TWM463632U - 磁力硏磨機 - Google Patents

Description

磁力研磨機

本創作係與用於磨削或拋光之裝置有關，特別是指一種用運用磁力帶動磨料進行工件表面拋光或研磨之磁力研磨機。

按，傳統震動研磨機械係利用將工件與研磨石材同時置於一容器內，促使工件與研磨石材碰撞、摩擦達到研磨效果。不過，放置在傳統震動研磨機中的研磨石材因為經過長期碰撞、摩擦而造成研磨石材耗損，所以必須經常填補或更換石材。此外，研磨過程中所產生的粉塵、廢料較多，且工件需清洗，容易造成環境污染。石材體積較大，對於有內孔或是死角之工件無法有效研磨，且若有較細小之工件，也恐有變形的情況產生。

針對上述問題，遂有一種磁力研磨裝置設計。其係運用馬達帶動磁力轉盤產生磁場，並由磁場感應多數導磁研磨介質，使得置於該置物槽中的工件與各該導磁研磨介質相互碰撞、摩擦，達成去毛邊之效果。由此可知，導磁研磨介質係藉由磁場帶動研磨工件，若要將研磨工件的效率提升，必須讓帶動導磁研磨介質的磁場分佈平均，才能平均且有效地去除工件毛邊。

有鑑於上述缺失，本創作之主要目的在於提供一種磁力研磨機，讓帶動導磁研磨介質的磁場分佈平均，並有效地去除工件毛邊的結果。

本創作提供一種磁力研磨機，包括：一基座；一 驅動單元，係設於該基座；一轉盤，係樞接該基座，受該驅動單元驅動相對該基座旋轉，該轉盤具有一旋轉軸及複數導引部，各該導引部係沿著該旋轉軸之徑向分佈；複數滑塊，係一對一地設於該導引部，且沿著該導引部滑動；複數磁盤，係一對一地設於該滑塊，且各該磁盤具有一盤面和一盤緣；複數第一磁石，係固設於該磁盤，各該第一磁石具有一第一磁面，各該第一磁面露出該磁盤盤面；複數第二磁石，係固設於該磁盤，各該第二磁石具有一第二磁面，各該第二磁面露出該磁盤盤緣，且各該第二磁面之磁極相同；以及一外罩，係罩設於該轉盤外，該外罩內壁間隔地固設複數第三磁石，各該第三磁石具有一第三磁面，各該第三磁面露出該外罩內壁，且與各該第二磁面之磁極相同。

藉此，當轉盤受驅動單元帶動旋轉，滑塊會沿著導引部朝遠離該旋轉軸的方向移動，待磁盤上的該第二磁石之第二磁面靠近與之磁極相同的第三磁面，係產生第二磁面與第三磁面相斥的現象，而帶動滑塊沿著導引部朝靠近該旋轉軸的方向移動，設於滑塊上的磁盤也滑塊移動，隨後，當運行至各該第三磁石之間，則再次使該滑塊朝遠離該旋轉軸的方向移動，如此持續地運行將形成磁場分佈平均的效果，有效地帶動導磁研磨介質去除工件毛邊。

11‧‧‧基座

111‧‧‧容室

12‧‧‧驅動單元

13‧‧‧轉盤

131‧‧‧旋轉軸

132‧‧‧導引部

14‧‧‧滑塊

15‧‧‧磁盤

151‧‧‧盤面

152‧‧‧盤緣

16‧‧‧第一磁石

161‧‧‧第一磁面

17‧‧‧第二磁石

171‧‧‧第二磁面

18‧‧‧外罩

19‧‧‧第三磁石

191‧‧‧第三磁面

21‧‧‧彈性單元

211‧‧‧立柱

212‧‧‧頂桿

213‧‧‧擋板

214‧‧‧彈性件

第一圖係本創作之外觀立體圖；第二圖係本創作之第一實施例之俯視示意圖；第三圖係本創作之第一實施例之前視示意圖，顯示導引部為槽體；第四圖係本創作之第一實施例之前視示意圖，顯示導引部為導軌；第五圖係本創作之第二實施例之前視示意圖，顯示導引部為槽體；第六圖係本創作之第二實施例之前視示意圖，顯示導引部為導軌；以及 第七圖係本創作之第一實施例及第二實施例之使用示意圖。

申請人首先在此說明，在以下將要介紹之實施例以及圖式中，相同之參考號碼，表示相同或類似之元件或其結構特徵。其次，當述及一元件設置於另一元件上時，代表前述元件係直接設置在該另一元件上，或者前述元件係間接地設置在該另一元件上，亦即，二元件之間還設置有一個或多個其他元件。而述及一元件「直接」設置於另一元件上時，代表二元件之間並無設置任何其他元件。

請參閱第一圖至第四圖所示，本創作第一實施例所提供之一種磁力研磨機1，包括：一基座11、一驅動單元12、一轉盤13、複數滑塊14、複數磁盤15、複數第一磁石16、複數第二磁石17和一外罩18。

