TWM478240U - 承載盤結構 - Google Patents

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TWM478240U
TWM478240U TW102220674U TW102220674U TWM478240U TW M478240 U TWM478240 U TW M478240U TW 102220674 U TW102220674 U TW 102220674U TW 102220674 U TW102220674 U TW 102220674U TW M478240 U TWM478240 U TW M478240U
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TW
Taiwan
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accommodating space
side wall
wafer
substrate
carrier
Prior art date
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TW102220674U
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English (en)
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yi-hui Jiang
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Hong Ming Prec Co Ltd
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Description

承載盤結構
一種用於承載基板或晶片之承載盤結構。
現行的承載盤，主要係為一本體，該本體上具有一容置空間，該容置空間內係可供一基板或晶片承載，為了要進行清洗及風乾基板或晶片，通常會在該容置空間上凸設有肋體，該肋體通常會設置於該容置空間的中間或側邊，透過肋體支撐基板或晶片，使基板或晶片與該容置空間之間具有一空間，而可同時進行清洗及風乾之動作。
習知之承載盤，其肋體與該基板或晶片之接觸面通常為一平面，所以在接觸時，通常與基板或晶片之接觸係為一面接觸，使的基板與或晶片與肋體接觸的地方無法清洗及風乾完全，同時，基板與晶片放置於該容置空間上時，因肋體為平面，故無法產生定位的效果，使得基板或晶片在承載盤上的定位不夠精確或容易受力而產生位移，故本創作之創作者方有此一創作之改良產生。
本創作提供一種承載盤結構，其係一主體，該主體上係凹設有至少一容置空間，該容置空間可供放置一物品者，該容置空間之周邊係具有側壁，數個支撐肋，該等支撐肋係設於該側壁之底部，該支撐肋之頂 面係為一斜面部，當物品如基板或晶片放置於該容置空間內時，該基板或晶片的外環周會置於該斜面部上，並以點接觸方式碰觸。
本創作所提供之承載盤結構，該支撐肋之斜面部可以點接觸 方式承接放置於該容置空間內的物品，且係與該物品之最外側接觸，可以降低接觸面積，可相對降低對物品如使用於基板或晶片上時的接觸產生的磨損或傷害，而可提升良率，另外，因為接觸的位置是在外環周，亦不容易對內部產生耗損，再者，因為斜面部，使物品置入容置空間後會產生一卡限定位之效果，物品再運送清洗及風乾的過程中亦不容易產生晃動，可使接觸位置固定在同一位置上。
10‧‧‧本體
11‧‧‧容置空間
12‧‧‧側壁
13‧‧‧交角
14‧‧‧第一定位部
15‧‧‧第二定位部
20‧‧‧支撐肋
21‧‧‧斜面部
30‧‧‧排水孔
第1圖係本創作較佳實施例之頂視圖。
第2圖係本創作較佳實施例之剖面組裝示意圖。
第3圖係本創作較佳實施例之支撐肋支撐物品剖面示意圖。
第4圖係本創作另一實施例之頂視圖。
請參閱第1圖及第2圖所示為本創作較佳實施例之立體圖，剖面組裝示意圖所示，本創作係提供一種承載盤其係包含有；一主體10，該主體10上係凹設有至少一容置空間11，該容置空間11可供放置一物品，例如基板或晶片者，該容置空間11之周邊係具有側壁12，該等側壁12之間相交處並形成有一交角13，該側壁12之頂部並形成有一第一定位部14，同時，該主體10並會於該底部相對該第一定位部14 環凸設有一第二定位部15，該第一定位部14與該第二定位部15之形狀係為互補者，使該等承載盤在堆疊時，該第一定位部14會受另一第二定位部15限位而產生定位者，在堆疊時可排列整齊且不易移動；八個支撐肋20，其係於每一側壁12之底部各設有兩個支撐肋20，該等支撐肋20間之間距係大概相等，該等支撐肋20為柱體，該支撐肋20之頂面係形成有一斜面部21，該斜面部21係朝容置空間11的中心下傾；八個排水孔30，該等排水孔30係貫設於該容置空間11底部，其位置係設於該交角13與該等支撐肋20之間。
該承載盤在裝載物品A，如基板或晶片時，請再配合第3圖 支撐肋支撐物品剖面示意圖，會由該容置空間11的上方將基板或晶片置入，由於該支撐肋20之頂部係為具有斜面的斜面部21，故放置的空間上方會比較開闊，當置入至下方時，由於斜度的關係，該斜面部21會逐漸與該基板或晶片之端面接觸，因為該支撐肋20係設於側壁12底部，所以與該基板或晶片之接觸係為最外環周，且呈現一點接觸的狀態，接觸面積小，可降低因放置於承載盤中產生的損傷，另外，當基板或晶片固定於該支撐肋20上時，該斜面部21因為斜度的關係，接觸點下方的位置已經小於基板或晶片的面積，所以位置固定後，基板及晶片無法下移，可使基板或晶片產生一固定之作用，使該基板或晶片在搬運的過程或清洗及風乾的狀態下不會產生位移另外，由於斜面部21最高點到最低點之間其接觸面會產生變化，所以，該承載盤可適用於一個區間內的不同尺寸的基板或晶片皆可適用，增加該承載盤之通用性，另排水孔30的設置，亦可使該承載盤在清洗的過程中，可迅速的將液體排出至承載盤外。
請再配合第4圖所示，其係為本創作之另一實施例，其主要結構係與前一實施例同，故不再贅述，其中，該支撐肋20係為一延伸於側壁上的長條體，此一支撐肋20可使接觸基板或晶片的面積增加，擺放位置有落差仍可以進行置放，避免因擺放不當而無法支撐使用者。
以上為本案所舉之實施例，僅係為於說明而列，不能以此限制本創作之意義，亦即在所列申請專利範圍內所能為之各種變化設計，均應包含在本案之申請專利範圍中。
10‧‧‧本體
11‧‧‧容置空間
12‧‧‧側壁
14‧‧‧第一定位部
15‧‧‧第二定位部
20‧‧‧支撐肋
21‧‧‧斜面部

Claims (6)

  1. 一種承載盤結構，其係包含有；一主體，該主體上係凹設有至少一容置空間，該容置空間可供放置一物品者，該容置空間之周邊係具有側壁；數個支撐肋，該等支撐肋係設於該側壁之底部，該支撐肋之頂面係為一斜面部；藉此，使該支撐肋可以點接觸方式承接放置於該容置空間內的物品，且係與該物品之最外側接觸。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之承載盤結構，其中，該容置空間上係貫設有至少一個排水孔。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之承載盤結構，其中，該側壁與該側壁間交會處係形成一交角，該等排水孔係設於該等支撐肋之靠近交角之一側。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之承載盤結構，其中，該側壁頂部係形成有一第一定位部，該主體底部並相對環凸設有一第二定位部，該第一定位部與該第二定位部之形狀係為互補者。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之承載盤結構，其中，該等支撐肋係為一柱體。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之承載盤結構，其中，該等支撐肋係為一長條體。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI641546B (zh) * 2016-07-18 2018-11-21 中美矽晶製品股份有限公司 Carrying device

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