺射腔結構，其中該受鍍轉盤具有四個穿孔，所以可容納四種被鍍物。
4. 如申請專利範圍第1項所述之可簡化被鍍物抓取之濺射腔結構，其中 該受鍍轉盤尚包含驅動結構以驅動該轉盤旋轉，該驅動結構包含：一轉動軸，該轉動軸的一端固定在該受鍍轉盤的中心部位，另一端延伸出該濺射腔之外，並連結一驅動器(也位在該濺射腔外)，該驅動器可以使該轉動軸徑向轉動而使得該受鍍轉盤旋轉。
5. 如申請專利範圍第1項所述之可簡化被鍍物抓取之濺射腔結構，其中該靶材為金屬或玻璃材料任一，而可應用高電壓、雷射、射頻電波等不同的熱源驅動後，而使該靶材的粒子脫離靶材而射出。