該基座11，內部具有一容室111。

該驅動單元12，係設於該基座11，在本實施例中係以馬達為例，並且驅動單元12位在該容室111內。

該轉盤13，係樞接該基座11，受該驅動單元12驅動相對該基座11旋轉，該轉盤13具有一旋轉軸131及複數導引部132，各該導引部132係沿著該旋轉軸131之徑向分佈，在本實施例中係以數量四為例，但不以四為限，也可以其它數目例如二、三、五…等。

各該滑塊14，係一對一地設於該導引部132，且沿著該導引部132滑動。需說明的是，在本實施例中，各該導引部132為槽體，各該滑塊14係可以移動地設置在該導引部132內。事實上，如第四圖所示，各該導引部132也可以為導軌，各該滑塊14係可以移動地設置在該導引部132上。

各該磁盤15，係一對一地設於該滑塊14，且各該磁盤15具有一盤面151和一盤緣152。

各該第一磁石16，係固設於該磁盤15，各該第 一磁石15具有一第一磁面161，各該第一磁面161露出該磁盤15盤面151。

各該第二磁石17，係固設於該磁盤15，各該第二磁石17具有一第二磁面171，各該第二磁面171露出該磁盤15盤緣152，且各該第二磁面171之磁極相同。

該外罩18，係罩設於該轉盤13外，該外罩18內壁間隔地固設複數第三磁石19，各該第三磁石19具有一第三磁面191，各該第三磁面191露出該外罩18內壁且與各該第二磁面171之磁極相同。

請參閱第五圖至第六圖所示，本創作第二實施例，其與第一實施例不同處在於更包含複數彈性單元21。

各該彈性單元21，係分別設於該轉盤13上位於各該導引部132靠近該旋轉軸131的一端。該彈性單元21可以是橡膠塊或彈簧，但是，在本實施例中，該彈性單元21則係包含一立柱211，係立設於該轉盤13。一頂桿212係可移動地插設於該立柱211。一擋板213，係固接該頂桿212一端。一彈性件214，在此以彈簧為例，係設於該擋板213和該立柱211之間，而頂抵該擋板213。藉此，當滑塊14撞上彈性單元21，係頂抵該擋板213壓縮該彈性件214，進而避免各該磁盤15相互碰撞。

請參閱第二圖和第七圖所示。本創作之磁力研磨機，當轉盤13受驅動單元12帶動旋轉，滑塊14會沿著導引部132朝遠離該旋轉軸131的方向移動，待磁盤15上第二磁石17之第二磁面171靠近與之磁極相同的第三磁面191，係產生第二磁面171與第三磁面191相斥的現象，而帶動磁盤15進而帶動滑塊14，沿著導引部132朝靠近該旋轉軸131的方向移動，隨後，當磁盤15運行至各該第三磁石19之間，則再次使該滑塊14朝遠離該旋轉軸131的方向移動，如此持續地運行將形成磁場分佈平均的效果，有效地帶動導磁研磨介質去除工件毛邊。

11‧‧‧基座

111‧‧‧容室

12‧‧‧驅動單元

13‧‧‧轉盤

131‧‧‧旋轉軸

132‧‧‧導引部

14‧‧‧滑塊

15‧‧‧磁盤

152‧‧‧盤緣

17‧‧‧第二磁石

171‧‧‧第二磁面

18‧‧‧外罩

19‧‧‧第三磁石

191‧‧‧第三磁面

Claims (7)

1. 一種磁力研磨機，包括：一基座；一驅動單元，係設於該基座；一轉盤，係樞接該基座，受該驅動單元驅動相對該基座旋轉，該轉盤具有一旋轉軸及複數導引部，各該導引部係沿著該旋轉軸之徑向分佈；複數滑塊，係一對一地設於該導引部，且沿著該導引部滑動；複數磁盤，係一對一地設於該滑塊，且各該磁盤具有一盤面和一盤緣；複數第一磁石，係固設於該磁盤，各該第一磁石具有一第一磁面，各該第一磁面露出該磁盤盤面；複數第二磁石，係固設於該磁盤，各該第二磁石具有一第二磁面，各該第二磁面露出該磁盤盤緣，且各該第二磁面之磁極相同；以及一外罩，係罩設於該轉盤外，該外罩內壁間隔地固設複數第三磁石，各該第三磁石具有一第三磁面，各該第三磁面露出該外罩內壁且與各該第二磁面之磁極相同。
2. 根據申請專利範圍第1項之磁力研磨機，其中：各該導引部為槽體，各該滑塊係可以移動地設置在該導引部內。
3. 根據申請專利範圍第1項之磁力研磨機，其中：各該導引部為導軌，各該滑塊係可以移動地設置在該導引部上。
4. 根據申請專利範圍第1項之磁力研磨機，其中：更包含複數彈性單元，分別設於該轉盤上位於各該導引部靠近該旋轉軸的一端。
5. 根據申請專利範圍第4項之磁力研磨機，其中：該彈性單元為橡膠塊。
6. 根據申請專利範圍第4項之磁力研磨機，其中：該彈性單元為彈簧。
7. 根據申請專利範圍第4項之磁力研磨機，其中：該彈性單元包含一立柱，係立設於該轉盤；一頂桿係可移動地插設於該立柱；一擋板，係固接該頂桿一端；一彈性件，係設於該擋板和該立柱之間，而頂抵該擋板。